JP2001332173A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2001332173A5 JP2001332173A5 JP2001075430A JP2001075430A JP2001332173A5 JP 2001332173 A5 JP2001332173 A5 JP 2001332173A5 JP 2001075430 A JP2001075430 A JP 2001075430A JP 2001075430 A JP2001075430 A JP 2001075430A JP 2001332173 A5 JP2001332173 A5 JP 2001332173A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- manufacturing
- electron source
- chamber
- phosphor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 16
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 12
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 8
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims 7
- 230000003213 activating Effects 0.000 claims 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N precursor Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000005247 gettering Methods 0.000 claims 1
Claims (11)
- 画像表示装置の製造法において、
a:導電体と該導電体に接続された配線とが形成された基板を支持体上に配置し、該配線の一部分を除き、基板上の導電体を容器で覆い、該容器内を所望の雰囲気とし、該一部分の配線を通じて該導電体に電圧を印加し、これによって該導電体の一部に電子放出素子を形成し、これによって電子源基板を作成する工程、
b:電子放出素子により発光する蛍光体を配置した蛍光体基板を用意し、上記電子源基板と該蛍光体基板とを真空雰囲気下に配置する工程、
c:上記電子源基板と蛍光体基板のうちの一方又は両方の基板を、真空雰囲気のゲッタ処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の基板又は搬入した両方の基板のうちの一方又は両方の基板をゲッタ処理する工程、並びに
d:上記電子源基板と蛍光体基板を真空雰囲気の封着処理室に真空雰囲気下で搬入して対向状態で加熱封着する工程
を有することを特徴とする画像表示装置の製造法。 - 上記工程b、c及びdは、インライン内に設定された工程であることを特徴とする請求項1記載の画像表示装置の製造法。
- 上記工程b、c及びdは、インライン内に設定された工程であって、上記ゲッタ処理室と封着処理室との間に熱遮蔽部材が配置されていることを特徴とする請求項1記載の画像表示装置の製造法。
- 上記工程b、c及びdは、インライン内に設定された工程であって、上記ゲッタ処理室と封着処理室との間にゲートバルブが配置されていることを特徴とする請求項1記載の画像表示装置の製造法。
- 上記工程b、c及びdは、スター配置された工程であることを特徴とする請求項1記載の画像表示装置の製造法。
- 上記工程b、c及びdは、スター配置され、上記ゲッタ処理室と封着処理室とは独立の部屋によって仕切られていることを特徴とする請求項1記載の画像表示装置の製造法。
- 画像表示装置の製造装置において、
a:導電体が形成された基板を支持する支持体と、気体導入口及び気体排気口を有し、該基板面の一部の領域を覆う容器と、該気体導入口に接続された、該容器内に気体を導入する手段と、該気体排気口に接続された、該容器内を排気する手段と、該導電体に電圧を印加し、該導電体の一部に電子放出素子を形成し、これによって電子源基板を製造する電子源基板製造装置、
b:上記電子源基板製造装置によって得た電子源基板及び蛍光体を設けた蛍光体基板を搬送する搬送手段、
c:上記搬送手段によって、上記電子源基板と蛍光体基板のうちの一方又は両方の基板を真空雰囲気下で搬入可能な第1の真空室、
d:上記第1の真空室内に配置したゲッタ前駆体及び該ゲッタ前駆体を活性化させるゲッタ活性化手段を有するゲッタ付与手段、
e:上記搬送手段によって、上記電子源基板と蛍光体基板を真空雰囲気下で搬入可能な第2の真空室、
f:上記第2の真空室内に配置した、上記電子放出素子と上記蛍光体とをそれぞれ内側に向けて、電子源基板と蛍光体基板とを互いに対向配置させる基板配置手段、並びに
g:上記第2の真空室内に配置した、上記基板配置手段によって対向配置させた電子源基板と蛍光体基板とを所定温度で加熱封着する封着手段
を有する画像表示装置の製造装置。 - 上記第1の真空室と第2の真空室とは、インライン内に配置されてなることを特徴とする請求項7記載の製造装置。
- 上記第1の真空室と第2の真空室とは、インライン内に配置され、各部屋は、熱遮蔽部材で仕切られていることを特徴とする請求項7記載の製造装置。
- 上記第1の真空室と第2の真空室とは、一ライン上に配置され、各部屋は、ゲートバルブで仕切られていることを特徴とする請求項7記載の製造装置。
- 上記第1の真空室と第2の真空室とは、スター配置されてなり、各部屋は、独立した部屋で仕切られていることを特徴とする請求項7記載の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001075430A JP3728213B2 (ja) | 2000-03-16 | 2001-03-16 | 画像表示装置の製造法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000073646 | 2000-03-16 | ||
JP2000-73646 | 2000-03-16 | ||
JP2001075430A JP3728213B2 (ja) | 2000-03-16 | 2001-03-16 | 画像表示装置の製造法及び製造装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001332173A JP2001332173A (ja) | 2001-11-30 |
JP2001332173A5 true JP2001332173A5 (ja) | 2005-03-17 |
JP3728213B2 JP3728213B2 (ja) | 2005-12-21 |
Family
ID=26587656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001075430A Expired - Lifetime JP3728213B2 (ja) | 2000-03-16 | 2001-03-16 | 画像表示装置の製造法及び製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3728213B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101689451A (zh) * | 2008-06-27 | 2010-03-31 | 佳能安内华股份有限公司 | 电子发射装置的制造方法及其存储介质或记录介质 |
CN101689452A (zh) * | 2008-06-27 | 2010-03-31 | 佳能安内华股份有限公司 | 电子发射装置的制造方法及其存储介质或记录介质 |
-
2001
- 2001-03-16 JP JP2001075430A patent/JP3728213B2/ja not_active Expired - Lifetime
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001229828A5 (ja) | ||
US8574366B2 (en) | Vacuum processing apparatus | |
JPH05335264A (ja) | 封止装置 | |
JPH10311676A (ja) | 真空乾燥処理装置 | |
JP2001338578A5 (ja) | ||
JP2001332173A5 (ja) | ||
JP2010225847A (ja) | 真空処理装置,減圧処理方法,基板処理方法 | |
KR100727735B1 (ko) | 가스방전패널의 제조방법 및 그 제조장치 | |
JP3297857B2 (ja) | クラスタツール装置 | |
JP4003206B2 (ja) | 熱処理装置および熱処理方法 | |
JPH11125491A (ja) | 連続式熱処理炉 | |
TWI380356B (ja) | ||
JP2008281851A (ja) | 液晶表示パネル製造装置 | |
JPH10173025A (ja) | 半導体製造装置のロードロック室 | |
JPS62221107A (ja) | 処理装置 | |
JPH04271139A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP2000243719A (ja) | ランプアニール方法とその装置 | |
JPH04349930A (ja) | 真空装置及びその制御方法 | |
JP2001007117A (ja) | 処理装置及び処理方法 | |
JPH01241124A (ja) | レジスト被塗布体の加熱装置 | |
JPS63207033A (ja) | 表示管の製造装置 | |
JPH04349929A (ja) | 真空装置 | |
JPS63299231A (ja) | レジスト接着促進剤塗布装置 | |
JPH0246726A (ja) | 真空装置の真空度改善方法 | |
JPS62209825A (ja) | 真空装置の排気搬送ベント方法 |