JP2001325721A - Substrate for recording medium, recording medium using the same, method of manufacture and information recording device - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily realize a discrete disk having high track density suitable for high density recording and excellent in durability and to provide a high density magnetic disk and a high performance magnetic disk device using the discrete disk. SOLUTION: A substrate for recording medium has a track pattern constituted of plural concentric circle-, spiral-or stripe-shaped recessed and projecting parts for dividing tracks thereon and the recessed and projecting parts are manufactured by applying a liquid compound including a precursor for forming a SiO2 layer thereon and converting the liquid compound into SiO2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、記録媒体用基板、
それを用いた記録媒体および製造方法ならびに情報記録
装置に関するものである。The present invention relates to a substrate for a recording medium,
The present invention relates to a recording medium, a manufacturing method, and an information recording device using the same.

【０００２】[0002]

【従来の技術】磁気ディスク装置は、ディスク面上に形
成された磁気記録層に情報を記録する、または、すでに
記録されている情報を読み出し、再生する装置で、パソ
コン、ワークステーション、メインフレームコンピュー
ターなどに装備してあるハードディスク装置が最も一般
的である。この装置に使用される磁気ディスク７は、図
５に示すような構造で、ディスク基板１の上に情報を記
録するための磁気記録層５、さらにこの上に保護潤滑層
６が積層されている。2. Description of the Related Art A magnetic disk device is a device for recording information on a magnetic recording layer formed on a disk surface, or for reading and reproducing already recorded information, such as a personal computer, a workstation, or a mainframe computer. Hard disk devices provided in such devices are the most common. The magnetic disk 7 used in this apparatus has a structure as shown in FIG. 5, and has a magnetic recording layer 5 for recording information on the disk substrate 1 and a protective lubricating layer 6 further laminated thereon. .

【０００３】図２に通常使用されている磁気ディスク装
置例の概略構成を示す。磁気ディスク装置は、上記に述
べた構造の磁気ディスク７とこのディスク面に情報を記
録あるいは再生するための磁気ヘッド部８から構成され
ている。ディスクは所定速度で回転し、磁気ヘッドはデ
ィスク上の最内周部から最外周部に至る領域を、スイン
グアーム９を介して任意の個所をアクセスし、情報の記
録と再生を行うことができる。この図では、磁気ディス
クと磁気ヘッドの複数セットを、一台の装置に組み込ん
である例が示してある。動作中のヘッドとディスクの関
係を図３に示す。動作中は、磁気ディスク７と磁気ヘッ
ド８とは所定の間隔を保っている。FIG. 2 shows a schematic configuration of an example of a magnetic disk device usually used. The magnetic disk device includes a magnetic disk 7 having the above-described structure and a magnetic head unit 8 for recording or reproducing information on or from the disk surface. The disk rotates at a predetermined speed, and the magnetic head can access an arbitrary portion of the disk from the innermost peripheral portion to the outermost peripheral portion through the swing arm 9 to record and reproduce information. . FIG. 1 shows an example in which a plurality of sets of a magnetic disk and a magnetic head are incorporated in one device. FIG. 3 shows the relationship between the head and the disk during operation. During operation, the magnetic disk 7 and the magnetic head 8 maintain a predetermined interval.

【０００４】この間隔はスペーシング１０と呼ばれる。
回転しているディスク７の表面とヘッド８の間で発生す
る動圧によりヘッド８がディスク７の表面から浮上する
ことによりスペーシング１０が発生する。これは動圧空
気軸受けの動作原理と基本的には同じである。したがっ
て、この原理を有効に作用させるためには、ヘッド８お
よびディスク７の表面の面粗さを非常に小さくする必要
がある。[0004] This interval is called the spacing 10.
The dynamic pressure generated between the surface of the rotating disk 7 and the head 8 causes the head 8 to float from the surface of the disk 7 to generate a spacing 10. This is basically the same as the operation principle of the dynamic air bearing. Therefore, in order for this principle to work effectively, it is necessary to make the surface roughness of the head 8 and the disk 7 extremely small.

【０００５】また、記録・再生動作で、ディスク表面
に、情報を磁化パターンの形で高密度記録するために
は、磁気ディスク表面の面粗さを極力小さくするととも
に、スペーシング量も小さくする必要がある。最近の装
置では、記録情報量の増大につれ、このスペーシングの
大きさは０.１μｍを大きく下回るものも出てきてい
る。一方、再生の場合にも、高密度記録されている情報
を、高ＳＮ比で再生するためには、スペーシング量を小
さくしなければならない。したがって、磁気ディスク表
面の面粗さもさらに低減させる必要があり、平均面粗さ
が１ｎｍを下回るものもある。スペーシング量を狭小化
することによりディスクの円周方向の記録密度、すなわ
ち線記録密度が高まる。一方、ディスクの半径方向の記
録密度すなわちトラック密度を高めることでも記録密度
は向上する。すなわち、高密度記録を実現するために
は、線記録密度とトラック密度を同時に高める必要があ
る。In order to record information on a disk surface in the form of a magnetization pattern at a high density in a recording / reproducing operation, it is necessary to reduce the surface roughness of the magnetic disk surface as much as possible and to reduce the amount of spacing. There is. In recent devices, as the amount of recorded information increases, the size of this spacing may be much smaller than 0.1 μm. On the other hand, also in the case of reproduction, in order to reproduce information recorded at high density with a high SN ratio, the amount of spacing must be reduced. Therefore, it is necessary to further reduce the surface roughness of the magnetic disk surface, and in some cases, the average surface roughness is less than 1 nm. By reducing the spacing amount, the recording density in the circumferential direction of the disc, that is, the linear recording density is increased. On the other hand, the recording density is also improved by increasing the recording density in the radial direction of the disc, that is, the track density. That is, in order to realize high-density recording, it is necessary to simultaneously increase the linear recording density and the track density.

【０００６】トラック密度を高める為にはヘッドのトラ
ック幅を小さくし、ディスク表面に記録された磁区の幅
を小さくすればよい。しかし、トラック幅を十分に小さ
くした場合、隣接する磁区からの磁気的影響（クロスト
ーク）を受け、再生信号にノイズ成分が多く含まれるこ
とになり、ＳＮ比の低下につながる。そこでクロストー
クを低減する方法として、ディスク表面に微小幅を有す
る溝を同心円状に連ねたトラックを形成し、トラック溝
に磁性層を形成したいわゆるディスクリートメディアの
提案がされている。（例えば特開平２−２０１７３０号
公報、特開平２−１８９７１５号公報、IEEE Transacti
ons on Magnetics Vol.25 No.5 pp3381〜3383 1989年）
この方式ではディスク上のトラック溝以外には磁性層が
形成されていないため、磁気ヘッドからの磁界の大きさ
に関わらず、記録トラック幅が一定に保たれる。また上
述のクロストークの影響をかなり軽減できる為トラック
間隔を狭めることが可能になる。さらにヘッドの位置決
め精度を高くすることも可能となる。その結果、ディス
クのトラック密度を高め、高密度記録が可能になる。To increase the track density, the track width of the head may be reduced, and the width of the magnetic domain recorded on the disk surface may be reduced. However, when the track width is made sufficiently small, a magnetic signal (crosstalk) from an adjacent magnetic domain causes a large amount of noise components in the reproduced signal, which leads to a decrease in the SN ratio. Therefore, as a method of reducing crosstalk, there has been proposed a so-called discrete medium in which a track formed by concentrically connecting grooves having a small width on a disk surface and a magnetic layer is formed in the track groove. (For example, JP-A-2-201730, JP-A-2-189715, IEEE Transacti
ons on Magnetics Vol.25 No.5 pp3381-3383 1989)
In this method, since no magnetic layer is formed except for the track grooves on the disk, the recording track width is kept constant regardless of the magnitude of the magnetic field from the magnetic head. Further, since the influence of the above-mentioned crosstalk can be considerably reduced, the track interval can be narrowed. Further, the positioning accuracy of the head can be increased. As a result, the track density of the disk is increased, and high-density recording becomes possible.

【０００７】ディスクリートディスクについてさまざま
なアプローチがなされており例えば特開平2-201730号公
報に開示されるディスクリートトラックの場合、予め磁
気ディスク基板に凹凸を設けておき、この上に磁気記録
層を形成するものであるが、ガードバンドをなす部材が
レジストであるために、レジストのみが選択的に摩耗し
やすい。また、特開平２−１８９７１５号公報には、あ
らかじめディスク基板上に光硬化性の有機系樹脂からな
る厚膜を形成し、厚膜表面にディスクリート溝パターン
を有するスタンパーを押し当て、光硬化することでディ
スク表面に溝を設け、凹部に磁性体薄膜を埋め込みディ
スクリート磁気ディスクを作製する方法を開示してい
る。この方法では簡便な方法で高精度な溝を形成するこ
とができるため非常に量産性に優れた方法であるが、凹
凸部が樹脂でできている為、やはりディスクを繰り返し
使用することにより、溝部分の摩耗が進み信頼性の点で
問題がある。さらに特開平５−２０５２５７号公報に
は、ディスク表面のトラック間にイオン注入あるいはレ
ーザを照射することで記録機能を持たないガードバンド
を形成する技術が提示されている。Various approaches have been made to a discrete disk. For example, in the case of a discrete track disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 2-201730, a magnetic disk substrate is provided with irregularities in advance, and a magnetic recording layer is formed thereon. However, since the member forming the guard band is a resist, only the resist is likely to be selectively worn. JP-A-2-189715 discloses that a thick film made of a photocurable organic resin is formed in advance on a disk substrate, and a stamper having a discrete groove pattern is pressed on the surface of the thick film to perform photocuring. Discloses a method of manufacturing a discrete magnetic disk by providing a groove on the disk surface and embedding a magnetic thin film in a concave portion. This method is very excellent in mass productivity because a highly accurate groove can be formed by a simple method.However, since the concave and convex portions are made of resin, the groove can be formed by repeatedly using the disk. There is a problem in terms of reliability because the wear of the parts progresses. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-205257 discloses a technique for forming a guard band having no recording function by ion implantation or laser irradiation between tracks on a disk surface.

【０００８】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法では
均質なガードバンドを形成することが困難であり、ま
た、記録トラックとガードバンドとの境界が不明確にな
るといった問題がある。However, this method has a problem that it is difficult to form a uniform guard band, and that the boundary between the recording track and the guard band becomes unclear.

【０００９】本発明の目的は、上記の欠点をなくし、高
密度記録に適した高トラック密度を有し、かつ耐久性に
優れたディスクリートディスクを簡易に実現すると共に
これを用いた高密度磁気ディスク及び高性能磁気ディス
ク装置を提供することにある。An object of the present invention is to provide a high-density magnetic disk which eliminates the above-mentioned drawbacks, has a high track density suitable for high-density recording, and has a high durability. And a high-performance magnetic disk drive.

【００１０】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明では、まず、前段として研削またはラップ加工
等の通常手段により適度な表面粗さに平滑化したディス
ク基板表面全面に、ＳｉＯ₂膜を焼成するための前駆体
と光触媒を含み基本構造が−（ＳｉＨ₂ＮＨ）−である
無機ポリマーの液状化合物を塗布する。この液状化合物
は感光性を有する為、光照射によるパターンニングを行
なうことが可能である。According to the present invention, in order to attain the above object, first, SiO _{2 is} coated on the entire surface of the disk substrate surface which has been smoothed to an appropriate surface roughness by ordinary means such as grinding or lapping as a preceding stage. the basic structure includes a precursor and a photocatalyst for firing the film - (SiH ₂ NH) - applying a liquid compound of an inorganic polymer is. Since this liquid compound has photosensitivity, patterning by light irradiation can be performed.

【００１１】次にディスク基板のデータ記録ゾーンであ
るディスクリート溝形領域に該当する塗布面をマスキン
グする。この時マスクには基板表面に形成すべき溝パタ
ーンが施されている。さらに露光及び現像を行ない、最
後に焼成することでデータ記録ゾーンに特定のディスク
リートパターンを有するＳｉＯ₂層を得ることが可能と
なる。次に得られた基板表面にまず下地膜としてＣｒ層
をスパッタリングにより形成し、その上に磁性膜として
Ｃｏ合金層を形成し、さらにその上に保護膜としてＣ層
を形成した。この時、形成した薄膜の合計膜厚とディス
クリート溝の深さが一致するように最初に塗布する液状
化合物の塗布膜厚を調整しておく。このようにして得ら
れたディスク表面には溝の内部に上記の構成からなる記
録層が形成されると同時に溝以外のいわゆるランド部表
面上にも記録層が積層されている。もし、ランド部表面
に積層された記録層を取り除く場合は、例えばＣｒエッ
チング液を用いてエッチングにより除去することができ
る。すなわち溝内部に形成された記録層の最表面はＣ保
護膜で覆われている為、エッチング液が溝内部に侵入す
ることはないが、ランド部表面に形成された記録層は各
層がむき出しの状態である。そのため、記録層の最下層
にあるＣｒ層がエッチング液により溶かされる結果、ラ
ンド部表面に形成された記録層は根こそぎ除去される。
最後にこのディスク表面に液体潤滑材を塗布し、ディス
クリート磁気ディスクが完成する。Ｃｒエッチング液と
しては例えばフェリシアン化カリウム溶液等を用いれば
よい。また、ＳｉＯ₂層を焼成するための前駆体を含
み、さらに光触媒を転化した液状化合物で基本構造が−
（ＳｉＨ₂ＮＨ）−である無機ポリマーの具体的な例と
しては、例えば、東燃（株）製ポリシラザンなどがあ
る。Next, a coating surface corresponding to a discrete groove-shaped area which is a data recording zone of the disk substrate is masked. At this time, the mask has a groove pattern to be formed on the substrate surface. Further, by performing exposure and development, and finally baking, it becomes possible to obtain an SiO ₂ layer having a specific discrete pattern in the data recording zone. Next, a Cr layer was firstly formed as a base film by sputtering on the obtained substrate surface, a Co alloy layer was formed thereon as a magnetic film, and a C layer was formed thereon as a protective film. At this time, the applied film thickness of the liquid compound to be applied first is adjusted so that the total film thickness of the formed thin film and the depth of the discrete groove coincide with each other. On the surface of the disk thus obtained, a recording layer having the above-described configuration is formed inside the groove, and at the same time, a recording layer is laminated on a so-called land surface other than the groove. If the recording layer laminated on the land surface is to be removed, it can be removed by etching using, for example, a Cr etching solution. That is, since the outermost surface of the recording layer formed inside the groove is covered with the C protective film, the etching liquid does not enter the inside of the groove, but the recording layer formed on the surface of the land portion is not exposed. State. As a result, the Cr layer at the bottom of the recording layer is dissolved by the etchant, and as a result, the recording layer formed on the surface of the land is removed.
Finally, a liquid lubricant is applied to the disk surface to complete a discrete magnetic disk. As the Cr etching solution, for example, a potassium ferricyanide solution or the like may be used. It also contains a precursor for baking the SiO ₂ layer, and is a liquid compound obtained by converting a photocatalyst and having a basic structure of −
Specific examples of (SiH ₂ NH)-inorganic polymers include, for example, polysilazane manufactured by Tonen Corporation.

【００１２】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を参
照して説明する。 （実施例１）図１に、本発明によるディスクリート磁気
ディスク７′の実施例を示す。図１(1)に示したように
ディスク基板表面には同心円状のトラック溝１２が多数
形成されており、その上に記録膜及び保護潤滑膜等が積
層された構造となっている。ディスクの断面形状（A−
A′断面）の拡大図を図１(2)に示す。前段加工されたデ
ィスク基板１の上に、ＳｉＯ₂層３からなる溝を形成
し、この溝内部に磁気記録媒体層５、保護潤滑層６が積
層してある。次に、本発明による磁気ディスクの作製方
法について、図４を用いて説明する。本実施例で用いた
ディスク基板１は、直径：２.５インチのガラス製ディ
スクである。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (Embodiment 1) FIG. 1 shows an embodiment of a discrete magnetic disk 7 'according to the present invention. As shown in FIG. 1A, a large number of concentric track grooves 12 are formed on the disk substrate surface, and a recording film, a protective lubricating film, and the like are stacked thereon. Disk cross-sectional shape (A-
FIG. 1 (2) is an enlarged view of A ′ section). A groove made of the SiO ₂ layer 3 is formed on the disk substrate 1 processed in the previous stage, and a magnetic recording medium layer 5 and a protective lubrication layer 6 are laminated inside the groove. Next, a method for manufacturing a magnetic disk according to the present invention will be described with reference to FIG. The disk substrate 1 used in this embodiment is a glass disk having a diameter of 2.5 inches.

【００１３】(1)ディスク基板１の表面を、前段加工と
してラップ工具１１などを用いて、平均表面粗さが１ｎ
ｍ〜１００ｎm程度の範囲にある適切な値に仕上げてお
く（この値の選択は、最終仕上げ目標値によって決ま
る）。この実施例では、平均面粗さ２ｎｍ程度に仕上げ
る（図４(1)）。 (2)基板ガラス１の表面に、ＳｉＯ₂層を焼成するための
前駆体を含み、さらに感光性を得る為に光触媒を添加さ
れた液状化合物で基本構造が−（ＳｉＨ₂ＮＨ）−であ
る無機ポリマーをディップ法により前記液状化合物の薄
膜層２を形成する（図４(2)）。薄膜層の膜厚は記録層
合計膜厚により決まるが本実施例では０.１４μmとし
た。ここで、ＳｉＯ₂層を焼成するための前駆体を含む
液状化合物として、本実施例では東燃株式会社製東燃ポ
リシラザン溶液（キシレン溶媒２０ｗ％）を用いた。ポ
リシラザンとは、Ｓｉ、Ｎ、Ｈ（または有機基）からな
るポリマーで、加熱・焼成によってＳｉＯ₂に転化する
材料である。シラザンはＳｉ−Ｎ結合を持つ化合物であ
り、ポリシラザンは−ＳｉＨ₂−ＮＨ−を基本としてい
る。さらに感光性を得る為に光触媒が添加されている。
また本実施例ではネガの感光特性を有する感光性ポリシ
ラザンを用いた。(1) The surface of the disk substrate 1 is made to have an average surface roughness of 1 n
Finish to an appropriate value in the range of about m to 100 nm (the choice of this value depends on the final finish target value). In this embodiment, the surface is finished to an average surface roughness of about 2 nm (FIG. 4A). (2) A liquid compound containing a precursor for baking an SiO ₂ layer on the surface of the substrate glass 1 and further containing a photocatalyst for obtaining photosensitivity, and having a basic structure of — (SiH ₂ NH) —. The thin layer 2 of the liquid compound is formed by dipping the inorganic polymer (FIG. 4 (2)). Although the thickness of the thin film layer is determined by the total thickness of the recording layer, it is 0.14 μm in this embodiment. Here, as a liquid compound containing a precursor for firing the SiO ₂ layer, a Tonen polysilazane solution (20% by weight of xylene solvent) manufactured by Tonen Co., Ltd. was used in the present example. Polysilazane is a polymer composed of Si, N, and H (or an organic group), and is a material that is converted into SiO ₂ by heating and firing. Silazane is a compound having a Si—N bond, and polysilazane is based on —SiH ₂ —NH—. Further, a photocatalyst is added to obtain photosensitivity.
In this embodiment, photosensitive polysilazane having negative photosensitive characteristics was used.

【００１４】(3)塗布薄膜２を両面に形成した基板を、
９０℃で１時間一次焼成する（図４(3)）。(3) The substrate on which the coating thin film 2 is formed on both sides is
Primary baking is performed at 90 ° C. for 1 hour (FIG. 4C).

【００１５】(4)一次焼成後の基板４′表面のデータ記
録ゾーンにマスキングを行ない、ｉ線を照射し基板全面
を露光した。この時の溝の幅は２.０μｍ、溝間隔は０.
２μｍとなるようにマスク１３を選んだ（図４(4)）。(4) The data recording zone on the surface of the substrate 4 'after the primary baking was masked, and the entire surface of the substrate was exposed by irradiating with i-line. At this time, the width of the groove is 2.0 μm, and the groove interval is 0.1 μm.
The mask 13 was selected to have a thickness of 2 μm (FIG. 4 (4)).

【００１６】(5)純水で基板４′を洗浄した後、現像液
を用いて現像する（図４(5)）。(5) After washing the substrate 4 'with pure water, development is performed using a developing solution (FIG. 4 (5)).

【００１７】(6)基板を３００℃で１時間二次焼成す
る。これにより、ポリシラザン薄膜層２は、ＳｉＯ₂層
に転化し、ディスク基板１がＳｉＯ₂層３によって覆わ
れ、データ記録ゾーンでは特定のパターンを有するディ
スクリート溝１２が形成された基板４が得られる（図４
(6)）。なお、本実施例ではＳｉＯ₂からなる溝の深さは
０.１４μｍである。(6) The substrate is secondarily fired at 300 ° C. for one hour. As a result, the polysilazane thin film layer 2 is converted into an SiO ₂ layer, the disk substrate 1 is covered with the SiO ₂ layer 3, and a substrate 4 in which a discrete groove 12 having a specific pattern is formed in the data recording zone is obtained. FIG.
(6)). In this embodiment, the depth of the groove made of SiO ₂ is 0.14 μm.

【００１８】(7)焼成後の基板４の表面に記録層５を形
成する。記録層５の構成は次の通りである。まず下地膜
５′としてＣｒ層（膜厚０.１μm）をスパッタリングに
より形成し、その上に磁性膜５″としてＣｏ系合金層
（膜厚０.０２５μｍ）を形成し、さらにその上に保護
膜６′としてＣ層（膜厚０.０１５μｍ）を形成した
（図４(7)）。(7) The recording layer 5 is formed on the surface of the substrate 4 after firing. The configuration of the recording layer 5 is as follows. First, a Cr layer (0.1 μm thick) is formed as a base film 5 ′ by sputtering, a Co-based alloy layer (0.025 μm thick) is formed thereon as a magnetic film 5 ″, and a protective film is further formed thereon. As 6 ', a C layer (having a thickness of 0.015 μm) was formed (FIG. 4 (7)).

【００１９】(8)基板４上に形成した凹凸のうち凸部表
面に積層された記録層５及び保護膜６′は今回はデータ
の記録に用いないため除去する。凸部にある余分な記録
層５及び保護膜６′はエッチングにより除去することが
できる。下地膜である５′を溶かせば凸部上の余分な膜
はすべて除去できる。そこで本実施例では下地膜５′で
あるＣｒをエッチングすることにした。エッチング液と
しては例えばフェリシアン化カリウム溶液を用いた。エ
ッチング後のディスク断面を図４(8)に示す。(8) Of the concavities and convexities formed on the substrate 4, the recording layer 5 and the protective film 6 'laminated on the convex surface are removed because they are not used for data recording this time. Excessive recording layer 5 and protective film 6 'on the convex portion can be removed by etching. If the base film 5 'is melted, any excess film on the projections can be removed. Therefore, in this embodiment, the Cr that is the base film 5 'is etched. As the etching solution, for example, a potassium ferricyanide solution was used. FIG. 4 (8) shows the cross section of the disk after the etching.

【００２０】(9)このディスク表面に潤滑膜６″（膜厚
２ｎｍ）を形成し、ディスクリート磁気ディスクが完成
する（図４(9)）。(9) A lubricating film 6 ″ (thickness: 2 nm) is formed on the disk surface to complete a discrete magnetic disk (FIG. 4 (9)).

【００２１】以上の工程により作製した磁気ディスクを
ドライブ装置に組み込みオフトラック特性の評価を行な
った。比較の為に実施例と同一のガラス基板を用いて膜
構造が同じであるがディスクリート溝を持たないいわゆ
る通常の磁気ディスクを作製し、同じくオフトラック特
性を評価した。その結果、実施例のディスクリート磁気
ディスクではトラック幅に対してオフトラック量が１／
２を超えた所で急峻に再生出力が減少した。一方、通常
の磁気ディスクの場合、磁気ヘッドがディスク面にデー
タを記録する際に、ヘッドからの漏洩磁界の影響で記録
トラック幅が広がってしまう。したがってオフトラック
特性もそれに応じてブロードな特性を示す。すなわちオ
フトラック量／トラック幅の値が０.５を過ぎても再生
出力の急峻な減少が認められず、ゆるやかに減少した。The magnetic disk manufactured by the above-described steps was incorporated into a drive device, and the off-track characteristics were evaluated. For comparison, a so-called ordinary magnetic disk having the same film structure but no discrete grooves was manufactured using the same glass substrate as that of the example, and the off-track characteristics were similarly evaluated. As a result, in the discrete magnetic disk of the embodiment, the off-track amount is 1 /
The reproduction output sharply decreased at a point exceeding 2. On the other hand, in the case of a normal magnetic disk, when the magnetic head records data on the disk surface, the recording track width is widened due to the influence of the leakage magnetic field from the head. Therefore, the off-track characteristic also shows a broad characteristic accordingly. That is, even when the value of the amount of off-track / track width exceeded 0.5, no sharp decrease in the reproduction output was recognized, and the reproduction output gradually decreased.

【００２２】次に隣接する３本のトラックに同一の周波
数で記録した後、中央のトラックの記録周波数を替えオ
ーバーライト特性を評価した結果、実施例に示したディ
スクリート磁気ディスクでは隣接する磁区からの磁気的
影響を全く受けることがなく、非常に優れたオーバーラ
イト特性を得ることができた。 （実施例２）本実施例ではポジの感光特性を有する感光
性ポリシラザンを用いた場合について示す。実施例１と
同様の手順で前段加工を施した直径２.５インチのガラ
スディスク基板表面にポジの感光特性を有する感光性ポ
リシラザンをディップコートする。膜厚は実施例１と同
じく０.１４μｍとなるように塗布条件を制御する。次
に塗布薄膜２を両面に形成した基板を、９０℃で１時間
一次焼成する。次に図７に示すように塗布薄膜の形成さ
れたディスク基板４′を回転させながら基板表面にｉ線
の集光ビームを照射し露光を行なう。この時のディスク
回転数は５００ｒｐｍである。照射光はレンズ１４を通
してディスク上塗布薄膜表面で直径２μｍのビームに集
光するよう調整してある。２μｍに絞り込んだ集光ビー
ムをディスク基板のデータ記録領域に０.２μｍピッチ
で同心円状に照射した。Next, after recording on the three adjacent tracks at the same frequency, the recording frequency of the center track was changed and the overwrite characteristics were evaluated. Very good overwrite characteristics could be obtained without any magnetic influence. (Embodiment 2) In this embodiment, a case where a photosensitive polysilazane having a positive photosensitive characteristic is used will be described. A photosensitive polysilazane having a positive photosensitive property is dip-coated on the surface of a 2.5-inch-diameter glass disk substrate which has been subjected to pre-processing in the same procedure as in Example 1. The coating conditions are controlled so that the film thickness becomes 0.14 μm as in Example 1. Next, the substrate on which the coating thin film 2 is formed on both sides is primarily baked at 90 ° C. for 1 hour. Next, as shown in FIG. 7, while rotating the disk substrate 4 'on which the coating thin film is formed, the substrate surface is irradiated with an i-line condensed beam to perform exposure. The disk rotation speed at this time is 500 rpm. The irradiation light is adjusted so as to be condensed into a beam having a diameter of 2 μm on the surface of the thin film applied on the disk through the lens 14. A condensed beam narrowed to 2 μm was concentrically applied to the data recording area of the disk substrate at a pitch of 0.2 μm.

【００２３】続いて純水で基板を洗浄した後、現像液を
用いて現像し、さらに基板を３００℃で１時間二次焼成
した。これにより、光が照射されなかったポリシラザン
薄膜層２は、ＳｉＯ₂層３に転化し、ディスク基板１表
面にＳｉＯ₂からなる幅２μｍ深さ０.１４μｍピッチ
０.２μｍの同心円状のディスクリート溝が形成され
た。Subsequently, the substrate was washed with pure water, developed using a developing solution, and further subjected to secondary baking at 300 ° C. for 1 hour. As a result, the polysilazane thin film layer 2 not irradiated with light is converted into the SiO ₂ layer 3, and concentric discrete grooves of 2 μm width, 0.14 μm pitch, and 0.2 μm pitch made of SiO _{2 are} formed on the surface of the disk substrate 1. Been formed.

【００２４】この基板を用いて実施例１と同じ工程を経
て磁気ディスクを完成させた。完成した磁気ディスクに
ついてオフトラック特性及びオーバーライト特性につい
て評価した所、実施例１と全く同様の結果が得られた。
また、本発明はＳｉＯ₂層を焼成するための前駆体を含
み、さらに感光性を得る為に光触媒を添加された液状化
合物で基本構造が−（ＳｉＨ₂ＮＨ）−である無機ポリ
マーが塗布可能な物であれば結晶化ガラスを含むガラス
基板のみならずプラスチック、金属、セラミックス等い
ずれの材料でも適用可能であることは言うまでもない。
また、上記実施例では同心円状の溝を形成し、その上に
記録層を形成する例を示したが、凹凸のパターン形状は
任意の形状で形成することが可能である。例えば、縞状
に凸部を形成し、その上に記録層を形成することも有効
である。もちろん縞状に凹部を形成し、記録層を作製し
てもよい。Using this substrate, a magnetic disk was completed through the same steps as in Example 1. When the completed magnetic disk was evaluated for off-track characteristics and overwrite characteristics, the same results as in Example 1 were obtained.
In addition, the present invention includes a precursor for baking the SiO ₂ layer, and can be applied with an inorganic polymer having a basic structure of-(SiH ₂ NH)-which is a liquid compound to which a photocatalyst is added to obtain photosensitivity. It is needless to say that any material such as plastic, metal, and ceramic can be used as well as a glass substrate containing crystallized glass.
Further, in the above-described embodiment, an example in which a concentric groove is formed and a recording layer is formed thereon has been described. However, an uneven pattern can be formed in an arbitrary shape. For example, it is also effective to form a stripe-shaped convex portion and form a recording layer thereon. Of course, the recording layer may be formed by forming a concave portion in a stripe shape.

【００２５】[0025]

【発明の効果】上述のように本発明によれば、高トラッ
ク密度を実現できるディスクリート磁気ディスクを簡易
に実現するとともに、これを用いた高密度磁気ディスク
及び高性能磁気ディスク装置を実現することも容易に可
能となった。さらに溝部は硬質のＳｉＯ₂で構成されて
いるため摩耗による経時変化の問題がなく信頼性に富ん
だ高密度記録に適した磁気ディスクが得られた。As described above, according to the present invention, it is possible to easily realize a discrete magnetic disk capable of realizing a high track density, and to realize a high-density magnetic disk and a high-performance magnetic disk device using the same. It became possible easily. Further, since the grooves are made of hard SiO ₂ , there is no problem of aging due to abrasion, and a magnetic disk suitable for high-density recording with high reliability was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の磁気ディスク概略図。FIG. 1 is a schematic diagram of a magnetic disk according to the present invention.

【図２】従来の磁気ディスク装置の構造を示す概略図。FIG. 2 is a schematic diagram showing the structure of a conventional magnetic disk drive.

【図３】動作中の磁気ヘッドと磁気ディスクの関係を示
す模式図。FIG. 3 is a schematic diagram showing a relationship between a magnetic head and a magnetic disk during operation.

【図４】本発明の磁気ディスクの製造プロセスを示す概
略図。FIG. 4 is a schematic view showing a manufacturing process of the magnetic disk of the present invention.

【図５】従来の磁気ディスクの概略図。FIG. 5 is a schematic diagram of a conventional magnetic disk.

【図６】本発明の磁気ディスク装置の構造例を示す概略
図。FIG. 6 is a schematic view showing a structural example of a magnetic disk drive according to the present invention.

【図７】本発明の磁気ディスクの別の製造方法を示す概
略図。FIG. 7 is a schematic view showing another method for manufacturing a magnetic disk of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１…ディスク基板、２…ＳｉＯ₂層焼成用前駆体薄膜、
３…ＳｉＯ₂層、４…基板（焼成後）、４′…基板（一
次焼成後）、５…磁気記録媒体層、５′…下地層、５″
…磁性膜、６…保護潤滑層、６′…保護膜、６″…潤滑
膜、７,７′…磁気ディスク、８…磁気ヘッド、９…ス
イングアーム、１０…スペーシング、１１…ラップ工
具、１２…ディスクリート溝、１３…マスク、１４…レ
ンズ。1 ... disc substrate, 2 ... SiO ₂ layer firing precursor thin film,
3 ... SiO ₂ layer, 4 ... substrate (after firing), 4 '... substrate (after primary firing), 5 ... magnetic recording medium layer, 5' ... underlayer, 5 "
... magnetic film, 6 ... protective lubricating layer, 6 '... protective film, 6 "... lubricating film, 7, 7' ... magnetic disk, 8 ... magnetic head, 9 ... swing arm, 10 ... spacing, 11 ... lapping tool, 12: Discrete groove, 13: Mask, 14: Lens.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/24 ５６１ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５６１Ｍ 7/26 ５３１ 7/26 ５３１ 11/105 ５０１ 11/105 ５０１Ａ ５１１ ５１１Ｇ ５２１ ５２１Ｆ ５２１Ａ ５３１ ５３１Ｘ ５３１Ｅ ５４６ ５４６Ｄ ５４６Ａ ５４６Ｃ ５４６Ｇ Ｆターム(参考） 5D006 BB07 CB01 CB04 CB07 DA03 FA09 5D029 KA01 KA21 KA22 KA24 KB03 WB11 WB17 WC01 5D075 AA03 EE03 FG13 FG14 FG15 FG18 FH01 GG01 GG06 GG16 5D112 AA02 AA03 AA24 BD01 GA02 GA19 GA27 5D121 AA02 EE26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. ⁷ Identification FI FI Theme Court ゛ (Reference) G11B 7/24 561 G11B 7/24 561M 7/26 531 7/26 531 11/105 501 11/105 501A 511 511G 521 521F 521A 531 531X 531E 546 546D 546A 546C 546G F-term (reference) 5D006 BB07 CB01 CB04 CB07 DA03 FA09 5D029 KA01 KA21 KA22 KA24 KB03 A01 FG11 FG17 FG11 FG11 GA19 GA27 5D121 AA02 EE26

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 基板上に同心円状、スパイラル状もしく
は縞状に多数のトラック分割用の凹凸部から構成される
トラックパターンを有し、前記凹凸部がＳｉＯ₂層を作
るための前駆体を含む液状化合物を塗布し、前記液状化
合物を転化してＳｉＯ₂となすことにより作製されたこ
とを特徴とする記録媒体用基板。1. A substrate having a track pattern composed of a large number of concavities and convexities for track division on a substrate in a concentric, spiral or striped manner, wherein the concavities and convexities include a precursor for forming an SiO ₂ layer. A recording medium substrate produced by applying a liquid compound and converting the liquid compound into SiO ₂ . 【請求項２】 請求項１記載の記録媒体用基板におい
て、感光性を有しＳｉＯ₂層を作るための前駆体を含む
液状化合物を用いてトラック分割用凹凸溝が構成される
ことを特徴とする記録媒体用基板。2. The substrate for a recording medium according to claim 1, wherein the concave / convex grooves for track division are formed by using a liquid compound having photosensitivity and containing a precursor for forming an SiO ₂ layer. For recording media to be used. 【請求項３】 請求項２記載の記録媒体用基板におい
て、パターニングにマスクを用いて露光を行ない製造す
ることを特徴とする記録媒体用基板。3. The substrate for a recording medium according to claim 2, wherein the substrate is manufactured by performing exposure using a mask for patterning. 【請求項４】 請求項２記載の記録媒体用基板におい
て、集光ビームを基板表面に形成されたＳｉＯ₂層を作
るための前駆体を含む液状化合物からなる層に直接照射
することでパターニングを行ない製造することを特徴と
する記録媒体用基板。4. The recording medium substrate according to claim 2, wherein a pattern is formed by directly irradiating a focused beam directly to a layer made of a liquid compound containing a precursor for forming an SiO ₂ layer formed on the substrate surface. A substrate for a recording medium, characterized in that the substrate for a recording medium is manufactured by performing the method. 【請求項５】 請求項１乃至４のいずれかの項に記載の
記録媒体用基板において、トラック分割用の凹凸部のう
ち凹部の幅を０.００５μm〜５０μm、凸部の幅を０.０
０５μm〜１０μm、凹凸部の厚みを０.０１μm〜１μm
に規定したことを特徴とする記録媒体用基板。5. The recording medium substrate according to claim 1, wherein the width of the concave portion is 0.005 μm to 50 μm and the width of the convex portion is 0.05 μm among the uneven portions for track division.
05 μm to 10 μm, the thickness of the uneven part is 0.01 μm to 1 μm
A substrate for a recording medium, characterized in that: 【請求項６】 請求項１乃至５のいずれかの項に記載の
記録媒体用基板において、記録媒体の基板材がガラス、
金属材料、カーボン、セラミックスまたはプラスチック
であることを特徴とする記録媒体用基板。6. The recording medium substrate according to claim 1, wherein the substrate material of the recording medium is glass,
A recording medium substrate comprising a metal material, carbon, ceramics or plastic. 【請求項７】 請求項１乃至６のいずれかの項に記載の
記録媒体用基板において、前記凹部もしくは凸部にデー
タ記録層および保護潤滑層を形成したことを特徴とする
記録媒体。7. The recording medium according to claim 1, wherein a data recording layer and a protective lubricating layer are formed in the concave or convex portions. 【請求項８】 請求項７記載の記録媒体において、デー
タ記録層および保護潤滑層の合計膜厚の大きさが凹部の
厚みと等しいかまたはそれより小さいことを特徴とする
記録媒体。8. The recording medium according to claim 7, wherein the total thickness of the data recording layer and the protective lubrication layer is equal to or smaller than the thickness of the recess. 【請求項９】 請求項７または８記載の記録媒体におい
て、データ記録方式が磁気記録方式あるいは光記録方式
あるいは光磁気記録方式であることを特徴とする記録媒
体。9. The recording medium according to claim 7, wherein the data recording system is a magnetic recording system, an optical recording system, or a magneto-optical recording system. 【請求項１０】 媒体を構成する基板表面に感光性を有
しＳｉＯ₂層を作るための前駆体を含む液状化合物を塗
布した後、パターニングを行ない、露光現像及び焼結処
理によりＳｉＯ₂からなるトラック分割用凹凸溝を形成
し、引き続き該基板表面に下地層を含む記録層を形成
し、その上に保護層を形成した後、トラック分割用凸部
上に積層された記録層及び保護層をエッチングにより除
去し、その後、記録媒体表面に潤滑層を形成することに
よりトラック分割溝内部にのみデータ記録機能を付加す
ることを特徴とする記録媒体の製造方法。10. After applying the liquid compound containing a precursor for making an SiO ₂ layer having a photosensitive surface of the substrate constituting the medium, performs patterning of SiO ₂ by exposure and development, and sintering process After forming an uneven groove for track division, subsequently forming a recording layer including an underlayer on the surface of the substrate, forming a protective layer thereon, the recording layer and the protective layer laminated on the convex portion for track division are removed. A method for manufacturing a recording medium, characterized in that a data recording function is added only inside a track dividing groove by forming a lubricating layer on the surface of the recording medium after removing by etching. 【請求項１１】 請求項７乃至９のいずれかの項に記載
の記録媒体を搭載したことを特徴とする情報記録装置。11. An information recording apparatus comprising the recording medium according to claim 7 mounted thereon.