JP2001324544A - スキャンパステスト用フリップフロップ回路 - Google Patents

スキャンパステスト用フリップフロップ回路

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JP2001324544A
JP2001324544A JP2000143247A JP2000143247A JP2001324544A JP 2001324544 A JP2001324544 A JP 2001324544A JP 2000143247 A JP2000143247 A JP 2000143247A JP 2000143247 A JP2000143247 A JP 2000143247A JP 2001324544 A JP2001324544 A JP 2001324544A
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control signal
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scan
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JP2000143247A
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Yoshio Tokuno
芳雄 徳野
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 動作速度を向上させる。 【解決手段】 通常動作モード時には、制御信号scを
“1”、制御信号scnを“0”に設定し、スキャンデ
ータ取り込み用クロックドインバータ24をオフ状態に
してノード25から切り離す。制御信号dc,dcn,
c,cnによってクロックドインバータ23,26b,
27,28bをオン/オフし、通常のデータDIを取り
込んで所定のタイミングで出力する。スキャンパステス
トのシフトモード時には、制御信号dcを“1”、制御
信号dcnを“0”に設定し、データ取り込み用クロッ
クドインバータ23をオフ状態にしてノード25から切
り離す。制御信号sc,scn,c,cnによってイン
バータ24,26b,27,28bをオン/オフし、ス
キャンデータSIを取り込んで所定のタイミングで出力
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
用いる回路コンポーネントの1つであるスキャンパステ
スト用のフリップフロップ(以下「FF」という。)回
路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図2(a)、(b)は、従来の半導体集
積回路の一例を示す構成図である。図2(a)に示す半
導体集積回路は、複数のデータSI1〜SInを取り込
むFF回路1−11〜1−1nを有し、この出力側に、
各種の論理回路等を組合せた組合せ回路2−1が接続さ
れている。組合せ回路2−1の出力側には、複数のデー
タ取り込み用のFF回路1−21〜1−2nを介して、
次段の組合せ回路2−2が接続されている。組合せ回路
2−2の出力側には、複数のデータ取り込み用のFF回
路1−31〜1−3nが接続され、これらのFF回路1
−31〜1−3nから複数のデータQ1〜Qnが出力さ
れるようになっている。FF回路1−11〜1−1n,
1−21〜1−2n,1−31〜1−3nや組合せ回路
2−1,2−2は、半導体集積回路の構成に応じて任意
の段数が設けられている。
【0003】このような半導体集積回路では、例えば、
複数のデータSI1〜SInが供給されると、これらの
データSI1〜SInがFF回路1−11〜1−1nに
取り込まれ、所定のタイミングで組合せ回路2−1へ送
られる。組合せ回路2−1では、所定の論理動作を行
い、この論理結果を出力する。出力された論理結果は、
次段の複数のFF回路1−21〜1−2nに取り込ま
れ、所定のタイミングで次段の組合せ回路2−2へ送ら
れる。組合せ回路2−2では、所定の論理動作を行い、
この論理結果を出力する。出力された論理結果は、次段
の複数のFF回路1−31〜1−3nに取り込まれ、所
定のタイミングで複数のデータQ1〜Qnが出力され
る。
【0004】この種の半導体集積回路において、論理動
作のテストを行う場合、所定のテストパターンのデータ
SI1〜SInを供給する。供給されたデータSI1〜
SInは、FF回路1−11〜1−1nに取り込まれ、
組合せ回路2−1、複数のFF回路1−21〜1−2
n、組合せ回路2−2、及び複数のFF回路1−31〜
1−3nにて所定の動作が行われる。この動作結果が複
数のデータQ1〜Qnとして出力されるので、このデー
タQ1〜Qnと期待値とを比較することにより、半導体
集積回路の論理動作が正しく行われたか否かのテストが
行える。
【0005】このようなテスト方法では、例えば、複数
のFF回路1−21〜1−2nの値は、前段の組合せ回
路2−1により確定される。各回路部分が正常に動作す
るか否かをテストするには、半導体集積回路を構成する
全ての回路部分の組合せを考慮した膨大なテストパター
ンのデータSI1〜SInが必要になる。そこで、テス
トの容易化を図るために、図2(b)に示すようなスキ
ャンパステスト方法が提案されている。
【0006】図2(b)に示す半導体集積回路では、F
F回路1−11〜1−1n,1−21〜1−2n,1−
31〜1−3n,…をスキャンパステスト用のFF回路
1A−11〜1A−1n,1A−21〜1A−2n,1
A−31〜1A−3n,…に置き換え、これらの全ての
FF回路1A−11〜1A−1n,1A−21〜1A−
2n,1A−31〜1A−3n,…を縦続接続してい
る。
【0007】図3は、図2(b)に示す各スキャンパス
テスト用FF回路1A−11〜1A−1n,1A−21
〜1A−2n,1A−31〜1A−3n,…の一例を示
す構成図である。このスキャンパステスト用FF回路1
Aは、データDIを入力するデータ入力端子11、及び
スキャンデータSIを入力するスキャンデータ入力端子
12を有し、これらの端子11,12に2入力1出力の
セレクタ13が接続されている。セレクタ13は、セレ
クタ制御信号SELに応答して、入力されるデータDI
又はスキャンデータSIのいずれか一方を選択してデー
タDとして出力するものであり、この出力側に遅延型F
F(以下「D−FF」という。)14のデータ入力端子
14aが接続されている。D−FF14は、クロック入
力端子14bに入力されるクロック信号CKに同期し
て、データ入力端子14aよりデータDを取り込み、所
定のタイミングでデータ出力端子14cより遅延したデ
ータQを出力する回路である。
【0008】図2(b)の半導体集積回路では、セレク
タ制御信号SELを切り替えることにより、通常の動作
時には、通常のデータSI1〜SInをFF回路1A−
11〜1A−1nに取り込み、スキャンパステスト時に
は、スキャンデータSIをFF回路1A−11に取り込
む。FF回路1A−11に取り込まれたスキャンデータ
SIは、FF回路1A−12〜1A−1n,1A−21
〜1A−2n,1A−31〜1A−3n,…へ順次シフ
トされていく。これにより、外部より供給されたスキャ
ンデータSIを直接FF回路1A−11〜1A−1n,
1A−21〜1A−2n,1A−31〜1A−3n,…
に設定できるため、少ないテストパターンの組合せによ
り、半導体集積回路における各回路部分が正常に動作す
るか否かのテストが行える。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
スキャンパステスト用FF回路1Aでは、データDI又
はスキャンデータSIの入力を選択するために、D−F
F14の入力側にセレクタ13を設けているので、FF
回路1Aのセットアップ時間が増大し、このFF回路1
Aを適用した図2(b)の半導体集積回路における最大
動作速度が低下してしまうという課題があった。本発明
は、前記従来技術がもっていた課題を解決し、高速化が
可能なスキャンパステスト用FF回路を提供することを
目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明のうちの第1の発明は、スキャンパステスト
用FF回路において、レベルの異なる第1及び第2の電
位をもつ第1の制御信号の遷移に応答して通常動作モー
ド時の通常データを取り込んで所定のタイミングでノー
ドへ出力するデータ取り込み手段と、レベルの異なる第
1及び第2の電位をもつ第2の制御信号の遷移に応答し
てスキャンパステストのシフトモード時のスキャンデー
タを取り込んで所定のタイミングで前記ノードへ出力す
るスキャンデータ取り込み手段と、レベルの異なる第1
及び第2の電位をもつ第3の制御信号の遷移に応答して
前記ノード上のデータをラッチして所定のタイミングで
出力するラッチ手段と、を有している。
【0011】このような構成を採用したことにより、通
常動作モード時には、第1の制御信号の遷移に応答して
通常のデータがデータ取り込み手段によって取り込ま
れ、所定のタイミングでノードへ出力される。ノードへ
出力されたデータは、第3の制御信号の遷移に応答して
ラッチ手段にラッチされ、所定のタイミングで出力され
る。また、スキャンパステストのシフトモード時には、
第2の制御信号の遷移に応答してスキャンデータがスキ
ャンデータ取り込み手段に取り込まれ、所定のタイミン
グでノードへ出力される。ノードへ出力されたスキャン
データは、第3の制御信号の遷移に応答してラッチ手段
にラッチされ、所定のタイミングで出力される。
【0012】第2の発明は、第1の発明のスキャンパス
テスト用FF回路において、前記ラッチ手段は、前記第
3の制御信号の遷移に応答して前記ノード上のデータを
ラッチして所定のタイミングで出力する第1のラッチ回
路と、前記第3の制御信号の遷移に応答して前記第1の
ラッチ回路の出力データを転送する転送回路と、前記第
3の制御信号の遷移に応答して前記転送回路の出力デー
タをラッチして所定のタイミングで出力する第2のラッ
チ回路と、で構成している。これにより、第1の制御信
号の遷移に応答して、ノード上のデータが第1のラッチ
回路にラッチされ、このラッチされたデータが転送回路
で転送され、第2のラッチ回路にラッチされた後、所定
のタイミングで出力される。
【0013】第3の発明は、第1又は第2の発明のスキ
ャンパステスト用FF回路において、前記スキャンデー
タ取り込み手段の出力端子と、前記ノードとの間は、メ
タルマスクの入れ替えにより接続又は断線が可能なメタ
ル配線で結線している。これにより、メタルマスクの入
れ替えによって容易にメタル配線を接続したり、あるい
は切り離すことが可能となる。このスキャンパステスト
用FF回路を半導体集積回路に組み込んだ場合、所望の
動作速度が得られない時には、メタル配線を切り離すこ
とによってデータ取り込み手段の出力負荷を少なくする
ことにより、動作速度の向上が図れる。
【0014】第4の発明では、第1、第2又は第3の発
明のスキャンパステスト用FF回路において、前記デー
タ取り込み手段及び前記スキャンデータ取り込み手段
は、クロックドインバータでそれぞれ構成している。こ
れにより、第1及び第2の制御信号によって通常のデー
タ又はスキャンデータのいずれか一方を簡単に取り込め
る。
【0015】
【発明の実施の形態】(第1の実施形態)図1は、本発
明の第1の実施形態を示すマスタスレーブ型のスキャン
パステスト用FF回路の構成図である。このマスタスレ
ーブ型のスキャンパステスト用FF回路は、通常のデー
タDIを入力するデータ入力端子21、及びスキャンデ
ータSIを入力するスキャンデータ入力端子22を有し
ている。データ入力端子21に、データ取り込み手段
(例えば、クロックドインバータ)23が接続され、さ
らにスキャンデータ入力端子22に、スキャンデータ取
り込み手段(例えば、クロックドインバータ)24が接
続されている。データ取り込み用のクロックドインバー
タ23は、相補的な第1の制御信号dc,dcnによっ
て制御され、この制御信号dcが論理値“0”(制御信
号dcnが論理値“1”)の時にオン状態となって入力
データDIを反転して出力し、制御信号dcが“1”
(制御信号dcnが“0”)の時にオフ状態となる回路
である。スキャンデータ取り込み用のクロックドインバ
ータ24は、相補的な第2の制御信号sc,scnによ
って制御され、この制御信号scが“0”(制御信号s
cnが“1”)の時にオン状態となって入力スキャンデ
ータSIを反転して出力し、制御信号scが“1”(制
御信号scnが“0”)の時にオフ状態となる回路であ
る。
【0016】クロックドインバータ23及び24の出力
端子には、ノード25を介してラッチ手段が接続されて
いる。このラッチ手段は、相補的な第3の制御信号c,
cnの遷移に応答してノード25上のデータをラッチし
て所定のタイミングでデータ出力端子29へ出力する回
路であり、第1のラッチ回路26、転送回路(例えば、
クロックドインバータ)27、及び第2のラッチ回路2
8により構成されている。
【0017】第1のラッチ回路26は、相補的な第3の
制御信号c,cnの遷移に応答してノード25上のデー
タをラッチして所定のタイミングで出力する回路であ
り、ノード25に接続されたインバータ26aと、この
インバータ26aの入力端子と出力端子との間に接続さ
れたクロックドインバータ26bとで構成されている。
インバータ26aの出力端子には、転送用のクロックド
インバータ27を介して、第2のラッチ回路28が接続
されている。第2のラッチ回路28は、第3の制御信号
c,cnの遷移に応答してクロックドインバータ27の
出力データをラッチして所定のタイミングでデータ出力
端子29へ出力する回路であり、クロックドインバータ
27の出力端子に接続されたインバータ28aと、この
インバータ28aの出力端子と入力端子との間に接続さ
れたクロックドインバータ28bとで構成されている。
【0018】図4は、図1の制御信号dc,dcn,s
c,scn,c,cnを生成するための制御信号生成回
路の一例を示す構成図である。この制御信号生成回路
は、クロック信号CLKを反転して第3の制御信号cn
を出力するインバータ31と、クロック信号CLK及び
スキャン信号SCANを入力して第3の制御信号dcn
を出力する2入力NORゲート32と、スキャン信号S
CANを反転するインバータ33と、クロック信号CL
K及びインバータ33の出力信号を入力して第2の制御
信号scnを出力する2入力NORゲート34とを有し
ている。インバータ31の出力端子には、制御信号cn
を反転して第3の制御信号cを出力するインバータ35
が接続されている。NORゲート32の出力端子には、
制御信号dcnを反転して第1の制御信号dcを出力す
るインバータ36が接続されている。NORゲート34
の出力端子には、制御信号scnを反転して第2の制御
信号scを出力するインバータ37が接続されている。
【0019】この制御信号生成回路では、クロック信号
CLK及びスキャン信号SCANが入力されると、この
クロック信号CLKがインバータ31によって反転さ
れ、制御信号cnが出力されると共に、該制御信号cn
がインバータ35で反転されて制御信号cが出力され
る。スキャン信号SCANが“0”の時には、NORゲ
ート32がオン状態となり、クロック信号CLKが該N
ORゲート32で反転されて制御信号dcnが出力され
ると共に、この制御信号dcnがインバータ36で反転
されて制御信号dcが出力される。この時、スキャン信
号SCANがインバータ33で反転されるので、NOR
ゲート34がオフ状態となる。スキャン信号SCANが
“1”の時は、NORゲート32がオフ状態になるのに
対し、NORゲート34がオン状態になる。NORゲー
ト34がオン状態になると、クロック信号CLKが該N
ORゲート34で反転されて制御信号scnが出力され
ると共に、この制御信号scnがインバータ37で反転
されて制御信号scが出力される。
【0020】図5は、図1のクロックドインバータ23
の一例を示す構成図である。このクロックドインバータ
23は、制御信号dcを反転するインバータ41を有
し、このインバータ41の出力端子にNチャネル型MO
Sトランジスタ(以下「NMOS」という。)42のゲ
ートが接続されている。NMOS42のドレインには電
源電位VCCが接続されている。NMOS42のソース
とノード25との間には、Pチャネル型MOSトランジ
スタ(以下「PMOS」という。)43が接続され、こ
のPMOS43のゲートにデータ入力端子21が接続さ
れている。ノード25とグランドGNDとの間には、2
個のNMOS44,45が直列接続されている。NMO
S44のゲートには、データ入力端子21が接続されて
いる。NMOS45のゲートには、制御信号dcnが入
力されるようになっている。
【0021】このクロックドインバータ23では、入力
される制御信号dcが“0”(制御信号dcnが
“1”)の時に、該制御信号dcがインバータ41で反
転されて“1”となり、NMOS42がオン状態にな
る。この時、制御信号dcnが“1”のため、NMOS
45もオン状態となる。これにより、データ入力端子2
1に入力されるデータDIが“0”の時には、PMOS
43がオン状態、NMOS44がオフ状態となり、ノー
ド25が“1”となる。データDIが“1”の時には、
PMOS43がオフ状態、NMOS44がオン状態とな
り、ノード25が“0”となる。
【0022】図1の他のクロックドインバータ24,2
6b,27,28bは、図5と同様の構成である。図6
(a)、(b)は図1に示すスキャンパステスト用FF
回路の動作を説明するためのタイミングチャートであ
り、同図(a)は通常動作モード時のタイミングチャー
ト、及び同図(b)はスキャンパステストのシフトモー
ド時のタイミングチャートである。以下、この図6
(a)、(b)を参照しつつ、通常動作モード時の動作
(A)と、スキャンパステストのシフトモード時の動作
(B)とを説明する。
【0023】(A) 通常動作モード時の動作(図6
(a)) 制御信号scを“1”、制御信号scnを“0”に設定
する。これにより、クロックドインバータ24がオフ状
態になり、このクロックドインバータ24がノード25
から切り離された状態になる。制御信号dc,cが
“0”に立ち下がると共に、制御信号dcn,cnが
“1”に立ち上がると、クロックドインバータ23,2
8bがオン状態、クロックドインバータ26b,27が
オフ状態になる。これにより、データ入力端子21に供
給されたデータDIがクロックドインバータ23に取り
込まれる。次に、制御信号dc,cが“1”に立ち上が
ると共に、制御信号dcn,cnが“0”に立ち下がる
と、クロックドインバータ23,28bがオフ状態、ク
ロックドインバータ26b,27がオン状態となる。こ
れにより、取り込まれたデータDIが、データQの形で
データ出力端子29から出力される。従って、図1のF
F回路は、通常のマスタスレーブ型FF回路として動作
する。
【0024】(B) スキャンパステストのシフトモー
ド時の動作(図6(b)) 制御信号dcを“1”、及び制御信号dcnを“0”に
設定すると、クロックドインバータ23がオフ状態にな
り、このクロックドインバータ23がノード25から切
り離された状態になる。制御信号sc,cが“0”に立
ち下がると共に、制御信号scn,cnが“1”に立ち
上がると、クロックドインバータ24,28bがオン状
態、クロックドインバータ26b,27がオフ状態にな
る。これにより、スキャンデータ入力端子22に供給さ
れたスキャンデータSIが、クロックドインバータ24
に取り込まれる。次に、制御信号sc,cが“1”に立
ち上がると共に、制御信号scn,cnが“0”に立ち
下がると、クロックドインバータ24,28bがオフ状
態、クロックドインバータ26b,27がオン状態にな
る。これにより、取り込まれたスキャンデータSIが、
データQの形でデータ出力端子29から出力される。よ
って、図1のスキャンパステスト用FF回路を用いて図
2(b)のような半導体集積回路を構成すれば、この半
導体集積回路のスキャンパステストが行える。
【0025】この第1の実施形態では、次のような効果
がある。従来の図3のようなスキャンパステスト用FF
回路内のセレクタ13を取り除き、1個のクロックドイ
ンバータ24をスキャンデータ入力端子22に接続した
ので、セレクタ13の分だけデータ伝搬に要する時間
(即ち、セレクタ13を通る時のデータの伝搬遅延時
間)を削減でき、かつ動作は従来の図3のようなスキャ
ンパステスト用FF回路と同等の動作が保証できる。こ
のため、本実施形態のスキャンパステスト用FF回路を
用いて図2(b)のような半導体集積回路を構成すれ
ば、該スキャンパステスト用FF回路のセットアップ時
間が増大せず、半導体集積回路の動作速度を高速化でき
る。
【0026】(第2の実施形態)図7は、本発明の第2
の実施形態を示すスキャンパステスト用FF回路の構成
図であり、第1の実施形態を示す図1中の要素と共通の
要素には共通の符号が付されている。この第2の実施形
態のスキャンパステスト用FF回路では、スキャンデー
タ取り込み用のクロックドインバータ24の出力端子と
ノード25との間を、メタルマスクの入れ替えにより接
続又は断線が可能なメタル配線30で結線している。そ
の他の構成は、第1の実施形態と同様である。クロック
ドインバータ24の出力端子とノード25とがメタル配
線30で結線されている場合、第1の実施形態を示す図
1と同一の回路となり、第1の実施形態と同様の動作を
行う。一方、メタルマスクの入れ替えによってメタル配
線30を取り除くと、通常のマスタスレーブ型FF回路
と同様の動作を行う。
【0027】この第2の実施形態では、次のような効果
がある。メタルマスクの入れ替えによって容易にメタル
配線30を接続したり、あるいは切り離すことができ
る。このスキャンパステスト用FF回路を用いて例えば
図2(b)のような半導体集積回路を設計し、この半導
体集積回路の動作速度を測定した結果、所望の動作速度
が得られない時には、メタルマスクの入れ替えによって
メタル配線30を切り離し、ノード25からクロックド
インバータ24を見た配線容量の負荷を少なくする。こ
れにより、動作速度を上げることができるので、スキャ
ンパステスト用としては用いることができないが、通常
の半導体集積回路として使用することが可能となる。
【0028】(変形例)なお、本発明は上記実施形態に
限定されず、種々の変形が可能である。この変形例とし
ては、例えば、次の(a)〜(c)のようなものがあ
る。 (a) データ取り込み手段及びスキャンデータ取り込
み手段は、それぞれクロックドインバータ23,24で
構成したが、他の回路で構成してもよい。例えば、電界
効果トランジスタ(FET)等のトランジスタを並列接
続した構成のトランスファゲート等で構成してもよい。 (b) 第1及び第2のラッチ回路26,28及び転送
回路用のクロックドインバータ27は、トランスファゲ
ート等の他の回路で構成してもよい。また、ノード25
に接続されるラッチ手段を、第1、第2のラッチ回路2
6,28及び転送回路用のクロックドインバータ27に
代えて、他のFFで構成してもよい。 (c) メタル配線30は、メタルマスクの入れ替えに
より接続又は断線が可能な構成にしたが、このようなメ
タルマスクの入れ替えに代えて、他の方法でメタル配線
30の接続又は断線が可能な構成にすることも可能であ
る。
【0029】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、第1及び第
2の発明によれば、従来のようなデータ取り込み手段の
入力側に設けられるセレクタを取り除き、スキャンデー
タ取り込み手段をデータ取り込み手段と並列に接続した
ので、従来のようなセレクタの分だけデータ伝搬に要す
る時間を削減できる。これにより、従来のようなセレク
タを設けることによるセットアップ時間の増大を防止で
きる。従って、本発明のスキャンパステスト用FF回路
を用いて半導体集積回路を構成した場合、この半導体集
積回路の高速化が可能となる。
【0030】第3の発明によれば、スキャンデータ取り
込み手段の出力端子とノードとの間を、メタル配線で結
線したので、メタルマスクの入れ替えによって容易にメ
タル配線を接続したり、あるいは切り離すことができ
る。このため、例えば、本発明のスキャンパステスト用
FF回路を用いて半導体集積回路を設計し、この半導体
集積回路の動作速度を測定した結果、動作速度が遅けれ
ば、メタル配線を切り離すことによってノードに接続さ
れる配線容量の負荷を少なくし、動作速度を向上させる
ことができる。これにより、半導体集積回路のスキャン
パステストは行えないが、通常の半導体集積回路の動作
及び効果を期待できる。第4の発明によれば、データ取
り込み手段及びスキャンデータ取り込み手段をクロック
ドインバータでそれぞれ構成したので、データの取り込
みが簡単かつ的確に行える。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態を示すスキャンパステ
スト用FF回路の構成図である。
【図2】従来の半導体集積回路の一例を示す構成図であ
る。
【図3】図2(b)における従来のスキャンパステスト
用FF回路1Aの一例を示す構成図である。
【図4】図1の制御信号を生成するための制御信号生成
回路の一例を示す構成図である。
【図5】図1のクロックドインバータ23の一例を示す
構成図である。
【図6】図1のスキャンパステスト用FF回路の動作を
説明するタイミングチャートである。
【図7】本発明の第2の実施形態を示すスキャンパステ
スト用FF回路の構成図である。
【符号の説明】
23 データ取り込み用クロックドインバータ 24 スキャンデータ取り込み用クロックドインバー
タ 25 ノード 26 第1のラッチ回路 27 転送用クロックドインバータ 28 第2のラッチ回路 30 メタル配線

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レベルの異なる第1及び第2の電位をも
    つ第1の制御信号の遷移に応答して通常動作モード時の
    通常データを取り込んで所定のタイミングでノードへ出
    力するデータ取り込み手段と、 レベルの異なる第1及び第2の電位をもつ第2の制御信
    号の遷移に応答してスキャンパステストのシフトモード
    時のスキャンデータを取り込んで所定のタイミングで前
    記ノードへ出力するスキャンデータ取り込み手段と、 レベルの異なる第1及び第2の電位をもつ第3の制御信
    号の遷移に応答して前記ノード上のデータをラッチして
    所定のタイミングで出力するラッチ手段と、 を有することを特徴とするスキャンパステスト用フリッ
    プフロップ回路。
  2. 【請求項2】 前記ラッチ手段は、 前記第3の制御信号の遷移に応答して前記ノード上のデ
    ータをラッチして所定のタイミングで出力する第1のラ
    ッチ回路と、 前記第3の制御信号の遷移に応答して前記第1のラッチ
    回路の出力データを転送する転送回路と、 前記第3の制御信号の遷移に応答して前記転送回路の出
    力データをラッチして所定のタイミングで出力する第2
    のラッチ回路と、 で構成したことを特徴とする請求項1記載のスキャンパ
    ステスト用フリップフロップ回路。
  3. 【請求項3】 前記スキャンデータ取り込み手段の出力
    端子と、前記ノードとの間は、メタルマスクの入れ替え
    により接続又は断線が可能なメタル配線で結線したこと
    を特徴とする請求項1又は2記載のスキャンパステスト
    用フリップフロップ回路。
  4. 【請求項4】 前記データ取り込み手段及び前記スキャ
    ンデータ取り込み手段は、クロックドインバータでそれ
    ぞれ構成したことを特徴とする請求項1、2又は3記載
    のスキャンパステスト用フリップフロップ回路。
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