JP2001318207A

JP2001318207A - 反射防止フィルムおよび画像表示装置

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Publication number: JP2001318207A
Application number: JP2001014690A
Authority: JP
Inventors: Hirohisa Sotozono; 裕久外園; Kazuhiro Nakamura; 和浩中村; Ichiro Amimori; 一郎網盛
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-02-28
Filing date: 2001-01-23
Publication date: 2001-11-16

Abstract

(57)【要約】【課題】反射防止性能が高く、防汚性、耐傷性にも優
れる、低コストで製造可能な反射防止フィルムおよびそ
れを用いた画像表示装置を提供する。【解決手段】透明支持体上に、屈折率１．３５乃至
１．４９の低屈折率層を有する光学フィルムにおいて、
該低屈折率層がオルガノシランの加水分解物および／ま
たはその部分縮合物、光によって反応促進剤を発生する
化合物および含フッ素ポリマーを含有し、該光学フィル
ムのヘイズが３．０乃至２０．０％、４５０ｎｍから６
５０ｎｍの平均反射率が１．８％以下であることを特徴
とする反射防止フィルムおよびそれを用いた画像表示装
置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止フィル
ム、特に防眩性を有する反射防止フィルム並びにそれを
用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止フィルムは、一般に、陰極管表
示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置に
おいて、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り
込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率
を低減するディスプレイの最表面に配置される。

【０００３】近年、画像表示装置のディスプレイにおい
て、一層の高精密化、高輝度化、高色再現性が要求され
ており、反射防止フィルムにおいても更なる反射防止性
能の改善が望まれている。

【０００４】また、透明支持体上にハードコート層と低
屈折率層のみを有する反射防止フィルムにおいては、反
射率を低減するためには低屈折率層を十分に低屈折率化
しなければならず、トリアセチルセルロースを支持体と
し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのＵＶ
硬化被膜をハードコート層とする反射防止フィルムで４
５０ｎｍから６５０ｎｍにおける平均反射率を１．６％
以下にするためには屈折率を１．４０以下にしなければ
ならない。屈折率１．４０以下の素材としては無機物で
はフッ化マグネシウムやフッ化カルシウム、有機物では
フッ素含率の大きい含フッ素化合物が挙げられるが、こ
れらフッ素化合物は凝集力がないためディスプレイの最
表面に配置するフィルムとしては耐傷性が不足してい
た。従って、十分な耐傷性を有するためには１．４３以
上の屈折率を有する化合物が必要であった。

【０００５】特開平７−２８７１０２号においては、ハ
ードコート層の屈折率を大きくすることにより、反射率
を低減させることが記載されている。しかしながら、こ
のような高屈折率ハードコート層は支持体との屈折率差
が大きいためにフィルムの色むらが発生し、反射率の波
長依存性も大きく振幅してしまう。

【０００６】また特開平７−３３３４０４号において
は、ガスバリア性、防眩性、反射防止性に優れる防眩性
反射防止膜が記載されているが、ＣＶＤによる酸化珪素
膜が必須であるため、ウェット塗布と比較して生産性に
劣る。

【０００７】特公平６−９８７０３号、特開昭６３−２
１６０１号公報にはアルコキシシラン化合物の加水分解
部分縮合物からなる組成物をプラスチック基材表面に塗
布して反射光を低減化させる技術が開示されている。こ
れら公報に記載の技術ではゾルゲル法により無機膜がウ
ェット塗布により得られる。無機膜であるため非常に高
い膜強度が期待されるが、上記無機膜は一般に多くの基
材との密着性に乏しく、剥離故障が生じやすい欠点があ
った。さらに、硬化に長時間の加熱が必須であり、生産
性に乏しい欠点もあった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、反射
防止性能の優れる反射防止フィルムを提供することであ
る。さらに、本発明の課題は、支持体上に防眩性ハード
コート層と低屈折率層を形成することによって、簡便か
つ安価にして十分な反射防止性能と耐傷性、防汚性を有
し、しかも色むらの少ない反射防止フィルムを提供する
ことである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題は、以下の発明
により達成された。（１）透明支持体上に、オルガノシランの加水分解物お
よび／またはその部分縮合物、光によって反応促進剤を
発生する化合物および含フッ素ポリマーからなる屈折率
１．３５乃至１．４９の低屈折率層を有する反射防止フ
ィルム。（２）透明支持体上に、防眩性ハードコート層および該
防眩性ハードコート層上に屈折率１．３５乃至１．４９
の低屈折率層を有する光学フィルムにおいて、該防眩性
ハードコート層が平均粒径１．０乃至１０．０μｍの微
粒子を含有し、該低屈折率層がオルガノシランの加水分
解物および／またはその部分縮合物、光によって反応促
進剤を発生する化合物および含フッ素ポリマーを含有
し、該光学フィルムのヘイズが３．０乃至２０．０％、
４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が１．８％以下
であることを特徴とする反射防止フィルム。（３）前記防眩性ハードコート層において該防眩性ハー
ドコート層を形成する素材の屈折率が１．５７乃至２．
００であることを特徴とする（２）項記載の反射防止フ
ィルム。（４）前記低屈折率層において光によって反応促進剤を
発生する化合物が光酸発生剤であることを特徴とする
（１）項〜（３）項記載の反射防止フィルム。（５）前記低屈折率層において含フッ素ポリマーが含フ
ッ素ビニルモノマーを重合して得られるポリマーである
ことを特徴とする（１）項〜（４）項記載の反射防止フ
ィルム。（６）前記含フッ素ポリマーが前記オルガノシランと共
有結合可能な官能基を有することを特徴とする（１）項
〜（５）項記載の反射防止フィルム。（７）前記透明支持体がトリアセチルセルロースまたは
ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタ
レートまたはアートンまたはゼオネックスであることを
特徴とする（１）項〜（６）項記載の反射防止フィル
ム。（８）透明支持体が、トリアセチルセルロースフィルム
であり、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解すること
で調整されたトリアセチルセルロースドープを単層流
延、複数層共流延もしくは複数層逐次流延の何れかの流
延方法により流延することにより作製されたことを特徴
とする上記１〜７のいずれかに記載の反射防止フィル
ム。（９）該トリアセチルセルロースドープが、トリアセチ
ルセルロースを冷却溶解法あるいは高温溶解法によっ
て、ジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解する
ことで調製されたトリアセチルセルロースドープである
ことを特徴とする上記８記載の反射防止フィルム。（１０）（１）項〜（９）項のいずれかに記載の反射防
止フィルムを偏光板における偏光層の２枚の保護フィル
ムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏
光板。（１１）（１）項〜（９）項のいずれかに記載の反射防
止フィルムまたは（１０）項に記載の反射防止偏光板の
反射防止層をディスプレイの最表層に用いたことを特徴
とする液晶表示装置。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜は、低屈折率
層に下記のオルガノシランの加水分解物および／または
その部分縮合物、光によって反応促進剤を発生する化合
物および含フッ素ポリマーを有してなる。屈折率は１．
３５乃至１．４９、好ましくは１．３５乃至１．４４で
ある。

【００１１】次に、本発明の実施の一形態として好適な
反射防止フィルムの基本的な構成を図１を参照しながら
説明する。図１に示す態様は本発明の反射防止フィルム
の一例であり、透明支持体１、ハードコート層２、防眩
性ハードコート層３、そして低屈折率層４の順序の層構
成を有する。５は粒子であり、防眩性ハードコート層３
の粒子５以外の部分の素材の屈折率が好ましくは１．５
７乃至２．００、さらに好ましくは１．６０乃至１．８
０であり、低屈折率層４の屈折率は１．３５乃至１．４
９、好ましくは１．３５乃至１．４４である。ハードコ
ート層２は必須ではないが膜強度付与のために塗設され
ることが好ましい。平均反射率は１．８％以下である。
反射防止膜では、低屈折率層が下記式（１）をそれぞれ
満足することが好ましい。

【００１２】ｍλ／４×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜ｍλ／４×１．３（１）

【００１３】式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ₁は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折
率層の膜厚（ｎｍ）である。

【００１４】本発明における防眩性ハードコート層の屈
折率は１つの値で記述されず、防眩性ハードコート層を
形成する素材中に微粒子が分散している屈折率不均一層
である。防眩性ハードコート層を形成する素材の屈折率
は１．５７乃至２．００であることが好ましい。これが
小さすぎると反射防止性能が小さくなり、大きすぎると
色味が大きくなりすぎてしまうことがある。高屈折率素
材が二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとチ
タン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜
鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つ
の酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の微粒子とからな
る場合、微粒子の粒径が光の波長よりも十分小さいため
に散乱が生じず、光学的には均一な物質として振舞うこ
とが、特開平８−１１０４０１号等に記載されている。

【００１５】この防眩性ハードコート層は、高屈折率素
材中に分散する粒径１．０μｍ以上の微粒子によって内
部散乱が生じるために、防眩性ハードコート層での光学
干渉の影響を生じない。粒子を有しない高屈折率防眩性
ハードコート層では、防眩性ハードコート層と支持体と
の屈折率差による光学干渉のために、反射率の波長依存
性において反射率の大きな振幅が見られ、結果として反
射防止効果が悪化し、同時に色むらが発生してしまう
が、本発明の反射防止フィルムでは微粒子の内部散乱効
果によってこれらの問題を解決した。

【００１６】本発明の反射防止フィルムは透明支持体上
に防眩性ハードコート層を有し、さらにその上の低屈折
率層を有してなるが、必要に応じ、防眩性ハードコート
層の下層に平滑なハードコート層を設けることができ
る。

【００１７】防眩性ハードコート層に用いる化合物は、
飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖とし
て有するポリマーであることがさらに好ましい。バイン
ダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化
水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和
モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋し
ているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエ
チレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ま
しい。高屈折率にするためには、このモノマーの構造中
に芳香族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、リン、
窒素の原子から選ばれた少なくとも１つを含むことが好
ましい。

【００１８】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベン
ゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエ
ステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニル
スルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。

【００１９】高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メ
タクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタ
レン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシ
フェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が含
まれる。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマー
は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤を用
い、塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬
化させる必要がある。

【００２０】ポリエーテルを主鎖として有するポリマー
は、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成す
ることが好ましい。光酸発生剤あるいは熱酸発生剤を用
い、塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬
化させる必要がある。

【００２１】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基を有するモ
ノマーを用いてポリマー中に架橋性基を導入し、この架
橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに
導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナー
ト基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、ア
ルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシ
ル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。
ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導
体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよび
ウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキ
シドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用
できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応
の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。ま
た、本発明において架橋性基とは、上記化合物に限らず
上記官能基が分解した結果反応性を示すものであっても
よい。これら架橋性基を有する化合物は塗布後、熱など
によって架橋させる必要がある。

【００２２】防眩性ハードコート層には、素材の屈折率
を高めるために、チタン、ジルコニウム、アルミニウ
ム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ば
れる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以
下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが
好ましい。微粒子の例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａ
ｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴ
Ｏ等が挙げられる。これらの無機微粒子の添加量は、防
眩性ハードコート層の全質量の１０乃至９０％であるこ
とが好ましく、２０乃至８０％であると更に好ましく、
３０乃至６０％が特に好ましい。

【００２３】防眩性ハードコート層には、防眩性付与と
防眩性ハードコート層の干渉による反射率悪化防止、色
むら防止の目的で、樹脂または無機化合物の粒子が用い
られ、例えば、シリカ粒子やＴｉＯ₂粒子、架橋アクリ
ル粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾ
グアナミン樹脂粒子、などが好ましく用いられる。平均
粒径は１．０乃至１０．０μｍが好ましく、１．５乃至
７．０μｍがより好ましい。また、粒子の形状として
は、真球、不定形、のいずれも使用できる。異なる２種
以上の粒子を併用して用いてもよい。粒子の塗布量は、
好ましくは１０乃至１０００ｍｇ／ｍ²、より好ましく
は３０乃至１００ｍｇ／ｍ²とする。また、防眩性ハー
ドコート層の膜厚の２分の１よりも大きい粒径のシリカ
粒子が、該シリカ粒子全体の４０乃至１００％を占める
ことが好ましい。粒度分布はコールターカウンター法や
遠心沈降法等により測定できるが、分布は粒子数分布に
換算して考える。防眩性ハードコート層膜厚は１乃至１
０μｍが好ましく、１．２乃至６μｍがより好ましい。

【００２４】本発明において平滑なハードコート層に用
いる樹脂は防眩性付与微粒子を用いないこと以外は防眩
性ハードコート層において挙げたものと同様である。平
滑なハードコート層は膜強度向上の目的で必要に応じ
て、透明支持体と防眩性ハードコート層の間に塗設され
る。平滑なハードコート層膜厚は１乃至１０μｍが好ま
しく、１．２乃至６μｍがより好ましい。

【００２５】本発明の低屈折率層には、オルガノシラン
の加水分解物および／またはその部分縮合物、いわゆる
ゾルゲル成分（以後このように称する）が用いられ、膜
強度向上および耐擦傷性向上に寄与している。含フッ素
ポリマーも用いられ、防汚性および滑り性に寄与してい
る。含フッ素ポリマーとしては含フッ素ビニルモノマー
を重合して得られるポリマーが好ましく、さらにゾルゲ
ル成分と共有結合可能な官能基を有することが、ゾルゲ
ル成分との相溶性および膜強度の観点で好ましい。ゾル
ゲル成分は塗布液の段階ではゾル状態であり、光により
反応促進剤を発生する化合物の作用により、塗布後の光
照射により速やかに硬化する。

【００２６】本発明の低屈折率層に用いられるオルガノ
シランは次の一般式（２）で表されるものである。

【００２７】Ｒ_xＳｉ（ＯＲ'）_4-x （２）

【００２８】（ただし、Ｒ、Ｒ'は同一または異なって
いてもよく、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、
アリル基、フルオロアルキル基を表し、アルキル基は官
能基としてエポキシ基、アミノ基、アクリル基、イソシ
アネート基、メルカプト基、を有していてもよい。ｘは
０〜３の整数である。）

【００２９】一般式（２）で表されるオルガノシランの
具体例としては、ｘ＝０としては、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラ
ン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、など、ｘ＝１として
は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメト
キシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ＣＦ₃ＣＨ₂
ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓ
ｉ（ＯＣＨ₃）₃、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−トリ
メトキシシリルプロピルイソシアネート、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、など、ｘ＝２としては、ジメチル
ジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルメチルトリエトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、などが挙げられる
が、本発明はこれらに限定されるものではない。また異
なる２種以上のオルガノシランを混合して用いることも
普通に行われ、硬さ、脆性、の調節、および官能基導入
の目的で適宜調節されることが好ましい。

【００３０】オルガノシランの加水分解縮合反応は無溶
媒でも、溶媒中でも行うことができる。溶媒としては有
機溶媒が好ましく、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノ
ール、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、１，
４−ジオキサンなどを挙げることができる。ここで用い
る溶媒は含フッ素ポリマーも溶解させる必要がある。加
水分解縮合反応は触媒存在下で行われることが好まし
い。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸類、
シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンス
ルホン酸などの有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、アンモニアなどの無機塩基類、トリエチルアミ
ン、ピリジンなどの有機塩基類、トリイソプロポキシア
ルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、などの金属
アルコキシド類、前記金属アルコキシド類と、アセト酢
酸エチル、アセチルアセトンなどのとの金属キレート化
合物類、などが挙げられる。加水分解縮合反応はアルコ
キシ基１モルに対して０．３乃至２．０モル、好ましく
は０．５乃至１．０モルの水を添加し、上記溶媒および
触媒の存在下、２５乃至１００℃で、撹拌することによ
り行われる。触媒の添加量はアルコキシ基に対して０．
０１乃至１０モル％、好ましくは０．１乃至５モル％で
ある。反応条件はオルガノシランの反応性により適宜調
節されることが好ましい。

【００３１】本発明の低屈折率層に用いられる含フッ素
ポリマーとしては、含フッ素ビニルポリマー、含フッ素
ポリエーテル、含フッ素ポリシロキサン、などが挙げら
れるが、含フッ素ビニルポリマーが好ましい。さらに、
この含フッ素ビニルポリマーが反応性基を有し、塗布硬
化後にゾルゲル成分と共有結合で結ばれていることがよ
り好ましい。本発明の含フッ素ビニルポリマーは含フッ
素ビニルモノマーをラジカル重合することにより得られ
る。含フッ素モノマーの具体例としては例えばフルオロ
オレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフ
ルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロ
プロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３
−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または
完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコ
ート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキ
ン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類
等である。このうちヘキサフロオロプロピレン、フッ素
化ビニルエーテル類が好ましい。

【００３２】オルガノシランと共有結合可能な官能基を
有するビニルモノマーについて以下に説明する。オルガ
ノシランの加水分解により生成するシラノール基との反
応性付与のための官能基としてはアルコキシシリル基が
挙げられる。含アルコキシシリル基モノマーとしてはγ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、などが挙げられる。含官能基オル
ガノシランを用いることにより、エポキシ基、アミノ
基、イソシアネート基、メルカプト基、などがゾルゲル
成分に導入可能である。これらの官能基と共有結合可能
な官能基としては、ヒドロキシ基、エポキシ基、カルボ
キシル基、などが挙げられ、これらの官能基を有するビ
ニルモノマーとしては、ヒドロキシ基を有する２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルア
クリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３
−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル、エポキシ基を有するグリシジル
メタクリレート、グルシジルアクリレート、ビニルグリ
シジルエーテル、カルボキシル基を有するアクリル酸、
メタクリル酸、β−カルボキシエチルアクリレート、ク
ロトン酸、イタコン酸、α−ビニル酢酸、フマル酸ビニ
ル、マレイン酸ビニル、などを挙げることができるが、
本発明はこれらに限定されるものではない。

【００３３】上記以外のビニルモノマーも共重合モノマ
ーとして用いることができる。このようなモノマーとし
ては、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イ
ソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル
酸エステル類（メチルアクリレート、、エチルアクリレ
ート、２−エチルヘキシルアクリレート）、メタクリル
酸エステル類（メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、ブチルメタクリレート、エチレングリコールジ
メタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビ
ニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン
等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチ
ルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、ｎ−
ブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビ
ニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリ
ルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−
シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド
類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
このうちビニルエーテル類が好ましい。

【００３４】本発明における上記モノマーの混合比とし
ては含フッ素モノマーが２０乃至８０％、官能基含有モ
ノマーが０乃至３０％、それ以外のモノマーが０乃至７
０％が好ましくい。モノマー混合物は普通のラジカル重
合により重合させることができる。

【００３５】本発明の低屈折率層に用いられる光によっ
て反応促進剤を発生する化合物としては、特に限定され
ないが、光酸発生剤あるいは光塩基発生剤が好ましく、
いずれもゾルゲル成分の縮合反応を促進することができ
る。具体的には、光酸発生剤としては、ベンゾイントシ
レート、トリ（ニトロベンジル）ホスフェート、ジアリ
ールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩な
ど、光塩基発生剤としては、ニトロベンジルシクロヘキ
シルカルバメート、ジ（メトキシベンジル）ヘキサメチ
レンジカルバメートなどを挙げることができる。このう
ち光酸発生剤が好ましく、具体的にはトリアリールスル
ホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、が好ましい。
これらの化合物と併用して増感色素も好ましく用いるこ
とができる。本発明の光によって反応促進剤を発生する
化合物の添加量としては、低屈折率層塗布液全固形分に
対して０．１乃至１５％が好ましく、より好ましくは
０．５乃至５％である。

【００３６】本発明の低屈折率層のゾルゲル成分と含フ
ッ素ポリマー成分は硬化後には共有結合でつながってい
ることが膜強度および透明性の点で好ましい。このよう
な目的のため、塗布液の状態で既に含フッ素ポリマーの
官能基をアルコキシシリル基に変性することも好ましく
行われる。変性の方法としては、含フッ素ポリマーの官
能基と反応可能な官能基を有するオルガノシランを予め
反応させればよい。本発明の低屈折率層の膜厚は好まし
くは０．０５乃至０．２μｍ、より好ましくは０．０８
乃至０．１２μｍである。

【００３７】本発明の透明支持体としては、プラスチッ
クフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィ
ルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル
（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、アート
ン、ゼオネックスなどが挙げられる。このうちトリアセ
チルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート、アートン、ゼオネックスが好まし
い。本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる
場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表
面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセルロース
の場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとして
トリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の反
射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることが
コストの上では好ましい。支持体の厚みは、特に限定さ
れないが、５０〜１５０μｍが好ましく、７０〜１２０
μｍがより好ましい。

【００３８】透明支持体としては、トリアセチルセルロ
ースを溶剤に溶解することで調整されたトリアセチルセ
ルロースドープを単層流延、複数層共流延若しくは複数
層逐次流延の何れかの流延方法により流延することによ
り作製されたトリアセチルセルースフィルムを用いるこ
とが好ましい。特に、環境保全の観点から、トリアセチ
ルセルロースを冷却溶解法あるいは高温溶解法によって
ジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解すること
で調整されたトリアセチルセルロースドープを用いて作
製されたトリアセチルセルースフィルムが好ましい。

【００３９】トリアセチルセルロースの単層流延は、特
開平７−１１０５５等で開示されているドラム流延、あ
るいはバンド流延等があげられ、複数の層からなるトリ
アセチルセルロースの共流延は、特開昭６１−９４７２
５、特公昭６２−４３８４６等で開示されている。逐次
流延は、単層流延を繰り返すことで行われる。それぞれ
の流延は、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジク
ロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノー
ル、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メ
チル）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエ
チルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応
じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離
促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称す
る）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転す
るドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイ
と称する）により流延する際、単層ならば単一のドープ
を単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエス
テルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上
である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体
から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過
させて溶剤を除去することからなる方法である。

【００４０】上記のような、トリアセチルセルロースを
溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的
である。しかしながら、技術的には、ジクロロメタンの
ようなハロゲン化炭化水素は問題なく使用できるが、ジ
クロロメタンを実質的に含む溶剤に溶解することで調整
されたトリアセチルセルロースドープを単層流延法によ
って製造すると、その製造過程でジクロロメタンが大気
中に放出されるため、環境保全や作業環境の観点から、
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含ま
ないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機
溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好
ましくは２質量％未満）であることを意味する。共流延
法の場合には、ジクロロメタンを実質的に含む溶剤を用
いたドープを複数層共流延法によって流延しても、外側
の流延層と比較してトリアセチルセルロース濃度の高い
ドープを内側の流延層に用いることができるため、結果
として大気中に放出されるジクロロメタンの量が減少で
きる。また、流延速度も高くすることが可能であり、生
産性にも優れる。勿論、共流延法の場合であってもジク
ロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まない
ことが好ましい。ジクロロメタン等を実質的に含まない
溶剤を用いてトリアセチルセルロースのドープを調整す
る場合には、後述するような特殊な溶解法が必須とな
る。

【００４１】第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以
下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）
で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々
に添加する。次に、混合物は−１００〜−１０℃（好ま
しくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−
２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却す
る。冷却は、例えば、ドライアイ・メタノール浴（−７
５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜
−２０℃）中で行うことができる。このように冷却する
と、トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化す
る。さらに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５
０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは
０〜５０℃）に加温すると、溶剤中にトリアセチルセル
ロースが流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置す
るだけでもよし、温浴中で加温してもよい。

【００４２】第二の方法は、高温溶解法と称され、以下
に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で
溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に
添加する。トリアセチルセルロースは、各種溶剤を含有
する混合溶剤中に添加し予め膨潤させておくことが好ま
しい。本法において、トリアセチルセルロースの溶解濃
度は３０質量％以下が好ましいが、フィルム製膜時の乾
燥効率の点から、なるべく高濃度であることが好まし
い。次にトリアセチルセルロースを溶解している有機溶
剤混合液を、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａの加圧下で７０
〜２４０℃、好ましくは８０〜２２０℃、更に好ましく
１００〜２００℃、最も好ましくは１００〜１９０℃に
加熱し、次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布でき
ないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却す
る。その場合、−１０〜５０℃に冷却して常圧に戻すこ
とが一般的である。冷却は、トリアセチルセルロース溶
液が内蔵されている高圧高温容器やラインを、室温に放
置するだけでもよく、更に好ましくは冷却水などの冷媒
を用いて該装置を冷却してもよい。

【００４３】反射防止フィルムの各層は、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２
９４号明細書）により、塗布により形成することができ
る。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方
法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１
８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の
各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３
頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。

【００４４】本発明の偏光板は、偏光層の２枚の保護フ
ィルムのうち少なくとも１枚に上記反射防止フィルムを
用いてなる。本発明の反射防止フィルムを最表層に使用
することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷
性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。ま
た、本発明の偏光板において反射防止フィルムが保護フ
ィルムを兼ねることで、製造コストを低減できる。

【００４５】反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。反
射防止膜が透明支持体を有する場合は、透明支持体側を
画像表示装置の画像表示面に接着する。

【００４６】

【実施例】以下に実施例に基づき本発明についてさらに
詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。

【００４７】（防眩性ハードコート層用塗布液Ａの調
製）ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）２５０ｇをメチルエチルケト
ン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒４３９
ｇに溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガ
キュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増
感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．
０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加
えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は１．５３であった。さらにこの溶液に平均粒径
３μｍの不定形シリカ粒子（商品名：ミズカシルＰ−５
２６、水澤化学工業（株）製）１０ｇを添加して、高速
ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した
後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
して防眩性ハードコート層の塗布液を調製した。

【００４８】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｂの調
製）ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタク
リロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友
精化（株）製）１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケ
トン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒に溶
解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）５．０ｇおよび光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇ
を４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．６０であった。さらにこの溶液に平均粒径２
μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００
Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディス
パにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径
３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩
性ハードコート層の塗布液を調製した。

【００４９】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｃの調
製）シクロヘキサノン１０４．１ｇ、メチルエチルケト
ン６１．３ｇの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しなが
ら酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布液（Ｋ
Ｚ−７９９１、ＪＳＲ（株）製）２１７．０ｇ、を添加
した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は１．７０であった。さらにこの溶液に平均粒径
２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００
Ｈ、綜研化学（株）製）５ｇを添加して、高速ディスパ
にて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３
０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性
ハードコート層の塗布液を調製した。

【００５０】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｄの調
製）シクロヘキサノン３２．２ｇに、エアディスパで攪
拌しながら酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗
布液（ＫＺ−７１１８、ＪＳＲ（株）製）３０３．３
ｇ、およびジペンタエリスリトールペンタアクリレート
とジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物
（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１２３．４ｇ、を添加
した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は１．６１であった。さらにこの溶液に平均粒径
２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００
Ｈ、綜研化学（株）製）８．２ｇを添加して、高速ディ
スパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔
径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防
眩性ハードコート層の塗布液を調製した。

【００５１】（ハードコート層用塗布液Ｅの調製）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）２５０ｇを、４３９ｇのメチルエチル
ケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒に
溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュ
ア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇ
を４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．５３であった。さらにこの溶液を孔径３０μ
ｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコー
ト層の塗布液を調製した。

【００５２】（低屈折率層用塗布液Ａの調製）屈折率
１．４１の含フッ素ポリマーおよび光によって反応促進
剤を発生する化合物を含有する光硬化性ゾルゲル化合物
（オプスターＴＭ５０１Ａ、固形分濃度１５％、ＪＳＲ
（株）製）２８ｇにメチルイソブチルケトン７２ｇを添
加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００５３】（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）屈折率
１．４３の含フッ素ポリマーおよび光によって反応促進
剤を発生する化合物を含有する光硬化性ゾルゲル化合物
（オプスターＴＭ５０５、固形分濃度１５％、ＪＳＲ
（株）製）２８ｇにメチルイソブチルケトン７２ｇを添
加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００５４】（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）屈折率
１．４０の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２
３、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）２８ｇにメチル
イソブチルケトンを１２ｇ添加、攪拌の後、孔径１μｍ
のポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層
用塗布液を調製した。

【００５５】（低屈折率層用塗布液Ｄの調製）屈折率
１．４５のテトラエトキシシラン／メチルトリメトキシ
シラン／γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
＝４０／４０／２０％の加水分解部分縮合物（固形分濃
度１５％）２８ｇに光酸発生剤（サイラキュアＵＶＩ−
６９９０、固形分５０％）０．０８４ｇとメチルイソブ
チルケトン７２ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリ
プロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布
液を調製した。

【００５６】（低屈折率層用塗布液Ｅの調製）屈折率
１．４５のテトラエトキシシラン／メチルトリメトキシ
シラン／γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
＝４０／４０／２０％の加水分解部分縮合物（固形分濃
度１５％）２５．２ｇに熱架橋性含フッ素ポリマー（Ｊ
Ｎ−７２２３、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）７ｇ
と光酸発生剤（サイラキュアＵＶＩ−６９９０、固形分
５０％）０．０８４ｇとメチルイソブチルケトン６７．
８ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製
フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製し
た。

【００５７】［実施例１］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記の防眩性ハードコート層用
塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾
燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ
（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００
ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射
して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの防眩性ハードコー
ト層を形成した。ハードコート層膜厚の２分の１である
３μｍより大きい粒径のシリカ粒子は約５０％である。
その上に、上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを
用いて塗布し、６０℃で乾燥の後、照度４００ｍＷ／ｃ
ｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布
層を硬化させた後、さらに１２０℃で８分間加熱し、厚
さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００５８】［実施例２］低屈折率層塗布液Ａの替わり
に低屈折率塗布液Ｂを用いスピンコーターを用いて塗布
した以外は実施例１と同様にしてサンプルを作製した。

【００５９】［比較例１］実施例１と同様に防眩性ハー
ドコート層を形成した。その上に低屈折率塗布液Ｃをバ
ーコーター用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１
２０℃で１０分間加熱し、厚さ０．０９６μｍの低屈折
率層を形成し、比較用サンプルを作製した。

【００６０】［比較例２］低屈折率層塗布液Ａの替わり
に低屈折率塗布液Ｄを用いた以外は実施例１と同様にし
て比較用サンプルを作製した。

【００６１】［実施例３］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、ハードコート層用塗布液Ｅをバ
ーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６
０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィ
ックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、
照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、厚さ４μｍのハードコート層を形成した。そ
の上に、防眩性ハードコート層用塗布液Ｂをバーコータ
ーを用いて塗布し、上記ハードコート層と同条件にて乾
燥、紫外線硬化して、厚さ約１．５μｍのハードコート
層を形成した。その上に、上記低屈折率層用塗布液Ａを
バーコーターを用いて塗布し、６０℃で乾燥の後、照度
４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線
を照射して塗布層を硬化させた後、さらに１２０℃で８
分間加熱し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成し
た。

【００６２】［実施例４］防眩性ハードコート層用塗布
液Ｂの替わりに防眩性ハードコート層用塗布液Ｃを用い
た以外は実施例３と同様にしてサンプルを作製した。

【００６３】［実施例５］防眩性ハードコート層用塗布
液Ｂの替わりに防眩性ハードコート層用塗布液Ｄを用い
グラビアコーターを用いて塗布した以外は実施例３と同
様にしてサンプルを作成した。

【００６４】［実施例６］低屈折率層用塗布液Ａの替わ
りに低屈折率層用塗布液Ｂを用いた以外は実施例４と同
様にしてサンプルを作製した。

【００６５】［比較例３］実施例４と同様に防眩性ハー
ドコート層を形成した。その上に低屈折率層用塗布液Ｃ
をバーコーター用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さら
に１２０℃で１０分間加熱し、厚さ０．０９６μｍの低
屈折率層を形成し、比較用サンプルを作製した。

【００６６】［比較例４］低屈折率層用塗布液Ａの替わ
りに低屈折率層用塗布液Ｄを用いた以外は実施例４と同
様にして比較用サンプルを作製した。

【００６７】[実施例７]８０μｍの厚さのトリアセチル
セルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フ
イルム（株）製）に、ハードコート層用塗布液Ｅをバー
コーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０
Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィッ
クス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照
射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬
化させ、厚さ４μｍのハードコート層を形成した。その
上に、上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用い
て塗布し、６０℃で乾燥の後、照度４００ｍＷ／ｃ
ｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布
層を硬化させた後、さらに１２０℃で８分間加熱し、厚
さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００６８】（反射防止膜の評価）得られたフィルムに
ついて、以下の項目の評価を行った。（１）平均反射率分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光
反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均
反射率を用いた。（２）ヘイズ得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。

【００６９】（３）鉛筆硬度評価耐傷性の指標としてＪＩＳＫ５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止膜を温度２５℃、湿度６０
％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳＳ６００６に規
定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重にてｎ＝５の評価において傷が全く認められない：○ ｎ＝５の評価において傷が１または２つ：△ ｎ＝５の評価において傷が３つ以上：×

【００７０】（４）接触角、指紋付着性評価表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度２５℃、
湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水に対する接触角
を測定した。またこのサンプル表面に指紋を付着させて
から、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状
態を観察して、以下のように指紋付着性を評価した。指紋が完全に拭き取れる：○ 指紋がやや見える：△ 指紋がほとんど拭き取れない：×

【００７１】（５）動摩擦係数測定表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿し
た後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφ
ステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎ
にて測定した値を用いた。

【００７２】（６）防眩性評価作製した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯（８０００ｃｄ／ｍ²）を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。蛍光灯の輪郭が全くわからない：◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる：○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる：△ 蛍光灯がほとんどぼけない：×

【００７３】（７）ギラツキ評価作製した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光
を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。ほとんどギラツキが見られない：○ わずかにギラツキがある：△ 目で識別できるサイズのギラツキがある：×

【００７４】表１に実施例および比較例の結果を示す。
実施例１〜６はいずれも反射防止性能に優れ、鉛筆硬
度、指紋付着性、防眩性、ギラツキのような防眩性反射
防止フィルムに必要とする全ての性能は良好であった。
実施例７は、防眩層を有していないために防眩性はない
が、ヘイズがほとんどなく画像鮮明性に優れ、かつ、反
射防止性能に優れ、鉛筆硬度、指紋付着性のような反射
防止フィルムに必要とする全ての性能は良好であった。
比較例１、３は、低屈折率層にゾルゲル成分が存在しな
いため、鉛筆硬度が悪く、耐傷性が不足していた。比較
例２、４は、含フッ素ポリマー成分がないため、接触角
が低く、また指紋付着性も全くなく、防汚性が不足して
いた。

【００７５】

【表１】

【００７６】次に、実施例１から６のフィルムを用いて
反射防止偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防
止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したとこ
ろ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが
得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を
有していた。また、実施例７のフィルムを用いて反射防
止偏光板を作製した。この偏光板を用いて同様に液晶表
示装置を作製したところ外光の映り込みがないために優
れたコントラストが得られ、優れた視認性を有してい
た。

【００７７】＜実施例８〜１７および比較例５〜８で使
用する支持体の作製＞（１）３層共流延トリアセチルセルロースフィルムＡの
作製（トリアセチルセルロースドープＡ１の調整）トリアセ
チルセルロース１７．４質量部、トリフェニルフォスフ
ェート２．６質量部、ジクロロメタン６６質量部、メタ
ノール５．８質量部、ノルマルブタノール８．２質量部
からなる原料を攪拌しながら混合して溶解し、トリアセ
チルセルロースドープＡを調整した。

【００７８】（トリアセチルセルロースドープＡ２の調
整）トリアセチルセルロース２４質量部、トリフェニル
フォスフェート４質量部、ジクロロメタン６６質量部、
メタノール６質量部からなる原料を攪拌しながら混合し
て溶解し、トリアセチルセルロースドープＡ２を調整し
た。

【００７９】（３層共流延トリアセチルセルロースフィ
ルムＡの作製）特開平１１−２５４５９４号公報に従っ
て、３層共流延ダイを用い、ドープＡ２の両側にドープ
Ａ１を共流延するように配置して金属ドラム上に同時に
吐出させて重層流延した後、流延膜をドラムから剥ぎ取
り、乾燥して、ドラム面側から１０μｍ、６０μｍ、１
０μｍの３層共流延トリアセチルセルロースフィルムを
作製した。このフィルムには、各層間に明確な界面は形
成されていなかった。

【００８０】（２）低温溶解法によるトリアセチルセル
ロースフィルムＢの作製（トリアセチルセルロースドープＢの調整）トリアセチ
ルセルロース２０質量部、酢酸メチル４８質量部、シク
ロヘキサノン２０質量部、メタノール５質量部、エタノ
ール５質量部、トリフェニルフォスフェート／ビフェニ
ルジフェニルフォスフェート（１／２）２質量部、シリ
カ（粒径２０ｎｍ）０．１質量部、２、４−ビス−（ｎ
−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１、３、５−トリアジ
ン０．２質量部を添加、攪拌して得られた不均一なゲル
状溶液を、−７０℃にて６時間冷却した後、５０℃に加
温し攪拌してドープＢを調整した。

【００８１】（低温溶解法によるトリアセチルセルロー
スフィルムＢの作製）特開平７−１１０５５号に従い、
上記トリアセチルセルロースドープＢを単層ドラム流延
し、厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムＢ
を作製した。

【００８２】（３）高温溶解法によるトリアセチルセル
ロースフィルムＣの作製（トリアセチルセルロースドープＣの調整）上記トリア
セチルセルロースドープＢと同様にして得られた不均一
なゲル状溶液を、ステンレス製密閉容器にて１ＭＰａ、
１８０℃で５分間加熱した後、５０℃の水浴中に容器ご
と投入し冷却し、トリアセチルセルロースドープＣを調
整した。

【００８３】（高温溶解法によるトリアセチルセルロー
スフィルムＣの作製）特開平７−１１０５５号に従い、
上記トリアセチルセルロースドープＣを単層ドラム流延
し、厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムＣ
を作製した。

【００８４】［実施例８］上記の３層共流延トリアセチ
ルセルロースフィルムＡに、上記の防眩性ハードコート
層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃
で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドラン
プ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４０
０ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照
射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの防眩性ハードコ
ート層を形成した。ハードコート層膜厚の２分の１であ
る３μｍより大きい粒径のシリカ粒子は約５０％であ
る。その上に、上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコータ
ーを用いて塗布し、６０℃で乾燥の後、照度４００ｍＷ
／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して
塗布層を硬化させた後、さらに１２０℃で８分間加熱
し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００８５】［実施例９］低屈折率層塗布液Ａの替わり
に低屈折率塗布液Ｂを用いスピンコーターを用いて塗布
した以外は実施例８と同様にしてサンプルを作製した。

【００８６】［比較例５］実施例８と同様に防眩性ハー
ドコート層を形成した。その上に低屈折率塗布液Ｃをバ
ーコーター用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１
２０℃で１０分間加熱し、厚さ０．０９６μｍの低屈折
率層を形成し、比較用サンプルを作製した。

【００８７】［比較例６］低屈折率層塗布液Ａの替わり
に低屈折率塗布液Ｄを用いた以外は実施例８と同様にし
て比較用サンプルを作製した。

【００８８】［実施例１０］上記の３層共流延トリアセ
チルセルロースフィルムＡに、ハードコート層用塗布液
Ｅをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（ア
イグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ
／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ４μｍのハードコート層を形成
した。その上に、防眩性ハードコート層用塗布液Ｂをバ
ーコーターを用いて塗布し、上記ハードコート層と同条
件にて乾燥、紫外線硬化して、厚さ約１．５μｍのハー
ドコート層を形成した。その上に、上記低屈折率層用塗
布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、６０℃で乾燥の
後、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²
の紫外線を照射して塗布層を硬化させた後、さらに１２
０℃で８分間加熱し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層
を形成した。

【００８９】［実施例１１］防眩性ハードコート層塗布
液Ｂの替わりに防眩性ハードコート層塗布液Ｃを用いた
以外は実施例１０と同様にしてサンプルを作製した。

【００９０】［実施例１２］防眩性ハードコート層塗布
液Ｂの替わりに防眩性ハードコート層塗布液Ｄを用いグ
ラビアコーターを用いて塗布した以外は実施例１０と同
様にしてサンプルを作製した。

【００９１】［実施例１３］低屈折率層塗布液Ａの替わ
りに低屈折率塗布液Ｂを用いた以外は実施例１１と同様
にしてサンプルを作製した。

【００９２】［実施例１４］透明支持体を低温溶解法に
よるトリアセチルセルロースフィルムＢに変更した以外
は実施例１３と同様にしてサンプルを作製した。

【００９３】［実施例１５］透明支持体を高温溶解法に
よるトリアセチルセルロースフィルムＣに変更した以外
は実施例１３と同様にしてサンプルを作製した。

【００９４】［比較例７］実施例１１と同様に防眩性ハ
ードコート層を形成した。その上に低屈折率塗布液Ｃを
バーコーター用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに
１２０℃で１０分間加熱し、厚さ０．０９６μｍの低屈
折率層を形成し、比較用サンプルを作製した。

【００９５】［比較例８］低屈折率層塗布液Ａの替わり
に低屈折率塗布液Ｄを用いた以外は実施例１１と同様に
して比較用サンプルを作製した。

【００９６】[実施例１６]上記の３層共流延トリアセチ
ルセルロースフィルムＡに、ハードコート層用塗布液Ｅ
をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、
１６０Ｗ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグ
ラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃ
ｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布
層を硬化させ、厚さ４μｍのハードコート層を形成し
た。その上に、上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコータ
ーを用いて塗布し、６０℃で乾燥の後、照度４００ｍＷ
／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して
塗布層を硬化させた後、さらに１２０℃で８分間加熱
し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００９７】［実施例１７］低屈折率層塗布液Ａの替わ
りに低屈折率塗布液Ｅを用いた以外は実施例１１と同様
にしてサンプルを作製した。

【００９８】実施例８〜１７および比較例５〜８につい
て、前述の評価を同様に行った結果を表２に示した。

【００９９】

【表２】

【０１００】実施例８〜１５および１７はいずれも反射
防止性能に優れ、鉛筆硬度、指紋付着性、防眩性、ギラ
ツキのような防眩性反射防止フィルムに必要とする全て
の性能は良好であった。実施例１６は、防眩層を有して
いないために防眩性はないが、ヘイズがほとんどなく画
像鮮明性に優れ、かつ、反射防止性能に優れ、鉛筆硬
度、指紋付着性のような反射防止フィルムに必要とする
全ての性能は良好であった。比較例５、７は、低屈折率
層にゾルゲル成分が存在しないため、鉛筆硬度が悪く、
耐傷性が不足していた。比較例６、８は、含フッ素ポリ
マー成分がないため、接触角が低く、また指紋付着性も
全くなく、防汚性が不足していた。

【０１０１】次に、実施例８から１５、１７のフィルム
を用いて防眩性反射防止偏光板を作製した。この偏光板
を用いて反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を
作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコ
ントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優
れた視認性を有していた。また、実施例１６のフィルム
を用いて反射防止偏光板を作製した。この偏光板を用い
て同様に液晶表示装置を作製したところ外光の映り込み
がないために優れたコントラストが得られ、優れた視認
性を有していた。

【０１０２】

【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、反射防止
性能が高く、防汚性、耐傷性にも優れ、防眩性ハードコ
ート層及び低屈折率層の形成により低コストで製造する
ことができる。この反射防止フィルムを用いた偏光板及
び液晶表示装置は、外光の映り込みが十分に防止されて
いるうえ、防汚性、耐傷性も高いという優れた性質を有
する。

【図面の簡単な説明】

【図１】反射防止フィルムの層構成を示す断面模式図で
ある。

【符号の説明】

１透明支持体２ハードコート層３防眩性ハードコート層４低屈折率層５粒子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｊ 7/04 ＣＦＤＣ０９Ｄ 5/00 ＺＣ０９Ｄ 5/00 7/12 7/12 127/12 127/12 183/00 183/00 Ｃ０９Ｋ 3/00 ＵＣ０９Ｋ 3/00 Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０５１０Ｃ０８Ｌ 1:12 // Ｃ０８Ｌ 1:12 67:02 67:02 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明支持体上に、オルガノシランの加水
分解物および／またはその部分縮合物、光によって反応
促進剤を発生する化合物および含フッ素ポリマーを含有
する屈折率１．３５乃至１．４９の低屈折率層を有する
反射防止フィルム。
【請求項２】透明支持体上に、防眩性ハードコート層
および該防眩性ハードコート層上に屈折率１．３５乃至
１．４９の低屈折率層を有する光学フィルムにおいて、
該防眩性ハードコート層が平均粒径１．０乃至１０．０
μｍの微粒子を含有し、該低屈折率層がオルガノシラン
の加水分解物および／またはその部分縮合物、光によっ
て反応促進剤を発生する化合物および含フッ素ポリマー
を含有し、該光学フィルムのヘイズが３．０乃至２０．
０％、４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が１．８
％以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項３】前記防眩性ハードコート層において、該
防眩性ハードコート層を形成する素材の屈折率が１．５
７乃至２．００であることを特徴とする請求項２に記載
の反射防止フィルム。
【請求項４】前記低屈折率層において、光によって反
応促進剤を発生する化合物が光酸発生剤であることを特
徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィ
ルム。
【請求項５】前記低屈折率層において、含フッ素ポリ
マーが含フッ素ビニルモノマーを重合して得られるポリ
マーであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに
記載の反射防止フィルム。
【請求項６】前記含フッ素ポリマーが前記オルガノシ
ランと共有結合可能な官能基を有することを特徴とする
請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】前記透明支持体がトリアセチルセルロー
スまたはポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレ
ンナフタレートまたはアートンまたはゼオネックスであ
ることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反
射防止フィルム。
【請求項８】該透明支持体が、トリアセチルセルロー
スフィルムであり、トリアセチルセルロースを溶剤に溶
解することで調整されたトリアセチルセルロースドープ
を単層流延、複数層共流延もしくは複数層逐次流延の何
れかの流延方法により流延することにより作製されたこ
とを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射防
止フィルム。
【請求項９】該トリアセチルセルロースドープが、ト
リアセチルセルロースを冷却溶解法あるいは高温溶解法
によって、ジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶
解することで調製されたトリアセチルセルロースドープ
であることを特徴とする請求項８記載の反射防止フィル
ム。
【請求項１０】請求項１〜９のいずれかに記載の反射
防止フィルムを偏光板における偏光層の２枚の保護フィ
ルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする
偏光板。
【請求項１１】請求項１〜９のいずれかに記載の反射
防止フィルムまたは請求項１０に記載の偏光板の反射防
止層をディスプレイの最表層に用いたことを特徴とする
液晶表示装置。