JP2001343505A - 反射防止フィルム、その製造方法および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】反射率が低く、かつ輝点欠陥の数が少なく、し
かも生産性よく連続塗布方式で製造できる大量生産に適
した反射防止フィルム、その製造方法、及び輝点欠陥が
少なく、映り込みが少ない画像表示装置を提供するこ
と。 【解決手段】透明支持体上に、高屈折率層と低屈折率層
とが塗布法で形成され、５０μｍ以上の輝点欠陥の数が
２０個／ｍ²以下である反射防止フィルム、（Ａ）連続
的に搬送される透明支持体上の異物を除去する工程、お
よび（Ｂ）透明支持体上に高屈折率層と低屈折率層と
を、特定の清浄な空気の雰囲気下に、高屈折率層および
低屈折率層を形成する塗布・乾燥工程からなる反射防止
フィルムの製造方法、そして上記反射防止フィルムを有
する画像表示装置が提供される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、輝点欠陥の改良さ
れた反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびにそ
れを用いた画像表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止フィルムは、一般に、陰極管表
示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置に
おいて、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り
込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率
を低減するディスプレイの最表面に配置される反射防止
フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた
多層フィルムが従来から普通に用いられている。複数の
透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反射を防止す
るためである。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（Ｃ
ＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一
種である真空蒸着法により形成されている。

【０００３】金属酸化物の透明薄膜は、反射防止フィル
ムとして優れた光学的性質を有しているが、蒸着による
形成方法は、生産性が低く大量生産に適していない。

【０００４】蒸着法に代えて、透明支持体上に光学的機
能層を塗布により形成して反射防止フィルムを製造する
方法も提案されている。反射防止のため、透明支持体の
屈折率よりも低い屈折率を有する層（低屈折率層）を塗
布することにより反射率を下げた低反射フィルムは一般
によく知られている。このような反射防止フィルムの製
造方法は、連続で生産できるため、大量生産に向いてい
る。

【０００５】しかしながら、透明支持体上に透明支持体
の屈折率よりも低い屈折率を有する層（低屈折率層）の
みを有する反射防止フィルムにおいて、反射率を低減す
るためには低屈折率層を十分に低屈折率化する必要が生
じる。例えばトリアセチルセルロースを支持体とし、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレートのＵＶ硬化被
膜をハードコート層とする反射防止フィルムで４５０ｎ
ｍから６５０ｎｍにおける平均反射率を１．６％以下に
するためには屈折率を１．４０以下にしなければならな
い。屈折率１．４０以下の素材としては無機物ではフッ
化マグネシウムやフッ化カルシウム等の含フッ素化合
物、有機物ではフッ素含率の大きい含フッ素化合物が挙
げられるが、これらの含フッ素化合物は凝集力がないた
めディスプレイの最表面に配置するフィルムとしては耐
傷性が不足していた。従って、十分な耐傷性を有するた
めには１．４３以上の屈折率を有する化合物が必要であ
った。

【０００６】このような問題点を解決するためには、低
屈折率層の下の層の屈折率をあげることにより可能とな
る。例えば、特開平７−２８７１０２号公報では、ハー
ドコート層の屈折率を大きくすることにより、反射率を
低減させることが記載されている。また、蒸着法による
光学薄膜の積層の原理と同様の考えで、特開昭５９−４
９５０１号公報等に示される様に、透明支持体上に複数
の屈折率の異なる層を塗布により積層することにより、
可視光域での反射率をより低くすることができる。

【０００７】しかしながら、このような高屈折率層と低
屈折率層を積層した反射防止フィルムにおいては、基材
や塗膜上にゴミ、ほこり等の異物が存在したときに、そ
の部分の膜厚の乱れが生じると、大きく色味、反射率が
変わることになる。したがって、塗膜の輝点欠陥として
目立ち易くなる。また、蒸着に比べ、塗布により付与す
る場合には、液の流動性があるため、異物が存在する部
分で、異物部への液の寄り、はじき等が発生し、膜厚の
乱れる部分が大きくなり、核となる異物に対して塗膜の
輝点欠陥が大きく、目立ちやすくなる。このような輝点
欠陥は５０μm以上となると、目視ではっきりみえ、反
射防止フィルムの品質上の問題となる。この点欠陥の数
が多いと、製造時の得率が低くなる、大面積の反射防止
フィルムが作れないという点で問題となる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、反射
率が低く、かつ輝点欠陥の数が少なく、しかも生産性よ
く連続塗布方式で製造できる大量生産に適した反射防止
フィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、
反射率が低く、かつ輝点欠陥の数が少ない反射防止フィ
ルムを生産性よく連続塗布方式で製造でき大量生産し得
る製造方法を提供することにある。本発明のさらなる目
的は、輝点欠陥が少なく、映り込みが少ない画像表示装
置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記構
成の反射防止フィルム、およびその製造方法が提供さ
れ、本発明の上記目的が達成される。 １．透明支持体上に、透明支持体の屈折率より０．０５
以上高い屈折率を有する少なくとも１層の高屈折率層
と、該高屈折率層上に支持体より屈折率の低い低屈折率
層とが、各層を形成するための塗布液を塗布・乾燥する
工程を含んで形成されてなり、しかも５０μｍ以上の輝
点欠陥の数が１平方メートル当たり２０個以下であるこ
とを特徴とする反射防止フィルム。 ２．上記高屈折率層の屈折率が１．５７〜２．３０の範
囲にあり、低屈折率層の屈折率が１．３５〜１．４９の
範囲にあることを特徴とする上記１記載の反射防止フィ
ルム。 ３．防眩性を有すると共に、ヘイズ値が３〜２０％、波
長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率が１．８
％以下であることを特徴とする上記１または２に記載の
反射防止フィルム。 ４．波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率が
０．８％以下であることを特徴とする上記１〜３のいず
れかに記載の反射防止フィルム。 ５．５０μｍ以上の輝点欠陥の数が１平方メートルあた
り５個以下であることを特徴とする上記１〜４のいずれ
かに記載の反射防止フィルム。 ６．透明支持体がトリアセチルセルロースフィルムであ
り、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解することで調
整されたトリアセチルセルロースドープを単層流延、複
数層共流延もしくは複数層逐次流延の何れかの流延方法
により流延することにより作成されたことを特徴とする
上記１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。 ７．前記トリアセチルセルロースドープが、トリアセチ
ルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解法によって
ジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解すること
で調整されたトリアセチルセルロースドープであること
を特徴とする上記６に記載の反射防止フィルム。 ８．高屈折率層および低屈折率層を形成するための塗布
液の塗布・乾燥工程の前工程として、連続的に搬送され
る透明支持体上の異物を除去する工程が設けられてお
り、しかも米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の
規格に基づいたクラス１０以上の清浄度の空気雰囲気下
に塗布・乾燥工程が行われることを特徴とする上記１〜
７のいずれかに記載の反射防止フィルム。 ９．透明支持体上の異物を除去する工程が、超音波を用
いる除塵方法および／または湿式除塵方法により行われ
ることを特徴とする上記８に記載の反射防止フィルム。 １０．（Ａ）連続的に搬送される透明支持体上の異物を
除去する工程、および（Ｂ）上記（Ａ）工程の後工程と
して、該透明支持体上に透明支持体の屈折率より０．０
５以上高い屈折率を有する少なくとも１層の高屈折率層
と、該高屈折率層上に支持体により屈折率の低い低屈折
率層とを、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の
規格に基づいたクラス１０以上の清浄度の空気雰囲気下
に、高屈折率層および低屈折率層を形成するための塗布
液を塗布・乾燥する工程、を含むことを特徴とする反射
防止フィルムの製造方法。 １１．上記１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルム
を有することを特徴とする画像表示装置。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止フィルムの基本
的な構成を図面を引用しながら説明する。図１は、反射
防止フィルム１の主な層構成を模式的に示す断面模式図
である。図１の（ａ）に示す態様は、透明支持体２、高
屈折率層３、低屈折率層４の順序の層構成を有する。透
明支持体２と低屈折率層４は、以下の関係を満足する屈
折率を有する。低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折
率図１の（ｂ）に示す態様は、透明支持体２、ハードコ
ート層５、高屈折率層３、低屈折率層４の順序の層構成
を有する。透明支持体２と低屈折率層４は、以下の関係
を満足する屈折率を有する。低屈折率層の屈折率＜透明
支持体の屈折率図１の（ａ）、（ｂ）のように、高屈折
率層３と低屈折率層４とを有する反射防止フィルムで
は、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているよ
うに、高屈折率層が下記数式（Ｉ）、低屈折率層が下記
数式（II）をそれぞれ満足することが反射率の低減の点
から好ましい。

【００１１】 （ｍλ／４）×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜（ｍλ／４）×１．３ ……数式（Ｉ）

【００１２】数式（Ｉ）中、ｍは正の整数（一般に１、
２または３）であり、ｎ₁は高屈折率層の屈折率であ
り、そしてｄ₁は高屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。ま
た、λは波長であり、３５０〜８００（ｎｍ）の範囲の
値である。

【００１３】 （ｎλ／４）×０．７＜ｎ₂ｄ₂＜（ｎλ／４）×１．３ ……数式（II）

【００１４】数式（II）中、ｎは正の奇数（一般に１）
であり、ｎ₂は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₂
は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長で
あり、３５０〜８００（ｎｍ）の範囲の値である。

【００１５】なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記
波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の整数、
一般に１、２または３である）が存在することを意味し
ている。同様に、上記数式（II）を満たすとは、上記波
長の範囲において数式（II）を満たすｍ（正の整数、一
般に１、２または３である）が存在することを意味して
いる。

【００１６】図１の（ｃ）に示す態様の反射防止フィル
ム１は、透明支持体２、ハードコート層５、中屈折率層
６、高屈折率層３、低屈折率層４の順序の層構成を有す
る。透明支持体２、中屈折率層６、高屈折率層３および
低屈折率層４は、以下の関係を満足する屈折率を有す
る。低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率＜中屈折
率層の屈折率＜高屈折率層の屈折率図１の（ｃ）のよう
に、中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層を有する
反射防止フィルムでは、特開昭５９−５０４０１号公報
に記載されているように、中屈折率層が下記数式（II
I）を、高屈折率層が下記数式（IV）を、低屈折率層が
下記数式（Ｖ）をそれぞれ満足することにより図１の
（ａ）、（ｂ）に示される態様と比べ、反射防止フィル
ムとしての平均反射率をさらに下げる設計が可能となり
好ましい。

【００１７】 （ｈλ／４）×０．７＜ｎ₃ｄ₃＜（ｈλ／４）×１．３ ……数式（III）

【００１８】数式（III）中、ｈは正の整数（一般に
１、２または３）であり、ｎ₃は中屈折率層の屈折率で
あり、そして、ｄ₃は中屈折率層の膜厚（ｎｍ）であ
る。また、λは波長であり、３５０〜８００（ｎｍ）の
範囲の値である。

【００１９】 （ｊλ／４）×０．７＜ｎ₄ｄ₄＜（ｊλ／４）×１．３ ……数式（IV） 数式（IV）中、ｊは正の整数（一般に１、２または３）
であり、ｎ₄は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₄
は高屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長で
あり、３５０〜８００（ｎｍ）の範囲の値である。

【００２０】 （ｋλ／４）×０．７＜ｎ₅ｄ₅＜（ｋλ／４）×１．３ ……数式（Ｖ）

【００２１】数式（Ｖ）中、ｋは正の奇数（一般に１）
であり、ｎ₅は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₅
は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長で
あり、３５０〜８００（ｎｍ）の範囲の値である。

【００２２】なお、上記数式（III）、（IV）、あるい
は（Ｖ）を満たすとは、上記数式（Ｉ）、（II）につい
て既に述べたことと同様である。また、下記数式（VI）
についても同様である。

【００２３】また、本発明においては、ハードコート層
あるいは高屈折率層に凹凸を付与して防眩性反射防止フ
ィルムとすることも好ましい。この基本的な構成を図面
を引用しながら説明する。（ｄ）に示す態様は本発明の
防眩性反射防止フィルムの一例である。この場合の防眩
性反射防止フィルム１は、透明支持体２、防眩性ハード
コート層３'、および低屈折率層４の順序の層構成を有
する。そして防眩性ハードコート層３'にはマット粒子
６が分散している。この場合、防眩性ハードコート層
３'は、高屈折率層とハードコート層を兼ねている。防
眩性ハードコート層３'のマット粒子以外の部分の屈折
率は１．５７〜２．３０であることが好ましく、低屈折
率層の屈折率は１．３８〜１．４９であることが好まし
い。また、本発明において、防眩性ハードコート層３'
とは別に、高屈折率層を設けてもよいし、ハードコート
層上に防眩性高屈折率層を設けてもよい。（ｄ）に示さ
れる反射防止フィルムでは、低屈折率層が下記数式（V
I）をそれぞれ満足することが反射率の低減の点から好
ましい。

【００２４】 （ｐλ／４）×０．７＜ｎ₄ｄ₄＜（ｐλ／４）×１．３ ……数式（VI）

【００２５】数式（VI）中、ｐは正の奇数（一般に１）
であり、ｎ₄は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₄
は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長で
あり、３５０〜８００（ｎｍ）の範囲の値である。

【００２６】なお、上記数式（Ｉ）〜（IV）を満たすよ
うにすることは、各層を構成する後述する成分の種類お
よび量割合を適宜選択することによりなし得る。

【００２７】本発明の反射防止フィルムを構成する各層
について、以下説明する。本発明の反射防止フィルム
は、透明支持体上に少なくとも１層の高屈折率層を有
し、さらにその上に低屈折率層を有するが、必要に応
じ、高屈折率層の下層に平滑なハードコート層を設ける
ことができる。

【００２８】＜透明支持体＞透明支持体としては、プラ
スチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチッ
クフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエ
ステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセル
ロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステ
ル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィンなどが挙
げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好
ましい。本発明の防眩性反射防止フィルムを液晶表示装
置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプ
レイの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチル
セルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィ
ルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、
本発明の防眩性反射防止フィルムをそのまま保護フィル
ムに用いることがコストの上では好ましい。

【００２９】上記のトリアセチルセルロースフィルムと
しては、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解すること
で調整されたトリアセチルセルロースドープを単層流
延、複数層共流延もしくは複数層逐次流延の何れかの流
延方法により流延することにより作成されたトリアセチ
ルセルロースフィルムを用いることがより好ましい。特
に、環境保全の観点から、トリアセチルセルロースを低
温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを
実質的に含まない溶剤に溶解することで調整されたトリ
アセチルセルロースドープを用いて作成されたトリアセ
チルセルロースフィルムが好ましい。単層のトリアセチ
ルセルロースは、特開平７−１１０５５号公報等で開示
されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作
成され、後者の複数の層からなるトリアセチルセルロー
スは、特開昭６１−９４７２５号公報、特公昭６２−４
３８４６号公報等で開示されている、いわゆる共流延法
により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン
化炭化水素類（ジクロロメタン等）、アルコール類（メ
タノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類
（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサ
ン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて
溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣
化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加え
た溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金
属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、
ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単
層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高
濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープ
を共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与さ
れたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手
段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからな
る方法である。

【００３０】上記のような、トリアセチルセルロースを
溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的
である。しかし、技術的には、ジクロロメタンのような
ハロゲン化炭化水素は問題なく使用できるが、地球環境
や作業環境の観点では、溶剤はジクロロメタン等のハロ
ゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。
「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭
化水素の割合が５重量％未満（好ましくは２重量％未
満）であることを意味する。共流延法の場合には、ジク
ロロメタンを実質的に含む溶剤を用いたドープを複数層
共流延法によって流延しても、外側の流延層と比較して
トリアセチルセルロース濃度の高いドープを内側の流延
層に用いることができるため、結果として大気中に放出
されるジクロロメタンの量が減少できる。本発明におい
て、共流延法の場合であってもジクロロメタン等のハロ
ゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。ま
た、共流延法は流延速度も高くすることが可能であり、
生産性にも優れる。

【００３１】ジクロロメタン等を実質的に含まない溶剤
を用いてトリアセチルセルロースのドープを調整する場
合には、後述するような特殊な溶解法が必須となる。

【００３２】第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以
下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）
で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々
に添加する。次に、混合物は−１００〜−１０℃（好ま
しくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−
２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却す
る。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−
７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０
〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、
トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さ
らに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、
さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５
０℃）に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロース
が流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけ
でもよし、温浴中で加温してもよい。

【００３３】第二の方法は、高温溶解法と称され、以下
に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で
溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に
添加される。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、
各種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロー
スを添加し予め膨潤させることが好ましい。本法におい
て、トリアセチルセルロースの溶解濃度は３０重量％以
下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、
なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混
合液は、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａの加圧下で７０〜２
４０℃に加熱される（好ましくは８０〜２２０℃、更に
好ましく１００〜２００℃、最も好ましくは１００〜１
９０℃）。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布で
きないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却
する必要がある。その場合、−１０〜５０℃に冷却して
常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチルセ
ルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やライン
を、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却
水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。以上の
ように作製したトリアセチルセルロースフィルムは、従
来の方法で作成したフィルムに比べ、加工時の切り屑が
発生しにくく、より好ましい。

【００３４】透明支持体の光透過率は、８０％以上であ
ることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ま
しい。透明支持体のヘイズは、２．０％以下であること
が好ましく、１．０％以下であることがさらに好まし
い。透明支持体の屈折率は、１．４〜１．７の範囲にあ
ることが好ましい。透明支持体には、機能性付与のた
め、下塗り層、帯電防止層、マット層、滑り層等を設け
ることも好ましい。

【００３５】＜ハードコート層・防眩性付与層＞本発明
の反射防止フィルムでは、ハードコート層を、必要に応
じて、フィルム強度向上の目的で透明支持体と高屈折率
層の間に塗設してもよい。また、本発明のハードコート
層の屈折率は、上層もしくは支持体の屈折率に応じて、
調整することができる。この屈折率は、１．４５〜１．
９０の範囲が好ましい。

【００３６】ハードコート層のバインダーポリマーとし
ては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖とし
て有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素
鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ま
しい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有するこ
とが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバイ
ンダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの
重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、
かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二
個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）
重合体が好ましい。高屈折率にするには、このモノマー
の構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫
黄原子、リン原子、および窒素原子から選ばれた少なく
とも１種の原子を含むことが好ましい。

【００３７】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸
とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シ
クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリ
アクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニ
ルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベ
ンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチル
エステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニ
ルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが挙げられる。

【００３８】高屈折率モノマーの具体例としては、ビス
（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニ
ルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタク
リロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテ
ル等が挙げられる。

【００３９】これらのエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの重合は、後述する光ラジカル開始剤あるいは無
機、有機の過酸化物やアゾ化合物等の熱ラジカル開始剤
の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うこと
ができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモノマ
ー、および光ラジカル重合開始剤あるいは熱ラジカル開
始剤を含有する塗布液を調製し、該塗液を透明支持体上
に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化
してハードコート層を形成することができる。

【００４０】ポリエーテルを主鎖として有するポリマー
は、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。
多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるい
は熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱に
より行うことができる。従って、多官能エポシキシ化合
物、および光酸発生剤あるいは熱酸発生剤を含有する塗
布液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射
線または熱による重合反応により硬化してハードコート
層を形成することができる。

【００４１】上記の二個以上のエチレン性不飽和基を有
するモノマーを含有する塗布液からハードコート層を形
成する場合、塗布液に光ラジカル重合開始剤を用いるこ
とは特に好ましい。光ラジカル重合開始剤の例として
は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーの
ベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、
テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサ
ントン類が挙げられる。光ラジカル重合開始剤に加え
て、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の例としては、
ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチ
ルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントン
が挙げられる。光ラジカル重合開始剤は、二個以上のエ
チレン性不飽和基を有するモノマー１００重量部に対し
て、０．１〜１５重量部の範囲で使用することが好まし
く、１〜１０重量部の範囲で使用することがさらに好ま
しい。光重合反応は、塗布液の塗布および乾燥後、紫外
線照射により実施することが好ましい。

【００４２】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を
有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導
入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバイ
ンダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例と
しては、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン
基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒ
ドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性
メチレン基が挙げられる。ビニルスルホン酸、酸無水
物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化
メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシ
シランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入す
るためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシア
ナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す
官能基を用いてもよい。即ち、架橋性官能基とは、上記
官能基に限らず官能基が分解した結果反応性を示すもの
であってもよい。これら架橋性官能基を有するバインダ
ーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を
形成することができる。

【００４３】更にハードコート層には、屈折率の調節や
フィルムの硬化強度を高めるために無機の微粒子を添加
しても良い。無機の微粒子としては平均粒子サイズが
０．５μｍ以下のものが好ましく、０．２μｍ以下のも
のが特に好ましい。上記無機微粒子としては二酸化ケイ
素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸
化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タ
ルク、カオリンおよび硫酸カルシウム粒子があげられ、
二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウ
ム粒子が特に好ましい。これらの微粒子は、塗布液中で
の安定性、フィルム強度の強化のために、表面処理され
ていることも好ましい。また、ハードコート層の屈折率
を高めることも好ましい。このためには、チタン、アル
ミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちよ
り選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００
ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有する
ことが好ましい。微粒子の例としては、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂
Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ等
が挙げられる。なお、このような金属酸化物の微粒子
は、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じ
ず、バインダーポリマーに該微粒子が分散した分散体は
光学的に均一な物質として振舞う。これら無機微粒子の
添加量は、ハードコート層の全重量の１０〜９０重量％
であることが好ましく、２０〜８０重量％であると更に
好ましく、３０〜６０重量％が特に好ましい。

【００４４】また、本発明においては、防眩性の付与の
ために、上記のハードコート層もしくは後述の高屈折率
層にマット粒子を分散させることもできる。また、ハー
ドコート層を高屈折率にし、マット粒子を分散させ、ハ
ードコート層と高屈折率層を兼ねた防眩層とすることも
できる。また、このマット粒子添加によりハードコート
層の干渉による反射率悪化防止や色むら防止も可能とな
る。上記目的のためのマット粒子として、平均粒径が１
〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７μｍの粒子、例えば
無機化合物の粒子または樹脂粒子が好ましい。マット粒
子の粒径が１μｍ未満では防眩性が不足し、１０μｍを
越えるとフィルムのヘイズ値の上昇、目視でのザラツキ
感の悪化が発生し、好ましくない。上記マット粒子の具
体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ₂粒子等の無
機化合物の粒子；架橋アクリル粒子、架橋スチレン粒
子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の
樹脂粒子が好ましく挙げられる。マット粒子の形状は、
真球あるいは不定形のいずれも使用できる。また、異な
る２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。ま
た、ハードコート層のバインダ膜厚よりも大きい粒径の
マット粒子が、マット粒子全体の４０〜１００％を占め
ることが好ましい。粒度分布はコールターカウンター法
等により測定できるが、分布は粒子数分布に換算する。
また、マット粒子中から、平均粒径から大きく外れる粗
大粒子を除くことが好ましい。この粗大粒子の存在が、
輝点欠陥の原因となる場合もある。粗大粒子の除去方法
としては、マット粒子を風力分級する方法、マット粒子
分散液や塗布液をろ過する方法等が挙げられる。

【００４５】ハードコート層の膜の屈折率、マット粒子
が存在している場合はマット粒子を除いた成分から形成
される膜の屈折率は、１．５７〜２．３０であることが
好ましく、より好ましくは１．３８〜１．４９である。
屈折率を上記範囲とするには、バインダーポリマーおよ
び微粒子の種類および量割合を適宜選択すればよい。ど
のように選択するかは、予め実験的に容易に知ることが
できる。ハードコート層の膜厚は、２〜１０μｍが好ま
しく、３〜６μｍがより好ましい。

【００４６】＜高屈折率層および中屈折率層＞本発明に
おいては、反射率の低減のために、透明支持体若しくは
ハードコート層を付与した透明支持体と低屈折率層との
間に、高屈折率層を設けることが必須である。また、図
１の（ｃ）に示すように、透明支持体と高屈折率層との
間に中屈折率層を設けることは、反射率の低減のため
に、好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．５５〜２．
３０であることが好ましく、１．５７〜２．２０である
ことがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、透明支
持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となる
ように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜
１．８０であることが好ましい。高屈折率層および中屈
折率層の厚さは、５ｎｍ〜１００μｍであることが好ま
しく、１０ｎｍ〜１０μｍであることがさらに好まし
く、３０ｎｍ〜１μｍであることが最も好ましい。高屈
折率層および中屈折率層のヘイズは、５％以下であるこ
とが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、
１％以下であることが最も好ましい。高屈折率層および
中屈折率層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度でＨ以上で
あることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ま
しく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。高屈折率層
および中屈折率層は、無機微粒子とバインダーポリマー
とを含むことが好ましい。

【００４７】高屈折率層および中屈折率層に用いる無機
微粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０であることが好
ましく、１．９０〜２．８０であることがさらに好まし
い。無機微粒子の一次粒子の重量平均径は、１〜１５０
ｎｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであること
がさらに好ましく、１〜８０ｎｍであることが最も好ま
しい。層中での無機微粒子の重量平均径は、１〜２００
ｎｍであるることが好ましく、５〜１５０ｎｍであるこ
とがより好ましく、１０〜１００ｎｍであることがさら
に好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好まし
い。無機微粒子の平均粒径は、２０〜３０ｎｍ以上であ
れば光散乱法により、２０〜３０ｎｍ以下であれば電子
顕微鏡写真により測定される。無機微粒子の比表面積
は、ＢＥＴ法で測定された値として、１０〜４００ｍ²
／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ²／ｇであ
ることがさらに好ましく、３０乃至１５０ｍ²／ｇであ
ることが最も好ましい。

【００４８】無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物
から形成された粒子であることが好ましい。金属の酸化
物または硫化物の例として、二酸化チタン（例、ルチ
ル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルフ
ァス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化
ジルコニウムおよび硫化亜鉛が挙げられる。なかでも、
酸化チタン、酸化錫および酸化インジウムが特に好まし
い。無機微粒子は、これらの金属の酸化物または硫化物
を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主
成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（重量
％）が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃ
ｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐお
よびＳが挙げられる。

【００４９】無機微粒子は表面処理されていてもよい。
表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施
することができる。表面処理に用いる無機化合物の例と
しては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウムおよび酸
化鉄が挙げられる。なかでもアルミナおよびシリカが好
ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポ
リオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シラン
カップリング剤およびチタネートカップリング剤が挙げ
られる。なかでも、シランカップリング剤が最も好まし
い。二種類以上の表面処理を組み合わせて処理されてい
ても構わない。無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、
立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ま
しい。二種類以上の無機微粒子を高屈折率層および中屈
折率層に併用してもよい。

【００５０】高屈折率層および中屈折率層中の無機微粒
子の割合は、５〜６５体積％であることが好ましく、よ
り好ましくは１０〜６０体積％であり、さらに好ましく
は２０〜５５体積％である。

【００５１】無機微粒子は、媒体に分散した分散体の状
態で、高屈折率層および中屈折率層を形成するための塗
布液に供される。無機微粒子の分散媒体としては、沸点
が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散
溶媒の具体例としては、水、アルコール（例、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベン
ジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プ
ロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサ
ン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチ
レンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族
炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミ
ド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチル
エーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エー
テルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノー
ル）が挙げられる。なかでも、トルエン、キシレン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンおよびブタノールが特に好ましい。

【００５２】無機微粒子は、分散機を用いて媒体中に分
散することができる。分散機の例としては、サンドグラ
インダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペ
ラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター
およびコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダー
ミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、
予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる
分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニ
ーダーおよびエクストルーダーが挙げられる。

【００５３】高屈折率層および中屈折率層は、架橋構造
を有するポリマー（以下、「架橋ポリマー」ともいう）
をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架
橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水
素鎖を有するポリマー（以下「ポリオレフィン」と総称
する）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポ
リエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹
脂等の架橋物が挙げられる。なかでも、ポリオレフィ
ン、ポリエーテルおよびポリウレタンの架橋物が好まし
く、ポリオレフィンおよびポリエーテルの架橋物がさら
に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。
また、架橋ポリマーが、アニオン性基を有することは、
更に好ましい。アニオン性基は、無機微粒子の分散状態
を維持する機能を有し、架橋構造は、ポリマーに皮膜形
成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニ
オン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、
連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連
結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ま
しい。

【００５４】アニオン性基の例としては、カルボン酸基
（カルボキシル）、スルホン酸基（スルホ）およびリン
酸基（ホスホノ）が挙げられる。なかでも、スルホン酸
基およびリン酸基が好ましい。ここで、アニオン性基
は、塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成
するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ま
しい。また、アニオン性基のプロトンは、解離していて
もよい。アニオン性基とポリマー鎖とを結合する連結基
は、−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、
およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基である
ことが好ましい。好ましいバインダーポリマーである架
橋ポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、
架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーで
あることが好ましい。この場合、コポリマー中のアニオ
ン性基を有する繰り返し単位の割合は、２〜９６重量％
であることが好ましく、４〜９４重量％であることがさ
らに好ましく、６〜９２重量％であることが最も好まし
い。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有してい
てもよい。

【００５５】アニオン性基を有する架橋ポリマーには、
その他の繰り返し単位（アニオン性基も架橋構造も有し
ない繰り返し単位）が含まれていてもよい。その他の繰
り返し単位としては、アミノ基または四級アンモニウム
基を有する繰り返し単位およびベンゼン環を有する繰り
返し単位が好ましい。アミノ基または四級アンモニウム
基は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を
維持する機能を有する。ベンゼン環は、高屈折率層の屈
折率を高くする機能を有する。なお、アミノ基、四級ア
ンモニウム基およびベンゼン環は、アニオン性基を有す
る繰り返し単位あるいは架橋構造を有する繰り返し単位
に含まれていても、同様の効果が得られる。

【００５６】上記アミノ基または四級アンモニウム基を
有する繰り返し単位を構成単位として含有する架橋ポリ
マーにおいて、アミノ基または四級アンモニウム基は、
ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、あるいは連結
基を介し側鎖としてポリマー鎖に結合していてもよい
が、後者がより好ましい。アミノ基または四級アンモニ
ウム基は、二級アミノ基、三級アミノ基または四級アン
モニウム基であることが好ましく、三級アミノ基または
四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級
アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基の窒
素原子に結合している基としては、アルキル基が好まし
く、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基であ
り、さらに好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であ
る。四級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオン
であることが好ましい。アミノ基または四級アンモニウ
ム基とポリマー鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、−
ＮＨ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、および
これらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが
好ましい。架橋ポリマーが、アミノ基または四級アンモ
ニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合
は、０．０６〜３２重量％であることが好ましく、０．
０８〜３０重量％であることがさらに好ましく、０．１
〜２８重量％であることが最も好ましい。

【００５７】架橋ポリマーは、該架橋ポリマーを生成す
るためのモノマーを配合して高屈折率層および中屈折率
層形成用の塗布液を調製し、塗布液の塗布と同時または
塗布後に、重合反応によって生成させることが好まし
い。架橋ポリマーの生成と共に、各層が形成される。ア
ニオン性基を有するモノマーは、塗布液中で無機微粒子
の分散剤として機能する。アニオン性基を有するモノマ
ーは、無機微粒子に対して、好ましくは１〜５０重量
％、より好ましくは５〜４０重量％、さらに好ましくは
１０〜３０重量％使用される。また、アミノ基または四
級アンモニウム基を有するモノマーは、塗布液中で分散
助剤として機能する。アミノ基または四級アンモニウム
基を有するモノマーは、アニオン性基を有するモノマー
に対して、好ましくは３〜３３重量％使用される。塗布
液の塗布と同時または塗布後に、重合反応によって架橋
ポリマーを生成する方法により、塗布液の塗布前にこれ
らのモノマーを有効に機能させることができる。

【００５８】２個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの例としては、多価アルコールと（メタ）アクリ
ル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポ
リウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリ
レート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，
４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アク
リロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキ
サノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、
アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）お
よびメタクリルアミド等が挙げられる。アニオン性基を
有するモノマー、およびアミノ基または四級アンモニウ
ム基を有するモノマーは市販のモノマーを用いてもよ
い。好ましく用いられる市販のアニオン性基を有するモ
ノマーとしては、KAYAMARPM-21 、PM-2（日本化薬
（株）製）、Antox MS-60、MS-2N、MS-NH4（日本乳化剤
（株）製）、アロニックス M-5000、M-6000、M-8000シ
リーズ（東亞合成化学工業（株）製）、ビスコート#200
0シリーズ（大阪有機化学工業（株）製）、ニューフロ
ンティアGX-8289（第一工業製薬（株）製）、NKエステ
ル CB-1、A-SA（新中村化学工業（株）製）、AR-100、M
R-100、MR-200（第八化学工業（株）製）などがあげら
れる。また、好ましく用いられる市販のアミノ基または
四級アンモニウム基を有するモノマーとしてはＤＭＡＡ
（大阪有機化学工業（株）製）、ＤＭＡＥＡ，ＤＭＡＰ
ＡＡ（興人（株）製）、ブレンマーＱＡ（日本油脂
（株）製）、ニューフロンティアＣ−１６１５（第一工
業製薬（株）製）などがあげられる。

【００５９】ポリマーの重合反応は、光重合反応または
熱重合反応を用いることができる。特に光重合反応が好
ましい。重合反応のため、重合開始剤を使用することが
好ましい。例えば、ハードコート層のバインダーポリマ
ーを形成するために用いられる前述した熱重合開始剤、
および光重合開始剤が挙げられる。

【００６０】重合開始剤として市販の重合開始剤を使用
してもよい。重合開始剤に加えて、重合促進剤を使用し
てもよい。重合開始剤と重合促進剤の添加量は、モノマ
ーの全量の０．２〜１０重量％の範囲であることが好ま
しい。塗布液（モノマーを含む無機微粒子の分散液）を
加熱して、モノマー（またはオリゴマー）の重合を促進
してもよい。また、塗布後の光重合反応の後に加熱し
て、形成されたポリマーの熱硬化反応を追加処理しても
よい。

【００６１】中屈折率層および高屈折率層には、比較的
屈折率が高いポリマーを用いることが好ましい。屈折率
が高いポリマーの例としては、ポリスチレン、スチレン
共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香
族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが挙げられる。その他の環状（芳香族、複素
環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハ
ロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が
高く用いることができる。

【００６２】被膜形成能を有する有機金属化合物から、
高屈折率層または中屈折率層を形成してもよい。有機金
属化合物は、適当な媒体に分散し得るか、あるいは液状
であることが好ましい。有機金属化合物の例としては、
金属アルコレート（例、チタンテトラエトキシド、チタ
ンテトラ−ｉ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロ
ポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテト
ラ−ｓｅｃ-ブトキシド、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブ
トキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウム
トリ−Ｉ−プロポキシド、アルミニウムトリブトキシ
ド、アンチモントリエトキシド、アンチモントリブトキ
シド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテ
トラ−Ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−プ
ロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジ
ルコニウムテトラ−sec-ブトキシド、ジルコニウムテト
ラ−ｔｅｒｔ−ブトキシド）、キレート化合物（例、ジ
−イソプロポキシチタニウムビスアセチルアセトネー
ト、ジ−ブトキシチタニウムビスアセチルアセトネー
ト、ジ−エトキシチタニウムビスアセチルアセトネー
ト、ビスアセチルアセトンジルコニウム、アルミニウム
アセチルアセトネート、アルミニウムジ−ｎ−ブトキシ
ドモノエチルアセトアセテート、アルミニウムジ−Ｉ−
プロポキシドモノメチルアセトアセテート、トリ−ｎ−
ブトキシドジルコニウムモノエチルアセトアセテー
ト）、有機酸塩（例、炭酸ジルコニールアンモニウム）
およびジルコニウム等が挙げられる。

【００６３】＜低屈折率層＞低屈折率層としては、熱ま
たは電離放射線により架橋する含フッ素樹脂（以下、
「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう）の架橋からなる低
屈折率層、ゾルゲル法による低屈折率層、および粒子と
バインダーポリマーを用い、粒子間または粒子内部に空
隙を有する低屈折率層等が用いられる。低屈折率層の屈
折率は、低ければ反射防止性能が良化するため好ましい
が、低屈折率層の強度付与の観点では困難となる。この
バランスから、低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．５
０であることが好ましく、１．３５〜１．４９であるこ
とがさらに好ましい。

【００６４】架橋前の含フッ素樹脂として、含フッ素ビ
ニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成
される含フッ素共重合体を好ましく挙げることができ
る。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例として
は、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチ
レン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ
素化アルキルエステル誘導体類（例えはビスコート６Ｆ
Ｍ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）
等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等があ
げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グ
リシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシ
ラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内にあ
らかじめ架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カ
ルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸
基等を有するビニルモノマー（例えば（メタ）アクリル
酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒド
ロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルア
リルエーテル等）が挙げられる。後者は共重合の後、ポ
リマー中の官能基と反応する基ともう１つ以上の反応性
基をもつ化合物を加えることにより、架橋構造を導入で
きることが特開平１０−２５３８８号公報および特開平
１０一１４７７３９号公報に記載されている。架橋性基
の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナ
ート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒ
ド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロー
ルおよび活性メチレン基等が上げられる。含フッ素共重
合体が、加熱により反応する架橋基、もしくは、エチレ
ン性不飽和基と熱ラジカル発生剤もしくはエポキシ基と
熱酸発生剤等の相み合わせにより、加熱により架橋する
場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカ
ル発生剤もしくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合
わせにより、光（好ましくは紫外線、電子ビーム等）の
照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。

【００６５】また上記モノマー加えて、含フッ素ビニル
モノマーおよび架橋性基付与のためのモノマー以外のモ
ノマーを併用して形成された含フッ素共重合体を架橋前
の含フッ素樹脂として用いてもよい。併用可能なモノマ
ーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−
エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレ
ン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエ
ン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチ
ルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリル
アミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シ
クロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド
類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
また、含フッ素共重合体中に、滑り性、防汚性付与のた
め、ポリオルガノシロキサン骨格や、パーフルオロポリ
エーテル骨格を導入することも好ましい。これは、例え
ば末端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル
基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサンやパー
フルオロポリエーテルと上記のモノマーとの重合、末端
にラジカル発生基を持つポリオルガノシロキサンやパー
フルオロポリエーテルによる上記モノマーの重合、官能
基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエ
ーテルと、含フッ素共重合体との反応等によって得られ
る。

【００６６】架橋前の含フッ素共重合体を形成するため
に用いられる上記各モノマーの使用割合は、含フッ素ビ
ニルモノマーが好ましくは２０〜７０モル％、より好ま
しくは４０〜７０モル％、架橋性基付与のためのモノマ
ーが好ましくは１〜２０モル％、より好ましくは５〜２
０モル％、併用されるその他のモノマーが好ましくは１
０〜７０モル％、より好ましくは１０〜５０モル％の割
合である。

【００６７】含フッ素共重合体は、これらモノマーをラ
ジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、塊状重合、乳
化重合、懸濁重合法等の手段により重合することにより
得ることができる。

【００６８】架橋前の含フッ素樹脂は、市販されており
使用することができる。市販されている架橋前の含フッ
素樹脂の例としては、サイトップ（旭硝子）、テフロン
ＡＦ（デュポン）、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン
（旭硝子）、オプスター（ＪＳＲ）、等があげられる。

【００６９】架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低
屈折率層は、動摩擦係数が０．０３〜０．１５の範囲、
水に対する接触角が９０〜１２０度の範囲にあることが
好ましい。

【００７０】架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低
屈折率層が無機粒子を含有することは、強度向上の点か
ら好ましい。低屈折率層に用いられる無機微粒子として
は、非晶質のものが好ましく用いられ、金属の酸化物、
窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ま
しく、なかでも金属酸化物が特に好ましい。金属原子と
しては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆ
ｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇ
ａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃ
ｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃ
ａ、ＢおよびＳｉがさらに好ましい。２種以上の金属を
含む無機微粒子を用いてもよい。特に好ましい無機微粒
子は、二酸化ケイ素微粒子、すなわちシリカ微粒子であ
る。無機微粒子の平均粒径は０．００１〜０．２μｍで
あることが好ましく、０．００５〜０．０５μｍである
ことがより好ましい。微粒子の粒径はなるべく均一（単
分散）であることが好ましい。該無機微粒子の粒径は大
きすぎると光が散乱し、フィルムが不透明になり、小さ
すぎるものは凝集しやすく合成および取り扱いが困難で
ある。

【００７１】無機微粒子の配合量は、低屈折率層の全重
量の５〜９０重量％であることが好ましく、さらに好ま
しくは１０〜７０重量％であり、特に好ましくは１０〜
５０重量％である。無機微粒子は、表面処理を施して用
いることも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電
処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理とカップ
リング剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリ
ング剤の使用が好ましい。カップリング剤としては、オ
ルガノアルコキシ金属化合物（例、チタンカップリング
剤、シランカップリング剤等）が好ましく用いられる。
無機微粒子がシリカの場合はシランカップリング剤によ
る処理が特に有効である。

【００７２】また、低屈折率層用の素材として、各種ゾ
ルゲル素材を用いることもできる。このようなゾルゲル
素材としては、金属アルコレート（シラン、チタン、ア
ルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート）、オルガ
ノアルコキシ金属化合物、およびその加水分解物を用い
ることができる。特に、アルコキシシラン、オルガノア
ルコキシシランおよびその加水分解物が好ましい。これ
らの例としては、テトラアルコキシシラン（テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン等）、アルキルトリ
アルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチル
トリメトキシシラン等）、アリールトリアルコキシシラ
ン（フェニルトリメトキシシラン等）、ジアルキルジア
ルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙
げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコ
キシシラン（ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニ
ルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピル
トリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピル
メチルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキジシ
クロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−メタ
クリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−
アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルト
リアルコキシシラン等）、パーフルオロアルキル基含有
シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，
２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン、３，３，
３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等）を用
いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を
用いることは、層の低屈折率化および撥水・撥油性付与
の点で好ましい。

【００７３】低屈折率層として、無機もしくは有機の微
粒子を用い、微粒子間または微粒子内のミクロボイドと
して形成した層を用いることも好ましい。微粒子の平均
粒径は、０．５〜２００ｍｍであることが好ましく、１
〜１００ｎｍであることがより好ましく、３〜７０ｎｍ
であることがさらに好ましく、５〜４０ｎｍの範囲であ
ることが最も好ましい。微粒子の粒径は、なるべく均一
（単分散）であることが好ましい。

【００７４】無機微粒子としては、非晶質であることが
好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化
物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸
化物または金属ハロゲン化物からなることがさらに好ま
しく、金属酸化物または金属フッ化物からなることが最
も好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉ
ｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａ
ｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、Ｐｂお
よびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがさら
に好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いても
よい。特に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すな
わちシリカである。

【００７５】無機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒
子を形成するシリカの分子を架橋させることにより形成
することができる。シリカの分子を架橋させると体積が
縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有する
（多孔質）無機微粒子は、ゾル−ゲル法（特開昭５３−
１１２７３２号、特公昭５７−９０５１号の各公報記
載）または析出法（APPLIED OPTICS、27、3356頁（198
8）記載）により、分散物として直接合成することがで
きる。また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に
粉砕して分散物を得ることもできる。市販の多孔質無機
微粒子（例えば、二酸化ケイ素ゾル）を用いてもよい。
ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の形成
のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好
ましい。分散媒としては、水、アルコール（例、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコール）およびケ
トン（例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン）が好ましい。

【００７６】有機微粒子も、非晶質であることが好まし
い。有機微粒子は、モノマーの重合反応（例えば乳化重
合法）により合成されるポリマー微粒子であることが好
ましい。有機微粒子のポリマーはフッ素原子を含むこと
が好ましい。ポリマー中のフッ素原子の割合は、３５〜
８０重量％であることが好ましく、４５〜７５重量％で
あることがさらに好ましい。また、有機微粒子内に、例
えば、粒子を形成するポリマーを架橋させ、体積を縮小
させることによりミクロボイドを形成させることも好ま
しい。粒子を形成するポリマーを架橋させるためには、
ポリマーを合成するためのモノマーの２０モル％以上を
多官能モノマーとすることが好ましい。多官能モノマー
の割合は、３０〜８０モル％であることがさらに好まし
く、３５〜５０モル％であることが最も好ましい。上記
有機微粒子の合成に用いられるモノマーとしては、含フ
ッ素ポリマーを合成するために用いるフッ素原子を含む
モノマーの例として、フルオロオレフィン類（例、フル
オロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオ
ロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ
−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、アクリ
ル酸またはメタクリル酸のフッ素化アルキルエステル類
およびフッ素化ビニルエーテル類が挙げられる。フッ素
原子を含むモノマーとフッ素原子を含まないモノマーと
のコポリマーを用いてもよい。フッ素原子を含まないモ
ノマーの例としては、オレフィン類（例、エチレン、プ
ロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン）、アクリル酸エステル類（例、アクリル酸メチル、
アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、
メタクリル酸エステル類（例、メタクリル酸メチル、メ
タクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル）、スチレン類
（例、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレ
ン）、ビニルエーテル類（例、メチルビニルエーテ
ル）、ビニルエステル類（例、酢酸ビニル、プロピオン
酸ビニル）、アクリルアミド類（例、Ｎ−tert−ブチル
アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミ
ド）、メタクリルアミド類およびアクリルニトリル類が
挙げられる。多官能モノマーの例としては、ジエン類
（例、ブタジエン、ペンタジエン）、多価アルコールと
アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジア
クリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）、多価ア
ルコールとメタクリル酸とのエステル（例、エチレング
リコールジメタクリレート、１，２，４−シクロヘキサ
ンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート）、ジビニル化合物（例、ジビニルシク
ロヘキサン、１，４−ジビニルベンゼン）、ジビニルス
ルホン、ビスアクリルアミド類（例、メチレンビスアク
リルアミド）およびビスメタクリルアミド類が挙げられ
る。

【００７７】粒子間のミクロボイドは、微粒子を少なく
とも２個以上積み重ねることにより形成することができ
る。なお、粒径が等しい（完全な単分散の）球状微粒子
を最密充填すると、２６体積％の空隙率の微粒子間ミク
ロボイドが形成される。粒径が等しい球状微粒子を単純
立方充填すると、４８体積％の空隙率の微粒子間ミクロ
ボイドが形成される。実際の低屈折率層では、微粒子の
粒径の分布や粒子内ミクロボイドが存在するため、空隙
率は上記の理論値からかなり変動する。空隙率を増加さ
せると、低屈折率層の屈折率が低下する。微粒子を積み
重ねてミクロボイドを形成と、微粒子の粒径を調整する
ことで、粒子間ミクロボイドの大きさも適度の（光を散
乱せず、低屈折率層の強度に問題が生じない）値に容易
に調節できる。さらに、微粒子の粒径を均一にすること
で、粒子間ミクロボイドの大きさも均一である光学的に
均一な低屈折率層を得ることができる。これにより、低
屈折率層は微視的にはミクロボイド含有多孔質膜である
が、光学的あるいは巨視的には均一な膜にすることがで
きる。粒子間ミクロボイドは、微粒子およびポリマーに
よって低屈折率層内で閉じていることが好ましい。閉じ
ている空隙には、低屈折率層表面に開かれた開口と比較
して、低屈折率層表面での光の散乱が少ないとの利点も
ある。

【００７８】ミクロボイドを形成することにより、低屈
折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する成分の
屈折率の和よりも低い値になる。層の屈折率は、層の構
成要素の体積当りの屈折率の和になる。微粒子やポリマ
ーのような低屈折率層の構成成分の屈折率は１よりも大
きな値であるのに対して、空気の屈折率は１．００であ
る。そのため、ミクロボイドを形成することによって、
屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることができる。

【００７９】低屈折率層は、５〜５０重量％の量のポリ
マーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子を接着
し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有す
る。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈
折率層の強度を維持できるように調整する。ポリマーの
量は、低屈折率層の全量の１０〜３０重量％であること
が好ましい。ポリマーで微粒子を接着するためには、
（１）微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、
（２）微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェル
を形成するか、あるいは（３）微粒子間のバインダーと
して、ポリマーを使用する、ことが好ましい。（１）の
表面処理剤に結合させるポリマーは、（２）のシェルポ
リマーまたは（３）のバインダーポリマーであることが
好ましい。（２）のポリマーは、低屈折率層の塗布液の
調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成すること
が好ましい。（３）のポリマーは、低屈折率層の塗布液
にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗
布後に、重合反応により形成することが好ましい。上記
（１）〜（３）のうちの二つまたはすべてを組み合わせ
て実施することが好ましく、（１）と（３）の組み合わ
せ、または（１）〜（３）すべてを組み合わせで実施す
ることが特に好ましい。（１）表面処理、（２）シェル
および（３）バインダーについて、順次説明する。

【００８０】（１）表面処理 微粒子（特に無機微粒子）には、表面処理を実施して、
ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処
理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理
的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処
理に分類できる。化学的表面処理のみ、または物理的表
面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが
好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキ
シメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカ
ップリング剤）が好ましく用いられる。微粒子が二酸化
ケイ素からなる場合は、シランカップリング剤による表
面処理が特に有効に実施できる。具体的なシランカップ
リング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシ
シラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブト
キシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエ
トキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリ
エトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニル
トリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシ
ラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセ
トキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロ
ロプロピルトリアセトキシシラン、３，３，３−トリフ
ルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオ
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキ
シプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシジル
オキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、β−
（３，４−エポシシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（ア
ミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
およびβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられ
る。

【００８１】また、ケイ素に対して２置換のアルキル基
を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメ
トキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメ
チルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシ
ラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエト
キシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオ
キシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイ
ルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタク
リロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキ
シシランおよびメチルビニルジエトキシシランが挙げら
れる。

【００８２】これらのうち、分子内に二重結合を有する
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシ
エトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリ
メトキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピ
ルトリメトキシシラン、ケイ素に対して２置換のアルキ
ル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロ
ピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキ
シプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイ
ルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニ
ルジメトキシシランおよびメチルビニルジエトキシシラ
ンが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロ
ピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキ
シプロピルメチルジメトキシシランおよびγ−メタクリ
ロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好
ましい。

【００８３】二種類以上のカップリング剤を併用しても
よい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、
他のシランカップリングを用いてもよい。他のシランカ
ップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル
（例、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オル
トケイ酸ｎ−プロピル、オルトケイ酸ｉ−プロピル、オ
ルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケイ酸sec-ブチル、オル
トケイ酸ｔ−ブチル）およびその加水分解物が挙げられ
る。カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物
に、カップリング剤を加え、室温から６０℃までの温度
で、数時間から１０日間分散物を放置することにより実
施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸（例、
硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オ
ルトケイ酸、リン酸、炭酸）、有機酸（例、酢酸、ポリ
アクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグ
ルタミン酸）、またはこれらの塩（例、金属塩、アンモ
ニウム塩）を、分散物に添加してもよい。

【００８４】（２）シェル シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖とし
て有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を
主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子
を側鎖に含むポリマーがさらに好ましい。ポリアクリル
酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好まし
く、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリ
メタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリ
マーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増
加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるた
め、シェルポリマーは３５〜８０重量％のフッ素原子を
含むことが好ましく、４５〜７５重量％のフッ素原子を
含むことがさらに好ましい。フッ素原子を含むポリマー
は、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの重合
反応により合成することが好ましい。フッ素原子を含む
エチレン性不飽和モノマーの例としては、フルオロオレ
フィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライ
ド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換ア
ルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステル
が挙げられる。

【００８５】シェルを形成するポリマーは、フッ素原子
を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単
位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含
まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン
性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好まし
い。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの
例としては、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、
イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル
酸エステル（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エ
ステル（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタク
リレート）、スチレンおよびその誘導体（例、スチレ
ン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルス
チレン）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテ
ル）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸
ビニル、桂皮酸ビニル）、アクリルアミド（例、Ｎ−te
rtブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリル
アミド）、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが
挙げられる。

【００８６】後述する（３）のバインダーポリマーを併
用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入し
て、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋によ
り化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶
性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温
度（Ｔｇ）が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、
低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。ただ
し、Ｔｇが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微
粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されな
い（その結果、強度が低下する）場合がある。その場合
は、後述する（３）のバインダーポリマーを併用し、バ
インダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成
することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを
形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微
粒子中に無機微粒子からなるコアが５〜９０体積％含ま
れていることが好ましく、１５〜８０体積％含まれてい
ることがさらに好ましい。二種類以上のコアシェル微粒
子を併用してもよい。また、シェルのない無機微粒子と
コアシェル粒子とを併用してもよい。

【００８７】（３）バインダー バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテ
ルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが
さらに好ましい。バインダーポリマーは架橋しているこ
とが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマ
ーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得る
ことが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得
るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽
和基を有するモノマーの例としては、多価アルコールと
（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサン
ジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）
アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレー
ト、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリ
アクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体
（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸
−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニル
シクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルス
ルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリル
アミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。ポリエ
ーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ
化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。

【００８８】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例としては、イソシアナート基、エポキ
シ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、
カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロ
ール基および活性メチレン基が挙げられる。ビニルスル
ホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミ
ン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン
も、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用でき
る。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結
果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本
発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能
基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。バ
インダーポリマーの重合反応および架橋反応に使用する
重合開始剤は、熱重合開始剤や、光重合開始剤が用いら
れるが、光重合開始剤の方がより好ましい。光重合開始
剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベ
ンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、
アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過
酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスル
フィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スル
ホニウム類がある。アセトフェノン類の例としては、
２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセ
トフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メ
チル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェ
ノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが挙げられ
る。ベンゾイン類の例としては、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソ
プロピルエーテルが挙げられる。ベンゾフェノン類の例
としては、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフ
ェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−ク
ロロベンゾフェノンが挙げられる。ホスフィンオキシド
類の例としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジ
フェニルフォスフィンオキシドが挙げられる。

【００８９】バインダーポリマーは、低屈折率層の塗布
液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または
塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）により
形成することが好ましい。低屈折率層の塗布液に、少量
のポリマー（例、ポリビニルアルコール、ポリオキシエ
チレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリ
レート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロー
ス、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂）
を添加してもよい。

【００９０】＜反射防止フィルム＞反射防止フィルムの
各層またはその塗布液には、前述した成分（無機微粒
子、ポリマー、分散媒体、重合開始剤、重合促進剤）以
外に、重合禁止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止
剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤
や接着付与剤を添加してもよい。反射防止フィルムの各
層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カー
テンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート
法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法
（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布によ
り形成することができる。二以上の層を同時に塗布して
もよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１
７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、
同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コー
ティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載
がある。

【００９１】本発明の反射防止フィルムにおいては、高
屈折率層と低屈折率層を塗布により積層するので、前記
したようにゴミ、ほこり等の異物が存在したとき、輝点
欠陥が目立ちやすい。本発明における輝点欠陥とは、目
視により、塗膜上の反射で見える欠陥のことで、塗布後
の反射防止フィルムの裏面を黒塗りする等の操作により
目視で検出できる。目視により見える輝点欠陥は、一般
的に５０μｍ以上である（以下このような輝点欠陥を単
に「輝点欠陥」という）。輝点欠陥が多いと製造時の得
率が低下し、大面積の反射防止フィルムを製造すること
ができない。

【００９２】本発明の反射防止フィルムは、輝点欠陥の
数が１平方メートル当たり２０個以下、好ましくは１０
個以下、さらに好ましくは５個以下、特に好ましくは１
個以下とする。また、本発明では、高屈折率層と低屈折
率層の屈折率を調整して本発明の反射防止フィルムの平
均反射率を、好ましくは１．８％以下、より好ましくは
１．５％以下、特に好ましくは０．８％以下とし、輝点
欠陥の数を上記した範囲とすることが好ましい。ここ
で、平均反射率は、波長４５０ｎｍから６５０ｎｍにお
ける鏡面での平均反射率である。なお、平均反射率０．
８％以下のフィルムは、無反射フィルムと呼ばれる。

【００９３】さらに、上記のように高屈折率層と低屈折
率層の積層により反射防止性を付与すると共に、ヘイズ
値を比較的低く保ち、フィルムを透過する画像の鮮明性
を悪化させないようにすることが好ましい。ヘイズ値と
しては、３〜２０％の範囲が好ましく、より好ましくは
５〜１５％の範囲である。

【００９４】本発明の反射防止フィルムを連続的に製造
するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り
出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化す
る工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る
工程が行われる。このような工程の一例を図２に示し
た。

【００９５】図２において、ロール状のフィルム支持体
１１からフィルム支持体がクリーン室１５に連続的に送
り出され、クリーン室１５内で、フィルム支持体に帯電
している静電気を静電除電装置１２により除電し、引き
続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置
１３により除去する。引き続きクリーン室１５内に設置
されている塗布部１４で塗布液がフィルム支持体上に塗
布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室１６に送ら
れて乾燥される。乾燥した塗布層を有するフィルム支持
体は乾燥室１６から放射線硬化室１７へ送り出され、放
射線が照射されて塗布層に含有されるモノマーが重合し
て硬化する。さらに、放射線により硬化した層を有する
フィルム支持体は熱硬化部１８へ送られ、加熱されて硬
化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持
体１９は巻き取られてロール状となる。

【００９６】上記工程は、各層の形成毎に行ってもよい
し、塗布部−乾燥室−放射線硬化部−熱硬化室を複数設
けて、各層の形成を連続的に行うことも可能である。

【００９７】本発明における、輝点欠陥の少ない反射防
止フィルムを作成するためには、上記の塗布部１４にお
ける塗布工程および乾燥室１６で行われる乾燥工程が高
い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる
前に、フィルム支持体上のゴミ、ほこりが充分に除かれ
ていることが好ましい。塗布工程および乾燥工程の空気
清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の
規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３
５３個／（立方メートル）以下）以上であることが望ま
しく、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子
が３５．５個／（立方メートル）以下）以上であること
が望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外
の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好
ましい。

【００９８】塗布が行われる前工程としての除塵工程に
用いられる除塵方法として、特開昭５９−１５０５７１
号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を
押しつける方法、特開平１０−３０９５５３号公報に記
載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィ
ルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する
方法、特開平７−３３３６１３号公報に記載される超音
波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸
引する方法（伸興社製、ニューウルトラクリーナー等）
等の乾式除塵法が挙げられる。また、洗浄槽中にフィル
ムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方
法、特公昭４９−１３０２０号公報に記載されているフ
ィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、
吸い込みを行なう方法、特願平１１−２１５８０７号に
記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的
に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等
の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方
法の内、超音波除塵による方法もしくは湿式除塵による
方法が、除塵効果の点で特に好ましい。

【００９９】また、このような除塵工程を行う前に、フ
ィルム支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効
率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。この
ような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、
ＵＶ、軟Ｘ線等の光照射式のイオナイザ等を用いること
ができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧
は、１０００Ｖ以下が望ましく、好ましくは３００Ｖ以
下、特に好ましくは、１００Ｖ以下である。

【０１００】また、塗布に用いる塗布液は、塗布直前に
ろ過することが好ましい。ろ過のフィルターは、塗布液
中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さい
ものを使うことが好ましい。

【０１０１】本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装
置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ
Ｄ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置
に適用することができる。ＣＲＴ、ＰＤＰ、ＥＬＤ等で
は透明支持体を有する反射防止フィルムは、粘着剤を介
して透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に直接、
もしくは他の機能性フィルム等を介して接着することが
好ましい。また、ＬＣＤの場合は反射防止フィルムの透
明支持体側を粘着剤層を介して、偏光板の保護膜、もし
くは偏光板に直接接着するか、反射防止フィルムの透明
支持体側を直接偏光板に接着し、反射防止面を画像表示
面の最外層に設ける様に配置することが好ましい。

【０１０２】

【実施例】本発明を詳細に説明するために、以下に実施
例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。

【０１０３】〔実施例１〜３、比較例１〜３〕 （ハードコート層用塗布液Ａの調製）ＪＳＲ社製ハード
コート素材デソライトＺ７５０３のＭＥＫ溶液（固形分
濃度７２％、シリカ含量３８％）６２５ｇを、３７５ｇ
のメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０
重量％の混合溶媒に溶解した。混合物を撹拌した後、孔
径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して
ハードコート層の塗布液を調製した。

【０１０４】（二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタ
ン（一次粒子重量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率：２．７
０）３０重量部、アニオン性ジアクリレートモノマー
（ＰＭ２１、日本化薬（株）製）４．５重量部、カチオ
ン性メタクリレートモノマー（ＤＭＡＥＡ、興人（株）
製）０．３重量部およびメチルエチルケトン６５．２重
量部を、サンドグラインダーにより分散し、二酸化チタ
ン分散物を調製した。

【０１０５】（中屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１５１．９ｇおよびメチルエチルケトン３７．０
ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）０．１４ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥ
ＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４ｇを溶解した。さら
に、上記の二酸化チタン分散物６．１ｇおよびジペンタ
エリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化
薬（株）製）２．４ｇを加え、室温で３０分間攪拌した
後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ
過して、中屈折率層用塗布液を調製した。

【０１０６】（高屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１１５２．８ｇおよびメチルエチルケトン３７．
２ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイ
ギー社製）０．０６ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇを溶解した。さ
らに、上記の二酸化チタン分散物およびジペンタエリス
リトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）を、表１に示した高屈折率層の屈折率になる
よう調節して加え、室温で３０分間攪拌した後、孔径
０．４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、
高屈折率層用塗布液を調製した。

【０１０７】（低屈折率層用塗布液Ａの調製）平均粒径
１５ｎｍのシリカ微粒子のメタノール分散液（メタノー
ルシリカゾル、日産化学（株）製）２００ｇにシランカ
ップリング剤（ＫＢＭ−５０３、信越シリコーン（株）
製）３ｇおよび０．１Ｎ塩酸２ｇを加え、室温で５時間
撹拌した後、３日間室温で放置して、シランカップリン
グ処理したシリカ微粒子の分散物を調製した。分散物３
５．０４ｇに、イソプロピルアルコール５８．３５ｇお
よびジアセトンアルコール３９．３４ｇを加えた。ま
た、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）１．０２ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）０．５１ｇを７７２．８５ｇの
イソプロピルアルコールに溶解した溶液を加え、さら
に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）２５．６ｇを加えて溶解し
た。得られた溶液６７．２３ｇを、上記分散液、イソプ
ロピルアルコールおよびジアセトンアルコールの混合液
に添加した。混合物を２０分間室温で撹拌し、孔径０．
４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈
折率層用塗布液Ａ−１を調製した。この塗布液を塗布、
乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率
は１．４０であった。また、上記において、シリカ分散
物とＤＰＨＡ添加量を調節することにより、それぞれ屈
折率１．４２となる塗布液Ａ−２、屈折率１．４５とな
る塗布液Ａ−３を調製した。

【０１０８】（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）屈折率
１．４０の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２
３、固形分濃度６重量％、ＪＳＲ（株）製）２１０ｇに
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎ
ｍ、固形分濃度３０重量％、日産化学製）１５．２ｇお
よびメチルイソブチルケトン１７４ｇを添加、攪拌の
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
て、低屈折率層用塗布液を調製した。

【０１０９】（反射防止フィルムの作成） ＜実施例１−Ａ〜実施例１−Ｅ＞８０μｍの厚さのトリ
アセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富
士写真フイルム（株）製、屈折率１．４９）に、上記の
ハードコート層用塗布液をバーコーターを用いて塗布
し、９０℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗布層を硬化
させ、厚さ６μｍのハードコート層（屈折率１．４９）
を形成した。その上に、上記中屈折率層用塗布液をバー
コーターを用いて塗布し、６０℃で乾燥の後、紫外線を
照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率１．７
２）を形成した。その上に、上記高屈折率層用塗布液を
バーコーターを用いて塗布し、６０℃で乾燥の後、紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、表１に示した屈折率の
高屈折率層を形成した。なお、実施例１−Ａ〜１−Ｃ、
比較例３については、中屈折率層は設けず、ハードコー
ト層上に直接高屈折率層を設けた。その上に、表１に示
されるように上記低屈折率層用塗布液Ａ−１〜Ａ−３お
よびＢのいずれかをバーコーターを用いて塗布し、 塗
布液Ａ−１〜Ａ−３については６０℃で乾燥の後、紫外
線を照射して塗布層を硬化して、Ｂについては、１２０
℃で１０分乾燥・硬化することにより表１に示した低屈
折率層を形成した。

【０１１０】上記において、塗布、乾燥工程は０．５μ
ｍ以上の粒子として３０個／（立方メートル）以下の空
気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平１
０−３０９５５３号に記載の清浄度の高い空気を高速で
吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接し
た吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を
行った。除塵前のベースの帯電圧は、２００Ｖ以下であ
った。上記の塗布は１層毎に、送り出し−除塵−塗布−
乾燥−（ＵＶまたは熱）硬化−巻き取りの各工程で行っ
た。

【０１１１】＜実施例２＞実施例１−Ｄにおいて、除塵
装置を超音波除塵機（伸興社製、ニューウルトラクリー
ナー）を用いた以外は同様にして反射防止フィルムを作
成した。

【０１１２】＜実施例３＞実施例１−Ｄにおいて、除塵
をウェブを液体でぬらしたローラーで連続的に擦った
後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法（特願平１
１−２１５８０７に記載）で行った以外は同様にして反
射防止フィルムを作成した。

【０１１３】＜比較例１＞実施例１−Ｄにおいて、塗布
前の除塵を実施しない以外は同様にして、反射防止フィ
ルムを作成した。

【０１１４】＜比較例２＞実施例１−Ｄにおいて、塗布
乾燥ゾーンの空気清浄度が０．５μｍ以上の粒子として
１００００個／（立方メートル）である以外は同様にし
て、反射防止フィルムを作成した。

【０１１５】＜比較例３＞実施例１−Ａにおいて、高屈
折率層中から、二酸化チタン粒子を除いた以外は同様に
して、反射防止フィルムを作成した。

【０１１６】（反射防止フィルムの評価）得られたフィ
ルムについて、以下の項目の評価を行った。 （１）平均反射率 分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５度における分光
反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均
反射率を用いた。 （２）各層の屈折率 各層の屈折率は反射率の測定結果より、屈折率をフィッ
ティングにより計算して求めた。 （３）輝点欠陥 全層塗布した後のフィルムの裏面をマジックインキ等で
黒塗りした後、塗膜上にある輝点欠陥の数を目視で判定
した。目視で見える輝点欠陥のサイズは、５０μｍ以上
である。輝点欠陥は、１平方メートルあたりの個数でカ
ウントした。 （４）ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。

【０１１７】（５）鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止フィルムを温度２５℃、湿
度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ６００６
に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重に
て ｎ＝５の評価において傷が全く認められない ：○ ｎ＝５の評価において傷が１または２つ ：△ ｎ＝５の評価において傷が３つ以上 ：× （６）防眩性評価 作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯（８０００ｃｄ／ｍ ²）を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。 蛍光灯の輪郭が全くわからない ：◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる ：○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる ：△ 蛍光灯がほとんどぼけない ：× （７）ギラツキ評価 作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光
を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。 ほとんどギラツキが見られない ：○ わずかにギラツキがある ：△ 目で識別できるサイズのギラツキがある ：×

【０１１８】表１に本発明の実施例および比較例の結果
を示す。実施例１-Ａ〜１−Ｅの反射防止フィルムは、
いずれも反射率が低く、輝点欠陥も少ない。このうち、
特に反射率の低い実施例１−Ｃ〜１−Ｅは、画像表示装
置上での映り込みが特に少なく好ましいが、若干輝点欠
陥の数が増える傾向にある。除塵方法を変えた実施例
２，３の反射防止フィルムは、反射率の低い場合でも、
輝点欠陥の数がさらに少ない。これは、除塵方法として
超音波除塵あるいは湿式除塵を採用すると、製造時の得
率が向上すること、および大面積の反射防止フィルムの
作成に有効であることを示すものである。これに対し、
比較例１は除塵をせず、比較例２は塗布乾燥時の空気清
浄度が悪いため、輝点欠陥が極端に悪い。また、比較例
３は高屈折率層の屈折率が低いため（支持体であるトリ
アセチルセルロースの屈折率は１．４９であり、高屈折
率層の屈折率は１．５３であるので、その差は０．４と
本発明で特定されている差より小さい）、反射率が高
く、画像表示装置上での映り込みも悪かった。

【０１１９】

【表１】

【０１２０】上記の実施例２，３の反射防止フィルム
を、偏光板の保護フィルム上に貼り付けてＬＣＤパネル
の表面に設けたところ、輝点欠陥がなく画面への映り込
みも少なかった。

【０１２１】〔実施例４〜５、比較例４〕以下の例にお
いて、防眩性ハードコート層は高屈折率層でもある。 （防眩性ハードコート層用塗布液Ｂの調製）ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフ
ェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化（株）製）
１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘ
キサノン＝５０／５０重量％の混合溶媒に溶解した。得
られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チ
バガイギー社製）５．０ｇおよび光増感剤（カヤキュア
ーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを４９ｇのメ
チルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を
塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０
であった。さらにこの溶液に平均粒径３μｍの不定形シ
リカ粒子（商品名：ミズカシルＰ−５２６、水澤化学工
業（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０
００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径1０μｍの
ポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコ
ート層の塗布液Ｂを調製した。

【０１２２】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｃの調
製）シクロヘキサノン１０４．１ｇ、メチルエチルケト
ン６１．３ｇの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しなが
ら平均粒径２０ｎｍの二酸化ジルコニウム粒子分散物含
有ハードコート塗布液（ＫＺ−７９９１、ＪＳＲ（株）
製）２１７．０ｇ、を添加した。この溶液にジペンタエ
リスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）を添加して、表２の実施例５−Ａ〜実施例５
−Ｅに示される屈折率に調整した。さらにこの溶液に風
力分級により５μｍ以上の粗大粒子を除いた平均粒径２
μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００
Ｈ、綜研化学（株）製）５ｇを添加して、高速ディスパ
にて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３
μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハ
ードコート層の塗布液Ｃを調製した。

【０１２３】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｄの調
製）ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）２５０ｇをメチルエチルケト
ン／シクロヘキサノン＝５０／５０重量％の混合溶媒４
３９ｇに溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イ
ルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび
光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）
５．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液
を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗
膜の屈折率は１．５３であった。さらにこの溶液に風力
分級により５μｍ以上の粗大粒子を除いた平均粒径２．
０μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００
Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディス
パにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径
３μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性
ハードコート層の塗布液Ｄを調製した。

【０１２４】（ハードコート層用塗布液Ｅの調製）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）２５０ｇを、４３９ｇのメチルエチル
ケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０重量％の混合溶
媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガ
キュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増
感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．
０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加
えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は１．５３であった。さらにこの溶液を孔径０．
４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性
ハードコート層の塗布液Ｅを調製した。

【０１２５】（低屈折率層用塗布液Ｃ−１〜Ｃ−３の調
製）屈折率１．４０の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ
−７２２３、固形分濃度６重量％、ＪＳＲ（株）製）２
１０ｇにシリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２
０ｎｍ、固形分濃度３０重量％、日産化学製）１５．２
ｇおよびメチルエチルケトン１７４ｇを添加、攪拌の
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
て、低屈折率層用塗布液Ｃ−１を調製した。また、上記
の熱架橋性含フッ素ポリマーにおいて、屈折率の異なる
ものを用いた以外は上記と同様にして、屈折率１．４２
の低屈折率層用塗布液Ｃ−２、屈折率１．４５の低屈折
率層用塗布液Ｃ−３を作成した。

【０１２６】（反射防止フィルムの作成） ＜実施例４＞８０μｍの厚さのトリアセチルセルロース
フイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム
（株）製、屈折率約１．４９）に、上記の防眩性ハード
コート層用塗布液Ｂをバーコーターを用いて塗布し、１
２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライ
ドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照
度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２．５μｍの防眩
性ハードコート層（表２では防眩層）を形成した。その
上に、上記低屈折率層用塗布液Ｃ−２をバーコーターを
用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１
０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形
成した。

【０１２７】＜実施例５−Ａ〜実施例５−Ｃ＞８０μｍ
の厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−Ｔ
Ｄ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上記のハー
ドコート層用塗布液Ｅをバーコーターを用いて塗布し、
１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハラ
イドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、
照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫
外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２μｍのハード
コート層を形成した。その上に、上記屈折率の異なる防
眩性ハードコート層用塗布液Ｃをバーコーターを用いて
塗布し、上記ハードコート層と同条件にて乾燥、紫外線
硬化して、厚さ約１．５μｍの防眩性ハードコート層
（表２では防眩層）を形成した。その上に、表２に示さ
れるように上記低屈折率層用塗布液Ｃ−１〜Ｃ−３のい
ずれかをバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の
後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９
６μｍの低屈折率層を形成した。

【０１２８】＜比較例４−Ａ＞実施例５−Ａにおいて、
防眩性ハードコート層用塗布液Ｃのかわりに防眩性ハー
ドコート層用塗布液Ｄを用いた以外は同様にして比較用
サンプルを作成した。

【０１２９】＜比較例４−Ｂ＞実施例５−Ｄにおいて、
防眩性ハードコート層用塗布液Ｃのかわりに防眩性ハー
ドコート層用塗布液Ｄを用いた以外は同様にして比較用
サンプルを作成した。

【０１３０】上記の実施例４，実施例５−Ａ〜実施例５
−Ｅ、比較例４−Ａ、比較例４−Ｂにおいて、塗布、乾
燥工程は、０．５μｍ以上の粒子として２００個／（立
方メートル）以下の空気清浄度であり、塗布直前に超音
波除塵機（伸興社製、ニューウルトラクリーナー）で除
塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧
は、２００Ｖ以下であった。上記の塗布は１層毎に、送
り出し−除塵−塗布−乾燥−（ＵＶまたは熱）硬化−巻
き取り、の各工程で行った。

【０１３１】表２、表３に上記実施例および比較例の結
果を示す。実施例４、実施例５−Ａ〜実施例５−Ｅの反
射防止フィルムは、いずれも反射防止性能に優れ、点欠
陥の少ない防眩性反射防止フィルムであった。これに対
し、防眩性ハードコート塗布液Ｄを用いた比較例４−
Ａ、４−Ｂは、防眩性ハードコート層（高屈折率層）の
屈折率と支持体の屈折率の差が本発明で特定している値
より小さいため、反射率が高く、反射防止性能が不足し
ていた。

【０１３２】

【表２】

【０１３３】

【表３】

【０１３４】＜実施例６＞ ［トリアセチルセルロース支持体の作製］ （支持体Ａの作製） （トリアセチルセルロースドープＡの調整）トリアセチ
ルセルロース１７．４重量部、トリフェニルフォスフェ
ート２．６重量部、ジクロロメタン６６重量部、メタノ
ール５．８重量部、ノルマルブタノール８．２重量部か
らなる原料を攪拌しながら混合して溶解し、トリアセチ
ルセルロースドープＡを調整した。

【０１３５】（トリアセチルセルロースドープＢの調
整）トリアセチルセルロース２４重量部、トリフェニル
フォスフェート４重量部、ジクロロメタン６６重量部、
メタノール６重量部からなる原料を攪拌しながら混合し
て溶解し、トリアセチルセルロースドープＢを調整し
た。

【０１３６】特開平１１−２５４５９４等に従って、３
層共流延ダイを用い、ドープＢの両側にドープＡを共流
延するように配置して金属ドラム上に同時に吐出させて
重層流延した後、流延膜をドラムから剥ぎ取り、乾燥し
て、ドラム面側から１０μｍ、６０μｍ、１０μｍの３
層共流延トリアセチルセルロースフィルムＡを作成し
た。このフィルムには、各層間に明確な界面は形成され
ていなかった。

【０１３７】（支持体Ｂの作製） （トリアセチルセルロースドープＣの調整）トリアセチ
ルセルロース２０重量部、酢酸メチル４８重量部、シク
ロヘキサノン２０重量部、メタノール５重量部、エタノ
ール５重量部、トリフェニルフォスフェート／ビフェニ
ルジフェニルフォスフェート（１／２）２重量部、シリ
カ（粒径２０ｎｍ）０．１重量部、２、４−ビス−（ｎ
−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１、３、５−トリアジ
ン０．２重量部を添加、攪拌して得られた不均一なゲル
状溶液を、−７０℃にて６時間冷却した後、５０℃に加
温し攪拌してドープＣを調整した。

【０１３８】特開平７−１１０５５に従い、上記トリア
セチルセルロースドープＣを単層ドラム流延し、厚み８
０μｍのトリアセチルセルロースフィルムＢを作成し
た。

【０１３９】（支持体Ｃの作製） （トリアセチルセルロースドープＤの調整）上記トリア
セチルセルロースドープＣと同様にして得られた不均一
なゲル状溶液を、ステンレス製密閉容器にて１ＭＰａ、
１８０℃で５分間加熱した後、５０℃の水浴中に容器ご
と投入し冷却し、トリアセチルセルロースドープＤを調
整した。

【０１４０】特開平７−１１０５５に従い、上記トリア
セチルセルロースドープＤを単層ドラム流延し、厚み８
０μｍのトリアセチルセルロースフィルムＣを作成し
た。

【０１４１】（反射防止フィルムの作製）上記支持体Ａ
からＣおよび富士写真フイルム（株）製ＴＡＣ−ＴＤ８
０Ｕを９０ｃｍ巾にスリット加工し、前記実施例５−Ａ
と同様の方法で反射防止フィルムを作製した。支持体Ａ
〜Ｃはいずれも屈折率１．４９であった。これらのサン
プルのスリット時の端面と、輝点欠陥の結果を表４に示
す。

【０１４２】

【表４】

【０１４３】支持体がＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕを用いたもの
に比べ、支持体Ａ，Ｂ，Ｃを用いたものは、端面切り屑
が良化し、点欠陥の改良効果が見られた。

【０１４４】実施例４、実施例５−Ａ〜実施例５−Ｅで
作成した防眩性反射防止フィルムを用いて防眩性反射防
止偏光板を作成した。この偏光板を用いて反射防止層を
最表層に配置した液晶表示装置を作成したところ、輝点
欠陥が少なく、外光の映り込みがないために優れたコン
トラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れ
た視認性を有していた。

【０１４５】

【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、反射率が
低く、かつ輝点欠陥の数が少なく、しかも生産性よく連
続塗布方式で製造でき大量生産に適している。本発明の
反射防止フィルムの製造方法は、反射率が低く、かつ輝
点欠陥の数が少ない反射防止フィルムを生産性よく連続
塗布方式で製造でき、しかも大量生産に適している。ま
た、本発明の画像表示装置は、上記特性に優れた反射防
止フィルムを用いているので、輝点欠陥が少なく、映り
込みが少ない。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）〜（ｄ）いずれも反射防止フィルムの主
な層構成を示す断面模式図である。

【図２】反射防止フィルムの塗布工程の一例を示した模
式図である。

【符号の説明】

１ 反射防止フィルム ２ 透明支持体 ３ 高屈折率層 ３' 防眩性ハードコート層 ４ 低屈折率層 ５ ハードコート層 ６ 中屈折率層 ７ マット粒子 １１ フィルム支持体 １２ 静電気除電装置 １３ 除塵装置 １４ 塗布部 １５ クリーン室 １６ 乾燥室 １７ 放射線硬化部 １８ 熱硬化室 １９ フィルム支持体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ ５Ｇ４３５ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ Ｂ２９Ｋ 1:00 // Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｌ 11:00 Ｂ２９Ｌ 11:00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA12 BA20 2H091 FA37X FC07 LA02 LA03 LA12 LA16 2K009 AA06 AA07 AA15 BB28 CC09 CC24 CC26 CC42 DD02 DD05 DD06 DD08 DD09 EE00 4F100 AJ06A BA03 BA10A BA10C BA26 CC00 EH46 EH46B EH46C EJ08 EJ25 EJ54 EJ58 EJ86 EJ86B EJ86C EK03 GB41 JB07 JL02 JN01A JN06 JN18B JN18C JN30 YY00B YY00C 4F205 AA01 AC05 AE10 AG03 AH73 GA07 GB02 GB11 GB22 GC06 GE02 GE22 GF05 GF23 GF24 GN22 GN29 5G435 AA01 BB02 BB06 BB12 DD11 FF01 HH01 KK07

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明支持体上に、透明支持体の屈折率よ
   り０．０５以上高い屈折率を有する少なくとも１層の高
   屈折率層と、該高屈折率層上に支持体より屈折率の低い
   低屈折率層とが、各層を形成するための塗布液を塗布・
   乾燥する工程を含んで形成されてなり、しかも５０μｍ
   以上の輝点欠陥の数が１平方メートル当たり２０個以下
   であることを特徴とする反射防止フィルム。
2. 【請求項２】 上記高屈折率層の屈折率が１．５７〜
   ２．３０の範囲にあり、低屈折率層の屈折率が１．３５
   〜１．４９の範囲にあることを特徴とする請求項１記載
   の反射防止フィルム。
3. 【請求項３】 防眩性を有すると共に、ヘイズ値が３〜
   ２０％、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射
   率が１．８％以下であることを特徴とする請求項１また
   は２に記載の反射防止フィルム。
4. 【請求項４】 波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平
   均反射率が０．８％以下であることを特徴とする請求項
   １〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
5. 【請求項５】 ５０μｍ以上の輝点欠陥の数が１平方メ
   ートルあたり５個以下であることを特徴とする請求項１
   〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
6. 【請求項６】 透明支持体がトリアセチルセルロースフ
   ィルムであり、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解す
   ることで調整されたトリアセチルセルロースドープを単
   層流延、複数層共流延もしくは複数層逐次流延の何れか
   の流延方法により流延することにより作成されたことを
   特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フ
   ィルム。
7. 【請求項７】 前記トリアセチルセルロースドープが、
   トリアセチルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解
   法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶
   解することで調整されたトリアセチルセルロースドープ
   であることを特徴とする請求項６に記載の反射防止フィ
   ルム。
8. 【請求項８】 高屈折率層および低屈折率層を形成する
   ための塗布液の塗布・乾燥工程の前工程として、連続的
   に搬送される透明支持体上の異物を除去する工程が設け
   られており、しかも米国連邦規格２０９Ｅにおける空気
   清浄度の規格に基づいたクラス１０以上の清浄度の空気
   雰囲気下に塗布・乾燥工程が行われることを特徴とする
   請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
9. 【請求項９】 透明支持体上の異物を除去する工程が、
   超音波を用いる除塵方法および／または湿式除塵方法に
   より行われることを特徴とする請求項８に記載の反射防
   止フィルム。
10. 【請求項１０】 （Ａ）連続的に搬送される透明支持体
    上の異物を除去する工程、および（Ｂ）上記（Ａ）工程
    の後工程として、該透明支持体上に透明支持体の屈折率
    より０．０５以上高い屈折率を有する少なくとも１層の
    高屈折率層と、該高屈折率層上に支持体により屈折率の
    低い低屈折率層とを、米国連邦規格２０９Ｅにおける空
    気清浄度の規格に基づいたクラス１０以上の清浄度の空
    気雰囲気下に、高屈折率層および低屈折率層を形成する
    ための塗布液を塗布・乾燥する工程、を含むことを特徴
    とする反射防止フィルムの製造方法。
11. 【請求項１１】 請求項１〜９のいずれかに記載の反射
    防止フィルムを有することを特徴とする画像表示装置。