JP2001296411A

JP2001296411A - 反射板、反射型液晶表示素子およびその製造方法

Info

Publication number: JP2001296411A
Application number: JP2000114868A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiko Yamanaka; 泰彦山中; Yoshinobu Sakurai; 芳亘櫻井; Hisahide Wakita; 尚英脇田
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2000-04-17
Filing date: 2000-04-17
Publication date: 2001-10-26

Abstract

(57)【要約】【課題】表面に凹凸を有し散乱性を有する反射板、お
よび該反射板を具備する反射型表示素子において、反射
板の下地となる凹凸層を簡便な工程数で製造し、従来に
比べて削減するとともに、良好な反射特性を得る反射
板、反射型液晶表示素子を実現する。【解決手段】基板１上には、反射膜表面に凹凸曲面を
形成するための凹凸層が形成されており、凹凸層および
凹凸層が開口した底部の基板上に、反射膜が製膜されて
いる。凹凸層は、１回のフォト工程により形成されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、外光を利用して表
示を行うための反射板および該反射板を具備する反射型
液晶表示素子と、その製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】バックライトなどの光源を必要としない
反射型表示素子、たとえば、反射型液晶表示素子は、反
射板と、表示素子に入射する光および反射板で反射され
た光の光量を制御する光制御手段（液晶表示素子など）
とを組み合わせて表示を行うものであり、消費電力が小
さいため、携帯用の機器に利用されることが多い。反射
型表示素子では外光を反射する反射板が必要であるが、
表示素子として十分な明るさを確保するためには、反射
板から反射される光のうち表示素子を見る観察者の方向
に反射する光をできるだけ多くし、光の利用効率を高め
る必要がある。特にカラー表示を行う反射型表示素子で
は、単色の表示素子に比べて高い反射率が求められる。

【０００３】高い反射率を得るためには、反射板として
反射率の高いアルミニウムや銀などの金属反射膜を用い
ることが考えられるが、平坦な面上に金属反射膜を形成
すると、鏡面反射して光源が反射板に映り込み、それ以
外ではほとんど光が反射しないために暗く、表示が非常
に見づらくなる。図９（ａ）はこの様子を示したもので
ある。反射板の垂線からの角度θ（座標角）がー３０度
方向から入射光を入射した場合、図９（ｂ）のように、
反射光は、＋３０度方向のみに鋭いピークとしてあらわ
れ、それ以外では、ほとんど反射光が得られない。

【０００４】一方、紙の印刷物のような自然な見え（い
わゆるペーパーホワイト）を得ようとすると、反射板と
して白い紙やこれに類似するものを反射板として用いれ
ばよいが、観察者から大きく外れた方向にも光が反射さ
れるため、暗い表示となる。図１２（ａ）にこの様子を
示す。図１２（ｂ）のように、反射光がすべての方向に
散乱されるため、光源の映りこみはないが、どの方向か
ら見ても暗い表示となる。

【０００５】この課題に対しては、特許第２６９８２１
８号公報が開示されている。これは、図１０（ａ）およ
び（ｃ）のように、フォトレジスト等により基板上に離
隔した多数の凸部１４を形成し、この上に反射膜３を形
成したものである。反射膜３としてアルミニウムなどを
用いることにより、図１０（ｂ）のように散乱性を付与
し、光源の映り込みを小さくしている。しかし、この従
来例では、凸部１４が離隔して形成されているため、凹
部１３は平面的であり、かつ面積が大きく、その反射光
は正反射方向（図１０（ｂ）では＋３０度方向）にピー
クが現れを多く含むために、光源の映りこみが発生し、
ほかの角度から見たときには暗いという課題を有してい
た。

【０００６】そこで、この課題を解決したものとして、
特許第２７５６２０６号公報が開示されている。この様
子をを図１１（ａ）および（ｃ）に示す。これは、凹ま
たは凸形状１４が形成された基板上に液体を塗布、硬化
することによって凹凸表面に滑らかな起伏１５を形成
し、前記従来例で課題であった平面的な部分を除いて、
図１１（ｂ）のように、正反射方向に鋭いピークが現れ
ない良好な光散乱性を確保したものである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、後者の
従来例では、基板上に凹または凸形状を形成する工程
と、前記凹凸上に液体を塗布するという２段階の工程が
必要であり、凹凸形状を形成する工程のみに２段階の工
程が必要であり、工程が冗長であった。本発明は上記課
題を解決するものであり、基板上に凹凸を形成する工程
を１回で実施して製造の簡略化を図るとともに、光の映
りこみを抑え良好な光散乱性を有する反射板および反射
型液晶表示素子と、その製造方法を提供することを目的
とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の反射板は、表面に微細な凹凸を有する反射
板であって、基板と、基板上に設けられ凹凸曲面および
基板上に離隔した多数の平坦な底部を有する凹凸層と、
前記凹凸層上に設けられた反射膜とを有し、前記底部で
は前記基板に接して前記反射膜が設けられていることを
特徴とする。

【０００９】または、凹凸層を前記基板上で流動させて
前記底部の平坦な領域が縮小された底部を有することを
特徴とする。

【００１０】または、凹凸層を前記基板上で流動させ前
記底部の平坦な領域を塞ぐことにより形成された該底部
の箇所を凹とする凹凸曲面を有することを特徴とする。

【００１１】この構成により、凹凸形状を１回のフォト
リソグラフィー工程により形成でき、工程の簡略化を図
りながら、光源の映りこみを抑えるとおもに散乱性を有
する明るい反射板形成することができる。

【００１２】また、前記前記底部を除く凹凸層上に設け
られた反射膜と、を有することを特徴とする。

【００１３】この構成により、底部での光の正反射成分
を除くことができ、映りこみを抑制することができる。

【００１４】また、前記凹凸層が、加熱または光照射に
より基板上で流動させて形成された底部を有することを
特徴とする。

【００１５】この構成により、反射板の面積に対する底
部の面積を小さくでき、正反射を抑え、散乱性の高い反
射板を得ることができる。また、反射板の面積に対する
前記底部の面積の割合が０．２よりも小さいことが望ま
しい。

【００１６】また、前記凹凸層が、フォトリソグラフィ
ーの感光波長の光を遮光する性質を有することを特徴と
する。この構成により、凹凸層を背面露光のフォトマス
クとして用いることができ、底部のみ反射膜を取り除く
ことができる。

【００１７】また、上記構成の反射板を反射型液晶表示
素子の基板に形成することにより、明るい反射型液晶表
示素子を実現することができる。

【００１８】また、本発明の反射板の製造方法は、基板
上に、凹凸曲面および多数の離隔した平坦な底部を有す
る凹凸層を形成する工程と、前記膜上に光を反射する反
射膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする。

【００１９】この方法により、反射板の面積に対する底
部の面積を小さくでき、正反射を抑え、散乱性の高い反
射板を得ることができる。また、凹凸層を形成する工程
において、前記基板上で膜を流動させて前記底部の平坦
な領域を縮小してもよく、底部の平坦な領域を塞ぐこと
により底部の箇所を凹とする凹凸曲面を形成してもよ
い。

【００２０】また、凹凸層を形成する工程において、第
１の温度による加熱ののち、前記第１の温度よりも高い
第２の温度による加熱により表面に凹凸曲面を形成して
もよい。この方法により、凹凸曲面の形状制御を容易に
行うことができる。

【００２１】また、反射膜を形成する工程において、底
部上の反射膜を除去してもよい。この方法により、正反
射を抑えた良好な反射特性が得られる。このとき、凹凸
層をフォトマスクとした裏面露光によるフォトリソグラ
フィーおよびエッチングを実施することで、反射膜を取
り除く面積を底部とほぼ等しくすることができ、明るい
反射板を実現できる。

【００２２】

【発明の実施の形態】（実施の形態１）本発明の実施の
形態１の一例を図面を参照しながら説明する。

【００２３】図１は、本発明の反射板の画素領域の一断
面を示すものである。また、図２は図１の反射板を上面
から見たものであり、図２のＡ−Ａ断面が図１に相当す
る。図１において、基板１上に表面に微細な凹凸曲面を
有する凹凸層２が設けられている。基板上には凹凸層２
が開口して基板が露出した底部４がある。底部４は、凹
凸層２に離隔して多数設けられており、基板１面に沿っ
て平坦な面をなしている。凹凸層２の表面には反射膜３
が成膜されている。反射膜３は、反射率の高い金属反射
膜であるアルミニウムを０．１μｍの厚みで蒸着成膜し
たものである。アルミニウムの他に、反射率が高い銀な
どの金属膜を形成してもよい。

【００２４】凹凸層２は光感光性材料からなり、所定の
フォトマスクを用いたマスク露光および現像によりパタ
ーニングされ、底部４が形成されている。また、この光
感光性材料は、現像後の加熱工程でメルトフローする性
質を有する。ここで、メルトフローとは、加熱で材料が
軟化することにより、膜の表面の角が丸なったり膜が基
板上を流動するなど、形状変化を起こす性質または現象
である。凹凸層は、現像後にメルトフローさせることで
表面が丸くなり、底部４の周辺では、凹凸層２が底部４
に近づくに従って、徐々に膜厚が薄くなっている。メル
トフローによって凹凸層２表面に形成された滑らかな凹
凸により、反射光を散乱させて、光源の映りこみを抑制
し、良好な反射特性を得ることができる。

【００２５】本実施の形態の反射板を用いた反射型液晶
表示素子を図３に示す。図３の反射型液晶表示素子は、
１枚偏光板方式の反射型カラー液晶表示素子である。基
板１と対向基板６との間には所定の間隙が設けられ、こ
の間隙に液晶が充填された液晶層５を有する。対向基板
６には、赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂの各色に対応するカラーフィ
ルタ９が各画素ごとに配置され、カラーフィルタ４の内
側に透明導電膜からなる共通電極１０を有する。対向基
板６の外側には偏光板８および位相差板７が設けられて
いる。

【００２６】基板１上には、上記の反射板が設けられて
いる。すなわち、底部４を有する凹凸層２が設けられ、
凹凸層２上に入射光を反射するための反射膜３が成膜さ
れて、反射板を形成している。反射膜３は、各画素ごと
に区切られ、凹凸層８を貫通するコンタクトホール１２
で基板１上の駆動素子１１のドレイン端子１１ａと接続
しており、画素電極を兼ねる。この構成により、基板１
上の駆動素子１１によって、画素電極を兼ねる反射膜３
と共通電極１０の間に印加する電圧を変化させることが
でき、表示動作が可能となる。

【００２７】偏光板８の外側から入射した光は、偏光板
８、位相差板７、対向基板６、カラーフィルタ９、共通
電極１０、液晶層３を通過し、反射膜９で反射され、逆
の経路を通って、反射型表示素子を見る人の目に入る。
このとき、液晶層に印加する電圧を制御することによ
り、光の吸収と透過を制御することができる。

【００２８】本発明の反射型液晶表示素子の反射特性
を、図４に示す。図４（ｃ）は反射板を上方からもので
C―C断面を図４（ａ）に示す。図４（ａ）のように、反
射板の垂線からー３０度方向の座標角から入射光ケ〜シ
を入射させると、反射光はケ'〜シ'のように様々な方向
に反射して散乱される。ここで、凹凸層２の底部４、す
なわち、基板上に反射膜３が製膜された部分への入射光
サは、基板表面で正反射し、反射光サ'となる。底部４
の面積が大きい場合、図１０に示す従来例のように正反
射が大きい反射特性となる。ここで、底部４の面積の反
射板全体に対する面積は、小さいほうが入射光の正反
射、すなわち映りこみが小さくなるため望ましい。底部
４の面積は反射板全体の面積に対し０．２以下とするこ
とで、良好な反射特性を得ることができる。この場合の
反射光の成分は、図４（ｂ）のようになり、正反射の方
向（図４（ｂ）の座標角＋３０度方向）には鋭いピーク
はわずかしか現れず、大部分の反射光は、さまざまな方
向に反射する散乱光となる。このように、本発明の反射
板により良好な反射特性を得ることができる。

【００２９】本実施の形態の反射板および反射型液晶表
示素子の製造方法を図面に基づいて説明する。図１３
は、本発明の反射板の製造方法を説明する図である。図
１３（ａ）のように、基板１上に感光性材料２'をスピ
ンコートにより塗布し、プリベークした。感光性材料は
アクリル系のポジ型感光性材料を用いた。プリベーク後
の膜は２μｍの厚みとした。次に底部４およびコンタク
トホール１２の領域のみを露光するフォトマスクを用い
て露光を実施し、感光性材料の現像液で現像して図１３
（ｂ）のように、底部およびコンタクトホールの箇所を
取り除くパターニングを実施した。次に、凹凸層２をパ
ターニングした基板を第１の温度１２０℃のホットプレ
ート上で５分間加熱後、第２の温度１４０℃のホットプ
レート上で５分間加熱するというように２段階で加熱を
実施し、凹凸層２をメルトフローさせて図１３（ｃ）の
ように凹凸層２表面に所望の凹凸曲面を形成した。その
後、ポジ型感光性材料の硬化温度である２００℃のオー
ブンで１時間加熱し、凹凸層２を硬化させた。

【００３０】次に図１３（ｄ）のように、上記凹凸層２
上に反射膜３としてアルミニウムを０．２μｍの厚みで
製膜し、これを画素形状にパターニングを実施した。反
射膜３は、凹凸層２の表面の凹凸形状に沿って製膜さ
れ、光散乱性を有する反射板を形成できた。

【００３１】また、製膜時に各画素のコンタクトホール
では、各画素ごとの反射膜３と基板１上の駆動素子１１
の端子１１aが接続された。フォトリソグラフィーおよ
びエッチングの工程で、画素形状にパターニングするこ
とにより、駆動素子１１で各画素ごとの反射膜３の電圧
制御が可能となり、各反射膜３が画素電極を兼ねる構成
を形成し、反射板を完成させた。

【００３２】次に、上記反射板と、対向基板６の表面
に、液晶材料を配向させるための配向膜を形成したの
ち、所定の間隙を保って貼り合わせた。対向基板６に
は、あらかじめ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色に
相当するカラーフィルタ９が画素ごとに形成されてマト
リクス状に配置し、さらにＩＴＯ（インジウム錫酸化
物）からなる透明電極１０を形成して、液晶表示素子の
共通電極として用いる。配向膜は、基板１の反射板側、
および対向基板６の共通電極側１０に形成し、これら配
向膜を形成した面を向かい合わせて約４μｍの間隙で貼
り合わせ、間隙に液晶材料を封入して液晶層５を形成し
た。さらに、前記対向基板の外側に位相差板７、偏光板
８を貼って反射型液晶表示素子を完成させた。

【００３３】さらに、この反射型液晶表示素子を表示部
として、コンピュータ用表示装置、情報携帯端末装置、
携帯電話などの反射型液晶表示装置を構成することがで
きる。

【００３４】本実施の形態で、硬化前に２段階で加熱を
実施した理由について次に説明する。凹凸層を構成する
材料は、凹凸層を構成する硬化前の膜の、ガラス転移温
度以上の加熱により、軟化し角が丸くなるとともに、基
板上を流動するメルトフロー現象を発現する。ここで、
加熱を続けると、材料が架橋し固まる硬化反応が起こ
る。一旦硬化すると、メルトフローしなくなる。本発明
の反射板では、メルトフローの程度によって凹凸層表面
の凹凸曲面の形状が変化するため、これが反射特性に影
響する。そこで、加熱条件によって凹凸層表面の凹凸曲
面の形状を制御することが重要となる。

【００３５】メルトフローは硬化前の膜のガラス転移温
度（およそ１１０℃）以上の温度で発現し、温度が高い
ほど健著になり、低温ほどメルトフローしにくい性質を
有する。また硬化は、メルトフローよりも高いおよそ１
２０℃以上で温度で起こりはじめ、およそ１５０℃以上
では硬化反応が進みやすい。また、メルトフローは２分
から３分程度の比較的短時間でおこる一方、架橋反応に
よりおこる硬化は３〜５分と、メルトフローに比べて長
い時間を必要とする。

【００３６】現像後の膜の加熱は、硬化温度のみで加熱
すると、当初著しくメルトフローが起こったのち硬化す
る。そこで、ガラス転移温度よりやや高い温度１２０℃
〜１６０℃で加熱のあと、硬化温度で加熱した場合、は
じめの加熱でメルトフローと硬化がともに徐々に起こる
ため、温度の管理によって、凹凸形状を制御することが
できる。すなわち上記温度範囲で、硬化前の加熱温度が
低い場合には、メルトフローにしくく、高い場合にはメ
ルトフローしやすくなる。

【００３７】しかし、この方法では硬化の前の加熱で硬
化反応が進まず、硬化時にもう１度メルトフローする場
合がある。そこで、硬化前のベークを２段階とた。１回
目の加熱では第１の温度およそ１１０〜１４０℃でメル
トフローさせる。２回目の加熱は、１回目に比べてやや
高い第２の温度１３０℃〜１６０℃で実施し、形状の変
化を抑えながら硬化させる。この方法では、硬化温度で
の加熱前後での形状変化がなく、第２の温度での加熱後
の形状が保つことができ、凹凸層の凹凸曲面の形状制御
をより容易に行うことができた。

【００３８】また、メルトフローの際には、工程条件に
より底部周辺の膜が底部に数μｍ流動する場合があり、
底部の面積を小さくできる。このため、凹凸層の底部の
径を、凹凸層をパターニングするための底部のフォトマ
スクの寸法より小さくでき、凹凸層の底部の面積をさら
に小さくできる。これにより、正反射成分が少ない良好
な反射特性を持つ反射板を実現できる。流動の程度も前
述と同様、硬化前の加熱工程により制御することができ
る。

【００３９】この場合、凹凸層の底部の径が凹凸層の現
像後の径に比べて小さくなるとともに、駆動素子の端子
と画素電極を接続するためのコンタクトホールの径も同
様に小さくなる。コンタクトホール径が小さくなると、
コンタクトホール部分での電気抵抗が高くなったり、接
続しない不具合が発生する可能性がある。このため、凹
凸層をパターニングするためのフォトマスクのコンタク
トホールの径は、画素部分での底部の径に比べて大きく
した。具体的には、凹凸層パターニング用のフォトマス
クの寸法で、底部の径を８μｍ、コンタクトホールの径
を１６μｍとした。凹凸層のメルトフローにより、樹脂
材料が基板上を流れて底部の径が４μｍとなる一方、コ
ンタクトホール径は１２μｍとすることができ、コンタ
クトホールでの接続を確実に実施した。

【００４０】凹凸層を構成する材料を基板上で流動性さ
せることにより、画素に設けられた底部の一部、または
全てを塞いだ構成とすることもできる。底部の一部を塞
いだ例を図１４に、全てを塞いだ例を図１５に示す。底
部が塞がれた部分４' では、底部であった箇所を凹とす
る凹凸曲面が形成されて、底部の平坦な部分がなくな
り、凹凸曲面により必要な散乱性を得ることができる。
このように、底部を凹凸層で塞ぐ構成により、底部での
鏡面反射を小さくすることができ、良好な反射特性が得
ることができる。

【００４１】また本実施の形態では、凹凸層を形成する
材料の形状制御を加熱で実施したが、これ以外の方法で
凹凸層の凹凸曲面の形状制御を行ってもよい。例えば、
光照射により分子どうしの架橋が切断できる樹脂材料を
用いると、光照射により、メルトフローと同じような膜
の軟化および基板上の流動を行うことができ、形状制御
を実施できる。

【００４２】なお、本実施の形態では、凹凸層として感
光性材料を用いたが、感光性を有しない樹脂材料を用
い、レジストを用いたフォトリソグラフィー、および樹
脂材料をエッチングする工程によって凹凸層を形成して
も、同様の効果を得ることができる。

【００４３】また、上記のように加熱により軟化してメ
ルトフローする材料を用いることにより、樹脂以外の材
料でも本発明と同様の構成を得ることができる。

【００４４】また、本実施の形態では、基板として透明
なガラスを用いたが、例えばプラスチックなどの樹脂で
構成された基板を用いてもよい。また、基板は、シリコ
ンなど不透明な基板を用いることもできる。

【００４５】また、本実施の形態では、１枚偏光板方式
の反射型カラー液晶表示素子の例を示したが、液晶中に
二色性色素を含有させたゲストホスト型の液晶表示素子
など他の方式の液晶表示素子にも本発明の反射板を用い
ることができる。また、カラー表示を行わない単色表示
の液晶表示素子にも同様に用いることができる。

【００４６】また、各画素に対応した基板上の駆動素子
で画素ごとに印加する電圧を制御する、いわゆるアクテ
ィブマトリクス方式の液晶表示素子を例に挙げたが、各
画素に駆動素子を持たないパッシブ方式、たとえばスー
パーツイストネマチック（ＳＴＮ）方式で、本発明の反
射型表示素子を構成してもよい。

【００４７】また、本実施の形態では、光の透過・吸収
を制御する手段として、液晶を用いた反射型液晶表示素
子について示したが、本発明の反射型表示素子は、液晶
を用いた表示素子に限定されるものではない。例えば、
溶液中に分散させた微粒子を電界で移動させることによ
り、光の吸収、透過を制御する電気泳動ディスプレイに
適用することも可能であり、液晶表示素子以外の反射型
表示素子に、本発明の反射板を用いることができる。

【００４８】（実施の形態２）本発明の実施の形態２の
反射板およびこの反射板を用いた反射型液晶表示素子に
ついて図面に基づいて説明する。図５は、実施の形態２
の反射板の断面図、図６は同平面図であり、図６のＤ−
Ｄ線が図５の断面に相当する。また、この反射板を用い
た反射型液晶表示素子の画素部分の断面図を図７に示
す。

【００４９】実施の形態２は、一部のみ実施の形態１と
相違するため、この部分についてのみ説明し、共通する
部分については説明を省略する。

【００５０】実施の形態２の反射板は、凹凸層は実施の
形態１と共通であり、反射膜３が異なる。また、基板１
は光を透過または吸収するガラスなどを用いる。反射膜
３は、凹凸層２の表面に形成されており、底部４には形
成していない。

【００５１】実施の形態２の反射板の反射特性を図８に
示す。図８（ａ）のように、凹凸層２の底部４への入射
光ソは、そのほとんどが基板を透過または吸収し、基板
表面で正反射する光ソ' はごくわずかとなる。ここで、
基板を透過した光ソ' は表示には寄与しない。入射光が
ー３０度の場合の反射率角度特性は、図８（ｂ）に示す
ように、入射光が正反射する方向（座標角３０度）付近
で鋭いピークを持たないため、正反射の少ない良好な散
乱性を得ることができた。反射膜を取り除いた部分の４
の面積は、実施の形態１の基板上の反射膜の面積と同
様、反射板全体の面積に比べて２０％以下とすること
で、入射光のうちこの部分に入射する光の割合は小さく
なり、実施の形態１とほぼ同様の散乱光、反射率を得る
ことができる。このように、本実施の形態の反射板でも
良好な反射特性を得ることができる。

【００５２】実施の形態２の反射板を１枚偏光板型反射
カラー液晶表示素子に用いた例を図７に示す。反射膜３
は、凹凸層２に設けられた底部４では取り除かれてい
る。また、反射膜３は、画素電極を兼ねており、各画素
ごとに設けられた駆動素子１１の端子１１ａとコンタク
トホールで接続している。

【００５３】実施の形態２の反射板、および反射型表示
素子の製造方法について、実施の形態１と異なる箇所の
みを説明する。反射膜の製膜までは、実施の形態１と同
様である。

【００５４】反射膜はフォトリソグラフィーおよびエッ
チングの工程により画素形状にパターニングを行うが、
反射膜を画素形状にパターニングするためのフォトマス
クにおいて、底部を形成する箇所の反射膜を取り除くよ
うにフォトマスクを設計することにより、反射膜パター
ニングと同時に底部４の反射膜を取り除くことができ
る。この方法によれば、反射膜に底部を形成するために
余分な工程を必要としない。反射膜のパーニング後の工
程も実施の形態１と同様である。このようにして、容易
に実施の形態２の構成を実現することができる。

【００５５】なお、反射膜を取り除く範囲は、底部４と
等しいことが、反射率を高める上で望ましい。しかし上
記の方法の場合、フォトリソグラフィーの工程におい
て、フォトマスクと基板のアラインメント（位置合わ
せ）のずれが数μｍ程度、生じる場合がある。反射膜を
取り除く部分の径は、アラインメントのずれが生じても
底部に反射膜が残らないように、底部よりも径を数μｍ
大きいフォトマスクを使用している。

【００５６】なお、底部４の部分の反射膜を取り除く製
造として次の方法を用いることもできる。

【００５７】凹凸層を構成する材料として、硬化後にフ
ォトリソグラフィーの感光波長の光を吸収するものを使
用する。また、基板は、フォトリソグラフィーの感光性
材料の感光波長を透過するガラスなどを用いる。実施の
形態１と同様の方法により、反射膜の製膜までの工程を
実施したのち、次に、反射膜を画素形状にパターニング
するためのポジ型レジストを塗布し、フォトマスクで実
施の形態１と同様に露光したのち、基板１の裏側からレ
ジストの光を露光する背面露光を実施する。これによ
り、底部では、レジストが露光され、それ以外では、凹
凸層が光が吸収されて露光されない。次に、基板をレジ
ストの現像液で現像し、洗浄することにより、画素部分
では、底部のみレジストを除くことができる。次に反射
膜のエッチングを行うことで、底部と同じ径で反射膜を
取り除く。このようにすることで、底部における反射膜
のフォトリソグラフィ工程におけるマスクの位置合わせ
のずれの課題を解消でき、反射膜を取り除く部分の径を
底部と等しくし、上記の例に比べて反射率を高めること
ができる。

【００５８】

【発明の効果】上記構成により、光の映りこみを抑え、
良好な散乱性を有する反射板を作成することができた。
また、この反射板を作成する際に、下地となる凹凸形状
を１回の塗布、露光工程で実施することができ、従来に
比べて、工程を簡略化することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態１の反射板の断面図

【図２】実施の形態１の反射板の平面図

【図３】実施の形態１の反射板を備えた反射型表示素子
の画素部分の断面図

【図４】実施の形態１の反射板の反射特性の説明図

【図５】実施の形態２の反射板の断面図

【図６】実施の形態２の反射板の平面図

【図７】実施の形態２の反射板を備えた反射型表示素子
の画素部分の断面図

【図８】実施の形態２の反射板の反射特性の説明図

【図９】従来の鏡面性反射板の反射特性の説明図

【図１０】従来の凹凸散乱反射板の反射特性の説明図

【図１１】従来の凹凸散乱反射板の反射特性の説明図

【図１２】従来の完全均等拡散反射板の反射特性の説明
図

【図１３】実施の形態１に反射板の製造方法を示す説明
図

【図１４】実施の形態１の反射板の説明図

【図１５】実施の形態１の反射板の説明図

【符号の説明】

１基板２凹凸層３反射膜４底部５液晶層６対向基板７位相差板８偏光板９カラーフィルタ１０共通電極１１駆動素子１１ａ駆動素子のドレイン端子

フロントページの続き (72)発明者脇田尚英大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA15 BA20 DA02 DA04 DA11 DB08 DC02 DC08 DD01 DE00 2H091 FA14Y FA16Y FA34Y FC22 FC23 FD01 FD06 GA13 LA12 LA16

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板と、前記基板上に設けられ凹凸曲面お
よび前記基板上に離隔した多数の平坦な底部を有する凹
凸層と、前記凹凸層上に設けられた反射膜とを有し、前
記底部では前記基板に接して前記反射膜が設けられてい
ることを特徴とする反射板。
【請求項２】基板と、前記基板上に設けられ凹凸曲面お
よび前記基板上に離隔した多数の平坦な底部を有する凹
凸層と、前記凹凸層上に設けられた反射膜とを有し、前
記凹凸層は、前記基板上に離隔した多数の平坦な底部を
形成したのち該底部において前記凹凸層を前記基板上で
流動させて前記底部の平坦な領域が縮小された底部を有
し、前記底部では前記基板に接して前記反射膜が設けら
れていることことを特徴とする反射板。
【請求項３】基板と、前記基板上に設けられ凹凸曲面を
有する凹凸層と、前記凹凸層上に設けられた反射膜とを
有し、前記凹凸層は、前記基板上に離隔した多数の平坦
な底部を形成したのち前記底部の少なくとも一部におい
て前記凹凸層を前記基板上で流動させ前記底部の平坦な
領域を塞ぐことにより形成された該底部の箇所を凹とす
る凹凸曲面を有することを特徴とする反射板。
【請求項４】基板と、前記基板上に設けられ凹凸曲面お
よび多数の離隔した平坦な底部を有する凹凸層と、前記
前記底部を除く凹凸層上に設けられた反射膜と、を有す
ることを特徴とする反射板。
【請求項５】基板と、前記基板上に設けられ凹凸曲面お
よび多数の離隔した平坦な底部を有する凹凸層と、前記
前記底部を除く凹凸層上に設けられた反射膜とを有し、
前記凹凸層は、多数の離隔した平坦な底部を形成したの
ち前記底部の少なくとも一部において前記凹凸層を前記
基板上で流動させて前記底部の平坦な領域が縮小された
底部を有することを特徴とする反射板。
【請求項６】前記凹凸層が、所定のフォトマスクを用い
たパターニングにより形成された離隔した多数の平坦な
底部を有することを特徴とする請求項１〜５のずれかに
記載の反射板。
【請求項７】前記凹凸層が、感光性材料からなることを
特徴とする請求項６記載の反射板。
【請求項８】前記凹凸層が、加熱または光照射により形
成された凹凸曲面を有することを特徴とする請求項１〜
５いずれかに記載の反射板。
【請求項９】前記凹凸層が、加熱または光照射により基
板上で流動させて形成された底部を有することを特徴と
する請求項２または５に記載の反射板。
【請求項１０】反射板の面積に対する前記底部の面積の
割合が０．２よりも小さいことを特徴とする請求項１〜
５いずれかに記載の反射板。
【請求項１１】前記凹凸層が、フォトリソグラフィーの
感光波長の光を遮光する性質を有することを特徴とする
請求項４または５に記載の反射板。
【請求項１２】請求項１記載の反射板と、透明電極を備
え前記基板と所定の間隙を介して対向して配置された対
向基板と、前記間隙に充填された液晶層とを有すること
を特徴とする反射型液晶表示素子。
【請求項１３】請求項３記載の反射板と、透明電極を備
え前記基板と所定の間隙を介して対向して配置された対
向基板と、前記間隙に充填された液晶層とを有すること
を特徴とする反射型液晶表示素子。
【請求項１４】請求項４記載の反射板と、透明電極を備
え前記基板と所定の間隙を介して対向して配置された対
向基板と、前記間隙に充填された液晶層とを有すること
を特徴とする反射型液晶表示素子。
【請求項１５】請求項１２〜１４いずれかに記載の反射
型液晶表示素子を含む反射型液晶表示装置。
【請求項１６】基板上に、凹凸曲面および多数の離隔し
た平坦な底部を有する凹凸層を形成する工程と、前記膜
上に光を反射する反射膜を形成する工程と、を含むこと
を特徴とする反射板の製造方法。
【請求項１７】凹凸層を形成する工程が、所定のフォト
マスクを用いたパターニングによって、前記基板上に多
数の離隔した平坦な底部を有する膜を形成する工程と、
加熱または光照射により前記膜の表面に凹凸曲面を形成
する工程と、を含むことを特徴とする請求項１６に記載
の反射板の製造方法。
【請求項１８】凹凸層を形成する工程が、基板上の多数
の離隔した平坦な底部を有する膜を形成する工程と、前
記膜を前記基板上で流動させて前記底部の平坦な領域を
縮小する工程と、を含むことを特徴とする請求項１５に
記載の反射板の製造方法。
【請求項１９】凹凸層を形成する工程が、基板上の多数
の離隔した平坦な底部を有する膜を形成する工程と、前
記底部の少なくとも一部において前記膜を前記基板上で
流動させ前記底部の平坦な領域を塞ぐことにより該底部
の箇所を凹とする凹凸曲面を形成する工程と、を含むこ
とを特徴とする請求項１６に記載の反射板の製造方法。
【請求項２０】凹凸層を形成する工程が、第１の温度に
よる加熱ののち、前記第１の温度よりも高い第２の温度
による加熱により表面に凹凸曲面を形成する工程と、前
記第２の温度よりも高い硬化温度で前記膜を硬化して凹
凸層を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項
１６〜２０のいずれかに記載の反射板の製造方法。
【請求項２１】前記反射膜を形成する工程が、前記凹凸
層上に反射膜を形成する工程する工程と、前記反射膜の
うち前記底部上の反射膜を除去する工程と、を含むこと
を特徴とする請求項１６に記載の反射板の製造方法。
【請求項２２】前記反射膜を形成する工程が、前記凹凸
層をフォトマスクとした裏面露光によるフォトリゾグラ
フィーおよびエッチングにより前記底部上の反射膜を除
去する工程を含むことを特徴とする請求項２１に記載の
反射板の製造方法。
【請求項２３】基板上に、凹凸曲面および多数の離隔し
た平坦な底部を有する凹凸層を形成する工程と、前記膜
上に光を反射する反射膜を形成する工程と、透明電極を
有する対向基板を前記反射板と所定の間隙を介して貼り
合わせる工程と、前記間隙に液晶を充填する工程と、を
含むことを特徴とする反射型表示素子の製造方法。