JP2001259324A - セラミックスフィルターの製造方法 - Google Patents
セラミックスフィルターの製造方法Info
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- JP2001259324A JP2001259324A JP2000082864A JP2000082864A JP2001259324A JP 2001259324 A JP2001259324 A JP 2001259324A JP 2000082864 A JP2000082864 A JP 2000082864A JP 2000082864 A JP2000082864 A JP 2000082864A JP 2001259324 A JP2001259324 A JP 2001259324A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低温の焼成により、実用可能な強度及び耐食
性を有するセラミックス多孔質膜を安定して得ることが
できるセラミックスフィルターの製造方法を提供する。 【解決手段】 骨材粒子とチタニアからなる結合材とを
含む成膜用スラリーを作製し、得られた成膜用スラリー
を多孔質基材表面に成膜して成膜体とし、次いで、得ら
れた成膜体を１５０〜１０００℃で熱処理して多孔質基
材表面に多孔質膜を形成するセラミックスフィルターの
製造方法である。成膜用スラリーが、乾燥物の結晶質部
分のうち、アナターゼ型の割合が５０％以上である。
性を有するセラミックス多孔質膜を安定して得ることが
できるセラミックスフィルターの製造方法を提供する。 【解決手段】 骨材粒子とチタニアからなる結合材とを
含む成膜用スラリーを作製し、得られた成膜用スラリー
を多孔質基材表面に成膜して成膜体とし、次いで、得ら
れた成膜体を１５０〜１０００℃で熱処理して多孔質基
材表面に多孔質膜を形成するセラミックスフィルターの
製造方法である。成膜用スラリーが、乾燥物の結晶質部
分のうち、アナターゼ型の割合が５０％以上である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、セラミックスフ
ィルターの製造方法に係り、さらに詳しくは、特定の結
晶相を含むチタニアゾルを用いたセラミックスフィルタ
ーの製造方法に関する。
ィルターの製造方法に係り、さらに詳しくは、特定の結
晶相を含むチタニアゾルを用いたセラミックスフィルタ
ーの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】 セラミックス多孔質膜は、例えば固液
分離用のフィルター等に用いられており、同様の用途に
用いられる高分子膜等と比較して、物理的強度、耐久性
に優れるため信頼性が高いこと、耐食性が高いため酸ア
ルカリ等による洗浄を行っても劣化が少ないこと、さら
には、濾過能力を決定する細孔径の精密な制御が可能で
ある点において有用である。
分離用のフィルター等に用いられており、同様の用途に
用いられる高分子膜等と比較して、物理的強度、耐久性
に優れるため信頼性が高いこと、耐食性が高いため酸ア
ルカリ等による洗浄を行っても劣化が少ないこと、さら
には、濾過能力を決定する細孔径の精密な制御が可能で
ある点において有用である。
【０００３】 従来、比較的細孔径の大きい多孔質から
なる基材の表面等に、更に細孔径の小さい多孔質膜を形
成して濾過能力を確保している。このようなセラミック
ス多孔質膜は、通常、基材表面にセラミックス粒子を含
むスラリーを成膜後、１３００℃以上の高温で焼成し、
セラミックス粒子同士を固相焼結することにより得るこ
とができる。また、特開昭６３−２７４４０７号公報に
は、骨材となるセラミックス粒子にアルミナゾル、シリ
カゾル等の無機ゾルを添加したスラリーを基材表面に成
膜後、１２００℃で焼成する多孔質膜の製造方法が開示
されている。
なる基材の表面等に、更に細孔径の小さい多孔質膜を形
成して濾過能力を確保している。このようなセラミック
ス多孔質膜は、通常、基材表面にセラミックス粒子を含
むスラリーを成膜後、１３００℃以上の高温で焼成し、
セラミックス粒子同士を固相焼結することにより得るこ
とができる。また、特開昭６３−２７４４０７号公報に
は、骨材となるセラミックス粒子にアルミナゾル、シリ
カゾル等の無機ゾルを添加したスラリーを基材表面に成
膜後、１２００℃で焼成する多孔質膜の製造方法が開示
されている。
【０００４】 しかしながら、これら上記の方法によれ
ば、強度、耐食性とも優れた多孔質膜が得られるもの
の、少なくとも１２００℃以上という高温での焼成を必
要とする。高温焼成では、大量のエネルギーを必要と
し、また高価で特殊な設備が必要であることに加え、基
材にも１２００℃以上の耐熱性が要求されるため、基材
材料も高価になり、その結果、製品コストの上昇を招く
という問題がある。
ば、強度、耐食性とも優れた多孔質膜が得られるもの
の、少なくとも１２００℃以上という高温での焼成を必
要とする。高温焼成では、大量のエネルギーを必要と
し、また高価で特殊な設備が必要であることに加え、基
材にも１２００℃以上の耐熱性が要求されるため、基材
材料も高価になり、その結果、製品コストの上昇を招く
という問題がある。
【０００５】 一方、このような高温焼成の問題を解決
するため、本出願人は、骨材粒子とチタニアからなる結
合材からなり、３００〜７００℃の低温で熱処理して製
造したセラミックス多孔質膜を提案した（特開平１０−
２３６８８７号公報を参照。）。このセラミックス多孔
質膜によれば、従来のものに比して低温の焼成により、
実用可能な強度及び耐食性を有するセラミックス多孔質
膜が得られて好ましいものであるが、本発明者がより仔
細に検討したところ、チタニアからなる結合材の中で、
乾燥状態においてアナターゼ型以外の結晶相の割合が５
０％以上含まれるゾルを用いた場合には、得られるセラ
ミックス多孔質膜の初期強度が弱いことが判明した。
するため、本出願人は、骨材粒子とチタニアからなる結
合材からなり、３００〜７００℃の低温で熱処理して製
造したセラミックス多孔質膜を提案した（特開平１０−
２３６８８７号公報を参照。）。このセラミックス多孔
質膜によれば、従来のものに比して低温の焼成により、
実用可能な強度及び耐食性を有するセラミックス多孔質
膜が得られて好ましいものであるが、本発明者がより仔
細に検討したところ、チタニアからなる結合材の中で、
乾燥状態においてアナターゼ型以外の結晶相の割合が５
０％以上含まれるゾルを用いた場合には、得られるセラ
ミックス多孔質膜の初期強度が弱いことが判明した。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】 従って、本発明は上
記した従来の課題に鑑みてなされたもので、その目的と
するところは、低温の焼成により、実用可能な強度及び
耐食性を有するセラミックス多孔質膜を安定して得るこ
とができるセラミックスフィルターの製造方法を提供す
ることにある。
記した従来の課題に鑑みてなされたもので、その目的と
するところは、低温の焼成により、実用可能な強度及び
耐食性を有するセラミックス多孔質膜を安定して得るこ
とができるセラミックスフィルターの製造方法を提供す
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】 すなわち、本発明によ
れば、骨材粒子とチタニアからなる結合材とを含む成膜
用スラリーを作製し、得られた成膜用スラリーを多孔質
基材表面に成膜して成膜体とし、次いで、得られた成膜
体を１５０〜１０００℃で熱処理して多孔質基材表面に
多孔質膜を形成するセラミックスフィルターの製造方法
であって、前記成膜用スラリーが、乾燥物の結晶質部分
のうち、アナターゼ型の割合が５０％以上であるチタニ
アゾルを含むことを特徴とするセラミックスフィルター
の製造方法が提供される。
れば、骨材粒子とチタニアからなる結合材とを含む成膜
用スラリーを作製し、得られた成膜用スラリーを多孔質
基材表面に成膜して成膜体とし、次いで、得られた成膜
体を１５０〜１０００℃で熱処理して多孔質基材表面に
多孔質膜を形成するセラミックスフィルターの製造方法
であって、前記成膜用スラリーが、乾燥物の結晶質部分
のうち、アナターゼ型の割合が５０％以上であるチタニ
アゾルを含むことを特徴とするセラミックスフィルター
の製造方法が提供される。
【０００８】 本発明の製造方法においては、チタニア
ゾルが、四塩化チタン（ＴｉＣｌ4）をチタニア（Ｔｉ
Ｏ2）換算で７重量％以下に水で希釈した溶液を加水分
解し、ゾル化させて得たものであることが望ましい。
ゾルが、四塩化チタン（ＴｉＣｌ4）をチタニア（Ｔｉ
Ｏ2）換算で７重量％以下に水で希釈した溶液を加水分
解し、ゾル化させて得たものであることが望ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】 本発明は、骨材粒子とチタニア
からなる結合材を含むセラミックス多孔質膜を多孔質基
材上に形成したセラミックスフィルターの製造方法であ
り、その特徴は、乾燥物の結晶質部分のうち、アナター
ゼ型の割合が５０％以上であるチタニアゾルを、成膜用
スラリー中に含むことである。このように、乾燥物の結
晶質部分のうち、アナターゼ型の割合が５０％以上であ
るチタニアゾルを用いることにより、これを熱処理して
得られる多孔質膜は強度、耐食性ともに優れ、かつ安定
したものとなる。
からなる結合材を含むセラミックス多孔質膜を多孔質基
材上に形成したセラミックスフィルターの製造方法であ
り、その特徴は、乾燥物の結晶質部分のうち、アナター
ゼ型の割合が５０％以上であるチタニアゾルを、成膜用
スラリー中に含むことである。このように、乾燥物の結
晶質部分のうち、アナターゼ型の割合が５０％以上であ
るチタニアゾルを用いることにより、これを熱処理して
得られる多孔質膜は強度、耐食性ともに優れ、かつ安定
したものとなる。
【００１０】 本発明において、成膜用スラリーに含ま
れるチタニアゾルは、骨材粒子と混合した後、加水分解
処理をしてゾル化させてもよい。例えば、骨材粒子とチ
タンイソプロポキシドと水を混合して加水分解を起こ
し、骨材粒子とチタニアゾルを含む成膜用スラリーとし
てもよい。チタニアゾル作製の出発原料としては特に限
定されず、加水分解後に乾燥させた乾燥物（粉末）の結
晶質部分のうち、アナターゼ型の割合が５０％以上、よ
り好ましくは８０％以上であるチタニアを主成分とする
ものであればよい。例えば、四塩化チタンやチタンイソ
プロポキシド等を使用することができるが、このうち、
強度がさらに高くなることから、四塩化チタンがより好
ましい。
れるチタニアゾルは、骨材粒子と混合した後、加水分解
処理をしてゾル化させてもよい。例えば、骨材粒子とチ
タンイソプロポキシドと水を混合して加水分解を起こ
し、骨材粒子とチタニアゾルを含む成膜用スラリーとし
てもよい。チタニアゾル作製の出発原料としては特に限
定されず、加水分解後に乾燥させた乾燥物（粉末）の結
晶質部分のうち、アナターゼ型の割合が５０％以上、よ
り好ましくは８０％以上であるチタニアを主成分とする
ものであればよい。例えば、四塩化チタンやチタンイソ
プロポキシド等を使用することができるが、このうち、
強度がさらに高くなることから、四塩化チタンがより好
ましい。
【００１１】 ここで、チタニアゾルの乾燥条件として
は特に限定されないが、８０〜２００℃で、少なくとも
４時間以上であることが好ましい。なお、乾燥物中のア
ナターゼ型の割合とは、乾燥物のＸ線回折スペクトルに
おいて、アナターゼ型結晶、ルチル型結晶、及びブロッ
カイト型結晶の最強ピーク位置である２θ＝２５．３、
２７．５、２５．４であるピーク強度をそれぞれIa、Ir
およびIbとしたとき、 アナターゼ型割合＝Ia／(Ia+Ir+Ib)×１００ で表わされるものを指す。
は特に限定されないが、８０〜２００℃で、少なくとも
４時間以上であることが好ましい。なお、乾燥物中のア
ナターゼ型の割合とは、乾燥物のＸ線回折スペクトルに
おいて、アナターゼ型結晶、ルチル型結晶、及びブロッ
カイト型結晶の最強ピーク位置である２θ＝２５．３、
２７．５、２５．４であるピーク強度をそれぞれIa、Ir
およびIbとしたとき、 アナターゼ型割合＝Ia／(Ia+Ir+Ib)×１００ で表わされるものを指す。
【００１２】 加水分解の条件は特に限定されず、温度
が室温から１００℃で、それぞれの温度で数日から数時
間保持すればよい。高温で処理するほど速く加水分解が
終了する。
が室温から１００℃で、それぞれの温度で数日から数時
間保持すればよい。高温で処理するほど速く加水分解が
終了する。
【００１３】 本発明において用いる骨材粒子の材質と
してはセラミックスであれば特に限定されず、例えばア
ルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、チタニア（ＴｉＯ2）、ムライト
（Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2）、ジルコニア（ＺｒＯ2）、シリ
カ（ＳｉＯ2）、スピネル（ＭｇＯ・Ａｌ2Ｏ3）、ある
いはそれらの混合物を用いることができる。本発明で
は、骨材粒子の粒径（以下、平均粒径を意味する。）は
比較的小さく、０．１〜１０μｍ程度のものを用い、細
孔径（以下、平均細孔径を意味する。）が０．０５〜１
μｍ程度の多孔質膜を形成する。
してはセラミックスであれば特に限定されず、例えばア
ルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、チタニア（ＴｉＯ2）、ムライト
（Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2）、ジルコニア（ＺｒＯ2）、シリ
カ（ＳｉＯ2）、スピネル（ＭｇＯ・Ａｌ2Ｏ3）、ある
いはそれらの混合物を用いることができる。本発明で
は、骨材粒子の粒径（以下、平均粒径を意味する。）は
比較的小さく、０．１〜１０μｍ程度のものを用い、細
孔径（以下、平均細孔径を意味する。）が０．０５〜１
μｍ程度の多孔質膜を形成する。
【００１４】 スラリー中のチタニア含有量としては、
多すぎると多孔質膜の透水量が低くなり、少なすぎると
多孔質膜の強度が低くなる。成膜後の多孔質膜内のチタ
ニア量の制御は、スラリーにおけるＴｉＯ2／骨材の重
量比にて行うことができる。すなわち、この比が大きい
と多孔質膜中のチタニア量は増え、この比が小さいと多
孔質膜中のチタニア量は少なくなる。骨材粒子の粒径、
骨材粒子の濃度や必要に応じて添加する有機ポリマー添
加量あるいは成膜法により多孔質膜中のチタニア量は異
なるものの、少なくともＴｉＯ2／骨材（重量比）が
０．０５以上でないと実用的な多孔質膜強度が得られな
い。なお、スラリー中には、必要に応じて有機バインダ
ーや分散剤を添加しても構わない。
多すぎると多孔質膜の透水量が低くなり、少なすぎると
多孔質膜の強度が低くなる。成膜後の多孔質膜内のチタ
ニア量の制御は、スラリーにおけるＴｉＯ2／骨材の重
量比にて行うことができる。すなわち、この比が大きい
と多孔質膜中のチタニア量は増え、この比が小さいと多
孔質膜中のチタニア量は少なくなる。骨材粒子の粒径、
骨材粒子の濃度や必要に応じて添加する有機ポリマー添
加量あるいは成膜法により多孔質膜中のチタニア量は異
なるものの、少なくともＴｉＯ2／骨材（重量比）が
０．０５以上でないと実用的な多孔質膜強度が得られな
い。なお、スラリー中には、必要に応じて有機バインダ
ーや分散剤を添加しても構わない。
【００１５】 本発明では、成膜用スラリーを多孔質基
材上へ成膜し、その後熱処理することにより、セラミッ
クスフィルターが得られる。なお、この多孔質基材の細
孔径は１〜５０μｍ程度の比較的大きいもので、フィル
ター機能は専ら多孔質基材表面に形成される多孔質膜が
果たす。成膜方法は限定されず、多孔質基材上へ、濾過
成膜法、ディッピング法等の従来公知の方法を用いるこ
とにより成膜することができる。成膜用の多孔質基材の
材質については、セラミックスである限りにおいて特に
限定されず、例えばアルミナ、チタニア、ムライト、ジ
ルコニアなどを適宜用いることができる。また、多孔質
基材の形状も特に限定されない。多孔質膜の熱処理（焼
成）温度は、１５０〜１０００℃の範囲であることが好
ましい。熱処理温度が１５０℃未満であると、骨材粒子
間に強固な結合が形成されない。また、熱処理温度が１
０００℃を超えても、骨材粒子間の結合がほとんど変化
しないので、これ以上の温度ではエネルギーコストがか
かるのみで経済的に好ましくない。
材上へ成膜し、その後熱処理することにより、セラミッ
クスフィルターが得られる。なお、この多孔質基材の細
孔径は１〜５０μｍ程度の比較的大きいもので、フィル
ター機能は専ら多孔質基材表面に形成される多孔質膜が
果たす。成膜方法は限定されず、多孔質基材上へ、濾過
成膜法、ディッピング法等の従来公知の方法を用いるこ
とにより成膜することができる。成膜用の多孔質基材の
材質については、セラミックスである限りにおいて特に
限定されず、例えばアルミナ、チタニア、ムライト、ジ
ルコニアなどを適宜用いることができる。また、多孔質
基材の形状も特に限定されない。多孔質膜の熱処理（焼
成）温度は、１５０〜１０００℃の範囲であることが好
ましい。熱処理温度が１５０℃未満であると、骨材粒子
間に強固な結合が形成されない。また、熱処理温度が１
０００℃を超えても、骨材粒子間の結合がほとんど変化
しないので、これ以上の温度ではエネルギーコストがか
かるのみで経済的に好ましくない。
【００１６】 次に、本発明では、好ましくは、チタニ
アゾルとして、四塩化チタン（ＴｉＣｌ4）をチタニア
（ＴｉＯ2）換算で７重量％以下に水で希釈した溶液を
加水分解し、ゾル化させて得たものを用いる。本発明者
が種々検討を重ねたところ、四塩化チタン（ＴｉＣ
ｌ4）を出発原料としてチタニア（ＴｉＯ2）ゾルを作製
する場合、加水分解前のＴｉＣｌ4溶液の濃度が高い場
合、希釈濃度によってゾル乾燥物の結晶相が異なること
を見出した。
アゾルとして、四塩化チタン（ＴｉＣｌ4）をチタニア
（ＴｉＯ2）換算で７重量％以下に水で希釈した溶液を
加水分解し、ゾル化させて得たものを用いる。本発明者
が種々検討を重ねたところ、四塩化チタン（ＴｉＣ
ｌ4）を出発原料としてチタニア（ＴｉＯ2）ゾルを作製
する場合、加水分解前のＴｉＣｌ4溶液の濃度が高い場
合、希釈濃度によってゾル乾燥物の結晶相が異なること
を見出した。
【００１７】 すなわち、四塩化チタンをＴｉＯ2換算
で７重量％以下に水で希釈したものを出発溶液として加
水分解し、ゾル化させることにより、乾燥物の結晶質部
分のうち、アナターゼ型の含有割合が５０％以上である
ＴｉＯ2ゾルを得る。ここで、出発溶液の濃度がＴｉＯ2
換算で７重量％より高いと、チタニアゾル中のアナター
ゼ型の含有割合が５０％より低くなり、そのようなゾル
を使用した多孔質膜では、多孔質膜の強度が所定以上に
低くなる。
で７重量％以下に水で希釈したものを出発溶液として加
水分解し、ゾル化させることにより、乾燥物の結晶質部
分のうち、アナターゼ型の含有割合が５０％以上である
ＴｉＯ2ゾルを得る。ここで、出発溶液の濃度がＴｉＯ2
換算で７重量％より高いと、チタニアゾル中のアナター
ゼ型の含有割合が５０％より低くなり、そのようなゾル
を使用した多孔質膜では、多孔質膜の強度が所定以上に
低くなる。
【００１８】 用いる四塩化チタンは試薬等に用いられ
ている高純度のものであっても、また工業用に用いられ
ている水溶液のものであっても構わない。四塩化チタン
の加水分解は希釈したものであれば室温でも起こるが、
加熱し加水分解速度を促進しても構わない。また、加熱
温度も１００℃以下ならいずれの温度でも構わない。加
水分解温度が１００℃を超えると、溶媒である水の沸点
を超えてしまう。
ている高純度のものであっても、また工業用に用いられ
ている水溶液のものであっても構わない。四塩化チタン
の加水分解は希釈したものであれば室温でも起こるが、
加熱し加水分解速度を促進しても構わない。また、加熱
温度も１００℃以下ならいずれの温度でも構わない。加
水分解温度が１００℃を超えると、溶媒である水の沸点
を超えてしまう。
【００１９】
【実施例】 以下、本発明を具体的な実施例に基づいて
説明するが、本発明がこれらの実施例に限られるもので
はない。
説明するが、本発明がこれらの実施例に限られるもので
はない。
【００２０】（実施例１〜６、比較例１〜３） (1)多孔質膜の作製方法 チタニアゾル：表１に示すように、チタンイソプロポ
キシドあるいは四塩化チタンをチタニア換算で３重量％
になるよう水で希釈したものを出発原料として、加水分
解によりチタニアゾル液を得た。加水分解条件は１００
℃で４時間とした。この場合、加水分解と同時に水分の
蒸発が起こり濃縮されるため、加水分解終了後、水で希
釈して、チタニア換算で５重量％ゾル液に調整した。
キシドあるいは四塩化チタンをチタニア換算で３重量％
になるよう水で希釈したものを出発原料として、加水分
解によりチタニアゾル液を得た。加水分解条件は１００
℃で４時間とした。この場合、加水分解と同時に水分の
蒸発が起こり濃縮されるため、加水分解終了後、水で希
釈して、チタニア換算で５重量％ゾル液に調整した。
【００２１】骨材：平均粒径３μｍのアルミナ粒子 多孔質基材： ・平均細孔径が１５μｍのアルミナ基材 ・φ３０ｍｍ × 厚さ３ｍｍの平板 成膜法：濾過成膜法 成膜用スラリー組成： アルミナ：５％チタニアゾル液：ウェランガム：水＝1
9.8：20：0.2：0 （重量比） 焼成条件：５００℃ で４時間 以上の条件により、セラミックス多孔質膜を多孔質基材
上に成膜したセラミックスフィルターを作製した。
9.8：20：0.2：0 （重量比） 焼成条件：５００℃ で４時間 以上の条件により、セラミックス多孔質膜を多孔質基材
上に成膜したセラミックスフィルターを作製した。
【００２２】(2)評価方法 チタニアゾルのアナターゼ型割合： ・チタニアゾルを８０℃の乾燥器にて１２時間乾燥さ
せ、乾燥物を乳鉢にて粉砕した後、２θ＝１０〜５０°
の範囲でＸ線回折による結晶相解析を行った。 多孔質膜の強度： ・セラミックス多孔質膜のビッカース硬度を測定し（Ｊ
ＩＳ Ｚ２２４４に準ずる）、多孔質膜の強度とした。
得られた結果を表１に示す。
せ、乾燥物を乳鉢にて粉砕した後、２θ＝１０〜５０°
の範囲でＸ線回折による結晶相解析を行った。 多孔質膜の強度： ・セラミックス多孔質膜のビッカース硬度を測定し（Ｊ
ＩＳ Ｚ２２４４に準ずる）、多孔質膜の強度とした。
得られた結果を表１に示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】 表１において、実施例６の＊は、骨材粒
子、チタンイソプロポキシドを最初に混合して加水分解
して、チタニアをゾル化した後、ウエランガムを添加し
た。また、比較例２、３において、＊＊は、強度がない
ため圧痕が大きく測定ができなかった。
子、チタンイソプロポキシドを最初に混合して加水分解
して、チタニアをゾル化した後、ウエランガムを添加し
た。また、比較例２、３において、＊＊は、強度がない
ため圧痕が大きく測定ができなかった。
【００２５】（考察）アナターゼ型結晶相割合が５０％
以上ある実施例１〜６では、ビッカース硬度が高く、チ
タニアが結合材として有効に働いていることが判る。そ
れに対し、アナターゼ結晶相割合が５０％未満である比
較例１〜３においては、ビッカース硬度が低く、チタニ
アが結合材として有効に働いていないことが判る。特に
比較例２，３においては、圧痕が大きく測定限界を超え
て硬度を算出することができなかった。また、実施例６
より、スラリー中でチタニアがゾルとして存在すればよ
いことが示された。
以上ある実施例１〜６では、ビッカース硬度が高く、チ
タニアが結合材として有効に働いていることが判る。そ
れに対し、アナターゼ結晶相割合が５０％未満である比
較例１〜３においては、ビッカース硬度が低く、チタニ
アが結合材として有効に働いていないことが判る。特に
比較例２，３においては、圧痕が大きく測定限界を超え
て硬度を算出することができなかった。また、実施例６
より、スラリー中でチタニアがゾルとして存在すればよ
いことが示された。
【００２６】（実施例７〜１０、比較例４）実施例１に
おいて、四塩化チタンをチタニアゾルの出発原料として
使用した場合について、加水分解前の四塩化チタン溶液
の濃度を変えてその影響を検討した。その他の条件は実
施例１と同じである。結果を表２に示す。
おいて、四塩化チタンをチタニアゾルの出発原料として
使用した場合について、加水分解前の四塩化チタン溶液
の濃度を変えてその影響を検討した。その他の条件は実
施例１と同じである。結果を表２に示す。
【００２７】
【表２】
【００２８】（考察）表２の結果からわかるように、四
塩化チタンをTiO2換算で７重量％以下に希釈し、加水分
解を起こさせた実施例７〜１０のゾルのアナターゼ型結
晶相割合は５０％以上であるのに対し、四塩化チタンを
TiO2換算で７重量％より高い濃度で希釈し、加水分解を
起こさせた比較例４のゾルではアナターゼ型結晶相割合
が５０％未満と低かった。
塩化チタンをTiO2換算で７重量％以下に希釈し、加水分
解を起こさせた実施例７〜１０のゾルのアナターゼ型結
晶相割合は５０％以上であるのに対し、四塩化チタンを
TiO2換算で７重量％より高い濃度で希釈し、加水分解を
起こさせた比較例４のゾルではアナターゼ型結晶相割合
が５０％未満と低かった。
【００２９】
【発明の効果】 以上説明したように、本発明の製造方
法によれば、低温で焼成することによっても、実用可能
な強度及び耐食性を有するセラミックスフィルターを安
定して得ることができるという顕著な効果を奏する。
法によれば、低温で焼成することによっても、実用可能
な強度及び耐食性を有するセラミックスフィルターを安
定して得ることができるという顕著な効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 忠 愛知県名古屋市瑞穂区須田町２番56号 日 本碍子株式会社内 Ｆターム(参考） 4D019 AA03 BA05 BB06 BC12 BC13 CB06 4G019 GA02
Claims (2)
- 【請求項１】 骨材粒子とチタニアからなる結合材とを
含む成膜用スラリーを作製し、 得られた成膜用スラリーを多孔質基材表面に成膜して成
膜体とし、 次いで、得られた成膜体を１５０〜１０００℃で熱処理
して多孔質基材表面に多孔質膜を形成するセラミックス
フィルターの製造方法であって、 前記成膜用スラリーが、乾燥物の結晶質部分のうち、ア
ナターゼ型の割合が５０％以上であるチタニアゾルを含
むことを特徴とするセラミックスフィルターの製造方
法。 - 【請求項２】 チタニアゾルが、四塩化チタン（ＴｉＣ
ｌ4）をチタニア（ＴｉＯ2）換算で７重量％以下に水で
希釈した溶液を加水分解し、ゾル化させて得たものであ
る請求項１記載のセラミックスフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000082864A JP2001259324A (ja) | 2000-03-23 | 2000-03-23 | セラミックスフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000082864A JP2001259324A (ja) | 2000-03-23 | 2000-03-23 | セラミックスフィルターの製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001259324A true JP2001259324A (ja) | 2001-09-25 |
Family
ID=18599608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000082864A Withdrawn JP2001259324A (ja) | 2000-03-23 | 2000-03-23 | セラミックスフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001259324A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7361272B2 (en) | 2005-11-07 | 2008-04-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Anisotropic porous material |
| JP2010506699A (ja) * | 2006-10-18 | 2010-03-04 | 日本碍子株式会社 | セラミック多孔質膜の製造方法及びセラミックフィルタの製造方法 |
| WO2015151699A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | 日本碍子株式会社 | モノリス型分離膜構造体 |
| JPWO2013147271A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2015-12-14 | 日本碍子株式会社 | ハニカム形状セラミック多孔質体、その製造方法、及びハニカム形状セラミック分離膜構造体 |
| CN106474822A (zh) * | 2016-10-28 | 2017-03-08 | 三达膜科技（厦门）有限公司 | 一种负载光催化剂涂层的复合陶瓷滤芯的制备方法 |
-
2000
- 2000-03-23 JP JP2000082864A patent/JP2001259324A/ja not_active Withdrawn
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| JPWO2015151699A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2017-04-13 | 日本碍子株式会社 | モノリス型分離膜構造体 |
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|---|---|---|---|
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