JP2001257305A - 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置及びその製造方法

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JP2001257305A
JP2001257305A JP2000066025A JP2000066025A JP2001257305A JP 2001257305 A JP2001257305 A JP 2001257305A JP 2000066025 A JP2000066025 A JP 2000066025A JP 2000066025 A JP2000066025 A JP 2000066025A JP 2001257305 A JP2001257305 A JP 2001257305A
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electrode
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semiconductor device
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Shinichi Hasegawa
愼一 長谷川
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体チップの電極とインナーリードとを直
接接合するようにして、製造工程の合理化を図った安価
で薄型の半導体装置及びその製造方法を得る。 【解決手段】 インナーリード5の先端部近傍の平面に
弾頭状に打ち出し形成した接合突起5aの頂部を半導体
チップ2の電極3に接圧した状態で両面に熱硬化性エポ
キシ接着剤が被着された絶縁性接着部材8により半導体
チップ2とインナーリード5とを接着して電極3と接合
突起5aの接圧状態を保持し、半導体チップ2、絶縁性
接着部材8及びインナーリード5を封止樹脂9で一体に
樹脂封止して樹脂封止型半導体装置1を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体チップの
電極とインナーリードの先端部平面に打ち出し形成した
接合突起とを接圧した状態で半導体チップとインナーリ
ードとを絶縁性接着部材で接着し一体に樹脂封止するこ
とにより、製造工程の合理化を図った樹脂封止型半導体
装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の樹脂封止型半導体装置において
は、通常、半導体チップの電極とインナーリードとの接
続はワイヤボンディング法によるものが一般的である
が、近年のLSI製造技術の急速な進歩に伴い高集積
化、小形化、高機能化への発展はめざましく、これに対
応して半導体チップの電極とインナーリードとの接続も
半導体チップの電極上に形成された半田バンプを介して
インナーリードと直接接続するフリップチップ接続方式
を適用したものが多数使用されるようになっている。フ
リップチップ接続方式を適用した従来の樹脂封止型半導
体装置としては、例えば特開平4−85837号公報が
あり、半田バンプ電極付き半導体チップの回路形成面上
に絶縁性接着フィルム(テープ)付きリードフレームを
載置し、加熱ブロックで圧着して、半導体チップの回路
形成面上に絶縁性接着フィルム(テープ)を被着すると
共に、リードのインナーリードと半導体チップの半田バ
ンプ電極とを溶融・接合する技術が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
樹脂封止型半導体装置におけるリードは、半田バンプ電
極を加熱して融解・固化させることにより半導体チップ
の外部端子(アルミ電極)と接続されるため、同公報の
第6図に示すように、半田バンプ電極の構成は、半導体
チップの外部端子(アルミ電極)上にCu/Tiの2層
バリアメタル層を形成し、その上にNi層を形成し、そ
の上に半田バンプ(Pb/Sn)を形成したものとなっ
ており、半田バンプの構成が複雑で製造コストが高いと
言う問題があった。
【0004】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、半導体チップの電極(アルミ電
極)とインナーリードとを直接接合するようにして、製
造工程の合理化を図った安価な樹脂封止型半導体装置及
びその製造方法を得ることを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明に係る樹脂封止
型半導体装置は、主表面に集積回路の電極が形成された
半導体チップと、この半導体チップの主表面に沿って近
接配置され先端部近傍の平面に形成された接合突起の頂
部が電極に接圧されたインナーリードを有するリード
と、電極の近傍の主表面の所定の領域とこの領域に対向
するインナーリード相互間を接着し、電極と接合突起の
頂部の接圧状態を保持する絶縁性接着部材と、半導体チ
ップ、絶縁性接着部材及びインナーリードを一体に封止
する封止樹脂とを備えたものである。また、絶縁性接着
部材を、電極の近傍の半導体チップの端部側又は中心側
の少なくとも一方の主表面の所定の領域に配置したもの
である。
【0006】この発明に係る樹脂封止型半導体装置の製
造方法は、半導体チップ及びこの半導体チップの主表面
に沿って近接配置され集積回路の電極に電気的に接続さ
れたインナーリードを一体に樹脂封止する樹脂封止型半
導体装置の製造方法において、インナーリードの先端部
近傍の平面に打ち出して接合突起を形成する工程と、電
極の近傍の主表面の所定の領域とこの領域に対向するイ
ンナーリード間に絶縁性接着部材を介在させ、電極と接
合突起の頂部とを位置合わせし接圧した状態で絶縁性接
着部材を加熱、固化する工程とを含むものである。ま
た、絶縁性接着部材を、電極の近傍の半導体チップの端
部側又は中心側の少なくとも一方の主表面の所定の領域
に配置したものである。また、絶縁性接着部材に、熱硬
化性樹脂又は樹脂封止温度を越える耐熱温度を有する熱
可塑性樹脂を被着したものである
【0007】
【発明の実施の形態】実施の形態1.以下、この発明の
一実施の形態の樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
につき、図面に基づいて説明する。図1は、この発明の
実施の形態1である樹脂封止型半導体装置の断面図、図
2は、図1の樹脂封止型半導体装置のリード接続工程を
終えた状態を示す平面図、図3は、図1におけるA部の
拡大断面図、図4は、図1の樹脂封止型半導体装置の製
造方法を示す図である。
【0008】図1〜図4において、2は集積回路が形成
された半導体チップであり、その主表面端部周辺にはア
ルミニウム膜で形成された80〜100μm□寸法の電
極3が複数個配設されている。そして、160〜300
μm程度の幅と90〜200μm程度厚さを有するリー
ド4の半田めっきされたインナーリード5が、図1〜図
3に示すように半導体チップ2の主表面に沿って電極3
に向けて配設され、その先端部近傍の平面に打ち出し形
成された接合突起5aの頂部が上記電極3上に、例えば
40〜70g程度の力で接圧される。なお、接合突起5
aは根元径が約100μm、高さが約100μm程度で
弾頭状に形成される。そして、上記電極3が形成された
領域近傍の半導体チップ2の主表面端部側は、両面に熱
硬化性エポキシ接着剤が被着された絶縁性接合部材8を
介して対向するインナーリード5と接着され、接合突起
5aと電極3との接圧状態が保持されている。7は枠内
にインナーリード5及びアウターリード6を有するリー
ド4が複数形成された(図示せず)リードフレームであ
る。ここで、絶縁性接合部材8は、例えば50μm程度
厚さのポリイミド樹脂フィルムを基材として両面に熱硬
化性エポキシ接着剤が被着されたものである。9は熱硬
化性エポキシからなる封止樹脂であり、半導体チップ
2、電極3、インナーリード5、接合突起5a及び絶縁
性接合部材8は封止樹脂9により一体に封止されて樹脂
封止型半導体装置1が構成されている。
【0009】次に、上記構成の樹脂封止型半導体装置1
の製造方法につき、図4を基に説明する。まず、ダイ2
0の加工穴20a及び押圧具21の弾頭状突起21aと
インナーリード5の先端部とを位置合わせしてリードフ
レーム7をダイ20上にセットし、押圧具21を矢印方
向に下降させてインナーリード5の先端部近傍の平面に
弾頭状に打ち出した接合突起5aを形成する(図4
(a))。主表面に上記接合部材8が接着された複数の
半導体チップ2をヒータ23が埋設されたヒートブロッ
ク22上の所定位置に固定し、例えば100℃程度に半
導体チップ2を余熱する(図4(b))。次いで、イン
ナーリード5の接合突起5aの頂部を半導体チップ2の
電極3に位置合わせしてリードフレーム7を半導体チッ
プ2上に載置する。そして、押圧具24を矢印方向に下
降させてインナーリード5の先端部を押圧し、電極3と
接合突起5aの頂部とを接圧した状態で半導体チップ2
の温度を約170℃程度となるようにヒータ23を加熱
して約10〜20秒間保持し、絶縁性接合部材8の熱硬
化性エポキシ接着剤をキュアしてインナーリード5の半
導体チップ2の電極3へのボンディングが終わる(図4
(c))。そして、半導体チップ2が接着されたリード
フレーム7を上、下の封止金型31、30のキャビティ
31a、30a内にセットし、ポット31cに注入され
た溶融樹脂をプランジャー32により加圧してランナー
31b、30bを経てキャビティ31a、30a内に注
入し、半導体チップ2、絶縁性接着部材8及びインナー
リード5が封止樹脂9により一体に樹脂封止される(図
4(e))。
【0010】以上のように、本発明の実施の形態1にお
いては、インナーリード5の接合突起5aを弾頭状突起
21a付きの押圧具21により打ち出し形成し、半導体
チップ2の電極3と接合突起5aの頂部とを接圧した状
態で電極3近傍の半導体チップ2の主表面端部の領域と
対向するインナーリード5間を絶縁性接着部材8を介し
接着・固化して電極3と接合突起5a間を強固に接圧保
持し一体に樹脂封止したので、パッケージ厚さを薄く形
成できると共に、半導体チップ2の各電極3とインナー
リード5間の電気的ボンディングが安価に得られ、安価
で薄型の樹脂封止型半導体装置が得られる。また、電極
3とインナーリード5間がボンディングワイヤーで接続
されていないので、樹脂封止を信頼性高く行うことがで
きる。
【0011】実施の形態2.図5は、この発明の実施の
形態2である樹脂封止型半導体装置の断面図、図6は、
樹脂封止型半導体装置のリード接続工程を終えた状態を
示す平面図、図7は、図1におけるB部の拡大断面図で
ある。
【0012】図5〜図7において、10は半導体チップ
2の主表面の電極3の近傍領域と対向するインナーリー
ド5の先端面の間に接着された絶縁性接着部材であり、
絶縁性接着部材8と同様の構成になっている。本実施の
形態2おいては、図示のように電極3と接合突起5aと
の接合部を挟んで絶縁性接着部材8,9を接着し、これ
による接圧保持をより確実にしている点が実施の形態1
の場合と異なる。したがって、樹脂封止型半導体装置の
製造方法も実施の形態1の場合と同様であり、実施の形
態1におけると同様の効果を奏する。
【0013】なお、上記実施の形態1、2においては、
半導体チップの電極が主表面の端部に配設されたものを
示したが、これに限らず、本発明は、電極が主表面の中
央部に配列されたLOC(Lead On Chip)
型半導体チップに対しても適用できる。また、絶縁性接
着部材を電極の近傍の半導体チップの端部側主表面上に
設けたものや、電極の近傍の半導体チップの端部側及び
中心側主表面上に設けたものを示したが、中心側主表面
上に設けたものとしても同様の効果を奏する。更に、絶
縁性接着部材は両面に熱硬化性エポキシ樹脂を被着した
ものを示したが、樹脂封止時の温度(約180°C)を
越える耐熱温度を有する公知の熱可塑性ポリエステル系
樹脂接着剤を用いても良く、電極と接合突起との接圧保
持力が失われることなく樹脂封止を行うことができる。
【0014】
【発明の効果】この発明は以上のように構成したので、
以下に示す効果を奏する。樹脂封止型半導体装置及びそ
の製造方法を、半導体チップの電極とインナーリードの
先端部近傍の平面に形成した接合突起の頂部とを接圧し
た状態で電極近傍の半導体チップ表面と対向するインナ
ーリード間を絶縁性接着部材で接着して電極と接合突起
との接圧状態を保持し一体に樹脂封止する構成としたの
で、インナーリードと電極との電気的接続を安価に実現
できると共に、樹脂封止を信頼性高く、かつ、パッケー
ジ厚さを薄く形成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1である樹脂封止型半
導体装置の断面図である。
【図2】 この発明の実施の形態1である樹脂封止型半
導体装置のリード接続工程を終えた状態を示す平面図で
ある。
【図3】 図1におけるA部の拡大断面図である。
【図4】 この発明の実施の形態1である樹脂封止型半
導体装置の製造方法を示す図である。
【図5】 この発明の実施の形態2である樹脂封止型半
導体装置の断面図である。
【図6】 この発明の実施の形態2である樹脂封止型半
導体装置のリード接続工程を終えた状態を示す平面図で
ある。
【図7】 図5におけるB部の拡大断面図である。
【符号の説明】
1,11;樹脂封止型半導体装置 2;半導体チップ
3;電極 4;リード 5;インナーリード 5a;接合突起 8,10;絶縁性接着部材 9;封止樹脂

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主表面に集積回路の電極が形成された半
    導体チップ、この半導体チップの上記主表面に沿って近
    接配置され先端部近傍の平面に形成された接合突起の頂
    部が上記電極に接圧されたインナーリードを有するリー
    ド、上記電極の近傍の上記主表面の所定の領域とこの領
    域に対向する上記インナーリード相互間を接着し、上記
    電極と上記接合突起の頂部の接圧状態を保持する絶縁性
    接着部材、上記半導体チップ、上記絶縁性接着部材及び
    上記インナーリードを一体に封止する封止樹脂を備えた
    ことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
  2. 【請求項2】 絶縁性接着部材は、電極の近傍の半導体
    チップの端部側又は中心側の少なくとも一方の主表面の
    所定の領域に配置されていることを特徴とする請求項1
    記載の樹脂封止型半導体装置。
  3. 【請求項3】 半導体チップ及びこの半導体チップの主
    表面に沿って近接配置され集積回路の電極に電気的に接
    続されたインナーリードを一体に樹脂封止する樹脂封止
    型半導体装置の製造方法において、上記インナーリード
    の先端部近傍の平面に打ち出して接合突起を形成する工
    程、上記電極の近傍の上記主表面の所定の領域とこの領
    域に対向する上記インナーリード間に絶縁性接着部材を
    介在させ、上記電極と上記接合突起の頂部とを位置合わ
    せし接圧した状態で上記絶縁性接着部材を加熱、固化す
    る工程を含むことを特徴とする樹脂封止型半導体装置の
    製造方法。
  4. 【請求項4】 絶縁性接着部材は、電極の近傍の半導体
    チップの端部側又は中心側の少なくとも一方の主表面の
    所定の領域に配置することを特徴とする請求項3記載の
    樹脂封止型半導体装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 絶縁性接着部材は、熱硬化性樹脂又は樹
    脂封止温度を越える耐熱温度を有する熱可塑性樹脂が被
    着されていることを特徴とする請求項3又は請求項4記
    載の樹脂封止型半導体装置の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006303006A (ja) * 2005-04-18 2006-11-02 Yaskawa Electric Corp パワーモジュール
JP2013062396A (ja) * 2011-09-14 2013-04-04 Toyota Motor Corp 半導体装置とその製造方法
JP2020123691A (ja) * 2019-01-31 2020-08-13 株式会社三社電機製作所 半導体製品

Cited By (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006303006A (ja) * 2005-04-18 2006-11-02 Yaskawa Electric Corp パワーモジュール
JP2013062396A (ja) * 2011-09-14 2013-04-04 Toyota Motor Corp 半導体装置とその製造方法
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