JP2001242476A - Liquid crystal device, its manufacturing method and electronic apparatus - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the liquid crystal device, in which a transparent electrode can be made to a thin film, the resistance can be made low, and a photolithographic process is not needed at formation of the transparent electrode, and to provide its manufacturing method, and an electronic apparatus. SOLUTION: In the device, liquid crystal 40 is charged between a pair of substrates 2 and 32, the transparent electrode 4 is formed on a surface facing one substrate 32 for the other substrate 2, by solidifying a transparent electrode precursor injected in an area surrounded by a metallic auxiliary electrode 6.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置及びその
製造方法、並びに電子機器に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device, a method for manufacturing the same, and electronic equipment.

【０００２】[0002]

【従来の技術】液晶装置は、互いに対向する一対の基板
間に液晶を配して成る非発光型のディスプレイであり、
液晶の配向状態に応じて液晶を通過する光を変調させて
表示を行うものである。そして、各基板の対向面には、
通常はＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等から成る透明電極
がそれぞれ形成され、該電極間に印加される電圧により
液晶分子の配向状態が制御されている。2. Description of the Related Art A liquid crystal device is a non-light emitting type display in which liquid crystal is arranged between a pair of substrates facing each other.
The display is performed by modulating the light passing through the liquid crystal according to the alignment state of the liquid crystal. And on the opposing surface of each substrate,
Usually, transparent electrodes made of ITO (Indium Tin Oxide) or the like are formed, and the alignment state of the liquid crystal molecules is controlled by a voltage applied between the electrodes.

【０００３】上記したＩＴＯ等の透明電極に要求される
特性としては、低抵抗であること、及び透過率が高いこ
とが挙げられる。従って、通常は上記した特性が充分発
揮されるよう、比較的高温（ガラス基板上に成膜するＩ
ＴＯの場合で約３００℃）下で成膜することにより透明
電極の抵抗値を下げ、膜厚の低減、ひいては透過率の向
上を図っている。また、特に大容量の液晶装置において
は、引廻し抵抗の増大によりクロストークなど表示品位
が劣化する等の問題があるが、金属材料による補助電極
を設けることで、引廻し抵抗の低減を図っている。[0003] The characteristics required for the above-mentioned transparent electrode such as ITO include low resistance and high transmittance. Therefore, usually, a relatively high temperature (I film formed on a glass substrate) is used so that the above-mentioned characteristics are sufficiently exhibited.
By forming the film at a temperature of about 300 ° C. in the case of TO, the resistance value of the transparent electrode is reduced, the film thickness is reduced, and the transmittance is improved. In addition, especially in a large-capacity liquid crystal device, there is a problem that display quality is deteriorated such as crosstalk due to an increase in the drawing resistance. However, by providing an auxiliary electrode made of a metal material, the drawing resistance is reduced. I have.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、液晶
装置の薄型化、軽量化等を図るためにプラスチックフィ
ルム製の基板（以下、「フィルム基板」という）が用い
られるようになっているが、かかる場合はプラスチック
フィルムの耐熱温度（１５０℃程度）の制限から、そも
そも高い温度で透明電極を成膜することはできず、その
ため電極材料の結晶化が進まないので、透明電極の低抵
抗化を図ることができないという問題があった。又、こ
の場合に透明電極のシート抵抗を下げるべくその膜厚を
厚くすると、軟質なフィルム基板に反りが生じたり、透
明電極の透過率が低下するので、フィルム基板における
透明電極の薄膜化と低抵抗化の両立には限界があった。
また補助電極の形成においては、通常、透明電極と補助
電極のそれぞれについて成膜及びパターニング工程を繰
り返しているが、位置ズレや工程負荷の増大によるコス
トアップなどの問題があった。In recent years, plastic film substrates (hereinafter referred to as "film substrates") have been used in order to make liquid crystal devices thinner and lighter. In such a case, the transparent electrode cannot be formed at a high temperature due to the limitation of the heat resistance temperature (about 150 ° C.) of the plastic film. Therefore, the crystallization of the electrode material does not proceed. There was a problem that it could not be achieved. In this case, if the thickness of the transparent electrode is increased in order to reduce the sheet resistance, the flexible film substrate may be warped or the transmittance of the transparent electrode may be reduced. There was a limit to balancing resistance.
In addition, in the formation of the auxiliary electrode, the film formation and patterning steps are usually repeated for each of the transparent electrode and the auxiliary electrode.

【０００５】本発明は、液晶装置における上記した問題
を解決し、透明電極を形成する際のフォトリソグラフィ
工程が不要で製造工程やコストが低く、かつ、透明電極
の薄膜化と低抵抗化をともに可能とした液晶装置及びそ
の製造方法、並びに電子機器の提供を目的とする。The present invention solves the above-mentioned problems in a liquid crystal device, does not require a photolithography step for forming a transparent electrode, reduces the manufacturing process and cost, and reduces the thickness and the resistance of the transparent electrode. It is an object of the present invention to provide a enabled liquid crystal device, a method for manufacturing the same, and electronic equipment.

【０００６】[0006]

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明の液晶装置は、一方の基板と他方の基板
の基板間に液晶を有し、少なくとも前記一方の基板にお
ける前記他方の基板との対向面には、金属製の補助電極
で囲まれた領域内に注入された液状の透明電極前駆体が
固化して成る透明電極が形成されていることを特徴とす
る。In order to achieve the above-mentioned object, a liquid crystal device according to the present invention has a liquid crystal between one substrate and another substrate, and at least the other substrate on the one substrate. A transparent electrode formed by solidifying a liquid transparent electrode precursor injected into a region surrounded by a metal auxiliary electrode is formed on a surface facing the substrate.

【０００７】このような構成によれば、透明電極の外側
が低抵抗な金属から成る補助電極で囲まれているので、
電極全体のシート抵抗を低減させることができ、透明電
極自体のシート抵抗が比較的高くてもよい。そのため、
透明電極の厚みを薄くして透過率を向上させることがで
き、透明電極の薄膜化と電極全体の低抵抗化を共に実現
することができる。According to such a configuration, since the outside of the transparent electrode is surrounded by the auxiliary electrode made of a low-resistance metal,
The sheet resistance of the entire electrode can be reduced, and the sheet resistance of the transparent electrode itself may be relatively high. for that reason,
The transmittance can be improved by reducing the thickness of the transparent electrode, and both the thinning of the transparent electrode and the reduction of the resistance of the entire electrode can be realized.

【０００８】さらに、透明電極は、前記液状の透明電極
前駆体を補助電極で囲まれた領域内に注入して形成され
るので、透明電極をフォトリソグラフィによりパターニ
ングする必要がなく、製造工程やコストの低減を図るこ
とができる。Further, since the transparent electrode is formed by injecting the liquid transparent electrode precursor into a region surrounded by the auxiliary electrode, it is not necessary to pattern the transparent electrode by photolithography, and the manufacturing process and cost are reduced. Can be reduced.

【０００９】前記補助電極で囲まれた領域は、画素を構
成することが好ましい。It is preferable that a region surrounded by the auxiliary electrode constitutes a pixel.

【００１０】又、少なくとも前記一方の基板はプラスチ
ックフィルムから成ることが好ましい。It is preferable that at least the one substrate is made of a plastic film.

【００１１】前記領域内には、透明電極とカラーフィル
タ層が積層して形成されていることが好ましい。It is preferable that a transparent electrode and a color filter layer are laminated in the region.

【００１２】そして、前記透明電極の高さと前記補助電
極の高さは略同一であることが好ましい。It is preferable that the height of the transparent electrode and the height of the auxiliary electrode are substantially the same.

【００１３】本発明の液晶装置の製造方法は、一対の基
板の間に液晶を有し、前記一対の基板の一方の基板の表
面に、該表面における所定領域を囲むようにして金属製
の補助電極を形成する工程と、少なくとも前記金属製の
補助電極と接するようにして、前記所定領域内に液状の
透明電極前駆体を注入する工程と、前記透明電極前駆体
を固化させ、前記補助電極と電気的にした透明電極を形
成する工程とを備えることを特徴とする。According to the method of manufacturing a liquid crystal device of the present invention, a liquid crystal is provided between a pair of substrates, and a metal auxiliary electrode is formed on a surface of one of the pair of substrates so as to surround a predetermined region on the surface. A step of forming, a step of injecting a liquid transparent electrode precursor into the predetermined region so as to be in contact with at least the metal auxiliary electrode, and a step of solidifying the transparent electrode precursor and electrically connecting the auxiliary electrode with the auxiliary electrode. And forming a transparent electrode.

【００１４】また、本発明においては、インクジェット
法を用いて、前記所定領域内に前記透明電極前駆体を注
入することが好ましい。In the present invention, it is preferable that the transparent electrode precursor is injected into the predetermined region by using an inkjet method.

【００１５】本発明の電子機器は、前記液晶装置を備え
たことを特徴とする。An electronic apparatus according to the present invention includes the liquid crystal device.

【００１６】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の第１の実施形態に
係る液晶装置について、図１乃至図３に基づいて説明す
る。なお、本発明における「液晶装置」とは、一対の基
板間に液晶を有し、そのうち少なくとも一方の基板には
後述する補助電極と透明電極を配したものをいうが、液
晶表示の方式（アクティブマトリクス型、あるいはパッ
シブマトリクス型等）は制限はなく、又、画像制御用の
素子についても、液晶装置の動作方式（ＴＦＴ方式、Ｔ
ＦＤ方式等）に応じて適宜選択することができる。さら
に、その他のカラーフィルタ等を適宜備えてもよい。以
下、図１は液晶装置の概略斜視図を示す。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a liquid crystal device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Note that the “liquid crystal device” in the present invention refers to a device having liquid crystal between a pair of substrates, of which at least one substrate is provided with an auxiliary electrode and a transparent electrode described later. There is no limitation on the matrix type or the passive matrix type, and the operation method of the liquid crystal device (TFT type, T
FD system or the like). Further, other color filters or the like may be appropriately provided. Hereinafter, FIG. 1 is a schematic perspective view of the liquid crystal device.

【００１７】図１において、液晶装置５０は、パッシブ
マトリクス型の液晶表示装置をなし、一方の基板２と他
方の基板３２が所定の間隔で対向配置され、各基板２、
３２の間には図示しない液晶が介装されている。なお、
この実施形態においては、各基板２、３２はいずれもプ
ラスチックフィルムから成っているが、ガラス等を用い
てもよい。そして、他方の基板３２の下面（対向面）に
は横方向に延びる短冊状の走査電極３８が設けられ、一
方の基板２の上面（対向面）には縦方向に延びる短冊状
のデータ電極８が設けられている。In FIG. 1, a liquid crystal device 50 forms a passive matrix type liquid crystal display device, in which one substrate 2 and the other substrate 32 are arranged to face each other at a predetermined interval.
A liquid crystal, not shown, is interposed between 32. In addition,
In this embodiment, each of the substrates 2 and 32 is made of a plastic film, but glass or the like may be used. On the lower surface (opposing surface) of the other substrate 32, a strip-shaped scanning electrode 38 extending in the horizontal direction is provided, and on the upper surface (opposing surface) of one substrate 2, the strip-shaped data electrode 8 extending in the vertical direction is provided. Is provided.

【００１８】この液晶装置５０は、図２に示す概略平面
をなし、一方の基板２と他の基板３２との間にはセル厚
を一定に保つためのスペーサーが適宜用いられ、それぞ
れの基板の周縁部においてシール材４４を介して所定間
隔で貼着され、基板２、３２間に液晶層が封入されてい
る。また、一方の基板２の内表面上には後述するカラー
フィルター層が設けられている。そして、シール領域の
内側が表示領域４９になっていて、走査電極３８とデー
タ電極８との重なり部分には、走査電極３８を介して走
査信号が供給され、データ電極８を介して表示信号が供
給されて、その差分電圧が画素領域の液晶層に印加され
ることにより画像が表示される。また、液晶装置５０の
裏表には所定の偏光板が取り付けられている。そして、
データ電極８は透明電極４と補助電極６から成り、走査
電極３８は透明電極３４と補助電極３６から成っている
が、これらの構成について以下に述べる。The liquid crystal device 50 has a schematic plane as shown in FIG. 2, and a spacer for keeping the cell thickness constant between one substrate 2 and the other substrate 32 is appropriately used. A liquid crystal layer is sealed between the substrates 2 and 32 at a predetermined interval on a peripheral portion via a sealing material 44. A color filter layer described later is provided on the inner surface of one substrate 2. A display area 49 is formed inside the seal area, and a scanning signal is supplied to the overlapping portion between the scanning electrode 38 and the data electrode 8 through the scanning electrode 38, and the display signal is supplied through the data electrode 8. The image is displayed by supplying the difference voltage and applying the difference voltage to the liquid crystal layer in the pixel region. Further, on the front and back of the liquid crystal device 50, predetermined polarizing plates are attached. And
The data electrode 8 includes the transparent electrode 4 and the auxiliary electrode 6, and the scanning electrode 38 includes the transparent electrode 34 and the auxiliary electrode 36. These components will be described below.

【００１９】この液晶装置５０の断面構造は図３に示す
ようになっている。The sectional structure of the liquid crystal device 50 is as shown in FIG.

【００２０】この図において、一方の基板２上に設けら
れたデータ電極８は、中央部に例えばＩＴＯ（Indium T
in Oxide）等から成る透明電極４を有し、その外側が畝
状の補助電極６で囲まれた構成をなしている。又、この
実施形態では、補助電極６の頂部６ｂは透明電極４の上
面４ｂより高く、該上面４ｂと頂部６ｂの間における補
助電極６で囲まれた領域には、カラーフィルタ層１０、
１２、１４のいずれかが形成され、各カラーフィルタ層
の高さと頂部６ｂの高さは略同一になっていて、一方の
基板２は、全体としてカラーフィルタ基板を構成してい
る。In this figure, a data electrode 8 provided on one substrate 2 has, for example, an ITO (Indium T
It has a transparent electrode 4 made of Oxide (in Oxide) or the like, and its outside is surrounded by a ridge-shaped auxiliary electrode 6. Further, in this embodiment, the top 6b of the auxiliary electrode 6 is higher than the upper surface 4b of the transparent electrode 4, and a region surrounded by the auxiliary electrode 6 between the upper surface 4b and the top 6b has a color filter layer 10,
One of the substrates 12 and 14 is formed, and the height of each color filter layer and the height of the top portion 6b are substantially the same, and the one substrate 2 constitutes a color filter substrate as a whole.

【００２１】ここで、カラーフィルタ層１０、１２、１
４は、それぞれ、青色のカラーフィルタ層（図示
「Ｂ」）、緑色のカラーフィルタ層（図示「Ｇ」）、赤
色のカラーフィルタ層（図示「Ｒ」）からなり、各画素
に対応した位置にそれぞれマトリクス状に配設されてい
るが、これについては後述する。そして、各カラーフィ
ルタ層１０、１２、１４、補助電極６、及び一方の基板
２の表面に保護層２０と配向膜２２がこの順に形成さ
れ、液晶４０を介して表面に配向膜４８が形成された走
査電極３８に対向している。なお、走査電極３８も透明
電極３４と補助電極３６から成っているが、その構成は
上記したデータ電極８の場合と同様であるので説明を省
略する。又、走査電極３８として、補助電極のない通常
の透明電極等を用いてもよい。Here, the color filter layers 10, 12, 1
Reference numeral 4 denotes a blue color filter layer ("B" in the figure), a green color filter layer ("G" in the figure), and a red color filter layer ("R" in the figure). Each of them is arranged in a matrix, which will be described later. Then, a protective layer 20 and an alignment film 22 are formed in this order on the surface of each color filter layer 10, 12, 14, auxiliary electrode 6, and one substrate 2, and an alignment film 48 is formed on the surface via the liquid crystal 40. Scanning electrode 38. Note that the scanning electrode 38 also includes the transparent electrode 34 and the auxiliary electrode 36, but the configuration is the same as that of the data electrode 8 described above, and a description thereof will be omitted. Further, as the scanning electrode 38, a normal transparent electrode without an auxiliary electrode or the like may be used.

【００２２】本発明においては、透明電極４の外側が補
助電極６で囲まれていることが第１の特徴である。この
補助電極６は例えばＡｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ等の低抵抗
な金属材料、あるいは、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ等を主
成分とする合金から成り、その内壁部６ｃは透明電極４
の側壁と電気的に接続している。つまり、このようにす
ると、データ電極８の全体のシート抵抗は補助電極６に
よって低減されるので、透明電極４自体のシート抵抗が
比較的高くてもよいことになる。従って、透明電極４の
厚みを薄くして透過率を９０％程度に向上させることが
できる。又、透明電極４のシート抵抗が比較的高くても
よいことから、透明電極４の成膜温度を低く設定して製
造工程やコストの低減を図ることができる。特に、耐熱
温度の低いプラスチックフィルム製基板の場合、成膜温
度を高くしたり膜厚を厚くする必要がないので、基板の
反りを生じさせずに透明電極の薄膜化と電極全体の低抵
抗化を実現することができる。The first feature of the present invention is that the outside of the transparent electrode 4 is surrounded by the auxiliary electrode 6. The auxiliary electrode 6 is made of a low-resistance metal material such as Al, Ag, Au, or Cr, or an alloy containing Al, Ag, Au, Cr, or the like as its main component.
And is electrically connected to the side wall. That is, in this case, since the sheet resistance of the entire data electrode 8 is reduced by the auxiliary electrode 6, the sheet resistance of the transparent electrode 4 itself may be relatively high. Therefore, the transmittance can be improved to about 90% by reducing the thickness of the transparent electrode 4. Further, since the sheet resistance of the transparent electrode 4 may be relatively high, the film forming temperature of the transparent electrode 4 can be set low to reduce the manufacturing process and cost. In particular, in the case of a plastic film substrate with a low heat-resistant temperature, it is not necessary to raise the film formation temperature or increase the film thickness. Can be realized.

【００２３】また、図示しない引廻し電極や駆動回路と
の接続用の端子も上述の金属材料のパターン形成時に同
時に形成しておくことで、引廻し部分の抵抗を低く保つ
ことができる。Also, by forming a wiring electrode (not shown) and a terminal for connection to a drive circuit at the same time as the above-described pattern formation of the metal material, the resistance of the wiring portion can be kept low.

【００２４】上記したプラスチックフィルムとしては、
例えば厚み１００〜２００μｍ程度のポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリア
リレート（ＰＡ）等のフィルムを用いることができる。
又、データ電極８の全体のシート抵抗は、補助電極６と
透明電極４の寸法によっても変化するが、シート抵抗値
が約２０Ω／□以下となるように、補助電極６と透明電
極４の大きさを設定するとよい。例えば、補助電極６を
高さ０．０５〜０．２μｍ、幅１０μｍ以下程度とし、
透明電極４の厚みを０．０５〜０．２μｍ程度とすれば
よい。なお、補助電極６の幅が大きくなるほど、開口率
が低下するので、補助電極６の幅を５μｍ以下とするこ
とが好ましい。As the above-mentioned plastic film,
For example, a film having a thickness of about 100 to 200 μm such as polycarbonate (PC), polyethersulfone (PES), or polyarylate (PA) can be used.
Further, the overall sheet resistance of the data electrode 8 varies depending on the dimensions of the auxiliary electrode 6 and the transparent electrode 4, but the size of the auxiliary electrode 6 and the transparent electrode 4 is set so that the sheet resistance becomes about 20Ω / □ or less. It is good to set. For example, the auxiliary electrode 6 has a height of about 0.05 to 0.2 μm and a width of about 10 μm or less,
The thickness of the transparent electrode 4 may be about 0.05 to 0.2 μm. Since the aperture ratio decreases as the width of the auxiliary electrode 6 increases, the width of the auxiliary electrode 6 is preferably 5 μm or less.

【００２５】さらに、本発明においては、補助電極６で
囲まれた領域内に液状の透明電極前駆体を注入した後、
固化させることにより透明電極４が形成されていること
が第２の特徴である。これについて、図４に基づいて説
明する。Further, in the present invention, after injecting a liquid transparent electrode precursor into a region surrounded by the auxiliary electrode 6,
The second feature is that the transparent electrode 4 is formed by solidification. This will be described with reference to FIG.

【００２６】図４において、各補助電極６はそれぞれ一
方向に延びるはしご状に形成され、各補助電極６の延設
方向は同一になっている。そして、各補助電極６におい
て、隣接するはしご段で囲まれた方形の領域がそれぞれ
土手となり、その内部に上記液状の透明電極前駆体が保
持されるようになっている。さらに、この状態で透明電
極前駆体を固化することにより、透明電極４がこの部分
に形成される。つまり、フォトリソ工程により透明電極
４のパターニングをしなくても、補助電極６を周縁とす
るデータ電極８が形成されることになるので、透明電極
のフォトリソ工程の省略と製造コストの低減が図られ
る。In FIG. 4, each auxiliary electrode 6 is formed in a ladder shape extending in one direction, and the extension direction of each auxiliary electrode 6 is the same. In each of the auxiliary electrodes 6, a rectangular area surrounded by adjacent ladder steps serves as a bank, and the liquid transparent electrode precursor is held therein. Further, the transparent electrode 4 is formed in this portion by solidifying the transparent electrode precursor in this state. In other words, since the data electrode 8 having the auxiliary electrode 6 as a peripheral edge is formed without patterning the transparent electrode 4 by the photolithography process, it is possible to omit the photolithography process of the transparent electrode and reduce the manufacturing cost. .

【００２７】上記透明電極前駆体としては、例えば有機
インジウムと有機スズをキシロール中に溶かしたものを
用いることができる。具体的には、有機インジウムと有
機スズを９７：３の重量比で配合した透明電極の材料
が、キシロール中に８重量％含まれた液状体（アデカ塗
布液ＩＴＯ（品番ＩＴＯ−１０３Ｌ、旭電化工業製））
を好適に用いることができる。又、上記透明電極前駆体
を固化させる方法としては特に制限はないが、例えば基
板の耐熱温度に応じて１００〜１５０℃程度に加熱・焼
成することで溶剤を揮発させることができる。As the transparent electrode precursor, for example, one obtained by dissolving organic indium and organic tin in xylol can be used. More specifically, a liquid material containing 8% by weight of xylol in a transparent electrode in which organic indium and organic tin are mixed in a weight ratio of 97: 3 (ADEKA Coating Solution ITO (product number ITO-103L, Asahi Denka Kagaku) Industrial))
Can be suitably used. The method for solidifying the transparent electrode precursor is not particularly limited. For example, the solvent can be volatilized by heating and baking to about 100 to 150 ° C. depending on the heat resistant temperature of the substrate.

【００２８】上記透明電極前駆体を注入する方法につい
ても制限はないが、特開平７−１４６４０６号公報等に
開示されているインクジェット法を用いると、注入が容
易となるので好ましい。なお、インクジェット法は、印
刷装置に用いられているインクジェットプリンタを適用
したものであり、この方法を用いる際には、上記透明電
極前駆体の粘度を１０ｃｐｓ以下、表面張力を３０ｄｙ
ｎｅ／ｃｍ程度とすることが好ましい。又、透明電極前
駆体の注入量についても制限はなく、図２における実施
形態の如く、補助電極６の頂部６ａより低い位置まで上
記透明電極前駆体を注入し、それより上の部分にカラー
フィルタ層を形成するためのスペースを確保してもよい
が、補助電極６の頂部６ａまで上記透明電極前駆体を注
入し、補助電極６と透明電極４の高さを略同一にしても
よい。なお、透明電極前駆体を注入した後、溶媒が蒸発
する際に全体が収縮し、固化して得られた透明電極の高
さが注入時より若干低くなるので、その分をみこして注
入量を設定するとよい。The method of injecting the transparent electrode precursor is not limited, but the use of the ink jet method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-146406 is preferable because the injection is facilitated. In addition, the inkjet method applies an inkjet printer used in a printing apparatus. When using this method, the viscosity of the transparent electrode precursor is set to 10 cps or less, and the surface tension is set to 30 dy.
It is preferable to be about ne / cm. There is no limitation on the amount of the transparent electrode precursor to be injected. As in the embodiment shown in FIG. 2, the transparent electrode precursor is injected to a position lower than the top 6a of the auxiliary electrode 6, and the color filter A space for forming a layer may be secured, but the transparent electrode precursor may be injected up to the top 6a of the auxiliary electrode 6, and the height of the auxiliary electrode 6 and the transparent electrode 4 may be made substantially the same. After injecting the transparent electrode precursor, the whole shrinks when the solvent evaporates, and the height of the solidified transparent electrode becomes slightly lower than that at the time of injection. It is good to set.

【００２９】このようにして形成された透明電極４の上
に、図５に示す配置状態で各カラーフィルタ層１０、１
２、１４が配設される。つまり、各補助電極６の延設方
向には同一色のカラーフィルタ層が形成され、隣接する
補助電極６同士ではＲ、Ｇ、Ｂが交互に配設されてい
る。そして、補助電極６の各はしご段で囲まれる方形の
領域がそれぞれ画素となり、補助電極６自体は遮光層と
なる。なお、各カラーフィルタ層１０、１２、１４は、
例えば染色法や顔料分散法によって所定のパターニング
を行うことにより形成してもよいが、上述の如く透明電
極４の表面を補助電極６の頂部６ａより低い位置に形成
し、これより上の領域にインクジェット法等によりカラ
ーフィルタ層の材料を含む液を注入すれば、カラーフィ
ルタ層のパターニング工程を同様に省略できるので好ま
しい。なお、カラーフィルタ層を形成後に透明電極を形
成してもよいことはいうまでもない。また、カラーフィ
ルタ層１０、１２、１４の配列方法については、用途に
より適宜選択すればよい。Each of the color filter layers 10, 1 is arranged on the transparent electrode 4 thus formed in the arrangement shown in FIG.
2, 14 are provided. That is, a color filter layer of the same color is formed in the direction in which each auxiliary electrode 6 extends, and R, G, and B are alternately arranged between adjacent auxiliary electrodes 6. A rectangular area surrounded by each ladder step of the auxiliary electrode 6 becomes a pixel, and the auxiliary electrode 6 itself becomes a light shielding layer. In addition, each color filter layer 10, 12, 14
For example, the transparent electrode 4 may be formed by performing a predetermined patterning by a dyeing method or a pigment dispersion method. However, as described above, the surface of the transparent electrode 4 is formed at a position lower than the top 6a of the auxiliary electrode 6, and is formed in a region higher than this. It is preferable to inject a liquid containing a material for the color filter layer by an ink-jet method or the like because the patterning step of the color filter layer can be omitted in the same manner. It goes without saying that the transparent electrode may be formed after the formation of the color filter layer. In addition, an arrangement method of the color filter layers 10, 12, and 14 may be appropriately selected depending on an application.

【００３０】次に、本発明の第２の実施形態に係る液晶
装置５０Ｓについて、図６及び図７に基づいて説明す
る。図６は液晶装置５０Ｓの概略斜視図を示す。Next, a liquid crystal device 50S according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 6 is a schematic perspective view of the liquid crystal device 50S.

【００３１】図６において、液晶表示装置５０Ｓは、ア
クティブマトリクス型のＴＦＤ（Thin Film Diode）液
晶表示装置をなし、一方の基板２Ｓと他方の基板３２Ｓ
が所定の間隔で対向配置され、その間には液晶が介装さ
れている。ガラス等から成る他の基板３２Ｓは素子基板
となっていて、該基板３２の下面（対向面）にマトリク
ス状にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明電極から成
る複数の電極（画素電極）３８Ｓ、及び該画素電極３８
Ｓを制御するＴＦＤ６６が設けられている。各画素電極
３８Ｓは、略矩形状に形成され、そのうち一の隅部には
ＴＦＤ６６が配設され、この部分が切欠部となってい
る。ＴＦＤ６６は走査線６４に接続され、走査信号と後
述するデータ線（対向電極）８Ｓとに印加された信号に
基づいて、液晶を表示状態、非表示状態またはその中間
状態に切り替えて表示動作の制御を行うことができるよ
うになっている。In FIG. 6, the liquid crystal display device 50S is an active matrix type TFD (Thin Film Diode) liquid crystal display device, one substrate 2S and the other substrate 32S.
Are arranged facing each other at a predetermined interval, and a liquid crystal is interposed between them. Another substrate 32S made of glass or the like is an element substrate, and a plurality of electrodes (pixel electrodes) 38S made of a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) are formed on the lower surface (opposing surface) of the substrate 32 in a matrix. And the pixel electrode 38
A TFD 66 for controlling S is provided. Each pixel electrode 38S is formed in a substantially rectangular shape, and a TFD 66 is provided at one corner of the pixel electrode 38S, and this portion is a cutout. The TFD 66 is connected to the scanning line 64, and controls the display operation by switching the liquid crystal to a display state, a non-display state, or an intermediate state based on a scanning signal and a signal applied to a data line (opposite electrode) 8S described later. Can be performed.

【００３２】また、一方の基板２Ｓはプラスチックフィ
ルムから成り、後述する透明電極４Ｓと補助電極６Ｓと
から成る短冊状のデータ線（電極）８Ｓが表面に形成さ
れている。なお、この実施形態においては、カラーフィ
ルタ層は形成されておらず、従って、この液晶表示装置
５０Ｓは白黒表示を行なうようになっている。又、デー
タ線８Ｓにおいて、対向する画素電極３８Ｓに対向する
領域７４が表示部となり、その周縁部分が遮光部７２と
なる。なお、各基板２Ｓ、３２Ｓのいずれにもガラス等
を用いてもよく、又、いずれもフィルム基板としてもよ
い。The one substrate 2S is made of a plastic film, and has a strip-shaped data line (electrode) 8S composed of a transparent electrode 4S and an auxiliary electrode 6S described later formed on the surface. In this embodiment, no color filter layer is formed, and therefore, the liquid crystal display device 50S performs a monochrome display. In the data line 8S, an area 74 facing the opposing pixel electrode 38S serves as a display section, and a peripheral portion thereof serves as a light shielding section 72. Glass or the like may be used for each of the substrates 2S and 32S, or both may be film substrates.

【００３３】この液晶装置５０Ｓの断面構造は図７に示
すようになっている。The sectional structure of the liquid crystal device 50S is as shown in FIG.

【００３４】この図において、一方の基板２上のデータ
線（電極）８Ｓは、中央部に透明電極４Ｓを有し、その
外側が畝状の補助電極６Ｓで囲まれている。なお、この
実施形態では、補助電極６Ｓの高さと透明電極４Ｓの高
さがほぼ同一になっている。そして、一方の基板２、及
びデータ線８Ｓの上に平滑化層を兼ねた保護層２０Ｓ及
び配向膜２２Ｓがこの順で形成され、液晶４０Ｓを介し
て他の基板３２Ｓ側の画素電極３８Ｓ、ＴＦＤ６６等に
対向している。そして、領域７４で表示画素を形成して
いる。In this figure, a data line (electrode) 8S on one substrate 2 has a transparent electrode 4S at the center, and its outside is surrounded by a ridge-shaped auxiliary electrode 6S. In this embodiment, the height of the auxiliary electrode 6S and the height of the transparent electrode 4S are almost the same. Then, a protective layer 20S also serving as a smoothing layer and an alignment film 22S are formed in this order on one of the substrates 2 and the data lines 8S, and the pixel electrodes 38S and TFD 66 on the other substrate 32S are formed via the liquid crystal 40S. And so on. The display pixels are formed in the region 74.

【００３５】次に、補助電極６Ｓ及び透明電極４Ｓの概
略構成について、図８に基づいて説明する。Next, a schematic configuration of the auxiliary electrode 6S and the transparent electrode 4S will be described with reference to FIG.

【００３６】図８において、各補助電極６Ｓはそれぞれ
一方向に延びる枡状に形成されている。そして、各補助
電極６Ｓで囲まれた短冊状の領域がそれぞれ土手とな
り、その内部に上記透明電極前駆体が保持され、この状
態で透明電極前駆体が固化することにより、画素となる
透明電極４Ｓがこの部分に形成されるようになってい
る。従って、この実施形態においても、透明電極のフォ
トリソ工程の省略と製造コストの低減が図られる。In FIG. 8, each auxiliary electrode 6S is formed in a square shape extending in one direction. The strip-shaped regions surrounded by the auxiliary electrodes 6S serve as banks, and the transparent electrode precursors are held in the banks. In this state, the transparent electrode precursors are solidified, thereby forming the transparent electrodes 4S that become pixels. Is formed in this portion. Therefore, also in this embodiment, the omission of the photolithography process for the transparent electrode and the reduction of the manufacturing cost can be achieved.

【００３７】本発明の液晶装置は、例えば図９に示すよ
うにして製造することができる。なお、図９は、各工程
における一方の基板２の各層を、図３と同様に図２のＡ
−Ａ’断面に対応させて示す工程図である。The liquid crystal device of the present invention can be manufactured, for example, as shown in FIG. FIG. 9 shows each layer of one substrate 2 in each step as shown in FIG.
It is a process drawing shown corresponding to -A 'cross section.

【００３８】まず、プラスチックフィルム、石英、又は
ガラスなどから成る透明な基板２を用意し、その表面全
体に、例えばスパッタリングによりＡｌ等の金属層６Ａ
を形成する（図９（１））。そして、例えば所定のレジ
ストをマスクとし、金属層６Ａの一部をエッチング除去
することにより、畝状（上面視はしご状）の補助電極６
を形成する（図９（２））。エッチングとしては、例え
ば混酸溶液によるウェットエッチングを行なうことがで
きる。また、この際に図示しない引廻し電極と駆動回路
との接続用の端子部を形成しておくとよい。First, a transparent substrate 2 made of a plastic film, quartz, glass, or the like is prepared, and a metal layer 6A of Al or the like is formed on the entire surface by, for example, sputtering.
Is formed (FIG. 9A). Then, for example, by using a predetermined resist as a mask, a part of the metal layer 6A is removed by etching, so that the ridge-shaped (ladder-like top view) auxiliary electrode 6 is formed.
Is formed (FIG. 9B). As the etching, for example, wet etching using a mixed acid solution can be performed. At this time, it is preferable to form a terminal for connection between the routing electrode (not shown) and the drive circuit.

【００３９】そして、図９（３）に示すように、補助電
極６で囲まれた領域内(内部空間）に、インクジェット
法等により液状の透明電極前駆体４Ａを所定量注入し、
さらに、図９（４）に示すように、適宜基板２を基板の
耐熱温度以下で加熱して透明電極前駆体４Ａを固化・焼
成させ、透明電極４を形成する。さらに、図示しない
が、適宜カラーフィルタ層や保護層を形成してもよい。
そして、このようにして得られた一方の基板２に液晶を
介して図示しない他の基板３２を対向配置し、液晶装置
５０を製造する。Then, as shown in FIG. 9 (3), a predetermined amount of a liquid transparent electrode precursor 4A is injected into a region (internal space) surrounded by the auxiliary electrode 6 by an ink-jet method or the like.
Further, as shown in FIG. 9D, the transparent electrode 4 is formed by appropriately heating the substrate 2 at a temperature equal to or lower than the allowable temperature limit of the substrate and solidifying and firing the transparent electrode precursor 4A. Further, although not shown, a color filter layer and a protective layer may be appropriately formed.
Then, another substrate 32 (not shown) is disposed to face one of the substrates 2 thus obtained via a liquid crystal, and the liquid crystal device 50 is manufactured.

【００４０】ところで、上記した実施形態においては、
透明電極４を補助電極６の頂部６ａより低い位置まで形
成し、その上にカラーフィルタ層を形成した場合につい
て例示したが、補助電極６で囲まれる領域のすべてに透
明電極４を形成してもよい。又、補助電極６で囲まれる
領域において、カラーフィルタ層を下層側とし、その上
に透明電極４を形成してもよい。By the way, in the above embodiment,
Although the case where the transparent electrode 4 is formed to a position lower than the top 6a of the auxiliary electrode 6 and the color filter layer is formed thereon has been exemplified, the transparent electrode 4 may be formed in the entire region surrounded by the auxiliary electrode 6. Good. Further, in a region surrounded by the auxiliary electrode 6, the color filter layer may be on the lower layer side, and the transparent electrode 4 may be formed thereon.

【００４１】さらに、補助電極６の形状についても上記
に限定されるものではない。例えば、図１０に示すよう
に、網状の補助電極６Ｕを基板２の全面に配設し、網目
部分に透明電極を形成してもよい。この場合には、基板
２の全面に１つの電極が形成されているのと同じことに
なるので、例えばＴＦＴ素子基板の対向基板として適用
可能である。Further, the shape of the auxiliary electrode 6 is not limited to the above. For example, as shown in FIG. 10, a mesh-shaped auxiliary electrode 6U may be provided on the entire surface of the substrate 2 and a transparent electrode may be formed on the mesh portion. In this case, since it is the same as forming one electrode on the entire surface of the substrate 2, it can be applied, for example, as a counter substrate of a TFT element substrate.

【００４２】［電子機器］以下、本発明の液晶装置を備
えた電子機器の具体例について説明する。[Electronic Equipment] Hereinafter, specific examples of electronic equipment having the liquid crystal device of the present invention will be described.

【００４３】図１１は、携帯電話の一例を示した斜視図
である。FIG. 11 is a perspective view showing an example of a mobile phone.

【００４４】この図において、符号１０００は携帯電話
本体を示し、符号１００１は上記の電気光学装置を用い
た液晶表示部を示している。In this figure, reference numeral 1000 denotes a portable telephone body, and reference numeral 1001 denotes a liquid crystal display unit using the above-described electro-optical device.

【００４５】図１２は、腕時計型電子機器の一例を示し
た斜視図である。FIG. 12 is a perspective view showing an example of a wristwatch-type electronic device.

【００４６】この図において、符号１１００は時計本体
を示し、符号１１０１は上記の電気光学装置を用いた液
晶表示部を示している。In this figure, reference numeral 1100 denotes a watch main body, and reference numeral 1101 denotes a liquid crystal display unit using the above-described electro-optical device.

【００４７】図１３は、ワープロ、パソコンなどの携帯
型情報処理装置の一例を示した斜視図である。FIG. 13 is a perspective view showing an example of a portable information processing device such as a word processor or a personal computer.

【００４８】この図において、符号１２００は情報処理
装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１
２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の電気
光学装置を用いた液晶表示部を示している。In this figure, reference numeral 1200 denotes an information processing device, reference numeral 1202 denotes an input unit such as a keyboard, and reference numeral 1 denotes an input unit.
Reference numeral 204 denotes an information processing apparatus main body, and reference numeral 1206 denotes a liquid crystal display unit using the above-described electro-optical device.

【００４９】図１１ないし図１３に示す電子機器は、上
記の液晶装置を用いた液晶表示部を備えたものであるの
で、製造工程やコストが低減され、透明電極の厚みが薄
くて透過率が高く、しかも電極全体の抵抗の低い電子機
器を実現することができる。Since the electronic apparatus shown in FIGS. 11 to 13 is provided with a liquid crystal display section using the above-described liquid crystal device, the manufacturing process and cost are reduced, the thickness of the transparent electrode is reduced, and the transmittance is reduced. An electronic device that is high and has low overall electrode resistance can be realized.

【００５０】[0050]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、透明電極の外側が低抵抗な金属から成る補助電
極で囲まれているので、電極全体のシート抵抗を低減さ
せることができ、透明電極自体のシート抵抗が比較的高
くてもよい。そのため、透明電極の厚みを薄くして透過
率を向上させることができ、透明電極の薄膜化と電極全
体の低抵抗化を共に実現することができる。As apparent from the above description, according to the present invention, since the outside of the transparent electrode is surrounded by the auxiliary electrode made of a low-resistance metal, the sheet resistance of the entire electrode can be reduced. The sheet resistance of the transparent electrode itself may be relatively high. Therefore, the transmittance can be improved by reducing the thickness of the transparent electrode, and both the reduction in the thickness of the transparent electrode and the reduction in the resistance of the entire electrode can be realized.

【００５１】さらに、透明電極は、前記透明電極前駆体
を補助電極で囲まれた領域内に注入して形成されるの
で、透明電極をフォトリソグラフィによりパターニング
する必要がなく、製造工程やコストの低減を図ることが
できる。Further, since the transparent electrode is formed by injecting the transparent electrode precursor into the region surrounded by the auxiliary electrode, it is not necessary to pattern the transparent electrode by photolithography, thereby reducing the manufacturing process and cost. Can be achieved.

【００５２】そして、透明電極のシート抵抗が比較的高
くてもよいので、透明電極の成膜温度を低くして製造工
程やコストの低減を図ることができる。特に、耐熱温度
の低いプラスチックフィルム製基板の場合、成膜温度を
高くしたり膜厚を厚くする必要がないので、基板の反り
を生じさせずに透明電極の薄膜化と電極全体の低抵抗化
を実現することができる。Since the sheet resistance of the transparent electrode may be relatively high, the film forming temperature of the transparent electrode can be lowered to reduce the manufacturing process and cost. In particular, in the case of a plastic film substrate with a low heat-resistant temperature, it is not necessary to raise the film formation temperature or increase the film thickness. Can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】 本発明の液晶装置を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a liquid crystal device of the present invention.

【図２】 本発明の液晶装置を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the liquid crystal device of the present invention.

【図３】 図２のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along the line A-A 'of FIG.

【図４】 補助電極を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing an auxiliary electrode.

【図５】 カラーフィルタ層の配設態様を示す上面図で
ある。FIG. 5 is a top view showing an arrangement mode of a color filter layer.

【図６】 本発明の液晶装置の他の例を示す斜視図であ
る。FIG. 6 is a perspective view showing another example of the liquid crystal device of the present invention.

【図７】 図６のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。FIG. 7 is a sectional view taken along the line B-B 'of FIG.

【図８】 図６の液晶装置における補助電極を示す斜視
図である。8 is a perspective view showing an auxiliary electrode in the liquid crystal device of FIG.

【図９】 液晶装置の製造プロセスを示す工程断面図で
ある。FIG. 9 is a process sectional view illustrating the manufacturing process of the liquid crystal device.

【図１０】 補助電極の別の例を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing another example of the auxiliary electrode.

【図１１】 本発明の液晶装置を備えた電子機器の一例
を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view illustrating an example of an electronic apparatus including the liquid crystal device of the present invention.

【図１２】 同、電子機器の他の例を示す斜視図であ
る。FIG. 12 is a perspective view showing another example of the electronic device.

【図１３】 同、電子機器のさらに他の例を示す斜視図
である。FIG. 13 is a perspective view showing still another example of the electronic apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

２、２Ｓ 一方の基板 ４、４Ｓ、３４ 透明電極 ４Ａ 透明電極前駆体 ６、６Ｓ、６Ｕ、３６ 補助電極 ８ データ電極 ８Ｓ データ線 １０ 青色のカラーフ
ィルタ層 １２ 緑色のカラーフ
ィルタ層 １４ 赤色のカラーフ
ィルタ層 ３２、３２Ｓ 他の基板 ３８ 走査電極 ３８Ｓ 画素電極 ４０、４０Ｓ 液晶 ５０、５０Ｓ 液晶装置2, 2S One substrate 4, 4S, 34 Transparent electrode 4A Transparent electrode precursor 6, 6S, 6U, 36 Auxiliary electrode 8 Data electrode 8S Data line 10 Blue color filter layer 12 Green color filter layer 14 Red color filter Layer 32, 32S Other substrate 38 Scan electrode 38S Pixel electrode 40, 40S Liquid crystal 50, 50S Liquid crystal device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３３９ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３３９ ３４９ ３４９Ｂ Ｆターム(参考） 2H090 JB03 JD14 JD17 LA01 LA15 2H091 FA02Y FC01 FC21 FC29 FD04 FD14 FD24 GA01 GA03 LA11 LA12 LA15 2H092 GA05 GA13 HA04 HA06 JB02 KB14 MA05 MA10 MA12 MA14 MA15 MA16 MA18 MA35 NA25 NA27 NA28 NA30 PA08 RA10 5C094 AA02 AA21 AA36 AA43 AA44 BA03 BA43 CA19 CA24 DA14 DA15 EA04 EA05 EA07 EA10 EB02 ED03 GA10 HA03 HA08 HA10 5G435 AA00 AA16 AA17 BB12 EE33 GG12 HH12 HH14 KK05 KK09──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. ⁷ Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/30 339 G09F 9/30 339 349 349B F-term (Reference) 2H090 JB03 JD14 JD17 LA01 LA15 2H091 FA02Y FC01 FC21 FC29 FD04 FD14 FD24 GA01 GA03 LA11 LA12 LA15 2H092 GA05 GA13 HA04 HA06 JB02 KB14 MA05 MA10 MA12 MA14 MA15 MA16 MA18 MA35 NA25 NA27 NA28 NA30 PA08 RA10 5C094 AA02 AA21 AA36 AA43 AA44 BA03 BA43 CA19 EA04 EA10 EA03 HA08 HA10 5G435 AA00 AA16 AA17 BB12 EE33 GG12 HH12 HH14 KK05 KK09

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 一方の基板と他方の基板の間に液晶を有
し、少なくとも前記一方の基板における前記他の基板と
の対向面には、金属製の補助電極で囲まれた領域内に注
入された液状の透明電極前駆体が固化して成る透明電極
が形成されていることを特徴とする液晶装置。A liquid crystal is provided between one substrate and another substrate, and at least a surface of the one substrate facing the other substrate is injected into a region surrounded by a metal auxiliary electrode. A liquid crystal device, wherein a transparent electrode formed by solidifying the liquid transparent electrode precursor obtained is formed. 【請求項２】 前記補助電極で囲まれた領域は、画素を
構成することを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein a region surrounded by the auxiliary electrode forms a pixel. 【請求項３】 少なくとも前記一方の基板はプラスチッ
クフィルムから成ることを特徴とする請求項１又は２に
記載の液晶装置。3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein at least the one substrate is made of a plastic film. 【請求項４】 前記領域内には、透明電極とカラーフィ
ルタ層が積層して形成されていることを特徴とする請求
項１ないし３のいずれかに記載の液晶装置。4. The liquid crystal device according to claim 1, wherein a transparent electrode and a color filter layer are laminated in the region. 【請求項５】 前記透明電極の高さと前記補助電極の高
さは略同一であることを特徴とする請求項１ないし４の
いずれかに記載の液晶装置。5. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the height of the transparent electrode is substantially equal to the height of the auxiliary electrode. 【請求項６】 一対の基板の間に液晶を有する液晶装置
の製造方法であって、 前記一対の基板の一方の基板の表面に、該表面における
所定領域を囲むようにして金属製の補助電極を形成する
工程と、 少なくとも前記補助電極と接するようにして、前記所定
領域内に液状の透明電極前駆体を注入する工程と、 前記透明電極前駆体を固化させ、前記補助電極と電気的
に接続した透明電極を形成する工程とを備えることを特
徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の液晶装置
の製造方法。6. A method for manufacturing a liquid crystal device having a liquid crystal between a pair of substrates, wherein a metal auxiliary electrode is formed on a surface of one of the pair of substrates so as to surround a predetermined region on the surface. Performing a step of: injecting a liquid transparent electrode precursor into the predetermined region so as to be in contact with at least the auxiliary electrode; and solidifying the transparent electrode precursor and forming a transparent electrode electrically connected to the auxiliary electrode. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, further comprising: forming an electrode. 【請求項７】 インクジェット法を用いて、前記所定領
域内に前記透明電極前駆体を注入することを特徴とする
請求項６に記載の液晶装置の製造方法。7. The method according to claim 6, wherein the transparent electrode precursor is injected into the predetermined region by using an inkjet method. 【請求項８】 請求項１ないし５のいずれかに記載の液
晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。8. An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.