JP2001224997A - スラリー液塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

スラリー液塗布装置及び塗布方法

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JP2001224997A
JP2001224997A JP2000036774A JP2000036774A JP2001224997A JP 2001224997 A JP2001224997 A JP 2001224997A JP 2000036774 A JP2000036774 A JP 2000036774A JP 2000036774 A JP2000036774 A JP 2000036774A JP 2001224997 A JP2001224997 A JP 2001224997A
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slurry
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Shinobu Nakamura
忍 中村
Yoshihisa Ariga
能久 有賀
Toshiaki Seiwa
利章 清和
Hideo Tada
英夫 多田
Toshiharu Tanaka
敏晴 田中
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Abstract

(57)【要約】 【目的】スラリー液の使用効率が良く塗布が均一なスラ
リー液塗布装置を提供する。 【構成】本装置3は、基板1を載置する基台4と、スラ
リー液を供給するノズル部材6と、ノズル部材を直交す
る3方向に移動させる移動手段5を有している。ノズル
部材6の底面には長手方向に沿ってスリットが連続して
形成されている。スリットの方向は基板1に平行で、一
方の水平な移動方向に直交する。ノズル部材6にはスラ
リー液供給手段がスラリー液を供給する。ノズル部材6
のスリットからスラリー液を吐出させながら、ノズル部
材をスリットと直交する方向に移動させ、スラリー液を
基板1上に所定の厚さで塗布する。次に基板1を回転式
の振り切り装置で回転させてスラリー液を飛ばし、表面
にスラリー液の均一な膜を形成し、乾燥させる。粘度の
高いスラリー液を基板の表面に少ない量で塗り広げるこ
とができ、スラリー液の使用効率が良い。塗布の均一性
に優れている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板にスラリー液
を塗布するための装置と方法に関する。なお、本明細書
においてスラリー液とは、粉体を分散した所定粘度を有
する流体を広く指し示す用語である。例えば、水に粉体
と粘度調整材を混合したものなどもスラリー液である。
さらに具体的には、粉体が蛍光体の粉末であれば、この
スラリー液は、蛍光表示管・蛍光発光管・電界放出素子
・陰極線管などの製造において発光領域となる蛍光面を
形成する材料として使用できる。
【0002】
【従来の技術】電界放出素子の製造工程において、発光
領域となる陽極基板の内面側には、蛍光体層が所定の発
光パターンで形成される。このような蛍光体層を形成す
るには、まず蛍光体粉末を含んだスラリー液を陽極基板
の内面に均一に塗布し、これを所望のパターンに加工
し、さらに陽極基板を焼成して蛍光体層とする。
【0003】このような蛍光体層の形成において基板に
スラリー液を塗布するために、図5及び図6に示すよう
な装置が用いられていた。この装置は、基台100と、
基台100上に設けられてスラリー液を供給する液供給
部101と、基台100上に設けられて塗布対象である
基板を設置する基板設置部102と、液が塗布された基
板を乾燥させる乾燥部103と、基板から落ちた液を回
収する回収部104を有している。
【0004】基板1を水平な基板設置部102のステー
ジ105上に設置する。基板1のサイズは、370mm
×470mmである。操作パネル106の操作ボタンを
押して装置を作動させる。まず、ステージ105は10
rpm程度の低速で回転する。液供給部101に設けら
れた筒状の滴下ノズル107が基板1の中央上方に移動
し、下方の基板中央にスラリー液2を滴下する。その量
は約120gであり、実際に基板表面に塗布するのに必
要な量は約9gである。
【0005】次に、ステージ105の回転数が175r
pm程度にまで上昇するとともに、基板設置部102の
ステージ105が軸108を中心に図中(イ)の位置か
ら反時計周り方向に約110°回転した位置(ロ)に移
動する。回転によって基板1から振り切られたスラリー
液2が回収部104に回収される。
【0006】次に、ステージ105の回転数が75rp
m程度にまで低下するとともに、基板設置部102のス
テージ105が軸108を中心に時計周り方向に回転し
て(ハ)の位置に移動する。これは、図中(イ)の位置
から反時計周り方向に約90°回転した位置である。こ
の位置(ハ)において、スラリー液2が塗布された基板
1は乾燥部103に対面し、塗布されたスラリー液が乾
燥部の熱によって乾燥される。
【0007】以上説明した操作は、スラリー液の滴下か
ら乾燥に至るまで、連続的に処理される。各工程の処理
時間は、図示しない制御手段が内蔵するタイマに設定さ
れており、自動的に行なわれる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】前記装置によれば、ノ
ズルからスラリー液を基板上に滴下した段階で基板上に
おいてスラリー液が全面にわたって塗れ広がっているこ
とが必要である。一般にスラリー液は粘度が高いので簡
単には広がらず、基板の塗れ性や基板サイズとの関係
で、前述したような筒状のノズル107による滴下を行
なう場合には、供給するスラリー液の量を実際に必要な
量よりも相当に多くし、そのスラリー液の大部分を回転
によって振り切り、基板上に広げる必要があった。即
ち、使用されたスラリー液の大部分が回収液となり、ス
ラリー液の使用効率が悪いという問題があった。
【0009】特に小量生産の場合、回収されたスラリー
液を再生するのはコストを考慮すると困難であるため、
回収されたスラリー液はそのまま廃液として破棄されて
いる。
【0010】また、スラリー液は基板の中央に滴下され
ているので、塗布の均一性が悪い。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、スラリー液の
使用効率が良く、塗布の均一性に優れたスラリー液塗布
装置及び塗布方法を提供することを目的としている。
【0012】
【発明の実施の形態】請求項1に記載されたスラリー液
塗布装置は、基板の表面にスラリー液を塗布するための
スラリー液塗布装置において、スラリー液を貯容する空
間と該空間に連通する所定長さのスリットを備えたノズ
ル部材と、前記ノズル部材の空間内にスラリー液を供給
するスラリー液供給手段と、前記スラリー液供給手段か
ら供給されたスラリー液が前記スリットから出ることな
く前記空間内に充填されるように前記ノズル部材の空間
内に選択的に負圧を与える吸引手段と、前記ノズル部材
と前記基板を相対的に移動させる移動手段とを有してい
る。
【0013】請求項2に記載されたスラリー液塗布装置
は、請求項1記載のスラリー液塗布装置において、前記
スラリー液供給手段が、スラリー液の貯槽と、前記貯槽
のスラリー液が循環する循環路と、前記スラリー液を前
記循環路に送り出す循環ポンプと、前記循環路と前記ノ
ズル部材の空間を選択的に連通させる供給側バルブとを
有し、前記吸引手段が、前記ノズル部材の空間を吸引す
る吸引ポンプと、前記吸引ポンプと前記ノズル部材を選
択的に連通させる吸引側バルブとを有している。
【0014】請求項3に記載されたスラリー液塗布装置
は、請求項2記載のスラリー液塗布装置において、前記
供給側バルブと前記吸引側バルブを開放して前記ノズル
部材の空間内にスラリー液を溜め、次に、前記供給側バ
ルブを開放したまま前記吸引側バルブを閉止するととも
に、前記スリットの長手方向と直交する方向に沿って前
記ノズル部材を前記移動手段で前記基板に沿って移動さ
せることにより、前記ノズル部材の空間内にあるスラリ
ー液を前記基板に塗布するように制御を行う制御手段を
備えている。
【0015】請求項4に記載されたスラリー液塗布方法
は、基板の表面にスラリー液を塗布するためのスラリー
液塗布方法において、所定長さの塗布幅により、該塗布
幅と直交する塗布方向に沿ってスラリー液を前記基板の
表面に塗布し、前記基板を回転させて前記スラリー液の
一部を基板外に振り切ることにより前記基板の上に前記
スラリー液の膜を形成するものである。
【0016】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態の一例である
スラリー液塗布装置3を図1〜図4を参照して説明す
る。本装置3は、蛍光表示管・蛍光発光管・電界放出素
子などの蛍光体を用いた表示装置の製造工程において、
蛍光体を含むスラリー液を基板の表面に塗布するために
用いられる装置である。
【0017】図1に示すように、本装置3は、基板1を
載置するための基台4と、基台4上に設置された移動手
段5と、この移動手段5に取り付けられて移動すること
により基台4上の基板1にスラリー液2を塗布するノズ
ル部材6とを有している。
【0018】図1に示すように、この移動手段5は、基
台4に設けられた第1の案内部材7と、第1の案内部材
7に移動可能に取り付けられた第1の移動体8と、第1
の移動体8に固定された第2の案内部材9と、第2の案
内部材9に移動可能に取り付けられた第2の移動体10
と、第2の移動体10に設けられた第3の案内部材11
と、第3の案内部材11に移動可能に取り付けられた第
3の移動体12とを有している。第3の移動体12に前
記ノズル部材6が取り付けられる。第1の案内部材7の
案内方向と第2の案内部材9の案内方向は水平であり、
互いに直交している。また、第3の案内部材11の案内
方向は鉛直方向である。よって、第3の移動体12に連
結されたノズル部材6は、水平面内を直交する2方向に
沿って移動可能であり、これに垂直な方向に沿っても移
動可能である。
【0019】図2に示すように、ノズル部材6は内部に
空間15を有する細長い箱型であり、その長手方向が第
2の移動体10の移動方向及び基台4の表面に対して平
行となるように、第3の移動体12に取り付けられてい
る。ノズル部材6の底面には、長手方向に沿ってスリッ
ト16が連続して形成されている。スリット16の長手
方向は第2の移動体10の移動方向、即ち第2の案内部
材9に平行である。このスリット16は内部の空間15
に連通している。
【0020】図2に示すように、前記ノズル部材6に
は、前記空間15内にスラリー液2を供給するスラリー
液供給手段17が接続されている。スラリー液供給手段
17は、スラリー液2の貯槽18と、前記貯槽18のス
ラリー液2が循環する循環路19と、前記スラリー液2
を前記循環路19に送り出す循環ポンプ20と、前記循
環路19と前記ノズル部材6の空間15を選択的に連通
させる供給側バルブ21とを有している。本例の供給側
バルブ21は、ソレノイドバルブからなる。
【0021】図2に示すように、前記ノズル部材6に
は、前記ノズル部材6の空間15内に選択的に負圧を与
える吸引手段22が設けられている。本例では、吸引手
段22の吸引力は比較的小さく、またノズル部材6内の
スラリー液の液面高さが比較的低いことにより、スラリ
ー液は吸引されない構造となっているが、スラリー液2
を吸い出すようにしてもよい。吸引手段22は、前記ノ
ズル部材6の空間15に連通する吸引管23と、吸引管
23に接続されて空間15内を吸引する吸引ポンプ24
と、吸引ポンプ24と空間15の間の吸引管23に設け
られて前記吸引ポンプ24と前記ノズル部材6を選択的
に連通させる吸引側バルブ25とを有している。また、
吸引側バルブ25と吸引ポンプ24の間の吸引管23に
は、流量調節つまみ26が設けられている。本例の吸引
側バルブ25は、ソレノイドバルブからなる。この吸引
手段22が空間15内を吸引することにより、前記スラ
リー液供給手段17が空間15内にスラリー液2を供給
した時に、スラリー液2がスリット16から吐出するこ
となく空間15内に充填される。
【0022】供給側バルブ21と吸引側バルブ25を開
放すると、ノズル部材6の空間15内にスラリー液2が
流入する。スリット16からはスラリー液2が出ないの
で、スラリー液2は空間15内に溜まる。
【0023】供給側バルブ21を開放したまま吸引側バ
ルブ25を閉止すると、供給側で循環ポンプ20によっ
てスラリー液2に加えられている圧力(供給圧力)によ
り、スラリー液2がスリット16から外に吐出する。ノ
ズル部材6を基板1から所定の高さに保持し、このスラ
リー液2の吐出に合わせて、スリット16の長手方向と
直交する方向に沿ってノズル部材6を基板1に沿って移
動させれば、図3に示すように基板1の表面にスラリー
液2を所定の厚さで塗布していくことができる。
【0024】次に、本装置を用いた基板1に対するスラ
リー液2の塗布動作を図2及び図4を参照して説明す
る。以下に説明する動作は、本装置の図示しない制御手
段によって行なわれる。流量調節つまみ26を調節し、
ノズル部材6の空間15内にスラリー液2が入る流量よ
りも、吸引ポンプ24による吸引の流量が少なくなるよ
うにしておく。そして、供給側バルブ21と吸引側バル
ブ25を開放し、ノズル部材6の空間15内にスラリー
液2を溜める。規定量のスラリー液2が溜まったら、両
方のバルブを閉止する。
【0025】基板1を基台4の上に設定する。装置を始
動し、ノズル部材6のスリット16から出たスラリー液
2が基板1上に所定の厚さで塗り広げられていくよう
に、制御手段がプログラムに従って装置の各部を作動さ
せる。
【0026】この塗り広げの動作においては、図4に示
すように、ノズル部材6は位置からまで移動し、一
連の作業終了後に再びに戻る。
【0027】はノズルの原点位置であり、ここで供給
側バルブ21を開いてスラリー液2を3秒間空打ちし、
スリット16が詰まっていないことを確認する。吐出し
たスラリー液2は空打ち回収槽27に回収される。
【0028】空打ち後、供給側バルブ21を閉め(吸引
側バルブ25は閉まっている)、ノズル部材6はまで
移動し、その後まで垂直下方に移動する。この間、供
給側バルブ21と吸引側バルブ25は同時に閉まってお
り、またノズル部材6のスリット16はスラリー液で塞
がれた状態にあるので、ノズル先端のスラリー液の表面
張力によりノズル16からはスラリー液は吐出されな
い。このの位置がノズル部材6の塗布開始位置であ
る。この位置において、ノズル部材6のスリット16と
基板1の表面との間隔は最適に設定されている。
【0029】移動手段5が作動し、ノズル部材6が塗布
開始位置から塗布終了位置まで図中矢印(ニ)で示
す所定の塗布方向に沿って基板1の上方を移動する。そ
の間、ノズル部材6はスラリー液2を吐出し、図3に示
したように吐出されたスラリー液2が基板1上に所定の
厚さで塗布されていく。
【0030】上記塗布動作は次のように行なわれる。ま
ず、塗布開始位置において、吸引側バルブ25を閉め
たまま、供給側バルブ21を開放してスラリー液2を吐
出させるとともに、ノズル部材6の移動を開始する。塗
布終了位置の移動方向手前にある位置で供給側バル
ブ21を閉止して吐出を止める。位置から塗布終了位
置までの間は、スラリー液2の表面張力によりノズル
からスラリー液2が引き出される現象が起きる。このた
め、スラリー液2は塗布終了位置まで塗れ広がる。
【0031】塗布終了後、ノズル部材6は塗布終了位置
から垂直上方のまで移動し、再びに戻る。ノズル
の原点位置で行う前記空打ちの動作の前に、供給側バ
ルブ21と吸引側バルブ25を開放してノズル部材6の
空間15内にスラリー液をためる動作を行う。
【0032】以上の動作によって基板1の表面の所望の
範囲にスラリー液2を所望の厚さで塗り広げることがで
きた。次に、この基板1を回転式の振り切り装置に取り
付けて回転させ、遠心力によってスラリー液2を飛ばし
て表面にスラリー液2の均一な膜を形成する。さらに、
乾燥装置を用い、この基板1のスラリー液2を乾燥さ
せ、スラリー液2の膜を基板1に定着させる。これによ
って、基板1の表面には所望の均一な厚さのスラリー液
2の膜が完成した。
【0033】前記工程に使用する回転式の振り切り装置
及び乾燥装置としては、従来の技術で説明した装置の回
転可能な基板設置部と、液が塗布された基板を乾燥させ
る乾燥部をそれぞれ用いることができる。
【0034】なお、本例で使用するスラリー液2は、純
水39.55%、界面活性剤0.45%、蛍光体粉末3
0.0%、感光性溶液30.0%の組成である。また、
基板1のサイズは370mm×470mmである。スリ
ット16の開口幅(移動方向に沿って測定した寸法)は
0.25mmであり、基板1とノズル部材6の間隔は
0.25mm、塗布時のノズル部材6の移動速度は50
mm/secである。ノズル部材6にスラリー液2を2
0秒間注入すると、ノズル部材6の空間15内にはスラ
リー液2が40g溜まる。この量は基板30枚に対し塗
布可能な量であるが、塗布は、さらにスラリー液を供給
側バルブ20からノズル部材6内に供給しながら行う。
これは、基板に塗布する時、スラリー液の表面張力の影
響によりノズル内部からスラリー液が引き出される現象
が起きてしまい、ポンプからの送り量と基板上のスラリ
ー液量に違いが発生してしまうため、基板に塗布する回
数を重ねていくとノズル内部のスラリー液が減少してし
まうからである。ノズル内部にスラリー液が無くなると
基板に塗布されないため、塗布時にはノズル部材の内部
にスラリー液を注入する作業を行う。そして基板30枚
に塗布する度に、主としてスラリー液の品質を保持する
ため、一旦ノズル部材6内のスラリー液2を抜いて再度
スラリー液2を注入する作業を行なうとよい。
【0035】従来のスラリー液塗布装置乃至方法では、
基板サイズ・塗れ性などによりスラリー液の使用量が多
く、スラリー液使用効率が悪かった。[従来の技術]の
項で説明した基板の中央に滴下して回転で広げる方法で
は、スラリー液の使用量は約120gであった。本例に
よれば、その他の条件が同一として、スラリー液の使用
量は約18gですむ。
【0036】以上の構成において、ノズル部材6の側面
に内部のスラリー液2を視認するための窓を設けてお
き、内部のスラリー液2の量を監視できるようにしても
よい。あるいは、ノズル部材6の空間15内にセンサを
設け、スラリー液2の量を検知するようにしてもよい。
【0037】以上の構成では、基板1が固定でノズル部
材6が移動することになっていたが、ノズル部材6が固
定で基板1側を移動させるようにしてもよい。
【0038】
【発明の効果】本発明の方法によれば、スリットが形成
されたノズル部材に、スラリー液供給手段と吸引手段と
を連結し、移動手段でノズル部材を基板に対して相対移
動させて液の塗布を行なうようにしたので、粘度の高い
スラリー液を基板の表面に少ない量で塗り広げることが
でき、スラリー液の使用効率が良い。そして塗布の均一
性に優れており、少ないスラリー液の使用量で基板表面
に均一にスラリー液の膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係るスラリー液塗布装置の
斜視図である。
【図2】(a)は実施形態のスラリー液塗布装置におけ
るノズル部材及び液供給系を示す図であり、(b)のB
−B切断線における断面図および配管系統図である。
(b)は実施形態のスラリー液塗布装置におけるノズル
部材の断面図であり、(a)のA−A切断線における断
面図である。
【図3】実施形態のスラリー液塗布装置において塗布動
作を行なうノズル部材の断面図である。
【図4】実施形態のスラリー液塗布装置におけるノズル
部材の動作経路を示す図である。
【図5】従来のスラリー液塗布装置の正面図である。
【図6】従来のスラリー液塗布装置の液供給部の一部と
基板が設置された基板設置部を示す断面図である。
【符号の説明】
1…基板、2…スラリー液、3…スラリー液塗布装置、
5…移動手段、6…ノズル部材、15…空間、16…ス
リット、17…スラリー液供給手段、18…貯槽、19
…循環路、20…循環ポンプ、21…供給側バルブ、2
2…吸引手段、24…吸引ポンプ、25…吸引側バル
ブ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清和 利章 千葉県茂原市大芝629 双葉電子工業株式 会社内 (72)発明者 多田 英夫 千葉県茂原市大芝629 双葉電子工業株式 会社内 (72)発明者 田中 敏晴 千葉県茂原市大芝629 双葉電子工業株式 会社内 Fターム(参考) 4D075 AC02 AC73 AC95 CA48 DA06 DB14 DC22 EA05 4F041 AA05 AB01 BA05 BA12 BA35 BA57 CA02 CA16 CA22 5C028 FF01 HH04

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板の表面にスラリー液を塗布するため
    のスラリー液塗布装置において、 スラリー液を貯容する空間と該空間に連通する所定長さ
    のスリットを備えたノズル部材と、 前記ノズル部材の空間内にスラリー液を供給するスラリ
    ー液供給手段と、 前記スラリー液供給手段から供給されたスラリー液が前
    記スリットから出ることなく前記空間内に充填されるよ
    うに前記ノズル部材の空間内に選択的に負圧を与える吸
    引手段と、 前記ノズル部材と前記基板を相対的に移動させる移動手
    段と、 を有するスラリー液塗布装置。
  2. 【請求項2】 前記スラリー液供給手段が、スラリー液
    の貯槽と、前記貯槽のスラリー液が循環する循環路と、
    前記スラリー液を前記循環路に送り出す循環ポンプと、
    前記循環路と前記ノズル部材の空間を選択的に連通させ
    る供給側バルブとを有し、 前記吸引手段が、前記ノズル部材の空間を吸引する吸引
    ポンプと、前記吸引ポンプと前記ノズル部材を選択的に
    連通させる吸引側バルブとを有する請求項1記載のスラ
    リー液塗布装置。
  3. 【請求項3】 前記供給側バルブと前記吸引側バルブを
    開放して前記ノズル部材の空間内にスラリー液を溜め、
    次に、前記供給側バルブを開放したまま前記吸引側バル
    ブを閉止するとともに、前記スリットの長手方向と直交
    する方向に沿って前記ノズル部材を前記移動手段で前記
    基板に沿って移動させることにより、前記ノズル部材の
    空間内にあるスラリー液を前記基板に塗布するように制
    御を行う制御手段を備えた請求項2記載のスラリー液塗
    布装置。
  4. 【請求項4】 基板の表面にスラリー液を塗布するため
    のスラリー液塗布方法において、 所定長さの塗布幅により、該塗布幅と直交する塗布方向
    に沿ってスラリー液を前記基板の表面に塗布し、 前記基板を回転させて前記スラリー液の一部を基板外に
    振り切ることにより前記基板の上に前記スラリー液の膜
    を形成するスラリー液塗布方法。
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Cited By (4)

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