JP2001222103A - 水性フォトソルダーレジスト組成物 - Google Patents

水性フォトソルダーレジスト組成物

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JP2001222103A JP2000168579A JP2000168579A JP2001222103A JP 2001222103 A JP2001222103 A JP 2001222103A JP 2000168579 A JP2000168579 A JP 2000168579A JP 2000168579 A JP2000168579 A JP 2000168579A JP 2001222103 A JP2001222103 A JP 2001222103A
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尚哉 藪内
Minoru Fujita
稔 藤田
Osamu Nanba
修 難波
Keiichi Okajima
圭一 岡島
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Nippon Paint Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 貯蔵安定性において問題がなく、耐熱性に優
れ、かつ溶剤臭を有しない水性フォトソルダーレジスト
組成物を提供する。 【解決手段】 （Ａ）ラジカル重合性基とカルボキシル
基とを含有する樹脂を塩基で中和して得られる水溶液、
（Ｂ）無機フィラー、（Ｃ）多官能性アクリルモノマー
（ｃ１）、グリシジル基以外の環状エーテル基を有する
化合物（ｃ２）、及び光重合開始剤（ｃ３）からなる光
硬化性混合物、及び必要に応じて、（Ｄ）酸価１３０〜
２３０ｍｇＫＯＨ／ｇのラジカル重合体を塩基で中和し
て得られる水溶液を含む水性フォトソルダーレジスト組
成物であって、上記グリシジル基以外の環状エーテル基
は、例えば、脂環式エポキシ基またはオキセタン基であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルカリ現像可能
な水性フォトソルダーレジスト組成物及びこれを用いて
得られるソルダーレジスト皮膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】プリント配線板のソルダーレジストとし
ては、露光後、現像することにより画像を形成し、加熱
または光照射によって硬化させる液状現像型のものが用
いられている。これを形成するのに用いられるソルダー
レジスト組成物は溶剤型のものであるため、これらが環
境に与える影響を考慮して、水性のものの開発が望まれ
てきた。
【０００３】特開平５−１００４２７号公報には、炭素
数６以上のα−オレフィンと無水マレイン酸との部分反
応物に、分子内に不飽和二重結合及び水酸基を有する化
合物を反応させ、さらにアルカリ性成分で中和して水性
化させてなる活性エネルギー線硬化性樹脂、及び、エポ
キシ基を少なくとも１個有する化合物を含む水性フォト
ソルダーレジスト組成物が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この水性フォトソルダ
ーレジスト組成物においては、エポキシ基として、水性
媒体中で失活しやすいグリシジルタイプのものを用いて
いるため、主剤と硬化剤とを混合した液の貯蔵安定性に
問題があった。これは組成物の保存時、乾燥時のグリシ
ジル基の反応に起因するものであり、現像性が低下する
ばかりか、均一な膜が形成できなくなるために耐熱性な
どの諸特性が低下する。また、水性のものであっても溶
剤臭がするものがあり、作業環境上の問題を有してい
た。さらに、無機フィラーの分散安定性に乏しいため
に、現像後のパターンに欠陥があったり、耐熱性などに
乏しいという欠点があった。
【０００５】本発明は、貯蔵安定性において問題がな
く、耐熱性に優れ、かつ溶剤臭を有しない水性フォトソ
ルダーレジスト組成物を提供することを目的とするもの
である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の水性フォトソル
ダーレジスト組成物は、（Ａ）ラジカル重合性基とカル
ボキシル基とを含有する樹脂を塩基で中和して得られる
水溶液、（Ｂ）無機フィラー、（Ｃ）多官能性アクリル
モノマー（ｃ１）、グリシジル基以外の環状エーテル基
を有する化合物（ｃ２）、及び光重合開始剤（ｃ３）か
らなる光硬化性混合物、及び、必要に応じて、（Ｄ）酸
価１３０〜２３０ｍｇＫＯＨ／ｇのラジカル重合体を塩
基で中和して得られる水溶液を含んでいる。
【０００７】ここで、先のグリシジル基以外の環状エー
テル基は、例えば、脂環式エポキシ基またはオキセタン
基である。また、ラジカル重合性基とカルボキシル基と
を含有する樹脂において、ラジカル重合性基の含有量は
５×１０-4〜１×１０-2ｍｏｌ／ｇであることが好まし
い。また、該樹脂においてカルボキシル基の含有量（す
なわち酸価）は３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであること
が好ましく、さらに好ましくは３０〜１３０ｍｇＫＯＨ
／ｇである。また、水溶液（Ａ）及び（Ｄ）中のカルボ
キシル基と、光硬化性混合物（Ｃ）中のグリシジル基以
外の環状エーテル基との量比は、モル比で、例えば、
１．３／０．７〜０．７／１．３である。
【０００８】また、本発明の水性フォトソルダーレジス
ト組成物は、例えば、さらに着色顔料を含んでいてもよ
い。また無機フィラーの含有量は、水性フォトソルダー
レジスト組成物の固形分１００重量部中の５〜６０重量
部であることが好ましく、溶剤の含有量は、固形分１０
０重量部に対して２０重量部以下であることが好まし
い。
【０００９】本発明のソルダーレジスト皮膜は、先の水
性フォトソルダーレジスト組成物を、基材に塗布し、５
０〜９０℃で乾燥後、活性エネルギー線を露光し、未露
光部をアルカリ性洗浄液で現像除去し、光硬化部分を１
４０〜１７０℃で加熱し、硬化して得られる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の水性フォトソルダーレジ
スト組成物は、（Ａ）ラジカル重合性基とカルボキシル
基とを含有する樹脂を塩基で中和して得られる水溶液、
（Ｂ）無機フィラー、（Ｃ）多官能性アクリルモノマー
（ｃ１）、グリシジル基以外の環状エーテル基を有する
化合物（ｃ２）、及び光重合開始剤（ｃ３）からなる光
硬化性混合物、及び、必要に応じて、（Ｄ）酸価１３０
〜２３０ｍｇＫＯＨ／ｇのラジカル重合体を塩基で中和
して得られる水溶液を含んでいる。
【００１１】（Ａ）ラジカル重合性基とカルボキシル基
とを含有する樹脂を塩基で中和して得られる水溶液 本発明の水性フォトソルダーレジスト組成物に含まれる
第１の成分は、ラジカル重合性基とカルボキシル基とを
含有する樹脂を塩基で中和して得られる。このラジカル
重合性基とカルボキシル基とを含有する樹脂は、１分子
内に少なくとも１個以上のラジカル重合性基とカルボキ
シル基とを有するものであり、上記ラジカル重合性基の
含有量が５×１０-4〜１×１０-2ｍｏｌ／ｇであり、カ
ルボキシル基の含有量が３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇで
あることが好ましい。
【００１２】上記ラジカル重合性基の含有量が５×１０
-4ｍｏｌ／ｇ未満であると、得られるレジストの硬化が
不十分になり耐熱性が劣る恐れがあり、１×１０-2ｍｏ
ｌ／ｇを上回ると、レジスト中にラジカル重合性基が残
存する恐れがあり好ましくない。また、カルボキシル基
の含有量が３０ｍｇＫＯＨ／未満であると、アルカリ現
像性が低下し、２００ｍｇＫＯＨ／ｇを上回ると、露光
部分まで溶解してしまう恐れがある。上記ラジカル重合
性基の含有量が１×１０-3〜５×１０-3ｍｏｌ／ｇであ
り、カルボキシル基の含有量が３０〜１５０ｍｇＫＯＨ
／ｇであることがさらに好ましい。カルボキシル基の含
有量は、さらに３０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇであること
が好ましく、さらに好ましくは７０〜１１０ｍｇＫＯＨ
／ｇである。
【００１３】上記ラジカル重合性基とカルボキシル基と
を含有する樹脂の数平均分子量は、１５００〜２５００
０であることが好ましい。１５００未満だと、得られる
レジストの耐熱性が十分でなく、２５０００を上回ると
水性化が困難になる場合がある。
【００１４】上記ラジカル重合性基とカルボキシル基と
を含有する樹脂は特に限定されない。上記ラジカル重合
性基とカルボキシル基とを含有する樹脂は、例えば、複
数のエポキシ基を有する化合物に、例えば、アクリル酸
のようなラジカル重合性基とカルボキシル基とを有する
化合物を反応させ、その後、この反応により生じた水酸
基に酸無水物を反応させることによって得られる。
【００１５】このような複数のエポキシ基を有する化合
物としては、種々のものが利用でき、例えば、特公平７
−１０３２１３号公報に記載されている、例えば下記の
式１ａ〜１ｃで示されるような芳香族ポリエポキシ化合
物や特許第２８６８１９０号公報に記載されている、下
記の式２ａ及び２ｃで示されるようなフェノール類とフ
ェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物
のエピハロヒドリンによるエポキシ化物を挙げることが
できる。なお、式１におけるｎの好ましい値は１〜２０
であり、式２におけるｍの好ましい値は０〜１５であ
り、０〜１０がより好ましい。
【００１６】
【化１】
【００１７】
【化２】
【００１８】また、この他の複数のエポキシ基を有する
化合物は、酸無水物基を有するモノマーの重合体に、２
−ヒドロキシエチルアクリレートのようなラジカル重合
性基と水酸基とを有する化合物を反応させることによっ
ても得ることができる。
【００１９】このラジカル重合性基とカルボキシル基と
を含有する樹脂に塩基を加え、カルボキシル基を中和す
ることにより上記水溶液（Ａ）を得ることができる。上
記塩基は、特に限定されず、カルボキシル基の中和剤と
してよく知られたもの、例えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウムなどの無機物やトリエチ
ルアミン、ジエタノールアミン、ジイソプロピルメチル
アミンなどのアミン化合物を用いることができる。上記
塩基の量は、ラジカル重合性基とカルボキシル基とを含
有する樹脂の分子量及びカルボキシル基の含有量に合わ
せて適宜決定され、水溶化することができる量であれば
よいが、例えば、カルボキシル基の３０〜２００％を中
和する量に設定することができる。
【００２０】（Ｂ）無機フィラー 本発明の水性フォトソルダーレジスト組成物に含まれる
第２の成分は、無機フィラーである。無機フィラーは、
レジストの耐熱性向上のために用いられるものであり、
硫酸バリウム、微粉状炭化珪素、無定型シリカなどの公
知のものを用いることができる。なお、上記無機フィラ
ーには公知の難燃剤を含んでいるものとする。なお、上
記無機フィラーは、先に説明した（Ａ）の水溶液に直接
加えて分散させることも可能であるが、分散性の点か
ら、（Ａ）の水溶液とは別に、水分散体を形成しておく
こともできる。
【００２１】なお、上記無機フィラーの量は、本発明の
水性フォトソルダーレジスト組成物中の固形分に占める
割合として決定される。この割合については、後述の水
性フォトソルダーレジスト組成物についてのところで説
明する。
【００２２】（Ｃ）光硬化性混合物 本発明の水性フォトソルダーレジスト組成物に含まれる
第３の成分は、多官能性アクリルモノマー（ｃ１）、グ
リシジル基以外の環状エーテル基を有する化合物（ｃ
２）、及び光重合開始剤（ｃ３）からなる光硬化性混合
物である。この光硬化性混合物は、本発明の水性フォト
ソルダーレジスト組成物において、エマルション状態と
なっている。
【００２３】＜多官能性アクリルモノマー（ｃ１）＞上
記多官能性アクリルモノマー（ｃ１）は、１分子内に２
個以上の重合性基を有するものであればよく、この多官
能性アクリルモノマー（ｃ１）を含有することにより、
パターニングのための光硬化を行うことができる。
【００２４】上記多官能性アクリルモノマー（ｃ１）の
具体例としては、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレング
リコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びこ
れらに対応するメタクリレート類などを挙げることがで
きる。これらは、単独または２種以上を組み合わせて使
用することができる。
【００２５】＜グリシジル基以外の環状エーテル基を有
する化合物（ｃ２）＞上記グリシジル基以外の環状エー
テル基を有する化合物（ｃ２）は、加熱により、レジス
ト組成物のカルボキシル基と硬化反応するものである。
環状エーテル基がグリシジル基である場合、水性媒体中
で失活しやすいため好ましくない。グリシジル基以外の
環状エーテル基としては、脂環式エポキシ基またはオキ
セタン基が好ましい。これらの環状エーテル基の他に
は、ポリブタジエンのような主鎖中に二重結合を含むも
のを酸化して環状エーテル基を形成したものや脂環式エ
ポキシにビニル基が結合した化合物を開環重合させたも
のを、酸化して環状エーテル化したものなども挙げるこ
とができるが、入手容易性の点から上記２種が好まし
い。
【００２６】上記脂環式エポキシ基を有するものは、種
々のものが市販されており、例えば、ダイセル化学工業
社から販売されているセロキサイドシリーズ、エポリー
ドシリーズ、シクロマーシリーズ及びこれを重合したも
のなどを挙げることができ、例えば分子内に以下に示す
構造を含むものである。
【００２７】
【化３】
【００２８】一方、上記オキセタン基を有するものにつ
いても、東亞合成社からアロンオキセタンシリーズとし
て販売されている。これらの中で、１分子中に２個以上
の脂環式エポキシ基またはオキセタン基を持つものが好
ましく、３個以上持つものが特に好ましい。
【００２９】＜光重合開始剤（ｃ３）＞上記光重合開始
剤（ｃ３）としては、公知のものを用いることができ
る。具体例として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピル
エーテルのようなベンゾイン及びベンゾインアルキルエ
ーテル類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−
フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノ
ンのようなアセトフェノン類；２−メチル−１−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパノン
−１，２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−
モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノアセトフェノンのようなアミノアセトフェノ
ン類；２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラ
キノン、２−ターシャリーブチルアントラキノン、１−
クロロアントラキノンのようなアントラキノン類；２，
４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキ
サントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジイソ
プロピルチオキサントンのようなチオキサントン類；ア
セトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタ
ールのようなケタール類；ベンゾフェノン、４，４’−
ビスジエチルアミノベンゾフェノンのようなベンゾフェ
ノン類またはキサントン類；２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドなどが挙げら
れる。これらは、単独または２種以上の混合物として使
用でき、さらにトリエタノールアミンなどの第３アミ
ン、ジメチルアミノ安息香酸エチルなどの光開始助剤を
加えて用いることができる。
【００３０】本発明の水性フォトソルダーレジスト組成
物に含まれる光硬化性混合物における上記多官能性アク
リルモノマー（ｃ１）、グリシジル基以外の環状エーテ
ル基を有する化合物（ｃ２）、及び光重合開始剤（ｃ
３）の量比は、本発明の水性フォトソルダーレジスト組
成物中の固形分に占める割合として決定される。この割
合については、後述の水性フォトソルダーレジスト組成
物についてのところで説明する。また、上記光硬化性混
合物には、上記成分以外に、環状エーテル基と反応する
トリアジンのようなアミノ基を含む化合物を含めること
ができる。
【００３１】（Ｄ）酸価１３０〜２３０ｍｇＫＯＨ／ｇ
のラジカル重合体を塩基で中和して得られる水溶液 本発明の水性フォトソルダーレジスト組成物に任意成分
として含ませることができる第４の成分は、酸価１３０
〜２３０ｍｇＫＯＨ／ｇのラジカル重合体を塩基で中和
して得られる水溶液である。この水溶液を用いることに
より、無機フィラーの分散性を高めることができる。上
記ラジカル重合体としては、アクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸、マレイン酸などの酸性モノマー
（カルボキシル基含有モノマー）を、カルボキシル基な
どの酸性基を有しない他のビニル単量体と共重合して得
られる重合体が挙げられる。酸価（カルボキシル基の含
有量）は、１３０〜２３０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内のも
のが用いられる。酸価がこの範囲より低いと、無機フィ
ラーの分散安定化能力に乏しく、酸価がこの範囲を超え
ると、水溶液（Ａ）及び光硬化性混合物（Ｃ）との相溶
性が乏しく、均一な皮膜を得ることができない。
【００３２】上記ラジカル重合体の数平均分子量は１０
００〜１５００００であることが好ましい。数平均分子
量が１０００未満であると、無機フィラーなどの顔料の
分散能力に乏しい場合がある。また、数平均分子量が１
５００００を超えると、水溶液の粘度が高くなりすぎる
ため、無機フィラーの分散が困難になる場合がある。
【００３３】水性フォトソルダーレジスト組成物 本発明の水性フォトソルダーレジスト組成物は、（Ａ）
ラジカル重合性基とカルボキシル基とを含有する樹脂を
塩基で中和して得られる水溶液、（Ｂ）無機フィラー、
（Ｃ）多官能性アクリルモノマー（ｃ１）、グリシジル
基以外の環状エーテル基を有する化合物（ｃ２）、及び
光重合開始剤（ｃ３）からなる光硬化性混合物、及び、
必要に応じて、（Ｄ）酸価１３０〜２３０ｍｇＫＯＨ／
ｇのラジカル重合体を塩基で中和して得られる水溶液を
含んでいる。
【００３４】本発明の水性フォトソルダーレジスト組成
物は、上記成分を、当業者によく知られた方法で混合す
ることにより得られる。その際、各成分比は以下の条件
を満たしていることが、レジスト組成物及びそれから得
られるレジストの性能を向上させるため、好ましい。
【００３５】まず、（Ａ）及び（Ｄ）の水溶液中のカル
ボキシル基と、（Ｃ）の光硬化性混合物中のグリシジル
基以外の環状エーテル基との量比は、モル比（カルボキ
シル基／環状エーテル基）で１．３／０．７〜０．７／
１．３であることが好ましい。この範囲を外れると、架
橋度が上がらず、耐熱性が十分でなくなる恐れがある。
１．１５／０．８５〜０．８５／１．１５であることが
さらに好ましい。
【００３６】（Ａ）の水溶液中に含まれる樹脂と（Ｄ）
の水溶液中に含まれるラジカル重合体との重量比（樹脂
／ラジカル重合体）は、７０／３０〜１００／０である
ことが好ましい。ラジカル重合体の重量比が３０重量％
を超えると、現像時に皮膜の剥離を生じる場合がある。
【００３７】次に（Ｂ）の無機フィラーは、本発明の水
性フォトソルダーレジスト組成物の固形分１００重量部
中の５〜６０重量部であることが好ましい。５重量部未
満では、耐熱性及び硬化収縮を防ぐ効果に乏しく、６０
重量部を上回ると現像性が低下する場合がある。１５〜
３５重量部であることがさらに好ましい。
【００３８】さらに、（Ｃ）の光硬化性混合物に含まれ
る多官能性アクリルモノマー（ｃ１）は、本発明の水性
フォトソルダーレジスト組成物の固形分１００重量部中
の２．０〜１５．０重量部であることが好ましい。２．
０重量部未満では、光硬化性に乏しく、１５．０重量部
を上回ると耐熱性が低下する場合がある。
【００３９】一方、（Ｃ）の光硬化性混合物に含まれる
光重合開始剤（ｃ３）は、本発明の水性フォトソルダー
レジスト組成物の固形分１００重量部中の０．５〜１０
重量部であることが好ましい。０．５重量部未満では、
未反応の二重結合が多く残存し、１０重量部を上回ると
分子量が低くなりすぎるため、膜の硬度が低くなる恐れ
がある。１．０〜８重量部であることがさらに好まし
い。
【００４０】本発明の水性フォトソルダーレジスト組成
物においては、カルボキシル基と環状エーテル基との反
応によって生じた水酸基をさらに反応させて架橋密度を
高めるために、例えばメラミンが添加されていてもよ
い。メラミンの添加量としては、環状エーテル基を有す
る化合物（ｃ２）１００重量部に対して４０重量部以下
であることが好ましい。
【００４１】本発明の水性フォトソルダーレジスト組成
物は、上記の含有成分以外に必要に応じて内部溶剤を含
んでいてもよい。これは、膜を均一化するための助剤と
して用いられるもので、上記の含有成分中の油性のもの
を溶解することができ、沸点が１２０〜２５０℃、好ま
しくは１３５〜２００℃であって、親水性を有するもの
を使用することができる。具体的には、プロピレングリ
コールジアセテート、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテートを挙げることができる。この内部溶剤を用い
る場合には、本発明の水性フォトソルダーレジスト組成
物の固形分１００重量部に対して、２０重量部以下が好
ましく、１０重量部以下であることがさらに好ましい。
２０重量部を上回ると、臭気及び安全性の点から水性化
の意味が失われる場合がある。内部溶剤は、上記の含有
成分に含めておいてもよく、水性フォトソルダーレジス
ト組成物を調整する際に加えてもよい。
【００４２】また、本発明の水性フォトソルダーレジス
ト組成物は、着色顔料を含んでいてもよい。着色顔料と
しては、例えば、銅フタロシアニン、塩素化フタロシア
ニン、キナクリドンレッドなどの公知のものを使用する
ことができる。着色顔料を含む場合、着色顔料は、本発
明の水性フォトソルダーレジスト組成物の固形分１００
重量部中の０．０２〜４．０重量部であることが好まし
い。０．０２重量部未満では、着色性に乏しく、４．０
重量部を上回ると光硬化性が低下するため、現像時に膜
の剥離が生じる恐れがある。０．１〜１．５重量部であ
ることがさらに好ましい。
【００４３】本発明の水性フォトソルダーレジスト組成
物は、上記成分を混合することにより得られるが、例え
ば、まず、（Ａ）のラジカル重合性基とカルボキシル基
とを含有する樹脂を塩基で中和して得られる水溶液を製
造し、これに（Ｂ）の無機フィラー及び必要に応じて着
色顔料を加えて、分散を行ったものに、（Ｃ）の各成分
及び必要に応じて内部溶剤を加えて、エマルション化す
ることができる。（Ｄ）の水溶液を用いる場合、（Ｂ）
の無機フィラーを添加する前に、（Ａ）の水溶液と
（Ｄ）の水溶液を混合し、これに（Ｂ）の無機フィラー
を添加し分散した後、（Ｃ）の各成分を添加してエマル
ション化してもよい。また、（Ｄ）の水溶液に（Ｂ）の
無機フィラーを分散した後に、（Ａ）の水溶液を添加
し、さらに（Ｃ）の各成分を加えてエマルション化して
もよい。
【００４４】このようにして得られる本発明の水性フォ
トソルダーレジスト組成物のエマルションの粒子径は、
面積平均粒径で０．１〜１０．０μｍであることが好ま
しく、０．３〜２．０μｍであることがさらに好まし
い。０．１μｍ未満では、製造が実質的に困難であり、
１０．０μｍを上回ると粒子の沈降や凝集が起こる場合
がある。
【００４５】また、本発明の水性フォトソルダーレジス
ト組成物の固形分率は、２０〜７０重量％が好ましく、
３５〜６０重量％がさらに好ましい。２０重量％未満で
は、経済性に乏しく、７０重量％以上では、粒子間で融
着が生じて大粒径化する場合がある。なお、本発明の水
性フォトソルダーレジスト組成物は、（Ａ）の水溶液、
必要に応じて用いられる（Ｄ）の水溶液、及び（Ｂ）の
無機フィラーを混合したものと、（Ｃ）の光硬化性混合
物とを別々に保管し、使用時にこの２つを混合して用い
ることも可能である。この場合、長期の保存性が確保で
きる。
【００４６】本発明の水性フォトソルダーレジスト組成
物は、基板などの基材に塗布され、通常５０〜９０℃で
乾燥される。乾燥後、紫外線などの活性エネルギー線を
露光し、未露光部をアルカリ性洗浄液で現像除去して、
さらに光硬化部分を例えば、１４０〜１７０℃で加熱す
ることにより、熱硬化を進行させ、ソルダーレジスト皮
膜を得ることができる。
【００４７】
【実施例】 製造例１ （Ａ）ラジカル重合性基とカルボキシル基とを含有する樹脂を塩基 で中和して得られる水溶液の製造 その１ 環流管、温度調節器、撹拌翼を備えた２Ｌセパラブルフラスコに、 ＥＯＣＮ−１０４Ｓ ４００重量部 （日本化薬社製のクレゾールノボラック型環状エーテル樹脂） プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２５０重量部 ハイドロキノン ０．５０重量部 テトラブチルアンモニウムブロマイド ０．２０重量部 を仕込み、酸素気流下で温度を９０℃に制御した。ここ
に、アクリル酸１４８．３重量部を３０分かけて滴下
し、さらに２４時間反応を継続した。この時点で酸価は
ほぼ０であった。
【００４８】次いで、無水コハク酸１３６．６重量部を
加え、１０時間反応を継続した。得られた反応物の固形
分酸価は１１１．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。またラジ
カル重合性基の含有量は、３．０×１０-3ｍｏｌ／ｇで
あった。
【００４９】次に温度を５０℃まで下げ、トリエチルア
ミン１４８．０重量部を加えて２０分撹拌した後、そこ
に、イオン交換水８００重量部を加えた。これを減圧し
て加熱することにより、ほぼ全量の有機溶剤と水の一部
を除去した。このようにして得られた（Ａ）の水溶液の
固形分率は４８．２％であった。
【００５０】 製造例２ （Ａ）ラジカル重合性基とカルボキシル基とを含有する樹脂を塩基 で中和して得られる水溶液の製造 その２ 環流管、温度調節器、撹拌翼を備えた２Ｌセパラブルフラスコに、 ＧＴ−４００ ４００重量部 （ダイセル化学社製の脂環式エポキシ樹脂、ブタンテトラカルボン酸にε−カ プロラクトンを開環付加したものの末端が脂環式エポキシ基となっているもの） プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２５０重量部 ハイドロキノン ０．５０重量部 テトラブチルアンモニウムブロマイド ０．２０重量部 を仕込み、酸素気流下で温度を９０℃に制御した。ここ
に、アクリル酸１４８．３重量部を３０分かけて滴下
し、さらに２４時間反応を継続した。この時点で酸価は
ほぼ０であった。
【００５１】次いで、無水コハク酸１１４．６重量部を
加え、１０時間反応を継続した。得られた反応物の固形
分酸価は９７．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。またラジカ
ル重合性基の含有量は、３．１×１０-3ｍｏｌ／ｇであ
った。
【００５２】次に温度を５０℃まで下げ、トリエチルア
ミン１２０．０重量部を加えて２０分撹拌した後、そこ
に、イオン交換水８００重量部を加えた。これを減圧し
て加熱することにより、ほぼ全量の有機溶剤と水の一部
を除去した。このようにして得られた（Ａ）の水溶液の
固形分率は５１．２％であった。
【００５３】 製造例３ （Ａ）ラジカル重合性基とカルボキシル基とを含有する樹脂を塩基 で中和して得られる水溶液の製造 その３ 環流管、温度調節器、撹拌翼を備えた２Ｌセパラブルフラスコに、 下記の式で示されるポリエポキシ化合物 ２８７重量部 アクリル酸 ６８．５重量部 メチルハイドロキノン ０．３５重量部 トリフェニルフォスフィン ２．０重量部 酢酸ブチル １９１．４重量部 を仕込み、９５℃で反応液の酸価が１．０以下になるま
で反応した。６０℃に冷却した後、テトラヒドロ無水コ
ハク酸１４２．７重量部及び酢酸ブチル５４．５重量部
を加え、１０時間反応を継続した。得られた反応物の固
形分酸価は１０３．７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。またラ
ジカル重合性基の含有量は、１．９×１０ -3ｍｏｌ／ｇ
であった。
【００５４】次に温度を５０℃まで下げ、トリエチルア
ミン１０６．５重量部を加えて２０分撹拌した後、そこ
に、イオン交換水７７０重量部を加えた。これを減圧し
て加熱することにより、ほぼ全量の有機溶剤と水の一部
を除去した。このようにして得られた（Ａ）の水溶液の
固形分率は４２．４％であった。
【００５５】
【化４】
【００５６】 製造例４ （Ａ）ラジカル重合性基とカルボキシル基とを含有する樹脂を塩基 で中和して得られる水溶液の製造 その４ 環流管、温度調節器、撹拌翼を備えた２Ｌセパラブルフラスコに、 下記の式で示されるポリエポキシ化合物 ４００重量部 エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート ４００重量部 アクリル酸 ２０９．７重量部 メチルハイドロキノン ０．１５重量部 テトラブチルアンモニウムブロマイド ０．２０重量部 を仕込み、９５℃まで昇温し、２４時間反応を継続し
た。６０℃に冷却した後、テトラヒドロ無水コハク酸２
３０．７重量部を加え、さらに２０時間反応を継続し
た。得られた反応物の固形分酸価は９９．２ｍｇＫＯＨ
／ｇであった。またラジカル重合性基の含有量は、３．
５×１０-3ｍｏｌ／ｇであった。
【００５７】次に温度を５０℃まで下げ、トリエチルア
ミン１９０．０重量部を加え、さらにイオン交換水１２
００重量部を加えて３０分撹拌した。これを減圧して加
熱することにより、ほぼ全量の有機溶剤と水の一部を除
去した。このようにして得られた（Ａ）の水溶液の固形
分率は４４．６％であった。
【００５８】
【化５】
【００５９】 実施例１ 水性フォトソルダーレジスト組成物の製造 その１ 製造例１で得られた（Ａ）の水溶液５７０．５重量部（固形分重量２７５重量 部）に、 Ｂ−３０（堺化学社製の硫酸バリウム） ２５０重量部 リオノールグリーン８２００（東洋インキ社製の緑色顔料） ５．０重量部 イオン交換水 ７９５重量部 を加え、ガラスビーズ存在下でサンドグラインダーを用
いて分散を行った。
【００６０】 このようにして得られた分散物３２４．１重量部（固形分重量１０６重量部） に、 エポリードＧＴ−４００ ２５重量部 （ダイセル化学工業社製の脂環式エポキシ樹脂、ブタンテトラカルボン酸にε −カプロラクトンを開環付加したものの末端が脂環式エポキシ基となっているも の） イルガキュア９０７ ８．０重量部 （チバガイギー社製の光重合開始剤） ジエチルチオキサントン ０．５重量部 （日本化薬社製の光重合開始剤） トリメチロールプロパントリメタアクリレート １１．５重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １０．０重量部 の混合物を撹拌下に２０分かけて加え、さらに２０分撹
拌を継続して、水性フォトソルダーレジスト組成物を得
た。
【００６１】 実施例２ 水性フォトソルダーレジスト組成物の製造 その２ 製造例２で得られた（Ａ）の水溶液５３７．１重量部（固形分重量２７５重量 部）に、 Ｂ−３０（堺化学社製の硫酸バリウム） ２５０重量部 ブルーＥＳ（東洋インキ社製の青色顔料） ５．０重量部 イオン交換水 ７９５重量部 を加え、ガラスビーズ存在下でサンドグラインダーを用
いて分散を行った。
【００６２】 このようにして得られた分散物３１８．４重量部（固形分重量１０６重量部） に、 エポリードＧＴ−４００ ２５重量部 （ダイセル化学工業社製の脂環式エポキシ樹脂、ブタンテトラカルボン酸にε −カプロラクトンを開環付加したものの末端が脂環式エポキシ基となっているも の） イルガキュア９０７ ８．０重量部 （チバガイギー社製の光重合開始剤） ジエチルチオキサントン ０．５重量部 （日本化薬社製の光重合開始剤） トリメチロールプロパントリメタアクリレート １１．５重量部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル １０．０重量部 の混合物を撹拌下に２０分かけて加え、さらに２０分撹
拌を継続して、水性フォトソルダーレジスト組成物を得
た。
【００６３】 実施例３ 水性フォトソルダーレジスト組成物の製造 その３ 製造例３で得られた（Ａ）の水溶液６４８．６重量部（固形分重量２７５重量 部）に、 Ｂ−３０（堺化学社製の硫酸バリウム） ２５０重量部 ブルー４９３８（大日精化社製の青色顔料） ５．０重量部 イオン交換水 ４２１．４重量部 を加え、ガラスビーズ存在下でサンドグラインダーを用
いて分散を行った。
【００６４】 このようにして得られた分散物２６５重量部（固形分重量１０６重量部）に、 エポリードＧＴ−４００ ２５重量部 （ダイセル化学工業社製の脂環式エポキシ樹脂、ブタンテトラカルボン酸にε −カプロラクトンを開環付加したものの末端が脂環式エポキシ基となっているも の） イルガキュア９０７ ４．０重量部 （チバガイギー社製の光重合開始剤） ジエチルチオキサントン １．０重量部 （日本化薬社製の光重合開始剤） トリメチロールプロパントリメタアクリレート １５．０重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １０．０重量部 の混合物を撹拌下に２０分かけて加え、さらに２０分撹
拌を継続して、水性フォトソルダーレジスト組成物を得
た。
【００６５】 実施例４ 水性フォトソルダーレジスト組成物の製造 その４ 製造例４で得られた（Ａ）の水溶液６１６．６重量部（固形分重量２７５重量 部）に、 Ｂ−３０（堺化学社製の硫酸バリウム） ２５０重量部 ブルー４９３８（大日精化社製の青色顔料） ５．０重量部 イオン交換水 ４５３．４重量部 を加え、ガラスビーズ存在下でサンドグラインダーを用
いて分散を行った。
【００６６】 このようにして得られた分散物２６５重量部（固形分重量１０６重量部）に、 アロンオキセタンＯＸＴ−２２１ ２５重量部 （東亞合成社製のジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル） イルガキュア９０７ ４．０重量部 （チバガイギー社製の光重合開始剤） ジエチルチオキサントン １．０重量部 （日本化薬社製の光重合開始剤） トリメチロールプロパントリメタアクリレート １５．０重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １０．０重量部 の混合物を撹拌下に２０分かけて加え、さらに２０分撹
拌を継続して、水性フォトソルダーレジスト組成物を得
た。
【００６７】実施例５ 水性フォトソルダーレジスト組
成物の製造 その５ 製造例３で得られた（Ａ）の水溶液５８９．６重量部
（固形分重量２５０重量部）と、（Ｄ）の水溶液として
のジョンクリル６２〔商品名、ジョンソンポリマー社
製、酸価２００ｍｇＫＯＨ／ｇのスチレン／アクリル酸
共重合樹脂の中和水溶液〕８３．３重量部（固形分重量
２５重量部）との混合水溶液に、 Ｂ−３０（堺化学社製の硫酸バリウム） ２５０重量部 ブルー４９３８（大日精化社製の青色顔料） ５．０重量部 イオン交換水 ４２１．４重量部 を加え、ガラスビーズ存在下でサンドグラインダーを用
いて分散を行った。
【００６８】 このようにして得られた分散物２６５重量部（固形分重量１０６重量部）に、 ＥＨＰＥ３１５０ ２５重量部 （ダイセル化学工業社製の脂環式エポキシ樹脂） イルガキュア９０７ ４．０重量部 （チバガイギー社製の光重合開始剤） ジエチルチオキサントン １．０重量部 （日本化薬社製の光重合開始剤） トリメチロールプロパントリメタアクリレート １５．０重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １０．０重量部 の混合物を撹拌下に２０分かけて加え、さらに２０分撹
拌を継続して、水性フォトソルダーレジスト組成物を得
た。
【００６９】実施例６ 水性フォトソルダーレジスト組
成物の製造 その６ 製造例４で得られた（Ａ）の水溶液５６０．５重量部
（固形分重量２５０重量部）と、（Ｄ）の水溶液として
のＳＭＡ１４４０Ｈ〔商品名、エルフアトケム社製、酸
価１８５ｍｇＫＯＨ／ｇのスチレン／マレイン酸共重合
樹脂の中和水溶液〕７５．０重量部（固形分重量２５重
量部）との混合水溶液に、 Ｂ−３０（堺化学社製の硫酸バリウム） ２５０重量部 ブルー４９３８（大日精化社製の青色顔料） ５．０重量部 イオン交換水 ４５３．４重量部 を加え、ガラスビーズ存在下でサンドグラインダーを用
いて分散を行った。
【００７０】 このようにして得られた分散物２６５重量部（固形分重量１０６重量部）に、 ＥＨＰＥ３１５０ ２５重量部 （ダイセル化学工業社製の脂環式エポキシ樹脂） イルガキュア９０７ ４．０重量部 （チバガイギー社製の光重合開始剤） ジエチルチオキサントン １．０重量部 （日本化薬社製の光重合開始剤） トリメチロールプロパントリメタアクリレート １５．０重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １０．０重量部 の混合物を撹拌下に２０分かけて加え、さらに２０分撹
拌を継続して、水性フォトソルダーレジスト組成物を得
た。
【００７１】 比較例１ グリシジル基を有する水性フォトソルダーレジスト組成物の製造 製造例１で得られた（Ａ）の水溶液５７０．５重量部（固形分重量２７５重量 部）に、 Ｂ−３０（堺化学社製の硫酸バリウム） ２５０重量部 リオノールグリーン８２００（東洋インキ社製の緑色顔料） ５．０重量部 イオン交換水 ７９５重量部 を加え、ガラスビーズ存在下でサンドグラインダーを用
いて分散を行った。
【００７２】 このようにして得られた分散物３２４．１重量部（固形分重量１０６重量部） に、 ＥＯＣＮ−１０４Ｓ ２５．０重量部 （日本化薬社製のクレゾールノボラック型環状エーテル樹脂） イルガキュア９０７ ８．０重量部 （チバガイギー社製の光重合開始剤） ジエチルチオキサントン ０．５重量部 （日本化薬社製の光重合開始剤） トリメチロールプロパントリメタアクリレート １１．５重量部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル １０．０重量部 の混合物を撹拌下に２０分かけて加え、さらに２０分撹
拌を継続して、グリシジル基を有する水性フォトソルダ
ーレジスト組成物を得た。
【００７３】 比較例２ 乳化安定剤を含む水性フォトソルダーレジスト組成物の製造 製造例１においてトリエチルアミンで中和する前の樹脂７５重量部（固形重量 分５５．０重量部）に、 イルガキュア９０７ ８．０重量部 （チバガイギー社製の光重合開始剤） ジエチルチオキサントン ０．５重量部 （日本化薬社製の光重合開始剤） トリメチロールプロパントリメタアクリレート ５０．０重量部 Ｂ−３０（堺化学社製の硫酸バリウム） ２５０重量部 リオノールグリーン８２００（東洋インキ社製の緑色顔料） １．０重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ６．７重量部 を加え、ロールミルを用いて混和した。得られた混和物
をＰＶＡ２１７ＥＥ（クラレ社製ポリビニルアルコー
ル）の４．０重量％水溶液中に、固形分率５０重量％に
なるように加え、乳化を行った。
【００７４】次に、ＧＴ４０１（ダイセル化学社製の脂
環式エポキシ化合物、ブタンテトラカルボン酸にε−カ
プロラクトンを開環付加したものの末端が脂環式エポキ
シ基となっているもの）及びプロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート８．３重量部を、ＰＶＡ２１
７ＥＥ（クラレ社製ポリビニルアルコール）の４．０重
量％水溶液中に、固形分率５０重量％になるように加
え、乳化を行ったものを製造した。先に製造した光硬化
性のエマルションと後の脂環式エポキシ基含有エマルシ
ョンとを、重量比が７５／２５の割合で混合して、乳化
安定剤を含む水性フォトソルダーレジスト組成物を得
た。
【００７５】比較例３ 溶剤を多量に含む水性フォトソ
ルダーレジスト組成物の製造 実施例３において、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテートの量を１０重量部から７０重量部にす
る以外は同様にして、フォトソルダーレジスト組成物を
得た。
【００７６】＜評価試験＞実施例１〜６、比較例１〜３
の水性フォトソルダーレジスト組成物を、それぞれ膜厚
が２５〜３０μｍになるようにドクターブレードを用い
て、現像性及びはんだ耐熱性評価用のパターン形成され
た銅箔基板ならびに電気絶縁性評価用のＩＰＣ Ｂ−２
５のクシ型電極クーポン上に塗布し、これを８０℃で２
０分乾燥した。乾燥後、ネガフィルムを当て２００ｍｊ
／ｃｍ2 で露光し、スプレー圧１ｋｇ／ｃｍ2 の炭酸ソ
ーダ水溶液で現像を行った。次いでこれを１５０℃で４
５分間熱処理した。下記の評価基準に基づき、それぞれ
の評価を行った。なお、現像性については、製造直後の
ものと、４０℃で１５日間経過したものとについて評価
を行った。
【００７７】現像性：得られた銅箔基板の５０／５０
（μｍ）線の抜け具合から目視で判断した。 はんだ耐熱性：得られた銅箔基板にロジン系フラックス
を塗布し、これを予め２６０℃に設定したはんだ槽に浸
漬し、変性アルコールでフラックスを洗浄した後、目視
によりレジスト層の膨れ及び剥がれの状態について評価
した。判定基準は以下の通りである。 ◎：１０秒間浸漬または１５秒間浸漬を６回以上繰り返
しても剥がれが認められない ○：１０秒間浸漬または１５秒間浸漬を３〜５回繰り返
しても剥がれが認められない △：１０秒間浸漬または１５秒間浸漬を３回以上繰り返
すと少し剥がれが認められる ×：１０秒間浸漬または１５秒間浸漬を１回行うと、膨
れ及び剥がれが認められる
【００７８】電気絶縁性：得られたＩＰＣ Ｂ−２５の
クシ型電極クーポンのクシ型電極にＤＣ５００Ｖのバイ
アス電圧を印可し、絶縁抵抗値を測定した。 溶剤臭：水性フォトソルダーレジスト組成物を用いてレ
ジストを製造する際の溶剤臭の有無を確認した。
【００７９】
【表１】
【００８０】以上の結果から、本発明の水性フォトソル
ダーレジスト組成物は、グリシジル基を有するものや乳
化安定剤を含むものに比べて、貯蔵安定性に優れてお
り、得られるソルダーレジスト膜の性能も優れている。
また、不快と感じられる溶剤臭も有しない。また、
（Ｄ）の水溶液を配合した実施例５及び実施例６におい
ては、実施例１〜４に比べ、はんだ耐熱性がさらに向上
していることがわかる。
【００８１】
【発明の効果】本発明の水性フォトソルダーレジスト組
成物は、貯蔵安定性に優れている。これは、エマルショ
ン化することにより、反応性基を分離していることのみ
ならず、水性媒体中で失活しにくい環状エーテル基を用
いていることによるものである。また、本発明の水性フ
ォトソルダーレジスト組成物は、乳化安定剤を含まな
い、自己乳化型であるため、得られるソルダーレジスト
膜の性能が劣ることがない。
【００８２】本発明のフォトソルダーレジスト組成物
は、有機溶剤の量がこれまでの溶剤型のものに比べて著
しく少なく、作業時に不快感を有することがなく、ま
た、環境に対してやさしい組成物である。さらに本発明
のフォトソルダーレジスト組成物は、水性であるため、
耐熱性確保のために含有される無機フィラーの分散性も
優れている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｆ 299/00 Ｃ０８Ｆ 299/00 Ｃ０８Ｇ 59/20 Ｃ０８Ｇ 59/20 59/42 59/42 Ｃ０８Ｋ 3/30 Ｃ０８Ｋ 3/30 3/34 3/34 5/3417 5/3417 5/3437 5/3437 Ｃ０８Ｌ 55/00 Ｃ０８Ｌ 55/00 63/00 63/00 Ｚ 101/14 101/14 Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ ５０５ ５０５ 7/028 7/028 7/033 7/033 (72)発明者 難波 修 大阪府寝屋川市池田中町19番17号 日本ペ イント株式会社内 (72)発明者 岡島 圭一 大阪府寝屋川市池田中町19番17号 日本ペ イント株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA10 AB15 BC14 BC42 BC74 BC85 CA01 CA27 CA34 CC03 CC08 CC12 CC20 FA03 FA17 FA29 4J002 BG01W BH02W BQ00W CD02X CD20W DG046 DJ006 DJ016 EU027 EU037 FD016 FD097 GH01 GP03 4J011 PA09 PA13 PA43 PA69 PA70 PA86 PB22 PB25 PB30 PC02 PC08 QA23 QA24 QB01 QB03 QB16 QB19 QB20 QB22 RA10 RA15 SA02 SA04 SA05 SA06 SA07 SA20 SA22 SA25 SA28 SA32 SA34 SA38 SA54 SA58 SA63 SA64 SA83 SA84 UA01 VA01 WA01 4J027 AA02 AA08 AC03 AC04 AE02 AE03 AE04 BA23 BA24 BA26 BA28 CA09 CA16 CA18 CA25 CA34 CA36 CB10 CC05 CD10 4J036 AC05 AD08 AF06 AF36 AJ09 AK11 CA21 CA22 EA04 EA09 FA04 FA05 FA12 FB03 FB06 GA29 HA02 JA10

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （Ａ）ラジカル重合性基とカルボキシル
    基とを含有する樹脂を塩基で中和して得られる水溶液、 （Ｂ）無機フィラー、 （Ｃ）多官能性アクリルモノマー（ｃ１）、グリシジル
    基以外の環状エーテル基を有する化合物（ｃ２）、及び
    光重合開始剤（ｃ３）からなる光硬化性混合物、及び必
    要に応じて、（Ｄ）酸価１３０〜２３０ｍｇＫＯＨ／ｇ
    のラジカル重合体を塩基で中和して得られる水溶液を含
    む水性フォトソルダーレジスト組成物。
  2. 【請求項２】 前記グリシジル基以外の環状エーテル基
    が脂環式エポキシ基またはオキセタン基である、請求項
    １記載の水性フォトソルダーレジスト組成物。
  3. 【請求項３】 前記ラジカル重合性基とカルボキシル基
    とを含有する樹脂において、前記ラジカル重合性基の含
    有量が５×１０-4〜１×１０-2ｍｏｌ／ｇ、前記カルボ
    キシル基の含有量が３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであ
    る、請求項１または２記載の水性フォトソルダーレジス
    ト組成物。
  4. 【請求項４】 前記水溶液（Ａ）及び（Ｄ）中のカルボ
    キシル基と、前記グリシジル基以外の環状エーテル基と
    の量比が、モル比で１．３／０．７〜０．７／１．３で
    ある、請求項１ないし３の１つに記載の水性フォトソル
    ダーレジスト組成物。
  5. 【請求項５】 さらに着色顔料を含んでいる、請求項１
    ないし４の１つに記載の水性フォトソルダーレジスト組
    成物。
  6. 【請求項６】 前記無機フィラーの含有量が、固形分１
    ００重量部中の５〜６０重量部である請求項１ないし５
    の１つに記載の水性フォトソルダーレジスト組成物。
  7. 【請求項７】 溶剤の含有量が、固形分１００重量部に
    対して２０重量部以下である請求項１ないし６の１つに
    記載の水性フォトソルダーレジスト組成物。
  8. 【請求項８】 請求項１ないし７の１つに記載の水性フ
    ォトソルダーレジスト組成物を、基材に塗布し、５０〜
    ９０℃で乾燥後、活性エネルギー線を露光し、未露光部
    をアルカリ性洗浄液で現像除去し、光硬化部分を１４０
    〜１７０℃で加熱し、硬化して得られるソルダーレジス
    ト皮膜。
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