JP2001221913A - ファブリペローフィルタ及び赤外線ガス分析計 - Google Patents

ファブリペローフィルタ及び赤外線ガス分析計

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JP2001221913A
JP2001221913A JP2000030823A JP2000030823A JP2001221913A JP 2001221913 A JP2001221913 A JP 2001221913A JP 2000030823 A JP2000030823 A JP 2000030823A JP 2000030823 A JP2000030823 A JP 2000030823A JP 2001221913 A JP2001221913 A JP 2001221913A
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mirror
electrode
insulating portion
fabry
gap
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JP2000030823A
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Inventor
Kentaro Suzuki
健太郎 鈴木
Makoto Noro
誠 野呂
Hitoshi Hara
仁 原
Naoteru Kishi
直輝 岸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の波長を安定して選択することができる
ファブリペローフィルタを実現すること。 【解決手段】 基板上に設けられた第一ミラーと、この
第一ミラーとの間にギャップを有して対向配置され、外
力が加えられることにより第一ミラーに対して変位可能
に形成される第二ミラーと、この第二ミラーに外力を加
えて変位させギャップを可変とした場合に、第二ミラー
を静止させ、ギャップの長さを固定可能とする静止手段
と、を具備したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、大気中などのガス
濃度を、赤外線を用いて測定する赤外線ガス分析計に使
用される、ファブリペローフィルタに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】ガス分析においては、ガスの種類によっ
て吸収される赤外線の波長が異なることを利用し、この
吸収量を検出することによりそのガス濃度を測定する、
非分散赤外線（Ｎｏｎ−Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｉｎｆ
ｒａＲｅｄ）ガス分析計（以下、ＮＤＩＲガス分析計と
記す）が使用されている。
【０００３】図５から図７は、従来のＮＤＩＲガス分析
計の構成図である。尚、以下においては、赤外線吸収波
長のピークが約４．２５μｍである二酸化炭素を被測定
ガスとして説明する。
【０００４】図５は、単光線２波長比較ＮＤＩＲガス分
析計で、ガスが供給されるサンプルセル１０と、光源１
１と、フィルタ１２，１３と、赤外線検出器１４，１５
とからなっている。図８に示すように、二酸化炭素の吸
収特性に合わせたフィルタ１２と、参照光として約３．
１μｍ近傍の波長の赤外線を透過させるフィルタ１３で
２波長を選択し、選択された赤外線は、それぞれ赤外線
検出器１４，１５により検出される。この場合、測定さ
れた参照光の吸収特性との比較によって、光源１１の劣
化や、サンプルセル１０の汚れ等による出力信号の経時
変化を補正することができる。
【０００５】図６は、単光線２波長比較ＮＤＩＲガス分
析計で、円盤１６に形成された二酸化炭素の吸収特性に
合わせたフィルタ１２と、参照光のフィルタ１３で２波
長を選択し、フィルタによって選択された赤外線は、そ
れぞれ赤外線検出器１４により検出される。この場合、
測定された参照光の吸収特性との比較によって、光源１
１の劣化や、サンプルセル１０の汚れ等による出力信号
の経時変化を補正することができる。
【０００６】図７は、単光線２波長ファブリペローＮＤ
ＩＲガス分析計で、ファブリペローフィルタ１７を構成
する２つの平行ミラー（図示しない）間のギャップを可
変とすることにより、被測定ガスの吸収特性に合わせた
波長と参照光の波長との２波長を選択し、選択された赤
外線は、それぞれ赤外線検出器１４により検出される。
この場合、測定された参照光の吸収特性との比較によっ
て、光源１１の劣化や、サンプルセル１０の汚れ等によ
る出力信号の経時変化を補正することができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のＮＤＩ
Ｒガス分析計においては、フィルタで選択できる赤外線
波長は参照光の波長を含めて２種類だけであった。従っ
て、複数のガスを測定したい場合は、フィルタを増設す
る必要があり、装置が大型化してしまう、コストが増大
してしまうという問題点があった。
【０００８】本発明は上述した問題点を解決するために
なされたものであり、複数の波長を安定して選択するこ
とができるファブリペローフィルタを実現することによ
り、小型で低コストに複数のガス濃度を測定可能とする
ガス分析計を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１におい
ては、基板上に設けられた第一ミラーと、この第一ミラ
ーとの間にギャップを有して対向配置され、外力が加え
られることにより前記第一ミラーに対して変位可能に形
成された第二ミラーと、この第二ミラーに外力を加えて
変位させ前記ギャップの長さを可変とした場合に、前記
第二ミラーを静止させ、前記ギャップの長さを固定可能
とする静止手段と、を具備したことを特徴とするファブ
リペローフィルタである。
【００１０】本発明の請求項２においては、基板上に設
けられた第一ミラーと、この第一ミラーと平行に離間さ
れて設けられたアパーチャーと、前記第一ミラー前記ア
パーチャーとの間にそれぞれギャップを有して対向配置
され、前記第一ミラー及び前記アパーチャーに対してそ
れぞれ変位可能に設けられた第二ミラーと、前記第一ミ
ラーに設けられて前記第二ミラーに対向配置され、表面
に第一絶縁部が設けられた第一電極と、前記第二ミラー
に設けられて前記第一電極に対向配置され、表面に第二
絶縁部が設けられた第二電極と、前記アパーチャーに設
けられて前記第二ミラーに対向配置され、表面に第三絶
縁部が設けられた第三電極と、前記第二ミラーに設けら
れて前記第三電極に対向配置され、表面に第四絶縁部が
設けられた第四電極と、を具備し、前記第一電極と前記
第二電極に電位差を与えて前記第二ミラーを変位させた
場合は、前記第一絶縁部と前記第二絶縁部を接触させて
前記第二ミラーを静止させ、前記第三電極と前記第四電
極に電位差を与えて前記第二ミラーを変位させた場合
は、前記第三絶縁部と前記第四絶縁部を接触させて前記
第二ミラーを静止させ、前記第一ミラーと前記第二ミラ
ーとの間のギャップの長さを固定可能としたことを特徴
とするファブリペローフィルタである。
【００１１】本発明の請求項３においては、基板上に設
けられた第一ミラーと、この第一ミラーとの間にギャッ
プを有して対向配置され、前記第一ミラーに対して変位
可能に設けられた第二ミラーと、前記第一ミラー上に階
段状に設けられた複数の導電部を有する第一電極と、複
数の前記導電部の周囲に設けられ、複数の前記導電部を
互いに絶縁する階段状の第一絶縁部と、前記第二ミラー
に設けられて前記第一電極に対向配置される第二電極
と、前記第二電極の前記第一電極に対向する面に設けら
れた第二絶縁部と、を具備し、複数の前記導電部を切り
換えて前記第二電極との間に電位差を与えることによ
り、階段状の前記第一絶縁部と前記第二絶縁部を接触さ
せて前記第二ミラーを静止させ、前記ギャップの長さを
階段状に固定可能としたことを特徴とするファブリペロ
ーフィルタである。
【００１２】本発明の請求項４においては、前記第一ミ
ラーと前記第二ミラーはシリコンであることを特徴とす
る請求項１から請求項３記載のファブリペローフィルタ
である。
【００１３】本発明の請求項５においては、前記第一電
極と前記第二電極と前記第三電極と前記第四電極は不純
物濃度の高いシリコンであることを特徴とする請求項１
から請求項４記載のファブリペローフィルタである。
【００１４】本発明の請求項６においては、前記第一絶
縁部と前記第二絶縁部と前記第三絶縁部と前記第四絶縁
部は窒化シリコンであることを特徴とする請求項１から
請求項５記載のファブリペローフィルタである。
【００１５】本発明の請求項７においては、被測定ガス
に赤外線を照射する光源と、この光源からの赤外線を波
長選択的に透過させる波長選択フィルタと、この波長選
択フィルタを透過した赤外線を検出する赤外線検出器と
を有し、前記赤外線検出器の出力に基づいて前記被測定
ガスの濃度を測定する赤外線ガス分析計において、前記
波長選択フィルタとして、請求項１から請求項６記載の
ファブリペローフィルタを使用したことを特徴とするガ
ス分析計である。
【００１６】本発明の請求項８においては、前記被測定
ガスは二酸化炭素と水蒸気の２成分を含み、この２成分
の濃度を測定することを特徴とする請求項７記載の赤外
線ガス分析計である。
【００１７】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例について図
面を用いて説明する。図１は本発明の第一実施例の構成
を示す断面図である。
【００１８】図１において、シリコンの基板１上に第一
ミラー２が形成され、第二ミラー３は、第一ミラー２上
に形成されたシリコン酸化膜からなる絶縁膜４上に形成
されて第一ミラー２に対向配置されている。そして、第
一ミラー２と第二ミラー３の間には、絶縁膜４をエッチ
ングすることにより絶縁膜４の膜厚に相当するギャップ
ｈ１が形成され、第二ミラー３は第一ミラー２の方向に
変位可能となっている。
【００１９】アパーチャー５は、第二ミラー３上に形成
された酸化膜からなる絶縁膜６上に形成され、第二ミラ
ー３に対向配置されている。そして、アパーチャー５と
第二ミラー３の間には、絶縁膜６をエッチングすること
により絶縁膜６の膜厚に相当するギャップが形成され、
第二ミラー３はアパーチャー５の方向に変位可能となっ
ている。
【００２０】第一ミラー２及び第二ミラー３は例えば多
結晶シリコンであり、アパーチャー５は例えばシリコン
である。また、アパーチャー５の中心部には孔７が形成
され、アパーチャー５の表面には赤外線を透過させない
ように金属膜（図示しない）が設けられ、孔７の下方部
は光学的活性領域となっている。
【００２１】第一電極２ａは、例えば不純物濃度の高い
多結晶シリコンで、孔７を中心にして左右対称に第一ミ
ラー２上に形成されている。そして、第一電極２ａの表
面には、例えば窒化シリコンからなる第一絶縁部２ｂが
形成されている。
【００２２】第二電極３ａは、例えば不純物濃度の高い
多結晶シリコンで、孔７を中心にして左右対称に、第二
ミラー３の第一電極２ａに対向する面に形成されてい
る。そして、第二電極３ａの表面には、例えば窒化シリ
コンからなる第二絶縁部３ｂが形成され、この第二絶縁
部３ｂは、第一絶縁部２ｂに対向配置されている。
【００２３】第三電極５ａは、例えば不純物濃度の高い
多結晶シリコンで、孔７を中心にして左右対称にアパー
チャー５の第二ミラー３に対向する面に形成されてい
る。そして、第三電極５ａの表面には、例えば窒化シリ
コンからなる第三絶縁部５ｂが形成されている。
【００２４】第四電極３ｃは、例えば不純物濃度の高い
多結晶シリコンで、孔７を中心にして左右対称に第二ミ
ラー３のアパーチャー５に対向する面に形成されてい
る。そして、第四電極３ｃの表面には、例えば窒化シリ
コンからなる第四絶縁部３ｄが形成され、この第四絶縁
部３ｄは、第三絶縁部５ｂに対向配置されている。
【００２５】次に、動作を説明する。図２（ａ），
（ｂ）は、図１に示したファブリペローフィルタの動作
説明図である。
【００２６】図２（ａ）において、第一電極２ａと第二
電極３ａに電位差を与えると、第一電極２ａと第二電極
３ａとの間に静電吸引力が発生し、第二ミラー３は第一
ミラー２の方向に変位し、第一絶縁部２ｂと第二絶縁部
３ｂが接触することにより、第二ミラー３は静止する。
この場合、第一ミラー２と第二ミラー３とのギャップの
長さは、初期の長さｈ１よりも短いｈ２に固定される。
【００２７】一方、図２（ｂ）において、第三電極５ａ
と第四電極３ｃに電位差を与えると、第三電極５ａと第
四電極３ｃとの間に静電吸引力が発生し、第二ミラー３
はアパーチャー５の方向に変位し、第三絶縁部５ｂと第
四絶縁部３ｄが接触することにより、第二ミラー３は静
止する。この場合、第一ミラー２と第二ミラー３とのギ
ャップの長さは、初期の長さｈ１よりも長いｈ３に固定
される。
【００２８】このようにギャップの長さをｈ１，ｈ２，
ｈ３の３種類に設定することができるので、そのギャッ
プに応じた３種類の波長近傍の赤外線を透過させるファ
ブリペローフィルタを実現することができる。
【００２９】また、それぞれのギャップの長さは、絶縁
膜４，絶縁膜６の膜厚、第一電極２ａ、第二電極３ａ、
第三電極５ａ、第四電極３ｃ、第一絶縁部２ｂ、第二絶
縁部３ｂ、第三絶縁部５ｂ、第四絶縁部３ｄの厚さを任
意に設定することにより、目的のガスの赤外線吸収特性
に対応したギャップを得ることができるように調整可能
である。
【００３０】上述のように、第一電極２ａ、第二電極３
ａ、第三電極５ａ、第四電極３ｃ、第一絶縁部２ｂ、第
二絶縁部３ｂ、第三絶縁部５ｂ、第四絶縁部３ｄは、第
二ミラー３の変位を静止させる静止手段として機能し、
ギャップの長さを固定させているので、外部から振動な
どの外乱を受けた場合も、そのギャップが変動すること
はなく、安定した波長選択を行うことができる。
【００３１】そして、被測定ガスに赤外線を照射する光
源と、この光源からの赤外線を波長選択的に透過させる
波長選択フィルタと、この波長選択フィルタを透過した
赤外線を検出する赤外線検出器とを有し、赤外線検出器
の出力に基づいて被測定ガスの濃度を測定する赤外線ガ
ス分析計において、波長選択フィルタとして上述のよう
なファブリペローフィルタを使用して場合は、フィルタ
を増設することなく、参照光とは別に２種類のガス濃度
を測定することができる赤外線ガス分析計を実現でき
る。
【００３２】例えば、電圧を印加しない状態でのギャッ
プｈ１（すなわち絶縁層４の膜厚）を約３．１μｍと
し、この初期状態を参照光測定状態とした場合、図２
（ａ）に示したギャップｈ２が２．２７μｍとなるよう
にした場合は、二酸化炭素を測定対象とすることがで
き、図２（ｂ）に示したギャップｈ３が約２．５９μｍ
となるようにした場合は、水蒸気を測定対象とすること
ができる。
【００３３】図３は本発明の第二実施例の構成を示す断
面図である。尚、以下の図面において、図１と重複する
部分は同一番号を付してその説明は適宜に省略する。
【００３４】図３において、シリコンの基板１上に第一
ミラー２が形成され、第二ミラー３は、第一ミラー２上
に形成されたシリコン酸化膜からなる絶縁膜４と、後述
の第二電極３ａと、後述の第二絶縁部３ｂとを介して第
一ミラー２に対向配置されている。
【００３５】第二ミラー３の第一ミラー２と対向する面
には、第二電極３ａと第二絶縁部３ｂが第二ミラー３か
ら第一ミラー２の方向に順に形成され、この第二絶縁部
３ｂと第二電極３ａの中心部には孔５が形成され、その
孔５の下方部は光学的活性領域となっている。
【００３６】そして、第一ミラー２と第二ミラー３との
間には、孔５の下方にギャップｈ１が形成され、第二ミ
ラー３は第一ミラー２の方向に変位可能となっている。
【００３７】そして、導電部２ａ1，２ａ2，２ａ3は、
光学的活性領域の中心より外側へ順に左右対称に第一ミ
ラー２上に設けられ、その高さは光学的活性領域の中心
から順に高くなり、全体として階段状となる第一電極２
ａを形成している。
【００３８】また、導電部２ａ1，２ａ2，２ａ3は、そ
の周囲が絶縁層２ｂ1で覆われて互いに絶縁され、絶縁
層２ｂ1の第二絶縁部３ｂと対向する面に相当する部分
は、第一絶縁部２ｂとなっている。
【００３９】第一ミラー２と第二ミラー３は、例えば多
結晶シリコンであり、第一電極を構成する導電部２
ａ1，２ａ2，２ａ3と第二電極３ａは、例えば不純物濃
度の高い多結晶シリコンであり、第一絶縁部２ｂと第二
絶縁部３ｂは、例えば窒化シリコンである。
【００４０】次に、動作を説明する。図４（ａ），
（ｂ）は図３に示したファブリペローフィルタの動作説
明図である。
【００４１】図４（ａ）において、第一電極２ａの導電
部２ａ3と第二電極３ａとの間に電位差を与えると、導
電部２ａ3と第二電極３ａとの間に静電吸引力が発生
し、第二ミラー３は第一ミラー２の方向に変位し、導電
部２ａ3の直上の第一絶縁部２ｂと第二絶縁部３ｂが接
触することとなり、第二ミラー３は静止する。この場
合、第一ミラー２と第二ミラー３とのギャップの長さ
は、初期の長さｈ１よりも短いｈ２に固定される。
【００４２】また、図４（ｂ）において、第一電極２ａ
の導電部２ａ1と第二電極３ａとの間に電位差を与える
と、導電部２ａ1と第二電極３ａとの間に静電吸引力が
発生し、第二ミラー３は第一ミラー２の方向に変位し、
導電部２ａ1，２ａ2，２ａ3の直上の第一絶縁部２ｂと
第二絶縁部３ｂが階段状に接触することとなり、第二ミ
ラー３は静止する。この場合、第一ミラー２と第二ミラ
ー３とのギャップの長さは、ｈ２よりも短いｈ４に固定
される。
【００４３】同様に、第一電極２ａの導電部２ａ2と第
二電極３ａとの間に電位差を与えると、導電部と２ａ2
第二電極３ａとの間に静電吸引力が発生し、第二ミラー
３は第一ミラー２の方向に変位し（図示しない）、導電
部２ａ2，２ａ3の直上の第一絶縁部２ｂと第二絶縁部３
ｂが階段状に接触することにより、第二ミラー３は静止
する。この場合、第一ミラー２と第二ミラー３とのギャ
ップの長さは、ｈ２とｈ４の中間の値ｈ３（図示しな
い）に固定される。
【００４４】このようにギャップの長さをｈ１からｈ４
までの４種類に設定することができるので、そのギャッ
プに応じた４種類の波長近傍の赤外線を透過させるファ
ブリペローフィルタを実現することができる。
【００４５】また、上記の説明においては、導電部の数
が３つの場合について説明したが、導電部の数はこれに
限定されるものではなく、任意の複数の導電部を形成す
れば、その数に応じた複数の波長の赤外線を透過させる
ファブリペローフィルタを実現することができる。
【００４６】また、階段状の第一電極２ａと第一絶縁部
２ｂは、第二ミラー３の変位を静止させる静止手段とし
て機能し、第一ミラー２と第二ミラー３とのギャップを
固定するので、外部から振動などの外乱を受けた場合
も、そのギャップは変動することはなく、安定した波長
選択を行うことができる。
【００４７】そして、被測定ガスに赤外線を照射する光
源と、この光源からの所望の波長の赤外線を選択して透
過させる波長選択フィルタと、この波長選択フィルタを
透過した赤外線を検出する赤外線検出器とを有し、赤外
線検出器の出力に基づいて被測定ガスの濃度を測定する
赤外線ガス分析計において、上述のようなファブリペロ
ーフィルタを使用した場合、波長選択フィルタの枚数を
増加させずに被測定ガスの複数成分の濃度を同時に測定
することが可能となる。
【００４８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項１
から請求項６によれば、第二ミラーを静止させる静止手
段を設け、第一ミラーと第二ミラーとのギャップの長さ
を固定可能としたので、複数の波長を安定して選択する
ことができるファブリペローフィルタを提供することが
できる。また、請求項７によれば、請求項１から請求項
６記載のファブリペローフィルタを使用するようにした
ので、複数のガス濃度を測定可能な赤外線ガス分析計を
提供することができ、請求項８によれば、二酸化炭素と
水蒸気を同時に測定可能な赤外線ガス分析計を提供する
ことができる。
【００４９】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一実施例の構成を示す断面図であ
る。
【図２】本発明の第一実施例の動作説明図である。
【図３】本発明の第二実施例の構成を示す断面図であ
る。
【図４】本発明の第二実施例の動作説明図である。
【図５】従来のＮＤＩＲガス分析計の構成図である。
【図６】従来のＮＤＩＲガス分析計の構成図である。
【図７】従来のＮＤＩＲガス分析計の構成図である。
【図８】フィルタの赤外線透過特性、吸収特性図であ
る。
【符号の説明】
１ 基板 ２ 第一ミラー ２ａ 第一電極 ２ａ1，２ａ2，２ａ3 導電部 ２ｂ 第一絶縁部 ３ 第二ミラー ３ａ 第二電極 ３ｂ 第二絶縁部 ３ｃ 第四電極 ３ｄ 第四絶縁部 ５ アパーチャー ５ａ 第三電極 ５ｂ 第三絶縁部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岸 直輝 東京都武蔵野市中町２丁目９番32号 横河 電機株式会社内 Ｆターム(参考） 2G020 AA03 BA02 BA12 CA02 CC27 2G059 AA01 BB01 CC04 CC09 EE01 EE11 FF10 HH01 JJ03 KK03 NN03 2G065 AA04 AB02 AB23 BA01 BB27 CA27 DA08 2H048 GA15 GA21 GA25 GA61

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板上に設けられた第一ミラーと、 この第一ミラーとの間にギャップを有して対向配置さ
    れ、外力が加えられることにより前記第一ミラーに対し
    て変位可能に形成された第二ミラーと、 この第二ミラーに外力を加えて変位させ前記ギャップの
    長さを可変とした場合に、前記第二ミラーを静止させ、
    前記ギャップの長さを固定可能とする静止手段と、を具
    備したことを特徴とするファブリペローフィルタ。
  2. 【請求項２】 基板上に設けられた第一ミラーと、 この第一ミラーと平行に離間されて設けられたアパーチ
    ャーと、 前記第一ミラー前記アパーチャーとの間にそれぞれギャ
    ップを有して対向配置され、前記第一ミラー及び前記ア
    パーチャーに対してそれぞれ変位可能に設けられた第二
    ミラーと、前記第一ミラーに設けられて前記第二ミラー
    に対向配置され、表面に第一絶縁部が設けられた第一電
    極と、 前記第二ミラーに設けられて前記第一電極に対向配置さ
    れ、表面に第二絶縁部が設けられた第二電極と、 前記アパーチャーに設けられて前記第二ミラーに対向配
    置され、表面に第三絶縁部が設けられた第三電極と、 前記第二ミラーに設けられて前記第三電極に対向配置さ
    れ、表面に第四絶縁部が設けられた第四電極と、を具備
    し、 前記第一電極と前記第二電極に電位差を与えて前記第二
    ミラーを変位させた場合は、前記第一絶縁部と前記第二
    絶縁部を接触させて前記第二ミラーを静止させ、前記第
    三電極と前記第四電極に電位差を与えて前記第二ミラー
    を変位させた場合は、前記第三絶縁部と前記第四絶縁部
    を接触させて前記第二ミラーを静止させ、前記第一ミラ
    ーと前記第二ミラーとの間のギャップの長さを固定可能
    としたことを特徴とするファブリペローフィルタ。
  3. 【請求項３】 基板上に設けられた第一ミラーと、 この第一ミラーとの間にギャップを有して対向配置さ
    れ、前記第一ミラーに対して変位可能に設けられた第二
    ミラーと、 前記第一ミラー上に階段状に設けられた複数の導電部を
    有する第一電極と、 複数の前記導電部の周囲に設けられ、複数の前記導電部
    を互いに絶縁する階段状の第一絶縁部と、 前記第二ミラーに設けられて前記第一電極に対向配置さ
    れる第二電極と、 前記第二電極の前記第一電極に対向する面に設けられた
    第二絶縁部と、を具備し、 複数の前記導電部を切り換えて前記第二電極との間に電
    位差を与えることにより、階段状の前記第一絶縁部と前
    記第二絶縁部を接触させて前記第二ミラーを静止させ、
    前記ギャップの長さを階段状に固定可能としたことを特
    徴とするファブリペローフィルタ。
  4. 【請求項４】 前記第一ミラーと前記第二ミラーはシリ
    コンであることを特徴とする請求項１から請求項３記載
    のファブリペローフィルタ。
  5. 【請求項５】 前記第一電極と前記第二電極と前記第三
    電極と前記第四電極は不純物濃度の高いシリコンである
    ことを特徴とする請求項１から請求項４記載のファブリ
    ペローフィルタ。
  6. 【請求項６】 前記第一絶縁部と前記第二絶縁部と前記
    第三絶縁部と前記第四絶縁部は窒化シリコンであること
    を特徴とする請求項１から請求項５記載のファブリペロ
    ーフィルタ。
  7. 【請求項７】 被測定ガスに赤外線を照射する光源
    と、この光源からの赤外線を波長選択的に透過させる波
    長選択フィルタと、この波長選択フィルタを透過した赤
    外線を検出する赤外線検出器とを有し、前記赤外線検出
    器の出力に基づいて前記被測定ガスの濃度を測定する赤
    外線ガス分析計において、 前記波長選択フィルタとして、請求項１から請求項６記
    載のファブリペローフィルタを使用したことを特徴とす
    るガス分析計。
  8. 【請求項８】 前記被測定ガスは二酸化炭素と水蒸気の
    ２成分を含み、この２成分の濃度を測定することを特徴
    とする請求項７記載の赤外線ガス分析計。
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