JP2001217057A - チップ型サージ吸収素子およびその製造方法 - Google Patents

チップ型サージ吸収素子およびその製造方法

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JP2001217057A
JP2001217057A JP2000028494A JP2000028494A JP2001217057A JP 2001217057 A JP2001217057 A JP 2001217057A JP 2000028494 A JP2000028494 A JP 2000028494A JP 2000028494 A JP2000028494 A JP 2000028494A JP 2001217057 A JP2001217057 A JP 2001217057A
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JP
Japan
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absorbing element
surge absorbing
electrode
electrodes
pair
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JP2000028494A
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Hiroyuki Yoshida
弘幸 吉田
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Tokin Corp
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Tokin Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 量産性が良く、低コストで、表面実装が可能
な、放電回数の繰り返し寿命が優れたチップ型サージ吸
収素子を得る。 【解決手段】 一対の外部電極7a,7bを有する絶縁
性セラミック焼結体11の内部、1対の内部電極8a,
8bと放電空間10を有したチップ型サージ吸収素子で
あって、一対の内部電極8a,8bの最近接部の電極9
の形状が円環形状であり、電極間ギャップに形成される
放電空間10の平面の面積が、最近接部の電極9の面積
より大きい平面を有する空間であるチップ型サージ吸収
素子とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、主として電子回路
や電子部品をサージから保護するためのサージ吸収素子
であって、プリント基板への自動実装に好適な積層型の
チップ型サージ吸収素子およびその製造方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来、通信機器等をサージから保護する
サージ吸収素子として、電圧非直線性を有する高抵抗素
子よりなるバリスタや放電空間を気密容器内に封入した
放電式サージ吸収素子等が広く利用されていた。
【0003】従来のバリスタは、サージ吸収の応答性に
優れると共に、素子の小型化や表面実装化が容易である
とういう利点を有しているが、静電容量が大きく信号系
回路に不向きであるという欠点を有していた。
【0004】従来の放電式サージ吸収素子は静電容量が
小さく信号系回路にも広く利用されていた。
【0005】図2は、従来の放電式サージ吸収素子の概
観図である。放電式サージ吸収素子1の構造は、ガラス
管3の中に、主電極4a,4bと、補助電極5a,5b
が形成されていて、補助電極5a,5bとの間にマイク
ロギャップ6が設けられた構造となっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図2に示す放
電式サージ吸収素子は気密構造とするため、ガラス封入
しリード線を引き出す構造となっている。従って、基板
への実装方法は、リード線を適切な長さに切断し、曲げ
加工を行った後、基板の穴へ挿入し半田付けする方法で
あり、作業工数が多くかかるという問題点があった。
【0007】現在では、多くの電子部品が表面実装型へ
と移り変わっており、表面実装型のサージ吸収素子の提
案もなされている(例特開平7-245878)。しかしなが
ら、従来の表面実装型のサージ吸収素子は、放電ギャッ
プを気密に保つため、数枚のセラミックス板を張り付け
る等、作業工数がかかり、大量生産には不向きであると
いう問題点があった。
【0008】従って、本発明の目的は、量産性が良く、
低コストで、表面実装が可能な、放電回数の繰り返し寿
命が優れたチップ型サージ吸収素子およびその製造方法
を提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明のチップ型サージ
吸収素子は、一対の外部電極を有する絶縁性セラミック
焼結体内部に、1対の内部電極と放電空間を有したサー
ジ吸収素子で、一対の内部電極の最近接部の電極の形状
が円環形状であり、電極間ギャップに形成される放電空
間の平面の面積が該円環状電極の直径により形成される
面積より大きい平面をもった空間であることを特徴とし
たチップ型サージ吸収素子である。
【0010】最近接部の電極を円環状とすることによっ
て、放電の切っ掛けは最近接部の円環状電極部でおきる
が、放電が進みアーク放電に至るときには、面対向とな
っている内部電極で放電経路が形成される。そのため、
円環状電極の放電による電極損傷は最小限に押さえられ
る。つまり、繰り返し放電させた場合に、放電の切っ掛
け、言い換えると、放電開始電圧が安定し繰り返し放電
に寄る特性変動が少なくなる。
【0011】さらには、放電空間部の平面の面積を円環
状電極の直径により形成される面積より大きな平面面積
をもった空間にすることにより、内部電極部のスパッタ
粒子により短絡にいたるのを延命することが可能であ
る。つまり、サージ吸収素子の寿命を長くすることが可
能である。また、本発明のチップ型サージ吸収素子は、
印刷法、グリーンシート法によって作製することを特徴
としており、従来技術のもとで大量生産が可能である。
【0012】即ち、本発明は、一対の外部電極を有する
絶縁性セラミック焼結体の内部に1対の内部電極と放電
空間を有したチップ型サージ吸収素子であって、前記一
対の内部電極の最近接部の電極の形状が円環形状であ
り、電極間ギャップに形成される放電空間の平面の面積
が、前記最近接部の電極の円環形状に含まれる面積より
大きいチップ型サージ吸収素子である。
【0013】また、本発明は、一対の外部電極を有する
絶縁性セラミック焼結体の内部に1対の内部電極と放電
空間を形成したチップ型サージ吸収素子の製造方法であ
って、一対の内部電極の最近接部の電極の形状を円環形
状とし、電極間ギャップに形成される放電空間の平面の
面積を、前記最近接部の電極の円環形状に含まれる面積
より大きくするチップ型サージ吸収素子の製造方法であ
る。
【0014】また、本発明は、前記チップ型サージ吸収
素子を、スクリーン印刷法あるいはグリーンシート法に
よって作製することを特徴としたチップ型サージ吸収素
子の製造方法である。
【0015】
【実施例】本発明の実施例によるチップ型サージ吸収素
子およびその製造方法について、以下に説明する。
【0016】図1(a)に、本発明によるサージ吸収素
子の平面図、図1(b)に、本発明によるサージ吸収素
子の断面図を示す。本実施例において、絶縁性セラミッ
クス11として、主成分NaO・B・SiO
のガラスを40重量%添加したステアタイトと、内部電
極8a,8bとしてAg−30%Pdを用い、スクリー
ン印刷法により作製し、1000℃で焼結を行った。
【0017】実施例において、内部電極8a,8bと最
近接部の電極9とは、同一材としたが、異なる材質を用
いてもよい。その場合、内部電極8a,8bの抵抗値
が、最近接部の電極9の抵抗値より小さいことが望まし
い。
【0018】放電空間10は、カーボンペーストをスク
リーン印刷で放電空間部に充填し、焼結時に焼失させ
た。外部電極7a,7bは、600℃でAg電極を焼き
つけた後、Niめっきを施し、形成した。なお、絶縁性
セラミックス材、内部電極材、外部電極材、ガラス材、
およびサージ吸収素子の電極形状は、本実施例に限るも
のではない。
【0019】本実施例において、円環状電極の外径を9
0μm、内径を50μm、電極間ギャップを50μm、
放電空間部の直径200μmとして放電実験を行った。
その結果、直流放電開始電圧は約500Vであった。
【0020】この素子に静電気サージ(10kV−15
0pF−330Ω)を10000回印加した後の直流放
電開始電圧のばらつきは、初期値に対して±30%以内
の変動であった。また、絶縁抵抗は、1010Ω以上の
値を示した。この結果は、従来のギャップ放電式サージ
吸収素子の特性と同等もしくはそれ以上の特性値であ
る。
【0021】以上説明したとおり、本発明によれば、従
来のスクリーン印刷技術等の量産性の高い技術を利用し
た容易な製造工程で、サージ寿命特性の優れたチップ型
サージ吸収素子が得られる。
【0022】
【発明の効果】本発明は、量産性が良く、低コストで、
放電回数の繰り返し寿命が優れた、表面実装が可能なチ
ップ型サージ吸収素子およびその製造方法を提供するも
のである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のチップ型サージ吸収素子の説明図。
図1(a)は、チップ型サージ吸収素子の平面図、図1
(b)は、図1(a)でのA−A断面図。
【図2】従来の放電式サージ吸収素子の概観図。
【符号の説明】
1 放電式サージ吸収素子 2 リード線 3 ガラス管 4a,4b 主電極 5a,5b 補助電極 6 マイクロギャップ 7a,7b 外部電極 8a,8b 内部電極 9 最近接部の電極 10 放電空間 11 絶縁性セラミック焼結体

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一対の外部電極を有する絶縁性セラミッ
    ク焼結体の内部に1対の内部電極と放電空間を有したチ
    ップ型サージ吸収素子であって、前記一対の内部電極の
    最近接部の電極の形状が円環形状であり、電極間ギャッ
    プに形成される放電空間の平面の面積が、前記最近接部
    の電極の円環形状に含まれる面積より大きいことを特徴
    とするチップ型サージ吸収素子。
  2. 【請求項2】 一対の外部電極を有する絶縁性セラミッ
    ク焼結体の内部に1対の内部電極と放電空間を形成した
    チップ型サージ吸収素子の製造方法であって、一対の内
    部電極の最近接部の電極の形状を円環形状とし、電極間
    ギャップに形成される放電空間の平面の面積を、前記最
    近接部の電極の円環形状に含まれる面積より大きくする
    ことを特徴とするチップ型サージ吸収素子の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記チップ型サージ吸収素子の製造方法
    において、スクリーン印刷法あるいはグリーンシート法
    を使用することを特徴とする請求項2に記載のチップ型
    サージ吸収素子の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9826611B2 (en) 2013-06-24 2017-11-21 Murata Manufacturing Co., Ltd. ESD protection device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9826611B2 (en) 2013-06-24 2017-11-21 Murata Manufacturing Co., Ltd. ESD protection device
US10219362B2 (en) 2013-06-24 2019-02-26 Murata Manufacturing Co., Ltd. ESD protection device

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