JP2001215317A - 順応型回折格子装置を具備した空間光変調器 - Google Patents
順応型回折格子装置を具備した空間光変調器Info
- Publication number
- JP2001215317A JP2001215317A JP2001018776A JP2001018776A JP2001215317A JP 2001215317 A JP2001215317 A JP 2001215317A JP 2001018776 A JP2001018776 A JP 2001018776A JP 2001018776 A JP2001018776 A JP 2001018776A JP 2001215317 A JP2001215317 A JP 2001215317A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- diffraction
- adaptive
- ribbon
- grating device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0808—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more diffracting elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1828—Diffraction gratings having means for producing variable diffraction
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S359/00—Optical: systems and elements
- Y10S359/90—Methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Micromachines (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、回折方向が配列方向と直交してい
る広いアクティブ領域を備え、高速で効率的に光を離散
した次数へ回折でき、CMOS製造プロセスに適合した
回折格子装置のリニア配列の提供を目的とする。 【解決手段】 本発明の入射光ビームを回折によって変
調する機械式回折格子装置は、光反射面を含む細長い素
子と、細長い素子を基板の両端で支える一対の端部支持
体と、一対の端部支持体の間にある少なくとも一つの中
間部支持体と、第1の動作状態と第2の動作状態の間で
細長い素子を変形させるため細長い素子に力を加える手
段とを有する。
る広いアクティブ領域を備え、高速で効率的に光を離散
した次数へ回折でき、CMOS製造プロセスに適合した
回折格子装置のリニア配列の提供を目的とする。 【解決手段】 本発明の入射光ビームを回折によって変
調する機械式回折格子装置は、光反射面を含む細長い素
子と、細長い素子を基板の両端で支える一対の端部支持
体と、一対の端部支持体の間にある少なくとも一つの中
間部支持体と、第1の動作状態と第2の動作状態の間で
細長い素子を変形させるため細長い素子に力を加える手
段とを有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、入射光ビームを空
間的かつ時間的に変調するマイクロメカニカル装置に係
り、特に、入射光ビームを回折する順応型回折格子構造
を備えた電子機械式装置に関する。
間的かつ時間的に変調するマイクロメカニカル装置に係
り、特に、入射光ビームを回折する順応型回折格子構造
を備えた電子機械式装置に関する。
【0002】
【従来の技術】種々の構造を有する電子機械式空間光変
調器は、ディスプレイ、光学処理、印刷、光データ記憶
装置、及び、分光器のようなアプリケーションに使用さ
れている。これらの変調器は、個々にアドレス可能なデ
バイスの配列を用いて入射光ビームの位相及び/又は振
幅に空間的変動を生じさせる。
調器は、ディスプレイ、光学処理、印刷、光データ記憶
装置、及び、分光器のようなアプリケーションに使用さ
れている。これらの変調器は、個々にアドレス可能なデ
バイスの配列を用いて入射光ビームの位相及び/又は振
幅に空間的変動を生じさせる。
【0003】入射ビームの空間光変調は、個別にアドレ
ス可能な可変ミラーの配列によって実現される。このよ
うな素子は、1984年4月10日にHornbeckに発行された、
発明の名称が"Deformable Mirror Light Modulator"で
ある米国特許第4,441,791号明細書に記載されているよ
うに、支持体の格子に懸架された可変反射型部材から製
作される。しかし、部材と支持体の構造のため、これら
の特定の可変ミラーは非常に効率が悪い。効率のよい可
変ミラー構造は、1992年12月8日にO'Brien他に発行され
た、発明の名称が"Silicon Spatial Light Modulator"
である米国特許第5,170,283号明細書、並びに、1998年1
2月1日にLong, Jr.に発行された、発明の名称が"Tunabl
e Spatial Light Modulator"である米国特許第5,844,71
1号明細書に開示されている。
ス可能な可変ミラーの配列によって実現される。このよ
うな素子は、1984年4月10日にHornbeckに発行された、
発明の名称が"Deformable Mirror Light Modulator"で
ある米国特許第4,441,791号明細書に記載されているよ
うに、支持体の格子に懸架された可変反射型部材から製
作される。しかし、部材と支持体の構造のため、これら
の特定の可変ミラーは非常に効率が悪い。効率のよい可
変ミラー構造は、1992年12月8日にO'Brien他に発行され
た、発明の名称が"Silicon Spatial Light Modulator"
である米国特許第5,170,283号明細書、並びに、1998年1
2月1日にLong, Jr.に発行された、発明の名称が"Tunabl
e Spatial Light Modulator"である米国特許第5,844,71
1号明細書に開示されている。
【0004】別の電子機械式空間光変調器のクラスに
は、電子機械式位相格子を形成する反射素子の周期的系
列を備えた装置が含まれる。このような装置では、入射
光ビームは、選択的に反射され、或いは、多数の離散的
な次数へ回折させられる。アプリケーションに応じて、
一つ以上の回折次数が光学系によって集められ、使用さ
れる。殆どのアプリケーションの場合に、好ましい電子
機械式位相格子は、可変ミラーである。電子機械式回折
格子は、金属被覆されたエラストマーゲルに形成され
る。たとえば、1986年12月2日にGlennへ発行された、発
明の名称が"Solid State Light Modulator Structure"
である米国特許第4,626,920号明細書、並びに、1989年8
月15日にGoldburt他へ発行された、発明の発明の名称
が"Solid StateLight Modulator Incorporating Metall
ized Gel and Method of Metallization"である米国特
許第4,857,978号明細書を参照のこと。エラストマーの
下側にある電極は、電圧の印加が略正弦曲線状の位相格
子を生成するエラストマーを変形するようにパターン化
される。これらのタイプの装置は、たとえば、"Metalli
zedviscoelastic control layers for light-valve pro
jection displays", Displays 16, 1995, pages 13-2
0、並びに、"Full-colour diffraction-based opticals
ystem for light-valve projection displays", Displa
ys 16, 1995, pages 27-34に記載されるように、カラー
投写型ディスプレイに巧く使用される。
は、電子機械式位相格子を形成する反射素子の周期的系
列を備えた装置が含まれる。このような装置では、入射
光ビームは、選択的に反射され、或いは、多数の離散的
な次数へ回折させられる。アプリケーションに応じて、
一つ以上の回折次数が光学系によって集められ、使用さ
れる。殆どのアプリケーションの場合に、好ましい電子
機械式位相格子は、可変ミラーである。電子機械式回折
格子は、金属被覆されたエラストマーゲルに形成され
る。たとえば、1986年12月2日にGlennへ発行された、発
明の名称が"Solid State Light Modulator Structure"
である米国特許第4,626,920号明細書、並びに、1989年8
月15日にGoldburt他へ発行された、発明の発明の名称
が"Solid StateLight Modulator Incorporating Metall
ized Gel and Method of Metallization"である米国特
許第4,857,978号明細書を参照のこと。エラストマーの
下側にある電極は、電圧の印加が略正弦曲線状の位相格
子を生成するエラストマーを変形するようにパターン化
される。これらのタイプの装置は、たとえば、"Metalli
zedviscoelastic control layers for light-valve pro
jection displays", Displays 16, 1995, pages 13-2
0、並びに、"Full-colour diffraction-based opticals
ystem for light-valve projection displays", Displa
ys 16, 1995, pages 27-34に記載されるように、カラー
投写型ディスプレイに巧く使用される。
【0005】非常に高速な応答時間をもつ電子機械式位
相格子は、1994年5月10日にBloom他に発行された、発明
の名称が"Method and Apparatus for Modulating a Lig
ht Beam"である米国特許第5,311,360号明細書に記載さ
れているように、懸架されたマイクロメカニカルリボン
素子から製作され得る。この装置は、回折格子光バブル
(GLV)とも称され、珪素上でCMOS様式のプロセ
スを用いて製作される。この装置は、1)リボンと基板
との間の静止摩擦を除去するため接触面積を最小限に抑
えるべくリボンの下側に設けられたパターン付きの***
領域、並びに、2)リボン間の間隔が減少し、別のリボ
ンが良好なコントラストを生ずるため作動される別の装
置構成の点で改良されることが、Bloomによってその後
に指摘されている。たとえば、1995年10月17日にBloom
他に発行された、発明の名称が"Deformable Grating Ap
paratus for Modulating a Light Beam and Including
Means for Obviating Stiction Between Grating Eleme
nts and Underlying Substrate"である米国特許第5,45
9,610号明細書に記載されている。さらに、Bloom他は、
1997年10月14日に発行された、発明の名称が"Method of
Making a DeformableGrating Apparatus for Modulati
ng a Light Beam and Including Means for Obviating
Stiction Between Grating Elements and Underlying S
ubstrate"である米国特許第5,677,783号明細書におい
て、この装置の製造方法を提案している。GLVの構造
及び製造方法の更なる改良点は、1998年11月24日にBlo
om他に発行された、発明の名称が"Method of Making an
d an Apparatus for a Flat Diffraction Grating Ligh
t Valve"である米国特許第5,661,592号明細書に記載さ
れている。GLV装置のリニア配列は、1999年11月9日
にBloom他へ発行された、発明の名称が"Display Device
Incorporating One-Dimensional Grating Light-Valve
Array"である米国特許第5,982,533号明細書に記載され
ているように表示及び印刷のため使用することができ
る。
相格子は、1994年5月10日にBloom他に発行された、発明
の名称が"Method and Apparatus for Modulating a Lig
ht Beam"である米国特許第5,311,360号明細書に記載さ
れているように、懸架されたマイクロメカニカルリボン
素子から製作され得る。この装置は、回折格子光バブル
(GLV)とも称され、珪素上でCMOS様式のプロセ
スを用いて製作される。この装置は、1)リボンと基板
との間の静止摩擦を除去するため接触面積を最小限に抑
えるべくリボンの下側に設けられたパターン付きの***
領域、並びに、2)リボン間の間隔が減少し、別のリボ
ンが良好なコントラストを生ずるため作動される別の装
置構成の点で改良されることが、Bloomによってその後
に指摘されている。たとえば、1995年10月17日にBloom
他に発行された、発明の名称が"Deformable Grating Ap
paratus for Modulating a Light Beam and Including
Means for Obviating Stiction Between Grating Eleme
nts and Underlying Substrate"である米国特許第5,45
9,610号明細書に記載されている。さらに、Bloom他は、
1997年10月14日に発行された、発明の名称が"Method of
Making a DeformableGrating Apparatus for Modulati
ng a Light Beam and Including Means for Obviating
Stiction Between Grating Elements and Underlying S
ubstrate"である米国特許第5,677,783号明細書におい
て、この装置の製造方法を提案している。GLVの構造
及び製造方法の更なる改良点は、1998年11月24日にBlo
om他に発行された、発明の名称が"Method of Making an
d an Apparatus for a Flat Diffraction Grating Ligh
t Valve"である米国特許第5,661,592号明細書に記載さ
れている。GLV装置のリニア配列は、1999年11月9日
にBloom他へ発行された、発明の名称が"Display Device
Incorporating One-Dimensional Grating Light-Valve
Array"である米国特許第5,982,533号明細書に記載され
ているように表示及び印刷のため使用することができ
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このタイプのリニアG
LV配列を用いる場合、回折方向は、配列の方向と直交
しないため、回折次数を分離するため必要とされる光学
系の複雑さが増大する。さらに、配列のアクティブ(有
効)領域は非常に狭いため、配列の全長に亘って良好
に、典型的には、数センチメートルの長さに亘って10
乃至30ミクロンの範囲内でライン照明を位置合わせす
る必要がある。そのため、ライン照明は、リニア配列の
全域で良好な直線性を保つことが必要である。
LV配列を用いる場合、回折方向は、配列の方向と直交
しないため、回折次数を分離するため必要とされる光学
系の複雑さが増大する。さらに、配列のアクティブ(有
効)領域は非常に狭いため、配列の全長に亘って良好
に、典型的には、数センチメートルの長さに亘って10
乃至30ミクロンの範囲内でライン照明を位置合わせす
る必要がある。そのため、ライン照明は、リニア配列の
全域で良好な直線性を保つことが必要である。
【0007】したがって、回折方向が配列方向と直交し
ている広いアクティブ領域を備えた回折格子装置のリニ
ア配列が要望される。また、この回折格子装置は、高速
で効率的に光を離散した次数へ回折できることが必要で
あり、かつ、この回折格子装置の製造方法は、CMOS
様式のプロセスと適合していなければならない。
ている広いアクティブ領域を備えた回折格子装置のリニ
ア配列が要望される。また、この回折格子装置は、高速
で効率的に光を離散した次数へ回折できることが必要で
あり、かつ、この回折格子装置の製造方法は、CMOS
様式のプロセスと適合していなければならない。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
従来技術の課題は、光反射面を含む細長い素子と、上記
細長い素子を基板の両端で支える一対の端部支持体と、
上記一対の端部支持体の間にある少なくとも一つの中間
部支持体と、第1の動作状態と第2の動作状態の間で上
記細長い素子を変形させるため上記細長い素子に力を加
える手段と、を有し、入射光ビームを回折によって変調
する機械式回折格子装置を設けることにより解決され
る。
従来技術の課題は、光反射面を含む細長い素子と、上記
細長い素子を基板の両端で支える一対の端部支持体と、
上記一対の端部支持体の間にある少なくとも一つの中間
部支持体と、第1の動作状態と第2の動作状態の間で上
記細長い素子を変形させるため上記細長い素子に力を加
える手段と、を有し、入射光ビームを回折によって変調
する機械式回折格子装置を設けることにより解決され
る。
【0009】本発明によれば、従来技術の回折格子光バ
ルブ配列よりも広いアクティブ領域が得られるので、回
折格子装置を容易に位置合わせできるようになり、照明
システムの許容範囲が緩和されるという効果が生ずる。
また、本発明の回折格子装置は、回折方向が配列の長軸
と直交するので、配列によって回折された光を集める光
学系を簡単化できるという効果を奏する。
ルブ配列よりも広いアクティブ領域が得られるので、回
折格子装置を容易に位置合わせできるようになり、照明
システムの許容範囲が緩和されるという効果が生ずる。
また、本発明の回折格子装置は、回折方向が配列の長軸
と直交するので、配列によって回折された光を集める光
学系を簡単化できるという効果を奏する。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の好ましい一実施例による
順応型回折格子装置は、図1乃至4に示されている。図
1には、非作動状態である横並びの二つの順応型回折格
子装置5a及び5bの構造体が示されている。本実施例
の場合に、装置は、静電気力の印加によって作動され
る。回折格子装置5a及び5bは、ガラス、金属、プラ
スチック、若しくは、半導体材料から製作され、装置を
駆動する電極として機能する下側導電層12によって被
覆された基板10の上面に形成される。下側導電層12
は、アルミニウム、チタン、金、銀、タングステン、ド
ープト珪素、若しくは、インジウム・スズ酸化物のよう
な材料から製作される。下側導電層12は、誘電保護層
14によって被覆され、次に、スペーサー層18によっ
て被覆される。スペーサー層18の上には、反射層22
によって被覆されたリボン層20が形成される。本実施
例の場合に、反射層22は、順応型回折格子装置5a及
び5bの作動用電極として用いるため導体であり、以下
では、反射・導電層22と呼ばれる場合がある。反射・
導電層22は、二つの順応型回折格子装置5a及び5b
への電極を設けるためパターニングされる。リボン層2
0は、好ましくは、大きい復元力を与えるために充分な
引っ張り応力のある材料を含む。リボン材料の例には、
窒化珪素、チタンアルミナイド、及び、酸化チタンが含
まれる。リボン層20の厚さ及び引っ張り応力は、作動
用の静電気力及び復元力に影響を与えることによって性
能を最適化するよう選択される。静電気力及び復元力
は、順応型回折格子装置5a及び5bの電圧必要条件、
速度、及び、共振周波数に影響を与える。
順応型回折格子装置は、図1乃至4に示されている。図
1には、非作動状態である横並びの二つの順応型回折格
子装置5a及び5bの構造体が示されている。本実施例
の場合に、装置は、静電気力の印加によって作動され
る。回折格子装置5a及び5bは、ガラス、金属、プラ
スチック、若しくは、半導体材料から製作され、装置を
駆動する電極として機能する下側導電層12によって被
覆された基板10の上面に形成される。下側導電層12
は、アルミニウム、チタン、金、銀、タングステン、ド
ープト珪素、若しくは、インジウム・スズ酸化物のよう
な材料から製作される。下側導電層12は、誘電保護層
14によって被覆され、次に、スペーサー層18によっ
て被覆される。スペーサー層18の上には、反射層22
によって被覆されたリボン層20が形成される。本実施
例の場合に、反射層22は、順応型回折格子装置5a及
び5bの作動用電極として用いるため導体であり、以下
では、反射・導電層22と呼ばれる場合がある。反射・
導電層22は、二つの順応型回折格子装置5a及び5b
への電極を設けるためパターニングされる。リボン層2
0は、好ましくは、大きい復元力を与えるために充分な
引っ張り応力のある材料を含む。リボン材料の例には、
窒化珪素、チタンアルミナイド、及び、酸化チタンが含
まれる。リボン層20の厚さ及び引っ張り応力は、作動
用の静電気力及び復元力に影響を与えることによって性
能を最適化するよう選択される。静電気力及び復元力
は、順応型回折格子装置5a及び5bの電圧必要条件、
速度、及び、共振周波数に影響を与える。
【0011】両方の順応型回折格子装置5a及び5b
は、それぞれ、関連した細長いリボン素子23a及び2
3bを有する。細長いリボン素子23a及び23bは、
反射・導電層22及びリボン層20からパターニングに
よって形成される。細長いリボン素子23a及び23b
は、スペーサー層18から形成された端部支持体24a
及び24bと、一つ以上の中間部支持体27とによって
支えられる。図1には、スペーサー層18から形成され
た三つの中間部支持体27が示されている。これらの中
間部支持体27は、四つの一定幅の溝25を形成するた
め、均等に離間される。細長いリボン素子23a及び2
3bは、端部支持体及び中間部支持体27に取り付けら
れる。端部支持体24a及び24bは、溝25と対向し
た縁以外では画成されない。複数の方形隔離体29が隔
離層14から溝25の底にパターニングされる。これら
の隔離体29は、作動されたときに、リボン素子が貼り
付く可能性を減少させる。隔離体29は、たとえば、矩
形若しくは円形のような方形以外の形状にパターニング
されてもよい。
は、それぞれ、関連した細長いリボン素子23a及び2
3bを有する。細長いリボン素子23a及び23bは、
反射・導電層22及びリボン層20からパターニングに
よって形成される。細長いリボン素子23a及び23b
は、スペーサー層18から形成された端部支持体24a
及び24bと、一つ以上の中間部支持体27とによって
支えられる。図1には、スペーサー層18から形成され
た三つの中間部支持体27が示されている。これらの中
間部支持体27は、四つの一定幅の溝25を形成するた
め、均等に離間される。細長いリボン素子23a及び2
3bは、端部支持体及び中間部支持体27に取り付けら
れる。端部支持体24a及び24bは、溝25と対向し
た縁以外では画成されない。複数の方形隔離体29が隔
離層14から溝25の底にパターニングされる。これら
の隔離体29は、作動されたときに、リボン素子が貼り
付く可能性を減少させる。隔離体29は、たとえば、矩
形若しくは円形のような方形以外の形状にパターニング
されてもよい。
【0012】図2は、順応型回折格子装置5a、5b、
5c及び5dの4デバイス型リニア配列の平面図であ
る。細長いリボン素子は、下側にある構造体を図示する
ため、線2−2より下方では部分的に取り除かれた状態
で示されている。最高の光学的性能及び最大コントラス
トを得るため、中間部支持体27は、細長いリボン素子
23a、23b、23c及び23dの陰に完全に隠蔽さ
れている。したがって、上方からみたとき、中間部支持
体は、順応型回折格子装置5a〜5dの間のギャップ3
2中には見えない。各順応型回折格子装置は、4個の等
幅の溝25と共に3個の中間部支持体27を有する。
5c及び5dの4デバイス型リニア配列の平面図であ
る。細長いリボン素子は、下側にある構造体を図示する
ため、線2−2より下方では部分的に取り除かれた状態
で示されている。最高の光学的性能及び最大コントラス
トを得るため、中間部支持体27は、細長いリボン素子
23a、23b、23c及び23dの陰に完全に隠蔽さ
れている。したがって、上方からみたとき、中間部支持
体は、順応型回折格子装置5a〜5dの間のギャップ3
2中には見えない。各順応型回折格子装置は、4個の等
幅の溝25と共に3個の中間部支持体27を有する。
【0013】中間部支持体27の中心間距離Λは、作動
状態の順応型回折格子装置の周期を定義する。細長いリ
ボン素子23a〜23dは、互いに機械的、電気的に分
離されているので、4個の順応型回折格子装置5a〜5
dを独立に動作させることができる。
状態の順応型回折格子装置の周期を定義する。細長いリ
ボン素子23a〜23dは、互いに機械的、電気的に分
離されているので、4個の順応型回折格子装置5a〜5
dを独立に動作させることができる。
【0014】図3の(a)は、図2の線3−3による、
非作動状態の順応型回折格子装置5bの二つの溝25の
断面図である。図3の(b)は、作動状態の順応型回折
格子装置の同じ断面図である。装置の動作中に、細長い
リボン素子23bの下側導電層12と導電層22の間に
電圧差を与えることにより、静電気引力が生成される。
電圧差が無い非作動状態(図3の(a))の場合に、リ
ボン素子23bは、支持体間で水平に懸架する。この状
態では、入射光ビーム30は、主としてミラー方向33
へ反射される。作動状態を実現するため、電圧が順応型
回折格子5bに印加され、これにより、細長いリボン素
子23bが変形し、周期Λで部分的に等角の回折格子が
得られる。図3の(b)は、細長いリボン素子23bが
隔離体29と接触している完全に作動された状態の装置
が示されている。素子23bの底部と、隔離体29の頂
部の高さの差は、入射光の波長λの略1/4になるよう
に選択される。最適な高さは、作動された装置の特定形
状に依存する。作動状態において、入射光ビーム30
は、主として、回折次数+1のビーム35aと、回折次
数−1のビーム35bへ回折され、付加的な光は、回折
次数+2のビーム36aと、回折次数−2のビーム36
bへ回折される。少量の光は、より高次の回折次数へ回
折され、一部は反射される。装置の表面と垂直に入射し
た光の場合、入射ビームと回折次数mの回折ビームとの
間の角度θmは、式: sinθm=mλ/Λ によって与えられ、式中、mは整数を表す。
非作動状態の順応型回折格子装置5bの二つの溝25の
断面図である。図3の(b)は、作動状態の順応型回折
格子装置の同じ断面図である。装置の動作中に、細長い
リボン素子23bの下側導電層12と導電層22の間に
電圧差を与えることにより、静電気引力が生成される。
電圧差が無い非作動状態(図3の(a))の場合に、リ
ボン素子23bは、支持体間で水平に懸架する。この状
態では、入射光ビーム30は、主としてミラー方向33
へ反射される。作動状態を実現するため、電圧が順応型
回折格子5bに印加され、これにより、細長いリボン素
子23bが変形し、周期Λで部分的に等角の回折格子が
得られる。図3の(b)は、細長いリボン素子23bが
隔離体29と接触している完全に作動された状態の装置
が示されている。素子23bの底部と、隔離体29の頂
部の高さの差は、入射光の波長λの略1/4になるよう
に選択される。最適な高さは、作動された装置の特定形
状に依存する。作動状態において、入射光ビーム30
は、主として、回折次数+1のビーム35aと、回折次
数−1のビーム35bへ回折され、付加的な光は、回折
次数+2のビーム36aと、回折次数−2のビーム36
bへ回折される。少量の光は、より高次の回折次数へ回
折され、一部は反射される。装置の表面と垂直に入射し
た光の場合、入射ビームと回折次数mの回折ビームとの
間の角度θmは、式: sinθm=mλ/Λ によって与えられ、式中、mは整数を表す。
【0015】一つ以上の回折次数が、アプリケーション
に応じて、光学系によって収集され、使用される。印加
電圧が取り除かれたとき、引っ張り応力と撓みによる力
は、リボン素子23bを元の非作動状態へ復元させる。
に応じて、光学系によって収集され、使用される。印加
電圧が取り除かれたとき、引っ張り応力と撓みによる力
は、リボン素子23bを元の非作動状態へ復元させる。
【0016】図4の(a)及び(b)は、非作動状態及
び作動状態における順応型回折格子装置5bの図2の線
4−4による回転された断面図である。細長いリボン素
子23bは、端部支持体24bと隣の中間部支持体27
(どちらも図示されない)によって懸架される。電圧の
印加によって、装置は図4の(b)に示されるように作
動される。
び作動状態における順応型回折格子装置5bの図2の線
4−4による回転された断面図である。細長いリボン素
子23bは、端部支持体24bと隣の中間部支持体27
(どちらも図示されない)によって懸架される。電圧の
印加によって、装置は図4の(b)に示されるように作
動される。
【0017】好ましい一実施例において、順応型回折格
子装置のリニア配列は、図1から3に示されるように、
配列方向(x方向)と直交した格子周期Λの方向(y方
向)に装置を配置することによって形成される。回折次
数は、y−zへイ面内で種々の角度をとり、配列方向に
直交する。場合によっては、狭い光のラインで照明され
る数千個の装置により構成される大型リニア配列の場合
でも、回折次数は、非常に短い距離に亘って空間的に分
離される。この機能によって、光学系の設計が簡単化さ
れ、回折次数の分離がシュリーレン光学系を用いること
なく空間的に分離され得る実施可能な設計構造を与え
る。
子装置のリニア配列は、図1から3に示されるように、
配列方向(x方向)と直交した格子周期Λの方向(y方
向)に装置を配置することによって形成される。回折次
数は、y−zへイ面内で種々の角度をとり、配列方向に
直交する。場合によっては、狭い光のラインで照明され
る数千個の装置により構成される大型リニア配列の場合
でも、回折次数は、非常に短い距離に亘って空間的に分
離される。この機能によって、光学系の設計が簡単化さ
れ、回折次数の分離がシュリーレン光学系を用いること
なく空間的に分離され得る実施可能な設計構造を与え
る。
【0018】従来のGLV装置から製作されたリニア配
列の場合、格子周期は、配列方向と平行するので、回折
次数の空間的分離のためには非常に広い間隔が必要とさ
れる。比較例として、100μmの光のラインによって
照明される4cm長(20μm幅に2000個の装置)
である順応型回折格子装置の配列を考える。回折次数が
角度的に1度ずつ分離されるように周期が選択された装
置の場合、次数は空間的に約6mmで分離されるように
なる。回折次数間に4度の角度的分離がある従来技術の
GLV装置の同様の4cmのリニア配列は、シュリーレ
ン光学系を用いることなく空間的分離を実現するため、
少なくとも60cmの長さを要する。
列の場合、格子周期は、配列方向と平行するので、回折
次数の空間的分離のためには非常に広い間隔が必要とさ
れる。比較例として、100μmの光のラインによって
照明される4cm長(20μm幅に2000個の装置)
である順応型回折格子装置の配列を考える。回折次数が
角度的に1度ずつ分離されるように周期が選択された装
置の場合、次数は空間的に約6mmで分離されるように
なる。回折次数間に4度の角度的分離がある従来技術の
GLV装置の同様の4cmのリニア配列は、シュリーレ
ン光学系を用いることなく空間的分離を実現するため、
少なくとも60cmの長さを要する。
【0019】さらに、順応型回折格子配列における格子
周期Λは配列方向と直交するので、実現可能な周期の数
に有意な制約を課すことなく、配列の多数の周期を広げ
ることができる。周期の数を増加させることにより、光
学的位置合わせ公差を改良し、局部的な装置故障の場合
に、ある程度の組み込み冗長性が得られる。順応型回折
格子装置の一部の機能が停止した場合、光ビームは正常
動作部分へ位置を修正することができる。
周期Λは配列方向と直交するので、実現可能な周期の数
に有意な制約を課すことなく、配列の多数の周期を広げ
ることができる。周期の数を増加させることにより、光
学的位置合わせ公差を改良し、局部的な装置故障の場合
に、ある程度の組み込み冗長性が得られる。順応型回折
格子装置の一部の機能が停止した場合、光ビームは正常
動作部分へ位置を修正することができる。
【0020】順応型回折格子装置の電子機械的及び光学
的動作をより詳細に説明するため、以下の材料及びパラ
メータを用いて現実的な設計の予測性能を調べることが
有用である。
的動作をより詳細に説明するため、以下の材料及びパラ
メータを用いて現実的な設計の予測性能を調べることが
有用である。
【0021】基板材料:珪素 下側導電層:ドープト珪素 保護層:厚さ50nmの二酸化珪素 スペーサー層:厚さ150nmの二酸化珪素 リボン層:厚さ100nm、引っ張り力600Mpaの
二酸化珪素 反射・導電層:厚さ50nmのアルミニウム 格子周期Λ=20μm 細長いリボン素子の懸架長=16μm 細長いリボン素子の幅w=30μm 中間部支持体の幅=4μm このタイプの設計によって、CMOS法による製造と、
CMOS回路による集積化が可能になる。この具体的な
設計例におけるリボン素子の共振周波数は約11MHz
である。殆どの実際的な設計の場合、共振周波数は、2
MHz乃至15MHzである。本実施例の装置の共振周
波数は高いので、装置のスイッチング時間は非常に短く
することができる。
二酸化珪素 反射・導電層:厚さ50nmのアルミニウム 格子周期Λ=20μm 細長いリボン素子の懸架長=16μm 細長いリボン素子の幅w=30μm 中間部支持体の幅=4μm このタイプの設計によって、CMOS法による製造と、
CMOS回路による集積化が可能になる。この具体的な
設計例におけるリボン素子の共振周波数は約11MHz
である。殆どの実際的な設計の場合、共振周波数は、2
MHz乃至15MHzである。本実施例の装置の共振周
波数は高いので、装置のスイッチング時間は非常に短く
することができる。
【0022】図5及び6は、この具体的な装置の電子機
械的動作のモデルを説明するグラフである。図5は、溝
の中心における細長いリボン素子の位置を、印加電圧の
関数として表したグラフであり、ヒステリシスを伴うこ
とが示されている。電圧が0Vから上昇するとき、中心
位置は、20.1Vのプルダウン電圧に達するまで、略
二次式に沿って増加する。このプルダウン電圧で、静電
気力は引っ張り復元力に打ち勝ち、リボンは基板に突入
する。さらに、印加電圧が増加すると、変形したリボン
の形状が変化するが、中心位置は変化しない。リボンが
基板と接触する場合、電圧は、10.8ボルトで離れる
まで接触を保ったままの状態で、プルダウン電圧よりも
降下する。このヒステリシスは、装置の光学的性能を改
良するため利用され得る。また、このヒステリシスは、
ある種のアプリケーションではスイッチとして使用され
る。
械的動作のモデルを説明するグラフである。図5は、溝
の中心における細長いリボン素子の位置を、印加電圧の
関数として表したグラフであり、ヒステリシスを伴うこ
とが示されている。電圧が0Vから上昇するとき、中心
位置は、20.1Vのプルダウン電圧に達するまで、略
二次式に沿って増加する。このプルダウン電圧で、静電
気力は引っ張り復元力に打ち勝ち、リボンは基板に突入
する。さらに、印加電圧が増加すると、変形したリボン
の形状が変化するが、中心位置は変化しない。リボンが
基板と接触する場合、電圧は、10.8ボルトで離れる
まで接触を保ったままの状態で、プルダウン電圧よりも
降下する。このヒステリシスは、装置の光学的性能を改
良するため利用され得る。また、このヒステリシスは、
ある種のアプリケーションではスイッチとして使用され
る。
【0023】図6は、回折格子の側断面が印加電圧を調
整することにより変更される様子を示す図である。リボ
ンと基板が接触した状態で、作動した装置の12Vにお
ける周期の側断面(破線)と22Vにおける周期の側断
面(実線)とが示されている。この12Vの側断面を獲
得するため、最初に、プルダウン電圧20.1V折も高
い電圧を印加することによって接触が確立される必要が
ある。12Vは、解放電圧よりも僅かしか高くないの
で、リボンの非常に小さい一部分だけが基板に触れる。
この電圧による形状の変化は、装置の回折効率に重大な
影響を与える。
整することにより変更される様子を示す図である。リボ
ンと基板が接触した状態で、作動した装置の12Vにお
ける周期の側断面(破線)と22Vにおける周期の側断
面(実線)とが示されている。この12Vの側断面を獲
得するため、最初に、プルダウン電圧20.1V折も高
い電圧を印加することによって接触が確立される必要が
ある。12Vは、解放電圧よりも僅かしか高くないの
で、リボンの非常に小さい一部分だけが基板に触れる。
この電圧による形状の変化は、装置の回折効率に重大な
影響を与える。
【0024】図7は、550nmの照明波長と、100
%の反射率を仮定した場合に、装置の回折効率を印加電
圧の関数として表したグラフである。効率曲線は、1)
光学系が−1次の回折次数と+1次の回折次数を収集す
る第1のケースと、2)光学系が全ての回折次数を収集
する第2のケースについて示されている。両方のケース
の曲線は、最大の回折効率を得るために電圧調整が可能
であることを示す。第1のケースでは、最大値は約1
4.5Vで発生し、第2のケースでは、最大値は約16
Vで発生する。この特定の設計に関して最適光学性能を
達成するため、最初に、20.1Vのプルダウン電圧お
りも高い電圧を印加することにより接触を確立する必要
がある。この電圧は、次に、最適形状を得るために降下
される。
%の反射率を仮定した場合に、装置の回折効率を印加電
圧の関数として表したグラフである。効率曲線は、1)
光学系が−1次の回折次数と+1次の回折次数を収集す
る第1のケースと、2)光学系が全ての回折次数を収集
する第2のケースについて示されている。両方のケース
の曲線は、最大の回折効率を得るために電圧調整が可能
であることを示す。第1のケースでは、最大値は約1
4.5Vで発生し、第2のケースでは、最大値は約16
Vで発生する。この特定の設計に関して最適光学性能を
達成するため、最初に、20.1Vのプルダウン電圧お
りも高い電圧を印加することにより接触を確立する必要
がある。この電圧は、次に、最適形状を得るために降下
される。
【0025】図8は、順応型回折格子装置の別の実施例
を示す図であり、同図には、図2と類似した4デバイス
型リニア配列の平面図が示されている。各順応型回折格
子装置5a、5b、5c及び5dには、細長いリボン素
子の対(51a,52a)、(51b,52b)、(5
1c,52c)及び(51d,52d)が関連する。各
装置をこのように分割することにより、光学性能に有意
な影響を与えることなく、より幅の広い装置を製造でき
るようになる。好ましい製造方法は、電気防食用層を溝
からエッチングし、リボン素子を解放する。素子間のギ
ャップ55は、腐食液をこの防食用層に到達させる。ギ
ャップ55の数の増加は、エッチングプロセスを改良す
る。実際上、順応型回折格子装置を更に三つ以上の部分
に分割する必要がある。細長いリボン素子は、下側にあ
る構造体を図示するため、線2−2より下方では部分的
に取り除かれた状態で示されている。最高の光学的性能
及び最大コントラストを得るため、中間部支持体27
は、細長いリボン素子51a、52a、51b、52
b、51c、52c、51d及び52dの陰に完全に隠
蔽されている。したがって、上方からみたとき、中間部
支持体は、ギャップ55に侵入しない。単一の順応型回
折格子装置内のリボン素子は、機械的に分離されている
が、電気的に連結されている。したがって、リボン素子
は、電圧が印加されたときに、同時に動作する。
を示す図であり、同図には、図2と類似した4デバイス
型リニア配列の平面図が示されている。各順応型回折格
子装置5a、5b、5c及び5dには、細長いリボン素
子の対(51a,52a)、(51b,52b)、(5
1c,52c)及び(51d,52d)が関連する。各
装置をこのように分割することにより、光学性能に有意
な影響を与えることなく、より幅の広い装置を製造でき
るようになる。好ましい製造方法は、電気防食用層を溝
からエッチングし、リボン素子を解放する。素子間のギ
ャップ55は、腐食液をこの防食用層に到達させる。ギ
ャップ55の数の増加は、エッチングプロセスを改良す
る。実際上、順応型回折格子装置を更に三つ以上の部分
に分割する必要がある。細長いリボン素子は、下側にあ
る構造体を図示するため、線2−2より下方では部分的
に取り除かれた状態で示されている。最高の光学的性能
及び最大コントラストを得るため、中間部支持体27
は、細長いリボン素子51a、52a、51b、52
b、51c、52c、51d及び52dの陰に完全に隠
蔽されている。したがって、上方からみたとき、中間部
支持体は、ギャップ55に侵入しない。単一の順応型回
折格子装置内のリボン素子は、機械的に分離されている
が、電気的に連結されている。したがって、リボン素子
は、電圧が印加されたときに、同時に動作する。
【0026】上記実施例に記載された順応型回折格子装
置は、細長いリボン素子に取り付けられた中間部支持体
を有する。非常に高いコントラストを得るため、これら
の中間部支持体及びリボン素子は、完全に平坦であるこ
とが必要である。しかし、実際上、製造中に、中間部支
持体の直ぐ上にあるリボン素子の側断面に不均一性が生
じる。この不均一性は、回折格子を弱め、装置のコント
ラストを低下させる。図9の(a)及び(b)は、この
問題を軽減する更なる実施例を示す図である。この側面
図は、図3の(a)及び(b)と類似している。図9の
(a)では、非作動状態の装置の三つの中間部支持体2
7の間に二つの溝25が示されている。図9の(b)で
は、作動状態における同じ装置の三つの中間部支持体2
7の間に二つの溝25が示されている。非作動状態の場
合、装置には電圧が印加されていないので、リボン素子
23bは、二つの端部支持体24a及び24b(図2を
参照せよ)によって中間部支持体27の上方で水平に懸
架され、中間部支持体27の頂部とリボン素子23bの
底部の間に小さいギャップ60が残される。装置を作動
するため電圧が印加されたとき、リボン素子23bの底
部は、中間部支持体27の頂部と接触し、部分的に順応
した回折格子が作成される。図9の(b)は、細長いリ
ボン素子23bが隔離体29と接触している完全に作動
された状態の装置を示す図である。
置は、細長いリボン素子に取り付けられた中間部支持体
を有する。非常に高いコントラストを得るため、これら
の中間部支持体及びリボン素子は、完全に平坦であるこ
とが必要である。しかし、実際上、製造中に、中間部支
持体の直ぐ上にあるリボン素子の側断面に不均一性が生
じる。この不均一性は、回折格子を弱め、装置のコント
ラストを低下させる。図9の(a)及び(b)は、この
問題を軽減する更なる実施例を示す図である。この側面
図は、図3の(a)及び(b)と類似している。図9の
(a)では、非作動状態の装置の三つの中間部支持体2
7の間に二つの溝25が示されている。図9の(b)で
は、作動状態における同じ装置の三つの中間部支持体2
7の間に二つの溝25が示されている。非作動状態の場
合、装置には電圧が印加されていないので、リボン素子
23bは、二つの端部支持体24a及び24b(図2を
参照せよ)によって中間部支持体27の上方で水平に懸
架され、中間部支持体27の頂部とリボン素子23bの
底部の間に小さいギャップ60が残される。装置を作動
するため電圧が印加されたとき、リボン素子23bの底
部は、中間部支持体27の頂部と接触し、部分的に順応
した回折格子が作成される。図9の(b)は、細長いリ
ボン素子23bが隔離体29と接触している完全に作動
された状態の装置を示す図である。
【0027】上記の通り、本発明は、好ましい実施例を
具体的に参照して詳細に説明されているが、それらの実
施例の変更及び置換は、本発明の精神及び範囲を逸脱す
ることなく行われ得ることに注意する必要がある。
具体的に参照して詳細に説明されているが、それらの実
施例の変更及び置換は、本発明の精神及び範囲を逸脱す
ることなく行われ得ることに注意する必要がある。
【0028】
【発明の効果】本発明によれば、従来技術の回折格子光
バルブ配列よりも広いアクティブ領域が得られるので、
回折格子装置を容易に位置合わせできるようになり、照
明システムの許容範囲が緩和されるという効果が生ず
る。また、本発明の回折格子装置は、回折方向が配列の
長軸と直交するので、配列によって回折された光を集め
る光学系を簡単化できるという効果を奏する。
バルブ配列よりも広いアクティブ領域が得られるので、
回折格子装置を容易に位置合わせできるようになり、照
明システムの許容範囲が緩和されるという効果が生ず
る。また、本発明の回折格子装置は、回折方向が配列の
長軸と直交するので、配列によって回折された光を集め
る光学系を簡単化できるという効果を奏する。
【図1】本発明の順応型回折格子装置がリニア配列上に
二つ並べられた空間光変調器の部分断面斜視図である。
二つ並べられた空間光変調器の部分断面斜視図である。
【図2】リニア配列状の4個の順応型回折格子装置を含
む本発明の空間光変調器の平面図である。
む本発明の空間光変調器の平面図である。
【図3】(a)は作動状態の順応型回折格子装置を示
し、(b)は非作動状態の順応型回折格子装置を示す図
1の線3−3による断面図である。
し、(b)は非作動状態の順応型回折格子装置を示す図
1の線3−3による断面図である。
【図4】(a)は非作動状態の順応型回折格子装置を示
し、(b)は作動状態の順応型回折格子装置を示す図1
の線4−4による断面図である。
し、(b)は作動状態の順応型回折格子装置を示す図1
の線4−4による断面図である。
【図5】印加電圧の関数として装置の位置を示すグラフ
である。
である。
【図6】装置の二つの異なる作動電圧に応答して偏向し
た素子側断面を示すグラフである。
た素子側断面を示すグラフである。
【図7】変調器の回折効率を示すグラフである。
【図8】空間光変調器の別の実施例の平面図である。
【図9】(a)及び(b)は、本発明による空間光変調
器の更に別の実施例の断面図である。
器の更に別の実施例の断面図である。
5a,5b,5c,5d 順応型回折格子装置 10 基板 12 下側導電層 14 誘電保護層 16 隔離層 18 スペーサー層 20 リボン層 22 反射・導電層 23a,23b,23c,23d リボン素子 24a,24b 端部支持体 25 溝 27 中間部支持体 29 隔離体 30 光ビーム 32 ギャップ 35a 回折次数+1のビーム 35b 回折次数−1のビーム 36a 回折次数+2のビーム 36b 回折次数−2のビーム 51a,51b,51c,51d,52a,52b,5
2c,52d リボン素子 55 ギャップ 60 ギャップ
2c,52d リボン素子 55 ギャップ 60 ギャップ
Claims (1)
- 【請求項1】 光反射面を含む細長い素子と、 上記細長い素子を基板の両端で支える一対の端部支持体
と、 上記一対の端部支持体の間にある少なくとも一つの中間
部支持体と、 第1の動作状態と第2の動作状態の間で上記細長い素子
を変形させるため上記細長い素子に力を加える手段と、
を有し、入射光ビームを回折によって変調する機械式回
折格子装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/491,354 US6307663B1 (en) | 2000-01-26 | 2000-01-26 | Spatial light modulator with conformal grating device |
US491354 | 2000-01-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001215317A true JP2001215317A (ja) | 2001-08-10 |
Family
ID=23951835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001018776A Pending JP2001215317A (ja) | 2000-01-26 | 2001-01-26 | 順応型回折格子装置を具備した空間光変調器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6307663B1 (ja) |
EP (1) | EP1122577B1 (ja) |
JP (1) | JP2001215317A (ja) |
DE (1) | DE60121838T2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004130509A (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-30 | Eastman Kodak Co | 連続可変変位型マイクロエレクトロメカニカルデバイス |
JP2004199067A (ja) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Eastman Kodak Co | 電子機械式格子デバイスを作動させるための方法 |
JP2010539542A (ja) * | 2007-09-14 | 2010-12-16 | クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 周期ディンプルアレイ |
JP2014174464A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Ricoh Co Ltd | 波長可変デバイス及び波長可変デバイスの作製方法 |
JP2015505982A (ja) * | 2011-12-05 | 2015-02-26 | ワイズ ソシエタ ア レスポンサビリタ リミタータ | 伸縮変形可能な光学素子の生産方法及びそれにより得られる素子 |
Families Citing this family (141)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6724125B2 (en) | 1999-03-30 | 2004-04-20 | Massachusetts Institute Of Technology | Methods and apparatus for diffractive optical processing using an actuatable structure |
US6960305B2 (en) * | 1999-10-26 | 2005-11-01 | Reflectivity, Inc | Methods for forming and releasing microelectromechanical structures |
US6709886B2 (en) * | 2000-04-25 | 2004-03-23 | Umachines, Inc. | Method of fabricating micromachined devices |
US6639713B2 (en) | 2000-04-25 | 2003-10-28 | Umachines, Inc. | Silicon micromachined optical device |
US6411425B1 (en) * | 2000-09-27 | 2002-06-25 | Eastman Kodak Company | Electromechanical grating display system with spatially separated light beams |
JP2002162599A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-07 | Sony Corp | 立体画像表示装置 |
US6384959B1 (en) * | 2001-01-09 | 2002-05-07 | Eastman Kodak Company | Optical data modulation system with self-damped electromechanical conformal grating |
US6661561B2 (en) * | 2001-03-26 | 2003-12-09 | Creo Inc. | High frequency deformable mirror device |
US6856448B2 (en) * | 2001-03-26 | 2005-02-15 | Creo Inc. | Spatial light modulator |
US6594060B2 (en) * | 2001-03-29 | 2003-07-15 | Eastman Kodak Company | Electromechanical conformal grating device with improved optical efficiency and contrast |
FI20010917A (fi) * | 2001-05-03 | 2002-11-04 | Nokia Corp | Sähköisesti uudelleen konfigurotuvia optisia laitteita ja menetelmä niiden muodostamiseksi |
US6621615B2 (en) | 2001-07-25 | 2003-09-16 | Eastman Kodak Company | Method and system for image display |
US6587253B2 (en) * | 2001-08-16 | 2003-07-01 | Silicon Light Machines | Enhance thermal stability through optical segmentation |
US6594090B2 (en) | 2001-08-27 | 2003-07-15 | Eastman Kodak Company | Laser projection display system |
US7046410B2 (en) | 2001-10-11 | 2006-05-16 | Polychromix, Inc. | Actuatable diffractive optical processor |
US6611380B2 (en) | 2001-12-21 | 2003-08-26 | Eastman Kodak Company | System and method for calibration of display system with linear array modulator |
JP3755460B2 (ja) * | 2001-12-26 | 2006-03-15 | ソニー株式会社 | 静電駆動型mems素子とその製造方法、光学mems素子、光変調素子、glvデバイス、レーザディスプレイ、及びmems装置 |
US6577429B1 (en) | 2002-01-15 | 2003-06-10 | Eastman Kodak Company | Laser projection display system |
US6590695B1 (en) | 2002-02-26 | 2003-07-08 | Eastman Kodak Company | Micro-mechanical polarization-based modulator |
WO2003073405A2 (en) * | 2002-02-26 | 2003-09-04 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Enhancements to optical flat panel displays |
EP1490721A4 (en) * | 2002-03-11 | 2008-02-20 | Uni Pixel Displays Inc | DOUBLE ELECTRET MEMS actuator |
US6768585B2 (en) | 2002-05-02 | 2004-07-27 | Eastman Kodak Company | Monocentric autostereoscopic optical apparatus using a scanned linear electromechanical modulator |
WO2003094138A2 (en) * | 2002-05-06 | 2003-11-13 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Field sequential color efficiency |
US6800212B2 (en) * | 2002-05-15 | 2004-10-05 | The Regents Of The University Of California | Fabrication of optical components using Si, SiGe, SiGeC, and chemical endpoint detection |
US6678085B2 (en) | 2002-06-12 | 2004-01-13 | Eastman Kodak Company | High-contrast display system with scanned conformal grating device |
US6908201B2 (en) * | 2002-06-28 | 2005-06-21 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-support structures |
US6779892B2 (en) * | 2002-07-26 | 2004-08-24 | Eastman Kodak Company | Monocentric autostereoscopic optical display having an expanded color gamut |
US6967986B2 (en) * | 2002-10-16 | 2005-11-22 | Eastman Kodak Company | Light modulation apparatus using a VCSEL array with an electromechanical grating device |
US6802613B2 (en) | 2002-10-16 | 2004-10-12 | Eastman Kodak Company | Broad gamut color display apparatus using an electromechanical grating device |
US6747785B2 (en) * | 2002-10-24 | 2004-06-08 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | MEMS-actuated color light modulator and methods |
US6807010B2 (en) * | 2002-11-13 | 2004-10-19 | Eastman Kodak Company | Projection display apparatus having both incoherent and laser light sources |
US6947459B2 (en) * | 2002-11-25 | 2005-09-20 | Eastman Kodak Company | Organic vertical cavity laser and imaging system |
US7057819B1 (en) * | 2002-12-17 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast tilting ribbon blazed grating |
US6724515B1 (en) * | 2002-12-31 | 2004-04-20 | Eastman Kodak Company | Conformal grating device for producing enhanced gray levels |
JP2004219843A (ja) * | 2003-01-16 | 2004-08-05 | Seiko Epson Corp | 光変調器、表示装置及びその製造方法 |
US6863382B2 (en) | 2003-02-06 | 2005-03-08 | Eastman Kodak Company | Liquid emission device having membrane with individually deformable portions, and methods of operating and manufacturing same |
US6930817B2 (en) * | 2003-04-25 | 2005-08-16 | Palo Alto Research Center Incorporated | Configurable grating based on surface relief pattern for use as a variable optical attenuator |
CN1297830C (zh) * | 2003-06-05 | 2007-01-31 | 华新丽华股份有限公司 | 光栅结构的制作方法 |
US7111943B2 (en) * | 2003-07-28 | 2006-09-26 | Eastman Kodak Company | Wide field display using a scanned linear light modulator array |
US6886940B2 (en) * | 2003-08-28 | 2005-05-03 | Eastman Kodak Company | Autostereoscopic display for multiple viewers |
US20050073471A1 (en) * | 2003-10-03 | 2005-04-07 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Z-axis redundant display/multilayer display |
US7148910B2 (en) * | 2003-11-06 | 2006-12-12 | Eastman Kodak Company | High-speed pulse width modulation system and method for linear array spatial light modulators |
CN1902673B (zh) * | 2003-11-14 | 2011-06-15 | 单方图素显示股份有限公司 | 矩阵寻址装置和包括该装置的显示器和*** |
US6984039B2 (en) * | 2003-12-01 | 2006-01-10 | Eastman Kodak Company | Laser projector having silhouette blanking for objects in the output light path |
US7274500B2 (en) * | 2003-12-03 | 2007-09-25 | Eastman Kodak Company | Display system incorporating trilinear electromechanical grating device |
US7476327B2 (en) | 2004-05-04 | 2009-01-13 | Idc, Llc | Method of manufacture for microelectromechanical devices |
US7289209B2 (en) * | 2004-07-22 | 2007-10-30 | Eastman Kodak Company | Programmable spectral imaging system |
US7564874B2 (en) * | 2004-09-17 | 2009-07-21 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Enhanced bandwidth data encoding method |
US7944599B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-05-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Electromechanical device with optical function separated from mechanical and electrical function |
US7527995B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-05-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method of making prestructure for MEMS systems |
US7130104B2 (en) | 2004-09-27 | 2006-10-31 | Idc, Llc | Methods and devices for inhibiting tilting of a mirror in an interferometric modulator |
US7372613B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-05-13 | Idc, Llc | Method and device for multistate interferometric light modulation |
US7304784B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-12-04 | Idc, Llc | Reflective display device having viewable display on both sides |
US7420725B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-09-02 | Idc, Llc | Device having a conductive light absorbing mask and method for fabricating same |
US8008736B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-08-30 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Analog interferometric modulator device |
US7630119B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-12-08 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Apparatus and method for reducing slippage between structures in an interferometric modulator |
US7302157B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-11-27 | Idc, Llc | System and method for multi-level brightness in interferometric modulation |
US7564612B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-07-21 | Idc, Llc | Photonic MEMS and structures |
US7289259B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-10-30 | Idc, Llc | Conductive bus structure for interferometric modulator array |
US7936497B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-05-03 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS device having deformable membrane characterized by mechanical persistence |
US7583429B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-09-01 | Idc, Llc | Ornamental display device |
US20060077545A1 (en) * | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Eastman Kodak Company | Apparatus to align stereoscopic display |
US7046446B1 (en) | 2004-12-15 | 2006-05-16 | Eastman Kodak Company | Speckle reduction for display system with electromechanical grating |
US7119936B2 (en) * | 2004-12-15 | 2006-10-10 | Eastman Kodak Company | Speckle reduction for display system with electromechanical grating |
US7054054B1 (en) | 2004-12-20 | 2006-05-30 | Palo Alto Research Center Incorporated | Optical modulator with a traveling surface relief pattern |
US7249853B2 (en) * | 2005-04-13 | 2007-07-31 | Eastman Kodak Company | Unpolished optical element with periodic surface roughness |
KR100832622B1 (ko) * | 2005-05-25 | 2008-05-27 | 삼성전기주식회사 | 광변조기 및 그 광변조기를 이용한 프로젝터를 구비한휴대용 단말기 |
US7884989B2 (en) | 2005-05-27 | 2011-02-08 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | White interferometric modulators and methods for forming the same |
KR100897666B1 (ko) * | 2005-07-20 | 2009-05-14 | 삼성전기주식회사 | 정역방향 스캐닝 방식의 디스플레이 장치 |
EP1754683A1 (de) * | 2005-08-18 | 2007-02-21 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Mikro-Elektromechanisches Element |
US7411722B2 (en) * | 2005-08-24 | 2008-08-12 | Eastman Kodak Company | Display system incorporating bilinear electromechanical grating device |
US7408558B2 (en) * | 2005-08-25 | 2008-08-05 | Eastman Kodak Company | Laser-based display having expanded image color |
US8509582B2 (en) * | 2005-08-30 | 2013-08-13 | Rambus Delaware Llc | Reducing light leakage and improving contrast ratio performance in FTIR display devices |
US7449759B2 (en) * | 2005-08-30 | 2008-11-11 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Electromechanical dynamic force profile articulating mechanism |
KR100832621B1 (ko) * | 2005-09-23 | 2008-05-27 | 삼성전기주식회사 | 정역방향 스캐닝을 수행하는 모바일용 프로젝터 |
US7274454B2 (en) * | 2005-12-23 | 2007-09-25 | Eastman Kodak Company | Imaging system with programmable spectral switch |
US7342658B2 (en) * | 2005-12-28 | 2008-03-11 | Eastman Kodak Company | Programmable spectral imaging system |
US7916980B2 (en) | 2006-01-13 | 2011-03-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interconnect structure for MEMS device |
US20070194239A1 (en) | 2006-01-31 | 2007-08-23 | Mcallister Abraham | Apparatus and method providing a hand-held spectrometer |
US7649671B2 (en) | 2006-06-01 | 2010-01-19 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Analog interferometric modulator device with electrostatic actuation and release |
US7980671B2 (en) * | 2006-06-06 | 2011-07-19 | Xerox Corporation | Electrostatic actuator and method of making the electrostatic actuator |
US7835061B2 (en) | 2006-06-28 | 2010-11-16 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Support structures for free-standing electromechanical devices |
US7527998B2 (en) | 2006-06-30 | 2009-05-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method of manufacturing MEMS devices providing air gap control |
KR100905554B1 (ko) * | 2006-08-30 | 2009-07-02 | 삼성전기주식회사 | 광변조기를 이용한 프로젝터를 구비한 휴대용 단말기 |
US7891818B2 (en) | 2006-12-12 | 2011-02-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for aligning RGB light in a single modulator projector |
US7952105B2 (en) * | 2007-01-29 | 2011-05-31 | Global Oled Technology, Llc. | Light-emitting display device having improved efficiency |
US8115987B2 (en) | 2007-02-01 | 2012-02-14 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Modulating the intensity of light from an interferometric reflector |
US7742220B2 (en) | 2007-03-28 | 2010-06-22 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical device and method utilizing conducting layers separated by stops |
US7643202B2 (en) | 2007-05-09 | 2010-01-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical system having a dielectric movable membrane and a mirror |
US7715085B2 (en) | 2007-05-09 | 2010-05-11 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Electromechanical system having a dielectric movable membrane and a mirror |
US7719752B2 (en) * | 2007-05-11 | 2010-05-18 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS structures, methods of fabricating MEMS components on separate substrates and assembly of same |
US7782517B2 (en) | 2007-06-21 | 2010-08-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Infrared and dual mode displays |
US7630121B2 (en) | 2007-07-02 | 2009-12-08 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Electromechanical device with optical function separated from mechanical and electrical function |
US7813029B2 (en) | 2007-07-31 | 2010-10-12 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Devices and methods for enhancing color shift of interferometric modulators |
US7847999B2 (en) | 2007-09-14 | 2010-12-07 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interferometric modulator display devices |
US8058549B2 (en) | 2007-10-19 | 2011-11-15 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Photovoltaic devices with integrated color interferometric film stacks |
WO2009052326A2 (en) | 2007-10-19 | 2009-04-23 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Display with integrated photovoltaics |
JP2011504243A (ja) | 2007-10-23 | 2011-02-03 | クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 調節可能透過型memsベースの装置 |
US8941631B2 (en) | 2007-11-16 | 2015-01-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Simultaneous light collection and illumination on an active display |
US7909474B2 (en) * | 2007-12-05 | 2011-03-22 | Eastman Kodak Company | Display apparatus using bilinear electromechanical modulator |
US7715079B2 (en) | 2007-12-07 | 2010-05-11 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS devices requiring no mechanical support |
US8164821B2 (en) | 2008-02-22 | 2012-04-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical device with thermal expansion balancing layer or stiffening layer |
US7944604B2 (en) | 2008-03-07 | 2011-05-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interferometric modulator in transmission mode |
US8937766B2 (en) * | 2008-03-13 | 2015-01-20 | Eastman Kodak Company | Stereoscopic display using multi-linear electromechanical modulator |
US7612933B2 (en) | 2008-03-27 | 2009-11-03 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical device with spacing layer |
US7898723B2 (en) | 2008-04-02 | 2011-03-01 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical systems display element with photovoltaic structure |
US7969638B2 (en) | 2008-04-10 | 2011-06-28 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Device having thin black mask and method of fabricating the same |
US8134591B2 (en) * | 2008-05-07 | 2012-03-13 | Eastman Kodak Company | Display using bidirectionally scanned linear modulator |
US8358317B2 (en) | 2008-05-23 | 2013-01-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for displaying a planar image on a curved surface |
US8702248B1 (en) | 2008-06-11 | 2014-04-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Projection method for reducing interpixel gaps on a viewing surface |
US7768690B2 (en) | 2008-06-25 | 2010-08-03 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Backlight displays |
US8023167B2 (en) | 2008-06-25 | 2011-09-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Backlight displays |
US7746539B2 (en) | 2008-06-25 | 2010-06-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method for packing a display device and the device obtained thereof |
US7859740B2 (en) | 2008-07-11 | 2010-12-28 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Stiction mitigation with integrated mech micro-cantilevers through vertical stress gradient control |
US7855826B2 (en) | 2008-08-12 | 2010-12-21 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and apparatus to reduce or eliminate stiction and image retention in interferometric modulator devices |
US8358266B2 (en) | 2008-09-02 | 2013-01-22 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Light turning device with prismatic light turning features |
US20100066770A1 (en) * | 2008-09-18 | 2010-03-18 | Eastman Kodak Company | Pulse Width Modulation Display Pixels with Spatial Manipulation |
US8077378B1 (en) | 2008-11-12 | 2011-12-13 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Calibration system and method for light modulation device |
US8215776B2 (en) | 2009-01-07 | 2012-07-10 | Eastman Kodak Company | Line illumination apparatus using laser arrays |
US8233035B2 (en) * | 2009-01-09 | 2012-07-31 | Eastman Kodak Company | Dual-view stereoscopic display using linear modulator arrays |
US20100176855A1 (en) | 2009-01-12 | 2010-07-15 | Huffman James D | Pulse width modulated circuitry for integrated devices |
US20100177129A1 (en) * | 2009-01-12 | 2010-07-15 | Fredlund John R | Artifact reduction in optical scanning displays |
US20100177123A1 (en) * | 2009-01-12 | 2010-07-15 | Fredlund John R | Edge reproduction in optical scanning displays |
US8659835B2 (en) * | 2009-03-13 | 2014-02-25 | Optotune Ag | Lens systems and method |
US8699141B2 (en) | 2009-03-13 | 2014-04-15 | Knowles Electronics, Llc | Lens assembly apparatus and method |
US8270056B2 (en) | 2009-03-23 | 2012-09-18 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Display device with openings between sub-pixels and method of making same |
KR20120090772A (ko) | 2009-05-29 | 2012-08-17 | 퀄컴 엠이엠에스 테크놀로지스, 인크. | 조명장치 및 그의 제조방법 |
US8864313B2 (en) | 2009-06-15 | 2014-10-21 | Eastman Kodak Company | Dynamic illumination control for laser projection display |
US8270062B2 (en) | 2009-09-17 | 2012-09-18 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Display device with at least one movable stop element |
US8488228B2 (en) | 2009-09-28 | 2013-07-16 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interferometric display with interferometric reflector |
US8330870B2 (en) | 2009-12-08 | 2012-12-11 | Eastman Kodak Company | Dynamic illumination control for laser projection display |
WO2011126953A1 (en) | 2010-04-09 | 2011-10-13 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Mechanical layer of an electromechanical device and methods of forming the same |
WO2012024238A1 (en) | 2010-08-17 | 2012-02-23 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Actuation and calibration of a charge neutral electrode in an interferometric display device |
US9057872B2 (en) | 2010-08-31 | 2015-06-16 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Dielectric enhanced mirror for IMOD display |
US8963159B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-02-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
US9134527B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-09-15 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
US8659816B2 (en) | 2011-04-25 | 2014-02-25 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Mechanical layer and methods of making the same |
US9641826B1 (en) | 2011-10-06 | 2017-05-02 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for displaying distant 3-D stereo on a dome surface |
US8736939B2 (en) | 2011-11-04 | 2014-05-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Matching layer thin-films for an electromechanical systems reflective display device |
EP3183606A1 (en) * | 2014-08-22 | 2017-06-28 | Sunlight Photonics Inc. | Flexible and tunable reflective skin |
CN109818159B (zh) * | 2019-04-01 | 2023-12-19 | 西南交通大学 | Ku波段80单元长线阵螺旋阵列天线 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0821967A (ja) * | 1993-07-27 | 1996-01-23 | Texas Instr Inc <Ti> | 超小形モノリシック可変電気デバイスおよびそれを含む装置 |
JP2002503351A (ja) * | 1992-04-28 | 2002-01-29 | リーランド・スタンフォード・ジュニア・ユニバーシティ | 光ビームの変調 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2274992A1 (fr) * | 1974-06-14 | 1976-01-09 | Thomson Csf | Convertisseur electro-optique et systeme optique d'enregistrement comportant un tel convertisseur |
US4441791A (en) | 1980-09-02 | 1984-04-10 | Texas Instruments Incorporated | Deformable mirror light modulator |
US4626920A (en) | 1984-01-30 | 1986-12-02 | New York Institute Of Technology | Solid state light modulator structure |
US4857978A (en) | 1987-08-11 | 1989-08-15 | North American Philips Corporation | Solid state light modulator incorporating metallized gel and method of metallization |
US5287215A (en) * | 1991-07-17 | 1994-02-15 | Optron Systems, Inc. | Membrane light modulation systems |
US5170283A (en) | 1991-07-24 | 1992-12-08 | Northrop Corporation | Silicon spatial light modulator |
US5841579A (en) | 1995-06-07 | 1998-11-24 | Silicon Light Machines | Flat diffraction grating light valve |
US5661592A (en) | 1995-06-07 | 1997-08-26 | Silicon Light Machines | Method of making and an apparatus for a flat diffraction grating light valve |
JPH1040570A (ja) * | 1996-07-22 | 1998-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光量変調素子及び光ピックアップ装置 |
US5844711A (en) | 1997-01-10 | 1998-12-01 | Northrop Grumman Corporation | Tunable spatial light modulator |
US5982553A (en) | 1997-03-20 | 1999-11-09 | Silicon Light Machines | Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array |
US5867302A (en) * | 1997-08-07 | 1999-02-02 | Sandia Corporation | Bistable microelectromechanical actuator |
US6215579B1 (en) * | 1998-06-24 | 2001-04-10 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for modulating an incident light beam for forming a two-dimensional image |
US6238581B1 (en) * | 1998-12-18 | 2001-05-29 | Eastman Kodak Company | Process for manufacturing an electro-mechanical grating device |
US6335831B2 (en) * | 1998-12-18 | 2002-01-01 | Eastman Kodak Company | Multilevel mechanical grating device |
US6188519B1 (en) | 1999-01-05 | 2001-02-13 | Kenneth Carlisle Johnson | Bigrating light valve |
-
2000
- 2000-01-26 US US09/491,354 patent/US6307663B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-01-15 DE DE60121838T patent/DE60121838T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-01-15 EP EP01200128A patent/EP1122577B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-01-26 JP JP2001018776A patent/JP2001215317A/ja active Pending
- 2001-05-30 US US09/867,927 patent/US6663788B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002503351A (ja) * | 1992-04-28 | 2002-01-29 | リーランド・スタンフォード・ジュニア・ユニバーシティ | 光ビームの変調 |
JPH0821967A (ja) * | 1993-07-27 | 1996-01-23 | Texas Instr Inc <Ti> | 超小形モノリシック可変電気デバイスおよびそれを含む装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004130509A (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-30 | Eastman Kodak Co | 連続可変変位型マイクロエレクトロメカニカルデバイス |
JP2004199067A (ja) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Eastman Kodak Co | 電子機械式格子デバイスを作動させるための方法 |
JP4573522B2 (ja) * | 2002-12-16 | 2010-11-04 | イーストマン コダック カンパニー | 電子機械式格子デバイスを作動させるための方法 |
JP2010539542A (ja) * | 2007-09-14 | 2010-12-16 | クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 周期ディンプルアレイ |
JP2015505982A (ja) * | 2011-12-05 | 2015-02-26 | ワイズ ソシエタ ア レスポンサビリタ リミタータ | 伸縮変形可能な光学素子の生産方法及びそれにより得られる素子 |
JP2014174464A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Ricoh Co Ltd | 波長可変デバイス及び波長可変デバイスの作製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1122577A2 (en) | 2001-08-08 |
US6307663B1 (en) | 2001-10-23 |
US20010024325A1 (en) | 2001-09-27 |
EP1122577A3 (en) | 2003-11-12 |
US6663788B2 (en) | 2003-12-16 |
EP1122577B1 (en) | 2006-08-02 |
DE60121838T2 (de) | 2007-03-15 |
DE60121838D1 (de) | 2006-09-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6307663B1 (en) | Spatial light modulator with conformal grating device | |
US6396619B1 (en) | Deflectable spatial light modulator having stopping mechanisms | |
EP1230574B1 (en) | A deflectable spatial light modulator having superimposed hinge and deflectable element | |
US7538932B2 (en) | High contrast spatial light modulator | |
EP1692550B1 (en) | Two dimensional spatial light modulator | |
JP2001518198A (ja) | 格子光弁のアレイを使用して多色光学画像を生成する方法および装置 | |
JP2000180737A (ja) | メカニカル格子デバイス | |
EP1528038B1 (en) | Diffractive thin-film piezoelectric micromirror and method of producing the same | |
US20180299664A1 (en) | Spatial Light Modulators for Phased-Array Applications | |
US20020195418A1 (en) | Method for manufacturing a mechanical conformal grating device with improved contrast and lifetime | |
US6894836B2 (en) | Diffraction grating, method of making and method of using | |
US7446922B2 (en) | Interdigitating diffractive light modulator | |
KR100815337B1 (ko) | 디지탈 미세 경사형 회절격자 광변조기 | |
KR20050118105A (ko) | 오픈홀 기반의 회절 광변조기 | |
US6594060B2 (en) | Electromechanical conformal grating device with improved optical efficiency and contrast | |
US7002725B2 (en) | Micro grating structure | |
US20060082854A1 (en) | Fishbone diffraction-type light modulator | |
KR100832646B1 (ko) | 오픈홀 기반의 회절 광변조기 | |
KR100815364B1 (ko) | 정전기 방식의 가변형 회절 광변조기 및 그 제조 방법 | |
US20060077517A1 (en) | Hybrid light modulator | |
KR100878921B1 (ko) | 임베디드 회절 광변조기 | |
KR100861623B1 (ko) | 진동형 회절 광변조기 | |
EP0638177B1 (en) | Modulating a light beam |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071115 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101013 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101102 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110329 |