JP2001215317A - 順応型回折格子装置を具備した空間光変調器 - Google Patents

順応型回折格子装置を具備した空間光変調器

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JP2001215317A JP2001018776A JP2001018776A JP2001215317A JP 2001215317 A JP2001215317 A JP 2001215317A JP 2001018776 A JP2001018776 A JP 2001018776A JP 2001018776 A JP2001018776 A JP 2001018776A JP 2001215317 A JP2001215317 A JP 2001215317A
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diffraction
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W Kowaltz Malek
ダブリュ コワルツ マレク
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、回折方向が配列方向と直交してい
る広いアクティブ領域を備え、高速で効率的に光を離散
した次数へ回折でき、ＣＭＯＳ製造プロセスに適合した
回折格子装置のリニア配列の提供を目的とする。 【解決手段】 本発明の入射光ビームを回折によって変
調する機械式回折格子装置は、光反射面を含む細長い素
子と、細長い素子を基板の両端で支える一対の端部支持
体と、一対の端部支持体の間にある少なくとも一つの中
間部支持体と、第１の動作状態と第２の動作状態の間で
細長い素子を変形させるため細長い素子に力を加える手
段とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、入射光ビームを空
間的かつ時間的に変調するマイクロメカニカル装置に係
り、特に、入射光ビームを回折する順応型回折格子構造
を備えた電子機械式装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】種々の構造を有する電子機械式空間光変
調器は、ディスプレイ、光学処理、印刷、光データ記憶
装置、及び、分光器のようなアプリケーションに使用さ
れている。これらの変調器は、個々にアドレス可能なデ
バイスの配列を用いて入射光ビームの位相及び／又は振
幅に空間的変動を生じさせる。
【０００３】入射ビームの空間光変調は、個別にアドレ
ス可能な可変ミラーの配列によって実現される。このよ
うな素子は、1984年4月10日にHornbeckに発行された、
発明の名称が"Deformable Mirror Light Modulator"で
ある米国特許第4,441,791号明細書に記載されているよ
うに、支持体の格子に懸架された可変反射型部材から製
作される。しかし、部材と支持体の構造のため、これら
の特定の可変ミラーは非常に効率が悪い。効率のよい可
変ミラー構造は、1992年12月8日にO'Brien他に発行され
た、発明の名称が"Silicon Spatial Light Modulator"
である米国特許第5,170,283号明細書、並びに、1998年1
2月1日にLong, Jr.に発行された、発明の名称が"Tunabl
e Spatial Light Modulator"である米国特許第5,844,71
1号明細書に開示されている。
【０００４】別の電子機械式空間光変調器のクラスに
は、電子機械式位相格子を形成する反射素子の周期的系
列を備えた装置が含まれる。このような装置では、入射
光ビームは、選択的に反射され、或いは、多数の離散的
な次数へ回折させられる。アプリケーションに応じて、
一つ以上の回折次数が光学系によって集められ、使用さ
れる。殆どのアプリケーションの場合に、好ましい電子
機械式位相格子は、可変ミラーである。電子機械式回折
格子は、金属被覆されたエラストマーゲルに形成され
る。たとえば、1986年12月2日にGlennへ発行された、発
明の名称が"Solid State Light Modulator Structure"
である米国特許第4,626,920号明細書、並びに、1989年8
月15日にGoldburt他へ発行された、発明の発明の名称
が"Solid StateLight Modulator Incorporating Metall
ized Gel and Method of Metallization"である米国特
許第4,857,978号明細書を参照のこと。エラストマーの
下側にある電極は、電圧の印加が略正弦曲線状の位相格
子を生成するエラストマーを変形するようにパターン化
される。これらのタイプの装置は、たとえば、"Metalli
zedviscoelastic control layers for light-valve pro
jection displays", Displays 16, 1995, pages 13-2
0、並びに、"Full-colour diffraction-based opticals
ystem for light-valve projection displays", Displa
ys 16, 1995, pages 27-34に記載されるように、カラー
投写型ディスプレイに巧く使用される。
【０００５】非常に高速な応答時間をもつ電子機械式位
相格子は、1994年5月10日にBloom他に発行された、発明
の名称が"Method and Apparatus for Modulating a Lig
ht Beam"である米国特許第5,311,360号明細書に記載さ
れているように、懸架されたマイクロメカニカルリボン
素子から製作され得る。この装置は、回折格子光バブル
（ＧＬＶ）とも称され、珪素上でＣＭＯＳ様式のプロセ
スを用いて製作される。この装置は、１）リボンと基板
との間の静止摩擦を除去するため接触面積を最小限に抑
えるべくリボンの下側に設けられたパターン付きの***
領域、並びに、２）リボン間の間隔が減少し、別のリボ
ンが良好なコントラストを生ずるため作動される別の装
置構成の点で改良されることが、Bloomによってその後
に指摘されている。たとえば、1995年10月17日にBloom
他に発行された、発明の名称が"Deformable Grating Ap
paratus for Modulating a Light Beam and Including
Means for Obviating Stiction Between Grating Eleme
nts and Underlying Substrate"である米国特許第5,45
9,610号明細書に記載されている。さらに、Bloom他は、
1997年10月14日に発行された、発明の名称が"Method of
Making a DeformableGrating Apparatus for Modulati
ng a Light Beam and Including Means for Obviating
Stiction Between Grating Elements and Underlying S
ubstrate"である米国特許第5,677,783号明細書におい
て、この装置の製造方法を提案している。ＧＬＶの構造
及び製造方法の更なる改良点は、1998年11月2４日にBlo
om他に発行された、発明の名称が"Method of Making an
d an Apparatus for a Flat Diffraction Grating Ligh
t Valve"である米国特許第5,661,592号明細書に記載さ
れている。ＧＬＶ装置のリニア配列は、1999年11月9日
にBloom他へ発行された、発明の名称が"Display Device
Incorporating One-Dimensional Grating Light-Valve
Array"である米国特許第5,982,533号明細書に記載され
ているように表示及び印刷のため使用することができ
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このタイプのリニアＧ
ＬＶ配列を用いる場合、回折方向は、配列の方向と直交
しないため、回折次数を分離するため必要とされる光学
系の複雑さが増大する。さらに、配列のアクティブ（有
効）領域は非常に狭いため、配列の全長に亘って良好
に、典型的には、数センチメートルの長さに亘って１０
乃至３０ミクロンの範囲内でライン照明を位置合わせす
る必要がある。そのため、ライン照明は、リニア配列の
全域で良好な直線性を保つことが必要である。
【０００７】したがって、回折方向が配列方向と直交し
ている広いアクティブ領域を備えた回折格子装置のリニ
ア配列が要望される。また、この回折格子装置は、高速
で効率的に光を離散した次数へ回折できることが必要で
あり、かつ、この回折格子装置の製造方法は、ＣＭＯＳ
様式のプロセスと適合していなければならない。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
従来技術の課題は、光反射面を含む細長い素子と、上記
細長い素子を基板の両端で支える一対の端部支持体と、
上記一対の端部支持体の間にある少なくとも一つの中間
部支持体と、第１の動作状態と第２の動作状態の間で上
記細長い素子を変形させるため上記細長い素子に力を加
える手段と、を有し、入射光ビームを回折によって変調
する機械式回折格子装置を設けることにより解決され
る。
【０００９】本発明によれば、従来技術の回折格子光バ
ルブ配列よりも広いアクティブ領域が得られるので、回
折格子装置を容易に位置合わせできるようになり、照明
システムの許容範囲が緩和されるという効果が生ずる。
また、本発明の回折格子装置は、回折方向が配列の長軸
と直交するので、配列によって回折された光を集める光
学系を簡単化できるという効果を奏する。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の好ましい一実施例による
順応型回折格子装置は、図１乃至４に示されている。図
１には、非作動状態である横並びの二つの順応型回折格
子装置５ａ及び５ｂの構造体が示されている。本実施例
の場合に、装置は、静電気力の印加によって作動され
る。回折格子装置５ａ及び５ｂは、ガラス、金属、プラ
スチック、若しくは、半導体材料から製作され、装置を
駆動する電極として機能する下側導電層１２によって被
覆された基板１０の上面に形成される。下側導電層１２
は、アルミニウム、チタン、金、銀、タングステン、ド
ープト珪素、若しくは、インジウム・スズ酸化物のよう
な材料から製作される。下側導電層１２は、誘電保護層
１４によって被覆され、次に、スペーサー層１８によっ
て被覆される。スペーサー層１８の上には、反射層２２
によって被覆されたリボン層２０が形成される。本実施
例の場合に、反射層２２は、順応型回折格子装置５ａ及
び５ｂの作動用電極として用いるため導体であり、以下
では、反射・導電層２２と呼ばれる場合がある。反射・
導電層２２は、二つの順応型回折格子装置５ａ及び５ｂ
への電極を設けるためパターニングされる。リボン層２
０は、好ましくは、大きい復元力を与えるために充分な
引っ張り応力のある材料を含む。リボン材料の例には、
窒化珪素、チタンアルミナイド、及び、酸化チタンが含
まれる。リボン層２０の厚さ及び引っ張り応力は、作動
用の静電気力及び復元力に影響を与えることによって性
能を最適化するよう選択される。静電気力及び復元力
は、順応型回折格子装置５ａ及び５ｂの電圧必要条件、
速度、及び、共振周波数に影響を与える。
【００１１】両方の順応型回折格子装置５ａ及び５ｂ
は、それぞれ、関連した細長いリボン素子２３ａ及び２
３ｂを有する。細長いリボン素子２３ａ及び２３ｂは、
反射・導電層２２及びリボン層２０からパターニングに
よって形成される。細長いリボン素子２３ａ及び２３ｂ
は、スペーサー層１８から形成された端部支持体２４ａ
及び２４ｂと、一つ以上の中間部支持体２７とによって
支えられる。図１には、スペーサー層１８から形成され
た三つの中間部支持体２７が示されている。これらの中
間部支持体２７は、四つの一定幅の溝２５を形成するた
め、均等に離間される。細長いリボン素子２３ａ及び２
３ｂは、端部支持体及び中間部支持体２７に取り付けら
れる。端部支持体２４ａ及び２４ｂは、溝２５と対向し
た縁以外では画成されない。複数の方形隔離体２９が隔
離層１４から溝２５の底にパターニングされる。これら
の隔離体２９は、作動されたときに、リボン素子が貼り
付く可能性を減少させる。隔離体２９は、たとえば、矩
形若しくは円形のような方形以外の形状にパターニング
されてもよい。
【００１２】図２は、順応型回折格子装置５ａ、５ｂ、
５ｃ及び５ｄの４デバイス型リニア配列の平面図であ
る。細長いリボン素子は、下側にある構造体を図示する
ため、線２−２より下方では部分的に取り除かれた状態
で示されている。最高の光学的性能及び最大コントラス
トを得るため、中間部支持体２７は、細長いリボン素子
２３ａ、２３ｂ、２３ｃ及び２３ｄの陰に完全に隠蔽さ
れている。したがって、上方からみたとき、中間部支持
体は、順応型回折格子装置５ａ〜５ｄの間のギャップ３
２中には見えない。各順応型回折格子装置は、４個の等
幅の溝２５と共に３個の中間部支持体２７を有する。
【００１３】中間部支持体２７の中心間距離Λは、作動
状態の順応型回折格子装置の周期を定義する。細長いリ
ボン素子２３ａ〜２３ｄは、互いに機械的、電気的に分
離されているので、４個の順応型回折格子装置５ａ〜５
ｄを独立に動作させることができる。
【００１４】図３の（ａ）は、図２の線３−３による、
非作動状態の順応型回折格子装置５ｂの二つの溝２５の
断面図である。図３の（ｂ）は、作動状態の順応型回折
格子装置の同じ断面図である。装置の動作中に、細長い
リボン素子２３ｂの下側導電層１２と導電層２２の間に
電圧差を与えることにより、静電気引力が生成される。
電圧差が無い非作動状態（図３の（ａ））の場合に、リ
ボン素子２３ｂは、支持体間で水平に懸架する。この状
態では、入射光ビーム３０は、主としてミラー方向３３
へ反射される。作動状態を実現するため、電圧が順応型
回折格子５ｂに印加され、これにより、細長いリボン素
子２３ｂが変形し、周期Λで部分的に等角の回折格子が
得られる。図３の（ｂ）は、細長いリボン素子２３ｂが
隔離体２９と接触している完全に作動された状態の装置
が示されている。素子２３ｂの底部と、隔離体２９の頂
部の高さの差は、入射光の波長λの略１／４になるよう
に選択される。最適な高さは、作動された装置の特定形
状に依存する。作動状態において、入射光ビーム３０
は、主として、回折次数＋１のビーム３５ａと、回折次
数−１のビーム３５ｂへ回折され、付加的な光は、回折
次数＋２のビーム３６ａと、回折次数−２のビーム３６
ｂへ回折される。少量の光は、より高次の回折次数へ回
折され、一部は反射される。装置の表面と垂直に入射し
た光の場合、入射ビームと回折次数ｍの回折ビームとの
間の角度θmは、式： ｓｉｎθm＝ｍλ／Λ によって与えられ、式中、ｍは整数を表す。
【００１５】一つ以上の回折次数が、アプリケーション
に応じて、光学系によって収集され、使用される。印加
電圧が取り除かれたとき、引っ張り応力と撓みによる力
は、リボン素子２３ｂを元の非作動状態へ復元させる。
【００１６】図４の（ａ）及び（ｂ）は、非作動状態及
び作動状態における順応型回折格子装置５ｂの図２の線
４−４による回転された断面図である。細長いリボン素
子２３ｂは、端部支持体２４ｂと隣の中間部支持体２７
（どちらも図示されない）によって懸架される。電圧の
印加によって、装置は図４の（ｂ）に示されるように作
動される。
【００１７】好ましい一実施例において、順応型回折格
子装置のリニア配列は、図１から３に示されるように、
配列方向（ｘ方向）と直交した格子周期Λの方向（ｙ方
向）に装置を配置することによって形成される。回折次
数は、ｙ−ｚへイ面内で種々の角度をとり、配列方向に
直交する。場合によっては、狭い光のラインで照明され
る数千個の装置により構成される大型リニア配列の場合
でも、回折次数は、非常に短い距離に亘って空間的に分
離される。この機能によって、光学系の設計が簡単化さ
れ、回折次数の分離がシュリーレン光学系を用いること
なく空間的に分離され得る実施可能な設計構造を与え
る。
【００１８】従来のＧＬＶ装置から製作されたリニア配
列の場合、格子周期は、配列方向と平行するので、回折
次数の空間的分離のためには非常に広い間隔が必要とさ
れる。比較例として、１００μｍの光のラインによって
照明される４ｃｍ長（２０μｍ幅に２０００個の装置）
である順応型回折格子装置の配列を考える。回折次数が
角度的に１度ずつ分離されるように周期が選択された装
置の場合、次数は空間的に約６ｍｍで分離されるように
なる。回折次数間に４度の角度的分離がある従来技術の
ＧＬＶ装置の同様の４ｃｍのリニア配列は、シュリーレ
ン光学系を用いることなく空間的分離を実現するため、
少なくとも６０ｃｍの長さを要する。
【００１９】さらに、順応型回折格子配列における格子
周期Λは配列方向と直交するので、実現可能な周期の数
に有意な制約を課すことなく、配列の多数の周期を広げ
ることができる。周期の数を増加させることにより、光
学的位置合わせ公差を改良し、局部的な装置故障の場合
に、ある程度の組み込み冗長性が得られる。順応型回折
格子装置の一部の機能が停止した場合、光ビームは正常
動作部分へ位置を修正することができる。
【００２０】順応型回折格子装置の電子機械的及び光学
的動作をより詳細に説明するため、以下の材料及びパラ
メータを用いて現実的な設計の予測性能を調べることが
有用である。
【００２１】基板材料：珪素 下側導電層：ドープト珪素 保護層：厚さ５０ｎｍの二酸化珪素 スペーサー層：厚さ１５０ｎｍの二酸化珪素 リボン層：厚さ１００ｎｍ、引っ張り力６００Ｍｐａの
二酸化珪素 反射・導電層：厚さ５０ｎｍのアルミニウム 格子周期Λ＝２０μｍ 細長いリボン素子の懸架長＝１６μｍ 細長いリボン素子の幅ｗ＝３０μｍ 中間部支持体の幅＝４μｍ このタイプの設計によって、ＣＭＯＳ法による製造と、
ＣＭＯＳ回路による集積化が可能になる。この具体的な
設計例におけるリボン素子の共振周波数は約１１ＭＨｚ
である。殆どの実際的な設計の場合、共振周波数は、２
ＭＨｚ乃至１５ＭＨｚである。本実施例の装置の共振周
波数は高いので、装置のスイッチング時間は非常に短く
することができる。
【００２２】図５及び６は、この具体的な装置の電子機
械的動作のモデルを説明するグラフである。図５は、溝
の中心における細長いリボン素子の位置を、印加電圧の
関数として表したグラフであり、ヒステリシスを伴うこ
とが示されている。電圧が０Ｖから上昇するとき、中心
位置は、２０．１Ｖのプルダウン電圧に達するまで、略
二次式に沿って増加する。このプルダウン電圧で、静電
気力は引っ張り復元力に打ち勝ち、リボンは基板に突入
する。さらに、印加電圧が増加すると、変形したリボン
の形状が変化するが、中心位置は変化しない。リボンが
基板と接触する場合、電圧は、１０．８ボルトで離れる
まで接触を保ったままの状態で、プルダウン電圧よりも
降下する。このヒステリシスは、装置の光学的性能を改
良するため利用され得る。また、このヒステリシスは、
ある種のアプリケーションではスイッチとして使用され
る。
【００２３】図６は、回折格子の側断面が印加電圧を調
整することにより変更される様子を示す図である。リボ
ンと基板が接触した状態で、作動した装置の１２Ｖにお
ける周期の側断面（破線）と２２Ｖにおける周期の側断
面（実線）とが示されている。この１２Ｖの側断面を獲
得するため、最初に、プルダウン電圧２０．１Ｖ折も高
い電圧を印加することによって接触が確立される必要が
ある。１２Ｖは、解放電圧よりも僅かしか高くないの
で、リボンの非常に小さい一部分だけが基板に触れる。
この電圧による形状の変化は、装置の回折効率に重大な
影響を与える。
【００２４】図７は、５５０ｎｍの照明波長と、１００
％の反射率を仮定した場合に、装置の回折効率を印加電
圧の関数として表したグラフである。効率曲線は、１）
光学系が−１次の回折次数と＋１次の回折次数を収集す
る第１のケースと、２）光学系が全ての回折次数を収集
する第２のケースについて示されている。両方のケース
の曲線は、最大の回折効率を得るために電圧調整が可能
であることを示す。第１のケースでは、最大値は約１
４．５Ｖで発生し、第２のケースでは、最大値は約１６
Ｖで発生する。この特定の設計に関して最適光学性能を
達成するため、最初に、２０．１Ｖのプルダウン電圧お
りも高い電圧を印加することにより接触を確立する必要
がある。この電圧は、次に、最適形状を得るために降下
される。
【００２５】図８は、順応型回折格子装置の別の実施例
を示す図であり、同図には、図２と類似した４デバイス
型リニア配列の平面図が示されている。各順応型回折格
子装置５ａ、５ｂ、５ｃ及び５ｄには、細長いリボン素
子の対（５１ａ，５２ａ）、（５１ｂ，５２ｂ）、（５
１ｃ，５２ｃ）及び（５１ｄ，５２ｄ）が関連する。各
装置をこのように分割することにより、光学性能に有意
な影響を与えることなく、より幅の広い装置を製造でき
るようになる。好ましい製造方法は、電気防食用層を溝
からエッチングし、リボン素子を解放する。素子間のギ
ャップ５５は、腐食液をこの防食用層に到達させる。ギ
ャップ５５の数の増加は、エッチングプロセスを改良す
る。実際上、順応型回折格子装置を更に三つ以上の部分
に分割する必要がある。細長いリボン素子は、下側にあ
る構造体を図示するため、線２−２より下方では部分的
に取り除かれた状態で示されている。最高の光学的性能
及び最大コントラストを得るため、中間部支持体２７
は、細長いリボン素子５１ａ、５２ａ、５１ｂ、５２
ｂ、５１ｃ、５２ｃ、５１ｄ及び５２ｄの陰に完全に隠
蔽されている。したがって、上方からみたとき、中間部
支持体は、ギャップ５５に侵入しない。単一の順応型回
折格子装置内のリボン素子は、機械的に分離されている
が、電気的に連結されている。したがって、リボン素子
は、電圧が印加されたときに、同時に動作する。
【００２６】上記実施例に記載された順応型回折格子装
置は、細長いリボン素子に取り付けられた中間部支持体
を有する。非常に高いコントラストを得るため、これら
の中間部支持体及びリボン素子は、完全に平坦であるこ
とが必要である。しかし、実際上、製造中に、中間部支
持体の直ぐ上にあるリボン素子の側断面に不均一性が生
じる。この不均一性は、回折格子を弱め、装置のコント
ラストを低下させる。図９の（ａ）及び（ｂ）は、この
問題を軽減する更なる実施例を示す図である。この側面
図は、図３の（ａ）及び（ｂ）と類似している。図９の
（ａ）では、非作動状態の装置の三つの中間部支持体２
７の間に二つの溝２５が示されている。図９の（ｂ）で
は、作動状態における同じ装置の三つの中間部支持体２
７の間に二つの溝２５が示されている。非作動状態の場
合、装置には電圧が印加されていないので、リボン素子
２３ｂは、二つの端部支持体２４ａ及び２４ｂ（図２を
参照せよ）によって中間部支持体２７の上方で水平に懸
架され、中間部支持体２７の頂部とリボン素子２３ｂの
底部の間に小さいギャップ６０が残される。装置を作動
するため電圧が印加されたとき、リボン素子２３ｂの底
部は、中間部支持体２７の頂部と接触し、部分的に順応
した回折格子が作成される。図９の（ｂ）は、細長いリ
ボン素子２３ｂが隔離体２９と接触している完全に作動
された状態の装置を示す図である。
【００２７】上記の通り、本発明は、好ましい実施例を
具体的に参照して詳細に説明されているが、それらの実
施例の変更及び置換は、本発明の精神及び範囲を逸脱す
ることなく行われ得ることに注意する必要がある。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、従来技術の回折格子光
バルブ配列よりも広いアクティブ領域が得られるので、
回折格子装置を容易に位置合わせできるようになり、照
明システムの許容範囲が緩和されるという効果が生ず
る。また、本発明の回折格子装置は、回折方向が配列の
長軸と直交するので、配列によって回折された光を集め
る光学系を簡単化できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の順応型回折格子装置がリニア配列上に
二つ並べられた空間光変調器の部分断面斜視図である。
【図２】リニア配列状の４個の順応型回折格子装置を含
む本発明の空間光変調器の平面図である。
【図３】（ａ）は作動状態の順応型回折格子装置を示
し、（ｂ）は非作動状態の順応型回折格子装置を示す図
１の線３−３による断面図である。
【図４】（ａ）は非作動状態の順応型回折格子装置を示
し、（ｂ）は作動状態の順応型回折格子装置を示す図１
の線４−４による断面図である。
【図５】印加電圧の関数として装置の位置を示すグラフ
である。
【図６】装置の二つの異なる作動電圧に応答して偏向し
た素子側断面を示すグラフである。
【図７】変調器の回折効率を示すグラフである。
【図８】空間光変調器の別の実施例の平面図である。
【図９】（ａ）及び（ｂ）は、本発明による空間光変調
器の更に別の実施例の断面図である。
【符号の説明】
５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ 順応型回折格子装置 １０ 基板 １２ 下側導電層 １４ 誘電保護層 １６ 隔離層 １８ スペーサー層 ２０ リボン層 ２２ 反射・導電層 ２３ａ，２３ｂ，２３ｃ，２３ｄ リボン素子 ２４ａ，２４ｂ 端部支持体 ２５ 溝 ２７ 中間部支持体 ２９ 隔離体 ３０ 光ビーム ３２ ギャップ ３５ａ 回折次数＋１のビーム ３５ｂ 回折次数−１のビーム ３６ａ 回折次数＋２のビーム ３６ｂ 回折次数−２のビーム ５１ａ，５１ｂ，５１ｃ，５１ｄ，５２ａ，５２ｂ，５
２ｃ，５２ｄ リボン素子 ５５ ギャップ ６０ ギャップ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光反射面を含む細長い素子と、 上記細長い素子を基板の両端で支える一対の端部支持体
    と、 上記一対の端部支持体の間にある少なくとも一つの中間
    部支持体と、 第１の動作状態と第２の動作状態の間で上記細長い素子
    を変形させるため上記細長い素子に力を加える手段と、
    を有し、入射光ビームを回折によって変調する機械式回
    折格子装置。
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