JP2001205550A - Face polishing tool for glass panel for cathode-ray tube - Google Patents

Face polishing tool for glass panel for cathode-ray tube

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JP2001205550A
JP2001205550A JP2000020567A JP2000020567A JP2001205550A JP 2001205550 A JP2001205550 A JP 2001205550A JP 2000020567 A JP2000020567 A JP 2000020567A JP 2000020567 A JP2000020567 A JP 2000020567A JP 2001205550 A JP2001205550 A JP 2001205550A
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support
polishing
polishing tool
glass panel
ray tube
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Takeshi Hashimoto
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Asahi Glass Co Ltd
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  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent scratches of a face polishing tool for a glass panel for a cathode-ray tube with a lot of columnar diamond grinding wheels spaced at some intervals in the support body. SOLUTION: The base bottom part of the columnar diamond grinding wheel 1 is attached and fixed to a rubber support body 2 (preferably, one with durometer hardness 70 deg. or more) by embedding so that the rigidity of the support body to the inclination of the grinding wheel can be reinforced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ブラウン管用ガラ
スパネルのフェース面研磨具に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a face polishing tool for a glass panel for a cathode ray tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ブラウン管用ガラスパネルの画面
部外面(フェース面)の研磨は、研磨剤スラリーを供給
しつつ、研磨具をパネルに対して押し付けながら相対的
に運動させる方法により行われていた。この研磨工程
は、通常、粗研磨、中研磨、艶出し研磨の3段階からな
っている。この際、研磨剤として多用されているのは、
粗研磨ではガーネット又は酸化アルミニウム、中研磨で
はパーミス、艶出し研磨では酸化セリウムである。
2. Description of the Related Art Conventionally, the outer surface (face surface) of a screen portion of a glass panel for a cathode ray tube is polished by a method in which a polishing slurry is supplied and a polishing tool is relatively moved while being pressed against the panel. Was. This polishing step usually includes three stages of rough polishing, medium polishing, and gloss polishing. In this case, what is often used as an abrasive is
Garnet or aluminum oxide for rough polishing, permis for medium polishing, and cerium oxide for gloss polishing.

【0003】従来の研磨装置の代表例を図5に示す。研
磨すべきガラスパネル3は、回転テーブル4上にフェー
ス面を上にして載置し固定されている。このフェース面
に昇降回転軸5に取り付けた研磨具6を押し付け、遊離
砥粒すなわち研磨剤スラリーを供給しながら研磨具を回
転させて研磨する。
FIG. 5 shows a typical example of a conventional polishing apparatus. The glass panel 3 to be polished is placed and fixed on the turntable 4 with the face surface facing upward. The polishing tool 6 attached to the elevating rotary shaft 5 is pressed against the face surface, and the polishing tool is rotated while supplying loose abrasive grains, that is, an abrasive slurry, to perform polishing.

【0004】ガラスパネルのフェース面は、良好な画像
を映し出すために設計された平坦状又は非球面と呼ばれ
る複雑な曲面状である。この曲面のフェース面を研磨剤
スラリーで研磨するときには、この曲面に追従するよう
研磨具には適当な柔軟性が要求され、粗研磨ではゴム製
又は金属製の可撓性を有する支持板上に円柱状の鋼鉄製
ピースを多数配置した研磨具が使用される(特公昭40
−28753)。
[0004] The face surface of a glass panel is a complex curved surface called a flat surface or an aspheric surface designed to display a good image. When the curved face is polished with an abrasive slurry, the polishing tool is required to have appropriate flexibility so as to follow the curved surface. In rough polishing, the polishing tool is provided on a flexible support plate made of rubber or metal. Polishing tools with a large number of cylindrical steel pieces are used (Japanese Patent Publication No. 40
-28753).

【0005】このような研磨剤スラリーを用いた研磨方
式には、数々の問題点がある。例えば、研磨剤はスラリ
ー状にして使用され、絶えず研磨剤が粉砕され消耗する
ために、粒度分布や濃度などの状態を一定に管理するこ
とは容易でなく、研磨剤の粒度分布が変動した場合に
は、研磨効率及び面粗度が変動し、品質の不安定や生産
性の低下を引き起こす。また、スラリーへの異物混入も
大きな問題となり、研磨面に傷を発生させる原因とな
る。さらに、研磨作用により微粒化された研磨剤が廃棄
物として発生し、この処理にも多大な費用がかかる。
There are many problems in the polishing method using such an abrasive slurry. For example, the abrasive is used in the form of a slurry, and the abrasive is constantly crushed and consumed, so it is not easy to constantly control the state of the particle size distribution and concentration, and when the particle size distribution of the abrasive fluctuates. In this case, the polishing efficiency and the surface roughness fluctuate, resulting in unstable quality and reduced productivity. In addition, contamination of the slurry with foreign matter becomes a serious problem, which causes scratches on the polished surface. Further, abrasives atomized by the polishing action are generated as waste, and this treatment also requires a great deal of cost.

【0006】以上の問題を解決するため、ダイヤモンド
砥石を使用した研磨方法が待望されているが、いまだ実
用化されていない。ダイヤモンド砥石をガラスパネルの
フェース面研磨に適用するとすれば、まず粗研磨に使用
する方法が考えられるが、ダイヤモンド砥石で研磨した
場合、ダイヤモンド砥石の特有の問題として研削面に深
い傷が発生しやすく、これが最大の課題であった。
In order to solve the above problems, a polishing method using a diamond grindstone has been desired, but has not yet been put to practical use. If diamond grindstones are applied to the face polishing of glass panels, a method that can be used first for rough polishing is conceivable. This was the biggest challenge.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術の
前述の欠点を解消するものであり、引っかき傷を発生さ
せないでフェース面をダイヤモンド砥石で研磨できる新
規なフェース面研磨具を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and provides a novel face-surface polishing tool which can polish a face with a diamond grindstone without generating a scratch. With the goal.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、多数の円柱状
ダイヤモンド砥石をゴム製の支持体に間隔を設けて配置
して構成したブラウン管用ガラスパネルのフェース面研
磨具において、円柱状ダイヤモンド砥石が前記支持体に
基底部を埋め込むことにより取り付け固定されているこ
とを特徴とするブラウン管用ガラスパネルのフェース面
研磨具を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a column-shaped diamond grindstone for a CRT glass panel face surface polishing tool comprising a plurality of cylindrical diamond grindstones arranged at intervals on a rubber support. Is mounted and fixed by embedding a base portion in the support, and provides a face-surface polishing tool for a glass panel for a cathode ray tube.

【0009】さらに、本発明は前記支持体のデュロメー
ター硬さ(JIS−K6301規定のスプリング式硬さ
試験に準拠したゴム、プラスチック材料の硬さ)が70
度以上であり、円柱状ダイヤモンド砥石の直径(D)と
この砥石の支持体表面からの高さ(H1)と支持体に埋
め込まれた基底部の深さ(H2)の関係が、H1≦1.2
D、0.1D≦H2≦2.0Dである上記のブラウン管
用ガラスパネルのフェース面研磨具を提供する。
Further, in the present invention, the durometer hardness of the support (the hardness of rubber or plastic material based on a spring hardness test specified in JIS-K6301) is 70.
And the relationship between the diameter (D) of the cylindrical diamond grindstone, the height of the grindstone from the support surface (H 1 ), and the depth of the base embedded in the support (H 2 ) is H 1 ≦ 1.2
D, a face polishing tool for a glass panel for a cathode ray tube, wherein 0.1D ≦ H 2 ≦ 2.0D.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施例であるゴ
ム製の支持体2に円柱状ダイヤモンド砥石1を配置した
構成の研磨具の部分断面図を示す。この研磨具の基本構
成は、円柱状ダイヤモンド砥石1の基底部が、支持体2
に埋め込まれている。実際の研磨具は、図示しないがこ
の研磨具を研磨治具に取り付けて使用される。この場
合、この研磨治具と研磨具との間には、必要に応じ緩衝
材その他の支持材を設けることができる。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a polishing tool according to an embodiment of the present invention, in which a cylindrical diamond grindstone 1 is disposed on a rubber support 2. The basic configuration of this polishing tool is as follows.
Embedded in Although not shown, the actual polishing tool is used by attaching the polishing tool to a polishing jig. In this case, between the polishing jig and the polishing tool, a buffer material or other supporting material can be provided as needed.

【0011】ダイヤモンド砥石1としては、ダイヤモン
ド砥粒を結合材により柱状に成形した砥石が使用でき
る。結合材の材質により、レジンボンド、メタルボン
ド、ビトリファイドボンド等があり、これらすべてが使
用できる。また、ダイヤモンド砥粒の粒径も適宜選択し
て使用できる。
As the diamond grindstone 1, a grindstone formed by forming diamond abrasive grains into a column shape using a binder can be used. Depending on the material of the binder, there are resin bond, metal bond, vitrified bond, and the like, and all of them can be used. In addition, the particle size of the diamond abrasive can be appropriately selected and used.

【0012】ダイヤモンド砥石1は、円柱状に形成され
ている。通常は円柱であるが、横断面形状が楕円状や多
角形状のものでもほぼ円形状であればよい。円柱状ダイ
ヤモンド砥石を形成する場合、その全体をダイヤモンド
砥石質で作製するほか、基底部を鋼鉄などの硬質の別材
質で作製し、その上にダイヤモンド砥石を強固に接着し
た構造とすることもできる。
The diamond grindstone 1 is formed in a column shape. Usually, it is a column, but any cross-sectional shape may be elliptical or polygonal as long as it is substantially circular. In the case of forming a cylindrical diamond grindstone, in addition to making the whole with a diamond grindstone, the base can be made of another hard material such as steel, and the diamond grindstone can be firmly bonded thereon. .

【0013】一方、支持体2は弾性と適度な柔軟性を有
するゴム質材料(これをゴム製とする)からなってい
る。この支持体は、図4に示すように円板状に形成され
ていて、その片側に多数の円柱状ダイヤモンド砥石1が
基底部を埋設して取り付け固定される。これらのダイヤ
モンド砥石1がフェース面に追従して研磨するために、
研磨具に適度な柔軟性を持たせることが必要であり、支
持体の材質はゴムが最適である。
On the other hand, the support 2 is made of a rubber material (made of rubber) having elasticity and appropriate flexibility. This support is formed in a disk shape as shown in FIG. 4, and a large number of columnar diamond grindstones 1 are mounted and fixed on one side thereof with the base portion embedded. In order for these diamond whetstones 1 to polish following the face surface,
It is necessary that the polishing tool has appropriate flexibility, and the material of the support is preferably rubber.

【0014】本発明においてこの支持体は、柔軟性とと
もに、基底部が埋設されたダイヤモンド砥石を研磨時に
力が働いても容易に傾斜させない十分な剛性を持ってい
なければならない。この剛性が十分でないと、円柱状ダ
イヤモンド砥石が所定の姿勢を保持できなくなり、フェ
ース面に引っかき傷を発生させる。
In the present invention, the support must have sufficient flexibility and sufficient rigidity so that the diamond grindstone having the embedded base is not easily inclined even when a force is applied during polishing. If the rigidity is not sufficient, the columnar diamond grindstone cannot maintain a predetermined posture, causing scratches on the face surface.

【0015】次に、このダイヤモンド砥石の傾きに対す
る支持体2の剛性と引っかき傷の発生のメカニズムを詳
細に説明する。ガラスパネルのフェース面は、前記した
ように非球面とも呼ばれる複雑な曲面である。研磨は図
5と同様に円板状の研磨治具を回転させつつフェース面
に押し付ける方式で行い、研磨液として水又は水に研削
油を配合したものを、砥石とガラスの境界面に供給す
る。円柱状ダイヤモンド砥石はガラス表面に押し付けら
れながら回転運動し、その際、砥石中のダイヤモンド砥
粒がガラスを引っかき破砕し、表面のガラスが除去され
る。研磨はこの繰り返しによって得られる。
Next, the rigidity of the support 2 with respect to the inclination of the diamond grindstone and the mechanism of generation of scratches will be described in detail. The face surface of the glass panel is a complicated curved surface also called an aspheric surface as described above. Polishing is performed by a method in which a disc-shaped polishing jig is rotated and pressed against the face surface as in FIG. 5, and water or a mixture of water and grinding oil is supplied to the boundary surface between the grindstone and the glass as a polishing liquid. . The cylindrical diamond grindstone rotates while being pressed against the glass surface, and at that time, diamond abrasive grains in the grindstone scratch and crush the glass, and the glass on the surface is removed. Polishing is obtained by this repetition.

【0016】この研磨中に円柱状ダイヤモンド砥石には
引っかき運動の反力が発生し、この力は円柱状ダイヤモ
ンド砥石を反対方向へ傾ける力として作用する。傾きに
対する剛性が不十分の場合、この砥石は傾けられ円形の
先端面の一部分だけがフェース面に接触する状態とな
る。その結果、フェース面との接触面積が小さくなり、
この部分に過大な圧力が働き、深い引っかき傷が発生す
る。
During this polishing, a reaction force of a scratching motion is generated in the cylindrical diamond grindstone, and this force acts as a force for tilting the cylindrical diamond grindstone in the opposite direction. If the rigidity against the inclination is insufficient, the grindstone is inclined and only a part of the circular tip surface comes into contact with the face surface. As a result, the contact area with the face surface is reduced,
Excessive pressure acts on this area, causing deep scratches.

【0017】したがって、ダイヤモンド砥石を使用する
場合、この局部的な過大圧力を防止することが重要とな
る。ダイヤモンド砥粒はボンド材で強固に保持されてい
るため、圧力が過大になると、ガラス面に直接集中して
作用し非常に深い傷をフェース面に発生させる。これ
が、スラリーを使用した遊離砥粒研磨との大きな違いで
ある。
Therefore, when using a diamond grindstone, it is important to prevent this local excessive pressure. Since the diamond abrasive grains are firmly held by the bond material, when the pressure is excessive, the diamond abrasive grains directly concentrate on the glass surface and act to cause extremely deep scratches on the face surface. This is a major difference from free abrasive polishing using a slurry.

【0018】本発明は、深い傷が円柱状ダイヤモンド砥
石の研磨中の傾きにより発生することを解明し、この傾
きの防止策をゴム製の支持体において確立したものであ
る。円柱状ダイヤモンド砥石をフェース面の曲面に追従
させるためには、支持体をゴム製にすることは前述し
た。しかし、ゴム製支持体2の表面上に円柱状ダイヤモ
ンド砥石1を、図6のように接着等9より形成しただけ
では、十分な傾きに対する剛性を得ることができない。
円柱状ダイヤモンド砥石1が研磨中に反力を受けたと
き、この力が支持体との接着部に集中して作用し支持体
を変形させるからである。
The present invention has clarified that deep scratches are caused by the inclination during polishing of a cylindrical diamond grindstone, and established a measure for preventing the inclination in a rubber support. As described above, the support is made of rubber so that the cylindrical diamond grindstone can follow the curved surface of the face. However, simply forming the columnar diamond grindstone 1 on the surface of the rubber support 2 by bonding or the like 9 as shown in FIG. 6 does not provide sufficient rigidity against inclination.
This is because when the columnar diamond grindstone 1 receives a reaction force during polishing, the force concentrates on the bonding portion with the support and deforms the support.

【0019】本発明は、この柔軟性と剛性という相反す
る特性を両立させるため、支持体2としてゴム製のもの
を用い、ダイヤモンド砥石1の傾きに対する剛性を以下
の手段により増強させ、実用化を図っている。この剛性
を増加させる基本手段として、円柱状ダイヤモンド砥石
1の基底部(埋め込み部分)を支持体2のゴム層に埋め
込むことが挙げられる。ダイヤモンド砥石1を埋め込み
で支持体2に取り付けると、ダイヤモンド砥石1の基底
部は周囲を支持体2により支持される。これにより、ダ
イヤモンド砥石1が前記の反力を受けたとき、砥石基底
部にかかるモーメントが小さくなり、かつ支持体2に対
する集中の程度が軽減されて砥石の傾きを防げる。
According to the present invention, in order to achieve both of the opposing characteristics of flexibility and rigidity, the support 2 is made of rubber, and the rigidity of the diamond grindstone 1 with respect to the inclination is enhanced by the following means. I'm trying. As a basic means for increasing the rigidity, embedding the base portion (embedded portion) of the cylindrical diamond grindstone 1 in the rubber layer of the support 2 can be mentioned. When the diamond grindstone 1 is embedded and attached to the support 2, the base of the diamond grindstone 1 is supported by the support 2 around. Thereby, when the diamond grindstone 1 receives the above-mentioned reaction force, the moment applied to the grindstone base is reduced, and the degree of concentration on the support 2 is reduced, so that the inclination of the grindstone can be prevented.

【0020】この場合、円柱状ダイヤモンド砥石1の基
底部に切り欠きを設けることで更に前記剛性を増すこと
ができる。図2及び図3はその代表例を示す。図2は、
円柱状ダイヤモンド砥石1の基底部に同心円状に切り欠
き7を設けた場合であり、図3は、円柱状ダイヤモンド
砥石1の基底部底面に切り欠き8を設けた場合である。
これら切り欠きは、支持体2のダイヤモンド砥石1に対
する埋め込み支持をより強固にする。切り欠きは、2個
以上設けてもよいし、その形態も限定されない。通常は
例示するようにコ字状の単純断面の切り欠きを1個設け
るだけで十分である。
In this case, the rigidity can be further increased by providing a notch at the base of the cylindrical diamond grindstone 1. 2 and 3 show typical examples. FIG.
FIG. 3 shows a case where a notch 7 is provided concentrically at the base of the columnar diamond grindstone 1, and FIG. 3 shows a case where a notch 8 is provided at the bottom of the base of the columnar diamond grindstone 1.
These notches make the embedded support of the support 2 into the diamond grindstone 1 stronger. Two or more notches may be provided, and the form is not limited. Usually, it is sufficient to provide one notch having a simple U-shaped cross section as illustrated.

【0021】ダイヤモンド砥石1の傾きに対する支持体
の剛性は、ゴム製支持体の硬さ、ダイヤモンド砥石1の
直径と高さ、ゴム層に埋め込む深さを最適の範囲とする
ことにより更に増加させることができる。次にこれにつ
いて説明する。
The rigidity of the support with respect to the inclination of the diamond grindstone 1 can be further increased by setting the hardness of the rubber support, the diameter and height of the diamond grindstone 1, and the depth of embedding in the rubber layer within the optimum ranges. Can be. Next, this will be described.

【0022】ダイヤモンド砥石1を埋め込む支持体2の
硬さ(正確には埋め込み部分のゴム層の硬さ)は、デュ
ロメーター硬さ(JIS−K6301規定のスプリング
式硬さ試験に準拠したゴム、プラスチック材料の硬さ)
で定義され、この値が25℃で70度以上であることが
適している。70度未満ではゴムが柔らかすぎるため、
剛性を確保することが困難となる。剛性とフェース面に
対する追従性を両立させるには、支持体2の硬さは70
〜95度の範囲が好ましい。
The hardness of the support 2 in which the diamond grindstone 1 is embedded (more precisely, the hardness of the rubber layer in the embedded portion) is determined by a durometer hardness (a rubber or plastic material conforming to a spring hardness test specified in JIS-K6301). Hardness)
It is suitable that this value is 70 ° or more at 25 ° C. If it is less than 70 degrees, the rubber is too soft,
It is difficult to secure rigidity. In order to achieve both the rigidity and the ability to follow the face surface, the hardness of the support 2 should be 70.
A range of -95 degrees is preferred.

【0023】次に、ダイヤモンド砥石1の直径と高さ、
ゴム層に埋め込む深さの関係を図1により説明する。ダ
イヤモンド砥石1の直径(D)、砥石のゴム製支持体表
面からの高さ(H1)、埋め込む基底部の深さ(H2)と
したとき、DとH1の関係はH1≦1.2Dの範囲が好ま
しい。1.2D<H1の場合、砥石基底部にかかるモー
メントが大きくなり、砥石の傾きを防止することが困難
になる。
Next, the diameter and height of the diamond whetstone 1
The relationship of the depth of embedding in the rubber layer will be described with reference to FIG. When the diameter (D) of the diamond grindstone 1, the height of the grindstone from the surface of the rubber support (H 1 ), and the depth of the base to be embedded (H 2 ), the relationship between D and H 1 is H 1 ≦ 1. .2D is preferred. 1.2D <For H 1, the moment applied to the grindstone base portion is increased, it becomes difficult to prevent the inclination of the grinding wheel.

【0024】また、DとH2の関係は、0.1D≦H2
2.0Dとするのが望ましい。H2<0.1Dでは剛性
不足である。例えばダイヤモンド砥石1をゴム製支持体
2の表面に貼り付ける方法も考えられるが、前記したよ
うに剛性不足で研磨時に深い傷が発生する。2.0D<
2としても剛性はわずかしか向上せず、支持体の厚み
が大きくなりすぎフェース面に対する追従性の低下を招
く。なお、支持体2の全厚さは5〜30mmの範囲が好
ましい。H2が相対的に小さい場合には支持体の全厚さ
も小さくできるが、支持体が5mmより薄いと傾きに対
する剛性が低下し、30mmより厚くなると、フェース
面に対する追従性が低下する。
The relationship between D and H 2 is as follows: 0.1D ≦ H 2
2.0D is desirable. If H 2 <0.1D, the rigidity is insufficient. For example, a method of attaching the diamond whetstone 1 to the surface of the rubber support 2 can be considered, but as described above, rigidity is insufficient and deep scratches occur during polishing. 2.0D <
Even if H 2 is used, the rigidity is slightly improved, and the thickness of the support becomes too large, and the followability to the face surface is reduced. Note that the total thickness of the support 2 is preferably in the range of 5 to 30 mm. When H 2 is relatively small, the total thickness of the support can be reduced. However, if the support is thinner than 5 mm, rigidity against inclination is reduced, and if it is thicker than 30 mm, followability to the face surface is reduced.

【0025】円柱状ダイヤモンド砥石1の直径Dは、1
0〜30mmの範囲が適している。この範囲であれば、
砥石は成形後のフェース面のうねりに追従できる。10
mm未満では配置する砥石数が多くなりすぎ、また砥石
高さも低くする必要があり、砥石消耗により研磨具交換
の頻度が増えるため実用的でない。30mm超ではフェ
ース面のうねりに対する追従性が不足する。なお、ダイ
ヤモンド砥石1が円柱以外のときのDは、平均径を用い
る。
The diameter D of the columnar diamond wheel 1 is 1
A range from 0 to 30 mm is suitable. Within this range,
The grindstone can follow the undulation of the face after molding. 10
If it is less than mm, the number of grindstones to be arranged becomes too large and the height of the grindstones needs to be lowered. If it exceeds 30 mm, the ability to follow the undulation of the face surface is insufficient. The average diameter is used as D when the diamond grindstone 1 is not a cylinder.

【0026】[0026]

【実施例】(実施例)外径400mmの円板状のゴム製
支持体に、外径20mmの円柱状ダイヤモンド砥石を埋
め込んで多数配置し、図4のような研磨具を作製した。
支持体表面からの高さ20mm、基底部の埋め込まれる
部分の深さ6mmとして、ダイヤモンド砥石の基底部
を、厚さ12mm、デュロメーター硬さ80度のゴム製
支持体に埋め込んだ。ダイヤモンド砥石として600番
砥粒のメタルボンド砥石を使用した。
EXAMPLE A cylindrical diamond grindstone having an outer diameter of 20 mm was buried in a disk-shaped rubber support having an outer diameter of 400 mm, and a large number of diamond grindstones were arranged to prepare a polishing tool as shown in FIG.
The base of the diamond grindstone was embedded in a rubber support having a thickness of 12 mm and a durometer hardness of 80 degrees, with a height of 20 mm from the surface of the support and a depth of 6 mm at a portion where the base was embedded. A 600-grain metal bond grindstone was used as the diamond grindstone.

【0027】この円板状研磨具を研磨治具に取り付けて
図5のような研磨装置に装着し、縦横比3/4で対角径
440mmのほぼ矩形の17型ガラスパネルを回転テー
ブル上に載置固定し、テーブルを15rpm、研磨具を
500rpmで回転させ、研磨面に水を供給しつつ50
0kgの研磨荷重で研磨具を30秒間押し付け粗研磨
し、研磨後のガラスパネル表面を目視観察した。
This disk-shaped polishing tool is mounted on a polishing jig and mounted on a polishing apparatus as shown in FIG. 5, and an approximately rectangular 17-inch glass panel having an aspect ratio of 3/4 and a diagonal diameter of 440 mm is placed on a rotary table. Place and fix the table, rotate the table at 15 rpm and the polishing tool at 500 rpm.
The polishing tool was pressed with a polishing load of 0 kg for 30 seconds to perform rough polishing, and the polished glass panel surface was visually observed.

【0028】粗研磨後のガラス表面は均一なくもりガラ
ス状で、表面には強い引っかき傷の発生はなかった。こ
のガラス表面について、JIS−B0616で規定され
る表面粗さRa、Rz、Ryを測定した。表面粗さはRa
0.6μm、Rz=3.2μm、Ry=5.2μmであっ
た。
After the rough polishing, the glass surface was uniformly hazy and glass-like, and no strong scratch was generated on the surface. This glass surface was measured surface roughness R a as defined in JIS-B0616, R z, and R y. The surface roughness is Ra =
0.6 μm, R z = 3.2 μm, R y = 5.2 μm.

【0029】(比較例)実施例と同じ外径400mmの
円板状のゴム製支持体の表面に、支持体表面からの高さ
20mm、外径20mmの円柱状ダイヤモンド砥石を接
着により多数配置し、図6に示すような研磨具を作製し
た。つまり、ダイヤモンド砥石をゴム製支持体に接着に
より取り付け固定する点を除き、実施例と全く同一の研
磨具である。この研磨具を実施例と同様の研磨装置に装
着し、実施例と同じ条件で17型ガラスパネルを粗研磨
した。
(Comparative Example) A large number of cylindrical diamond grindstones having a height of 20 mm from the support surface and an outer diameter of 20 mm were arranged on the surface of a disk-shaped rubber support having the same outer diameter of 400 mm as in the example by bonding. A polishing tool as shown in FIG. 6 was produced. That is, the polishing tool is exactly the same as that of the embodiment except that the diamond grindstone is attached and fixed to the rubber support by bonding. This polishing tool was mounted in the same polishing apparatus as in the example, and a 17-inch glass panel was roughly polished under the same conditions as in the example.

【0030】研磨後のガラス表面には個々のダイヤモン
ド砥石の軌跡に相当する位置に強い引っかき傷が無数に
観察された。この傷の部分の表面粗さを同様に測定した
ところ、Ra、Rz、Ryのうちで引っかき傷の評価に有
効なRyはRy=15μmであり、引っかき傷が表面粗さ
の面からも確認された。
Innumerable strong scratches were observed on the polished glass surface at positions corresponding to the trajectories of the individual diamond grinding wheels. When the surface roughness of the scratched portion was measured in the same manner, Ry effective for the evaluation of the scratch among R a , R z , and R y was R y = 15 μm. It was also confirmed from the side.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明によれば、ブラウン管用ガラスパ
ネルのフェース面研磨具は、ゴム製支持体に円柱状ダイ
ヤモンド砥石の基底部が埋め込まれた構造となっている
ので、研磨中の砥石の傾きによる局部的な過大圧力を防
止できる。その結果、研磨面の深い傷の発生を防止し、
表面粗さを小さくすることができるという効果がある。
粗研磨で深い傷を防止できれば、その後の中研磨、仕上
げ研磨を短時間で処理できる。
According to the present invention, the face polishing tool for a glass panel for a cathode ray tube has a structure in which the base of a columnar diamond grindstone is embedded in a rubber support. Local excessive pressure due to the inclination can be prevented. As a result, the occurrence of deep scratches on the polished surface is prevented,
There is an effect that the surface roughness can be reduced.
If deep scratches can be prevented by rough polishing, the subsequent medium polishing and finish polishing can be processed in a short time.

【0032】さらに、ゴム製支持体の硬さ、ダイヤモン
ド砥石1の直径と高さ、支持体に埋め込む深さを最適の
範囲にすると、ダイヤモンド砥石1の傾きに対する支持
体の剛性を一層増強させることができるので、研磨中の
砥石の傾きをより確実に防止して、局部的な過大圧力の
発生による深い傷がない研磨面を得ることができる。そ
れにより、経済的、実用的条件でダイヤモンド砥石をガ
ラスパネルの表面研磨に使用できる。
Further, when the hardness of the rubber support, the diameter and height of the diamond grindstone 1 and the depth of embedding in the support are within the optimum ranges, the rigidity of the support with respect to the inclination of the diamond grindstone 1 is further enhanced. Therefore, the inclination of the grindstone during polishing can be more reliably prevented, and a polished surface free from deep flaws due to local excessive pressure can be obtained. Thus, the diamond grindstone can be used for polishing the surface of the glass panel under economic and practical conditions.

【0033】さらに、研磨剤スラリーを用いた研磨方式
に比べて、スラリーの粒度変動による研磨面品質バラツ
キ、スラリーへの異物混入による研磨傷の発生が削減さ
れ、高品質の研磨が得られるとともに研磨剤廃棄物の削
減という効果がある。
Further, as compared with a polishing method using an abrasive slurry, variations in the quality of the polished surface due to fluctuations in the particle size of the slurry and the occurrence of polishing scratches due to the incorporation of foreign matter into the slurry are reduced. This has the effect of reducing agent waste.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例を示す研磨具の部分断面図。FIG. 1 is a partial sectional view of a polishing tool according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例を示す研磨具の部分断面
図。
FIG. 2 is a partial sectional view of a polishing tool showing another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の他の実施例を示す研磨具の部分断面
図。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view of a polishing tool showing another embodiment of the present invention.

【図4】本発明の研磨具の平面図。FIG. 4 is a plan view of the polishing tool of the present invention.

【図5】従来の研磨装置の簡略断面説明図。FIG. 5 is a simplified sectional explanatory view of a conventional polishing apparatus.

【図6】比較例の研磨具の部分断面図。FIG. 6 is a partial cross-sectional view of a polishing tool of a comparative example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:円柱状ダイヤモンド砥石 2:ゴム製支持体 3:ガラスパネル 7、8:切り欠き 1: Cylindrical diamond grindstone 2: Rubber support 3: Glass panel 7, 8: Notch

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】多数の円柱状ダイヤモンド砥石をゴム製の
支持体に間隔を設けて配置して構成したブラウン管用ガ
ラスパネルのフェース面研磨具において、円柱状ダイヤ
モンド砥石が前記支持体に基底部を埋め込むことにより
取り付け固定されていることを特徴とするブラウン管用
ガラスパネルのフェース面研磨具。
1. A face polishing tool for a glass panel for a cathode ray tube, comprising a plurality of columnar diamond grindstones arranged at intervals on a rubber support, wherein the columnar diamond grindstone has a base portion on the support. A face polishing tool for a glass panel for a cathode ray tube, wherein the face polishing tool is fixed by being embedded.
【請求項2】前記支持体のデュロメーター硬さ(JIS
−K6301規定のスプリング式硬さ試験に準拠したゴ
ム、プラスチック材料の硬さ)が70度以上であり、円
柱状ダイヤモンド砥石の直径(D)とこの砥石の支持体
表面からの高さ(H1)と支持体に埋め込まれた基底部
の深さ(H2)の関係が、H1≦1.2D、0.1D≦H
2≦2.0Dである請求項1に記載のブラウン管用ガラ
スパネルのフェース面研磨具。
2. The durometer hardness of the support (JIS)
-K6301 provisions rubber conforming to the spring type hardness test, hardness of the plastic material) is not less 70 degrees or more, the diameter of the cylindrical diamond grinding wheel (D) and the height from the support surface of the grinding wheel (H 1 ) And the depth (H 2 ) of the base embedded in the support are H 1 ≦ 1.2D, 0.1D ≦ H
2. The face polishing tool for a glass panel for a cathode ray tube according to claim 1, wherein 2 ≦ 2.0D.
【請求項3】円柱状ダイヤモンド砥石の支持体に埋め込
まれる基底部に切り欠きを設けた請求項1又は2に記載
のブラウン管用ガラスパネルのフェース面研磨具。
3. The face-face polishing tool for a glass panel for a cathode ray tube according to claim 1, wherein a notch is provided in a base portion embedded in the support of the cylindrical diamond grindstone.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030031598A (en) * 2001-10-15 2003-04-23 (주) 한일씨텍 Manufacturing method of polishing tool of panel for braun tube and its polishing tool
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KR100802213B1 (en) 2006-05-02 2008-02-11 손종철 Profile Polishing Tool Using Ultra-Hard Sintered Body and Elastic Material, and Method of Producing The Same

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