JP2001201619A - Reflection plate, reflective liquid crystal display panel and their manufacturing method - Google Patents
Reflection plate, reflective liquid crystal display panel and their manufacturing methodInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ＯＡ機器、パーソ
ナルコンピュータ、携帯電話、携帯情報端末などに用い
られる液晶表示パネルのうち、バックライトを必要とせ
ず、外光を反射することにより画像を表示する反射型液
晶表示等に使用される反射板及びその製造方法並びに反
射型液晶表示パネル及びその製造方法に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display panel used for OA equipment, personal computers, portable telephones, portable information terminals, etc., which does not require a backlight and displays an image by reflecting external light. The present invention relates to a reflection plate used for a reflection type liquid crystal display and a method for manufacturing the same, and a reflection type liquid crystal display panel and a method for manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】モバイル端末等の急速な普及に伴い、反
射型液晶パネルが注目されている。反射型液晶パネルは
外光を反射して表示を行なうため、屋外等の外光が強い
環境では充分な表示性能が得られるが、暗い屋内や夜間
では視認性が極端に低下する。反射型液晶パネルの反射
率を向上する手段として、画素電極に複数の凹凸構造を
形成する手法が開示されている。（特開平５−２８１５
３３）このとき、凹凸構造は、感光性高分子膜の塗布と
露光、及び現像と熱アニール処理を施すプロセスを繰り
返すことで複数層から成る凹凸構造が形成されていた。
また、現像後のパターンの断面形状は半球形状であるの
が通常であった。2. Description of the Related Art With the rapid spread of mobile terminals and the like, reflective liquid crystal panels have been receiving attention. The reflective liquid crystal panel reflects external light to perform display, so that sufficient display performance can be obtained in an environment where external light is strong, such as outdoors, but visibility deteriorates extremely in dark indoors or at night. As a means for improving the reflectance of a reflection type liquid crystal panel, a method of forming a plurality of uneven structures on a pixel electrode is disclosed. (JP-A-5-2815
33) At this time, the uneven structure composed of a plurality of layers was formed by repeating the process of applying and exposing the photosensitive polymer film, and developing and thermally annealing the photosensitive polymer film.
The cross-sectional shape of the pattern after development was usually a hemispherical shape.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、パネル反射
率は反射層の凹凸形状で決定される。ここで図４は理想
的な反射率特性と従来例の違いを示した図である。図４
は入射角３０°の平行光入射時の反射特性である。従来
の手法で形成される反射層の反射率特性は、参照符号ｍ
１で示すように正反射方向に極大値を有し正面から極角
３０°までの範囲の反射光が低い。一方、参照符号ｍ２
で示す理想的な反射特性では正面から極角３０°までの
範囲で高い輝度を保つことが必要となる。Incidentally, the panel reflectance is determined by the unevenness of the reflection layer. Here, FIG. 4 is a diagram showing a difference between an ideal reflectance characteristic and a conventional example. FIG.
Represents the reflection characteristics when parallel light is incident at an incident angle of 30 °. The reflectance characteristic of the reflective layer formed by the conventional method is represented by reference numeral m.
As shown by 1, the reflected light has a maximum value in the specular reflection direction, and the reflected light in the range from the front to the polar angle of 30 ° is low. On the other hand, reference sign m2
In the ideal reflection characteristic shown by, it is necessary to maintain high luminance in a range from the front to a polar angle of 30 °.
【０００４】従って、理想的な反射率特性を実現するに
は、凹凸形状の凸部の傾斜面が略三角形状のように急峻
にする必要がある。しかし、凹凸形状の傾斜面を略三角
形状に容易に形成する手法はこれまで得られていなかっ
た。また、従来は凹凸形状を形成するために感光性高分
子膜の塗布と露光、及び現像と熱アニール処理を施すプ
ロセスを繰り返す手法が取られており、プロセスが複雑
で生産性に課題があった。Therefore, in order to realize ideal reflectance characteristics, it is necessary to make the slope of the convex portion of the uneven shape as steep as a substantially triangular shape. However, a technique for easily forming the uneven inclined surface into a substantially triangular shape has not been obtained so far. Further, conventionally, a method of repeating a process of applying and exposing a photosensitive polymer film, and a process of developing and thermally annealing to form a concave-convex shape has been adopted, and the process was complicated and there was a problem in productivity. .
【０００５】本発明の目的は、反射層の凸部傾斜面が従
来よりも急峻に形成され、正面から極角３０°程度の広
い範囲に亘って高輝度を保つことができる理想的な反射
率特性を備えた反射板及び、その反射板を簡単な製造プ
ロセスにより製造することができる反射板の製造方法を
提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an ideal reflectivity in which a convex inclined surface of a reflective layer is formed steeper than in the prior art, and high brightness can be maintained over a wide range of about 30 ° from the front. An object of the present invention is to provide a reflector having characteristics and a method of manufacturing the reflector that can manufacture the reflector by a simple manufacturing process.
【０００６】また本発明の他の目的は、凸部傾斜面が従
来よりも急峻に形成された反射層を備え、パネル反射率
の向上により良好な表示が得られる反射型液晶表示パネ
ル及び、その反射型液晶表示パネルを簡単な製造プロセ
スにより製造することができる反射型液晶表示パネルの
製造方法を提供することである。Another object of the present invention is to provide a reflective liquid crystal display panel having a reflective layer in which a convex inclined surface is formed steeper than in the prior art and capable of obtaining a good display by improving the panel reflectivity, and a reflective liquid crystal display panel. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a reflective liquid crystal display panel, which can manufacture a reflective liquid crystal display panel by a simple manufacturing process.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は凹凸構造を有する反射板及びその製造方
法、並びに該反射板を用いた反射型液晶パネル及びその
製造方法において、以下の手段を講じた。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention relates to a reflection plate having an uneven structure, a method for manufacturing the same, and a reflection type liquid crystal panel using the reflection plate and a method for manufacturing the same. Take steps.
【０００８】本発明のうち請求項１記載の発明は、凹凸
状構造体が形成された基板と、凹凸状構造体を被覆し表
面が凹凸状の光反射面とされた光反射層とを有する反射
板において、前記凹凸状構造体は、基板上に間隔を開け
て配置された複数の凸状下地層と、凸状下地層を覆い凹
凸状に形成された被覆層とからなる積層構造となってお
り、前記凸状下地層の頂点の広がり角が、前記被覆層の
凸部頂点の広がり角よりも小さいことを特徴とする。The invention according to claim 1 of the present invention comprises a substrate on which an uneven structure is formed, and a light reflecting layer which covers the uneven structure and has an uneven light reflecting surface. In the reflector, the uneven structure has a multilayer structure including a plurality of convex underlayers arranged at intervals on a substrate and a cover layer formed in an uneven shape covering the convex underlayer. And a divergent angle of a vertex of the convex underlying layer is smaller than a divergent angle of a vertex of the convex portion of the coating layer.
【０００９】上記の如く、凸状下地層の頂点の広がり角
を、被覆層の凸部頂点の広がり角よりも小さくすること
により、凹凸構造体の凸部傾斜面が従来例よりも急峻と
なる。このため、凹凸構造体を被覆いる光反射層の凸部
傾斜面が急峻となり、従来例に比べて、反射率特性を格
段に向上することができる。As described above, by making the divergent angle of the vertices of the convex underlayer smaller than the divergent angle of the vertices of the convex portions of the coating layer, the convex inclined surface of the concave-convex structure becomes steeper than the conventional example. . For this reason, the convex inclined surface of the light reflecting layer covering the uneven structure becomes steep, and the reflectance characteristics can be remarkably improved as compared with the conventional example.
【００１０】請求項２記載の発明は、請求項１記載の反
射板において、前記光反射層の凸部傾斜面は、その凸部
傾斜面の最下端から頂点に向かう曲面形状が、前記最下
端を原点とし、頂点の座標を（１，１）に規格化し、凸
部の基板面内方向をＸ（但し、０＜Ｘ＜１）とし、凸部
の高さ方向をＹとしたときに、Ｙ＝Ｘk （但し、２／
３≦ｋ≦１）で示されることを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, in the reflecting plate according to the first aspect, the convex inclined surface of the light reflecting layer has a curved surface shape from a lowermost end to a vertex of the convex inclined surface. Is the origin, the coordinates of the vertices are normalized to (1,1), the in-plane direction of the protrusion is X (where 0 <X <1), and the height direction of the protrusion is Y, Y = X k (however, 2 /
3 ≦ k ≦ 1).
【００１１】従来例の反射板では、その凸部断面形状が
上に凸で且つＹ＝Ｘ2 （但し、０＜Ｘ＜１）で示され
る放物線状（上記請求項２記載の表現に従う場合の関数
表示ではＸ1/2 ）である。これに対して、本発明では
凸部傾斜面が上記の式で示される曲面形状となってい
る。従って、本発明の反射板は、凸部傾斜面が従来例の
凸部傾斜面よりも急峻であり、そのため、ほぼ理想的な
反射率特性を有することになる。本発明者のシミュレー
ション結果によれば、反射層での反射光がほぼパネル正
面から極角３０°以内の角に出射し、高輝度化に有効で
あった。In the reflector of the prior art, the sectional shape of the convex portion is upwardly convex and a parabolic shape represented by Y = X 2 (where 0 <X <1). X 1/2 ) in the function display. On the other hand, in the present invention, the convex inclined surface has a curved surface shape represented by the above equation. Therefore, the reflecting plate of the present invention has a steeper slope than that of the conventional example, and therefore has almost ideal reflectance characteristics. According to the simulation results of the inventor, the light reflected by the reflective layer was emitted at an angle within a polar angle of approximately 30 ° from the front of the panel, which was effective for increasing the luminance.
【００１２】請求項３記載の発明は、請求項１記載の反
射板において、前記凸状下地層は、無機材料から成るこ
とを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, in the reflection plate according to the first aspect, the convex underlayer is made of an inorganic material.
【００１３】被覆層は、無機材料であってもよく、有機
材料であってもよい。The coating layer may be made of an inorganic material or an organic material.
【００１４】請求項４記載の発明は、請求項１記載の反
射板において、前記凸状下地層は、基板上に形成された
色素を含む感光性高分子を露光・現像処理して基板に垂
直な断面が逆台形形状の構造体を形成し、この構造体を
加熱処理することにより形成されたものであることを特
徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, in the reflective plate according to the first aspect, the convex underlayer is formed by exposing and developing a photosensitive polymer containing a dye formed on the substrate to be perpendicular to the substrate. It is characterized in that the cross section forms an inverted trapezoidal structure, and this structure is formed by heat treatment.
【００１５】露光光の吸収度合いや、感光性高分子の膜
厚方向での光強度の減衰度合い等を考慮して色素の種類
を適宜選択すれば、逆台形形状構造体の形状を制御でき
る。これにより逆台形形状構造体の加熱されて形成され
た凸状下地層の傾斜面の傾斜角度を調整するこができ
る。従って、希望する形状の凹凸状の光反射層を有する
反射板が構成される。The shape of the inverted trapezoidal structure can be controlled by appropriately selecting the type of dye in consideration of the degree of absorption of the exposure light, the degree of attenuation of the light intensity of the photosensitive polymer in the thickness direction, and the like. Thereby, the inclination angle of the inclined surface of the convex base layer formed by heating the inverted trapezoidal structure can be adjusted. Therefore, a reflector having a light reflection layer having a desired shape of unevenness is formed.
【００１６】請求項５記載の発明は、請求項１記載の反
射板において、前記凸状下地層及び被覆層が高分子材料
から成ることを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, in the reflector according to the first aspect, the convex underlayer and the coating layer are made of a polymer material.
【００１７】請求項６記載の発明は、凹凸状構造体が形
成された基板と、該凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸状
の光反射面とされた光反射層とを有する反射板におい
て、前記凹凸状構造体は、間隔を開けて配置された複数
の凸状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とからなる積
層構造となっており、前記凸状下地層を覆う被覆層の凸
部傾斜面が、液滴が表面張力により形成されるときの傾
斜面より急峻な形状であることを特徴とする。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a reflector having a substrate having an uneven structure formed thereon, and a light reflecting layer covering the uneven structure and having a light reflecting surface having an uneven surface. The uneven structure has a laminated structure including a plurality of convex underlayers arranged at intervals and a coating layer covering the convex underlayer, and the coating layer covering the convex underlayer. Is characterized in that the convex inclined surface is steeper than the inclined surface when the droplet is formed by surface tension.
【００１８】液滴が表面張力により形成する傾斜面は、
上述したように通常は、上に凸で且つ、Ｙ＝Ｘ2 （但
し、０＜Ｘ＜１）で示される放物線状となる。これが従
来例の凸部傾斜面である。従って、上記の如く凸状下地
層を覆う被覆層の凸部傾斜面を、液滴が表面張力により
形成されるときの傾斜面より急峻な形状とすることによ
り、反射率特性が従来例に比べて向上する。The inclined surface formed by the droplet due to surface tension is as follows:
As described above, it is usually convex upward and has a parabolic shape represented by Y = X 2 (where 0 <X <1). This is the conventional convex inclined surface. Therefore, as described above, by forming the convex inclined surface of the coating layer covering the convex underlying layer steeper than the inclined surface when the droplet is formed by the surface tension, the reflectance characteristic is higher than that of the conventional example. Improve.
【００１９】請求項７記載の発明は、凹凸状構造体が形
成された基板と、該凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸状
の光反射面とされた光反射層とを有する反射板におい
て、前記凹凸状構造体は、基板上に間隔を開けて配置さ
れた複数の凸状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とか
らなる積層構造となっており、前記凸状下地層は、頂部
を含み基板に垂直な断面形状が略三角形状であって、且
つ略三角形状の両側辺が、少なくとも前記頂点から所定
の範囲に亘って内方側に湾曲した曲線部分を有すること
を特徴とする。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a reflector having a substrate on which an uneven structure is formed, and a light reflecting layer which covers the uneven structure and has a light reflecting surface having an uneven surface. The uneven structure has a multilayer structure including a plurality of convex underlayers arranged at intervals on a substrate and a coating layer covering the convex underlayer, and the convex underlayer is The cross-sectional shape perpendicular to the substrate including the top is substantially triangular, and both sides of the substantially triangular shape have a curved portion curved inwardly at least over a predetermined range from the vertex. And
【００２０】上記構成により、凸状下地層の略三角形状
の傾斜面は内側に抉れた形状となる。このため、上部の
被覆層を積層すると、最終の光反射層の凸部傾斜面は膨
らみが少なく、より急峻な形状が得られる。According to the above configuration, the substantially triangular inclined surface of the convex underlayer has a shape that is recessed inward. For this reason, when the upper covering layer is laminated, the convex inclined surface of the final light reflection layer has less swelling and a steeper shape can be obtained.
【００２１】請求項８記載の発明は、凹凸状構造体が形
成された基板と、該凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸状
の光反射面とされた光反射層とを有する反射板におい
て、前記凹凸状構造体は、間隔を開けて配置された複数
の凸状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とからなる積
層構造となっており、前記凸状下地層は、頂部を含み基
板に垂直な断面形状が、略三角形状であって、且つ、該
三角形状の内角の和が１８０°未満であることを特徴と
する。[0021] The invention according to claim 8 is a reflection plate comprising a substrate on which the uneven structure is formed, and a light reflecting layer which covers the uneven structure and has an uneven light reflecting surface. The uneven structure has a multilayer structure including a plurality of convex underlayers arranged at intervals and a coating layer covering the convex underlayer, and the convex underlayer has a top portion. The cross-sectional shape perpendicular to the containing substrate is substantially triangular, and the sum of the internal angles of the triangular shape is less than 180 °.
【００２２】上記の如く、前記凸部下地層の断面形状
が、略三角形状であって、且つ、該三角形状の内角の和
が１８０°未満であれば、上記請求項７記載の発明と同
様に凸状下地層の傾斜面は内側に抉れた形状となる。従
って、このような請求項８記載の構成よってもまた、最
終の光反射層の凸部傾斜面は膨らみが少なく、より急峻
な形状が得られる。As described above, if the cross-sectional shape of the convex portion underlayer is substantially triangular and the sum of the internal angles of the triangular shape is less than 180 °, the same as in the above-described aspect of the present invention. The inclined surface of the convex underlayer has a shape that is recessed inward. Therefore, according to the configuration of the eighth aspect, the convex inclined surface of the final light reflection layer has a small swelling and a steeper shape can be obtained.
【００２３】請求項９記載の発明は、凹凸状構造体が形
成された基板と、該凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸状
の光反射面を構成する光反射層とを有する反射板におい
て、前記凹凸状構造体は、間隔を開けて配置された複数
の凸状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とからなる積
層構造となっており、前記凸状下地層及び被覆層の凸部
は、共に頂部を含み基板に垂直な断面形状が略三角形状
であり、しかも、凸状下地層の略三角形状の内角の和が
１８０°未満とされ、被覆層の略三角形状の内角の和が
１８０°以上とされていることを特徴とする。According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a reflector comprising a substrate having an uneven structure formed thereon and a light reflecting layer which covers the uneven structure and forms a light reflecting surface having an uneven surface. The uneven structure has a laminated structure including a plurality of convex underlayers arranged at intervals and a coating layer covering the convex underlayer. Each of the convex portions has a substantially triangular cross-section including the top portion and perpendicular to the substrate, and the sum of the substantially triangular interior angles of the convex underlayer is less than 180 °, and the substantially triangular interior angle of the coating layer. Is 180 ° or more.
【００２４】上記構成の如く、被覆層の略三角形状の内
角の和が１８０°以上であっても、凸状下地層の略三角
形状の内角の和が１８０°未満であれば、光反射層の凸
部傾斜面が従来例に比べて急峻な形状が得られることに
なる。As described above, even if the sum of the substantially triangular interior angles of the coating layer is 180 ° or more, if the sum of the substantially triangular interior angles of the convex underlayer is less than 180 °, the light reflecting layer The shape of the slope of the convex portion is steeper than that of the conventional example.
【００２５】請求項１０記載の発明は、凹凸状構造体が
形成された基板と、該凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸
状の光反射面とされた光反射層とを有する反射板におい
て、前記凹凸状構造体は、間隔を開けて配置された複数
の凸状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とからなる積
層構造となっており、前記凸状下地層及び被覆層の凸部
は、共に頂部を含み基板に垂直な断面形状が略三角形状
であり、しかも、下地層の略三角形状の内角の和及び被
覆層の略三角形状の内角の和が共に１８０°未満とされ
ていることを特徴とする。According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a reflector having a substrate having an uneven structure formed thereon, and a light reflecting layer which covers the uneven structure and has an uneven light reflecting surface. The uneven structure has a laminated structure including a plurality of convex underlayers arranged at intervals and a coating layer covering the convex underlayer. The projections have a substantially triangular cross-section including the top and perpendicular to the substrate, and the sum of the substantially triangular interior angles of the base layer and the sum of the substantially triangular interior angles of the coating layer are both less than 180 °. It is characterized by having been done.
【００２６】上記構成の如く、凸状下地層の略三角形状
の内角の和が１８０°未満であることに加えて、被覆層
の略三角形状の内角の和が１８０°未満であれば、光反
射層の凸部傾斜面が請求項９記載の発明よりも急峻な形
状が得られることになる。As described above, in addition to the fact that the sum of the substantially triangular interior angles of the convex underlayer is less than 180 ° and that the sum of the substantially triangular interior angles of the coating layer is less than 180 °, As a result, it is possible to obtain a steeper shape than the ninth aspect of the present invention.
【００２７】請求項１１記載の発明は、凹凸状構造体が
形成された基板と、該凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸
状の光反射面とされた光反射層とを有する反射板におい
て、前記凹凸状構造体は、間隔を開けて配置された複数
の凸状下地層と、下地層を覆う被覆層とからなる積層構
造となっており、前記凸状下地層は、頂部を含み基板に
垂直な断面形状が略台形形状であり、しかも略台形形状
の内角の和が３６０°未満とされていることを特徴とす
る。[0027] An eleventh aspect of the present invention is directed to a reflector having a substrate on which an uneven structure is formed, and a light reflecting layer which covers the uneven structure and has an uneven light reflecting surface. The uneven structure has a laminated structure including a plurality of convex underlayers arranged at intervals and a coating layer covering the underlayer, and the convex underlayer includes a top portion and a substrate. Is substantially trapezoidal, and the sum of the internal angles of the substantially trapezoidal shape is less than 360 °.
【００２８】上記構成により、凸状下地層の略台形形状
の傾斜面は内側に抉れた形状となる。このため、上部の
被覆層を積層すると、最終の光反射層の凸部傾斜面は膨
らみが少なく、より急峻な形状が得られる。According to the above configuration, the substantially trapezoidal inclined surface of the convex underlayer has a shape that is recessed inward. For this reason, when the upper covering layer is laminated, the convex inclined surface of the final light reflection layer has less swelling and a steeper shape can be obtained.
【００２９】請求項１２記載の発明は、請求項１１記載
の反射板において、前記被覆層の凸部は、頂部を含み基
板に垂直な断面形状が略三角形状であり、しかも、略三
角形状の内角の和が１８０°以上であることを特徴とす
る。According to a twelfth aspect of the present invention, in the reflecting plate according to the eleventh aspect, the convex portion of the coating layer has a substantially triangular cross section including a top portion and perpendicular to the substrate, and has a substantially triangular shape. The sum of the internal angles is 180 ° or more.
【００３０】上記の如く、被覆層の凸部断面形状が略三
角形状であり、しかも、略三角形状の内角の和が１８０
°以上であれば、凸部の傾斜面を急峻とする効果が得ら
れる。As described above, the sectional shape of the convex portion of the coating layer is substantially triangular, and the sum of the internal angles of the substantially triangular shape is 180.
If it is not less than °, the effect of making the slope of the convex portion steep can be obtained.
【００３１】請求項１３記載の発明は、請求項１１記載
の反射板において、前記被覆層の凸部は、頂部を含み基
板に垂直な断面形状が略三角形状であり、しかも、略三
角形状の内角の和が１８０°未満であることを特徴とす
る。According to a thirteenth aspect of the present invention, in the reflection plate according to the eleventh aspect, the convex portion of the covering layer has a substantially triangular cross-section including a top portion and perpendicular to the substrate. The sum of the internal angles is less than 180 °.
【００３２】上記の如く、略三角形状の内角の和を１８
０°未満とすることで、凸部を更に急峻とする効果が得
られる。As described above, the sum of the substantially triangular interior angles is 18
By setting the angle to be less than 0 °, an effect of making the convex portion steeper can be obtained.
【００３３】請求項１４記載の発明は、凹凸状構造体が
形成された基板と、該凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸
状の光反射面とされた光反射層とを有する反射板におい
て、前記凹凸状構造体は、残膜厚特性が相互に異なる複
数の感光性高分子材料が露光・現像・加熱の各処理を施
されて形成されたものであって、間隔を開けて配置され
た複数の凸状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とから
構成されていることを特徴とする。According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a reflector having a substrate having an uneven structure formed thereon and a light reflection layer covering the uneven structure and having a light reflecting surface having an uneven surface. The uneven structure is formed by subjecting a plurality of photosensitive polymer materials having mutually different residual film thickness characteristics to exposure, development, and heating, and is disposed at intervals. And a cover layer covering the convex underlayer.
【００３４】上記の如く、上下の高分子が異なる残膜厚
特性を有することで、現像・加熱処理後の凸部の形状を
容易に規定することができる。As described above, since the upper and lower polymers have different residual film thickness characteristics, the shape of the convex portion after development and heat treatment can be easily defined.
【００３５】請求項１５記載の発明は、請求項１４記載
の反射板において、露光後の現像経過時間ｔにおける前
記下地層を構成する感光性高分子の膜厚ｄ１の時間変化
特性をｄ１（ｔ）、前記被覆層を構成する感光性高分子
の膜厚ｄ２の時間変化特性をｄ２（ｔ）としたときに、
同一の現像経過時間ｔにおいて、ｄ１（ｔ）＜ｄ２
（ｔ）が成り立つことを特徴とする。According to a fifteenth aspect of the present invention, in the reflector according to the fourteenth aspect, the time change characteristic of the thickness d1 of the photosensitive polymer constituting the underlayer at the elapsed development time t after the exposure is d1 (t ), When the time change characteristic of the thickness d2 of the photosensitive polymer constituting the coating layer is d2 (t),
At the same development elapsed time t, d1 (t) <d2
(T) is satisfied.
【００３６】上記構成により、現像後の高分子の積層構
造が積層の境界部にくびれを有する茸状の構造となる。
このとき、加熱処理により上部と下部の高分子が溶解す
ることで急峻な傾斜面を有する凸部が形成される。According to the above configuration, the laminated structure of the polymer after development becomes a mushroom-like structure having a constriction at the boundary between the layers.
At this time, the upper and lower polymers are dissolved by the heat treatment, so that a convex portion having a steep slope is formed.
【００３７】請求項１６記載の発明は、凹凸状構造体が
形成された基板と、該凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸
状の光反射面とされた光反射層とを有する反射板におい
て、前記凹凸状構造体は、γ特性が相互に異なる複数の
感光性高分子材料が露光・現像・加熱の各処理を施され
て形成されたものであって、間隔を開けて配置された複
数の凸状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とから構成
されていることを特徴とする。According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided a reflector having a substrate having an uneven structure formed thereon and a light reflection layer covering the uneven structure and having a light reflecting surface having an uneven surface. The uneven structure is formed by subjecting a plurality of photosensitive polymer materials having different γ characteristics to exposure, development, and heating, and a plurality of the photosensitive polymer materials are arranged at intervals. , And a coating layer covering the convex underlayer.
【００３８】上記の如く、上下の高分子が異なるγ特性
を有することで、現像・加熱処理後の凸部の形状を容易
に規定することができる。As described above, since the upper and lower polymers have different γ characteristics, the shape of the convex portion after development and heat treatment can be easily defined.
【００３９】請求項１７記載の発明は、請求項１６記載
の反射板において、前記凸状下地層を構成する感光性高
分子のγ値をγ１、前記被覆層を構成する感光性高分子
のγ値をγ２としたときに、γ１＜γ２が成り立つこと
を特徴とする。According to a seventeenth aspect of the present invention, in the reflection plate according to the sixteenth aspect, the γ value of the photosensitive polymer constituting the convex underlayer is γ1, and the γ value of the photosensitive polymer constituting the coating layer is γ1. When the value is γ2, γ1 <γ2 holds.
【００４０】上記構成により、現像時に凸状下地層を構
成する感光性高分子が被覆層を構成する感光性高分子よ
り多くエッチングされ高分子の積層構造が積層の境界部
にくびれを有する茸状の構造となる。このとき、加熱処
理により上部と下部の高分子が溶解することで急峻な傾
斜面を有する凸部が形成される。According to the above structure, the photosensitive polymer constituting the convex underlayer is etched more than the photosensitive polymer constituting the coating layer during development, so that the laminated structure of the polymer has a mushroom shape having a constriction at the boundary between the laminated layers. It becomes the structure of. At this time, the upper and lower polymers are dissolved by the heat treatment, so that a convex portion having a steep slope is formed.
【００４１】請求項１８記載の発明は、反射型液晶表示
パネルであって、液晶層を挟んで一方に基板が、他方に
請求項１乃至１７の何れかに記載の反射板が設けられて
いることを特徴とする。According to an eighteenth aspect of the present invention, there is provided a reflection type liquid crystal display panel, wherein a substrate is provided on one side and a reflection plate according to any one of the first to seventeenth sides is provided with a liquid crystal layer interposed therebetween. It is characterized by the following.
【００４２】上記構成により、凸部傾斜面が従来よりも
急峻に形成された反射層を備え、パネル反射率の向上に
より良好な表示が得られる反射型液晶表示パネルが構成
される。With the above configuration, a reflection type liquid crystal display panel is provided which has a reflection layer in which the convex inclined surface is formed steeper than the conventional one, and can obtain a good display by improving the panel reflectance.
【００４３】請求項１９記載の発明は、凹凸状構造体が
形成された基板と、該凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸
状の光反射面を構成する光反射層とを有する反射板の製
造方法において、基板上に、第１の感光性高分子材料
と、該第１の感光性高分子材料よりもエッチングレート
の大きい第２の感光性高分子材料とをこの順序で塗布し
て、基板上に第１の感光性高分子層と第２の感光性高分
子層とからなる積層構造を形成する塗布工程と、前記塗
布工程により得られた第１の感光性高分子層及び第２の
感光性高分子層に対して、マスク露光処理と現像処理を
それぞれ１度行い、基板に垂直な断面形状が両側にくび
れ部を有する複数の茸状構造体を形成する工程と、前記
複数の茸状構造体が形成されている基板に熱処理を施
し、茸状構造体を溶融変形し前記くびれ部を解消させ、
基板上に間隔を開けて配置された複数の凸状下地層と該
凸状下地層を覆う被覆層とからなる凹凸状構造体を形成
する熱処理工程と、前記凹凸状構造体上に光反射層を形
成する工程と、を備えたことを特徴とする。According to a nineteenth aspect of the present invention, there is provided a reflector having a substrate having an uneven structure formed thereon, and a light reflecting layer which covers the uneven structure and forms a light reflecting surface having an uneven surface. In the manufacturing method, a first photosensitive polymer material and a second photosensitive polymer material having an etching rate larger than that of the first photosensitive polymer material are applied on the substrate in this order, A coating step of forming a laminated structure comprising a first photosensitive polymer layer and a second photosensitive polymer layer on a substrate; and a first photosensitive polymer layer and a second photosensitive polymer layer obtained by the coating step. Performing a mask exposure process and a development process once each on the photosensitive polymer layer to form a plurality of mushroom-shaped structures having a cross section perpendicular to the substrate and having constrictions on both sides; and Heat treatment is applied to the substrate on which the mushroom-shaped structure is formed to melt the mushroom-shaped structure Shape and is eliminated the constricted portion,
A heat treatment step of forming a concavo-convex structure composed of a plurality of convex underlayers arranged at intervals on a substrate and a coating layer covering the convex underlayer, and a light reflection layer on the concavo-convex structure And forming a.
【００４４】上記の如く、第１と第２の感光性高分子層
の境界にくびれ部を有する形状を形成した後、熱処理で
くびれ部を解消すると、第２の感光性高分子が第１の感
光性高分子を完全に覆う形状となる。このとき、上部の
高分子膜がくびれ部を埋める形で溶解するため、通常の
くびれ部を有しない高分子膜に熱処理で傾斜面が形成さ
れた場合に比べ、傾斜面はより急峻となる効果が得られ
る。As described above, after a shape having a constricted portion at the boundary between the first and second photosensitive polymer layers is formed and the constricted portion is eliminated by heat treatment, the second photosensitive polymer becomes the first photosensitive polymer. The shape completely covers the photosensitive polymer. At this time, the upper polymer film dissolves so as to fill the constricted portion, so that the inclined surface becomes steeper than when the inclined surface is formed by heat treatment on a polymer film having no ordinary constricted portion. Is obtained.
【００４５】請求項２０記載の発明は、基板上に形成さ
れた鋸刃形状の凸部と、該鋸刃形状凸部を被覆し表面が
鋸刃形状の光反射面を有する光反射層とを備えた反射板
の製造方法において、基板上に、第１の感光性高分子材
料と、該第１の感光性高分子材料よりもエッチングレー
トの大きい第２の感光性高分子材料とをこの順序で塗布
して、基板上に第１の感光性高分子層と第２の感光性高
分子層とからなる積層構造を形成する塗布工程と、前記
塗布工程により得られた第１の感光性高分子層及び第２
の感光性高分子層に対して、フォトマスクに対して斜め
方向から光を照射する斜め露光処理と現像処理をそれぞ
れ１度行い、基板に垂直な断面形状が両側に非対称なく
びれ部を有する複数の茸状構造体を形成する工程と、前
記複数の茸状構造体が形成されている基板に熱処理を施
し、茸状構造体を溶融変形し前記くびれ部を解消させ、
基板上に間隔を開けて配置された複数の鋸刃形状凸部を
形成する熱処理工程と、前記鋸刃形状凸部上に光反射層
を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。According to a twentieth aspect of the present invention, there is provided a saw blade-shaped projection formed on a substrate, and a light reflection layer covering the saw blade-shaped projection and having a light reflection surface having a saw blade surface. In a method for manufacturing a reflection plate provided with a first photosensitive polymer material, a second photosensitive polymer material having an etching rate higher than that of the first photosensitive polymer material is provided on a substrate in this order. A first photosensitive polymer layer formed on the substrate to form a laminated structure composed of the first photosensitive polymer layer and the second photosensitive polymer layer; and a first photosensitive polymer layer obtained by the applying step. Molecular layer and second
The photosensitive polymer layer is subjected to a diagonal exposure process of irradiating light from a diagonal direction to the photomask and a development process once, and the cross section perpendicular to the substrate has asymmetrical narrowing portions on both sides. A step of forming a mushroom-shaped structure, and performing a heat treatment on the substrate on which the plurality of mushroom-shaped structures are formed, melting and deforming the mushroom-shaped structure to eliminate the constriction,
A heat treatment step of forming a plurality of saw-tooth-shaped protrusions arranged at intervals on a substrate; and a step of forming a light reflection layer on the saw-tooth-shaped protrusions.
【００４６】上記の如く、斜め露光処理により、凸部の
形状を容易に制御することができる。As described above, the shape of the projection can be easily controlled by the oblique exposure processing.
【００４７】請求項２１記載の発明は、基板上に形成さ
れた鋸刃形状の凸部と、該鋸刃形状凸部を被覆し表面が
鋸刃形状の光反射面を有する光反射層とを備えた反射板
の製造方法において、基板上に、第１の感光性高分子材
料と第２の感光性高分子材料とをこの順序で塗布して、
基板上に第１の感光性高分子層と第２の感光性高分子層
とからなる積層構造を形成する塗布工程と、前記塗布工
程により得られた第１の感光性高分子層及び第２の感光
性高分子層に対して、異なる透過率を有する箇所が連続
的に形成された半透過膜から成る中間調フォトマスクを
用いたマスク露光処理と現像処理をそれぞれ１度行い、
基板に垂直な断面形状が両側に非対称なくびれ部を有す
る複数の茸状構造体を形成する工程と、前記複数の茸状
構造体が形成されている基板に熱処理を施し、茸状構造
体を溶融変形し前記くびれ部を解消させ、基板上に間隔
を開けて配置された複数の鋸刃形状凸部を形成する熱処
理工程と、前記鋸刃形状凸部上に光反射層を形成する工
程と、を備えたことを特徴とする。According to a twenty-first aspect of the present invention, a saw-shaped protrusion formed on a substrate and a light-reflecting layer covering the saw-shaped protrusion and having a light-reflective surface having a saw-tooth surface are provided. In the method for manufacturing a reflection plate provided, a first photosensitive polymer material and a second photosensitive polymer material are applied on a substrate in this order,
A coating step of forming a laminated structure comprising a first photosensitive polymer layer and a second photosensitive polymer layer on a substrate; and a first photosensitive polymer layer and a second photosensitive polymer layer obtained by the coating step. For the photosensitive polymer layer, a mask exposure process and a development process are each performed once using a halftone photomask composed of a semi-transmissive film in which portions having different transmittances are continuously formed,
A step of forming a plurality of mushroom-shaped structures having asymmetrical constrictions on both sides in a cross section perpendicular to the substrate, and subjecting the substrate on which the plurality of mushroom-shaped structures are formed to heat treatment to form a mushroom-shaped structure A heat treatment step of melting and deforming the constricted portion, forming a plurality of saw blade-shaped protrusions arranged at intervals on the substrate, and a step of forming a light reflection layer on the saw blade shape protrusion , Is provided.
【００４８】上記の如く、中間調フォトマスクの使用に
より、凸部の形状を容易に制御することができる。As described above, the shape of the projection can be easily controlled by using the halftone photomask.
【００４９】請求項２２記載の発明は、反射板と、反射
板に対向するように設けられた基板と、反射板及び基板
に挟まれた液晶層とを備えた反射型液晶表示パネルの製
造方法において、前記反射板は、請求項１９乃至２１の
何れかに記載の方法によって製造されることを特徴とす
る。 上記構成により、簡単な製造プロセスにより反射
率の向上した反射型液晶表示パネルを製造方法すること
ができる。According to a twenty-second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a reflection type liquid crystal display panel comprising a reflection plate, a substrate provided so as to face the reflection plate, and a liquid crystal layer sandwiched between the reflection plate and the substrate. In the above, the reflector is manufactured by the method according to any one of claims 19 to 21. With the above configuration, it is possible to manufacture a reflective liquid crystal display panel having improved reflectance by a simple manufacturing process.
【００５０】[0050]
【発明の実施の形態】（実施の形態１）図１は実施の形
態１に係る反射型液晶表示パネルの断面図である。反射
型液晶表示パネル１は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）２
や金属配線（図示せず）等が形成されたアレイ基板３
と、対向基板４（表示面側）と、アレイ基板３及び対向
基板４間に挟持された液晶層５とを有する。アレイ基板
３上には、平坦化層６、表面（図１の上面）が凹凸状に
形成された凹凸状構造体７、及び光反射層８が、この順
序で積層されている。前記凹凸状構造体７は、平坦化層
６上に間隔を開けて配置された複数の凸状下地層１０
と、凸状下地層１０を覆う被覆層１１とからなる２層積
層構造となっている。これら凸状下地層１０及び被覆層
１１は、感光性高分子材料から成る。また、光反射層８
はアルミニウム（Ａｌ）等の金属薄膜から成り、その一
端部はコンタクトホール１４を介してＴＦＴ２と電気的
に接続されており、画素電極として機能する。この光反
射層８の表面（光反射面８ａに相当）は、凹凸状構造体
７の表面形状を反映して凹凸状に形成されている。光反
射層８の凸部は、アレイ基板３に平行な断面が円形状ま
たは楕円形状である。なお、光反射層８の内側面には、
配向膜（図示せず）が形成されている。(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view of a reflection type liquid crystal display panel according to Embodiment 1. The reflective liquid crystal display panel 1 includes a thin film transistor (TFT) 2
Substrate 3 on which metal wiring (not shown) and the like are formed
And an opposite substrate 4 (display surface side), and a liquid crystal layer 5 sandwiched between the array substrate 3 and the opposite substrate 4. On the array substrate 3, a planarizing layer 6, an uneven structure 7 having an uneven surface (upper surface in FIG. 1), and a light reflecting layer 8 are stacked in this order. The uneven structure 7 includes a plurality of convex underlayers 10 spaced apart from each other on the planarization layer 6.
And a coating layer 11 that covers the convex base layer 10. The convex underlayer 10 and the coating layer 11 are made of a photosensitive polymer material. Also, the light reflection layer 8
Is made of a metal thin film such as aluminum (Al), and one end of the thin film is electrically connected to the TFT 2 through the contact hole 14 and functions as a pixel electrode. The surface of the light reflecting layer 8 (corresponding to the light reflecting surface 8a) is formed in an uneven shape reflecting the surface shape of the uneven structure 7. The convex portion of the light reflection layer 8 has a circular or elliptical cross section parallel to the array substrate 3. In addition, on the inner surface of the light reflection layer 8,
An alignment film (not shown) is formed.
【００５１】また、前記対向基板４は、例えばガラス基
板等の光透過性を有する基板であり、この対向基板４の
外側面には位相差フィルム９が形成され、対向基板４の
内側面にはカラーフィルタ１５が形成されており、この
カラーフィルタ１５の内側面にはインジウム錫酸化物
（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）からなる透明電極１６が
形成されている。更に、透明電極１６の内側面には配向
膜（図示せず）が形成されている。なお、透明電極１６
は共通電極として機能する。また、上記液晶層５は、例
えば液晶分子１７が基板間で約９０度捻れた配向となっ
ているＴＮ型液晶層である。The opposing substrate 4 is a light-transmitting substrate such as a glass substrate, for example. A retardation film 9 is formed on the outer surface of the opposing substrate 4 and on the inner surface of the opposing substrate 4. A color filter 15 is formed, and a transparent electrode 16 made of indium tin oxide (ITO) is formed on an inner surface of the color filter 15. Further, an alignment film (not shown) is formed on the inner surface of the transparent electrode 16. The transparent electrode 16
Functions as a common electrode. The liquid crystal layer 5 is, for example, a TN type liquid crystal layer in which the liquid crystal molecules 17 are oriented by about 90 degrees between the substrates.
【００５２】ここで、注目すべきは、凸状下地層１０の
頂点の広がり角が、被覆層１１の凸部頂点の広がり角よ
り小さく構成されていることである。このような構成と
することにより、光反射層８の凸部傾斜面が、従来例よ
りも急峻となり、理想的な反射率特性が得られことにな
る。It should be noted that the divergent angle of the apex of the convex underlayer 10 is smaller than the divergent angle of the apex of the convex portion of the covering layer 11. With such a configuration, the slope of the convex portion of the light reflection layer 8 becomes steeper than in the conventional example, and ideal reflectance characteristics can be obtained.
【００５３】以下に、凸状下地層１０の頂点の広がり角
が、被覆層１１の凸部頂点の広がり角より小さくするこ
とにより、反射率特性が向上する理由について詳述す
る。The reason why the reflectance characteristic is improved by making the divergence angle of the vertex of the convex underlayer 10 smaller than the divergence angle of the vertex of the convex portion of the coating layer 11 will be described in detail below.
【００５４】液晶パネルの反射率は光反射層８の凹凸形
状に大きく依存する。本発明者のシミュレーション結果
によれば、光反射層８の凸部傾斜面を以下の第１式の関
数形で現した場合に、良好な反射率特性が得られた。The reflectivity of the liquid crystal panel largely depends on the uneven shape of the light reflection layer 8. According to the simulation results of the present inventor, when the convex inclined surface of the light reflection layer 8 is expressed by the following function formula 1, good reflectance characteristics were obtained.
【００５５】 Ｙ＝Ｘk …（１） （但し、２／３≦ｋ≦１） 上記第１式は、図２に示すように凸部傾斜面の最下端Ｐ
１から頂点Ｐ２に向かう曲面形状が、図３に示すように
前記最下端Ｐ１を原点とし、頂点Ｐ２の座標を（１，
１）に規格化し、凸部の基板面内方向をＸ（但し、０＜
Ｘ＜１）とし、凸部の高さ方向をＹとしたときに、凸部
傾斜面を関数形で現したものである。特に、ｋ＝２／３
程度のとき図４の参照符号ｍ２で示す理想的な反射特性
が得られて、高輝度が実現された。一方、従来例のよう
に通常の熱アニール処理で高分子が融解した場合の凸部
の傾斜面は、液滴の表面張力により形成される凸部傾斜
面となり、関数形ではＸ2（図３の表示に従う場合の関
数表示ではＸ1/2）程度である。従って、高輝度化を図
るには通常の熱アニール処理よりもさらに急峻な上記の
ような凸部を形成する必要がある。そこで、上記のよう
に高分子を２層積層して凹凸構造体を形成する場合、凸
状下地層１０の凸部頂点の広がり角を、被覆層１１の凸
部頂点の広がり角より小さく構成することにより、最終
の反射面８ａの形状をＸ2/3程度に形成でき、高輝度化
が実現できる。Y = X k (1) (However, 2/3 ≦ k ≦ 1) As shown in FIG. 2, the lower end P of the convex inclined surface is calculated as shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the curved surface shape from 1 to the vertex P2 has the origin at the lowermost end P1 and the coordinates of the vertex P2 are (1,
1), and the direction of the convex portion in the substrate plane is X (however, 0 <
When X <1) and Y is the height direction of the convex portion, the convex inclined surface is expressed in a functional form. In particular, k = ２
In this case, an ideal reflection characteristic indicated by reference numeral m2 in FIG. 4 was obtained, and high luminance was realized. On the other hand, the inclined surface of the projection when the polymer is melted in a conventional thermal annealing process as in the conventional example becomes a protrusion inclined surface formed by the surface tension of the droplets, the function form X 2 (3 In the function display when obeying the display of ( 1 ), it is about X1 / 2 ). Therefore, in order to achieve higher luminance, it is necessary to form the above-mentioned convex portion which is steeper than the normal thermal annealing process. Therefore, in the case where the uneven structure is formed by laminating two layers of polymers as described above, the divergent angle of the convex vertices of the convex base layer 10 is configured to be smaller than the divergent angle of the convex vertices of the covering layer 11. Thereby, the shape of the final reflecting surface 8a can be formed to about X 2/3 , and high luminance can be realized.
【００５６】また、凹凸構造体７を２層化することで凹
凸構造体７の凸部（被覆層１１の凸部に相当）を密に形
成でき、平坦な部位を低減できる。このため正反射光が
低減し、映り込み防止の効果が得られる。Further, by forming the uneven structure 7 into two layers, the convex portions (corresponding to the convex portions of the coating layer 11) of the uneven structure 7 can be formed densely, and the flat portions can be reduced. For this reason, regular reflection light is reduced, and an effect of preventing reflection is obtained.
【００５７】上記の例では、凹凸構造体は高分子材料で
あったけれども、これに限定されるものではなく、その
他の有機材料を用いてもよく、また無機材料を用いても
よい。In the above example, the concave-convex structure is a polymer material. However, the present invention is not limited to this, and other organic materials or inorganic materials may be used.
【００５８】また、凸状下地層を無機絶縁層のエッチン
グで形成し、凸状下地層上に高分子からなる被覆層を形
成する等、無機と有機の双方を用いても良い。Also, both inorganic and organic materials may be used, such as forming a convex underlayer by etching an inorganic insulating layer and forming a coating layer made of a polymer on the convex underlayer.
【００５９】また、凹凸構造体は、凸状下地層と複数の
被覆層から構成された多層積層構造であってもよい。勿
論、このような多層積層構造の凹凸構造体であっても、
任意の被覆層と当該被覆層を覆う上部被覆層との関係に
おいては、下部被覆層の凸部頂点の広がり角が、上部被
覆層の凸部頂点の広がり角より大きく構成されている。Further, the uneven structure may be a multilayer laminated structure including a convex base layer and a plurality of coating layers. Of course, even with such an uneven structure having a multilayered structure,
Regarding the relationship between the arbitrary coating layer and the upper coating layer covering the coating layer, the divergence angle of the convex vertex of the lower coating layer is larger than the divergent angle of the convex vertex of the upper coating layer.
【００６０】こうして、本実施の形態１では、反射光を
正面方向へ集光することが可能となり、正面から極角３
０°の広い範囲に亘って反射率が向上し、理想的な反射
率特性が得られる。Thus, in the first embodiment, the reflected light can be collected in the front direction, and the polar angle of 3
The reflectance is improved over a wide range of 0 °, and ideal reflectance characteristics can be obtained.
【００６１】（実施の形態２）図５は実施の形態２に係
る反射型液晶パネルのアレイ基板付近の断面図である。
本実施の形態２に係る反射型液晶パネルは、図５に示す
アレイ基板側に特徴を有するものであり、図５に図示さ
れていない構成は実施の形態１の反射型液晶パネルと同
様の構成を有している。なお、図５では発明内容の容易
化のためアレイ基板上の平坦化層等は省略し、アレイ基
板上に直接凹凸構造体を形成した場合を示している。こ
の点に関しては、後述する実施の形態３〜９も実施の形
態２と同様であり、主たる特徴であるアレイ基板側につ
いてのみ説明する。なお、本発明は、平坦化層を有する
構造であってもよく、また平坦化層のない構造であって
もよい。(Embodiment 2) FIG. 5 is a sectional view showing the vicinity of an array substrate of a reflection type liquid crystal panel according to Embodiment 2.
The reflection type liquid crystal panel according to the second embodiment has features on the array substrate side shown in FIG. 5, and the configuration not shown in FIG. 5 is the same as that of the reflection type liquid crystal panel of the first embodiment. have. Note that FIG. 5 shows a case where the planarization layer and the like on the array substrate are omitted for the sake of simplicity of the invention, and the uneven structure is directly formed on the array substrate. In this regard, Embodiments 3 to 9 described below are the same as Embodiment 2, and only the array substrate side, which is a main feature, will be described. Note that the present invention may have a structure having a flattening layer or a structure having no flattening layer.
【００６２】本実施の形態２において、上記実施の形態
１に対応する部分については同一の参照符号を付し、詳
細な説明は省略する。本実施の形態２では、凸状下地層
１０Ａが、その頂部を含み基板に垂直な断面形状（以
下、単に断面形状と称する）が略三角形状であって、且
つ、該三角形状の内角の和が１８０°未満であることを
特徴とするものである。即ち、凸状下地層１０Ａの断面
形状は、図５に示すように略三角形状であり、しかも、
略三角形状の内角１８Ａ、内角１８Ｂ、及び内角１８Ｃ
の和が１８０°未満となっている。従って、凸状下地層
１０Ａの傾斜面は、図５に示すように内側に抉れた形状
となる。このため、被覆層１１Ａで凸状下地層１０Ａを
被覆し、更に被覆層１１Ａを光反射層８で被覆すると、
最終の光反射層８の凸部傾斜面は、凸状下地層１０Ａの
抉れた傾斜面に影響されて急峻な形状となる。これによ
り、液晶表示パネルの反射率が向上する。In the second embodiment, parts corresponding to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. In the second embodiment, the convex underlying layer 10A has a substantially triangular cross-sectional shape (hereinafter, simply referred to as a cross-sectional shape) including its top and perpendicular to the substrate, and the sum of the internal angles of the triangular shape. Is less than 180 °. That is, the cross-sectional shape of the convex underlying layer 10A is substantially triangular as shown in FIG.
Interior angles 18A, 18B, and 18C of a substantially triangular shape
Are less than 180 °. Therefore, the inclined surface of the convex underlying layer 10A has a shape that is recessed inward as shown in FIG. For this reason, when the convex underlayer 10A is covered with the covering layer 11A, and the covering layer 11A is further covered with the light reflecting layer 8,
The final convex inclined surface of the light reflecting layer 8 has a steep shape influenced by the concave inclined surface of the convex underlying layer 10A. Thereby, the reflectance of the liquid crystal display panel is improved.
【００６３】ここで、凸状下地層１０Ａの断面形状は、
略三角形状の内角の和が１５０°以上、１８０°未満が
望ましい。内角の和を１５０°以上とするのは、１５０
°未満であると略三角形状の頂部が脆くなり形状維持が
困難となるからである。さらに望ましくは、内角の和を
１６０°以上、１７０°以下とする。このようにすれ
ば、反射率の向上を図ると共に、構造的強度の向上をも
図ることができる。Here, the cross-sectional shape of the convex underlayer 10A is
It is desirable that the sum of the inner angles of the substantially triangular shape is 150 ° or more and less than 180 °. The reason for making the sum of the internal angles 150 ° or more is 150
If the angle is less than 0 °, the top of the substantially triangular shape becomes brittle, and it becomes difficult to maintain the shape. More preferably, the sum of the internal angles is 160 ° or more and 170 ° or less. In this way, the reflectance can be improved, and the structural strength can be improved.
【００６４】なお、本実施の形態２では、被覆層１１Ａ
の断面形状は、特に限定されるものではなく、図５に示
すように内角の和が１８０°以上の略三角形状であって
もよく、また、内角の和が１８０°未満の略三角形状で
あってもよい。In the second embodiment, the coating layer 11A
The cross-sectional shape of is not particularly limited, and may be a substantially triangular shape having a sum of internal angles of 180 ° or more as shown in FIG. 5, or a substantially triangular shape having a sum of internal angles of less than 180 °. There may be.
【００６５】なお、上記構成の液晶表示パネルの製造方
法については、後述する実施例１において説明する。ま
た、本構成の凹凸構造は当然のことながらＴＦＴパネル
構成に用いても同様の効果が得られる。A method of manufacturing the liquid crystal display panel having the above configuration will be described in a first embodiment described later. Also, the same effect can be obtained by using the uneven structure of the present configuration in a TFT panel configuration as a matter of course.
【００６６】（実施の形態３）図６は実施の形態３に係
る反射型液晶パネルのアレイ基板付近の断面図である。
本実施の形態３は、凸状下地層１０Ｂ及び被覆層１１Ｂ
の凸部は、断面形状が略三角形状であり、しかも、下地
層１０Ｂの前記略三角形状の内角の和が１８０°未満と
され、被覆層１１Ｂの前記略三角形状の内角の和が１８
０°以上とされていることを特徴とするものである。こ
のように凸状下地層１０Ｂの略三角形状の内角の和が１
８０°未満であれば、たとえ被覆層１１Ｂの略三角形状
の内角の和が１８０°以上でも、被覆層１１Ｂの凸部傾
斜角は熱アニール時の傾斜角より急峻となる効果が得ら
れる。また、被覆層１１Ｂの内角の和が１８０°以上で
あれば略三角形状の傾斜面は上に凸となる。この場合、
反射層８が薄くてもクラック等が入りにくく表示不良の
解消や電極線とコンタクトが取りやすい効果が得られ
る。したがって、本構成を用いることで、特に反射層８
が薄い場合に反射率と生産性の向上の両立が図れる。(Embodiment 3) FIG. 6 is a sectional view showing the vicinity of an array substrate of a reflection type liquid crystal panel according to Embodiment 3.
In the third embodiment, the convex underlayer 10B and the covering layer 11B
Are substantially triangular in cross section, the sum of the interior angles of the substantially triangular shape of the underlayer 10B is less than 180 °, and the sum of the interior angles of the substantially triangular shape of the coating layer 11B is 18
The angle is set to 0 ° or more. Thus, the sum of the substantially triangular interior angles of the convex underlayer 10B is 1
When the angle is less than 80 °, even if the sum of the substantially triangular inner angles of the coating layer 11B is 180 ° or more, an effect is obtained that the inclination angle of the convex portion of the coating layer 11B is steeper than the inclination angle at the time of thermal annealing. If the sum of the inner angles of the coating layer 11B is 180 ° or more, the substantially triangular inclined surface becomes upwardly convex. in this case,
Even if the reflective layer 8 is thin, cracks and the like are hardly generated and an effect of eliminating display defects and making it easy to make contact with an electrode wire can be obtained. Therefore, by using this configuration, the reflection layer 8
When the thickness is thin, both the reflectance and the productivity can be improved.
【００６７】（実施の形態４）図７は実施の形態４に係
る反射型液晶パネルのアレイ基板付近の断面図である。
本実施の形態４では、凸状下地層１０Ｃ及び被覆層１１
Ｃの凸部は、共に断面形状が略三角形状であり、しか
も、凸状下地層１０Ｃの前記略三角形状の内角の和及び
被覆層１１Ｃの略三角形状の内角の和が共に１８０°未
満とされていることを特徴とするものである。このよう
に略三角形状の内角の和が共に１８０°未満であれば、
反射層８を形成した後の反射層８の凸部が急峻となる効
果が得られる。また、被覆層１１Ｃの凸部傾斜面が下に
抉れた構造であるため、反射層８が厚い場合でも最終の
反射層８の凸部形状が急峻になる効果が得られる。(Embodiment 4) FIG. 7 is a sectional view showing the vicinity of an array substrate of a reflection type liquid crystal panel according to Embodiment 4.
In the fourth embodiment, the convex underlayer 10C and the coating layer 11
Each of the convex portions C has a substantially triangular cross-sectional shape, and the sum of the substantially triangular interior angles of the convex underlying layer 10C and the sum of the substantially triangular interior angles of the coating layer 11C are both less than 180 °. It is characterized by having been done. If the sum of the substantially triangular inner angles is less than 180 °,
The effect that the convex portion of the reflective layer 8 after forming the reflective layer 8 becomes steep is obtained. In addition, since the convex inclined surface of the coating layer 11C is recessed downward, the final convex shape of the reflective layer 8 can be steep even when the reflective layer 8 is thick.
【００６８】（実施の形態５）図８は実施の形態５に係
る反射型液晶パネルのアレイ基板付近の断面図である。
本実施の形態５では、凸状下地層１０Ｄは、断面形状が
略台形形状であり、しかも略台形形状の内角２２Ａ，２
２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｄの和が３６０°未満であることを
特徴とするものである。このように凸状下地層１０Ｄの
断面形状が略台形形状で内角の和が３６０°未満であれ
ば、略台形の傾斜面は内に抉れた形状となる。このため
被覆層１１Ｄで凸状下地層１０Ｄを被覆し、更に被覆層
１１Ｄを光反射層８で被覆すると、最終の光反射層８の
凸部傾斜面が急峻となる効果が得られる。また、凸状下
地層１０Ｄの断面を略台形形状とすると、台形の上面に
被覆層１１Ｄが乗載された形状となるため構造の安定性
が向上し、凸形状を均一に作れる効果がある。(Embodiment 5) FIG. 8 is a sectional view showing the vicinity of an array substrate of a reflection type liquid crystal panel according to Embodiment 5.
In the fifth embodiment, the convex base layer 10D has a substantially trapezoidal cross-sectional shape, and moreover, the interior angles 22A, 2 of the substantially trapezoidal shape.
The sum of 2B, 22C and 22D is less than 360 °. As described above, when the cross-sectional shape of the convex underlying layer 10D is substantially trapezoidal and the sum of the internal angles is less than 360 °, the substantially trapezoidal inclined surface has a hollow shape. Therefore, when the convex underlayer 10D is covered with the covering layer 11D and the covering layer 11D is further covered with the light reflecting layer 8, the effect that the final inclined surface of the light reflecting layer 8 becomes steep is obtained. Further, when the cross section of the convex base layer 10D is substantially trapezoidal, the covering layer 11D is mounted on the upper surface of the trapezoid, so that the stability of the structure is improved and there is an effect that the convex shape can be formed uniformly.
【００６９】なお、本実施の形態５では、被覆層１１Ｄ
の断面形状は、特に限定されるものではなく、図８に示
すように内角の和が１８０°以上の略三角形状であって
もよく、また、内角の和が１８０°未満の略三角形状で
あってもよい。In the fifth embodiment, the coating layer 11D
The cross-sectional shape of is not particularly limited, and may be a substantially triangular shape having a sum of internal angles of 180 ° or more as shown in FIG. 8, or a substantially triangular shape having a sum of internal angles of less than 180 °. There may be.
【００７０】（実施の形態６）実施の形態６は実施の形
態５に類似する。但し、実施の形態６では、被覆層が略
三角形状とされ、且つ略三角形状の内角の和が１８０°
以上であることを特徴とする。このとき、実施の形態３
と同様の理由で反射層が薄くてもクラック等が入りにく
く表示不良の解消や電極線とコンタクトが取りやすい効
果が得られる。したがって、本構成を用いることで、特
に反射層が薄い場合に反射率と生産性の向上の両立が図
れる。(Sixth Embodiment) A sixth embodiment is similar to the fifth embodiment. However, in the sixth embodiment, the covering layer has a substantially triangular shape, and the sum of the inner angles of the substantially triangular shape is 180 °.
It is characterized by the above. At this time, the third embodiment
For the same reason as described above, even if the reflection layer is thin, cracks and the like are hardly generated, and the effect of eliminating display defects and making it easy to make contact with the electrode wire can be obtained. Therefore, by using this configuration, it is possible to improve both the reflectance and the productivity particularly when the reflective layer is thin.
【００７１】（実施の形態７）図９は実施の形態７に係
る反射型液晶パネルのアレイ基板付近の断面図である。
本実施の形態７は、凸状下地層１１Ｅの断面形状が略台
形形状であり、しかも略台形形状の内角の和が３６０°
未満とされており、被覆層１１Ｅの凸部の断面形状が略
三角形状であり、しかも、略三角形状の内角の和が１８
０°未満であることを特徴とするものである。このよう
に、被覆層１１Ｅの略三角形状の内角の和を１８０°未
満とすることで、上記実施の形態４と同様の理由で、凸
部を更に急峻とする効果が得られる。また、反射層８が
厚い場合でも凸部の形状が急峻になる効果が得られる。(Embodiment 7) FIG. 9 is a sectional view showing the vicinity of an array substrate of a reflection type liquid crystal panel according to Embodiment 7.
In the seventh embodiment, the cross-sectional shape of the convex underlayer 11E is substantially trapezoidal, and the sum of the internal angles of the substantially trapezoidal shape is 360 °.
And the cross-sectional shape of the protrusion of the coating layer 11E is substantially triangular, and the sum of the interior angles of the substantially triangular shape is 18
It is characterized by being less than 0 °. Thus, by making the sum of the substantially triangular interior angles of the coating layer 11E less than 180 °, the effect of making the protrusions steeper can be obtained for the same reason as in the fourth embodiment. Further, even when the reflective layer 8 is thick, an effect that the shape of the convex portion becomes steep can be obtained.
【００７２】（実施の形態８）実施の形態８に係る液晶
表示パネルでは、凸状下地層を構成する感光性高分子
と、被覆層を構成する感光性高分子の残膜厚特性が異な
ることを特徴とするものである。ここで、残膜厚特性と
は、露光された感光性高分子膜を現像処理したとき、現
像経過時間における膜厚の時間変化特性（残膜厚率）を
意味する。このような残膜厚特性が異なる２つの感光性
高分子を用いることにより、凸部の形状を容易に制御す
ることが可能となる。この結果、光反射層の凸部傾斜面
を急峻にすることができ、液晶表示パネルの反射率特性
を向上することができる。(Eighth Embodiment) In the liquid crystal display panel according to the eighth embodiment, the photosensitive polymer constituting the convex underlayer and the photosensitive polymer constituting the covering layer have different residual film thickness characteristics. It is characterized by the following. Here, the remaining film thickness characteristic means a time-change characteristic (remaining film thickness ratio) of the film thickness during the development elapsed time when the exposed photosensitive polymer film is subjected to the development processing. By using two photosensitive polymers having different residual film thickness characteristics, the shape of the convex portion can be easily controlled. As a result, the convex inclined surface of the light reflecting layer can be made steep, and the reflectance characteristics of the liquid crystal display panel can be improved.
【００７３】以下に、残膜厚特性が異なる２つの感光性
高分子を用いることにより、凸部の形状を容易に制御す
ることができる理由について説明する。The reason why the shape of the projection can be easily controlled by using two photosensitive polymers having different residual film thickness characteristics will be described below.
【００７４】図１０は凸状下地層を構成する感光性高分
子（以下、第１の感光性高分子と称する）と、被覆層を
構成する感光性高分子（以下、第２の感光性高分子と称
する）のそれぞれの露光後の現像経過時間ｔにおける膜
厚ｄの時間変化特性（残膜厚率）を示すグラフである。
図１０において、曲線Ｌ１は露光後の現像経過時間ｔに
おける第１の感光性高分子の膜厚ｄ１の時間変化特性ｄ
１（ｔ）を示し、曲線Ｌ２は第２の感光性高分子の膜厚
ｄ２の時間変化特性ｄ２（ｔ）を示す。従って、同一の
現像経過時間ｔにおいて、ｄ１（ｔ）＜ｄ２（ｔ）が成
り立つことで、現像後の高分子積層構造体２７は図１１
に示すように第１の感光性高分子層２５と第２の感光性
高分子層２６との積層境界部にくびれ部２８を有する茸
状の構造となる。これは、フォトマスクのエッジからの
回折光による露光の回り込みを考えた場合、第１の感光
性高分子のエッチングレートが第２の感光性高分子より
速いために第１の感光性高分子層２５の細りが速くな
り、結果として第１の感光性高分子層２５と第２の感光
性高分子層２６との境界部にくびれ部２８が発生するた
めである。FIG. 10 shows a photosensitive polymer (hereinafter, referred to as a first photosensitive polymer) constituting the convex underlayer and a photosensitive polymer (hereinafter, referred to as the second photosensitive polymer) constituting the coating layer. 6 is a graph showing the time-dependent characteristics (remaining film thickness ratio) of the film thickness d at the development elapsed time t after exposure of each of the molecules (referred to as molecules).
In FIG. 10, a curve L1 is a time change characteristic d of the film thickness d1 of the first photosensitive polymer at the development elapsed time t after the exposure.
1 (t), and a curve L2 indicates a time change characteristic d2 (t) of the film thickness d2 of the second photosensitive polymer. Therefore, when d1 (t) <d2 (t) is satisfied at the same development elapsed time t, the polymer laminated structure 27 after development is
As shown in (1), a mushroom-shaped structure having a constricted portion 28 at the lamination boundary between the first photosensitive polymer layer 25 and the second photosensitive polymer layer 26 is obtained. This is because the first photosensitive polymer has an etching rate faster than that of the second photosensitive polymer when considering the exposure wraparound due to the diffracted light from the edge of the photomask. This is because the narrowing of the film 25 becomes faster, and as a result, a constricted portion 28 is generated at the boundary between the first photosensitive polymer layer 25 and the second photosensitive polymer layer 26.
【００７５】そして、このようなくびれ部２８を有する
ことにより、アニール処理されると、第２の感光性高分
子が熱溶融されてくびれ部２８を覆うように第１の感光
性高分子を被覆する。このとき、くびれ部２８の大きさ
（即ち、くびれ部２８の湾曲状態）及び第２の感光性高
分子層２６の厚みに対応して第２の感光性高分子の傾斜
角度が決定される。例えば、くびれ部２８が大きい場
合、第２の感光性高分子の傾斜角度は大きくなる。ま
た、くびれ部２８の大きさが同一の場合には、第２の感
光性高分子層２６の厚みが大きいと、第２の感光性高分
子の傾斜角度は小さくなる。従って、くびれ部２８の大
きさ及び第２の感光性高分子層２６の厚みを適宜選択す
れば、第２の感光性高分子の凸部傾斜角度を希望するも
のととすることができ、この結果、光反射性層の凸部形
状を制御することが可能となる。By providing such a constricted portion 28, when the annealing process is performed, the second photosensitive polymer is thermally melted and coated with the first photosensitive polymer so as to cover the constricted portion 28. I do. At this time, the inclination angle of the second photosensitive polymer is determined according to the size of the constricted portion 28 (that is, the curved state of the constricted portion 28) and the thickness of the second photosensitive polymer layer 26. For example, when the constriction 28 is large, the inclination angle of the second photosensitive polymer becomes large. When the size of the constricted portion 28 is the same, if the thickness of the second photosensitive polymer layer 26 is large, the inclination angle of the second photosensitive polymer becomes small. Accordingly, if the size of the constricted portion 28 and the thickness of the second photosensitive polymer layer 26 are appropriately selected, the inclination angle of the convex portion of the second photosensitive polymer can be made desired. As a result, it is possible to control the shape of the convex portion of the light reflective layer.
【００７６】ここで、第１の感光性高分子としてはＯＦ
ＰＲ−８００（商品名：東京応化工業（株）製）、第２
の感光性高分子としてはＴＳＭＲ−８７００（商品名：
東京応化工業（株）製）が例示される。Here, the first photosensitive polymer is OF
PR-800 (trade name: manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.), 2nd
TSMR-8700 (trade name:
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.).
【００７７】なお、残膜厚特性が異なる２つの感光性高
分子を用いて具体的に液晶表示パネル（主として反射層
を有するアレイ基板）を作製するに当たっては、後述す
る実施の形態１０，１１の製造方法を用いればよい。A specific liquid crystal display panel (mainly an array substrate having a reflective layer) using two photosensitive polymers having different residual film thickness characteristics will be described in Embodiments 10 and 11 described later. A manufacturing method may be used.
【００７８】（実施の形態９）実施の形態９に係る液晶
表示パネルでは、凸状下地層を構成する感光性高分子の
γ値と、被覆層を構成する感光性高分子のγ値とが異な
ることを特徴とするものである。ここで、γ値とは、光
照射量変化に対する溶解度変化の大きさを表す量であ
り、露光量の対数表示を横軸、溶解残膜量を縦軸に取っ
たときに、特性を示す直線部とｘ軸が交わる角度をαと
したときのｔａｎ（α）で定義される。このようなγ値
が異なる２つの感光性高分子を用いることにより、凸部
の形状を容易に制御することが可能となる。この結果、
光反射層の凸部傾斜面を急峻にすることができ、液晶表
示パネルの反射率特性を向上することができる。(Embodiment 9) In the liquid crystal display panel according to Embodiment 9, the γ value of the photosensitive polymer constituting the convex underlayer and the γ value of the photosensitive polymer constituting the covering layer are different. It is characterized by being different. Here, the γ value is a quantity representing the magnitude of the change in solubility with respect to the change in the amount of light irradiation, and the horizontal axis represents the logarithmic representation of the exposure amount, and the vertical axis represents the amount of the remaining dissolved film. It is defined by tan (α) when the angle at which the part intersects the x-axis is α. By using such two photosensitive polymers having different γ values, the shape of the convex portion can be easily controlled. As a result,
The slope of the convex portion of the light reflection layer can be made steep, and the reflectance characteristics of the liquid crystal display panel can be improved.
【００７９】以下に、γ値が異なる２つの感光性高分子
を用いることにより、凸部の形状を容易に制御すること
ができる理由について説明する。The reason why the shape of the projection can be easily controlled by using two photosensitive polymers having different γ values will be described below.
【００８０】図１２は凸状下地層を構成する感光性高分
子（以下、第１の感光性高分子と称する）及び被覆層を
構成する感光性高分子（以下、第２の感光性高分子と称
する）のそれぞれのγ値を示すグラフである。図１２に
おいて、曲線Ｌ３は第１の感光性高分子のγ値であるγ
１を示し、曲線Ｌ４は第２の感光性高分子のγ値である
γ２を示す。従って、γ１＜γ２が成り立ち、これによ
り現像時に第１の感光性高分子が第２の感光性高分子よ
り多くエッチングされ、現像後の高分子積層構造体２７
は図１１に示すように第１の感光性高分子層２５と第２
の感光性高分子層２６との積層境界部にくびれ部２８を
有する茸状の構造となる。FIG. 12 shows a photosensitive polymer (hereinafter referred to as a first photosensitive polymer) constituting the convex underlayer and a photosensitive polymer (hereinafter referred to as the second photosensitive polymer) constituting the coating layer. FIG. 6 is a graph showing the respective γ values. In FIG. 12, a curve L3 is γ, which is the γ value of the first photosensitive polymer.
1 and curve L4 indicates γ2, which is the γ value of the second photosensitive polymer. Accordingly, γ1 <γ2 is satisfied, whereby the first photosensitive polymer is etched more than the second photosensitive polymer at the time of development, and the polymer laminated structure 27 after the development is developed.
Represents the first photosensitive polymer layer 25 and the second photosensitive polymer layer 25 as shown in FIG.
A mushroom-shaped structure having a constricted portion 28 at the boundary of lamination with the photosensitive polymer layer 26 of FIG.
【００８１】そして、このようなくびれ部２８を有する
ことにより、アニール処理されると、第１及び第２の感
光性高分子が溶解することでくびれ部２８が消滅し急峻
な傾斜面を有する凸部が形成される。第１の感光性高分
子としてはＯＦＰＲ−８００（商品名：東京応化工業
（株）製）第２の感光性高分子としては、ＴＳＭＲ−８
７００（商品名：東京応化工業（株）製）が例示され
る。When the annealing process is performed by having the constricted portion 28, the constricted portion 28 disappears due to the dissolution of the first and second photosensitive polymers, and the convex portion having the steep slope is formed. A part is formed. OFPR-800 (trade name: manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) as the first photosensitive polymer, and TSMR-8 as the second photosensitive polymer.
700 (trade name: manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.).
【００８２】なお、γ値が異なる２つの感光性高分子を
用いて具体的に液晶表示パネル（主として反射層を有す
るアレイ基板）を作製するに当たっては、後述する実施
の形態１０，１１の製造方法を用いればよい。Note that, when specifically manufacturing a liquid crystal display panel (mainly an array substrate having a reflective layer) using two photosensitive polymers having different γ values, a method for manufacturing the later-described embodiments 10 and 11 will be described. May be used.
【００８３】（実施の形態１０）図１３は本発明に係る
反射型液晶表示パネルの製造工程を示す断面である。な
お、図１３は本発明の主たる特徴をなすアレイ基板側に
ついての製造方法を示したものであり、その他の製造工
程は通常の液晶表示パネルの製造工程と同様である。こ
の点に関しては、後述する実施の形態１１〜１３につい
ても同様であり、アレイ基板側についての製造方法につ
いてのみ説明している。(Embodiment 10) FIG. 13 is a cross section showing a manufacturing process of a reflection type liquid crystal display panel according to the present invention. FIG. 13 shows a manufacturing method on the array substrate side, which is a main feature of the present invention, and the other manufacturing steps are the same as those of a normal liquid crystal display panel. In this regard, the same applies to Embodiments 11 to 13 described later, and only the manufacturing method on the array substrate side is described.
【００８４】以下、図１３を参照して、本実施の形態１
０に係る製造方法について説明する。Referring to FIG. 13, the present embodiment 1
0 will be described.
【００８５】先ず、図１３（ａ）に示すように、ガラス
基板３０上に第１の感光性高分子膜３１と第２の感光性
高分子膜３２をスピナー塗布により積層して形成した。
次いで、図１３（ｂ）に示すように遮光部３３ａと透光
部３３ｂとが所定マスクパターンに形成されたフォトマ
スク３３を用いて露光処理を行い、次いで現像処理を行
う。このとき、第１の感光性高分子膜３１のエッチング
レートを第２の感光性高分子膜３２より大きくした。First, as shown in FIG. 13A, a first photosensitive polymer film 31 and a second photosensitive polymer film 32 were laminated on a glass substrate 30 by spinner coating.
Next, as shown in FIG. 13B, an exposure process is performed using a photomask 33 in which a light-shielding portion 33a and a light-transmitting portion 33b are formed in a predetermined mask pattern, and then a development process is performed. At this time, the etching rate of the first photosensitive polymer film 31 was set higher than that of the second photosensitive polymer film 32.
【００８６】なお、第１の感光性高分子膜３１と第２の
感光性高分子膜３２のエッチングレートを変える具体的
方法としては、例えば上記実施の形態８で述べた残膜厚
特性がｄ１（ｔ）＜ｄ２（ｔ）を満たす感光性高分子材
料（但し、ｄ１（ｔ）は第１の感光性高分子膜３１の残
膜厚特性であり、ｄ２（ｔ）は第２の感光性高分子膜３
２の残膜厚特性である。）を使用する。あるいは、上記
実施の形態９で述べたγ値がγ１＜γ２を満たす感光性
高分子材料（但し、γ１は第１の感光性高分子膜３１の
γ値であり、γ２は第２の感光性高分子膜３２のγ値で
ある。）を使用する。As a specific method for changing the etching rates of the first photosensitive polymer film 31 and the second photosensitive polymer film 32, for example, the remaining film thickness characteristic described in the eighth embodiment is d1 (T) <a photosensitive polymer material satisfying d2 (t) (where d1 (t) is a remaining film thickness characteristic of the first photosensitive polymer film 31 and d2 (t) is a second photosensitive polymer material) Polymer film 3
2 is the remaining film thickness characteristic. ). Alternatively, the photosensitive polymer material in which the γ value described in the ninth embodiment satisfies γ1 <γ2 (where γ1 is the γ value of the first photosensitive polymer film 31 and γ2 is the second photosensitive polymer film) Γ value of the polymer film 32).
【００８７】こうして、第１の感光性高分子膜３１のエ
ッチングレートを第２の感光性高分子膜３２より大きく
すると、フォトマスク３３からの回折光の回り込みによ
り、第１の感光性高分子膜３１は図１３（ｃ）の上端に
向かうにつれて先細状の第１の高分子３４となり、第２
の感光性高分子膜３２はほぼマスクパターンと同形の第
２の高分子３５に加工される。その結果、図１３（ｃ）
に示すように、断面の両側にくびれ部３６を有する構造
体３７が形成される。When the etching rate of the first photosensitive polymer film 31 is set higher than that of the second photosensitive polymer film 32, diffracted light from the photomask 33 wraps around the first photosensitive polymer film 31. The first polymer 31 becomes a tapered first polymer 34 toward the upper end of FIG.
Is processed into a second polymer 35 having substantially the same shape as the mask pattern. As a result, FIG.
As shown in FIG. 7, a structure 37 having constrictions 36 on both sides of the cross section is formed.
【００８８】次いで、構造体３７に対してアニール処理
を行うと、第１の高分子３４及び第２の高分子３５が溶
解し、第２の高分子３５の熱ダレでくびれ部が解消し、
基板上に頂点を有する凸部３８（凹凸構造体に相当）が
形成される（図１３（ｄ））。次いで、凸部３８表面を
覆うように金属薄膜を蒸着等することにより凹凸状反射
層８が形成される。Next, when the structure 37 is subjected to an annealing treatment, the first polymer 34 and the second polymer 35 are dissolved, and the neck portion is eliminated by heat dripping of the second polymer 35.
A convex portion 38 having an apex (corresponding to an uneven structure) is formed on the substrate (FIG. 13D). Next, the uneven reflection layer 8 is formed by evaporating a metal thin film or the like so as to cover the surface of the projection 38.
【００８９】こうして、第１と第２の感光性高分子膜の
境界にくびれ部を有する形状を形成した後、アニール処
理でくびれ部を解消することで、第２の感光性高分子膜
が第１の感光性高分子膜を完全に覆う形状となる。この
とき、通常のくびれ部を有しない高分子膜にアニール処
理を行う場合に比べ、くびれ部に第２の高分子が流れ込
む分、傾斜面がより急峻となる効果が得られる。After forming a shape having a constricted portion at the boundary between the first and second photosensitive polymer films in this manner, the constricted portion is eliminated by annealing, whereby the second photosensitive polymer film is formed on the second photosensitive polymer film. 1 is a shape that completely covers the photosensitive polymer film. At this time, as compared with the case where the annealing treatment is performed on a polymer film having no normal constricted portion, an effect that the inclined surface becomes steeper as much as the second polymer flows into the constricted portion can be obtained.
【００９０】なお、上記の例では、隣り合う凸部３８間
に平坦部が生じているが、これは例えば透光部３３ｂの
間隔が狭いマスクパターンのフォトマスク３３を使用す
れば、第２の高分子３５がアニール処理で溶融した際
に、基板上で隣り合う第２の高分子３５の溶融部分が接
触するため、平坦部のない形状が形成され得る。In the above example, a flat portion is formed between the adjacent convex portions 38. This is because, for example, if a photomask 33 of a mask pattern in which the distance between the light transmitting portions 33b is small is used, the second portion is formed. When the polymer 35 is melted by the annealing process, the melted portions of the adjacent second polymer 35 on the substrate come into contact with each other, so that a shape without a flat portion can be formed.
【００９１】（実施の形態１１）実施の形態１１におけ
る反射型液晶表示パネルの製造方法は、上記実施の形態
１０に係る製造方法と基本的には同様である。但し、実
施の形態１０ではフォトマスク３３を用いたけれども、
本実施の形態１１ではフォトマスク３３に代えて中間調
フォトマスクを用いる点において相違する。中間調フォ
トマスクの一例を図１４（ａ），（ｂ）に示す。この中
間調フォトマスク４０は、透明なマスク基板４１と、マ
スク基板４１上に所定幅で形成された複数（本実施の形
態では７つ）の金属膜４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｂ’，４２
Ｃ，４２Ｃ’，４２Ｄ，４２Ｄ’から構成されている。
この金属膜４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｂ’，４２Ｃ，４２
Ｃ’，４２Ｄ，４２Ｄ’は、半透過膜である。金属膜４
２Ｂと金属膜４２Ｂ’とは厚みが同一であり、金属膜４
２Ｃと金属膜４２Ｃ’とは厚みが同一であり、金属膜４
２Ｄと金属膜４２Ｄ’とは厚みが同一であり、更に、金
属膜４２Ａと、金属膜４２Ｂ，４２Ｂ’と、金属膜４２
Ｃ，４２Ｃ’と、金属膜４２Ｄ，４２Ｄ’とは、この順
序で厚みが大きく形成されている。このような中間調フ
ォトマスク４０を用いると、露光場所の透過光強度を厳
密に制御できるため実施の形態１０で示したフォトマス
ク端からの回折光による露光と同様の効果をさらに精度
良く行うことができる。その結果、図１４（ｃ）に示す
ように凸部３８の凸部の形状制御がさらに容易になり反
射率の向上が図れる。このため、中間調フォトマスクに
より特に残膜特性が異なる高分子膜を積層した場合の形
状制御が容易になる効果が得られる。(Embodiment 11) The manufacturing method of the reflective liquid crystal display panel in Embodiment 11 is basically the same as the manufacturing method in Embodiment 10 described above. However, although the photomask 33 is used in the tenth embodiment,
Embodiment 11 is different from Embodiment 11 in that a halftone photomask is used instead of the photomask 33. FIGS. 14A and 14B show an example of a halftone photomask. The halftone photomask 40 includes a transparent mask substrate 41 and a plurality of (seven in this embodiment) metal films 42A, 42B, 42B ′, 42 formed with a predetermined width on the mask substrate 41.
C, 42C ', 42D, and 42D'.
The metal films 42A, 42B, 42B ', 42C, 42
C ', 42D, and 42D' are semi-permeable membranes. Metal film 4
2B and the metal film 42B 'have the same thickness,
2C and the metal film 42C 'have the same thickness,
2D and the metal film 42D 'have the same thickness, and further have a metal film 42A, metal films 42B and 42B', and a metal film 42D '.
C, 42C 'and metal films 42D, 42D' are formed to have a large thickness in this order. When such a halftone photomask 40 is used, the intensity of transmitted light at the exposure location can be strictly controlled, so that the same effect as the exposure by the diffracted light from the photomask edge described in Embodiment 10 can be performed more accurately. Can be. As a result, as shown in FIG. 14C, control of the shape of the projection 38 is further facilitated, and the reflectance can be improved. For this reason, the effect that the shape control becomes easy especially when polymer films having different residual film characteristics are laminated by the halftone photomask is obtained.
【００９２】なお、中間調フォトマスクは、図１４に示
す構成に限定されるものではなく、金属膜の個数、幅、
厚みを調整することにより、透過率の調整が可能であ
り、凸部の形状に応じて透過率調整のなされた中間調フ
ォトマスクを使用すればよい。Incidentally, the halftone photomask is not limited to the configuration shown in FIG.
The transmittance can be adjusted by adjusting the thickness, and a halftone photomask in which the transmittance is adjusted according to the shape of the convex portion may be used.
【００９３】（実施の形態１２）図１５は実施の形態１
２に係る液晶表示パネルの製造方法の工程を示す断面図
である。本実施の形態１２に係る液晶表示パネルは、反
射層が鋸刃形状に形成されていることを特徴とするもの
である。このような鋸刃形状反射層の場合、反射光の指
向性に非対称性が付与される。従って、例えば液晶表示
パネルの使用時における特定の観察方向を考慮し、当該
特定の観察方向での視認性が向上した液晶表示パネルと
して用いることができる。(Embodiment 12) FIG. 15 shows Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a step of the method for manufacturing the liquid crystal display panel according to No. 2 The liquid crystal display panel according to the twelfth embodiment is characterized in that the reflection layer is formed in a saw blade shape. In the case of such a saw-shaped reflection layer, asymmetry is given to the directivity of reflected light. Therefore, for example, in consideration of a specific observation direction when the liquid crystal display panel is used, the liquid crystal display panel can be used as a liquid crystal display panel with improved visibility in the specific observation direction.
【００９４】上記構成の液晶表示パネルの製造方法は、
基本的には実施の形態１０の製造方法と同様である。但
し、実施の形態１０ではフォトマスクに対して垂直な光
で露光した（図１３（ｂ））けれども、本実施の形態１
２ではマスク露光を斜めから行うようにした（図１５
（ｂ））ことが相違する。このような斜め露光により、
断面の両側に非対称なくびれ部５０ａ，５０ｂが形成さ
れた。このとき、紫外線露光時の紫外線の入射側に形成
されるくびれ部５０ａが、反対側のくびれ部５０ｂより
大きく形成された（図１５（ｃ））。さらにアニール処
理によりくびれ部５０ａ，５０ｂを解消することで、基
板３０上に鋸刃形状の凸部５５を形成された（図１５
（ｄ））。このように一度の露光・現像処理で鋸刃形状
の凹凸構造が形成され、生産性が向上した。また、凹凸
構造を鋸刃とすることで反射光の指向性に非対称性が付
与され、視認方向を踏まえて反射特性の最適化を図るこ
とができる。The method for manufacturing the liquid crystal display panel having the above structure is as follows.
Basically, it is the same as the manufacturing method of the tenth embodiment. However, in the tenth embodiment, exposure was performed with light perpendicular to the photomask (FIG. 13B).
In FIG. 2, mask exposure is performed obliquely (see FIG. 15).
(B)) is different. By such oblique exposure,
Asymmetrical constrictions 50a and 50b were formed on both sides of the cross section. At this time, the constricted portion 50a formed on the incident side of the ultraviolet light during the ultraviolet exposure was formed larger than the constricted portion 50b on the opposite side (FIG. 15C). Further, by removing the constricted portions 50a and 50b by annealing, a protruded portion 55 having a saw blade shape was formed on the substrate 30 (FIG. 15).
(D)). As described above, a saw-tooth-shaped uneven structure was formed by one exposure and development process, and the productivity was improved. In addition, by using a saw blade as the concave / convex structure, the directivity of the reflected light is given asymmetry, and the reflection characteristics can be optimized based on the viewing direction.
【００９５】（実施の形態１３）実施の形態１２とほぼ
同様な製造方法で、フォトマスクを図１４に示したよう
な中間調フォトマスクとした。中間調フォトマスクとす
ることで露光量に非対称性が付与された。このため正面
から露光してもくびれ部が発生し、アニール後に鋸刃形
状が形成された。このように中間調フォトマスクを用い
ることで、一度の正面露光で鋸刃形状の作成が可能とな
り、生産設備の簡素化や生産性の向上が図れた。(Thirteenth Embodiment) A halftone photomask as shown in FIG. 14 was used as a photomask by a manufacturing method substantially similar to that of the twelfth embodiment. By using a halftone photomask, asymmetry was imparted to the exposure amount. For this reason, even when exposed from the front, a constricted portion was generated, and a saw blade shape was formed after annealing. By using a halftone photomask in this manner, a saw blade shape can be created by one-time front exposure, and production equipment can be simplified and productivity can be improved.
【００９６】[0096]
【実施例】本発明の内容を、以下の実施例に基づき更に
具体的に説明する。EXAMPLES The contents of the present invention will be described more specifically based on the following examples.
【００９７】（実施例１）図１６は実施例１に係る液晶
表示パネルのアレイ側基板の製造方法を示す図である。
この実施例１は、実施の形態２に対応するものである。
以下、図１６を参照して、液晶表示パネルの製造方法を
説明する。Example 1 FIG. 16 is a view showing a method for manufacturing an array-side substrate of a liquid crystal display panel according to Example 1.
The first embodiment corresponds to the second embodiment.
Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display panel will be described with reference to FIG.
【００９８】ＴＦＴ２や金属配線（図示せず）が形成さ
れたアレイ基板３上に平坦化層６を形成し、次いで、平
坦化層６上にネガ型レジスト（ＳＣ−１００、富士フィ
ルムオーリン社製）に黒色色素を０.５％含有させた黒
色レジストを膜厚３μｍで塗布した。次にフォトマスク
を用いて紫外線露光と現像処理を行い、図１６（ａ）に
示すような断面が逆台形形状のレジスト体７０を作製し
た。このような逆台形形状のレジスト体７０が得られる
のは、黒色色素を含有した黒色レジストは紫外線を吸収
するため、紫外線照射時における黒色レジストの紫外線
強度が膜厚方向で減衰し、このため現像処理を行うと逆
台形形状の構造が形成されるからである。A flattening layer 6 is formed on the array substrate 3 on which the TFTs 2 and metal wirings (not shown) are formed, and a negative resist (SC-100, manufactured by Fuji Film Ohlin Co., Ltd.) is formed on the flattening layer 6. ) Was coated with a black resist containing 0.5% of a black dye at a film thickness of 3 μm. Next, ultraviolet exposure and development were performed using a photomask to produce a resist body 70 having an inverted trapezoidal cross section as shown in FIG. Such an inverted trapezoidal resist body 70 is obtained because a black resist containing a black dye absorbs ultraviolet rays, so that the ultraviolet intensity of the black resist at the time of irradiation with ultraviolet rays is attenuated in the film thickness direction. This is because when the processing is performed, an inverted trapezoidal structure is formed.
【００９９】次にアレイ基板３に２００℃/１ｈのアニ
ール処理を施し、逆台形形状のレジスト体７０を熱融解
させ図１６（ｂ）に示すような断面が略三角形状の凸状
下地層１０Ａを形成した。レジスト体７０が逆台形形状
であったため熱融解後のレジスト形状は、急峻な略三角
形状となった。略三角形状の内角の和は約１７０°であ
った。このような逆台形形状のレジスト体７０を熱融解
することで急峻な略三角形状が形成されるのは、以下の
理由による。即ち、現像後のレジスト断面が長方形、若
しくは正方形である通常のレジスト構造の場合、アニー
ル後も断面の底辺の長さはほぼ一定である。このため形
状は長方形、若しくは正方形の上辺の角がとれて丸みを
帯びた形状になる。一方、逆台形形状の場合、レジスト
構造の上部が大きいためアニール処理で上部が熱融解し
て下部の空領域が埋まる。このため、急峻な構造が得ら
れることになる。Next, the array substrate 3 is annealed at 200 ° C. for 1 hour to thermally melt the inverse trapezoidal resist body 70, thereby forming a convex underlayer 10A having a substantially triangular cross section as shown in FIG. Was formed. Since the resist body 70 had an inverted trapezoidal shape, the shape of the resist after thermal melting was a steep, substantially triangular shape. The sum of the interior angles of the substantially triangular shape was about 170 °. The steep substantially triangular shape is formed by thermally melting such an inverted trapezoidal resist body 70 for the following reason. That is, in the case of a normal resist structure having a rectangular or square resist cross section after development, the length of the bottom of the cross section is substantially constant even after annealing. For this reason, the shape becomes a rectangle or a rounded shape with the corners of the upper side removed. On the other hand, in the case of the inverted trapezoidal shape, the upper portion of the resist structure is large, so that the upper portion is thermally melted by annealing, and the lower empty region is filled. Therefore, a steep structure can be obtained.
【０１００】次に、ネガ型レジストを再度塗布して、被
覆層１１Ａを形成し、平坦な部位をなくした（図１６
（ｃ））。次いで、被覆層１１Ａの上面にアルミを蒸着
して反射層８を形成してアレイ側基板を作製した（図１
６（ｄ））。Next, a negative resist was applied again to form a coating layer 11A, and a flat portion was eliminated (FIG. 16).
(C)). Next, aluminum was vapor-deposited on the upper surface of the coating layer 11A to form a reflective layer 8, thereby producing an array-side substrate (FIG. 1).
6 (d)).
【０１０１】上記方法で作製された液晶表示パネルは、
凸状下地層１０Ａの略三角形状断面の両側辺の傾斜が急
峻な構造であるため、アルミを蒸着した反射層も急峻な
構造が得られて反射率が向上した。本実施例１の液晶表
示パネルの反射率を測定したところ、３８％であった。The liquid crystal display panel manufactured by the above method is as follows.
Since the slope of both sides of the substantially triangular cross-section of the convex underlayer 10A is steep, the reflection layer on which aluminum is deposited also has a steep structure, and the reflectance is improved. The reflectance of the liquid crystal display panel of Example 1 was measured, and was 38%.
【０１０２】上記例では、色素を含有したレジストで逆
台形形状を形成したが、これは、露光と現像処理後にレ
ジスト下部より上部の体積が大きい構造が作製できれば
同様の効果が得られる。例えば、逆三角形状でも良い。In the above example, the inverse trapezoidal shape was formed from a resist containing a dye, but the same effect can be obtained as long as a structure having a larger volume than the lower portion of the resist after exposure and development can be manufactured. For example, the shape may be an inverted triangle.
【０１０３】これらの構造が得られる材料として、例え
ば、リフトオフ法に用いられるレジスト材料を用いても
良い。また、ＯＡＰ（溶液）処理時間を変えてサイドエ
ッチ量を変化させても、上部が大きい構造が形成され、
例えば、ＯＦＰＲ−８００（東京応化工業（株））等を
用いることができる。As a material from which these structures can be obtained, for example, a resist material used in a lift-off method may be used. Also, even if the amount of side etching is changed by changing the OAP (solution) processing time, a structure having a large upper portion is formed,
For example, OFPR-800 (Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) or the like can be used.
【０１０４】上記例では、ネガ型レジストを用いたが、
これはポジ型レジストでも良い。In the above example, a negative resist was used.
This may be a positive resist.
【０１０５】レジストの着色材料は、上記の黒色以外の
色でも良い。着色材料は露光波長での露光光の吸収度合
いと、膜厚方向での強度の減衰度合いを勘案して決定で
きる。The coloring material of the resist may be a color other than the above black. The coloring material can be determined in consideration of the degree of absorption of the exposure light at the exposure wavelength and the degree of attenuation of the intensity in the film thickness direction.
【０１０６】（実施例２）図１７は実施例２に係る液晶
表示パネルのアレイ側基板の製造方法を示す図である。
この実施例２は、実施の形態５に対応するものである。
以下、図１７を参照して、液晶表示パネルの製造方法を
説明する。(Embodiment 2) FIG. 17 is a view showing a method of manufacturing an array-side substrate of a liquid crystal display panel according to Embodiment 2.
The second embodiment corresponds to the fifth embodiment.
Hereinafter, a method for manufacturing a liquid crystal display panel will be described with reference to FIG.
【０１０７】先ず、図１７（ａ）に示すようにガラス基
板５０（アレイ基板３に相当）上にＴＦＴ素子２、平坦
化膜６等を形成した。次に、スピナーで第１の感光性高
分子膜５１としてＯＦＰＲ−８００（商品名：東京応化
工業（株）製）を膜厚２μｍ、及び第２の感光性高分子
膜５２としてＴＳＭＲ−８７００（商品名：東京応化工
業（株）製））を膜厚１.５μｍで積層した。ここで、
第１の感光性高分子膜５１は、現像後の膜減り量が第２
の感光性高分子膜５２より大きい特性を有する。First, as shown in FIG. 17A, a TFT element 2, a flattening film 6, and the like were formed on a glass substrate 50 (corresponding to the array substrate 3). Next, OFPR-800 (trade name: manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is used as a first photosensitive polymer film 51 with a film thickness of 2 μm using a spinner, and TSMR-8700 (as a second photosensitive polymer film 52) is used as a second photosensitive polymer film 52. (Trade name: manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.)) with a thickness of 1.5 μm. here,
The first photosensitive polymer film 51 has a film reduction amount after development of the second photosensitive polymer film 51.
Has a characteristic larger than that of the photosensitive polymer film 52.
【０１０８】次いで、図１７（ｂ）に示すようにフォト
マスク５３を用いてｇ線で露光を行った。次いで、現像
とリンスを行った。リンス後の基板には、現像時の高分
子膜の膜減り特性の違いで境界にくびれ部５４を有する
構造が形成されていた（図１７（ｃ））。このとき、第
１の感光性高分子膜５１から形成された第１の高分子５
５（凸状下地層に相当）は略台形形状で、内角の和は３
６０°未満となっていた。また、第２の感光性高分子膜
５２から形成された第２の高分子５６（被覆層に相当）
は、第１の高分子５５に乗る形で形成されていた。Next, as shown in FIG. 17B, g-line exposure was performed using a photomask 53. Next, development and rinsing were performed. On the substrate after rinsing, a structure having a constricted portion 54 at the boundary was formed due to the difference in film reduction characteristics of the polymer film during development (FIG. 17C). At this time, the first polymer 5 formed from the first photosensitive polymer film 51 is formed.
5 (corresponding to the convex underlayer) has a substantially trapezoidal shape, and the sum of the internal angles is 3
It was less than 60 °. Further, a second polymer 56 formed from the second photosensitive polymer film 52 (corresponding to a coating layer)
Was formed on the first polymer 55.
【０１０９】次に基板３に熱アニール処理を施すと、第
１の高分子５５と第２の高分子５６が共に融解した。特
に第２の高分子５６の融解によりくびれ部が消滅し、第
１の高分子５５を完全に覆う形状となることで、急峻な
凹凸形状が形成された。最後に第２の高分子５６の上面
にアルミ膜を蒸着し反射層８とした（図１７（ｄ））。Next, when the substrate 3 was subjected to a thermal annealing treatment, the first polymer 55 and the second polymer 56 were both melted. In particular, the narrow portion disappeared due to the melting of the second polymer 56, and the shape became completely covered with the first polymer 55, so that a steep unevenness was formed. Finally, an aluminum film was deposited on the upper surface of the second polymer 56 to form a reflective layer 8 (FIG. 17D).
【０１１０】感光性高分子膜の種類と膜厚は上記によら
ず、現像時の膜減り特性が異なる膜を積層することがで
きる。このとき、下部に位置する膜の膜減り特性を、上
部の膜より大きくすることで、現像後に境界にくびれ部
を有する構造が形成される。Regardless of the type and thickness of the photosensitive polymer film, films having different film reduction characteristics during development can be laminated. At this time, a structure having a constricted portion at the boundary after development is formed by making the film reduction characteristic of the film located at the lower part larger than that of the film at the upper part.
【０１１１】また、積層する膜の膜厚によっても熱アニ
ール後の形状が異なる。急峻な凹凸形状を形成するに
は、下部の膜の膜厚を上部より大きくするのが望まし
い。これは下部の膜の傾斜面が急峻に形成されても上部
の膜の体積が大きいと熱アニール時に上部の膜が融解し
たときに傾斜面がなだらかになるためである。Further, the shape after thermal annealing also differs depending on the thickness of the film to be laminated. In order to form a steep unevenness, it is desirable to make the thickness of the lower film larger than that of the upper film. This is because even if the inclined surface of the lower film is formed steeply, if the volume of the upper film is large, the inclined surface becomes gentle when the upper film is melted during thermal annealing.
【０１１２】（実施例３）図１８は実施例３に係る液晶
表示パネルのアレイ側基板の製造方法を示すこの実施例
３は、実施の形態５に係る液晶表示パネルの他の製造方
法を示すものである。以下、図１８を参照して、液晶表
示パネルの製造方法を説明する。(Embodiment 3) FIG. 18 shows a method for manufacturing an array-side substrate of a liquid crystal display panel according to Embodiment 3. Embodiment 3 shows another method for manufacturing a liquid crystal display panel according to Embodiment 5. Things. Hereinafter, a method for manufacturing a liquid crystal display panel will be described with reference to FIG.
【０１１３】先ず、アレイ基板５０上に平坦化膜６を形
成した後、ポジ型レジスト６０（商品名：ＯＦＰＲ−８
００、東京応化工業（株）製）を膜厚２μｍで塗布し
た。次にフォトマスク５３を介して紫外線を照射した。
このとき、開口部を透過する光以外に、フォトマスク５
３のエッジから回折光６１が発生した。このため遮光部
５３ｂに光が回り込み、現像処理後のレジスト形状が略
台形形状となった（図１８（ｂ））。次にレジストを再
度塗布して被覆層を形成した後、反射層８を形成してア
レイ側基板とした。First, after forming the flattening film 6 on the array substrate 50, the positive resist 60 (trade name: OFPR-8)
00, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) with a thickness of 2 μm. Next, ultraviolet light was irradiated through the photomask 53.
At this time, in addition to the light transmitted through the opening, the photomask 5
The diffraction light 61 was generated from the edge of No. 3. For this reason, light spilled into the light shielding portion 53b, and the resist shape after the development processing became substantially trapezoidal (FIG. 18B). Next, a resist was applied again to form a coating layer, and then a reflection layer 8 was formed to obtain an array-side substrate.
【０１１４】フォトマスク端部からの回折光を用いるこ
とで、レジスト形状にテーパーが発生した。このとき、
フォトマスク部の幅とレジストの厚みを調整すること
で、台形から三角形状まで連続的に形状を制御すること
ができる。このとき、フォトマスク部の両端から回折光
の回り込む幅が、両側合計でフォトマスク部の幅以上で
あればレジストはほぼ三角形状となる。The use of the diffracted light from the edge of the photomask caused a taper in the resist shape. At this time,
By adjusting the width of the photomask and the thickness of the resist, the shape can be continuously controlled from a trapezoid to a triangle. At this time, if the width of the diffracted light entering from both ends of the photomask portion is equal to or larger than the width of the photomask portion in total on both sides, the resist becomes substantially triangular.
【０１１５】（その他の事項）上記実施の形態及び実施
例では、液晶表示パネルについて説明したけれども、本
発明に係る反射板は液晶表示パネルの反射板に限らず、
その他の光学装置の反射板等に広く使用することができ
る。(Other Matters) In the above embodiments and examples, the liquid crystal display panel has been described. However, the reflector according to the present invention is not limited to the liquid crystal display panel.
It can be widely used for reflectors of other optical devices.
【０１１６】[0116]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、反射層の
凸部傾斜面を容易に従来例よりも急峻に形成することが
でき、正面から極角３０°程度の広い範囲に亘って高輝
度を保つことができる理想的な反射率特性を備えた反射
板を実現することができる。As described above, according to the present invention, the inclined surface of the convex portion of the reflection layer can be easily formed more steeply than in the conventional example, and can be formed over a wide range of about 30 ° in polar angle from the front. A reflector having ideal reflectance characteristics capable of maintaining high luminance can be realized.
【０１１７】更に、このような反射板を備えた反射型液
晶表示パネルでは、パネル反射率が向上し良好な表示が
得られる。Further, in the reflection type liquid crystal display panel provided with such a reflection plate, the panel reflectance is improved and a good display is obtained.
【図１】実施の形態１に係る反射型液晶表示パネルの断
面図である。FIG. 1 is a sectional view of a reflective liquid crystal display panel according to a first embodiment.
【図２】反射層の凸部傾斜面の拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a convex inclined surface of a reflective layer.
【図３】反射層の凸部傾斜面の関数形を示すグラフであ
る。FIG. 3 is a graph showing a function form of a convex inclined surface of a reflective layer.
【図４】従来例の液晶表示パネルの反射率特性及び理想
的反射率特性をそれぞれ示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a reflectance characteristic and an ideal reflectance characteristic of a conventional liquid crystal display panel, respectively.
【図５】実施の形態２に係る反射型液晶パネルのアレイ
基板付近の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the vicinity of an array substrate of the reflective liquid crystal panel according to the second embodiment.
【図６】実施の形態３に係る反射型液晶パネルのアレイ
基板付近の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of the vicinity of an array substrate of a reflective liquid crystal panel according to a third embodiment.
【図７】実施の形態４に係る反射型液晶パネルのアレイ
基板付近の断面図である。FIG. 7 is a sectional view of the vicinity of an array substrate of a reflective liquid crystal panel according to a fourth embodiment.
【図８】実施の形態５に係る反射型液晶パネルのアレイ
基板付近の断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing the vicinity of an array substrate of a reflective liquid crystal panel according to a fifth embodiment.
【図９】実施の形態７に係る反射型液晶パネルのアレイ
基板付近の断面図である。FIG. 9 is a sectional view showing the vicinity of an array substrate of a reflective liquid crystal panel according to a seventh embodiment.
【図１０】第１の感光性高分子と第２の感光性高分子の
それぞれの露光後の現像経過時間ｔにおける膜厚ｄの時
間変化特性（残膜厚率）を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing the time-dependent characteristics (remaining film thickness ratio) of the film thickness d of each of the first photosensitive polymer and the second photosensitive polymer during the development elapsed time t after exposure.
【図１１】現像後のくびれ部を有する状態を示す断面図
である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state having a constricted portion after development.
【図１２】第１の感光性高分子と第２の感光性高分子の
それぞれのγ値を示すグラフである。FIG. 12 is a graph showing γ values of a first photosensitive polymer and a second photosensitive polymer.
【図１３】実施の形態１０に係る反射型液晶表示パネル
の製造工程を示す断面である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the reflective liquid crystal display panel according to the tenth embodiment.
【図１４】中間調フォトマスク４０の拡大断面図であ
る。FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view of the halftone photomask 40.
【図１５】実施の形態１２に係る液晶表示パネルの製造
方法の工程を示す断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view showing a step of the method for manufacturing the liquid crystal display panel according to the twelfth embodiment.
【図１６】実施例１に係る液晶表示パネルのアレイ側基
板の製造方法を示す図である。FIG. 16 is a diagram illustrating the method for manufacturing the array-side substrate of the liquid crystal display panel according to the first embodiment.
【図１７】実施例２に係る液晶表示パネルのアレイ側基
板の製造方法を示す図である。FIG. 17 is a diagram illustrating the method of manufacturing the array-side substrate of the liquid crystal display panel according to the second embodiment.
【図１８】実施例３に係る液晶表示パネルのアレイ側基
板の製造方法を示す図である。FIG. 18 is a diagram illustrating the method of manufacturing the array-side substrate of the liquid crystal display panel according to the third embodiment.
１ ：液晶表示パネル ３ ：アレイ基板 ４ ：対向基板 ５ ：液晶層 ６ ：平坦化膜 ７ ：凹凸構造体 ８ ：反射層 １０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ ：凸
状下地層 １１，１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃ，１１Ｄ，１１Ｅ ：被
覆層 １６ ：透明電極 １７ ：液晶分子 ２５，３４ ：第１の感光性高分子 ２６，３５ ：第２の感光性高分子 ２７，３７ ：構造体 ２８，３６，５０ａ，５０ｂ ：くびれ部 ３３，５３ ：フォトマスク ４０ ：中間調フォトマスク ５５ ：鋸刃状凸部1: Liquid crystal display panel 3: Array substrate 4: Counter substrate 5: Liquid crystal layer 6: Flattening film 7: Uneven structure 8: Reflective layer 10, 10A, 10B, 10C, 10D, 10E: Convex base layer 11, 11A , 11B, 11C, 11D, 11E: coating layer 16: transparent electrode 17: liquid crystal molecules 25, 34: first photosensitive polymer 26, 35: second photosensitive polymer 27, 37: structure 28, 36 , 50a, 50b: constricted parts 33, 53: photomask 40: halftone photomask 55: saw-toothed convex part
Claims (22)
状構造体を被覆し表面が凹凸状の光反射面とされた光反
射層とを有する反射板において、 前記凹凸状構造体は、基板上に間隔を開けて配置された
複数の凸状下地層と、凸状下地層を覆い凹凸状に形成さ
れた被覆層とからなる積層構造となっており、 前記凸状下地層の頂点の広がり角が、前記被覆層の凸部
頂点の広がり角よりも小さいことを特徴とする反射板。1. A reflector having a substrate on which an uneven structure is formed, and a light reflection layer which covers the uneven structure and has a light reflecting surface with an uneven surface, wherein the uneven structure is A multilayer structure comprising a plurality of convex underlayers arranged at intervals on the substrate and a cover layer formed in an uneven shape covering the convex underlayer, and a vertex of the convex underlayer. Wherein the divergence angle is smaller than the divergence angle of the apex of the convex portion of the covering layer.
傾斜面の最下端から頂点に向かう曲面形状が、前記最下
端を原点とし、頂点の座標を（１，１）に規格化し、凸
部の基板面内方向をＸ（但し、０＜Ｘ＜１）とし、凸部
の高さ方向をＹとしたときに、Ｙ＝Ｘk （但し、２／
３≦ｋ≦１）で示されることを特徴とする請求項１記載
の反射板。2. The convex inclined surface of the light reflecting layer has a curved surface shape extending from the lowermost end to the vertex of the convex inclined surface, with the lowermost end being the origin and the coordinates of the vertex being (1, 1). When the in-plane direction of the protrusion is X (however, 0 <X <1) and the height direction of the protrusion is Y, Y = X k (where 2 /
2. The reflector according to claim 1, wherein 3 ≦ k ≦ 1).
とを特徴とする請求項１記載の反射板。3. The reflector according to claim 1, wherein the convex underlayer is made of an inorganic material.
像処理して基板に垂直な断面が逆台形形状の構造体を形
成し、この構造体を加熱処理することにより形成された
ものであることを特徴とする請求項１記載の反射板。4. The convex underlayer is formed by exposing and developing a photosensitive polymer containing a dye formed on a substrate to form an inverted trapezoidal structure having a cross section perpendicular to the substrate. 2. The reflector according to claim 1, wherein the reflector is formed by heat-treating the body.
から成ることを特徴とする請求項１記載の反射板。5. The reflector according to claim 1, wherein the convex underlayer and the coating layer are made of a polymer material.
凸状構造体を被覆し表面が凹凸状の光反射面とされた光
反射層とを有する反射板において、 前記凹凸状構造体は、間隔を開けて配置された複数の凸
状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とから成る積層構
造となっており、 前記凸状下地層を覆う被覆層の凸部傾斜面が、液滴が表
面張力により形成されるときの傾斜面より急峻な形状で
あることを特徴とする反射板。6. A reflector having a substrate on which an uneven structure is formed, and a light reflecting layer covering the uneven structure and having a light reflecting surface having an uneven surface, wherein the uneven structure is provided. Has a laminated structure including a plurality of convex underlayers arranged at intervals and a coating layer covering the convex underlayer, and a convex inclined surface of the coating layer covering the convex underlayer is formed. A reflector having a shape that is steeper than an inclined surface when the droplet is formed by surface tension.
凸状構造体を被覆し表面が凹凸状の光反射面とされた光
反射層とを有する反射板において、 前記凹凸状構造体は、基板上に間隔を開けて配置された
複数の凸状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とからな
る積層構造となっており、 前記凸状下地層は、頂部を含み基板に垂直な断面形状が
略三角形状であって、且つ略三角形状の両側辺が、少な
くとも前記頂点から所定の範囲に亘って内方側に湾曲し
た曲線部分を有することを特徴とする反射板。7. A reflecting plate comprising a substrate having an uneven structure formed thereon and a light reflecting layer covering the uneven structure and having a light reflecting surface having an uneven surface, wherein the uneven structure is provided. Has a multilayer structure composed of a plurality of convex underlayers arranged at intervals on the substrate and a coating layer covering the convex underlayer, wherein the convex underlayer includes a top portion and includes a substrate. A reflecting plate having a substantially triangular vertical cross-sectional shape, wherein both sides of the substantially triangular shape have a curved portion curved inwardly at least over a predetermined range from the vertex.
凸状構造体を被覆し表面が凹凸状の光反射面とされた光
反射層とを有する反射板において、 前記凹凸状構造体は、間隔を開けて配置された複数の凸
状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とからなる積層構
造となっており、 前記凸状下地層は、頂部を含み基板に垂直な断面形状
が、略三角形状であって、且つ、該三角形状の内角の和
が１８０°未満であることを特徴とする反射板。8. A reflector having a substrate on which an uneven structure is formed and a light reflecting layer covering the uneven structure and having a light reflecting surface having an uneven surface, wherein the uneven structure is provided. Has a laminated structure including a plurality of convex underlayers arranged at intervals and a coating layer covering the convex underlayer, and the convex underlayer has a cross section perpendicular to the substrate including a top portion. A reflector having a substantially triangular shape, wherein the sum of interior angles of the triangular shape is less than 180 °.
凸状構造体を被覆し表面が凹凸状の光反射面を構成する
光反射層とを有する反射板において、 前記凹凸状構造体は、間隔を開けて配置された複数の凸
状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とからなる積層構
造となっており、 前記凸状下地層及び被覆層の凸部は、共に頂部を含み基
板に垂直な断面形状が略三角形状であり、しかも、凸状
下地層の略三角形状の内角の和が１８０°未満とされ、
被覆層の略三角形状の内角の和が１８０°以上とされて
いることを特徴とする反射板。9. A reflecting plate comprising a substrate having an uneven structure formed thereon and a light reflecting layer covering the uneven structure and forming a light reflecting surface having an uneven surface, wherein the uneven structure is provided. Has a laminated structure composed of a plurality of convex underlayers arranged at intervals and a covering layer covering the convex underlayer, and the convex underlayer and the convex portions of the covering layer are both top portions. The cross-sectional shape perpendicular to the substrate is substantially triangular, and the sum of the substantially triangular interior angles of the convex underlayer is less than 180 °;
A reflecting plate, wherein the sum of the substantially triangular inner angles of the coating layer is 180 ° or more.
凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸状の光反射面とされた
光反射層とを有する反射板において、 前記凹凸状構造体は、間隔を開けて配置された複数の凸
状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とからなる積層構
造となっており、 前記凸状下地層及び被覆層の凸部は、共に頂部を含み基
板に垂直な断面形状が略三角形状であり、しかも、下地
層の略三角形状の内角の和及び被覆層の略三角形状の内
角の和が共に１８０°未満とされていることを特徴とす
る反射板。10. A reflector having a substrate on which an uneven structure is formed and a light reflection layer covering the uneven structure and having a light reflecting surface having an uneven surface, wherein the uneven structure is provided. Has a laminated structure composed of a plurality of convex underlayers arranged at intervals and a covering layer covering the convex underlayer, and the convex underlayer and the convex portions of the covering layer are both top portions. And the sum of the substantially triangular interior angles of the underlayer and the substantially triangular interior angle of the coating layer is both less than 180 °. Reflector.
凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸状の光反射面とされた
光反射層とを有する反射板において、 前記凹凸状構造体は、間隔を開けて配置された複数の凸
状下地層と、下地層を覆う被覆層とからなる積層構造と
なっており、 前記凸状下地層は、頂部を含み基板に垂直な断面形状が
略台形形状であり、しかも略台形形状の内角の和が３６
０°未満とされていることを特徴とする反射板。11. A reflector having a substrate with an uneven structure formed thereon and a light reflecting layer covering the uneven structure and having a light reflecting surface with an uneven surface, wherein the uneven structure is provided. Has a laminated structure composed of a plurality of convex underlayers arranged at intervals and a covering layer covering the underlayer, wherein the convex underlayer has a cross section perpendicular to the substrate including a top portion. It has a substantially trapezoidal shape, and the sum of the internal angles of the substantially trapezoidal shape is 36.
A reflection plate, wherein the reflection angle is less than 0 °.
に垂直な断面形状が略三角形状であり、しかも、略三角
形状の内角の和が１８０°以上であることを特徴とする
請求項１１記載の反射板。12. The convex portion of the coating layer has a substantially triangular cross-section including the top and perpendicular to the substrate, and the sum of the interior angles of the substantially triangular shape is 180 ° or more. Item 12. The reflector according to Item 11.
に垂直な断面形状が略三角形状であり、しかも、略三角
形状の内角の和が１８０°未満であることを特徴とする
請求項１１記載の反射板。13. The convex portion of the coating layer has a substantially triangular cross-section including a top portion and perpendicular to the substrate, and the sum of interior angles of the substantially triangular shape is less than 180 °. Item 12. The reflector according to Item 11.
凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸状の光反射面とされた
光反射層とを有する反射板において、 前記凹凸状構造体は、残膜厚特性が相互に異なる複数の
感光性高分子材料が露光・現像・加熱の各処理を施され
て形成されたものであって、間隔を開けて配置された複
数の凸状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とから構成
されていることを特徴とする反射板。14. A reflector having a substrate on which an uneven structure is formed, and a light reflecting layer which covers the uneven structure and has a light reflecting surface with an uneven surface, wherein the uneven structure is provided. Is formed by exposing, developing, and heating a plurality of photosensitive polymer materials having mutually different residual film thickness characteristics, and a plurality of convex lower portions arranged at intervals. A reflector comprising a ground layer and a coating layer covering the convex underlayer.
下地層を構成する感光性高分子の膜厚ｄ１の時間変化特
性をｄ１（ｔ）、前記被覆層を構成する感光性高分子の
膜厚ｄ２の時間変化特性をｄ２（ｔ）としたときに、同
一の現像経過時間ｔにおいて、ｄ１（ｔ）＜ｄ２（ｔ）
が成り立つことを特徴とする請求項１４記載の反射板。15. The time change characteristic of the thickness d1 of the photosensitive polymer constituting the underlayer at the elapsed development time t after exposure is d1 (t), and the thickness of the photosensitive polymer constituting the coating layer is d1 (t). When the time change characteristic of d2 is d2 (t), d1 (t) <d2 (t) at the same development elapsed time t.
The reflector according to claim 14, wherein the following condition is satisfied.
凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸状の光反射面とされた
光反射層とを有する反射板において、 前記凹凸状構造体は、γ特性が相互に異なる複数の感光
性高分子材料が露光・現像・加熱の各処理を施されて形
成されたものであって、間隔を開けて配置された複数の
凸状下地層と、凸状下地層を覆う被覆層とから構成され
ていることを特徴とする反射板。16. A reflector having a substrate on which an uneven structure is formed and a light reflecting layer having a light reflecting surface with an uneven surface covering the uneven structure, wherein the uneven structure is provided. Is formed by subjecting a plurality of photosensitive polymer materials having different γ characteristics to respective processes of exposure, development, and heating, and includes a plurality of convex underlayers arranged at intervals. And a coating layer covering the convex underlayer.
γ値をγ１、前記被覆層を構成する感光性高分子のγ値
をγ２としたときに、γ１＜γ２が成り立つことを特徴
とする請求項１６記載の反射板。17. When the γ value of the photosensitive polymer constituting the underlayer is γ1 and the γ value of the photosensitive polymer constituting the coating layer is γ2, γ1 <γ2 is satisfied. 17. The reflector according to claim 16, wherein:
請求項１乃至１７の何れかに記載の反射板が設けられて
いることを特徴とする反射型液晶表示パネル。18. A reflection type liquid crystal display panel comprising a liquid crystal layer sandwiched between one side and a substrate and the other side provided with the reflection plate according to claim 1. Description:
凹凸状構造体を被覆し表面が凹凸状の光反射面を構成す
る光反射層とを有する反射板の製造方法において、 基板上に、第１の感光性高分子材料と、該第１の感光性
高分子材料よりもエッチングレートの大きい第２の感光
性高分子材料とをこの順序で塗布して、基板上に第１の
感光性高分子層と第２の感光性高分子層とからなる積層
構造を形成する塗布工程と、 前記塗布工程により得られた第１の感光性高分子層及び
第２の感光性高分子層に対して、マスク露光処理と現像
処理をそれぞれ１度行い、基板に垂直な断面形状が両側
にくびれ部を有する複数の茸状構造体を形成する工程
と、 前記複数の茸状構造体が形成されている基板に熱処理を
施し、茸状構造体を溶融変形し前記くびれ部を解消さ
せ、基板上に間隔を開けて配置された複数の凸状下地層
と該凸状下地層を覆う被覆層とからなる凹凸状構造体を
形成する熱処理工程と、 前記凹凸状構造体上に光反射層を形成する工程と、 を備えたことを特徴とする反射板の製造方法。19. A method for manufacturing a reflector having a substrate on which an uneven structure is formed, and a light reflecting layer covering the uneven structure and forming a light reflecting surface having an uneven surface, the method comprising: Then, a first photosensitive polymer material and a second photosensitive polymer material having an etching rate higher than that of the first photosensitive polymer material are applied in this order, and the first photosensitive polymer material is applied on a substrate. A coating step of forming a laminated structure composed of a photosensitive polymer layer and a second photosensitive polymer layer, and a first photosensitive polymer layer and a second photosensitive polymer layer obtained by the coating step Performing a mask exposure process and a development process once each to form a plurality of mushroom-like structures having a constriction on both sides in a cross section perpendicular to the substrate; and forming the plurality of mushroom-like structures. The substrate that has been subjected to heat treatment, the mushroom-like structure is melted and deformed, A heat treatment step of forming an uneven structure composed of a plurality of convex underlayers arranged at intervals on the substrate and a coating layer covering the convex underlayer, and on the uneven structure Forming a light reflection layer; and a method for manufacturing a reflection plate.
と、該鋸刃形状凸部を被覆し表面が鋸刃形状の光反射面
を有する光反射層とを備えた反射板の製造方法におい
て、 基板上に、第１の感光性高分子材料と、該第１の感光性
高分子材料よりもエッチングレートの大きい第２の感光
性高分子材料とをこの順序で塗布して、基板上に第１の
感光性高分子層と第２の感光性高分子層とからなる積層
構造を形成する塗布工程と、 前記塗布工程により得られた第１の感光性高分子層及び
第２の感光性高分子層に対して、フォトマスクに対して
斜め方向から光を照射する斜め露光処理と現像処理をそ
れぞれ１度行い、基板に垂直な断面形状が両側に非対称
なくびれ部を有する複数の茸状構造体を形成する工程
と、 前記複数の茸状構造体が形成されている基板に熱処理を
施し、茸状構造体を溶融変形し前記くびれ部を解消さ
せ、基板上に間隔を開けて配置された複数の鋸刃形状凸
部を形成する熱処理工程と、 前記鋸刃形状凸部上に光反射層を形成する工程と、 を備えたことを特徴とする反射板の製造方法。20. Manufacture of a reflector having a saw blade-shaped projection formed on a substrate and a light reflection layer covering the saw blade projection and having a light reflection surface having a saw blade surface. In the method, a first photosensitive polymer material and a second photosensitive polymer material having a higher etching rate than the first photosensitive polymer material are applied on the substrate in this order, A coating step of forming a laminated structure composed of a first photosensitive polymer layer and a second photosensitive polymer layer thereon; and a first photosensitive polymer layer and a second photosensitive polymer layer obtained by the coating step. The photosensitive polymer layer is subjected to a diagonal exposure process of irradiating light from a diagonal direction to the photomask and a development process once, and a plurality of cross sections perpendicular to the substrate having asymmetrical constrictions on both sides. A step of forming a mushroom-like structure; and a base on which the plurality of mushroom-like structures are formed. A heat treatment step of subjecting the plate to a heat treatment to melt-deform the mushroom-shaped structure to eliminate the constriction and form a plurality of saw blade-shaped protrusions arranged at intervals on the substrate; Forming a light reflection layer on the part.
と、該鋸刃形状凸部を被覆し表面が鋸刃形状の光反射面
を有する光反射層とを備えた反射板の製造方法におい
て、 基板上に、第１の感光性高分子材料と第２の感光性高分
子材料とをこの順序で塗布して、基板上に第１の感光性
高分子層と第２の感光性高分子層とからなる積層構造を
形成する塗布工程と、 前記塗布工程により得られた第１の感光性高分子層及び
第２の感光性高分子層に対して、異なる透過率を有する
箇所が連続的に形成された半透過膜から成る中間調フォ
トマスクを用いたマスク露光処理と現像処理をそれぞれ
１度行い、基板に垂直な断面形状が両側に非対称なくび
れ部を有する複数の茸状構造体を形成する工程と、 前記複数の茸状構造体が形成されている基板に熱処理を
施し、茸状構造体を溶融変形し前記くびれ部を解消さ
せ、基板上に間隔を開けて配置された複数の鋸刃形状凸
部を形成する熱処理工程と、 前記鋸刃形状凸部上に光反射層を形成する工程と、 を備えたことを特徴とする反射板の製造方法。21. Manufacture of a reflector having a saw blade-shaped protrusion formed on a substrate and a light reflection layer covering the saw blade protrusion and having a light reflection surface having a saw blade surface. In the method, a first photosensitive polymer material and a second photosensitive polymer material are applied in this order on a substrate, and a first photosensitive polymer layer and a second photosensitive polymer layer are applied on the substrate. A coating step of forming a laminated structure composed of a polymer layer, and a portion having different transmittances with respect to the first photosensitive polymer layer and the second photosensitive polymer layer obtained by the coating step. A mask exposure process and a development process using a halftone photomask consisting of a continuously formed semi-transmissive film are performed once, respectively, and a plurality of mushroom-like structures having asymmetrical constrictions on both sides in a cross section perpendicular to the substrate. Forming a body; and performing heat treatment on the substrate on which the plurality of mushroom-shaped structures are formed. Heat treatment for melting and deforming the mushroom-shaped structure to eliminate the constriction, and forming a plurality of saw blade-shaped protrusions arranged at intervals on the substrate; Forming a reflecting layer; and a method for manufacturing a reflecting plate.
けられた基板と、反射板及び基板に挟まれた液晶層とを
備えた反射型液晶表示パネルの製造方法において、 前
記反射板は、請求項１９乃至２１の何れかに記載の方法
によって製造されることを特徴とする反射型液晶表示パ
ネルの製造方法。22. A method for manufacturing a reflective liquid crystal display panel comprising a reflector, a substrate provided to face the reflector, and a liquid crystal layer sandwiched between the reflector and the substrate, wherein the reflector is 22. A method of manufacturing a reflective liquid crystal display panel manufactured by the method according to claim 19.
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|---|---|---|---|
| JP2000012882A JP2001201619A (en) | 2000-01-21 | 2000-01-21 | Reflection plate, reflective liquid crystal display panel and their manufacturing method |
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-
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- 2000-01-21 JP JP2000012882A patent/JP2001201619A/en not_active Withdrawn
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