JP2001190953A - 酸化チタン、それを用いてなる光触媒体及び光触媒体コーティング剤 - Google Patents
酸化チタン、それを用いてなる光触媒体及び光触媒体コーティング剤Info
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Catalysts (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 可視光線を照射することにより高い光触媒作
用を示す光触媒体を提供し、さらには、その触媒成分で
ある酸化チタン、及び建築材料、自動車材料等に光触媒
作用を付与するための光触媒体コーティング剤を提供す
る。 【解決手段】 電子スピン共鳴スペクトルにおいてｇ値
１．９３０〜２．０３０の間に３つ以上のピークを有
し、かつそれらピークの内の極大となるピークがｇ値
１．９９０〜２．０２０の間に存在することを特徴とす
る酸化チタン。
用を示す光触媒体を提供し、さらには、その触媒成分で
ある酸化チタン、及び建築材料、自動車材料等に光触媒
作用を付与するための光触媒体コーティング剤を提供す
る。 【解決手段】 電子スピン共鳴スペクトルにおいてｇ値
１．９３０〜２．０３０の間に３つ以上のピークを有
し、かつそれらピークの内の極大となるピークがｇ値
１．９９０〜２．０２０の間に存在することを特徴とす
る酸化チタン。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は酸化チタン、それを
用いてなる光触媒体及び光触媒体コーティング剤に関す
るものである。詳細には、可視光線を照射することによ
り高い光触媒作用を示す光触媒体、その触媒成分として
の酸化チタン、及びそれを用いた光触媒体コーティング
剤に関するものである。
用いてなる光触媒体及び光触媒体コーティング剤に関す
るものである。詳細には、可視光線を照射することによ
り高い光触媒作用を示す光触媒体、その触媒成分として
の酸化チタン、及びそれを用いた光触媒体コーティング
剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体に紫外線を照射すると強い還元作
用を持つ電子と強い酸化作用を持つ正孔が生成し、半導
体に接触した分子種を酸化還元作用により分解する。こ
のような作用を光触媒作用と呼び、この光触媒作用を利
用することによって、大気中のＮＯｘの分解、居住空間
や作業空間での悪臭物質やカビ等の分解除去、あるいは
水中の有機溶剤や農薬、界面活性剤等の環境汚染物質の
分解除去を行うことができる。光触媒作用を有する物質
として酸化チタンが注目され、酸化チタンからなる光触
媒体が市販されている。市販品として、例えば、ＳＴ−
０１（商品名：石原産業製）がある。
用を持つ電子と強い酸化作用を持つ正孔が生成し、半導
体に接触した分子種を酸化還元作用により分解する。こ
のような作用を光触媒作用と呼び、この光触媒作用を利
用することによって、大気中のＮＯｘの分解、居住空間
や作業空間での悪臭物質やカビ等の分解除去、あるいは
水中の有機溶剤や農薬、界面活性剤等の環境汚染物質の
分解除去を行うことができる。光触媒作用を有する物質
として酸化チタンが注目され、酸化チタンからなる光触
媒体が市販されている。市販品として、例えば、ＳＴ−
０１（商品名：石原産業製）がある。
【０００３】しかしながら、現在市販されている酸化チ
タンからなる光触媒体は、可視光線を照射する場合には
十分な光触媒作用を示すものではなかった。
タンからなる光触媒体は、可視光線を照射する場合には
十分な光触媒作用を示すものではなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、可視
光線を照射することにより高い光触媒作用を示す光触媒
体を提供し、さらには、その触媒成分である酸化チタ
ン、及び建築材料、自動車材料等に光触媒作用を付与す
るための光触媒体コーティング剤を提供することにあ
る。
光線を照射することにより高い光触媒作用を示す光触媒
体を提供し、さらには、その触媒成分である酸化チタ
ン、及び建築材料、自動車材料等に光触媒作用を付与す
るための光触媒体コーティング剤を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記課題を
解決するため鋭意検討を行った結果、可視光線を照射す
ることにより高い光触媒作用を示す光触媒体に好適な触
媒成分としての酸化チタンを見出し、本発明を完成する
に至った。
解決するため鋭意検討を行った結果、可視光線を照射す
ることにより高い光触媒作用を示す光触媒体に好適な触
媒成分としての酸化チタンを見出し、本発明を完成する
に至った。
【０００６】すなわち本発明は、電子スピン共鳴スペク
トルにおいてｇ値１．９３０〜２．０３０の間に３つ以
上のピークを有し、かつそれらピークの内の極大となる
ピークがｇ値１．９９０〜２．０２０の間に存在するこ
とを特徴とする酸化チタンを提供するものである。
トルにおいてｇ値１．９３０〜２．０３０の間に３つ以
上のピークを有し、かつそれらピークの内の極大となる
ピークがｇ値１．９９０〜２．０２０の間に存在するこ
とを特徴とする酸化チタンを提供するものである。
【０００７】また本発明は、触媒成分として前記の酸化
チタンを含むことを特徴とする光触媒体を提供するもの
である。
チタンを含むことを特徴とする光触媒体を提供するもの
である。
【０００８】さらに本発明は、前記の酸化チタンと溶媒
とを含むことを特徴とする光触媒体コーティング剤を提
供するものである。
とを含むことを特徴とする光触媒体コーティング剤を提
供するものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の酸化チタンは、電子スピン共鳴（以下、ＥＳＲ
という。）スペクトルにおいてｇ値１．９３０〜２．０
３０の間に３つ以上のピークを有し、かつそれらピーク
の内の極大となるピークがｇ値１．９９０〜２．０２０
の間に存在するものである。
本発明の酸化チタンは、電子スピン共鳴（以下、ＥＳＲ
という。）スペクトルにおいてｇ値１．９３０〜２．０
３０の間に３つ以上のピークを有し、かつそれらピーク
の内の極大となるピークがｇ値１．９９０〜２．０２０
の間に存在するものである。
【００１０】ＥＳＲとは、不対電子に基づく原子ないし
分子の永久磁気双極子のエネルギー順位が磁場を加える
ことにより***し、その準位間のエネルギーに等しいエ
ネルギーを電磁エネルギーの形で与えると、共鳴的に電
磁エネルギーを吸収して不対電子は相隣る準位間で遷移
を起こす現象のことをいう。ＥＳＲ分析は、例えば、鉄
族元素を含む結晶の結晶軸の方向及び化学結合の性質を
調べたり、また有機分子の遊離基の不対電子がその分子
中のどこに存在するかを調べることに応用されている。
本発明では、ＥＳＲ分析から求められるｇ値を指標とし
て用い酸化チタンの結晶構造を特定した。
分子の永久磁気双極子のエネルギー順位が磁場を加える
ことにより***し、その準位間のエネルギーに等しいエ
ネルギーを電磁エネルギーの形で与えると、共鳴的に電
磁エネルギーを吸収して不対電子は相隣る準位間で遷移
を起こす現象のことをいう。ＥＳＲ分析は、例えば、鉄
族元素を含む結晶の結晶軸の方向及び化学結合の性質を
調べたり、また有機分子の遊離基の不対電子がその分子
中のどこに存在するかを調べることに応用されている。
本発明では、ＥＳＲ分析から求められるｇ値を指標とし
て用い酸化チタンの結晶構造を特定した。
【００１１】ｇ値は、ＥＳＲ装置でＥＳＲスペクトルを
測定し、そのスペクトルのピークの位置から算出するこ
とができる。ＥＳＲの原理およびｇ値の算出方法は概略
以下のとおりである。不対電子が磁場の中に置かれる
と、ゼーマン効果によりエネルギー準位が***する。こ
の***したエネルギー差をΔＥとし、下式（I） ΔＥ＝ｈν （I） 〔式（I）中、ｈはプランク定数（＝6.6255×10-34Ｊ
ｓ）、νはMicrowave Frequencyを表す。）を満たすマ
イクロ波領域の電磁場（周波数ν）を照射しながら磁場
の強さを変化させていくと、磁場の強さＨが下式（II） ｈν＝ｇβＨ （II） 〔式（II）中、ｇはｇ値、βはボーア磁子（＝９．２７
４×１０-24ＪＴ-1）、Ｈは磁束密度を表す。〕を満た
すときに共鳴吸収が起こり、横軸を磁場の強さ、縦軸を
電磁場の吸収とする共鳴吸収曲線にピークが現れる。こ
のピークの位置から不対電子の存在状態を表す指標とし
てｇ値が得られ、ｇ値は式（II）から導かれる下式（II
I） ｇ＝ｈν／（βＨ） （III） により求められる。通常、ＥＳＲスペクトルは、検出感
度を向上させる為、共鳴吸収曲線の一次微分形で表され
る。
測定し、そのスペクトルのピークの位置から算出するこ
とができる。ＥＳＲの原理およびｇ値の算出方法は概略
以下のとおりである。不対電子が磁場の中に置かれる
と、ゼーマン効果によりエネルギー準位が***する。こ
の***したエネルギー差をΔＥとし、下式（I） ΔＥ＝ｈν （I） 〔式（I）中、ｈはプランク定数（＝6.6255×10-34Ｊ
ｓ）、νはMicrowave Frequencyを表す。）を満たすマ
イクロ波領域の電磁場（周波数ν）を照射しながら磁場
の強さを変化させていくと、磁場の強さＨが下式（II） ｈν＝ｇβＨ （II） 〔式（II）中、ｇはｇ値、βはボーア磁子（＝９．２７
４×１０-24ＪＴ-1）、Ｈは磁束密度を表す。〕を満た
すときに共鳴吸収が起こり、横軸を磁場の強さ、縦軸を
電磁場の吸収とする共鳴吸収曲線にピークが現れる。こ
のピークの位置から不対電子の存在状態を表す指標とし
てｇ値が得られ、ｇ値は式（II）から導かれる下式（II
I） ｇ＝ｈν／（βＨ） （III） により求められる。通常、ＥＳＲスペクトルは、検出感
度を向上させる為、共鳴吸収曲線の一次微分形で表され
る。
【００１２】特定のＥＳＲスペクトルをもつ酸化チタン
が何故、可視光線の照射により優れた光触媒活性を発現
し得るか明らかではないが、Journal of the Physical
Chemistry, 89, 5689-5694 (1985)によれば、このＥＳ
Ｒスペクトルにおけるｇ値１．９３０〜２．０３０の間
のピークは窒素（原子量１４）を含むラジカル種に由来
すると思われることから、窒素の存在及びその存在に起
因する酸化チタンの結晶格子内に生じる歪みが酸化チタ
ンの光触媒活性に影響を及ぼしていると考えられる。
が何故、可視光線の照射により優れた光触媒活性を発現
し得るか明らかではないが、Journal of the Physical
Chemistry, 89, 5689-5694 (1985)によれば、このＥＳ
Ｒスペクトルにおけるｇ値１．９３０〜２．０３０の間
のピークは窒素（原子量１４）を含むラジカル種に由来
すると思われることから、窒素の存在及びその存在に起
因する酸化チタンの結晶格子内に生じる歪みが酸化チタ
ンの光触媒活性に影響を及ぼしていると考えられる。
【００１３】酸化チタンは、例えば、粒子、繊維状のよ
うな各種形状のものが挙げられ、使用方法に応じて適当
な形状が選定される。また、酸化チタンは、可視光線の
照射による光触媒活性を損なわない範囲で、無機化合物
が混合されたものであってもよいし、また無機化合物が
混合された後、熱処理等が施されて無機化合物と複合化
されたものであってもよい。酸化チタンに混合される無
機化合物としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ2）、アル
ミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ジルコニア（ＺｒＯ2）、マグネシ
ア（ＭｇＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等が挙げられる。
うな各種形状のものが挙げられ、使用方法に応じて適当
な形状が選定される。また、酸化チタンは、可視光線の
照射による光触媒活性を損なわない範囲で、無機化合物
が混合されたものであってもよいし、また無機化合物が
混合された後、熱処理等が施されて無機化合物と複合化
されたものであってもよい。酸化チタンに混合される無
機化合物としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ2）、アル
ミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ジルコニア（ＺｒＯ2）、マグネシ
ア（ＭｇＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等が挙げられる。
【００１４】本発明の特定のＥＳＲスペクトルをもつ酸
化チタンは、例えば、窒素雰囲気下で酸とチタン化合物
との混合物に塩基を添加し、得られた生成物を空気中で
焼成する方法等により製造することができる。このとき
に用いる酸としては、例えば、塩酸、硫酸のような鉱酸
等が挙げられる。チタン化合物としては、例えば、三塩
化チタン、四塩化チタン、硫酸チタン、硫酸チタニル等
が挙げられる。塩基としては、例えば、アンモニア又は
加熱によりアンモニアを生成する物質が挙げられる。ア
ンモニアを生成する物質としては、例えば、尿素、ホル
ムアミドのようなアミド化合物、アセトアミジンのよう
なアミジン化合物、トリエタノールアミン、ヘキサメチ
レンテトラミンのようなアミン化合物等が挙げられる。
化チタンは、例えば、窒素雰囲気下で酸とチタン化合物
との混合物に塩基を添加し、得られた生成物を空気中で
焼成する方法等により製造することができる。このとき
に用いる酸としては、例えば、塩酸、硫酸のような鉱酸
等が挙げられる。チタン化合物としては、例えば、三塩
化チタン、四塩化チタン、硫酸チタン、硫酸チタニル等
が挙げられる。塩基としては、例えば、アンモニア又は
加熱によりアンモニアを生成する物質が挙げられる。ア
ンモニアを生成する物質としては、例えば、尿素、ホル
ムアミドのようなアミド化合物、アセトアミジンのよう
なアミジン化合物、トリエタノールアミン、ヘキサメチ
レンテトラミンのようなアミン化合物等が挙げられる。
【００１５】本発明の光触媒体は、触媒成分として上述
した特定のＥＳＲスペクトルをもつ酸化チタンを含む。
した特定のＥＳＲスペクトルをもつ酸化チタンを含む。
【００１６】この光触媒体は、例えば、前記酸化チタン
だけからなるもののほか、粒子状の酸化チタンに成形助
剤を添加し押出成形して得られたシート状のもの、繊維
状の酸化チタンと有機繊維とを交絡させて得られたシー
ト状のもの、又は金属若しくは樹脂製の支持体に酸化チ
タンを塗布又は被覆して得られたもの等が挙げられる。
光触媒体は、その機械的強度、成形性を向上させること
を目的に、本発明の特定のＥＳＲスペクトルをもつ酸化
チタン以外の無機酸化物、高分子樹脂、成形助剤、結合
剤、帯電防止剤又は吸着剤等を添加したものであっても
よい。酸化チタンに添加される無機酸化物としては、例
えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、マグネシア、酸
化亜鉛、紫外線を照射することにより光触媒活性を示す
酸化チタン等が挙げられる。
だけからなるもののほか、粒子状の酸化チタンに成形助
剤を添加し押出成形して得られたシート状のもの、繊維
状の酸化チタンと有機繊維とを交絡させて得られたシー
ト状のもの、又は金属若しくは樹脂製の支持体に酸化チ
タンを塗布又は被覆して得られたもの等が挙げられる。
光触媒体は、その機械的強度、成形性を向上させること
を目的に、本発明の特定のＥＳＲスペクトルをもつ酸化
チタン以外の無機酸化物、高分子樹脂、成形助剤、結合
剤、帯電防止剤又は吸着剤等を添加したものであっても
よい。酸化チタンに添加される無機酸化物としては、例
えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、マグネシア、酸
化亜鉛、紫外線を照射することにより光触媒活性を示す
酸化チタン等が挙げられる。
【００１７】光触媒体の使用に際しては、例えば、可視
光線を透過するガラス製容器に光触媒体と被処理液又は
被処理気体とを入れ、光源を用いて光触媒体に波長が４
３０ｎｍ以上である可視光線を照射すればよい。このと
き用いる光源としては、波長が４３０ｎｍ以上である可
視光線を含む光線を照射できるものであれば制限される
ものではなく、例えば、太陽光線、蛍光灯、ハロゲンラ
ンプ、ブラックライト、キセノンランプ、水銀灯、ナト
リウムランプ等が適用できる。
光線を透過するガラス製容器に光触媒体と被処理液又は
被処理気体とを入れ、光源を用いて光触媒体に波長が４
３０ｎｍ以上である可視光線を照射すればよい。このと
き用いる光源としては、波長が４３０ｎｍ以上である可
視光線を含む光線を照射できるものであれば制限される
ものではなく、例えば、太陽光線、蛍光灯、ハロゲンラ
ンプ、ブラックライト、キセノンランプ、水銀灯、ナト
リウムランプ等が適用できる。
【００１８】本発明の光触媒体コーティング剤は、上述
した特定のＥＳＲスペクトルをもつ酸化チタンと溶媒と
を含む。この光触媒体コーティング剤は、建築材料、自
動車材料等に酸化チタンを塗布すること、又は建築材
料、自動車材料等を酸化チタンで被覆することを容易に
し、かつ建築材料、自動車材料等に高い光触媒活性を付
与することを可能とする。溶媒としては、塗布後又は被
覆後に蒸発して酸化チタンに残存しない溶媒が好まし
く、例えば、水、塩酸、アルコール類、ケトン類等が挙
げられる。
した特定のＥＳＲスペクトルをもつ酸化チタンと溶媒と
を含む。この光触媒体コーティング剤は、建築材料、自
動車材料等に酸化チタンを塗布すること、又は建築材
料、自動車材料等を酸化チタンで被覆することを容易に
し、かつ建築材料、自動車材料等に高い光触媒活性を付
与することを可能とする。溶媒としては、塗布後又は被
覆後に蒸発して酸化チタンに残存しない溶媒が好まし
く、例えば、水、塩酸、アルコール類、ケトン類等が挙
げられる。
【００１９】この光触媒体コーティング剤は、例えば、
前記の酸化チタンを水に分散させてスラリー化する方法
又は酸化チタンを酸等で解膠させる方法等で製造するこ
とができる。酸化チタンの分散では、必要に応じて分散
剤を添加し行ってもよい。
前記の酸化チタンを水に分散させてスラリー化する方法
又は酸化チタンを酸等で解膠させる方法等で製造するこ
とができる。酸化チタンの分散では、必要に応じて分散
剤を添加し行ってもよい。
【００２０】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。本実施例では、酢酸の光分解作用について述べる
が、本発明は本実施例に限定されるものではない。な
お、ＥＳＲスペクトルの測定及びｇ値の算出は、以下の
方法で行った。
る。本実施例では、酢酸の光分解作用について述べる
が、本発明は本実施例に限定されるものではない。な
お、ＥＳＲスペクトルの測定及びｇ値の算出は、以下の
方法で行った。
【００２１】電子スピン共鳴装置（商品名“ＥＳＰ−３
００”、ＢＲＵＫＥＲ製）を用い、温度：室温、圧力：
大気圧、Microwave Frequncy：９．４７ＧＨｚ（＝９．
４７×１０9ｓ-1）、Center Field：３４００Ｇ、Sweep
Width：５００Ｇ、Sweep Time：８３．８８５ｓ、Time
Const.：１３１０．７２ｍｓ、Mod. Amp. ：５．０５
４Ｇ、ピーク位置算出：DPPHのｇ値２．００３７で補
正、の条件でＥＳＲスペクトルを測定し、このＥＳＲス
ペクトルのピークから共鳴吸収が起きる磁束密度Ｈ
（Ｔ）を求め、この磁束密度を式（III）に導入するこ
とより、ｇ値を算出する。ＥＳＲスペクトルに複数のピ
ークが存在するときは、それぞれのピークについて磁束
密度を求め、ｇ値を算出する。
００”、ＢＲＵＫＥＲ製）を用い、温度：室温、圧力：
大気圧、Microwave Frequncy：９．４７ＧＨｚ（＝９．
４７×１０9ｓ-1）、Center Field：３４００Ｇ、Sweep
Width：５００Ｇ、Sweep Time：８３．８８５ｓ、Time
Const.：１３１０．７２ｍｓ、Mod. Amp. ：５．０５
４Ｇ、ピーク位置算出：DPPHのｇ値２．００３７で補
正、の条件でＥＳＲスペクトルを測定し、このＥＳＲス
ペクトルのピークから共鳴吸収が起きる磁束密度Ｈ
（Ｔ）を求め、この磁束密度を式（III）に導入するこ
とより、ｇ値を算出する。ＥＳＲスペクトルに複数のピ
ークが存在するときは、それぞれのピークについて磁束
密度を求め、ｇ値を算出する。
【００２２】実施例１ ０．５Ｎ塩酸１１０ｇと四塩化チタン（特級、和光純薬
工業製）２５ｇを３００ｍＬフラスコ中に入れ、窒素雰
囲気下で攪拌し、フラスコを氷水で冷却しながら、フラ
スコ内に２５％アンモニア水（特級、和光純薬工業製）
１４６ｇを２０分間で滴下し加水分解を行った。この加
水分解物を濾過洗浄し乾燥した。この乾燥物を４００℃
の空気中で１時間焼成して、黄色に着色した粒子状酸化
チタン（ＴｉＯ2）を得た。この酸化チタンのＥＳＲス
ペクトルを図１に、ＥＳＲスペクトルから求められるｇ
値を表１に示す。
工業製）２５ｇを３００ｍＬフラスコ中に入れ、窒素雰
囲気下で攪拌し、フラスコを氷水で冷却しながら、フラ
スコ内に２５％アンモニア水（特級、和光純薬工業製）
１４６ｇを２０分間で滴下し加水分解を行った。この加
水分解物を濾過洗浄し乾燥した。この乾燥物を４００℃
の空気中で１時間焼成して、黄色に着色した粒子状酸化
チタン（ＴｉＯ2）を得た。この酸化チタンのＥＳＲス
ペクトルを図１に、ＥＳＲスペクトルから求められるｇ
値を表１に示す。
【００２３】直径８ｃｍ、高さ１０ｃｍ、容量約０．５
Ｌのパイレックスガラス（商標）製密閉式反応容器内に
直径５ｃｍのガラス製シャーレを設置し、そのシャーレ
上に上で得られた粒子状酸化チタンだけからなる光触媒
体０．３ｇを置いた。反応容器内を、酸素と窒素の体積
比が１：４である混合ガスで満たした後、該容器内に酢
酸３３μｍｏｌを封入し、波長４３０ｎｍ以上の可視光
線を照射した。光触媒体の光分解作用を、可視光線の照
射により生成した酢酸の酸化分解生成物である二酸化炭
素の濃度をキャリアーガスとしてヘリウムを用いたガス
クロマトグラフィー（商品名“カラムＰｏｒａｐａｋ
Ｑ”、島津製作所製）で測定することによって、評価し
た。尚、光源には、図２の分光特性を有する紫外線カッ
トフィルター（商品名“Ｙ−４５”、東芝硝子製）を装
着した５００Ｗキセノンランプ（商品名“ランプハウス
ＵＩ―５０２Ｑ，ランプＵＸＬ−５００Ｄ、点灯装置Ｘ
Ｂ−５０１０１ＡＡ−Ａ”、ウシオ電機製）を用いた。
このときの二酸化炭素の生成速度は光触媒体１ｇあたり
５．８６μｍｏｌ／ｈであった。
Ｌのパイレックスガラス（商標）製密閉式反応容器内に
直径５ｃｍのガラス製シャーレを設置し、そのシャーレ
上に上で得られた粒子状酸化チタンだけからなる光触媒
体０．３ｇを置いた。反応容器内を、酸素と窒素の体積
比が１：４である混合ガスで満たした後、該容器内に酢
酸３３μｍｏｌを封入し、波長４３０ｎｍ以上の可視光
線を照射した。光触媒体の光分解作用を、可視光線の照
射により生成した酢酸の酸化分解生成物である二酸化炭
素の濃度をキャリアーガスとしてヘリウムを用いたガス
クロマトグラフィー（商品名“カラムＰｏｒａｐａｋ
Ｑ”、島津製作所製）で測定することによって、評価し
た。尚、光源には、図２の分光特性を有する紫外線カッ
トフィルター（商品名“Ｙ−４５”、東芝硝子製）を装
着した５００Ｗキセノンランプ（商品名“ランプハウス
ＵＩ―５０２Ｑ，ランプＵＸＬ−５００Ｄ、点灯装置Ｘ
Ｂ−５０１０１ＡＡ−Ａ”、ウシオ電機製）を用いた。
このときの二酸化炭素の生成速度は光触媒体１ｇあたり
５．８６μｍｏｌ／ｈであった。
【００２４】比較例１ 市販の酸化チタン（商品名“ＳＴ−０１”、石原産業
製）だけからなる光触媒体を用いた以外は、実施例１と
同様にして光触媒体の光分解作用を評価した。このとき
の二酸化炭素の生成速度は光触媒体１ｇあたり０．４６
μｍｏｌ／ｈであった。酸化チタンＳＴ−０１のＥＳＲ
スペクトルを図１に、このＥＳＲスペクトルから求めら
れたｇ値を表１に示す。
製）だけからなる光触媒体を用いた以外は、実施例１と
同様にして光触媒体の光分解作用を評価した。このとき
の二酸化炭素の生成速度は光触媒体１ｇあたり０．４６
μｍｏｌ／ｈであった。酸化チタンＳＴ−０１のＥＳＲ
スペクトルを図１に、このＥＳＲスペクトルから求めら
れたｇ値を表１に示す。
【００２５】
【表１】 表１中、○印のものは極大ピークのｇ値を示す。
【００２６】波長が４３０ｎｍ以上である可視光線を光
触媒体に照射する条件で、酢酸から二酸化炭素への分解
作用について調べた結果、本発明の光触媒体は市販の酸
化チタンからなる光触媒体に比べて、光分解作用（光触
媒作用）が高かった。
触媒体に照射する条件で、酢酸から二酸化炭素への分解
作用について調べた結果、本発明の光触媒体は市販の酸
化チタンからなる光触媒体に比べて、光分解作用（光触
媒作用）が高かった。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、可視光線の照射によっ
て高い光触媒作用を示す酸化チタンが提供される。また
本発明によれば、触媒成分として可視光線の照射により
高い光触媒作用を示す酸化チタンを含む光触媒体が提供
され、この光触媒体を使用することによって酢酸等の有
機酸をはじめ各種有機物を分解除去することができ、ま
た、大気中ＮＯｘの分解、居住空間や作業空間の悪臭物
質、カビ等の分解除去、あるいは水中の有機溶剤、農
薬、界面活性剤の分解除去に適用することもできる。さ
らに本発明によれば、酸化チタンと溶媒とを含む光触媒
体コーティング剤が提供され、このコーティング剤を使
用することによって、建築材料、自動車材料等に酸化チ
タンを塗布すること、又は建築材料、自動車材料等を酸
化チタンで被覆することが容易になり、これらの材料に
高い光触媒作用を付与することができる。
て高い光触媒作用を示す酸化チタンが提供される。また
本発明によれば、触媒成分として可視光線の照射により
高い光触媒作用を示す酸化チタンを含む光触媒体が提供
され、この光触媒体を使用することによって酢酸等の有
機酸をはじめ各種有機物を分解除去することができ、ま
た、大気中ＮＯｘの分解、居住空間や作業空間の悪臭物
質、カビ等の分解除去、あるいは水中の有機溶剤、農
薬、界面活性剤の分解除去に適用することもできる。さ
らに本発明によれば、酸化チタンと溶媒とを含む光触媒
体コーティング剤が提供され、このコーティング剤を使
用することによって、建築材料、自動車材料等に酸化チ
タンを塗布すること、又は建築材料、自動車材料等を酸
化チタンで被覆することが容易になり、これらの材料に
高い光触媒作用を付与することができる。
【図1】 実施例１で得られた酸化チタン及び比較例１
で使用した市販の酸化チタンのＥＳＲスペクトル。
で使用した市販の酸化チタンのＥＳＲスペクトル。
【図2】 実施例１、比較例１に用いた光源に装着した
紫外線カットフィルターの分光特性を示す波長−透過率
線図。
紫外線カットフィルターの分光特性を示す波長−透過率
線図。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 1/00 Ｂ０１Ｄ 53/36 Ｊ 5/00 Ｇ １０２Ｃ
Claims (3)
- 【請求項１】 電子スピン共鳴スペクトルにおいてｇ値
１．９３０〜２．０３０の間に３つ以上のピークを有
し、かつそれらピークの内の極大となるピークがｇ値
１．９９０〜２．０２０の間に存在することを特徴とす
る酸化チタン。 - 【請求項２】 触媒成分として請求項１に記載の酸化チ
タンを含むことを特徴とする光触媒体。 - 【請求項３】 請求項１に記載の酸化チタンと溶媒とを
含むことを特徴とする光触媒体コーティング剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000330201A JP2001190953A (ja) | 1999-10-29 | 2000-10-30 | 酸化チタン、それを用いてなる光触媒体及び光触媒体コーティング剤 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31025099 | 1999-10-29 | ||
| JP11-310250 | 1999-10-29 | ||
| JP2000330201A JP2001190953A (ja) | 1999-10-29 | 2000-10-30 | 酸化チタン、それを用いてなる光触媒体及び光触媒体コーティング剤 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001307222A Division JP4019679B2 (ja) | 1999-10-29 | 2001-10-03 | 光触媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001190953A true JP2001190953A (ja) | 2001-07-17 |
| JP2001190953A5 JP2001190953A5 (ja) | 2007-10-11 |
Family
ID=26566245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000330201A Pending JP2001190953A (ja) | 1999-10-29 | 2000-10-30 | 酸化チタン、それを用いてなる光触媒体及び光触媒体コーティング剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001190953A (ja) |
Cited By (10)
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| EP1400491A2 (en) | 2002-09-18 | 2004-03-24 | Toshiba Ceramics Co., Ltd. | Titanium dioxide fine particles and method for producing the same, and method for producing visible light activatable photocatalyst |
| WO2005102521A1 (ja) * | 2004-04-20 | 2005-11-03 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | 酸化チタン系光触媒とその製造方法、およびその利用 |
| WO2008072595A1 (ja) | 2006-12-13 | 2008-06-19 | Kawamura Institute Of Chemical Research | ドーピング酸化チタンの製造方法、ドーピング酸化チタン及びこれを用いる可視光応答型光触媒 |
| US7521391B2 (en) | 2004-03-17 | 2009-04-21 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Coating composition of photocatalyst |
| US7521133B2 (en) | 2002-03-25 | 2009-04-21 | Osaka Titanium Technologies Co., Ltd. | Titanium oxide photocatalyst, process for producing the same and application |
| EP2130587A2 (en) | 2008-06-05 | 2009-12-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Photocatalyst dispersion liquid and process for producing the same |
| EP2223896A1 (en) | 2009-02-04 | 2010-09-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Hydrophilizing agent, method of producing hydrophilizing agent and hydrophilic product |
| EP2281628A2 (en) | 2009-08-07 | 2011-02-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing noble metal-supported photocatalyst particles |
| DE102010045549A1 (de) | 2009-09-16 | 2011-08-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Photokatalysatorverbund und diesen verwendendes photokatalytisch wirksames Erzeugnis |
| JP2013149953A (ja) * | 2011-12-20 | 2013-08-01 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及び半導体装置の作製方法 |
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| JPH09165218A (ja) * | 1995-11-20 | 1997-06-24 | Bayer Ag | ナノ分散性二酸化チタン、それの製造方法およびそれの使用 |
| JPH11333304A (ja) * | 1998-05-22 | 1999-12-07 | Kankyo Device Kenkyusho:Kk | 光触媒及びその利用 |
| JP2002166179A (ja) * | 1999-10-29 | 2002-06-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光触媒体、その製造方法、その使用方法及びそれを用いてなる光触媒体コーティング剤 |
-
2000
- 2000-10-30 JP JP2000330201A patent/JP2001190953A/ja active Pending
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Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JPN6010007914, Ｍａｓａｋａｚｕ Ａｎｐｏ ｅｔ ａｌ．, "Ｐｈｏｔｏｆｏｒｍａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ｏｆ Ｏ２− ａｎｄ Ｎｉｔｒｏｇｅｎ−Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ Ａｎｉｏｎ Ｒａｄｉｃａｌｓ Ａｄｓｏｒｂｅｄ ｏｎ Ｈｉｇｈｌｙ Ｄｉｓｐｅｒ", Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ, 1985, Ｖｏｌ．８９, ｐ５６８９−５６９４ * |
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