JP2001188117A - 電気光学装置部品の製造方法 - Google Patents
電気光学装置部品の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な構成で液状物の乾燥条件の差を抑え、
色むら、色調むら、光度むらのない電気光学装置部品の
製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明の電気光学装置部品の製造方法
は、複数の画素１３が所定間隔をもって連続形成される
画素形成領域と前記所定間隔以上にわたって画素が形成
されない非形成領域１９とを備える基板上の当該各画素
１３に所定の液状物１７を吐出し、かつ、前記非形成領
域１９の一部に、前記画素形成領域を取り囲んで前記液
状物１７を吐出する工程と、前記吐出した液状物を乾燥
させる工程とを備える。
色むら、色調むら、光度むらのない電気光学装置部品の
製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明の電気光学装置部品の製造方法
は、複数の画素１３が所定間隔をもって連続形成される
画素形成領域と前記所定間隔以上にわたって画素が形成
されない非形成領域１９とを備える基板上の当該各画素
１３に所定の液状物１７を吐出し、かつ、前記非形成領
域１９の一部に、前記画素形成領域を取り囲んで前記液
状物１７を吐出する工程と、前記吐出した液状物を乾燥
させる工程とを備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ、
エレクトロルミネセンス素子マトリクス等の、電気光学
装置部品の製造方法に関する。特に、基板上の各画素が
形成される位置にそれぞれ微小インク滴等の液状物を吐
出して製造される電気光学装置部品について、乾燥速度
を制御することによって、乾燥後の表面を平坦化する技
術に関する。
エレクトロルミネセンス素子マトリクス等の、電気光学
装置部品の製造方法に関する。特に、基板上の各画素が
形成される位置にそれぞれ微小インク滴等の液状物を吐
出して製造される電気光学装置部品について、乾燥速度
を制御することによって、乾燥後の表面を平坦化する技
術に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルタ等の電気光学装置部品の
製造方法として、インクジェット法を応用した方法が提
案されている。この方法では、透明基板上に仕切りをマ
トリクス状に形成した後、インクジェット法を用いて液
状物を仕切り内に塗布する。
製造方法として、インクジェット法を応用した方法が提
案されている。この方法では、透明基板上に仕切りをマ
トリクス状に形成した後、インクジェット法を用いて液
状物を仕切り内に塗布する。
【０００３】かかる従来の電気光学装置部品の製造方法
においては、液状物吐出時には基板上の仕切りより上方
に盛り上がる程度に液状物を付与する。これを所定温度
でベークし乾燥及び硬化させると体積が減り、平坦化す
る。
においては、液状物吐出時には基板上の仕切りより上方
に盛り上がる程度に液状物を付与する。これを所定温度
でベークし乾燥及び硬化させると体積が減り、平坦化す
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例えば
カラーフィルタに於いて、吐出するインクのレベリング
性の制御が不十分であると、乾燥時のインクの体積が大
きすぎて基板上の仕切りより上方に盛り上がってしまっ
たり、乾燥時の体積が小さすぎてへこんだ形状になって
しまったりすることがある。
カラーフィルタに於いて、吐出するインクのレベリング
性の制御が不十分であると、乾燥時のインクの体積が大
きすぎて基板上の仕切りより上方に盛り上がってしまっ
たり、乾燥時の体積が小さすぎてへこんだ形状になって
しまったりすることがある。
【０００５】図１は、インク吐出直後及び乾燥後におけ
る画素のインク面の状態を示す断面図である。図１
（ａ）〜（ｃ）の各図において、符号２１はインク吐出
直後のインク面であり、符号２２はインクを乾燥及び固
化させた場合のインク面である。各図に示されるよう
に、インク吐出直後のインク面２１の盛り上がりは、図
１（ａ）〜（ｃ）で違いがない。しかし、インクを乾燥
及び固化させた場合のインク面２２は、図１（ａ）では
画素の仕切りより上側に盛り上がっており、図１（ｂ）
では画素の仕切りの上端より下方に凹んでおり、図１
（ｃ）では仕切りの上端とほぼ同じ高さで、インク面も
平坦である。
る画素のインク面の状態を示す断面図である。図１
（ａ）〜（ｃ）の各図において、符号２１はインク吐出
直後のインク面であり、符号２２はインクを乾燥及び固
化させた場合のインク面である。各図に示されるよう
に、インク吐出直後のインク面２１の盛り上がりは、図
１（ａ）〜（ｃ）で違いがない。しかし、インクを乾燥
及び固化させた場合のインク面２２は、図１（ａ）では
画素の仕切りより上側に盛り上がっており、図１（ｂ）
では画素の仕切りの上端より下方に凹んでおり、図１
（ｃ）では仕切りの上端とほぼ同じ高さで、インク面も
平坦である。
【０００６】このように乾燥後のインク面に差が生じる
のは、インクの量及び濃度が同一でも、乾燥条件が異な
るからである。例えばインクを吐出後、高温条件下で乾
燥させると、乾燥が速く進み、図１（ｂ）のようにイン
クの体積が小さくなる傾向にある。逆に低温条件下で乾
燥させると、乾燥が遅くなり、図１（ａ）のように乾燥
後のインクの体積がさほど小さくならない傾向にある。
のは、インクの量及び濃度が同一でも、乾燥条件が異な
るからである。例えばインクを吐出後、高温条件下で乾
燥させると、乾燥が速く進み、図１（ｂ）のようにイン
クの体積が小さくなる傾向にある。逆に低温条件下で乾
燥させると、乾燥が遅くなり、図１（ａ）のように乾燥
後のインクの体積がさほど小さくならない傾向にある。
【０００７】そこで、乾燥後のインク面を図１（ｃ）に
示すような所望の状態にするには、インクの乾燥条件の
制御が必要となる。しかしながら、同じカラーフィルタ
基板上の画素間にもインク面のばらつきが生じることが
ある。特に、画素形成領域の周縁部の画素と中央部の画
素との間、および、カラーフィルタ基板周縁部の画素と
中央部の画素との間にばらつきが生じている。これは、
画素形成領域の周縁部の乾燥速度が中央部より速く、基
板周縁部の乾燥速度が基板中央部より速いことに起因す
ると考えられる。このような同一基板上のレベリング性
の差は、色むら、色調差の原因となって好ましくない。
示すような所望の状態にするには、インクの乾燥条件の
制御が必要となる。しかしながら、同じカラーフィルタ
基板上の画素間にもインク面のばらつきが生じることが
ある。特に、画素形成領域の周縁部の画素と中央部の画
素との間、および、カラーフィルタ基板周縁部の画素と
中央部の画素との間にばらつきが生じている。これは、
画素形成領域の周縁部の乾燥速度が中央部より速く、基
板周縁部の乾燥速度が基板中央部より速いことに起因す
ると考えられる。このような同一基板上のレベリング性
の差は、色むら、色調差の原因となって好ましくない。
【０００８】この乾燥速度の違いを解決するためには、
中央部の画素の乾燥を速めるためのメカニカルな工夫も
考えられるが、その設計は必ずしも容易ではない。
中央部の画素の乾燥を速めるためのメカニカルな工夫も
考えられるが、その設計は必ずしも容易ではない。
【０００９】そこで、本発明は、簡単な構成で液状物の
乾燥条件の差を抑え、色むら、色調むら、光度むらのな
い電気光学装置部品の製造方法を提供することを目的と
する。
乾燥条件の差を抑え、色むら、色調むら、光度むらのな
い電気光学装置部品の製造方法を提供することを目的と
する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】そこで本発明の電気光学
装置部品の製造方法は、複数の画素が所定間隔をもって
連続形成される画素形成領域と前記所定間隔以上にわた
って画素が形成されない非形成領域とを備える基板上の
当該各画素に所定の液状物を吐出し、かつ、前記非形成
領域の一部に、前記画素形成領域を取り囲んで前記液状
物を吐出する工程と、前記吐出した液状物を乾燥させる
工程とを備える。
装置部品の製造方法は、複数の画素が所定間隔をもって
連続形成される画素形成領域と前記所定間隔以上にわた
って画素が形成されない非形成領域とを備える基板上の
当該各画素に所定の液状物を吐出し、かつ、前記非形成
領域の一部に、前記画素形成領域を取り囲んで前記液状
物を吐出する工程と、前記吐出した液状物を乾燥させる
工程とを備える。
【００１１】これにより、画素領域内の液状物の乾燥条
件を均一にし、乾燥後の表面を均一にすることができ、
色むら、色調むら、光度むらのない電気光学装置部品を
製造することができる。
件を均一にし、乾燥後の表面を均一にすることができ、
色むら、色調むら、光度むらのない電気光学装置部品を
製造することができる。
【００１２】また、本発明の電気光学装置部品の製造方
法において、前記基板は、前記非形成領域によって複数
の画素形成領域に区分され、前記画素形成領域の各々が
複数の画素を備えて１枚の電気光学装置部品を構成して
もよい。
法において、前記基板は、前記非形成領域によって複数
の画素形成領域に区分され、前記画素形成領域の各々が
複数の画素を備えて１枚の電気光学装置部品を構成して
もよい。
【００１３】また、本発明の電気光学装置部品の製造方
法において、前記基板はカラーフィルタ基板であって、
前記液状物としてインクを吐出するものでもよい。これ
により、乾燥後のインク面を平坦にすることが容易とな
り、色むら、色調むらのないカラーフィルタを製造する
ことができる。
法において、前記基板はカラーフィルタ基板であって、
前記液状物としてインクを吐出するものでもよい。これ
により、乾燥後のインク面を平坦にすることが容易とな
り、色むら、色調むらのないカラーフィルタを製造する
ことができる。
【００１４】また、本発明の電気光学装置部品の製造方
法において、前記複数の画素形成領域の各々を取り囲ん
で前記液状物を吐出することとしてもよい。
法において、前記複数の画素形成領域の各々を取り囲ん
で前記液状物を吐出することとしてもよい。
【００１５】また、前記非形成領域内の吐出域には、前
記非形成領域と前記複数の画素形成領域との境界線を形
成する画素に吐出する液状物の量と少なくとも同量の液
状物を吐出することが望ましい。
記非形成領域と前記複数の画素形成領域との境界線を形
成する画素に吐出する液状物の量と少なくとも同量の液
状物を吐出することが望ましい。
【００１６】また、本発明の電気光学装置部品の製造方
法において、前記複数の画素形成領域の全体を取り囲ん
で前記液状物を吐出することとしてもよい。
法において、前記複数の画素形成領域の全体を取り囲ん
で前記液状物を吐出することとしてもよい。
【００１７】また、前記非形成領域内の吐出域には、基
板中の最も外側の画素に吐出する液状物の量と少なくと
も同量の液状物を吐出することが望ましい。
板中の最も外側の画素に吐出する液状物の量と少なくと
も同量の液状物を吐出することが望ましい。
【００１８】また、本発明の電気光学装置部品の製造方
法において、前記複数の画素形成領域の各々を取り囲ん
で前記液状物を吐出する第１の吐出域と、前記複数の画
素形成領域の全体を取り囲んで前記液状物を吐出する第
２の吐出域とを備えることとしてもよい。
法において、前記複数の画素形成領域の各々を取り囲ん
で前記液状物を吐出する第１の吐出域と、前記複数の画
素形成領域の全体を取り囲んで前記液状物を吐出する第
２の吐出域とを備えることとしてもよい。
【００１９】また、前記第２の吐出域は、前記第１の吐
出域より外側に形成されることとしてもよい。
出域より外側に形成されることとしてもよい。
【００２０】また、本発明の電気光学装置部品の製造方
法において、前記非形成領域内の吐出域は、前記画素形
成領域との境界付近に形成されることが望ましい。
法において、前記非形成領域内の吐出域は、前記画素形
成領域との境界付近に形成されることが望ましい。
【００２１】
【発明の実施の形態】まず、本発明の第１の実施の形態
によるカラーフィルタの製造方法について、図面を参照
して説明する。
によるカラーフィルタの製造方法について、図面を参照
して説明する。
【００２２】（カラーフィルタの構成）図２に、この実
施形態でカラーフィルタを製造する際に用いられるカラ
ーフィルタ基板の平面形状を示す。図３は、図２の符号
Ａで示す円内の拡大図である。
施形態でカラーフィルタを製造する際に用いられるカラ
ーフィルタ基板の平面形状を示す。図３は、図２の符号
Ａで示す円内の拡大図である。
【００２３】図２に示されるように、カラーフィルタ基
板１２は、１枚のカラーフィルタとなるパネルチップ１
１が、平面上に複数並べられた状態となっている。この
実施形態では、１枚のカラーフィルタ基板１２は、８×
１２＝９６枚のパネルチップ１１から構成されている。
カラーフィルタの製造時には、これら複数のパネルチッ
プ１１に対してまとめてインクの吐出及び乾燥の処理を
行い、その後、パネルチップ単位に切り離してカラーフ
ィルタとする。
板１２は、１枚のカラーフィルタとなるパネルチップ１
１が、平面上に複数並べられた状態となっている。この
実施形態では、１枚のカラーフィルタ基板１２は、８×
１２＝９６枚のパネルチップ１１から構成されている。
カラーフィルタの製造時には、これら複数のパネルチッ
プ１１に対してまとめてインクの吐出及び乾燥の処理を
行い、その後、パネルチップ単位に切り離してカラーフ
ィルタとする。
【００２４】図３に示されるように、パネルチップ１１
は、マトリクス状に並んだ画素１３を備え、画素と画素
の境目は、仕切り１４によって区切られている。そし
て、複数の画素１３が仕切り１４を介して連続形成され
る画素形成領域の外側には、画素が形成されない非形成
領域１９がある。
は、マトリクス状に並んだ画素１３を備え、画素と画素
の境目は、仕切り１４によって区切られている。そし
て、複数の画素１３が仕切り１４を介して連続形成され
る画素形成領域の外側には、画素が形成されない非形成
領域１９がある。
【００２５】カラーフィルタの製造の際には、上記画素
１３の１つ１つに、赤、緑、青のいずれかのインクを数
滴ずつ吐出する。図３の例では赤、緑、青の配置をいわ
ゆるモザイク型としたが、３色が均等に配置されていれ
ば、ストライプ型など、その他の配置でも構わない。
１３の１つ１つに、赤、緑、青のいずれかのインクを数
滴ずつ吐出する。図３の例では赤、緑、青の配置をいわ
ゆるモザイク型としたが、３色が均等に配置されていれ
ば、ストライプ型など、その他の配置でも構わない。
【００２６】図４は、図３のＢ−Ｂ’線断面図である。
カラーフィルタ基板を構成するパネルチップ１１は、透
光層１５と、遮光層である仕切り１４とを備えている。
仕切り１４が形成されていない（除去された）部分は、
上記画素１３を形成する。この画素１３に各色の液状イ
ンクを吐出し、乾燥および固化させることにより、カラ
ーフィルタとなる。
カラーフィルタ基板を構成するパネルチップ１１は、透
光層１５と、遮光層である仕切り１４とを備えている。
仕切り１４が形成されていない（除去された）部分は、
上記画素１３を形成する。この画素１３に各色の液状イ
ンクを吐出し、乾燥および固化させることにより、カラ
ーフィルタとなる。
【００２７】（吐出インクの配置）本発明では、パネル
チップのうち画素が形成されない非形成領域に、複数の
画素が連続形成される画素形成領域を取り囲むようにイ
ンク滴を吐出し、画素形成領域の周縁部の乾燥条件を、
画素形成領域の中央部の乾燥条件に近づけることによっ
て、画素形成領域の周縁部の乾燥速度を適切に制御す
る。
チップのうち画素が形成されない非形成領域に、複数の
画素が連続形成される画素形成領域を取り囲むようにイ
ンク滴を吐出し、画素形成領域の周縁部の乾燥条件を、
画素形成領域の中央部の乾燥条件に近づけることによっ
て、画素形成領域の周縁部の乾燥速度を適切に制御す
る。
【００２８】図５及び図６を用いて、本発明の実施例を
具体的に説明する。図５は、本実施形態によるカラーフ
ィルタの製造方法におけるインクの吐出パターンと、パ
ネルチップにおける画素の配置との平面的位置関係を示
したものである。図５の符号１３は、各画素の位置を示
す。符号１７は、インクの吐出位置を示す。この図に示
されるように、パネルチップ上の各画素にインクを吐出
するとともに、画素が形成されない領域にも、画素形成
領域との境界に沿ってインクを吐出する。特に、画素形
成領域と非形成領域との境界線を形成する画素に対し
て、非形成領域側にもう１列の画素がある場合と同等
に、いわばダミーのインク滴を吐出する第１のダミー領
域を設ける。
具体的に説明する。図５は、本実施形態によるカラーフ
ィルタの製造方法におけるインクの吐出パターンと、パ
ネルチップにおける画素の配置との平面的位置関係を示
したものである。図５の符号１３は、各画素の位置を示
す。符号１７は、インクの吐出位置を示す。この図に示
されるように、パネルチップ上の各画素にインクを吐出
するとともに、画素が形成されない領域にも、画素形成
領域との境界に沿ってインクを吐出する。特に、画素形
成領域と非形成領域との境界線を形成する画素に対し
て、非形成領域側にもう１列の画素がある場合と同等
に、いわばダミーのインク滴を吐出する第１のダミー領
域を設ける。
【００２９】この場合、第１のダミー領域には、隣接す
る画素１つにつき、画素形成領域における１画素あたり
のインク滴の量と同じかそれ以上のインク滴を、吐出す
ることが望ましい。例えば、画素形成領域における１画
素あたりのインク滴が約７０ピコリットルであるとすれ
ば、画素形成領域と非形成領域との境界線を形成する画
素の隣にも、７０ピコリットルまたはそれ以上のインク
滴を吐出する。
る画素１つにつき、画素形成領域における１画素あたり
のインク滴の量と同じかそれ以上のインク滴を、吐出す
ることが望ましい。例えば、画素形成領域における１画
素あたりのインク滴が約７０ピコリットルであるとすれ
ば、画素形成領域と非形成領域との境界線を形成する画
素の隣にも、７０ピコリットルまたはそれ以上のインク
滴を吐出する。
【００３０】これにより、パネルチップの周縁部に位置
する画素のインク乾燥条件と、パネルチップの中央部に
位置する画素のインク乾燥条件を近づけることができ
る。画素以外の部分に吐出するインクの色は、特に限定
されない。また、インクの吐出順序は特に限定されず、
インクジェットヘッドの移動距離など、カラーフィルタ
の製造効率を考慮してプログラムすればよい。
する画素のインク乾燥条件と、パネルチップの中央部に
位置する画素のインク乾燥条件を近づけることができ
る。画素以外の部分に吐出するインクの色は、特に限定
されない。また、インクの吐出順序は特に限定されず、
インクジェットヘッドの移動距離など、カラーフィルタ
の製造効率を考慮してプログラムすればよい。
【００３１】実際にインクを吐出して実験を行ったとこ
ろ、従来の方法では、画素間の色ばらつきΔＥが７であ
ったが、本実施形態では、ΔＥが３以下に収まり、ばら
つきの小さいカラーフィルタを製造することができた。
ろ、従来の方法では、画素間の色ばらつきΔＥが７であ
ったが、本実施形態では、ΔＥが３以下に収まり、ばら
つきの小さいカラーフィルタを製造することができた。
【００３２】図６は、ダミー領域の配置を示す平面図で
ある。図６に示すように、上記第１のダミー領域３１の
外側でかつカラーフィルタ基板１２の周縁部に沿って、
複数の画素形成領域の全体を取り囲むように第２のダミ
ー領域３２を設ける。この第２のダミー領域３２に吐出
する単位面積当たりのインク量は、カラーフィルタに吐
出されるインク滴の単位面積当たりのインク量と同等に
することが望ましい。また、第２のダミー領域には、基
板中の最も外側の画素に対するインク滴の量と少なくと
も同量のインク滴を吐出する。これにより、カラーフィ
ルタ基板の周縁部に位置する画素のインク乾燥条件と、
カラーフィルタ基板の中央部に位置する画素のインク乾
燥条件を近づけることができる。
ある。図６に示すように、上記第１のダミー領域３１の
外側でかつカラーフィルタ基板１２の周縁部に沿って、
複数の画素形成領域の全体を取り囲むように第２のダミ
ー領域３２を設ける。この第２のダミー領域３２に吐出
する単位面積当たりのインク量は、カラーフィルタに吐
出されるインク滴の単位面積当たりのインク量と同等に
することが望ましい。また、第２のダミー領域には、基
板中の最も外側の画素に対するインク滴の量と少なくと
も同量のインク滴を吐出する。これにより、カラーフィ
ルタ基板の周縁部に位置する画素のインク乾燥条件と、
カラーフィルタ基板の中央部に位置する画素のインク乾
燥条件を近づけることができる。
【００３３】実際にインクを吐出して実験を行ったとこ
ろ、従来の方法では、全チップ間の色ばらつきΔＥが７
であったが、本実施形態では、ΔＥが３以下に収まり、
ばらつきの小さいカラーフィルタを製造することができ
た。
ろ、従来の方法では、全チップ間の色ばらつきΔＥが７
であったが、本実施形態では、ΔＥが３以下に収まり、
ばらつきの小さいカラーフィルタを製造することができ
た。
【００３４】（カラーフィルタの製造工程）以下、本実
施形態の製造方法によるカラーフィルタの製造工程につ
き、更に詳細に説明する。
施形態の製造方法によるカラーフィルタの製造工程につ
き、更に詳細に説明する。
【００３５】膜厚０．７ｍｍ、たて３８ｃｍ、横３０ｃ
ｍの無アルカリガラスからなる透明基板の表面を、熱濃
硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗浄液で洗浄
し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清浄表面を
得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜を平均
０．２μｍの膜厚で形成し、金属層を得た。この金属層
の表面に、フォトレジストＯＦＰＲ−８００（東京応化
製）をスピンコートした。基板はホットプレート上で、
８０℃で５分間乾燥し、フォトレジスト層を形成した。
ｍの無アルカリガラスからなる透明基板の表面を、熱濃
硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗浄液で洗浄
し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清浄表面を
得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜を平均
０．２μｍの膜厚で形成し、金属層を得た。この金属層
の表面に、フォトレジストＯＦＰＲ−８００（東京応化
製）をスピンコートした。基板はホットプレート上で、
８０℃で５分間乾燥し、フォトレジスト層を形成した。
【００３６】この基板表面に、所要のマトリクスパター
ン形状を描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で
露光をおこなった。次に、これを、水酸化カリウムを８
重量％の割合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光
の部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパター
ニングした。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分
とするエッチング液でエッチング除去した。このように
して所定のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラッ
クマトリクス）を得た。遮光層の膜厚は、およそ０．２
μｍであった。また、遮光層の幅は、およそ２２μｍで
あった。
ン形状を描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で
露光をおこなった。次に、これを、水酸化カリウムを８
重量％の割合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光
の部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパター
ニングした。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分
とするエッチング液でエッチング除去した。このように
して所定のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラッ
クマトリクス）を得た。遮光層の膜厚は、およそ０．２
μｍであった。また、遮光層の幅は、およそ２２μｍで
あった。
【００３７】この基板上に、さらにネガ型の透明アクリ
ル系の感光性樹脂組成物をやはりスピンコート法で塗布
した。１００℃で２０分間プレベークした後、所定のマ
トリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを用い
て紫外線露光を行った。未露光部分の樹脂を、やはりア
ルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後スピン
乾燥した。最終乾燥としてのアフターベークを２００℃
で３０分間行い、樹脂部を十分硬化させ、バンク層を形
成した。このバンク層の膜厚は、平均で２．７μｍであ
った。また、バンク層の幅は、およそ１４μｍであっ
た。そして、遮光層は、その上面でおよそ４μｍの幅の
リング状露出面が形成されていた。
ル系の感光性樹脂組成物をやはりスピンコート法で塗布
した。１００℃で２０分間プレベークした後、所定のマ
トリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを用い
て紫外線露光を行った。未露光部分の樹脂を、やはりア
ルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後スピン
乾燥した。最終乾燥としてのアフターベークを２００℃
で３０分間行い、樹脂部を十分硬化させ、バンク層を形
成した。このバンク層の膜厚は、平均で２．７μｍであ
った。また、バンク層の幅は、およそ１４μｍであっ
た。そして、遮光層は、その上面でおよそ４μｍの幅の
リング状露出面が形成されていた。
【００３８】得られた遮光層およびバンク層で区画され
た着色層形成領域のインク濡れ性を改善するため、ドラ
イエッチング、すなわち大気圧プラズマ処理を行った。
ヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加
し、プラズマ雰囲気を大気圧内でエッチングスポットに
形成し、基板を、このエッチングスポット下を通過させ
てエッチングし、バンク層とともに着色層形成領域（ガ
ラス基板の露出面）の活性化処理を行った。この処理の
直後、対比テストプレートでの水に対する接触角は、バ
ンク層上で平均５０°であったのに対し、ガラス基板上
では平均３５°であった。
た着色層形成領域のインク濡れ性を改善するため、ドラ
イエッチング、すなわち大気圧プラズマ処理を行った。
ヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加
し、プラズマ雰囲気を大気圧内でエッチングスポットに
形成し、基板を、このエッチングスポット下を通過させ
てエッチングし、バンク層とともに着色層形成領域（ガ
ラス基板の露出面）の活性化処理を行った。この処理の
直後、対比テストプレートでの水に対する接触角は、バ
ンク層上で平均５０°であったのに対し、ガラス基板上
では平均３５°であった。
【００３９】この着色層形成領域に、インクジェットプ
リンティングヘッドから色材であるインクを高精度で制
御しつつ吐出し、インクを塗布した。インクジェットプ
リンティングヘッドには、ピエゾ圧電効果を応用した精
密ヘッドを使用し、２０ピコリットルの微小インク滴を
着色形成領域毎に３〜８滴、選択的に飛ばした。ヘッド
よりターゲットである着色層形成領域への飛翔速度、飛
行曲がり、サテライトと称される***迷走滴の発生防止
のためには、インクの物性はもとよりヘッドのピエゾ素
子を駆動する電圧と、その波形が重要である。従って、
あらかじめ条件設定された波形をプログラムして、イン
ク滴を赤、緑、青の３色を同時に塗布して所定の配色パ
ターンの着色層を形成した。
リンティングヘッドから色材であるインクを高精度で制
御しつつ吐出し、インクを塗布した。インクジェットプ
リンティングヘッドには、ピエゾ圧電効果を応用した精
密ヘッドを使用し、２０ピコリットルの微小インク滴を
着色形成領域毎に３〜８滴、選択的に飛ばした。ヘッド
よりターゲットである着色層形成領域への飛翔速度、飛
行曲がり、サテライトと称される***迷走滴の発生防止
のためには、インクの物性はもとよりヘッドのピエゾ素
子を駆動する電圧と、その波形が重要である。従って、
あらかじめ条件設定された波形をプログラムして、イン
ク滴を赤、緑、青の３色を同時に塗布して所定の配色パ
ターンの着色層を形成した。
【００４０】インクとしては、ポリウレタン樹脂オリゴ
マーに無機顔料を分散させた後、低沸点溶剤としてシク
ロヘキサノンおよび酢酸ブチルを、高沸点溶剤としてブ
チルカルビトールアセテートを加え、さらに非イオン系
界面活性剤０．０１重量％を分散剤として添加し、粘度
６〜８センチポアズとしたものを用いた。
マーに無機顔料を分散させた後、低沸点溶剤としてシク
ロヘキサノンおよび酢酸ブチルを、高沸点溶剤としてブ
チルカルビトールアセテートを加え、さらに非イオン系
界面活性剤０．０１重量％を分散剤として添加し、粘度
６〜８センチポアズとしたものを用いた。
【００４１】塗布後の乾燥は、自然雰囲気中で３時間放
置してインク層のセッティングを行った後、８０℃のホ
ットプレート上で４０分間加熱し、最後にオーブン中で
２００℃で３０分間加熱してインク層の硬化処理を行っ
て、着色層を得た。この条件によって着色層、特にその
透過部における膜厚のばらつきを１０％以下に抑制する
ことが出来、結果として着色層の色調の色差を３以下、
さらには２以下に抑制できた。
置してインク層のセッティングを行った後、８０℃のホ
ットプレート上で４０分間加熱し、最後にオーブン中で
２００℃で３０分間加熱してインク層の硬化処理を行っ
て、着色層を得た。この条件によって着色層、特にその
透過部における膜厚のばらつきを１０％以下に抑制する
ことが出来、結果として着色層の色調の色差を３以下、
さらには２以下に抑制できた。
【００４２】上記基板に、透明アクリル樹脂塗料をスピ
ンコートして平滑面を有するオーバーコート層を得た。
さらに、この上面にＩＴＯからなる電極層を所要パター
ンで形成して、カラーフィルタとした。得られたカラー
フィルタは、熱サイクル耐久試験、紫外線照射試験、加
湿試験等の耐久試験に合格し、液晶表示装置などの要素
基板として十分用い得ることを確認した。
ンコートして平滑面を有するオーバーコート層を得た。
さらに、この上面にＩＴＯからなる電極層を所要パター
ンで形成して、カラーフィルタとした。得られたカラー
フィルタは、熱サイクル耐久試験、紫外線照射試験、加
湿試験等の耐久試験に合格し、液晶表示装置などの要素
基板として十分用い得ることを確認した。
【００４３】（他の電気光学装置部品の例）上記の実施
形態は、電気光学装置部品としてカラーフィルタを例に
とって説明したが、これに限らず、ＥＬ（エレクトロル
ミネセンス）表示装置に用いられるＥＬ素子マトリク
ス、ＭＬＡ（マイクロレンズアレイ）など、液状物を塗
布して乾燥させる工程を備えた種々の電気光学装置部品
に、本発明を適用することができる。
形態は、電気光学装置部品としてカラーフィルタを例に
とって説明したが、これに限らず、ＥＬ（エレクトロル
ミネセンス）表示装置に用いられるＥＬ素子マトリク
ス、ＭＬＡ（マイクロレンズアレイ）など、液状物を塗
布して乾燥させる工程を備えた種々の電気光学装置部品
に、本発明を適用することができる。
【００４４】
【発明の効果】本発明によれば、液状物の乾燥条件を、
画素形成領域の周縁部と中央部、又は基板の周縁部と中
央部で均一化することにより、色むら、色調むら、光度
むらのない電気光学装置部品の製造方法を提供すること
ができる。
画素形成領域の周縁部と中央部、又は基板の周縁部と中
央部で均一化することにより、色むら、色調むら、光度
むらのない電気光学装置部品の製造方法を提供すること
ができる。
【図１】インク吐出直後及び乾燥後における画素のイン
ク面の状態を示す断面図である。
ク面の状態を示す断面図である。
【図２】本発明の実施形態でカラーフィルタを製造する
際に用いられるカラーフィルタ基板の平面図である。
際に用いられるカラーフィルタ基板の平面図である。
【図３】図２の符号Ａで示す円内の拡大図である。
【図４】図３のＢ−Ｂ’線断面図である。
【図５】本実施形態によるカラーフィルタの製造方法に
おけるインクの吐出パターンと、パネルチップにおける
画素の配置との平面的位置関係を示した図である。
おけるインクの吐出パターンと、パネルチップにおける
画素の配置との平面的位置関係を示した図である。
【図６】ダミー領域の配置を示す平面図である。
１３…画素、１７…液状物、１９…非形成領域、２１…
インク吐出直後のインク面、２２…インク乾燥後のイン
ク面、１２…基板、１１…パネルチップ、１４…仕切
り、１５…透光層、３１…第１のダミー領域、３２…第
２のダミー領域
インク吐出直後のインク面、２２…インク乾燥後のイン
ク面、１２…基板、１１…パネルチップ、１４…仕切
り、１５…透光層、３１…第１のダミー領域、３２…第
２のダミー領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３６５ Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｙ (72)発明者 山田 善昭 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 清水 政春 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2C056 EA04 EC07 EC28 EC72 FB01 FC06 HA46 2H048 BA11 BA45 BA47 BA64 BB14 BB24 BB28 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FB13 FC01 FC12 FC22 FC27 FD04 FD05 GA16 LA18 5C094 AA03 AA07 AA08 AA42 AA43 AA48 AA55 BA27 CA19 CA24 DA13 EB02 ED01 ED03 ED15 FA01 FA02 FB01 FB02 GB10 5G435 AA00 AA04 AA17 BB05 CC09 CC12 FF13 GG02 GG12 HH20 KK05 KK07
Claims (10)
- 【請求項１】 複数の画素が所定間隔をもって連続形成
される画素形成領域と前記所定間隔以上にわたって画素
が形成されない非形成領域とを備える基板上の当該各画
素に所定の液状物を吐出し、かつ、前記非形成領域の一
部に、前記画素形成領域を取り囲んで前記液状物を吐出
する工程と、前記吐出した液状物を乾燥させる工程とを
備える、電気光学装置部品の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の電気光学装置部品の製
造方法であって、 前記基板は、前記非形成領域によって複数の画素形成領
域に区分され、前記画素形成領域の各々が複数の画素を
備えて１枚の電気光学装置部品を構成する、電気光学装
置部品の製造方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載の電気光学装置部品の製
造方法であって、 前記基板はカラーフィルタ基板であって、前記液状物と
してインクを吐出する、電気光学装置部品の製造方法。 - 【請求項４】 請求項２又は請求項３に記載の電気光学
装置部品の製造方法であって、 前記複数の画素形成領域の各々を取り囲んで前記液状物
を吐出する、電気光学装置部品の製造方法。 - 【請求項５】 請求項４に記載の電気光学装置部品の製
造方法であって、 前記非形成領域内の吐出域には、前記非形成領域と前記
複数の画素形成領域との境界線を形成する画素に吐出す
る液状物の量と少なくとも同量の液状物を吐出する、電
気光学装置部品の製造方法。 - 【請求項６】 請求項２又は請求項３に記載の電気光学
装置部品の製造方法であって、 前記複数の画素形成領域の全体を取り囲んで前記液状物
を吐出する、電気光学装置部品の製造方法。 - 【請求項７】 請求項６に記載の電気光学装置部品の製
造方法であって、 前記非形成領域内の吐出域には、基板中の最も外側の画
素に吐出する液状物の量と少なくとも同量の液状物を吐
出する、電気光学装置部品の製造方法。 - 【請求項８】 請求項２又は請求項３に記載の電気光学
装置部品の製造方法であって、 前記複数の画素形成領域の各々を取り囲んで前記液状物
を吐出する第１の吐出域と、前記複数の画素形成領域の
全体を取り囲んで前記液状物を吐出する第２の吐出域と
を備える、電気光学装置部品の製造方法。 - 【請求項９】 請求項８に記載の電気光学装置部品の製
造方法であって、 前記第２の吐出域は、前記第１の吐出域より外側に形成
される、電気光学装置部品の製造方法。 - 【請求項１０】 請求項１乃至請求項９のいずれか一項
に記載の電気光学装置部品の製造方法であって、 前記非形成領域内の吐出域は、前記画素形成領域との境
界付近に形成される電気光学装置部品の製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP37160499A JP3988067B2 (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | 電気光学装置部品の製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP37160499A JP3988067B2 (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | 電気光学装置部品の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001188117A true JP2001188117A (ja) | 2001-07-10 |
| JP3988067B2 JP3988067B2 (ja) | 2007-10-10 |
Family
ID=18498993
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP37160499A Expired - Fee Related JP3988067B2 (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | 電気光学装置部品の製造方法 |
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Cited By (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003030131A1 (fr) * | 2001-08-29 | 2003-04-10 | Seiko Epson Corporation | Dispositif electro-optique et appareil electronique |
| JP2003241683A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-08-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| JP2003241685A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-08-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| JP2003248443A (ja) * | 2001-12-17 | 2003-09-05 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| US6887631B2 (en) * | 2001-06-01 | 2005-05-03 | Seiko Epson Corporation | Color filter and electro-optical device |
| JP2005310779A (ja) * | 2005-04-18 | 2005-11-04 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
| JP2005316469A (ja) * | 2001-12-06 | 2005-11-10 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
| JP2005316468A (ja) * | 2005-04-18 | 2005-11-10 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、電気光学装置の検査方法及び電子機器 |
| JP2006051412A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Seiko Epson Corp | 成膜方法および成膜装置、画素基板および電気光学装置、並びに電子機器 |
| US7055932B2 (en) | 2002-03-19 | 2006-06-06 | Seiko Epson Corporation | Method of filling liquid into function liquid droplet ejection head, and ejection apparatus; method of manufacturing LCD device, organic EL device, electron emission device, PDP device, electrophoretic display device, color filter, and organic EL; and method of forming spacer, metallic wiring, lens, resist, and light diffusion member |
| US7068247B2 (en) | 2001-12-11 | 2006-06-27 | Seiko Epson Corporation | Display device and electronic apparatus |
| JP2006338031A (ja) * | 2006-06-09 | 2006-12-14 | Hitachi Ltd | 表示装置 |
| JP2007038204A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-02-15 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出方法、電気光学装置及び電子機器 |
| JP2007103349A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-04-19 | Seiko Epson Corp | 膜パターンの形成方法、有機ｅｌ装置の製造方法、カラーフィルタ基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法 |
| JP2007289826A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Seiko Epson Corp | 膜形成方法、電気光学基板の製造方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに機能膜、電気光学基板、電気光学装置、及び電子機器 |
| US7304437B2 (en) | 2001-12-06 | 2007-12-04 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and an electronic apparatus |
| US7459177B2 (en) | 2004-05-19 | 2008-12-02 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing color filter substrate, method of manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus |
| US7470976B2 (en) | 2000-11-27 | 2008-12-30 | Seiko Epson Corporation | Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith |
| JP2009075605A (ja) * | 2001-12-17 | 2009-04-09 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| JP2009163170A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-23 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法および電気光学装置 |
| JP2009163272A (ja) * | 2002-07-18 | 2009-07-23 | Seiko Epson Corp | 発光装置及び電子機器 |
| JP2009183836A (ja) * | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成方法 |
| JP2009208044A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成方法 |
| US8665190B2 (en) | 2002-07-18 | 2014-03-04 | Intellectual Keystone Technology Llc | Electro-optical device, wiring substrate, and electronic apparatus |
| JP2015066504A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 株式会社村田製作所 | 電子部品用印刷パターンの形成方法、電子部品の製造方法、及び電子部品 |
| JP2016185682A (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-27 | 武藤工業株式会社 | インク飽和量の測定方法及び判定方法及びインクパッチチャートの作成方法 |
-
1999
- 1999-12-27 JP JP37160499A patent/JP3988067B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8698136B2 (en) | 2000-11-27 | 2014-04-15 | Seiko Epson Corporation | Methods of manufacturing an organic electroluminescent device |
| US8454403B2 (en) | 2000-11-27 | 2013-06-04 | Seiko Epson Corporation | Methods of manufacturing an organic electroluminescent device |
| US7990052B2 (en) | 2000-11-27 | 2011-08-02 | Seiko Epson Corporation | Organic electroluminescent device |
| US7521709B2 (en) | 2000-11-27 | 2009-04-21 | Seiko Epson Corporation | Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith |
| US7755277B2 (en) | 2000-11-27 | 2010-07-13 | Seiko Epson Corporation | Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith |
| US7470976B2 (en) | 2000-11-27 | 2008-12-30 | Seiko Epson Corporation | Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith |
| US8128448B2 (en) | 2000-11-27 | 2012-03-06 | Seiko Epson Corporation | Methods of manufacturing an organic electroluminescent device |
| US6887631B2 (en) * | 2001-06-01 | 2005-05-03 | Seiko Epson Corporation | Color filter and electro-optical device |
| JP2010061156A (ja) * | 2001-06-01 | 2010-03-18 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
| US7282843B2 (en) | 2001-06-01 | 2007-10-16 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical display having an arrangement of active and dummy coloring pixels performing as a color filter element |
| EP1422682A1 (en) * | 2001-08-29 | 2004-05-26 | Seiko Epson Corporation | ELECTROOPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS |
| US7333167B2 (en) | 2001-08-29 | 2008-02-19 | Seiko Epson Corporation | Electrooptical device and electronic equipment having resin film in light emitting region and sealing region |
| US8093656B2 (en) | 2001-08-29 | 2012-01-10 | Seiko Epson Corporation | Electrooptical device and electronic equipment having resin film in light emitting region and sealing region |
| WO2003030131A1 (fr) * | 2001-08-29 | 2003-04-10 | Seiko Epson Corporation | Dispositif electro-optique et appareil electronique |
| EP1422682A4 (en) * | 2001-08-29 | 2005-12-28 | Seiko Epson Corp | ELECTROOPTICAL EQUIPMENT AND ELECTRONIC DEVICE |
| JP2005316469A (ja) * | 2001-12-06 | 2005-11-10 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
| US7304437B2 (en) | 2001-12-06 | 2007-12-04 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and an electronic apparatus |
| US8188653B2 (en) | 2001-12-06 | 2012-05-29 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and an electronic apparatus |
| US7977863B2 (en) | 2001-12-06 | 2011-07-12 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and an electronic apparatus |
| JP2003241685A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-08-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| US7068247B2 (en) | 2001-12-11 | 2006-06-27 | Seiko Epson Corporation | Display device and electronic apparatus |
| JP2003241683A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-08-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| JP2012003286A (ja) * | 2001-12-11 | 2012-01-05 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| JP2009075605A (ja) * | 2001-12-17 | 2009-04-09 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| JP2003248443A (ja) * | 2001-12-17 | 2003-09-05 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| US7055932B2 (en) | 2002-03-19 | 2006-06-06 | Seiko Epson Corporation | Method of filling liquid into function liquid droplet ejection head, and ejection apparatus; method of manufacturing LCD device, organic EL device, electron emission device, PDP device, electrophoretic display device, color filter, and organic EL; and method of forming spacer, metallic wiring, lens, resist, and light diffusion member |
| JP2009163272A (ja) * | 2002-07-18 | 2009-07-23 | Seiko Epson Corp | 発光装置及び電子機器 |
| US8665190B2 (en) | 2002-07-18 | 2014-03-04 | Intellectual Keystone Technology Llc | Electro-optical device, wiring substrate, and electronic apparatus |
| US7459177B2 (en) | 2004-05-19 | 2008-12-02 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing color filter substrate, method of manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus |
| JP2006051412A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Seiko Epson Corp | 成膜方法および成膜装置、画素基板および電気光学装置、並びに電子機器 |
| JP4529581B2 (ja) * | 2004-08-10 | 2010-08-25 | セイコーエプソン株式会社 | 成膜方法および成膜装置 |
| JP2005310779A (ja) * | 2005-04-18 | 2005-11-04 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
| JP2005316468A (ja) * | 2005-04-18 | 2005-11-10 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、電気光学装置の検査方法及び電子機器 |
| US8071169B2 (en) | 2005-06-30 | 2011-12-06 | Seiko Epson Corporation | Droplet discharge method, electro-optical device, and electronic device |
| JP2007038204A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-02-15 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出方法、電気光学装置及び電子機器 |
| JP2007103349A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-04-19 | Seiko Epson Corp | 膜パターンの形成方法、有機ｅｌ装置の製造方法、カラーフィルタ基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法 |
| JP2007289826A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Seiko Epson Corp | 膜形成方法、電気光学基板の製造方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに機能膜、電気光学基板、電気光学装置、及び電子機器 |
| JP2006338031A (ja) * | 2006-06-09 | 2006-12-14 | Hitachi Ltd | 表示装置 |
| JP2009163170A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-23 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法および電気光学装置 |
| JP2009183836A (ja) * | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成方法 |
| JP2009208044A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成方法 |
| JP2015066504A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 株式会社村田製作所 | 電子部品用印刷パターンの形成方法、電子部品の製造方法、及び電子部品 |
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