JP2001162672A - 高分子シートの製造装置、製造方法およびこれを用いた高分子シート - Google Patents
高分子シートの製造装置、製造方法およびこれを用いた高分子シートInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面平滑性に優れた高分子シートの連続製
造法、製造装置及びこれを用いた高耐熱性高分子シート
を提供すること。 【解決手段】押出機、Ｔダイまたはコートハンガーダ
イ、Ｔダイ又はコートハンガーダイから溶融押出された
高分子シートを引取ロールへ接触させるエアフローティ
ングバー、及び引取ロールを有し、エアフローティング
バーと引取ロールとの間隙が５０ｍｍ以内である高分子
シートの製造装置。
造法、製造装置及びこれを用いた高耐熱性高分子シート
を提供すること。 【解決手段】押出機、Ｔダイまたはコートハンガーダ
イ、Ｔダイ又はコートハンガーダイから溶融押出された
高分子シートを引取ロールへ接触させるエアフローティ
ングバー、及び引取ロールを有し、エアフローティング
バーと引取ロールとの間隙が５０ｍｍ以内である高分子
シートの製造装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高分子シートの製
造において、平滑性に優れた高耐熱性高分子シートを効
率良く製造する装置、これを製造する方法、及びこれを
用いて製造した高分子シートに関するものである。
造において、平滑性に優れた高耐熱性高分子シートを効
率良く製造する装置、これを製造する方法、及びこれを
用いて製造した高分子シートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子工業用途等にガラス転移温度
（Ｔｇ）が２００℃以上であるような高耐熱性高分子の
シートが種々利用されている。これらの用途のうち、ガ
ラス板代替や金属板代替の用途で用いられるものについ
ては、例えば液晶表示素子用基板のように極めて平滑性
が良好である、即ち表面粗さが極めて小さいことが要求
される用途が有る。従来、平滑性が良好である高耐熱性
高分子シートを製造する場合には、高耐熱性高分子の溶
液を研磨ガラス基板や研磨スチールベルト上にキャスト
し、溶剤を揮発させてフィルムを得るキャスト法が広く
用いられている。しかし、キャストでは、２００μｍを
越える厚さのフィルムを得ることが困難であるという問
題点がある。
（Ｔｇ）が２００℃以上であるような高耐熱性高分子の
シートが種々利用されている。これらの用途のうち、ガ
ラス板代替や金属板代替の用途で用いられるものについ
ては、例えば液晶表示素子用基板のように極めて平滑性
が良好である、即ち表面粗さが極めて小さいことが要求
される用途が有る。従来、平滑性が良好である高耐熱性
高分子シートを製造する場合には、高耐熱性高分子の溶
液を研磨ガラス基板や研磨スチールベルト上にキャスト
し、溶剤を揮発させてフィルムを得るキャスト法が広く
用いられている。しかし、キャストでは、２００μｍを
越える厚さのフィルムを得ることが困難であるという問
題点がある。
【０００３】一方、耐熱性があまり高くない、例えばＴ
ｇが２００℃以下であるような高分子シートにおいて
は、Ｔダイやコートハンガーダイを用いた押出法による
シート製造が行われている。一般に、ダイから押し出さ
れた高分子をそのまま引取ロールで引き取ると、高分子
がロールの接線方向に引かれるためにダイスからロール
に接触するまでの間隔（エアギャップ）が大きくなって
しまい、温度が下がってしまうために引取ロールの面を
充分に転写できず、平滑面を得ることが難しい。そのた
め、押出された高分子がＴｇ以上の温度である状態で、
フッ素化ゴム等の表面エネルギーが低い弾性材質のロー
ルを用いて表面粗さの小さい引取ロールに押し当てるこ
とで、引取ロール面を転写して平滑な表面を持つシート
を製造することが行われている。しかし、Ｔｇが２００
℃以上の高耐熱性高分子の場合、２００℃以上の連続使
用温度を有する表面エネルギーが低い弾性材質のロール
が無いためにこのような方法を取ることができない。
ｇが２００℃以下であるような高分子シートにおいて
は、Ｔダイやコートハンガーダイを用いた押出法による
シート製造が行われている。一般に、ダイから押し出さ
れた高分子をそのまま引取ロールで引き取ると、高分子
がロールの接線方向に引かれるためにダイスからロール
に接触するまでの間隔（エアギャップ）が大きくなって
しまい、温度が下がってしまうために引取ロールの面を
充分に転写できず、平滑面を得ることが難しい。そのた
め、押出された高分子がＴｇ以上の温度である状態で、
フッ素化ゴム等の表面エネルギーが低い弾性材質のロー
ルを用いて表面粗さの小さい引取ロールに押し当てるこ
とで、引取ロール面を転写して平滑な表面を持つシート
を製造することが行われている。しかし、Ｔｇが２００
℃以上の高耐熱性高分子の場合、２００℃以上の連続使
用温度を有する表面エネルギーが低い弾性材質のロール
が無いためにこのような方法を取ることができない。
【０００４】さらに、押出された高分子を非接触で短い
エアギャップで引取ロールに接触させる方法として、バ
キュームボックス方式およびエアナイフ方式が用いられ
ている。バキュームボックス方式は、高分子シートが引
取ロールに引かれるのと反対側の部位に囲いを設け、吸
引を行うことで高分子がロールの接線方向に引かれるの
を防ぐものであり、エアナイフ方式は、高分子シートが
引取ロールに引かれる側にエアノズルを設置してエアを
吹き付けることにより高分子がロールの接線方向に引か
れるのを防ぐものである。しかし、バキュームボックス
方式では、周囲の室温の空気を吸引するために高分子温
度が下がってしまい、引取ロールの転写が良好でなかっ
たり、周囲のダストを吸い寄せてしまうために異物が混
入してしまう場合がある。一方アエナイフ方式では、熱
風を用いることにより高分子の温度低下は防げるが、エ
アの噴出量が著しいために、高分子シートが振れて厚み
ムラを生じたり周辺のダストを巻き込んだりする場合が
ある。
エアギャップで引取ロールに接触させる方法として、バ
キュームボックス方式およびエアナイフ方式が用いられ
ている。バキュームボックス方式は、高分子シートが引
取ロールに引かれるのと反対側の部位に囲いを設け、吸
引を行うことで高分子がロールの接線方向に引かれるの
を防ぐものであり、エアナイフ方式は、高分子シートが
引取ロールに引かれる側にエアノズルを設置してエアを
吹き付けることにより高分子がロールの接線方向に引か
れるのを防ぐものである。しかし、バキュームボックス
方式では、周囲の室温の空気を吸引するために高分子温
度が下がってしまい、引取ロールの転写が良好でなかっ
たり、周囲のダストを吸い寄せてしまうために異物が混
入してしまう場合がある。一方アエナイフ方式では、熱
風を用いることにより高分子の温度低下は防げるが、エ
アの噴出量が著しいために、高分子シートが振れて厚み
ムラを生じたり周辺のダストを巻き込んだりする場合が
ある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、高分子シートの製造において、平滑性に優れた
高分子シートを効率よく製造する手法を提供するもので
あり、さらに詳しくは高耐熱性高分子の平滑性良好なシ
ートを効率良く製造し提供することにある。
ころは、高分子シートの製造において、平滑性に優れた
高分子シートを効率よく製造する手法を提供するもので
あり、さらに詳しくは高耐熱性高分子の平滑性良好なシ
ートを効率良く製造し提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、 １．押出機、Ｔダイ又はコートハンガーダイ、Ｔダイ又
はコートハンガーダイから溶融押出された高分子シート
を引取ロールへ接触させるエアフローティングバー、及
び引取ロールを有し、エアフローティングバーと引取ロ
ールとの間隙が５０ｍｍ以内である高分子シートの製造
装置、 ２．引取ロールの表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．１
μｍ以下である第１項記載の高分子シートの製造装置、 ３．Ｔダイ又はコートハンガーダイから溶融押出された
高分子シートを、気体を噴出するエアフローティングバ
ーを用いて引取ロールへ接触させる高分子シートの製造
方法、 ４．エアフローティングバーから噴出する気体の温度が
該高分子のガラス転移温度以上の温度である第３項記載
の高分子シートの製造方法、 ５．第１項又は第２項記載の高分子シートの製造装置を
用いて製造した高分子シート、 ６．第３項又は第４項記載の高分子シートの製造方法を
用いて製造した高分子シート、 ７．ガラス転移温度が２００℃以上であり表面粗さの最
大（Ｒｍａｘ）が０．１μｍ以下である第５項又は第６
項記載の高分子シート である。
はコートハンガーダイから溶融押出された高分子シート
を引取ロールへ接触させるエアフローティングバー、及
び引取ロールを有し、エアフローティングバーと引取ロ
ールとの間隙が５０ｍｍ以内である高分子シートの製造
装置、 ２．引取ロールの表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．１
μｍ以下である第１項記載の高分子シートの製造装置、 ３．Ｔダイ又はコートハンガーダイから溶融押出された
高分子シートを、気体を噴出するエアフローティングバ
ーを用いて引取ロールへ接触させる高分子シートの製造
方法、 ４．エアフローティングバーから噴出する気体の温度が
該高分子のガラス転移温度以上の温度である第３項記載
の高分子シートの製造方法、 ５．第１項又は第２項記載の高分子シートの製造装置を
用いて製造した高分子シート、 ６．第３項又は第４項記載の高分子シートの製造方法を
用いて製造した高分子シート、 ７．ガラス転移温度が２００℃以上であり表面粗さの最
大（Ｒｍａｘ）が０．１μｍ以下である第５項又は第６
項記載の高分子シート である。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の高分子シートの製造装置
は、押出機、Ｔダイ又はコートハンガーダイ、Ｔダイ又
はコートハンガーダイから溶融押出された高分子シート
を引取ロールへ接触させるエアフローティングバー、及
び引取ロールを有し、エアフローティングバーと引取ロ
ールとの間隙が５０ｍｍ以内である高分子シートの製造
装置である。本発明におけるエアフローティングバーと
は、ロール状またはロールを半円になるように１／２に
切断した形状、あるいは扇形に１／３，１／４，１／６
等に分割した形状を持ち、その曲面の部分に微細な穴が
多数有ってここからエアを噴出できる装置である。ロー
ル状の場合は、通常のロールのように回転させることが
可能なものを用いても良い。このような装置は、現在は
高分子シートの搬送経路でターンバーとして用いられて
いる。微細な穴を持つ曲面部は、中空ロールの表面に穴
を開けたり、空隙を持つ金属焼結体を切削して作ること
ができる。エアフローティングバーをＴダイ又はコート
ハンガーダイと引取ロールの間に設けることによりエア
ギャップを小さくできるとともにエアフローティングバ
ー表面には高分子シートは触れないためにフッ素化ゴム
のように耐熱性不足の問題も無い。さらに、エアナイフ
と異なり噴出風量が極めて少ないため、強い気流により
シートに悪影響を及ぼすこともない。
は、押出機、Ｔダイ又はコートハンガーダイ、Ｔダイ又
はコートハンガーダイから溶融押出された高分子シート
を引取ロールへ接触させるエアフローティングバー、及
び引取ロールを有し、エアフローティングバーと引取ロ
ールとの間隙が５０ｍｍ以内である高分子シートの製造
装置である。本発明におけるエアフローティングバーと
は、ロール状またはロールを半円になるように１／２に
切断した形状、あるいは扇形に１／３，１／４，１／６
等に分割した形状を持ち、その曲面の部分に微細な穴が
多数有ってここからエアを噴出できる装置である。ロー
ル状の場合は、通常のロールのように回転させることが
可能なものを用いても良い。このような装置は、現在は
高分子シートの搬送経路でターンバーとして用いられて
いる。微細な穴を持つ曲面部は、中空ロールの表面に穴
を開けたり、空隙を持つ金属焼結体を切削して作ること
ができる。エアフローティングバーをＴダイ又はコート
ハンガーダイと引取ロールの間に設けることによりエア
ギャップを小さくできるとともにエアフローティングバ
ー表面には高分子シートは触れないためにフッ素化ゴム
のように耐熱性不足の問題も無い。さらに、エアナイフ
と異なり噴出風量が極めて少ないため、強い気流により
シートに悪影響を及ぼすこともない。
【０００８】本発明においてエアフローティングバーと
引取ロールとの間隙は５０ｍｍ以内であることが必要で
ある。間隙がこれより広いとシートが引取ロールに良好
に密着しない。ここでエアフローティングバーと引取ロ
ールとの間隙とは、エアフローティングバーに最も近い
引取ロール面とエアフローティングバーの一部（曲面部
または角の部分）との距離で最も短い距離をいう。本発
明の高分子シートの製造に用いられるエアフローティン
グバーから噴出させる気体としては、空気、窒素、不活
性ガス等が挙げられる。気体の温度は、引取ロールへの
密着を容易にするために高分子のガラス転移点（Ｔｇ）
以上であることが好ましく、Ｔダイ又はコートハンガー
ダイと同じ温度であることがより好ましい。本発明に使
用する引取ロールは、平滑なシートを得る場合には表面
粗さの最大値Ｒｍａｘが０．１μｍ以下であることが好
ましい。ここでＲｍａｘは、ロール面の任意の位置を幅
２ｍｍ走査して測定した場合を言う。また、プリズムシ
ート等の凹凸形状を持つシートの製造の場合には凹凸を
形成したロールを用いることによりこれを転写して成形
することも可能である。
引取ロールとの間隙は５０ｍｍ以内であることが必要で
ある。間隙がこれより広いとシートが引取ロールに良好
に密着しない。ここでエアフローティングバーと引取ロ
ールとの間隙とは、エアフローティングバーに最も近い
引取ロール面とエアフローティングバーの一部（曲面部
または角の部分）との距離で最も短い距離をいう。本発
明の高分子シートの製造に用いられるエアフローティン
グバーから噴出させる気体としては、空気、窒素、不活
性ガス等が挙げられる。気体の温度は、引取ロールへの
密着を容易にするために高分子のガラス転移点（Ｔｇ）
以上であることが好ましく、Ｔダイ又はコートハンガー
ダイと同じ温度であることがより好ましい。本発明に使
用する引取ロールは、平滑なシートを得る場合には表面
粗さの最大値Ｒｍａｘが０．１μｍ以下であることが好
ましい。ここでＲｍａｘは、ロール面の任意の位置を幅
２ｍｍ走査して測定した場合を言う。また、プリズムシ
ート等の凹凸形状を持つシートの製造の場合には凹凸を
形成したロールを用いることによりこれを転写して成形
することも可能である。
【０００９】本発明中の高分子シートに用いる高分子と
しては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリ
エステルイミド、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げ
られるがこれらに限定されるものではない。これらの中
でも、ポリエーテルスルホンや芳香族構造を持つポリア
ミド等は、Ｔｇが２００℃を越えるため高耐熱性及び表
面平滑性が要求される光学材料や電子工業用材料のシー
トとして良好である。
しては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリ
エステルイミド、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げ
られるがこれらに限定されるものではない。これらの中
でも、ポリエーテルスルホンや芳香族構造を持つポリア
ミド等は、Ｔｇが２００℃を越えるため高耐熱性及び表
面平滑性が要求される光学材料や電子工業用材料のシー
トとして良好である。
【００１０】
【実施例】以下本発明を実施例、比較例、図面によって
説明するが、本発明は実施例により何ら限定されるもの
ではない。シートの光学的物性は次の方法により測定し
た。 （１）シート厚み 接触式ダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に２０ｍ
ｍ間隔で測定した平均値。 （２）高分子シートの表面粗さの最大（Ｒｍａｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、AlPHA-ST
EP200）により、高分子シートの幅方向に１ｍｍのスキ
ャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。 （３）ロール面の表面粗さの最大（Ｒｍａｘ） （株）ミツトヨ製接触式表面粗さ計により、ロールの任
意の場所を幅方向に２ｍｍ幅を測定したときの凹凸の最
大値。
説明するが、本発明は実施例により何ら限定されるもの
ではない。シートの光学的物性は次の方法により測定し
た。 （１）シート厚み 接触式ダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に２０ｍ
ｍ間隔で測定した平均値。 （２）高分子シートの表面粗さの最大（Ｒｍａｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、AlPHA-ST
EP200）により、高分子シートの幅方向に１ｍｍのスキ
ャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。 （３）ロール面の表面粗さの最大（Ｒｍａｘ） （株）ミツトヨ製接触式表面粗さ計により、ロールの任
意の場所を幅方向に２ｍｍ幅を測定したときの凹凸の最
大値。
【００１１】《実施例１》図１に示したように、単軸押
出機を用い、ダイス温度３７０℃でポリエーテルエーテ
ルケトン（Ｔｇ：１４３℃）を幅８００ｍｍダイリップ
間隙１ｍｍのコートハンガーダイ（１）から押し出し、
温度２８０℃の空気を７ｍ3／ｍｉｎで噴出する長さ１
ｍのエアフローティングバー（２）で押さえながら、４
０ｍｍ離れた位置にある温度を１２０℃に制御したＲｍ
ａｘ＝０．０５μｍのハードクロムメッキ表面の引取ロ
ール（３）で引取を行った。得られるシートを続いて温
度４０℃の引取ロール（４）で冷却した後巻き取って、
厚さ３００μｍの高分子シート（５）を得た。表面粗さ
を測定したところ高分子シートのＲｍａｘは０．０６μ
ｍであった。また、両端部の耳の部分を除いた膜厚ムラ
は±２０μｍの範囲に入っていた。
出機を用い、ダイス温度３７０℃でポリエーテルエーテ
ルケトン（Ｔｇ：１４３℃）を幅８００ｍｍダイリップ
間隙１ｍｍのコートハンガーダイ（１）から押し出し、
温度２８０℃の空気を７ｍ3／ｍｉｎで噴出する長さ１
ｍのエアフローティングバー（２）で押さえながら、４
０ｍｍ離れた位置にある温度を１２０℃に制御したＲｍ
ａｘ＝０．０５μｍのハードクロムメッキ表面の引取ロ
ール（３）で引取を行った。得られるシートを続いて温
度４０℃の引取ロール（４）で冷却した後巻き取って、
厚さ３００μｍの高分子シート（５）を得た。表面粗さ
を測定したところ高分子シートのＲｍａｘは０．０６μ
ｍであった。また、両端部の耳の部分を除いた膜厚ムラ
は±２０μｍの範囲に入っていた。
【００１２】《実施例２》単軸押出機を用い、ダイス温
度３６０℃でポリエーテルスルホン（Ｔｇ：２２３℃）
を幅８００ｍｍダイリップ間隙１ｍｍのコートハンガー
ダイから押し出し、温度３００℃の窒素を７ｍ3／ｍｉ
ｎで噴出する長さ１ｍのエアフローティングバーで押さ
えながら、３０ｍｍ離れた位置にある温度を８０℃に制
御したＲｍａｘ＝０．０２μｍのハードクロムメッキ表
面の引取ロールで引取を行った。得られるシートを続い
て温度４０℃のロールで冷却した後巻き取って、厚さ２
００μｍの高分子シートを得た。表面粗さを測定したと
ころ高分子シートのＲｍａｘは０．０２μｍであった。
また、両端部の耳の部分を除いた膜厚ムラは±１０μｍ
の範囲に入っていた。
度３６０℃でポリエーテルスルホン（Ｔｇ：２２３℃）
を幅８００ｍｍダイリップ間隙１ｍｍのコートハンガー
ダイから押し出し、温度３００℃の窒素を７ｍ3／ｍｉ
ｎで噴出する長さ１ｍのエアフローティングバーで押さ
えながら、３０ｍｍ離れた位置にある温度を８０℃に制
御したＲｍａｘ＝０．０２μｍのハードクロムメッキ表
面の引取ロールで引取を行った。得られるシートを続い
て温度４０℃のロールで冷却した後巻き取って、厚さ２
００μｍの高分子シートを得た。表面粗さを測定したと
ころ高分子シートのＲｍａｘは０．０２μｍであった。
また、両端部の耳の部分を除いた膜厚ムラは±１０μｍ
の範囲に入っていた。
【００１３】《実施例３》単軸押出機を用い、ダイス温
度３７５℃でポリエーテルイミド（Ｔｇ：２１６℃）を
幅８００ｍｍダイリップ間隙１ｍｍのコートハンガーダ
イから押し出し、温度３００℃の空気を７ｍ3／ｍｉｎ
で噴出する長さ１ｍのエアフローティングバーで押さえ
ながら、３０ｍｍ離れた位置にある温度を１４０℃に制
御したＲｍａｘ＝０．０４μｍのハードクロムメッキ表
面の引取ロールで引取を行った。得られるシートを続い
て温度４０℃のロールで冷却した後巻き取って、厚さ７
５μｍの高分子シートを得た。表面粗さを測定したとこ
ろ高分子シートのＲｍａｘは０．０４μｍであった。ま
た、両端部の耳の部分を除いた膜厚ムラは±６μｍの範
囲に入っていた。
度３７５℃でポリエーテルイミド（Ｔｇ：２１６℃）を
幅８００ｍｍダイリップ間隙１ｍｍのコートハンガーダ
イから押し出し、温度３００℃の空気を７ｍ3／ｍｉｎ
で噴出する長さ１ｍのエアフローティングバーで押さえ
ながら、３０ｍｍ離れた位置にある温度を１４０℃に制
御したＲｍａｘ＝０．０４μｍのハードクロムメッキ表
面の引取ロールで引取を行った。得られるシートを続い
て温度４０℃のロールで冷却した後巻き取って、厚さ７
５μｍの高分子シートを得た。表面粗さを測定したとこ
ろ高分子シートのＲｍａｘは０．０４μｍであった。ま
た、両端部の耳の部分を除いた膜厚ムラは±６μｍの範
囲に入っていた。
【００１４】《比較例１》単軸押出機を用い、ダイス温
度３７０℃でポリエーテルエーテルケトン（Ｔｇ：１４
３℃）を幅８００ｍｍダイリップ間隙１ｍｍのコートハ
ンガーダイから押し出し、長さ１ｍのフッ素化ゴム製の
エラスティックロールを用いて樹脂温度が２８０℃の状
態で温度を１２０℃に制御したＲｍａｘ＝０．０５μｍ
のハードクロムメッキ表面の引取ロールにニップして引
取を行ったところ、運転を続けるに従いフッ素化ゴム製
のエラスティックロールが熱で劣化した。
度３７０℃でポリエーテルエーテルケトン（Ｔｇ：１４
３℃）を幅８００ｍｍダイリップ間隙１ｍｍのコートハ
ンガーダイから押し出し、長さ１ｍのフッ素化ゴム製の
エラスティックロールを用いて樹脂温度が２８０℃の状
態で温度を１２０℃に制御したＲｍａｘ＝０．０５μｍ
のハードクロムメッキ表面の引取ロールにニップして引
取を行ったところ、運転を続けるに従いフッ素化ゴム製
のエラスティックロールが熱で劣化した。
【００１５】《比較例２》単軸押出機を用い、ダイス温
度３６０℃でポリエーテルスルホン（Ｔｇ：２２３℃）
を幅８００ｍｍダイリップ間隙１ｍｍのコートハンガー
ダイから押し出し、長さ１ｍのハードクロムメッキ製の
ロールを用い樹脂温度が２８０℃の状態で押さえなが
ら、３０ｍｍ離れた位置にある温度を８０℃に制御した
Ｒｍａｘ＝０．０２μｍのハードクロムメッキ表面の引
取ロールで引取を行おうとしたところ、ポリエーテルス
ルホンが押さえに用いたロールに巻き付いてしまい連続
してシートを得ることができなかった。
度３６０℃でポリエーテルスルホン（Ｔｇ：２２３℃）
を幅８００ｍｍダイリップ間隙１ｍｍのコートハンガー
ダイから押し出し、長さ１ｍのハードクロムメッキ製の
ロールを用い樹脂温度が２８０℃の状態で押さえなが
ら、３０ｍｍ離れた位置にある温度を８０℃に制御した
Ｒｍａｘ＝０．０２μｍのハードクロムメッキ表面の引
取ロールで引取を行おうとしたところ、ポリエーテルス
ルホンが押さえに用いたロールに巻き付いてしまい連続
してシートを得ることができなかった。
【００１６】《比較例３》単軸押出機を用い、ダイス温
度３７５℃でポリエーテルイミド（Ｔｇ：２１６℃）を
幅８００ｍｍダイリップ間隙１ｍｍのバキュームボック
ス付きコートハンガーダイから押し出し、バキューム吸
引で押し出された高分子を引きつけながら、温度を１４
０℃に制御したＲｍａｘ＝０．０４μｍのハードクロム
メッキ表面の引取ロールで引取を行った。このとき、ダ
イがロールとぶつかるためダイリップは最短でも引取ロ
ールと１２０ｍｍの距離にまでしか近づけることはでき
なかった。得られるシートを続いて温度４０℃のロール
で冷却した後巻き取って、厚さ７５μｍの高分子シート
を得た。表面粗さを測定したところ高分子シートのＲｍ
ａｘは０．１２μｍであった。
度３７５℃でポリエーテルイミド（Ｔｇ：２１６℃）を
幅８００ｍｍダイリップ間隙１ｍｍのバキュームボック
ス付きコートハンガーダイから押し出し、バキューム吸
引で押し出された高分子を引きつけながら、温度を１４
０℃に制御したＲｍａｘ＝０．０４μｍのハードクロム
メッキ表面の引取ロールで引取を行った。このとき、ダ
イがロールとぶつかるためダイリップは最短でも引取ロ
ールと１２０ｍｍの距離にまでしか近づけることはでき
なかった。得られるシートを続いて温度４０℃のロール
で冷却した後巻き取って、厚さ７５μｍの高分子シート
を得た。表面粗さを測定したところ高分子シートのＲｍ
ａｘは０．１２μｍであった。
【００１７】
【発明の効果】発明の製造装置および製造方法によれ
ば、表面平滑性が良好な高耐熱性高分子シートを安定し
て、効率よく連続製造することができる。本発明により
得られたシートは局所的に表面粗さの最大値が小さいだ
けでなく、厚みムラも小さく良好なものであった。
ば、表面平滑性が良好な高耐熱性高分子シートを安定し
て、効率よく連続製造することができる。本発明により
得られたシートは局所的に表面粗さの最大値が小さいだ
けでなく、厚みムラも小さく良好なものであった。
【図１】 実施例１で用いた製造装置の側面の概略図で
ある。
ある。
１：コートハンガーダイ ２：エアフローティングバー ３：引取ロール−１ ４：引取ロール−２ ５：高分子シート
Claims (7)
- 【請求項１】押出機、Ｔダイまたはコートハンガーダ
イ、Ｔダイ又はコートハンガーダイから溶融押出された
高分子シートを引取ロールへ接触させるエアフローティ
ングバー、及び引取ロールを有し、エアフローティング
バーと引取ロールとの間隙が５０ｍｍ以内であることを
特徴とする高分子シートの製造装置。 - 【請求項２】引取ロールの表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）
が０．１μｍ以下である請求項１記載の高分子シートの
製造装置。 - 【請求項３】Ｔダイ又はコートハンガーダイから溶融押
出された高分子シートを、気体を噴出するエアフローテ
ィングバーを用いて引取ロールへ接触させることを特徴
とする高分子シートの製造方法。 - 【請求項４】エアフローティングバーから噴出する気体
の温度が該高分子のガラス転移温度以上の温度である請
求項３記載の高分子シートの製造方法。 - 【請求項５】請求項１又は２記載の高分子シートの製造
装置を用いて、製造した高分子シート。請求 - 【請求項６】請求項３又は４記載の高分子シートの製造
方法を用いて、製造した高分子シート。 - 【請求項７】ガラス転移温度が２００℃以上であり表面
粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．１μｍ以下である請求項
５又は６記載の高分子シート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35096199A JP2001162672A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | 高分子シートの製造装置、製造方法およびこれを用いた高分子シート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35096199A JP2001162672A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | 高分子シートの製造装置、製造方法およびこれを用いた高分子シート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001162672A true JP2001162672A (ja) | 2001-06-19 |
Family
ID=18414099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35096199A Pending JP2001162672A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | 高分子シートの製造装置、製造方法およびこれを用いた高分子シート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001162672A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007307896A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-29 | Fujifilm Corp | セルロース系樹脂フィルム及びその製造方法 |
| WO2017082114A1 (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-18 | 三井化学東セロ株式会社 | 樹脂シート、合わせガラスおよび太陽電池モジュール |
-
1999
- 1999-12-10 JP JP35096199A patent/JP2001162672A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007307896A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-29 | Fujifilm Corp | セルロース系樹脂フィルム及びその製造方法 |
| WO2017082114A1 (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-18 | 三井化学東セロ株式会社 | 樹脂シート、合わせガラスおよび太陽電池モジュール |
| JPWO2017082114A1 (ja) * | 2015-11-11 | 2018-04-12 | 三井化学東セロ株式会社 | 樹脂シート、合わせガラスおよび太陽電池モジュール |
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