JP2001158638A - 光ファイバ製造方法 - Google Patents

光ファイバ製造方法

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JP2001158638A JP33783599A JP33783599A JP2001158638A JP 2001158638 A JP2001158638 A JP 2001158638A JP 33783599 A JP33783599 A JP 33783599A JP 33783599 A JP33783599 A JP 33783599A JP 2001158638 A JP2001158638 A JP 2001158638A
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glass diameter
dispersion
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Kazuya Kuwabara
一也 桑原
Ichiro Tsuchiya
一郎 土屋
Katsuya Nagayama
勝也 永山
Masashi Onishi
正志 大西
Hiroshi Takamizawa
宏史 高見澤
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 所定波長における波長分散が長手方向に変化
する光ファイバを優れた制御性で容易に製造することが
できる光ファイバ製造方法を提供する 【解決手段】 光ファイバ母材を線引する際に、光ファ
イバ10の正分散区間11と負分散区間12とでガラス
径設定値を互いに異なる値とすることで、正分散区間1
1および負分散区間12それぞれの波長分散を所望値と
する。また、正分散区間11および負分散区間12と過
渡区間とで、実際のガラス径をガラス径設定値に制御す
るためのガラス径制御定数を互いに異なる値とすること
により、過渡区間を短くする。或いは、光ファイバ10
の正分散区間11と負分散区間12とで線速設定値をも
互いに異なる値とすることで、過渡区間を短くする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ母材を
線引して、所定波長における波長分散が正である正分散
区間と負である負分散区間とが長手方向に交互に設けら
れた光ファイバを製造する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】所定波長における波長分散が正である正
分散区間と負である負分散区間とが長手方向に交互に設
けられて分散マネージメントされた光ファイバは、非線
形光学現象に因る波形劣化および累積波長分散に因る波
形劣化の双方を抑制することができて、波長多重(WD
M: Wavelength Division Multiplexing)伝送システム
の光伝送路として好適に用いられ得るとされている(例
えば特開平8−320419号公報を参照)。
【0003】一般に光ファイバ母材から光ファイバを製
造するに際しては、線引き炉で光ファイバ母材の下端を
加熱・溶融し、この光ファイバ母材を線引することで光
ファイバが製造される。上記のような光ファイバを製造
するに際しては、波長分散を長手方向に変化させる為の
特別な工程が設けられている。
【0004】例えば、上記の特開平8−320419号
公報には、コア径または母材径が長手方向に変化する光
ファイバ母材を用意し、この光ファイバ母材を線引きす
る際にガラス径を一定とすることでコア径を長手方向に
変化させ、このようにすることにより波長分散が長手方
向に変化する光ファイバを製造する技術が開示されてい
る。また、屈折率プロファイルおよび母材径が長手方向
に一定である光ファイバ母材を用意し、この光ファイバ
母材を線引きする際に、ガラス径を変化させることでコ
ア径を変化させ、或いは、線引張力を変化させることで
残留応力に基づいて屈折率を変化させ、このようにする
ことにより波長分散が長手方向に変化する光ファイバを
製造する技術が開示されている。
【0005】また、特開平11−30725号公報に
は、屈折率プロファイルおよび母材径が長手方向に一定
である光ファイバ母材を用意し、この光ファイバ母材を
線引きする際に、ガラス径を変化させることでコア径を
変化させ、このようにすることにより波長分散が長手方
向に変化する光ファイバを製造する技術が開示されてい
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の光ファイバ製造技術は以下のような問題点を有し
ている。すなわち、コア径または母材径が長手方向に変
化する光ファイバ母材を定速・定張力で線引する場合、
母材の径が変化している領域は、線引すると随分と長く
なる。線引時にファイバ径を変化させる場合、単にガラ
ス径を変化させようとしても、所望の値になるまでは一
定の長さを線引しなければならない。このように、上記
の何れの場合でも、正分散区間と負分散区間との間で波
長分散が変化する過渡区間が一定長存在する。このこと
は、製造される分散マネージメント光ファイバにおいて
正分散区間と負分散区間との間の過渡区間が一定長存在
することを意味し、この過渡区間では波長分散の絶対値
が小さいことから、非線形光学現象に因る波形劣化を抑
制するという効果を充分に達成することができない。
【0007】本発明は、上記問題点を解消する為になさ
れたものであり、所定波長における波長分散が長手方向
に変化する光ファイバを優れた制御性で容易に製造する
ことができる光ファイバ製造方法を提供することを目的
とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明に係る第1の光フ
ァイバ製造方法は、光ファイバ母材を線引して、所定波
長における波長分散が正である正分散区間と負である負
分散区間とが長手方向に交互に設けられた光ファイバを
製造する方法であって、その線引の際に、光ファイバの
正分散区間と負分散区間とでガラス径設定値を互いに異
なる値とするとともに、正分散区間および負分散区間と
過渡区間とで、実際のガラス径をガラス径設定値に制御
するためのガラス径制御定数を互いに異なる値とするこ
とを特徴とする。この光ファイバ製造方法によれば、光
ファイバ母材を線引する際に、光ファイバの正分散区間
と負分散区間とでガラス径設定値を互いに異なる値とす
ることで、正分散区間および負分散区間それぞれの波長
分散を所望値とすることができる。また、正分散区間お
よび負分散区間と過渡区間とで、実際のガラス径をガラ
ス径設定値に制御するためのガラス径制御定数を互いに
異なる値とすることにより、過渡区間を短くすることが
できる。すなわち、この光ファイバ製造方法によれば、
長手方向に波長分散が変化する光ファイバを制御性よく
製造することができる。すなわち、正分散区間と負分散
区間との間で波長分散が変化する過渡区間を短くするこ
とができるので、製造される光ファイバは、非線形光学
現象に因る波形劣化を抑制するという効果を充分に達成
することができる。
【0009】本発明に係る第2の光ファイバ製造方法
は、光ファイバ母材を線引して、所定波長における波長
分散が正である正分散区間と負である負分散区間とが長
手方向に交互に設けられた光ファイバを製造する方法で
あって、その線引の際に、光ファイバの正分散区間と負
分散区間とで、ガラス径設定値を互いに異なる値とする
とともに、線速設定値をも互いに異なる値とすることを
特徴とする。この光ファイバ製造方法によれば、光ファ
イバ母材を線引する際に、光ファイバの正分散区間と負
分散区間とでガラス径設定値を互いに異なる値とするこ
とで、正分散区間および負分散区間それぞれの波長分散
を所望値とすることができる。また、光ファイバの正分
散区間と負分散区間とで線速設定値をも互いに異なる値
とすることで、過渡区間を短くすることができる。すな
わち、この光ファイバ製造方法によれば、長手方向に波
長分散が変化する光ファイバを制御性よく製造すること
ができ、正分散区間と負分散区間との間で波長分散が変
化する過渡区間を短くすることができるので、製造され
る光ファイバは、非線形光学現象に因る波形劣化を抑制
するという効果を充分に達成することができる。
【0010】また、本発明に係る第2の光ファイバ製造
方法において、正分散区間におけるガラス径設定値をD
1とし線速設定値をV1とし、負分散区間におけるガラス
径設定値をD2とし線速設定値をV2としたときに、D1 2
×V1=D2 2×V2 なる関係式が成り立つよう、光ファ
イバの正分散区間および負分散区間それぞれのガラス径
設定値および線速設定値を設定するのが好適である。な
お、この場合、変更するのは設定値であり、実際の線速
は制御による補正分だけ設定値と異なるが、この補正分
は設定値変更によっても特に0に戻すことはしないのが
好適である。理論的には、補正分に係数をかけるのが望
ましいが、実用的には設定値の変化の範囲では特に係数
をかけなくても十分である。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明にお
いて同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を
省略する。
【0012】先ず、本実施形態に係る光ファイバ製造方
法により製造される光ファイバの1例について図1を用
いて説明する。この図に示す光ファイバ10は、所定波
長(例えば波長1.55μm)における波長分散が正で
ある正分散区間11と負である負分散区間12とが長手
方向に交互に設けられて分散マネージメントされたもの
である。そして、この光ファイバ10は、局所的な波長
分散の絶対値を殆どの領域で大きくする(例えば1ps
/nm/km以上とする)ことで、非線形光学現象に因
る波形劣化を抑制することができる。また、この光ファ
イバ10は、全長に亘る平均波長分散を小さくすること
で、累積波長分散に因る波形劣化を抑制することができ
る。それ故、この光ファイバ10は、WDM伝送システ
ムの光伝送路として好適に用いられる。この光ファイバ
10は、正分散区間11および負分散区間12それぞれ
でガラス径およびコア径が異なっている。
【0013】図2は、光ファイバ10の屈折率プロファ
イルの1例の説明図である。図3は、図2に示す屈折率
プロファイルを有する光ファイバの波長分散特性を示す
グラフである。この光ファイバ10は、中心から順に、
最大屈折率がn1で外径が2aであるコア領域、屈折率
がn2で外径が2bであるディプレスト領域、および、
屈折率がn3であるクラッド領域を有し、各屈折率の大
小関係が n1>n3>n 2 である。このような屈折率プ
ロファイルは、石英ガラスをベースとして、例えば、コ
ア領域にGeO2を添加し、ディプレスト領域にF元素
を添加することにより、実現することができる。
【0014】図3に示すグラフは、ディプレスト領域の
外径2bの各値(10.45μm〜11.65μm)に
対して波長分散の波長依存性を示したものである。ここ
では、クラッド領域の屈折率を基準として、コア領域の
比屈折率差Δ1を0.9%とし、ディプレスト領域の比
屈折率差Δ2を−0.45%とし、また、コア領域およ
びディプレスト領域それぞれの外径の比(2a/2b)
を0.58とした。この図に示すように、ディプレスト
領域の外径2bが大きいほど、すなわち、コア領域の外
径2aが大きいほど、波長1.55μmにおける波長分
散は大きい。
【0015】これらの図1〜図3で説明した光ファイバ
10は、正分散区間11では、ガラス径が131μmで
あって、波長分散が+3ps/nm/kmである。負分
散区間12では、ガラス径が123μmであって、波長
分散が−3ps/nm/kmである。
【0016】次に、光ファイバ製造方法の概略について
図4を用いて説明する。本実施形態に係る光ファイバ製
造方法の特徴的な事項については後述する。この図は、
光ファイバ製造装置を模式的に示すものであり、制御部
についてはブロック図として示している。
【0017】この光ファイバ製造装置では、光ファイバ
母材20は、フィーダ110に取り付けられ、線引き炉
120の内部にセットされる。そして、線引き炉120
のヒータにより光ファイバ母材20の下端が加熱・溶融
されてネックダウン部となり、この加熱・溶融された光
ファイバ母材20の下端から光ファイバ10が線引きさ
れる。線引き炉120から出た光ファイバ10は、外径
測定器130によりガラス径が測定され、強制冷却手段
(図示せず)により強制冷却される。この外径測定器1
30による測定結果は線径制御部310に報告される。
【0018】その後、光ファイバ10は、樹脂コーディ
ングダイス140を経ることで樹脂が塗布され、UVラ
ンプ150による紫外光照射により樹脂が硬化されて、
樹脂被膜で被覆される。さらに、光ファイバ10は、樹
脂コーディングダイス160を経ることで樹脂が塗布さ
れ、UVランプ170による紫外光照射により樹脂が硬
化されて、樹脂被膜で被覆される。このようにして樹脂
被膜で被覆された光ファイバ10は、ローラ210、引
取機220のキャプスタン221、ダンサー部230を
順に経て、巻取機240のボビン241により巻き取ら
れる。
【0019】線径制御部310は、設定線速をベースと
して、外径測定器130により測定された光ファイバ1
0のガラス径がガラス径設定値と一致するように、引取
機220の線速を制御する。線速制御部320は、設定
線速、母材径およびガラス径から計算されるフィーダ速
度をベースとして、実際線速が線速設定値と一致するよ
うに、母材送り装置111によるフィーダ速度を制御す
る。母材送り装置111は、線速制御部320およびフ
ィーダ速度計算部からの指令を受けてフィーダ110を
駆動し、光ファイバ母材20を線引き炉120内へ挿入
する。また、引取機220は、線径制御部310および
設定線速からの指令を受けてキャプスタン221を駆動
し、光ファイバ10の線速を設定する。
【0020】次に、線径制御部310および線速制御部
320による線径制御および線速制御について説明す
る。図5は、光ファイバ10の線速の制御について説明
するブロック図である。外径測定器130により測定さ
れた光ファイバ10のガラス径実測値Dgとガラス径設
定値Dsとから、ガラス径偏差ΔDは、
【数1】 なる式で求められる。このガラス径偏差ΔDに基づいて
線速制御量ΔV1は、
【数2】 なる式で求められる。この線速制御量ΔV1と線速設定
値Vgとから、光ファイバ10の線速Vfは、
【数3】 なる式で求められる。そして、この線速Vfに基づいて
引取機220のキャプスタン221の回転速度は制御さ
れる。
【0021】図6は、光ファイバ母材20のフィーダ速
度の制御について説明するブロック図である。光ファイ
バ母材20の母材外径Dp、光ファイバ10のガラス径
設定値Ds、および、光ファイバ10の線速設定値Vgに
基づいて、光ファイバ母材20のフィーダ設定速度Vs
は、
【数4】 なる式で求められる。一方、光ファイバ10の線速設定
値Vgおよび線速実際値Vfに基づいて、線速偏差ΔV2
は、
【数5】 なる式で求められる。この線速偏差ΔV2に基づいて、
光ファイバ母材20のフィーダ速度制御量ΔV3は、
【数6】 なる式で求められる。これら光ファイバ母材20のフィ
ーダ設定速度Vsおよびフィーダ速度制御量ΔV3に基づ
いて、光ファイバ母材20のフィーダ速度Vpは、
【数7】 なる式で求められる。そして、このフィーダ速度Vpに
基づいて母材送り装置111による光ファイバ母材20
の供給速度は制御される。
【0022】なお、実際には、キャプスタンモータおよ
び母材フィーダモータともサーボモータを使用してお
り、それぞれのモータドライバは、入力される線速Vg
+ΔV1、Vs−ΔV3を安定に実現させるために、ドラ
イバ内部で適当な制御を行っている。これは、モータメ
ータの推奨値を使うことで差し支えない。例えば、上記
(2)式および(6)式それぞれに現れる制御定数の値は、
【数8】 である。
【0023】また、光ファイバの線速の制御と光ファイ
バ母材のフィーダ速度の制御とは、光ファイバ10の線
速Vfで結合しており、独立な制御系ではない。しか
し、ガラス径制御が秒単位で応答するのに対して、線速
制御は、光ファイバ母材20の溶融状態の変化を伴うこ
とから、分単位で応答する。したがって、ガラス径制御
と線速制御とでは、制御系の時定数が大きく異なるの
で、これら2つの制御系は実質的に独立な系として扱う
ことができる。
【0024】本実施形態の特徴的な事項は、以上のよう
な光ファイバ製造方法において、光ファイバ10の正分
散区間11と負分散区間12とでガラス径設定値を互い
に異なる値とするとともに、正分散区間11および負分
散区間12と過渡区間とでガラス径制御定数を互いに異
なる値とする点にある(これを第1の実施形態として説
明する)。或いは、光ファイバ10の正分散区間11と
負分散区間12とで、ガラス径設定値を互いに異なる値
とするとともに、線速設定値をも互いに異なる値とする
点にある(これを第2の実施形態として説明する)。こ
のようにすることにより、製造される分散マネージメン
ト光ファイバ10において正分散区間11と負分散区間
12との間の過渡区間が短くなり、非線形光学現象に因
る波形劣化を抑制するという効果を充分に達成すること
ができる。
【0025】(第1の実施形態)先ず、本発明に係る光
ファイバ製造方法の第1の実施形態について説明する。
第1の実施形態は、光ファイバ10の正分散区間11と
負分散区間12とでガラス径設定値Dsを互いに異なる
値とするとともに、正分散区間11および負分散区間1
2と過渡区間とでガラス径制御定数を互いに異なる値と
するものである。
【0026】以下では、時刻t1から時刻t2までの期
間ではガラス径一定で正分散区間11を線引し、時刻t
2にガラス径設定値を変更し、時刻t3にガラス径実測
値がガラス径設定値に収斂し、時刻t3から時刻t4ま
での期間ではガラス径一定で負分散区間12を線引する
ものとして説明する。
【0027】ガラス径設定値Dsを一定径D1として正分
散区間11を線引する期間(時刻t1〜時刻t2)で
は、線速制御量ΔV1を、上記(2)式で求める、また、
ガラス径設定値Dsを一定径D2として負分散区間12を
線引する期間(時刻t3〜時刻t4)でも、線速制御量
ΔV1を上記(2)式で求める。しかし、正分散区間11
と負分散区間12との間であってガラス径実測値Dgが
変化している過渡区間を線引する期間(時刻t2〜時刻
t3)では、線速制御量ΔV1を、
【数9】 なる式で求める。このように、過渡区間におけるガラス
径制御定数(2×α1,2×β1)を、正分散区間11お
よび負分散区間12それぞれにおけるガラス径制御定数
(α1,β1)の2倍として、互いに異なる値とする。た
だし、β1に関しては、時刻t2〜時刻t3の間の分の
み変更する。このことは、最近のデジタル処理の制御系
においては何ら問題なく可能である。
【0028】この場合、線速設定値Vgを一定値500
m/minとしたままでガラス径設定値を変更するとと
もに、過渡区間のガラス径制御定数を正分散区間11お
よび負分散区間12のガラス径制御定数の2倍とする
と、ガラス径設定値を変更した時刻から、ガラス径実測
値がガラス径設定値に収斂するまでに、光ファイバ10
の長さとして60mを費やした。本実施形態では、ガラ
ス径設定値変更前後で母材から線引されるガラスの体積
流量が変化してしまう為、設定変更後、ガラス径及び線
速が安定する迄に、比較的長い時間がかかっている。ま
た、線速制御系の作用により、母材フィーダ速度が変化
する為、光ファイバの線速は、図7に示したように、一
旦大きく落ち込んだ後、徐々に線速設定値のVg=50
0m/minに漸近した。
【0029】なお、線引開始直後から上記(9)式に従っ
て制御を行ったところ、当初の低線速時にガラス径と線
速との間でハンチングが発生し易くなり、線速上昇が困
難であった。したがって、ガラス径制御定数の変更は、
安定した生産線速に達した後に、実際にガラス径を変更
する際に行うことが望ましい。
【0030】(第2の実施形態)次に、本発明に係る光
ファイバ製造方法の第2の実施形態について説明する。
第2の実施形態は、光ファイバ10の正分散区間11と
負分散区間12とで、ガラス径設定値Dsを互いに異な
る値とするとともに、線速設定値Vgをも互いに異なる
値とするものである。
【0031】より好適には、正分散区間11におけるガ
ラス径設定値DsをD1とし、線速設定値VgをV1とし、
負分散区間12におけるガラス径設定値DsをD2とし、
線速設定値VgをV2とする。そして、
【数10】 なる関係式が成り立つよう、光ファイバ10の正分散区
間11および負分散区間12それぞれのガラス径設定値
および線速設定値を設定する。なお、この際、ΔV1
ΔV3を一旦0にするなどの操作は行わない。また、α
1,β1,γ1,α2,β2およびγ2も変更しない。Vgが
変わることにより、制御分VgΔV1は若干変わるが効果
は小さい。連続性という面では、この方が理論的には優
れている。
【0032】例えば、正分散区間11では、ガラス径設
定値D1を131μmとし、線速設定値V1を440.8
m/minとし、一方、負分散区間12では、ガラス径
設定値D2を123μmとし、線速設定値V2を500m
/minとする。この場合、ガラス径設定値を変更した
時刻から、ガラス径実測値がガラス径設定値に収斂する
までに、光ファイバ10の長さとして12mを費やし
た。
【0033】(比較例)次に、比較例の光ファイバ製造
方法について説明する。この比較例では、光ファイバ1
0の正分散区間11と負分散区間12とで、ガラス径設
定値Dsのみを互いに異なる値とする。すなわち、ガラ
ス径制御定数を一定とし、また、線速設定値Vgをも一
定とする。
【0034】この場合、線速設定値Vgを一定値500
m/minとしたままでガラス径設定値を変更すると、
ガラス径設定値を変更した時刻から、ガラス径実測値が
ガラス径設定値に収斂するまでに、光ファイバ10の長
さとして100mを費やした。この比較例では、ガラス
径設定値を変更すると、母材から線引されるガラスの体
積流量が変化する為、光ファイバ10の線速は比較的長
い時間変動した。しかし、線速制御系の作用により、光
ファイバ10の線速は、徐々に線速設定値Vgの500
m/minに漸近した。
【0035】(第1および第2の実施形態と比較例との
対比)次に、第1の実施形態、第2の実施形態および比
較例それぞれの光ファイバ製造方法を比較する。
【0036】図7は、線引速度の時間変化を示すグラフ
である。このグラフでは、ガラス径設定値を変更した時
刻を基準としている。このグラフから判るように、比較
例では、光ファイバ10の線速は、ガラス径設定値を変
更した時刻から変化し初め、約12秒後に最小値となっ
た。その後、線速は、元の500m/minに漸近を開
始し、図示していないが更に500m/minに漸近し
ていった。第1の実施形態では、光ファイバ10の線速
は、ガラス径設定値を変更した時刻から変化し初め、約
4秒後に最小値となった。その後、線速は、元の500
m/minに漸近を開始し、図示していないが更に50
0m/minに漸近していった。第2の実施形態では、
光ファイバ10の線速は、ガラス径設定値を変更した時
刻の2秒後には新たな設定値440.8m/minに安
定した。
【0037】図8は、光ファイバ10のガラス径の長手
方向分布を示すグラフである。このグラフでも、ガラス
径設定値を変更した時刻を基準としている。このグラフ
から判るように、ガラス径実測値がガラス径設定値に収
斂するまでに要する光ファイバ10の長さは、比較例で
は100mであり、第1の実施形態では60mであり、
第2の実施形態では12mであった。
【0038】以上のように、比較例と比べて第1および
第2の実施形態では、線速が安定するまでに要する時間
が短く、また、ガラス径実測値がガラス径設定値に収斂
するまでに要するファイバ長が短い。また、第1の実施
形態と比べて、第2の実施形態では、線速が安定するま
でに要する時間がより短く、また、ガラス径実測値がガ
ラス径設定値に収斂するまでに要するファイバ長がより
短く、しかも安定に収斂する。
【0039】したがって、第1および第2の実施形態そ
れぞれに係る光ファイバ製造方法によれば、長手方向に
波長分散が変化する光ファイバ10を制御性よく製造す
ることができ、正分散区間と負分散区間との間で波長分
散が変化する過渡区間を短くすることができる。それ
故、製造される光ファイバ10は、非線形光学現象に因
る波形劣化を抑制するという効果を充分に達成すること
ができる。また、このような効果は、第1の実施形態よ
り第2の実施形態の方が顕著である。
【0040】
【発明の効果】以上、詳細に説明したとおり、本発明に
よれば、光ファイバ母材を線引する際に、光ファイバの
正分散区間と負分散区間とでガラス径設定値を互いに異
なる値とすることで、正分散区間および負分散区間それ
ぞれの波長分散を所望値とすることができる。また、正
分散区間および負分散区間と過渡区間とで、実際のガラ
ス径をガラス径設定値に制御するためのガラス径制御定
数を互いに異なる値とすることにより、過渡区間を短く
することができる。或いは、光ファイバの正分散区間と
負分散区間とで線速設定値をも互いに異なる値とするこ
とで、過渡区間を短くすることができる。
【0041】したがって、この光ファイバ製造方法によ
れば、長手方向に波長分散が変化する光ファイバを制御
性よく製造することができ、正分散区間と負分散区間と
の間で波長分散が変化する過渡区間を短くすることがで
きるので、製造される光ファイバは、非線形光学現象に
因る波形劣化を抑制するという効果を充分に達成するこ
とができる。特に、光ファイバの正分散区間と負分散区
間とで線速設定値を互いに異なる値とする場合には、こ
の効果は顕著である。
【0042】光ファイバの正分散区間と負分散区間とで
線速設定値を互いに異なる値とする場合には、正分散区
間におけるガラス径設定値をD1とし線速設定値をV1
し、負分散区間におけるガラス径設定値をD2とし線速
設定値をV2としたときに、D 1 2×V1=D2 2×V2 なる
関係式が成り立つよう、光ファイバの正分散区間および
負分散区間それぞれのガラス径設定値および線速設定値
を設定するのが好適である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態に係る光ファイバ製造方法により製
造される光ファイバの1例の説明図である。
【図2】本実施形態に係る光ファイバ製造方法により製
造される光ファイバの屈折率プロファイルの1例の説明
図である。
【図3】図2に示す屈折率プロファイルを有する光ファ
イバの波長分散特性を示すグラフである。
【図4】光ファイバ製造方法の概略説明図である。
【図5】光ファイバの線速の制御について説明するブロ
ック図である。
【図6】光ファイバ母材のフィーダ速度の制御について
説明するブロック図である。
【図7】線引速度の時間変化を示すグラフである。
【図8】光ファイバのガラス径の長手方向分布を示すグ
ラフである。
【符号の説明】
10…光ファイバ、11…正分散区間、12…負分散区
間、20…光ファイバ母材、110…フィーダ、111
…母材送り装置、120…線引き炉、130…外径測定
器、140…樹脂コーディングダイス、150…UVラ
ンプ、160…樹脂コーディングダイス、170…UV
ランプ、210…ローラ、220…引取機、221…キ
ャプスタン、230…ダンサー部、240…巻取機、2
41…ボビン、310…線径制御部、320…線速制御
部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 永山 勝也 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 大西 正志 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 高見澤 宏史 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 Fターム(参考) 2H050 AA01 AC14 AC38 AC83 AC84 4G021 HA05 LA02

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバ母材を線引して、所定波長に
    おける波長分散が正である正分散区間と負である負分散
    区間とが長手方向に交互に設けられた光ファイバを製造
    する方法であって、 その線引の際に、前記光ファイバの前記正分散区間と前
    記負分散区間とでガラス径設定値を互いに異なる値とす
    るとともに、前記正分散区間および前記負分散区間と過
    渡区間とで、実際のガラス径を前記ガラス径設定値に制
    御するためのガラス径制御定数を互いに異なる値とする
    ことを特徴とする光ファイバ製造方法。
  2. 【請求項2】 光ファイバ母材を線引して、所定波長に
    おける波長分散が正である正分散区間と負である負分散
    区間とが長手方向に交互に設けられた光ファイバを製造
    する方法であって、 その線引の際に、前記光ファイバの前記正分散区間と前
    記負分散区間とで、ガラス径設定値を互いに異なる値と
    するとともに、線速設定値をも互いに異なる値とするこ
    とを特徴とする光ファイバ製造方法。
  3. 【請求項3】 前記正分散区間におけるガラス径設定値
    をD1とし線速設定値をV1とし、前記負分散区間におけ
    るガラス径設定値をD2とし線速設定値をV 2としたとき
    に、D1 2×V1=D2 2×V2 なる関係式が成り立つよ
    う、前記光ファイバの前記正分散区間および前記負分散
    区間それぞれのガラス径設定値および線速設定値を設定
    することを特徴とする請求項2記載の光ファイバ製造方
    法。
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