JP2001124513A - Position detector for heat seal of plastic film - Google Patents
Position detector for heat seal of plastic filmInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、プラスチックフィル
ムのヒートシール位置検出装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for detecting the position of heat sealing a plastic film.
【０００２】[0002]
【従来技術とその問題点】たとえば、プラスチック袋を
製造する製袋機では、プラスチックフィルムのヒートシ
ール部分に網目などのパターンの微小凹凸表面を形成
し、そのプラスチックフィルムを長さ方向に間欠送り
し、走行させ、ヒートシール部分またはその近傍におい
て、カッタによってプラスチックフィルムを切断するこ
とが多い。この場合、ヒートシール部分またはその近傍
において、プラスチックフィルムを正確に切断すること
が要求され、これを達成するには、プラスチックフィル
ムが長さ方向に走行しているとき、あらかじめプラスチ
ックフィルムのヒートシール位置を検出する必要があ
る。したがって、本願出願前、出願人は新しい形式のヒ
ートシール位置検出装置を開発し、提案した。特開平１
１−１９０６０８号公報に記載されているものがそれで
ある。2. Description of the Related Art For example, in a bag making machine for manufacturing a plastic bag, a fine irregular surface of a pattern such as a mesh is formed on a heat-sealed portion of the plastic film, and the plastic film is intermittently fed in a length direction. In many cases, the plastic film is cut by a cutter at or near the heat-sealed portion. In this case, it is required to cut the plastic film accurately at or near the heat-sealed portion. To achieve this, when the plastic film is running in the longitudinal direction, the heat-sealing position of the plastic film is determined in advance. Need to be detected. Therefore, before the filing of the present application, the applicant has developed and proposed a new type of heat seal position detecting device. JP 1
That is described in JP-A-1-190808.
【０００３】同公報の装置では、光源および光学センサ
がプラスチックフィルムに対向し、光源から光が照射さ
れ、光学センサはプラスチックフィルムの反射光または
透過光を受ける。したがって、ヒートシール部分が光源
および光学センサの設置位置に達したとき、ヒートシー
ル部分の微小凹凸表面によってその反射光または透過光
が変向され、光学センサの受光量が変化する。そして、
プラスチックフィルムの幅方向において、光学センサの
受光量に波形状の差異が生じると、その波形によってヒ
ートシール部分の微小凹凸表面が読み取られる。これに
よってプラスチックフィルムのヒートシール位置が検出
されるものであるが、同公報の装置の場合、実際のとこ
ろ、プラスチックフィルムのヒートシール位置が検出さ
れないこともあり、その確実性に問題があった。その理
由はヒートシール部分の微小凹凸表面と光学センサの受
光量の関係にあるのではないかと考えられる。プラスチ
ックフィルムの走行にともない、ヒートシール部分の微
小凹凸表面において、反射光または透過光が周期的に変
向されることは明らかであるが、その変向状態はきわめ
て複雑である。したがって、周期的に変向しても、光学
センサの受光量に波形状の差異が生じるとは限らず、そ
の波形によってヒートシール部分の微小凹凸表面を読み
取ることができず、プラスチックフィルムのヒートシー
ル位置を検出することができないのではないかと考えら
れるものである。In the device disclosed in the publication, a light source and an optical sensor face a plastic film, light is emitted from the light source, and the optical sensor receives reflected light or transmitted light from the plastic film. Therefore, when the heat-sealed portion reaches the installation position of the light source and the optical sensor, the reflected light or transmitted light is diverted by the minute uneven surface of the heat-sealed portion, and the amount of light received by the optical sensor changes. And
When a wave-shaped difference occurs in the amount of light received by the optical sensor in the width direction of the plastic film, the minute irregular surface of the heat seal portion is read by the waveform. Thus, the heat seal position of the plastic film is detected. However, in the case of the apparatus disclosed in the publication, the heat seal position of the plastic film may not actually be detected, and there is a problem in its reliability. It is considered that the reason is that there is a relationship between the minute uneven surface of the heat seal portion and the amount of light received by the optical sensor. It is clear that reflected light or transmitted light is periodically changed on the minute uneven surface of the heat seal portion as the plastic film runs, but the turning state is extremely complicated. Therefore, even if the deflection is performed periodically, the waveform of the light received by the optical sensor does not always change, and the waveform cannot read the minute uneven surface of the heat seal portion. It is considered that the position cannot be detected.
【０００４】[0004]
【発明の目的】したがって、この発明は、プラスチック
フィルムのヒートシール位置を確実に検出することを目
的としてなされたものである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to reliably detect a heat sealing position of a plastic film.
【０００５】[0005]
【発明の構成】この出願にかかる発明は２つの発明であ
る。その第１発明によれば、網目などのパターンの微小
凹凸表面をもつヒートシール部分を有し、長さ方向に走
行するプラスチックフィルムのヒートシール位置を検出
する装置において、光源がプラスチックフィルムに対向
し、光源から光が照射される。さらに、光遮断マスクが
光源とプラスチックフィルム間に配置される。光遮断マ
スクは光を通過させる複数のスリットまたは孔を有す
る。さらに、光学センサがプラスチックフィルムに対向
し、プラスチックフィルムの反射光または透過光を受
け、光遮断マスクのスリットまたは孔を画像認識する。
したがって、その画像変化によってヒートシール部分の
微小凹凸表面を読み取り、プラスチックフィルムのヒー
トシール位置を検出することができる。The invention according to this application is two inventions. According to the first invention, in a device for detecting a heat sealing position of a plastic film running in a longitudinal direction, the light source has a heat sealing portion having a fine uneven surface of a pattern such as a mesh, and a light source faces the plastic film. Light is emitted from the light source. Further, a light blocking mask is arranged between the light source and the plastic film. The light blocking mask has a plurality of slits or holes through which light passes. Further, the optical sensor faces the plastic film, receives the reflected light or the transmitted light of the plastic film, and recognizes the image of the slit or the hole of the light shielding mask.
Therefore, the minute uneven surface of the heat seal portion can be read by the image change, and the heat seal position of the plastic film can be detected.
【０００６】第１発明において、ピンポイントマスクま
たは小径レンズが光学センサとプラスチックフィルム間
に配置され、ピンポイントマスクまたは小径レンズによ
ってスリットまたは孔の画像が鮮明化されることが好ま
しい。さらに、画像上の各スリットまたは孔のピッチが
ヒートシール部分の反射光または透過光の周期的変向振
幅よりも小さいことが好ましい。In the first invention, it is preferable that a pinpoint mask or a small-diameter lens is disposed between the optical sensor and the plastic film, and the image of the slit or the hole is sharpened by the pinpoint mask or the small-diameter lens. Further, it is preferable that the pitch of each slit or hole on the image is smaller than the periodic deflection amplitude of the reflected light or transmitted light of the heat seal portion.
【０００７】第２発明によれば、複数の光源がプラスチ
ックフィルムに対向し、各光源から光が照射される。そ
して、光学センサがプラスチックフィルムの反射光また
は透過光を受け、それを画像認識する。したがって、そ
の画像変化によってヒートシール部分の微小凹凸表面を
読み取り、プラスチックフィルムのヒートシール位置を
検出することができる。According to the second aspect, the plurality of light sources face the plastic film, and light is emitted from each light source. Then, the optical sensor receives reflected light or transmitted light from the plastic film and recognizes the image. Therefore, the minute uneven surface of the heat seal portion can be read by the image change, and the heat seal position of the plastic film can be detected.
【０００８】第２発明において、光源は平行光線の光源
からなることが好ましい。In the second invention, it is preferable that the light source comprises a parallel light source.
【０００９】第２発明において、さらに、ピンポイント
マスクまたは小径レンズが光学センサとプラスチックフ
ィルム間に配置され、ピンポイントマスクまたは小径レ
ンズによって反射光または透過光の画像が鮮明化される
ことが好ましい。In the second invention, it is preferable that a pinpoint mask or a small-diameter lens is disposed between the optical sensor and the plastic film, and the reflected light or transmitted light image is sharpened by the pinpoint mask or the small-diameter lens.
【００１０】[0010]
【実施例の説明】以下、この発明の実施例を説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below.
【００１１】図１において、これはプラスチックフィル
ム１のヒートシール位置を検出するためのもので、製袋
機の付属装置であり、プラスチックフィルム１が複数層
に重ね合わされ、その長さ方向Ｘに間欠送りされ、走行
することは上記公報のものと同様である。プラスチック
フィルム１の間欠送り毎に、プラスチックフィルム１が
その幅方向にヒートシールされ、その後、間欠送り毎
に、ヒートシール部分２またはその近傍において、カッ
タによってプラスチックフィルム１が切断され、これに
よってプラスチック袋が製造されることも同公報のもの
と同様である。シールバーまたは冷却バーのテフロンシ
ートまたは微小凹凸加圧面がヒートシール部分２に押し
付けられ、ヒートシール部分２に網目などのパターンの
微小凹凸表面が形成されることも同公報のものと同様で
ある。In FIG. 1, this is a device for detecting the heat sealing position of the plastic film 1 and is an accessory of a bag making machine. Feeding and running are the same as in the above publication. Each time the plastic film 1 is intermittently fed, the plastic film 1 is heat-sealed in its width direction. Then, each time the plastic film 1 is intermittently fed, the plastic film 1 is cut at or near the heat-sealed portion 2 by a cutter. Is produced in the same manner as in the publication. The Teflon sheet of the seal bar or the cooling bar or the fine uneven surface pressing surface is pressed against the heat seal portion 2 to form a fine uneven surface of a pattern such as a mesh on the heat seal portion 2 as in the publication.
【００１２】そして、この装置では、プラスチックフィ
ルム１の上側において、光源３および光学センサ４がプ
ラスチックフィルム１に対向し、光源３から光が照射さ
れ、光学センサ４はプラスチックフィルム１の反射光を
受ける。その位置はシールバーおよび冷却バーの下流の
位置であり、カッタの上流の位置である。さらに、この
実施例では、プラスチックフィルム１の上面において、
光源３の光が斜めに照射され、斜めに反射し、光学セン
サ４に導かれる。In this apparatus, the light source 3 and the optical sensor 4 are opposed to the plastic film 1 above the plastic film 1, and light is emitted from the light source 3, and the optical sensor 4 receives the reflected light of the plastic film 1. . That location is downstream of the seal bar and cooling bar and upstream of the cutter. Further, in this embodiment, on the upper surface of the plastic film 1,
The light from the light source 3 is irradiated obliquely, reflected obliquely, and guided to the optical sensor 4.
【００１３】さらに、光遮断マスク５が光源３とプラス
チックフィルム１間に配置され、ピンポイントマスク６
が光学センサ４とプラスチックフィルム１間に配置され
ている。図２に示すように、光遮断マスク５は光を通過
させる複数のスリット７を有する。したがって、光源３
の光が各スリット７を通り、プラスチックフィルム１に
照射され、その光がプラスチックフィルム１から反射
し、ピンポイントマスク６を通り、光学センサ４に導か
れる。光学センサ４はＣＣＤカメラからなる。したがっ
て、光学センサ４によって光遮断マスク５のスリット７
を画像認識することができる。光遮断マスク５のスリッ
ト７を画像認識するにあたって、ピンポイントマスク６
によってその画像を鮮明化することもできる。ピンポイ
ントマスク６については、そのピンポイントの径が１．
０ｍｍ〜６．０ｍｍに選定されている。Further, a light blocking mask 5 is disposed between the light source 3 and the plastic film 1 and a pinpoint mask 6
Are disposed between the optical sensor 4 and the plastic film 1. As shown in FIG. 2, the light blocking mask 5 has a plurality of slits 7 for transmitting light. Therefore, light source 3
Is applied to the plastic film 1 through each slit 7, the light is reflected from the plastic film 1, passes through the pinpoint mask 6, and is guided to the optical sensor 4. The optical sensor 4 comprises a CCD camera. Therefore, the slit 7 of the light blocking mask 5 is controlled by the optical sensor 4.
Can be image-recognized. In recognizing the image of the slit 7 of the light shielding mask 5, the pinpoint mask 6 is used.
Can also sharpen the image. As for the pinpoint mask 6, the diameter of the pinpoint is 1.
It is selected from 0 mm to 6.0 mm.
【００１４】そして、プラスチックフィルム１が長さ方
向に走行し、ヒートシール部分２が光源３および光学セ
ンサ４の設置位置に達したとき、光源３の光が各スリッ
ト７を通り、ヒートシール部分２の微小凹凸表面に達
し、ヒートシール部分２の微小凹凸表面から反射する
が、ヒートシール部分２の微小凹凸表面によってその反
射光が変向される。さらに、プラスチックフィルム１の
走行にともない、ヒートシール部分２の微小凹凸表面に
おいて、図３に示すように、反射光がある振幅Ａをも
ち、周期的に変向する。したがって、ヒートシール部分
２の反射光が光学センサ４に導かれたとき、それによっ
てスリット７の画像が乱れ、変化する。When the plastic film 1 travels in the longitudinal direction and the heat seal portion 2 reaches the position where the light source 3 and the optical sensor 4 are installed, light from the light source 3 passes through each slit 7 and passes through the heat seal portion 2. , And is reflected from the minute uneven surface of the heat seal portion 2, but the reflected light is diverted by the minute uneven surface of the heat seal portion 2. Further, as the plastic film 1 travels, the reflected light has a certain amplitude A and periodically changes on the minute uneven surface of the heat seal portion 2 as shown in FIG. Therefore, when the reflected light of the heat seal portion 2 is guided to the optical sensor 4, the image of the slit 7 is disturbed and changed.
【００１５】さらに、この実施例では、光遮断マスク５
の各スリット７の幅Ｗが０．５〜５ｍｍに選定され、ピ
ッチＰ０が１０〜１００ｍｍに選定されている。この結
果、画像上の各スリット７のピッチＰ１がヒートシール
部分２の反射光の周期的変向振幅Ａよりも小さく、スリ
ット７の画像が確実に乱れ、変化する。したがって、そ
の画像変化によってヒートシール部分２の微小凹凸表面
を読み取り、プラスチックフィルム１のヒートシール位
置を確実に検出することができる。Further, in this embodiment, the light shielding mask 5 is used.
The width W of each slit 7 is selected to be 0.5 to 5 mm, and the pitch P0 is selected to be 10 to 100 mm. As a result, the pitch P1 of each slit 7 on the image is smaller than the periodic deflection amplitude A of the reflected light of the heat seal portion 2, and the image of the slit 7 is reliably disturbed and changed. Therefore, the minute uneven surface of the heat seal portion 2 can be read by the image change, and the heat seal position of the plastic film 1 can be reliably detected.
【００１６】図４に示すように、光遮断マスク５に複数
の孔８を形成し、その孔８を光が通過するようにしても
よい。この場合、光学センサ４によって光遮断マスク５
の孔８を画像認識することができる。光遮断マスク５の
各孔８の径Ｄが０．５〜５ｍｍに選定され、ピッチＰ０
が１０〜１００ｍｍに選定されていることは図２のスリ
ット７と同様である。したがって、画像上の各孔８のピ
ッチがヒートシール部分２の反射光の周期的変向振幅Ａ
よりも小さく、孔８の画像が確実に乱れ、変化し、その
画像変化によってヒートシール部分２の微小凹凸表面を
読み取り、プラスチックフィルム１のヒートシール位置
を検出することができる。As shown in FIG. 4, a plurality of holes 8 may be formed in the light blocking mask 5, and light may pass through the holes 8. In this case, the light blocking mask 5 is
Image of the hole 8 can be recognized. The diameter D of each hole 8 of the light shielding mask 5 is selected to be 0.5 to 5 mm, and the pitch P0
Is selected to be 10 to 100 mm as in the case of the slit 7 in FIG. Therefore, the pitch of each hole 8 on the image is the periodic deflection amplitude A of the reflected light of the heat seal portion 2.
The image of the hole 8 is surely disturbed and changed, and the minute uneven surface of the heat seal portion 2 is read based on the image change, and the heat seal position of the plastic film 1 can be detected.
【００１７】図５は他の実施例を示す。この実施例で
は、複数の光源３が光学センサ４のまわりに配置されて
おり、プラスチックフィルム１の上面において、光源３
の光が斜めに照射され、垂直に反射し、光学センサ４に
導かれる。環状の光源を光学センサ４のまわりに配置し
てもよい。光遮断マスク５が光源３とプラスチックフィ
ルム１間に配置され、ピンポイントマスク６が光学セン
サ４とプラスチックフィルム１間に配置されていること
は図１の実施例と同様である。したがって、ヒートシー
ル部分２の反射光が光学センサ４に導かれたとき、それ
によってスリット７または孔８の画像が乱れ、変化し、
その画像変化によってヒートシール部分２の微小凹凸表
面を読み取り、プラスチックフィルム１のヒートシール
位置を検出することができる。この実施例の場合、プラ
スチックフィルム１に垂直の光が光学センサ４に導か
れ、この関係上、プラスチックフィルム１の高さがある
程度変動しても、それによってスリット７または孔８の
画像が乱れることはなく、好ましい。FIG. 5 shows another embodiment. In this embodiment, a plurality of light sources 3 are arranged around the optical sensor 4, and on the upper surface of the plastic film 1,
Is irradiated obliquely, reflected vertically, and guided to the optical sensor 4. An annular light source may be arranged around the optical sensor 4. The light blocking mask 5 is disposed between the light source 3 and the plastic film 1, and the pinpoint mask 6 is disposed between the optical sensor 4 and the plastic film 1, as in the embodiment of FIG. Therefore, when the reflected light from the heat seal portion 2 is guided to the optical sensor 4, the image of the slit 7 or the hole 8 is disturbed and changed,
The minute uneven surface of the heat seal portion 2 is read by the image change, and the heat seal position of the plastic film 1 can be detected. In the case of this embodiment, the light perpendicular to the plastic film 1 is guided to the optical sensor 4, and due to this, even if the height of the plastic film 1 fluctuates to some extent, the image of the slit 7 or the hole 8 is disturbed. Not preferred.
【００１８】図１および図５の実施例において、光源３
および光学センサ４をプラスチックフィルム１の上側で
はなく、下側に配置してもよい。In the embodiment of FIGS. 1 and 5, the light source 3
The optical sensor 4 may be arranged below the plastic film 1 instead of above.
【００１９】図６に示すように、光源３の反対側におい
て、光学センサ４をプラスチックフィルム１に対向させ
てもよい。そして、光遮断マスク５を光源３とプラスチ
ックフィルム１間に配置し、ピンポイントマスク６を光
学センサ４とプラスチックフィルム１間に配置すると、
光学センサ４がプラスチックフィルム１の透過光を受
け、光学センサ４によって光遮断マスク５のスリット７
または孔８を画像認識することができる。したがって、
ヒートシール部分２の透過光が光学センサ４に導かれた
とき、それによってスリット７または孔８の画像が乱
れ、変化し、その画像変化によってヒートシール部分２
の微小凹凸表面を読み取り、プラスチックフィルム１の
ヒートシール位置を検出することができる。特に、画像
上の各スリット７または孔８のピッチがヒートシール部
分２の透過光の周期的変向振幅よりも小さいとき、スリ
ット７または孔８の画像が確実に乱れ、変化し、プラス
チックフィルム１のヒートシール位置を確実に検出する
ことができるのは上記実施例のものと同様である。As shown in FIG. 6, the optical sensor 4 may be opposed to the plastic film 1 on the side opposite to the light source 3. When the light blocking mask 5 is arranged between the light source 3 and the plastic film 1 and the pinpoint mask 6 is arranged between the optical sensor 4 and the plastic film 1,
The optical sensor 4 receives the transmitted light of the plastic film 1, and the slit 7 of the light blocking mask 5 is received by the optical sensor 4.
Alternatively, the image of the hole 8 can be recognized. Therefore,
When the transmitted light of the heat seal portion 2 is guided to the optical sensor 4, the image of the slit 7 or the hole 8 is disturbed and changed, and the change in the image causes the heat seal portion 2 to change.
, The heat sealing position of the plastic film 1 can be detected. In particular, when the pitch of each slit 7 or hole 8 on the image is smaller than the periodic deflection amplitude of the light transmitted through the heat seal portion 2, the image of the slit 7 or hole 8 is surely disturbed and changed, and the plastic film 1 The heat seal position can be reliably detected as in the above embodiment.
【００２０】各実施例において、ピンポイントマスク６
ではなく、小径レンズを光学センサ４とプラスチックフ
ィルム１間に配置し、小径レンズによってスリット７ま
たは孔８の画像を鮮明化するようにしてもよい。In each embodiment, the pinpoint mask 6
Instead, a small-diameter lens may be arranged between the optical sensor 4 and the plastic film 1, and the image of the slit 7 or the hole 8 may be sharpened by the small-diameter lens.
【００２１】図７の実施例では、光学センサ４のまわり
において、複数の光源３が互いに間隔を置いて配置され
ている。たとえば、４つの光源３が９０°の角度間隔を
置いて配置されている。その間隔の大きさは１０〜１０
０ｍｍである。たとえば、光源３は平行光線の光源から
なり、およそ３０ｍｍの径の平行光線を生じさせる。そ
の間隔はおよそ５０ｍｍである。そして、各光源３がプ
ラスチックフィルム１に対向し、各光源３から光が照射
され、光学センサ４がプラスチックフィルム１の反射光
を受け、それを画像認識する。したがって、その画像変
化によってヒートシール部分２の微小凹凸表面を読み取
ることができ、プラスチックフィルム１のヒートシール
位置を検出することができる。光学センサ４を光源３の
反対側に配置し、光学センサ４がプラスチックフィルム
１の透過光を受け、それを画像認識するようにしてもよ
い。In the embodiment shown in FIG. 7, a plurality of light sources 3 are arranged around the optical sensor 4 at intervals. For example, four light sources 3 are arranged at an angular interval of 90 °. The size of the interval is 10 to 10
0 mm. For example, light source 3 comprises a parallel light source, which produces a parallel light beam having a diameter of approximately 30 mm. The spacing is approximately 50 mm. Then, each light source 3 faces the plastic film 1, light is emitted from each light source 3, and the optical sensor 4 receives the reflected light of the plastic film 1 and recognizes the image. Therefore, the minute uneven surface of the heat seal portion 2 can be read by the image change, and the heat seal position of the plastic film 1 can be detected. The optical sensor 4 may be arranged on the opposite side of the light source 3 so that the optical sensor 4 receives light transmitted through the plastic film 1 and recognizes the image.
【００２２】図７の実施例において、ピンポイントマス
ク６を光学センサ４とプラスチックフィルム１間に配置
すると、ピンポイントマスク６によって反射光または透
過光の画像を鮮明化することができ、好ましい。ピンポ
イントマスク６ではなく、小径レンズを光学センサ４と
プラスチックフィルム１間に配置し、小径レンズによっ
て反射光または透過光の画像を鮮明化するようにしても
よい。さらに、光源３は平行光線の光源以外の光源であ
ってもよく、点光源であってもよく、線光源であっても
よい。光源４にレーザ光源を使用してもよい。さらに、
レンズを光源３とプラスチックフィルム１間に配置し、
レンズによってプラスチックフィルム１上に集光させる
ようにしてもよい。光源３を反射鏡で覆い、反射鏡によ
ってプラスチックフィルム１上に集光させるようにして
もよい。In the embodiment shown in FIG. 7, it is preferable to dispose the pinpoint mask 6 between the optical sensor 4 and the plastic film 1, because the reflected light or transmitted light image can be sharpened by the pinpoint mask 6. Instead of the pinpoint mask 6, a small-diameter lens may be disposed between the optical sensor 4 and the plastic film 1 so that the reflected light or transmitted light image is sharpened by the small-diameter lens. Further, the light source 3 may be a light source other than a parallel light source, a point light source, or a line light source. A laser light source may be used as the light source 4. further,
A lens is arranged between the light source 3 and the plastic film 1,
The light may be collected on the plastic film 1 by a lens. The light source 3 may be covered with a reflecting mirror, and the light may be collected on the plastic film 1 by the reflecting mirror.
【００２３】[0023]
【発明の効果】以上説明したように、第１発明によれ
ば、光学センサ４によって光遮断マスク５のスリット７
または孔８が画像認識され、その画像変化によってヒー
トシール部分２の微小凹凸表面が読み取られる。第２発
明によれば、複数の光源３がプラスチックフィルム１に
対向し、各光源３から光が照射され、光学センサ４によ
ってプラスチックフィルム１の反射光または透過光が画
像認識され、その画像変化によってヒートシール部分２
の微小凹凸表面が読み取られる。したがって、プラスチ
ックフィルム１のヒートシール位置を確実に検出するこ
とができ、所期の目的を達成することができるものであ
る。As described above, according to the first aspect, the slit 7 of the light shielding mask 5 is controlled by the optical sensor 4.
Alternatively, the hole 8 is image-recognized, and the minute uneven surface of the heat seal portion 2 is read by the image change. According to the second invention, the plurality of light sources 3 face the plastic film 1, light is emitted from each light source 3, and the reflected light or transmitted light of the plastic film 1 is image-recognized by the optical sensor 4. Heat sealing part 2
Is read. Therefore, the heat sealing position of the plastic film 1 can be reliably detected, and the intended purpose can be achieved.
【図１】この発明の実施例を示す側面図である。FIG. 1 is a side view showing an embodiment of the present invention.
【図２】図１の光遮断マスクの平面図である。FIG. 2 is a plan view of the light shielding mask of FIG.
【図３】図１の装置のスリットの画像とヒートシール部
分の反射光の関係を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a relationship between an image of a slit of the apparatus of FIG. 1 and reflected light of a heat seal portion.
【図４】他の実施例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing another embodiment.
【図５】他の実施例を示す側面図である。FIG. 5 is a side view showing another embodiment.
【図６】他の実施例を示す側面図である。FIG. 6 is a side view showing another embodiment.
【図７】他の実施例を示す側面図である。FIG. 7 is a side view showing another embodiment.
１ プラスチックフィルム ２ ヒートシール部分 ３ 光源 ４ 光学センサ ５ 光遮断マスク ６ ピンポイントマスク ７ スリット ８ 孔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plastic film 2 Heat seal part 3 Light source 4 Optical sensor 5 Light blocking mask 6 Pin point mask 7 Slit 8 Hole
Claims (5)
つヒートシール部分を有し、長さ方向に走行するプラス
チックフィルムのヒートシール位置を検出する装置であ
って、前記プラスチックフィルムに対向し、光を照射す
る光源と、前記光源と前記プラスチックフィルム間に配
置され、前記光を通過させる複数のスリットまたは孔を
有する光遮断マスクと、前記プラスチックフィルムに対
向し、前記プラスチックフィルムの反射光または透過光
を受け、前記光遮断マスクのスリットまたは孔を画像認
識し、その画像変化によって前記ヒートシール部分の微
小凹凸表面を読み取り、前記プラスチックフィルムのヒ
ートシール位置を検出する光学センサとからなるプラス
チックフィルムのヒートシール位置検出装置。1. A device for detecting a heat sealing position of a plastic film running in a longitudinal direction, the device having a heat sealing portion having a fine irregular surface of a pattern such as a mesh, and opposing the plastic film. A light blocking mask disposed between the light source and the plastic film and having a plurality of slits or holes through which the light passes; and a reflection light or a transmission light of the plastic film facing the plastic film. Receiving an image of the slit or the hole of the light shielding mask, reading the minute uneven surface of the heat seal portion by the change in the image, and detecting the heat seal position of the plastic film. Seal position detection device.
前記光学センサと前記プラスチックフィルム間に配置さ
れ、前記ピンポイントマスクまたは小径レンズによって
前記スリットまたは孔の画像が鮮明化され、さらに、画
像上の前記各スリットまたは孔のピッチが前記ヒートシ
ール部分の反射光または透過光の周期的変向振幅よりも
小さいことを特徴とする請求項１に記載の装置。2. A pinpoint mask or a small-diameter lens is disposed between the optical sensor and the plastic film, and the image of the slit or the hole is sharpened by the pinpoint mask or the small-diameter lens. 2. The apparatus according to claim 1, wherein a pitch of the slits or holes is smaller than a periodic deflection amplitude of reflected light or transmitted light of the heat sealing portion.
つヒートシール部分を有し、長さ方向に走行するプラス
チックフィルムのヒートシール位置を検出する装置であ
って、前記プラスチックフィルムに対向し、光を照射す
る複数の光源と、前記プラスチックフィルムに対向し、
前記プラスチックフィルムの反射光または透過光を受
け、それを画像認識し、その画像変化によって前記ヒー
トシール部分の微小凹凸表面を読み取り、前記プラスチ
ックフィルムのヒートシール位置を検出する光学センサ
とからなるプラスチックフィルムのヒートシール位置検
出装置。3. An apparatus for detecting a heat-sealing position of a plastic film running in a longitudinal direction, the heat-sealing portion having a heat-sealing portion having a fine uneven surface of a pattern such as a mesh, And a plurality of light sources for irradiating the plastic film,
A plastic film comprising an optical sensor for receiving the reflected light or transmitted light of the plastic film, recognizing the image, reading the minute uneven surface of the heat seal portion by the image change, and detecting the heat seal position of the plastic film. Heat seal position detecting device.
項３に記載の装置。4. The apparatus of claim 3, wherein said light source comprises a collimated light source.
前記光学センサと前記プラスチックフィルム間に配置さ
れ、前記ピンポイントマスクまたは小径レンズによって
前記反射光または透過光の画像が鮮明化されるようにし
たことを特徴とする請求項４に記載の装置。5. The method according to claim 1, wherein a pinpoint mask or a small-diameter lens is disposed between the optical sensor and the plastic film so that the image of the reflected light or the transmitted light is sharpened by the pinpoint mask or the small-diameter lens. The device according to claim 4, characterized in that:
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