JP2001124513A - Position detector for heat seal of plastic film - Google Patents
Position detector for heat seal of plastic filmInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、プラスチックフィル
ムのヒートシール位置検出装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for detecting the position of heat sealing a plastic film.
【0002】[0002]
【従来技術とその問題点】たとえば、プラスチック袋を
製造する製袋機では、プラスチックフィルムのヒートシ
ール部分に網目などのパターンの微小凹凸表面を形成
し、そのプラスチックフィルムを長さ方向に間欠送り
し、走行させ、ヒートシール部分またはその近傍におい
て、カッタによってプラスチックフィルムを切断するこ
とが多い。この場合、ヒートシール部分またはその近傍
において、プラスチックフィルムを正確に切断すること
が要求され、これを達成するには、プラスチックフィル
ムが長さ方向に走行しているとき、あらかじめプラスチ
ックフィルムのヒートシール位置を検出する必要があ
る。したがって、本願出願前、出願人は新しい形式のヒ
ートシール位置検出装置を開発し、提案した。特開平1
1−190608号公報に記載されているものがそれで
ある。2. Description of the Related Art For example, in a bag making machine for manufacturing a plastic bag, a fine irregular surface of a pattern such as a mesh is formed on a heat-sealed portion of the plastic film, and the plastic film is intermittently fed in a length direction. In many cases, the plastic film is cut by a cutter at or near the heat-sealed portion. In this case, it is required to cut the plastic film accurately at or near the heat-sealed portion. To achieve this, when the plastic film is running in the longitudinal direction, the heat-sealing position of the plastic film is determined in advance. Need to be detected. Therefore, before the filing of the present application, the applicant has developed and proposed a new type of heat seal position detecting device. JP 1
That is described in JP-A-1-190808.
【0003】同公報の装置では、光源および光学センサ
がプラスチックフィルムに対向し、光源から光が照射さ
れ、光学センサはプラスチックフィルムの反射光または
透過光を受ける。したがって、ヒートシール部分が光源
および光学センサの設置位置に達したとき、ヒートシー
ル部分の微小凹凸表面によってその反射光または透過光
が変向され、光学センサの受光量が変化する。そして、
プラスチックフィルムの幅方向において、光学センサの
受光量に波形状の差異が生じると、その波形によってヒ
ートシール部分の微小凹凸表面が読み取られる。これに
よってプラスチックフィルムのヒートシール位置が検出
されるものであるが、同公報の装置の場合、実際のとこ
ろ、プラスチックフィルムのヒートシール位置が検出さ
れないこともあり、その確実性に問題があった。その理
由はヒートシール部分の微小凹凸表面と光学センサの受
光量の関係にあるのではないかと考えられる。プラスチ
ックフィルムの走行にともない、ヒートシール部分の微
小凹凸表面において、反射光または透過光が周期的に変
向されることは明らかであるが、その変向状態はきわめ
て複雑である。したがって、周期的に変向しても、光学
センサの受光量に波形状の差異が生じるとは限らず、そ
の波形によってヒートシール部分の微小凹凸表面を読み
取ることができず、プラスチックフィルムのヒートシー
ル位置を検出することができないのではないかと考えら
れるものである。In the device disclosed in the publication, a light source and an optical sensor face a plastic film, light is emitted from the light source, and the optical sensor receives reflected light or transmitted light from the plastic film. Therefore, when the heat-sealed portion reaches the installation position of the light source and the optical sensor, the reflected light or transmitted light is diverted by the minute uneven surface of the heat-sealed portion, and the amount of light received by the optical sensor changes. And
When a wave-shaped difference occurs in the amount of light received by the optical sensor in the width direction of the plastic film, the minute irregular surface of the heat seal portion is read by the waveform. Thus, the heat seal position of the plastic film is detected. However, in the case of the apparatus disclosed in the publication, the heat seal position of the plastic film may not actually be detected, and there is a problem in its reliability. It is considered that the reason is that there is a relationship between the minute uneven surface of the heat seal portion and the amount of light received by the optical sensor. It is clear that reflected light or transmitted light is periodically changed on the minute uneven surface of the heat seal portion as the plastic film runs, but the turning state is extremely complicated. Therefore, even if the deflection is performed periodically, the waveform of the light received by the optical sensor does not always change, and the waveform cannot read the minute uneven surface of the heat seal portion. It is considered that the position cannot be detected.
【0004】[0004]
【発明の目的】したがって、この発明は、プラスチック
フィルムのヒートシール位置を確実に検出することを目
的としてなされたものである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to reliably detect a heat sealing position of a plastic film.
【0005】[0005]
【発明の構成】この出願にかかる発明は2つの発明であ
る。その第1発明によれば、網目などのパターンの微小
凹凸表面をもつヒートシール部分を有し、長さ方向に走
行するプラスチックフィルムのヒートシール位置を検出
する装置において、光源がプラスチックフィルムに対向
し、光源から光が照射される。さらに、光遮断マスクが
光源とプラスチックフィルム間に配置される。光遮断マ
スクは光を通過させる複数のスリットまたは孔を有す
る。さらに、光学センサがプラスチックフィルムに対向
し、プラスチックフィルムの反射光または透過光を受
け、光遮断マスクのスリットまたは孔を画像認識する。
したがって、その画像変化によってヒートシール部分の
微小凹凸表面を読み取り、プラスチックフィルムのヒー
トシール位置を検出することができる。The invention according to this application is two inventions. According to the first invention, in a device for detecting a heat sealing position of a plastic film running in a longitudinal direction, the light source has a heat sealing portion having a fine uneven surface of a pattern such as a mesh, and a light source faces the plastic film. Light is emitted from the light source. Further, a light blocking mask is arranged between the light source and the plastic film. The light blocking mask has a plurality of slits or holes through which light passes. Further, the optical sensor faces the plastic film, receives the reflected light or the transmitted light of the plastic film, and recognizes the image of the slit or the hole of the light shielding mask.
Therefore, the minute uneven surface of the heat seal portion can be read by the image change, and the heat seal position of the plastic film can be detected.
【0006】第1発明において、ピンポイントマスクま
たは小径レンズが光学センサとプラスチックフィルム間
に配置され、ピンポイントマスクまたは小径レンズによ
ってスリットまたは孔の画像が鮮明化されることが好ま
しい。さらに、画像上の各スリットまたは孔のピッチが
ヒートシール部分の反射光または透過光の周期的変向振
幅よりも小さいことが好ましい。In the first invention, it is preferable that a pinpoint mask or a small-diameter lens is disposed between the optical sensor and the plastic film, and the image of the slit or the hole is sharpened by the pinpoint mask or the small-diameter lens. Further, it is preferable that the pitch of each slit or hole on the image is smaller than the periodic deflection amplitude of the reflected light or transmitted light of the heat seal portion.
【0007】第2発明によれば、複数の光源がプラスチ
ックフィルムに対向し、各光源から光が照射される。そ
して、光学センサがプラスチックフィルムの反射光また
は透過光を受け、それを画像認識する。したがって、そ
の画像変化によってヒートシール部分の微小凹凸表面を
読み取り、プラスチックフィルムのヒートシール位置を
検出することができる。According to the second aspect, the plurality of light sources face the plastic film, and light is emitted from each light source. Then, the optical sensor receives reflected light or transmitted light from the plastic film and recognizes the image. Therefore, the minute uneven surface of the heat seal portion can be read by the image change, and the heat seal position of the plastic film can be detected.
【0008】第2発明において、光源は平行光線の光源
からなることが好ましい。In the second invention, it is preferable that the light source comprises a parallel light source.
【0009】第2発明において、さらに、ピンポイント
マスクまたは小径レンズが光学センサとプラスチックフ
ィルム間に配置され、ピンポイントマスクまたは小径レ
ンズによって反射光または透過光の画像が鮮明化される
ことが好ましい。In the second invention, it is preferable that a pinpoint mask or a small-diameter lens is disposed between the optical sensor and the plastic film, and the reflected light or transmitted light image is sharpened by the pinpoint mask or the small-diameter lens.
【0010】[0010]
【実施例の説明】以下、この発明の実施例を説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below.
【0011】図1において、これはプラスチックフィル
ム1のヒートシール位置を検出するためのもので、製袋
機の付属装置であり、プラスチックフィルム1が複数層
に重ね合わされ、その長さ方向Xに間欠送りされ、走行
することは上記公報のものと同様である。プラスチック
フィルム1の間欠送り毎に、プラスチックフィルム1が
その幅方向にヒートシールされ、その後、間欠送り毎
に、ヒートシール部分2またはその近傍において、カッ
タによってプラスチックフィルム1が切断され、これに
よってプラスチック袋が製造されることも同公報のもの
と同様である。シールバーまたは冷却バーのテフロンシ
ートまたは微小凹凸加圧面がヒートシール部分2に押し
付けられ、ヒートシール部分2に網目などのパターンの
微小凹凸表面が形成されることも同公報のものと同様で
ある。In FIG. 1, this is a device for detecting the heat sealing position of the plastic film 1 and is an accessory of a bag making machine. Feeding and running are the same as in the above publication. Each time the plastic film 1 is intermittently fed, the plastic film 1 is heat-sealed in its width direction. Then, each time the plastic film 1 is intermittently fed, the plastic film 1 is cut at or near the heat-sealed portion 2 by a cutter. Is produced in the same manner as in the publication. The Teflon sheet of the seal bar or the cooling bar or the fine uneven surface pressing surface is pressed against the heat seal portion 2 to form a fine uneven surface of a pattern such as a mesh on the heat seal portion 2 as in the publication.
【0012】そして、この装置では、プラスチックフィ
ルム1の上側において、光源3および光学センサ4がプ
ラスチックフィルム1に対向し、光源3から光が照射さ
れ、光学センサ4はプラスチックフィルム1の反射光を
受ける。その位置はシールバーおよび冷却バーの下流の
位置であり、カッタの上流の位置である。さらに、この
実施例では、プラスチックフィルム1の上面において、
光源3の光が斜めに照射され、斜めに反射し、光学セン
サ4に導かれる。In this apparatus, the light source 3 and the optical sensor 4 are opposed to the plastic film 1 above the plastic film 1, and light is emitted from the light source 3, and the optical sensor 4 receives the reflected light of the plastic film 1. . That location is downstream of the seal bar and cooling bar and upstream of the cutter. Further, in this embodiment, on the upper surface of the plastic film 1,
The light from the light source 3 is irradiated obliquely, reflected obliquely, and guided to the optical sensor 4.
【0013】さらに、光遮断マスク5が光源3とプラス
チックフィルム1間に配置され、ピンポイントマスク6
が光学センサ4とプラスチックフィルム1間に配置され
ている。図2に示すように、光遮断マスク5は光を通過
させる複数のスリット7を有する。したがって、光源3
の光が各スリット7を通り、プラスチックフィルム1に
照射され、その光がプラスチックフィルム1から反射
し、ピンポイントマスク6を通り、光学センサ4に導か
れる。光学センサ4はCCDカメラからなる。したがっ
て、光学センサ4によって光遮断マスク5のスリット7
を画像認識することができる。光遮断マスク5のスリッ
ト7を画像認識するにあたって、ピンポイントマスク6
によってその画像を鮮明化することもできる。ピンポイ
ントマスク6については、そのピンポイントの径が1.
0mm〜6.0mmに選定されている。Further, a light blocking mask 5 is disposed between the light source 3 and the plastic film 1 and a pinpoint mask 6
Are disposed between the optical sensor 4 and the plastic film 1. As shown in FIG. 2, the light blocking mask 5 has a plurality of slits 7 for transmitting light. Therefore, light source 3
Is applied to the plastic film 1 through each slit 7, the light is reflected from the plastic film 1, passes through the pinpoint mask 6, and is guided to the optical sensor 4. The optical sensor 4 comprises a CCD camera. Therefore, the slit 7 of the light blocking mask 5 is controlled by the optical sensor 4.
Can be image-recognized. In recognizing the image of the slit 7 of the light shielding mask 5, the pinpoint mask 6 is used.
Can also sharpen the image. As for the pinpoint mask 6, the diameter of the pinpoint is 1.
It is selected from 0 mm to 6.0 mm.
【0014】そして、プラスチックフィルム1が長さ方
向に走行し、ヒートシール部分2が光源3および光学セ
ンサ4の設置位置に達したとき、光源3の光が各スリッ
ト7を通り、ヒートシール部分2の微小凹凸表面に達
し、ヒートシール部分2の微小凹凸表面から反射する
が、ヒートシール部分2の微小凹凸表面によってその反
射光が変向される。さらに、プラスチックフィルム1の
走行にともない、ヒートシール部分2の微小凹凸表面に
おいて、図3に示すように、反射光がある振幅Aをも
ち、周期的に変向する。したがって、ヒートシール部分
2の反射光が光学センサ4に導かれたとき、それによっ
てスリット7の画像が乱れ、変化する。When the plastic film 1 travels in the longitudinal direction and the heat seal portion 2 reaches the position where the light source 3 and the optical sensor 4 are installed, light from the light source 3 passes through each slit 7 and passes through the heat seal portion 2. , And is reflected from the minute uneven surface of the heat seal portion 2, but the reflected light is diverted by the minute uneven surface of the heat seal portion 2. Further, as the plastic film 1 travels, the reflected light has a certain amplitude A and periodically changes on the minute uneven surface of the heat seal portion 2 as shown in FIG. Therefore, when the reflected light of the heat seal portion 2 is guided to the optical sensor 4, the image of the slit 7 is disturbed and changed.
【0015】さらに、この実施例では、光遮断マスク5
の各スリット7の幅Wが0.5〜5mmに選定され、ピ
ッチP0が10〜100mmに選定されている。この結
果、画像上の各スリット7のピッチP1がヒートシール
部分2の反射光の周期的変向振幅Aよりも小さく、スリ
ット7の画像が確実に乱れ、変化する。したがって、そ
の画像変化によってヒートシール部分2の微小凹凸表面
を読み取り、プラスチックフィルム1のヒートシール位
置を確実に検出することができる。Further, in this embodiment, the light shielding mask 5 is used.
The width W of each slit 7 is selected to be 0.5 to 5 mm, and the pitch P0 is selected to be 10 to 100 mm. As a result, the pitch P1 of each slit 7 on the image is smaller than the periodic deflection amplitude A of the reflected light of the heat seal portion 2, and the image of the slit 7 is reliably disturbed and changed. Therefore, the minute uneven surface of the heat seal portion 2 can be read by the image change, and the heat seal position of the plastic film 1 can be reliably detected.
【0016】図4に示すように、光遮断マスク5に複数
の孔8を形成し、その孔8を光が通過するようにしても
よい。この場合、光学センサ4によって光遮断マスク5
の孔8を画像認識することができる。光遮断マスク5の
各孔8の径Dが0.5〜5mmに選定され、ピッチP0
が10〜100mmに選定されていることは図2のスリ
ット7と同様である。したがって、画像上の各孔8のピ
ッチがヒートシール部分2の反射光の周期的変向振幅A
よりも小さく、孔8の画像が確実に乱れ、変化し、その
画像変化によってヒートシール部分2の微小凹凸表面を
読み取り、プラスチックフィルム1のヒートシール位置
を検出することができる。As shown in FIG. 4, a plurality of holes 8 may be formed in the light blocking mask 5, and light may pass through the holes 8. In this case, the light blocking mask 5 is
Image of the hole 8 can be recognized. The diameter D of each hole 8 of the light shielding mask 5 is selected to be 0.5 to 5 mm, and the pitch P0
Is selected to be 10 to 100 mm as in the case of the slit 7 in FIG. Therefore, the pitch of each hole 8 on the image is the periodic deflection amplitude A of the reflected light of the heat seal portion 2.
The image of the hole 8 is surely disturbed and changed, and the minute uneven surface of the heat seal portion 2 is read based on the image change, and the heat seal position of the plastic film 1 can be detected.
【0017】図5は他の実施例を示す。この実施例で
は、複数の光源3が光学センサ4のまわりに配置されて
おり、プラスチックフィルム1の上面において、光源3
の光が斜めに照射され、垂直に反射し、光学センサ4に
導かれる。環状の光源を光学センサ4のまわりに配置し
てもよい。光遮断マスク5が光源3とプラスチックフィ
ルム1間に配置され、ピンポイントマスク6が光学セン
サ4とプラスチックフィルム1間に配置されていること
は図1の実施例と同様である。したがって、ヒートシー
ル部分2の反射光が光学センサ4に導かれたとき、それ
によってスリット7または孔8の画像が乱れ、変化し、
その画像変化によってヒートシール部分2の微小凹凸表
面を読み取り、プラスチックフィルム1のヒートシール
位置を検出することができる。この実施例の場合、プラ
スチックフィルム1に垂直の光が光学センサ4に導か
れ、この関係上、プラスチックフィルム1の高さがある
程度変動しても、それによってスリット7または孔8の
画像が乱れることはなく、好ましい。FIG. 5 shows another embodiment. In this embodiment, a plurality of light sources 3 are arranged around the optical sensor 4, and on the upper surface of the plastic film 1,
Is irradiated obliquely, reflected vertically, and guided to the optical sensor 4. An annular light source may be arranged around the optical sensor 4. The light blocking mask 5 is disposed between the light source 3 and the plastic film 1, and the pinpoint mask 6 is disposed between the optical sensor 4 and the plastic film 1, as in the embodiment of FIG. Therefore, when the reflected light from the heat seal portion 2 is guided to the optical sensor 4, the image of the slit 7 or the hole 8 is disturbed and changed,
The minute uneven surface of the heat seal portion 2 is read by the image change, and the heat seal position of the plastic film 1 can be detected. In the case of this embodiment, the light perpendicular to the plastic film 1 is guided to the optical sensor 4, and due to this, even if the height of the plastic film 1 fluctuates to some extent, the image of the slit 7 or the hole 8 is disturbed. Not preferred.
【0018】図1および図5の実施例において、光源3
および光学センサ4をプラスチックフィルム1の上側で
はなく、下側に配置してもよい。In the embodiment of FIGS. 1 and 5, the light source 3
The optical sensor 4 may be arranged below the plastic film 1 instead of above.
【0019】図6に示すように、光源3の反対側におい
て、光学センサ4をプラスチックフィルム1に対向させ
てもよい。そして、光遮断マスク5を光源3とプラスチ
ックフィルム1間に配置し、ピンポイントマスク6を光
学センサ4とプラスチックフィルム1間に配置すると、
光学センサ4がプラスチックフィルム1の透過光を受
け、光学センサ4によって光遮断マスク5のスリット7
または孔8を画像認識することができる。したがって、
ヒートシール部分2の透過光が光学センサ4に導かれた
とき、それによってスリット7または孔8の画像が乱
れ、変化し、その画像変化によってヒートシール部分2
の微小凹凸表面を読み取り、プラスチックフィルム1の
ヒートシール位置を検出することができる。特に、画像
上の各スリット7または孔8のピッチがヒートシール部
分2の透過光の周期的変向振幅よりも小さいとき、スリ
ット7または孔8の画像が確実に乱れ、変化し、プラス
チックフィルム1のヒートシール位置を確実に検出する
ことができるのは上記実施例のものと同様である。As shown in FIG. 6, the optical sensor 4 may be opposed to the plastic film 1 on the side opposite to the light source 3. When the light blocking mask 5 is arranged between the light source 3 and the plastic film 1 and the pinpoint mask 6 is arranged between the optical sensor 4 and the plastic film 1,
The optical sensor 4 receives the transmitted light of the plastic film 1, and the slit 7 of the light blocking mask 5 is received by the optical sensor 4.
Alternatively, the image of the hole 8 can be recognized. Therefore,
When the transmitted light of the heat seal portion 2 is guided to the optical sensor 4, the image of the slit 7 or the hole 8 is disturbed and changed, and the change in the image causes the heat seal portion 2 to change.
, The heat sealing position of the plastic film 1 can be detected. In particular, when the pitch of each slit 7 or hole 8 on the image is smaller than the periodic deflection amplitude of the light transmitted through the heat seal portion 2, the image of the slit 7 or hole 8 is surely disturbed and changed, and the plastic film 1 The heat seal position can be reliably detected as in the above embodiment.
【0020】各実施例において、ピンポイントマスク6
ではなく、小径レンズを光学センサ4とプラスチックフ
ィルム1間に配置し、小径レンズによってスリット7ま
たは孔8の画像を鮮明化するようにしてもよい。In each embodiment, the pinpoint mask 6
Instead, a small-diameter lens may be arranged between the optical sensor 4 and the plastic film 1, and the image of the slit 7 or the hole 8 may be sharpened by the small-diameter lens.
【0021】図7の実施例では、光学センサ4のまわり
において、複数の光源3が互いに間隔を置いて配置され
ている。たとえば、4つの光源3が90°の角度間隔を
置いて配置されている。その間隔の大きさは10〜10
0mmである。たとえば、光源3は平行光線の光源から
なり、およそ30mmの径の平行光線を生じさせる。そ
の間隔はおよそ50mmである。そして、各光源3がプ
ラスチックフィルム1に対向し、各光源3から光が照射
され、光学センサ4がプラスチックフィルム1の反射光
を受け、それを画像認識する。したがって、その画像変
化によってヒートシール部分2の微小凹凸表面を読み取
ることができ、プラスチックフィルム1のヒートシール
位置を検出することができる。光学センサ4を光源3の
反対側に配置し、光学センサ4がプラスチックフィルム
1の透過光を受け、それを画像認識するようにしてもよ
い。In the embodiment shown in FIG. 7, a plurality of light sources 3 are arranged around the optical sensor 4 at intervals. For example, four light sources 3 are arranged at an angular interval of 90 °. The size of the interval is 10 to 10
0 mm. For example, light source 3 comprises a parallel light source, which produces a parallel light beam having a diameter of approximately 30 mm. The spacing is approximately 50 mm. Then, each light source 3 faces the plastic film 1, light is emitted from each light source 3, and the optical sensor 4 receives the reflected light of the plastic film 1 and recognizes the image. Therefore, the minute uneven surface of the heat seal portion 2 can be read by the image change, and the heat seal position of the plastic film 1 can be detected. The optical sensor 4 may be arranged on the opposite side of the light source 3 so that the optical sensor 4 receives light transmitted through the plastic film 1 and recognizes the image.
【0022】図7の実施例において、ピンポイントマス
ク6を光学センサ4とプラスチックフィルム1間に配置
すると、ピンポイントマスク6によって反射光または透
過光の画像を鮮明化することができ、好ましい。ピンポ
イントマスク6ではなく、小径レンズを光学センサ4と
プラスチックフィルム1間に配置し、小径レンズによっ
て反射光または透過光の画像を鮮明化するようにしても
よい。さらに、光源3は平行光線の光源以外の光源であ
ってもよく、点光源であってもよく、線光源であっても
よい。光源4にレーザ光源を使用してもよい。さらに、
レンズを光源3とプラスチックフィルム1間に配置し、
レンズによってプラスチックフィルム1上に集光させる
ようにしてもよい。光源3を反射鏡で覆い、反射鏡によ
ってプラスチックフィルム1上に集光させるようにして
もよい。In the embodiment shown in FIG. 7, it is preferable to dispose the pinpoint mask 6 between the optical sensor 4 and the plastic film 1, because the reflected light or transmitted light image can be sharpened by the pinpoint mask 6. Instead of the pinpoint mask 6, a small-diameter lens may be disposed between the optical sensor 4 and the plastic film 1 so that the reflected light or transmitted light image is sharpened by the small-diameter lens. Further, the light source 3 may be a light source other than a parallel light source, a point light source, or a line light source. A laser light source may be used as the light source 4. further,
A lens is arranged between the light source 3 and the plastic film 1,
The light may be collected on the plastic film 1 by a lens. The light source 3 may be covered with a reflecting mirror, and the light may be collected on the plastic film 1 by the reflecting mirror.
【0023】[0023]
【発明の効果】以上説明したように、第1発明によれ
ば、光学センサ4によって光遮断マスク5のスリット7
または孔8が画像認識され、その画像変化によってヒー
トシール部分2の微小凹凸表面が読み取られる。第2発
明によれば、複数の光源3がプラスチックフィルム1に
対向し、各光源3から光が照射され、光学センサ4によ
ってプラスチックフィルム1の反射光または透過光が画
像認識され、その画像変化によってヒートシール部分2
の微小凹凸表面が読み取られる。したがって、プラスチ
ックフィルム1のヒートシール位置を確実に検出するこ
とができ、所期の目的を達成することができるものであ
る。As described above, according to the first aspect, the slit 7 of the light shielding mask 5 is controlled by the optical sensor 4.
Alternatively, the hole 8 is image-recognized, and the minute uneven surface of the heat seal portion 2 is read by the image change. According to the second invention, the plurality of light sources 3 face the plastic film 1, light is emitted from each light source 3, and the reflected light or transmitted light of the plastic film 1 is image-recognized by the optical sensor 4. Heat sealing part 2
Is read. Therefore, the heat sealing position of the plastic film 1 can be reliably detected, and the intended purpose can be achieved.
【図1】この発明の実施例を示す側面図である。FIG. 1 is a side view showing an embodiment of the present invention.
【図2】図1の光遮断マスクの平面図である。FIG. 2 is a plan view of the light shielding mask of FIG.
【図3】図1の装置のスリットの画像とヒートシール部
分の反射光の関係を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a relationship between an image of a slit of the apparatus of FIG. 1 and reflected light of a heat seal portion.
【図4】他の実施例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing another embodiment.
【図5】他の実施例を示す側面図である。FIG. 5 is a side view showing another embodiment.
【図6】他の実施例を示す側面図である。FIG. 6 is a side view showing another embodiment.
【図7】他の実施例を示す側面図である。FIG. 7 is a side view showing another embodiment.
1 プラスチックフィルム 2 ヒートシール部分 3 光源 4 光学センサ 5 光遮断マスク 6 ピンポイントマスク 7 スリット 8 孔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plastic film 2 Heat seal part 3 Light source 4 Optical sensor 5 Light blocking mask 6 Pin point mask 7 Slit 8 Hole
Claims (5)
つヒートシール部分を有し、長さ方向に走行するプラス
チックフィルムのヒートシール位置を検出する装置であ
って、前記プラスチックフィルムに対向し、光を照射す
る光源と、前記光源と前記プラスチックフィルム間に配
置され、前記光を通過させる複数のスリットまたは孔を
有する光遮断マスクと、前記プラスチックフィルムに対
向し、前記プラスチックフィルムの反射光または透過光
を受け、前記光遮断マスクのスリットまたは孔を画像認
識し、その画像変化によって前記ヒートシール部分の微
小凹凸表面を読み取り、前記プラスチックフィルムのヒ
ートシール位置を検出する光学センサとからなるプラス
チックフィルムのヒートシール位置検出装置。1. A device for detecting a heat sealing position of a plastic film running in a longitudinal direction, the device having a heat sealing portion having a fine irregular surface of a pattern such as a mesh, and opposing the plastic film. A light blocking mask disposed between the light source and the plastic film and having a plurality of slits or holes through which the light passes; and a reflection light or a transmission light of the plastic film facing the plastic film. Receiving an image of the slit or the hole of the light shielding mask, reading the minute uneven surface of the heat seal portion by the change in the image, and detecting the heat seal position of the plastic film. Seal position detection device.
前記光学センサと前記プラスチックフィルム間に配置さ
れ、前記ピンポイントマスクまたは小径レンズによって
前記スリットまたは孔の画像が鮮明化され、さらに、画
像上の前記各スリットまたは孔のピッチが前記ヒートシ
ール部分の反射光または透過光の周期的変向振幅よりも
小さいことを特徴とする請求項1に記載の装置。2. A pinpoint mask or a small-diameter lens is disposed between the optical sensor and the plastic film, and the image of the slit or the hole is sharpened by the pinpoint mask or the small-diameter lens. 2. The apparatus according to claim 1, wherein a pitch of the slits or holes is smaller than a periodic deflection amplitude of reflected light or transmitted light of the heat sealing portion.
つヒートシール部分を有し、長さ方向に走行するプラス
チックフィルムのヒートシール位置を検出する装置であ
って、前記プラスチックフィルムに対向し、光を照射す
る複数の光源と、前記プラスチックフィルムに対向し、
前記プラスチックフィルムの反射光または透過光を受
け、それを画像認識し、その画像変化によって前記ヒー
トシール部分の微小凹凸表面を読み取り、前記プラスチ
ックフィルムのヒートシール位置を検出する光学センサ
とからなるプラスチックフィルムのヒートシール位置検
出装置。3. An apparatus for detecting a heat-sealing position of a plastic film running in a longitudinal direction, the heat-sealing portion having a heat-sealing portion having a fine uneven surface of a pattern such as a mesh, And a plurality of light sources for irradiating the plastic film,
A plastic film comprising an optical sensor for receiving the reflected light or transmitted light of the plastic film, recognizing the image, reading the minute uneven surface of the heat seal portion by the image change, and detecting the heat seal position of the plastic film. Heat seal position detecting device.
項3に記載の装置。4. The apparatus of claim 3, wherein said light source comprises a collimated light source.
前記光学センサと前記プラスチックフィルム間に配置さ
れ、前記ピンポイントマスクまたは小径レンズによって
前記反射光または透過光の画像が鮮明化されるようにし
たことを特徴とする請求項4に記載の装置。5. The method according to claim 1, wherein a pinpoint mask or a small-diameter lens is disposed between the optical sensor and the plastic film so that the image of the reflected light or the transmitted light is sharpened by the pinpoint mask or the small-diameter lens. The device according to claim 4, characterized in that:
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