JP2001118235A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 短波長出力を向上させるため磁性層の表面粗
さを１．０〜３．０ｎｍに小さくし、全体の厚み、バッ
ク層の厚みも比較的薄く形成した場合であっても電磁変
換特性や走行耐久性が優れ、またデータの記録、読み出
しに対する信頼性が高くかつ湿熱保存特性が優れ、特に
デジタルデータ記録用として有利に用いることができる
磁気テープを提供すること。 【解決手段】 支持体上に少なくとも強磁性粉末と結合
剤を含む磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記磁
性層は、炭素質粉粒体の表面をフッ素含有ガスで処理を
施した後、水蒸気含有ガスで処理してなる改質炭素質粉
粒体を含有することを特徴とする磁気記録媒体

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気テープ、磁気デ
ィスク等の磁気記録媒体に関し、特に強磁性金属粉末と
結合剤を主体とする磁性塗料を支持体上に塗布して磁性
層を形成した塗布型の磁気記録媒体に関連し短波長領域
におけるノイズ、出力、Ｃ／Ｎ、オーバーライト特性が
優れ、且つスチル、耐久性、摩擦係数が優れた磁気記録
媒体に関する。デジタルデ−タ−を記録するために外部
記録媒体として特に有利に用いることができる磁気記録
媒体に関するものである。また 磁気抵抗型（ＭＲ）ヘ
ッドに適した低ノイズ、高出力、走行性能、摩擦係数に
優れ、且つMRヘッド表面のＤＬＣ膜の摩耗性の低減にも
優れた磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録技術は、媒体の繰り返し使用が
可能であること、信号の電子化が容易であり周辺機器と
の組み合わせによるシステムの構築が可能であること、
信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式にはな
い優れた特長を有することから、ビデオ、オーディオ、
コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅広く
利用されてきた。そして、機器の小型化、記録再生信号
の質の向上、記録の長時間化、記録容量の増大等の要求
に対応するために、記録媒体に関しては、記録密度、信
頼性、耐久性をより一層向上させることが常に望まれて
きた。

【０００３】近年、ミニコンピュータ、パーソナルコン
ピュータなどのオフィスコンピュータの普及に伴って、
外部記憶媒体として、コンピュータ情報を保存するため
の磁気テープ（所謂、バックアップテープ）の研究が盛
んに行われている。このような用途の磁気記録媒体の実
用化に際しては、特にコンピュータの小型化、情報処理
能力の増大および搭載されるハ−ドディスクの大容量化
と相まって、記録容量の向上が強く要求される。また磁
気記録媒体が可換媒体であること、磁気記録媒体の使用
環境の広がりによる幅広い環境条件下（特に、変動の激
しい温湿度条件下など）での使用、データ保存に対する
信頼性、更に高速での繰り返し使用による多数回走行に
おけるデータの安定した記録、読み出し等の性能に対す
る信頼性なども従来にまして要求される。

【０００４】一般に、磁気記録媒体は、合成樹脂などの
可撓性材料の支持体上に、磁性層が設けられた構成であ
る。そして上記のような大きい記録容量（体積記録容
量）を達成するためには、磁性粉末の粉体サイズを小さ
くする、その分散性を向上させる、あるいは磁性層を更
に薄膜化するなどの磁性層自体の面記録密度を高めると
共に、磁気記録媒体の全厚を薄くすることが有効な方法
であるとされている。また良好な感度（特に高周波領域
での出力）を維持させるためには磁性層は平滑、通常、
中心面平均表面粗さで１．０〜３．０ｎｍであることが
好ましいが、この平滑化による巻き乱れ、走行性の低下
を防止するために、上記支持体の磁性層とは反対の面に
通常バック層が設けられることが多い。そして特に全厚
を薄くした場合には、磁気テープの自己支持性と強度も
低下するため、バック層の付設は、繰り返し使用に対す
る良好な走行耐久性を維持させるためにも必要になる。
但し、上記のように磁気テープの薄手化に伴ってバック
層の厚さも比較的薄く設けられることが必要になる。

【０００５】磁気記録媒体の全厚、そしてバック層の厚
さを比較的薄くした磁気記録媒体は、例えば、特開平６
−２１５３５０号公報に開示されている。そしてこの公
報に記載されている磁気テープの具体的な例としては、
磁気テープの全厚を１０μｍ、バック層の層厚を０．５
μｍにした態様のもの、あるいはまた全厚を９．５μ
ｍ、バック層の層厚を０．５μｍにした態様のものが挙
げられている。これらの態様におけるバック層には、帯
電防止と安定した走行性付与のために、前者の態様で
は、比較的微粒子状のカーボンブラックが単独で使用さ
れており、また後者の態様では、比較的微粒子状のカー
ボンブラックと比較的粗粒子状のカーボンブラックの二
種類のカーボンブラックが使用されている。

【０００６】一方、バック層の高い表面平滑性、ガイド
ピンに対する摩擦係数の低減化、そして良好な走行安定
性を得る目的で、バック層中に、微粒子状カーボンブラ
ックと、粗粒子状のカーボンブラックと、微粒子状炭酸
カルシウムを含有した磁気テープが提案されている（特
開平２−７２２３号公報）。また上記バック層には、更
に無機質粉末（例えば、α−酸化鉄など）が添加される
ことがあると記載されている。

【０００７】本発明者は、磁気テープの全厚が１０μｍ
以下と薄く、かつバック層の層厚も０．２〜０．８μｍ
と非常に薄く抑えた磁気記録媒体のデジタルデータ用の
外部記録媒体としての利用について検討した。その結
果、前記特開平６−２１５３５０号公報に記載の磁気テ
ープでは、充分満足できる性能は得られないことが判明
した。すなわち、磁気記録媒体の薄型化に伴って媒体自
体の強度が不足するためか、特に湿度及び温度が高いか
又は低いときに磁性層の摩擦係数が増大し、ドロップア
ウトが増加し、また出力も低下する傾向にあるという問
題が生じた。これは、走行を繰り返すうちにカーボンブ
ラックが磁性層から脱落し易くなることが関与している
ものと考えられる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、短波
長出力を向上させるため磁性層の表面粗さを１．０〜
３．０ｎｍに小さくし、全体の厚み、バック層の厚みも
比較的薄く形成した場合であっても電磁変換特性や走行
耐久性が優れ、またデータの記録、読み出しに対する信
頼性が高くかつ湿熱保存特性が優れ、特にデジタルデー
タ記録用として有利に用いることができる磁気テープを
提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は、磁性層に特
定の表面処理を施した改質炭素質粉粒体を含有させるこ
とが、特に比較的薄型にした磁気テープの電磁変換特
性、走行耐久性、湿熱保存特性が改良できることを見い
だし本発明にいたった。

【００１０】本発明は、支持体上に少なくとも強磁性粉
末と結合剤を含む磁性層を設けた磁気記録媒体におい
て、前記磁性層は、炭素質粉粒体の表面をフッ素含有ガ
スで処理を施した後、水蒸気含有ガスで処理してなる改
質炭素質粉粒体を含有することを特徴とする磁気記録媒
体である。

【００１１】本発明は以下の態様であることが好まし
い。 １ 前記改質炭素質粉粒体は、水に対する浸漬熱が９０
〜１４０ｍＪ／ｍ²である炭素質粉粒体を含有すること
を特徴とする磁気記録媒体。 ２ 前記改質炭素質粉粒体は平均粒子サイズが、１〜２
００ｎｍであり、且つ前記改質炭素質粉粒体は強磁性粉
末に対し、０．０５〜１０重量％添加することを特徴と
する磁気記録媒体。 ３ 前記改質炭素質粉粒体は平均粒子サイズが、３〜１
００ｎｍであることを特徴とする磁気記録媒体。 ４ 前記支持体と前記磁性層の間に非磁性粉末と結合剤
樹脂を主体とする非磁性層を設け、前記磁性層の厚みが
０．０５〜０．５μｍであり、且つ前記磁性層の表面粗
さが3D-MIRAU法による中心面平均表面粗さで、１．０〜
３．０ｎｍであることを特徴とする磁気記録媒体。 ５ 該磁性層の抗磁力が１．４３×１０⁵Ａ／ｍ以上で
あり、前記磁性層の磁化量φm(飽和磁束密度×磁性層厚
み/4π)が４π（１．０〜８．０）×１０^-7Ｗｂ／ｍ²で
あることを特徴とする磁磁気記録媒体。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の磁性層に使用される改質
炭素質粉粒体は、炭素質粉粒体の表面をフッ素含有ガス
で処理を施した後、水蒸気含有ガスで処理してなるもの
で、本発明の目的を満足することができるものであれ
ば、特に制限されるべきものではないが、好ましくは水
に対する浸漬熱が９０〜１４０ｍＪ／ｍ²、更に好まし
くは９５〜１３５ｍＪ／ｍ²の範囲のものから選択され
る。即ち、本発明に使用される改質炭素質粉粒体は、そ
の表面の水に対する物性、特に濡れ性（親水性特性）に
着目して浸漬熱を上記範囲のものとすることにより、常
温・常湿、低温・低湿、高温・高湿という何れの環境下
においても磁性層の摩擦係数が低く保持され、走行耐久
性が改善されるという効果を奏する。尚、改質炭素質粉
粒体の上記親水性は、改質される前の炭素質粉粒体に比
べて親水性は強化されるものであるが、相対的な量であ
り、改質前の炭素質粉粒体本来の物性、即ち、親油性等
が全く消去されてしまう程のものではないことは明らか
であり、上記したように広範な環境において上記効果を
奏し得ることは、両者のバランスが改善されるものと考
えられる。例えば、改質炭素質粉粒体の特異な表面特性
により分散性の良好な磁性塗料を得ることができるの
で、磁性層の強度が向上するという効果を有する。上記
浸漬熱は、東京理工（株）社製、双子型カロリメーター
を用い、水に対する浸漬熱を文献（セラミックス第１１
巻（１９７６）Ｎｏ．５，ＰＰ．４３３−４４０）に従
って測定される値を意味する。また、改質炭素質粉粒体
の水に対する濡れ性の尺度として浸漬熱の他に簡易親水
性が挙げられる。

【００１３】簡易親水性の測定法は、以下の通りであ
る。室温でビーカーに水３０ｍｌを入れ、その上に約３
０ｍｇのサンプルを落として水に沈む時間の違いによっ
て親水性のランクづけを行う。ランクづけは次の通りで
あり、水に沈む時間が速い方が親水性が高いことを示
す。Ｓ；１５秒以内、Ａ；１５〜３０秒、Ａ′；３０〜
４５秒、Ｂ；４５〜６０秒、Ｂ′；６０〜７５秒、Ｃ；
７５〜９０秒、Ｃ′；９０秒以上（落ちない）本発明に
用いられる改質炭素質粉粒体の簡易親水性は、ランクＳ
が好ましい。

【００１４】このような改質炭素質粉粒体は、黒鉛、カ
ーボンブラック、石油コークスなどの粉体を初めにフッ
素含有ガスで接触反応させることにより処理する。ここ
で、フッ素含有ガスとしては、フッ素ガス単独、もしく
はとフッ素ガスと不活性ガス及び／又は酸素含有ガスと
の混合ガスが挙げられる。

【００１５】接触反応の条件は、０〜５０℃の温度、数
秒〜１時間の範囲で任意に選定される。それぞれのガス
の混合割合は分圧として、フッ素ガス１３３〜１３３０
０Ｐａ、酸素含有ガスを酸素として１３３〜９９７５０
Ｐａ、不活性ガスとして１１９７〜１００９４７Ｐａの
範囲から選定される。反応圧力は、通常は常圧で行われ
るが、数百Ｐａ〜２００ｋＰａの範囲内で行われる。フ
ッ素含有ガスで処理された炭素質粉粒体は、次いで水蒸
気含有ガスで処理される。水蒸気含有ガスの組成として
は、飽和水蒸気として通常、１〜６０容量％、好ましく
は１０〜４０容量％を含む空気及び／又は不活性ガスが
挙げられる。水蒸気含有ガスの流量は、通常、５０〜１
０００ｍｌ／分、好ましくは２００〜８００ｍｌ／分
で、温度は１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３０
０℃で、処理時間は数分〜数十時間、好ましくは１〜10
時間であり、好ましくはフッ素化処理を行った装置と同
じ装置内で処理することができる。改質炭素質粉粒体の
平均粒子サイズは、１〜２００ｎｍが好ましく、３〜１
００ｎｍがより好ましい。

【００１６】本発明の磁気記録媒体は、総厚みが３〜１
０μｍの範囲が好ましく、３〜９μmが更に好ましく、
磁性層の厚みは、好ましくは０．０５〜０．５μmの範
囲であり、更に好ましくは０．０５〜０．３０μmの範
囲であり、バック層の厚みは、０．２〜０．８μｍが好
ましく、０．２〜０．７μｍの範囲が更に好ましい。ま
た、磁性層の中心面平均表面粗さＲａは、好ましくは
１．０〜３．０ｎｍであり、更に好ましくは１．０〜
２．５ｎｍの範囲である。

【００１７】上述の磁気記録媒体を得るには、該磁性層
に含有させる改質炭素質粉粒体の平均粒子サイズは好ま
しくは１〜２００ｎｍ、更に好ましくは３〜１００ｎｍ
の範囲であり、その添加量は強磁性粉末に対して好まし
くは、０．０５〜１０重量％、更に好ましくは０．１〜
８重量％の範囲である。また、バック層には平均粒子サ
イズが好ましくは１０〜２０ｎｍ、更に好ましくは１０
〜１８ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子サイ
ズが好ましくは１〜３００ｎｍ、更に好ましくは３〜１
２０ｎｍの改質炭素質粉粒体を含ませることが好まし
い。改質炭素質粉粒体及びカーボンブラックのバック層
への添加量は、バック層の結合剤重量（ポリイソシアネ
ートを含む）に対して好ましくは１〜９０重量％、更に
好ましくは３〜８０重量％、特に好ましくは５〜７０重
量％の範囲である。

【００１８】本願明細書において、平均粒子サイズとは
一次粒子の円相当径の平均を意味する。一次粒子とは、
凝集のない独立した1個の粉体であって、粉体形状が球
形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粉体
を構成する長軸を特定できない場合を意味し、円相当径
とは、円投影法で求められるものを言う。後述のカーボ
ンブラックの平均粒子サイズについても上記と同様であ
る。

【００１９】本願明細書において、上記改質炭素質粉粒
体、カーボンブラックや強磁性粉末のように種々の粉体
のサイズ（以下、「粉体サイズ」と言う）は、高分解能
透過型電子顕微鏡写真より求められる。即ち、粉体サイ
ズは、粉体の形状が針状、紡錘状、柱状（ただし、高さ
が底面の最大長径より大きい）等の場合は、粉体を構成
する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、粉体の形状が板
状乃至柱状（ただし、厚さ乃至高さが板面乃至底面の最
大長径より小さい）場合は、その板面乃至底面の最大長
径で表され、改質炭素質粉粒体のように粉体の形状が球
形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粉体
を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表さ
れる。

【００２０】また、該粉体の平均粉体サイズは、上記粉
体サイズの算術平均であり、約５００個の粉体について
上記の如く測定を実施して求めたものである。また、該
粉体の平均針状比は、上記測定において粉体の短軸の長
さ、即ち短軸長を測定し、各粉体の（長軸長／短軸長）
の値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粉体
サイズの定義での場合は、粉体を構成する短軸の長さ
を、同じくの場合は、厚さ乃至高さを各々指し、の場合
は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）
は便宜上、１とみなす。

【００２１】そして、粉体の形状が特定の場合、例え
ば、上記粉体サイズの定義の場合は、平均粉体サイズを
平均長軸長と言い、同定義の場合は平均粉体サイズを平
均板径と言い、（最大長径／厚さ乃至高さ）の算術平均
を平均板状比という。同定義の場合は平均粉体サイズを
平均粒子サイズという。

【００２２】このような磁気記録媒体に使用する磁性層
は、面記録密度が０．３〜３Ｇbit/inch²更には面記録
密度が０．５〜３Ｇbit/inch²である。このような高い
面記録密度は単層磁性層を持つ磁気記録媒体でも実現で
きるが、最上層に磁性層を設けた複数層以上より構成さ
れる磁気記録媒体で効果的に実現できる。

【００２３】面記録密度が０．３〜３Ｇbit/inch²更に
は面記録密度が０．５〜３Ｇbit/inch²という塗布型の
磁気記録媒体で高密度特性と優れた耐久性を併せ持つ磁
気記録媒体が得られたのは以下のようなポイントを有機
的に結合し、総合した結果である。高Ｈｃ、超平滑化、
複合潤滑剤や高耐久性結合剤、強磁性粉末の改良による
耐久性確保、磁性層の超薄層化と下層との界面での変動
減少、強磁性粉末の高充填化、粉体（強磁性粉末、非磁
性粉末）の超微粒子化、ヘッドタッチの安定化、寸法安
定性とサーボ、磁性層、支持体の熱収縮率改良、高温、
低温での潤滑剤の作用等が挙げられ、これらを結合した
結果である。

【００２４】本発明の好適な磁気記録媒体は磁性層と支
持体との間に実質的に非磁性である下層を設け、磁性層
を超薄層化すると共に高出力、分散性、耐久性に優れた
超微粒子磁性粉を含有させ、下層に球状又は針状などの
無機粉末を含み、磁性層を薄くすることで磁性層内の自
己減磁作用を低減し、高周波領域での出力を大幅に高
め、更に重ね書き特性も向上させたものである。磁気ヘ
ッドの改良により、狭ギャップヘッドとの組合せにより
超薄層磁性層の効果が一層発揮でき、デジタル記録特性
の向上が図れる。特に再生ヘッドにＭＲ素子、巨大磁気
抵抗素子を使用するシステムで使用されると好適であ
る。

【００２５】磁性層と支持体の間に非磁性層を設けた上
述のような本発明の好適な重層構成の磁気記録媒体につ
いて更に詳述する。なお、磁性層を上層磁性層又は上
層、非磁性層を下層非磁性層または下層ともいう。磁性
層の厚みは高密度記録の磁気記録方式や磁気ヘッドから
要求される性能に適合するように好ましくは０．０５〜
０．５μｍの薄層に選択される。均一でかつ薄層にした
このような超薄層磁性層は微粒子の磁性粉や非磁性粉を
分散剤の使用と分散性の高い結合剤の組み合わせにより
高度に分散させ、高充填化を図った。使用される磁性体
は高密度領域の適性を最大限に引き出すために、高出
力、高分散性、配向性に優れた磁性体を使用している。
即ち非常に微粒子で且つ高出力を達成できる強磁性金属
粉末、特に平均長軸長が０．０３〜０．１２μｍで、強
磁性金属粉末の結晶子サイズが８０Å〜１８０Åである
こと、更にＣｏを多く含み、焼結防止剤としてＡｌやＹ
化合物を含む強磁性金属粉末を使用することにより高出
力、高耐久性が達成できる。また微粒子六方晶フェライ
トは、垂直磁気異方性に基づく高い高密度特性を持って
いるので、本発明に使用すると好適である。本発明の磁
気記録媒体の磁性層の抗磁力（Ｈｃ）は好ましくは１．
４３×１０ ⁵Ａ／ｍ以上であり、更に好ましくは１．５
９×１０⁵Ａ／ｍ以上であり、特に好ましくは１．７５
×１０⁵〜３．９８×１０⁵Ａ／ｍである。上限は明確で
はないが、記録ヘッドの改良にともない上限が拡大する
と考えられる。１．４３×１０ ⁵Ａ／ｍ未満では本発明
が指向する高記録密度は達成されない。磁性層の最大磁
束密度Ｂｍは０．１８〜０．６５Ｔ（テスラ）であるこ
とが好ましい。システムで使用されるヘッドとの関係
で、磁性層の抗磁力、磁性層厚み、磁性層の磁化量を最
適化することが好ましい。

【００２６】本発明の磁性層の中心面平均表面粗さＲａ
は、３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法により測定される値であり、本
発明では好ましくは１．０〜３．０ｎｍ、更に好ましく
は１．０〜２．５ｎｍである。３．０ｎｍを越えると磁
気記録媒体とヘッドのスペーシングロスが大きくなり、
出力が低くなる傾向があり、本発明の磁気記録媒体が有
する媒体性能を発揮することが困難となる傾向がある。
耐久性は磁気記録媒体にとって重要な要素である。特に
高転送レートを実現するために磁気ヘッドの回転数を従
来の記録システムに比べて０．５〜１桁以上上げたり、
リニアドライブ系ではテープ走行速度を０．５〜１桁以
上上げる必要があり、磁気ヘッド／カートリッジ内部品
と媒体とが高速摺動する場合の媒体の耐久性の確保は重
要な課題である。媒体の耐久性を向上させる手段には、
媒体自身の膜強度を上げるバインダー処方と、磁気ヘッ
ドとの滑り性を維持する潤滑剤処方がある。本発明の媒
体では超薄層磁性層に適した３次元ネットワークバイン
ダーシステムを用い、高速回転時における走行の安定
性、耐久性を確保し、さらにバック層に工夫をして高転
送レートを実現している。

【００２７】潤滑剤は、使用される種々の温・湿度環境
下でそれぞれ優れた効果を発揮する潤滑剤を複数組み合
わせて使用し、広範囲な温度（低温、室温、高温）、湿
度（低湿、高湿）環境下でも各潤滑剤がそれぞれ機能を
発揮し、総合的に安定した潤滑効果を維持できるもので
ある。

【００２８】また上下２層の構造では、上層が改質炭素
質粉粒体を含むことにより、その表面特性、特に濡れ性
が向上し、高温高湿、低温低湿のいずれの環境下でも摩
擦係数が低く保持され、且つ下層に潤滑剤のタンク効果
を持たせていずれの環境下でも上層磁性層に常に適量の
潤滑剤が供給されるようにし、更に、上層磁性層の耐久
性を向上できるようにしたものである。超薄層の磁性層
に含ませることが出来る潤滑剤量には限度があり、単純
に磁性層をうすくすることは潤滑剤の絶対量が減少し、
走行耐久性の劣化につながるので耐久性を確保すること
は困難であった。上下２層に別々の機能を持たせ、互い
に補完することで電磁変換特性の向上と耐久性の向上を
両立させた。この機能分化は磁気ヘッドとメデイアを高
速摺動させるシステムでは特に有効であった。

【００２９】下層には潤滑剤の保持機能の他に表面電気
抵抗のコントロール機能を付与できる。一般に電気抵抗
のコントロールには、磁性層中にカーボンブラック等の
固体導電材料を加えることが多いが、本発明では該カー
ボンブラック等に代えて導電材料でもある改質炭素質粉
粒体及び改質炭素質粉粒体とカーボンブラックを併用し
て使用することができる。従って、磁性体の充填密度を
上げることが可能である。また、下層に導電材料を加え
ることによって更に磁性体の充填密度の向上を図ること
ができる。また下層のクッション効果は良好なヘッドタ
ッチと安定した走行性をもたらすことができる。

【００３０】磁気記録の大容量化／高密度化に伴い、記
録トラック密度が向上する。一般には媒体上にサーボ記
録エリアを設け、記録トラックに対する磁気ヘッドのト
レーサビリテイを確保している。磁気記録媒体の支持体
として等方的寸度安定性を高めたベースを使用し、トレ
ーサビリテイの一層の安定化が図られる。そして超平滑
なベースを用いることによって、磁性層の平滑性を更に
向上できる。

【００３１】マルチメデイア社会になり、画像記録への
ニーズは産業界のみならず家庭でも益々強くなってお
り、本発明の大容量磁気記録媒体は単に文字、数字など
のデータ以外に、画像記録用媒体としての機能／コスト
の要請に十分応えられる能力を持つものである。本発明
の大容量媒体は実績のある塗布型磁気記録媒体をベース
としており、長期信頼性に富み、またコストパフォーマ
ンスに優れているものである。上述の磁気記録媒体は、
以上のような種々の要因を積み重ね、相乗的、有機的に
作用させ、初めて達成されるものである。

【００３２】［磁性層］本発明の磁気記録媒体の層構成
は、基本的に支持体の上に磁性層を設けてなり、該磁性
層を支持体面の一方側に設けたものであれば、特に制限
されない。また、磁性層は単層であっても２層以上から
構成してもよく、後者の場合、それら層同士の位置関係
は目的により隣接して設けても間に磁性層以外の層を介
在させて設けてもよく、公知の層構成が採用できる。
尚、本発明において、磁性層の厚みとは、複層の場合は
最上層の磁性層の乾燥厚みを言う。

【００３３】本発明の磁気記録媒体は、好ましくは支持
体と磁性層との間に非磁性粉末と結合剤を主体とする非
磁性層が設けられる。磁性層を複層で構成する例として
は、強磁性酸化鉄、強磁性コバルト変性酸化鉄、ＣｒＯ
₂ 粉末、六方晶系フェライト粉末及び各種強磁性金属粉
末等から選択した強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性
層を組み合わせたものが挙げられる。尚、この場合、同
種の強磁性粉末であっても元素組成、粉体サイズ等の異
なる強磁性粉末を含む磁性層を組み合わせることもでき
る。本発明においては、上述したように強磁性金属粉末
を含む磁性層と支持体との間に非磁性層を設けた磁気記
録媒体が好ましい。

【００３４】重層構成の磁気記録媒体は、下層と磁性層
を支持体上に、下層を塗布後、下層が湿潤状態の内に上
層を同時、又は逐次に塗布するウェット・オン・ウェット
法（Ｗ／Ｗ）でも、下層が乾燥した後に上層磁性層を設
けるドライ・オン・ウェット法（Ｗ／Ｄ）でも作成でき
る。生産得率の点から同時、又は逐次湿潤塗布が好まし
い。本発明では同時、又は逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）では
上層／下層が同時に形成できるため、カレンダー工程な
どの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層でも上層磁
性層の表面粗さを良化できる。

【００３５】［強磁性粉末］本発明に使用する強磁性粉
末としては、強磁性金属粉末または六方晶系フェライト
粉末が好ましい。強磁性金属粉末としては、α−Ｆｅを
主成分とする強磁性金属粉末が好ましい。強磁性金属粉
末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂａ、Ｗ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、
Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｃ
ａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｃｏ、Ｎｉの
少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましい。
ＣｏはＦｅと合金を作ると飽和磁化が増加し、かつ減磁
が改良されるので特に好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅに
対して１原子％〜４０原子％が好ましく、さらに好まし
くは１５原子％〜３５原子％、より好ましくは２０原子
％〜３５原子％である。Ｙ等の希土類元素の含有量は
１．５原子％〜１２原子％が好ましく、さらに好ましく
は３原子％〜１０原子％、より好ましくは４原子％〜９
原子％である。Ａｌは１．５原子％〜１２原子％が好ま
しく、さらに好ましくは３原子％〜１０原子％、より好
ましくは４原子％〜９原子％である。Ｙを含む希土類や
Ａｌは焼結防止剤として機能しており、組合わせて使用
することでより高い焼結防止効果が得られる。これらの
強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性
剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行って
もかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０
号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６
２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４
６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２
８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７
２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１
８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４６−
３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３
１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５
号、同３３８９０１４号などに記載されている。

【００３６】強磁性金属粉末には少量の水酸化物、また
は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製
造方法により得られたものを用いることができ、下記の
方法を挙げることができる。焼結防止処理を行った含水
酸化鉄、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅ
あるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、複合有機酸塩
（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元
する方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強
磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン
酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元す
る方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性金
属粉末は公知の徐酸化処理する。含水酸化鉄、酸化鉄を
水素などの還元性気体で還元し、酸素含有ガスと不活性
ガスの分圧、温度、時間を制御して表面に酸化皮膜を形
成する方法が、減磁量が少なく好ましい。

【００３７】本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法に
よる比表面積（Ｓ_BET）で表せば４０〜８０m²/gであ
り、好ましくは４５〜７０m²/gである。４０m²/g以下で
はノイズが高くなり、８０m²/g以上では平滑な表面が得
にくく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性粉末の結
晶子サイズは８０〜１８０Åであり、好ましくは１００
〜１７０Å、更に好ましくは１１０〜１６５Åである。
強磁性粉末の平均長軸長は０．０２μｍ〜０．２５μｍ
であり、好ましくは０．０３μｍ〜０．１５μｍであ
り、さらに好ましくは０．０３μｍ〜０．１２μｍであ
る。強磁性粉末の平均針状比｛（長軸長／短軸長）の平
均｝は３〜１５が好ましく、さらには３〜１０が好まし
い。磁性金属粉末の飽和磁化σs は通常、（４π×１０
^-8）×（９０〜１７０）Ｗｂ／ｇであり、好ましくは
（４π×１０^-8）×（１００〜１６０）Ｗｂ／ｇ、更に
好ましくは（４π×１０^-8）×（１１０〜１６０）Ｗｂ
／ｇである。強磁性金属粉末の抗磁力は１．３５×１０
⁵Ａ／ｍ〜２．７９×１０⁵Ａ／ｍが好ましく、更に好ま
しくは１．４３×１０⁵Ａ／ｍ〜２．３９×１０⁵Ａ／ｍ
である。

【００３８】強磁性金属粉末の含水率は０．１〜２重量
％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉
末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性粉末のｐ
Ｈは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが
好ましい。その範囲は６〜１２であるが、好ましくは７
〜１１である。強磁性金属粉末のＳＡ（ステアリン酸）
吸着量(表面の塩基性点の尺度)は１〜１５μｍol／m²、
好ましくは２〜１０μｍol／m²、さらに好ましくは３〜
８μｍol／m²である。ステアリン酸吸着量が多い強磁性金属
粉末を使用する時、表面に強く吸着する有機物で表面修
飾して磁気記録媒体を作成することが好ましい。強磁性
粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒ、ＮＨ
₄、ＳＯ₄、Ｃｌ、ＮＯ₂、ＮＯ₃などの無機イオンを含む
場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましい。各
イオンの総和が３００ppm以下程度であれば、特性には
影響しない。また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さ
らに好ましくは５容量％以下である。また形状について
は先に示した粉体サイズ、磁気特性を満足すれば針状、
米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性粉末自
体のＳＦＤ（switching-field distribution）は小さい
方が好ましく、強磁性粉末のＨｃ分布を小さくする必要
がある。テ−プのＳＦＤが小さいと、磁化反転がシャー
プでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記
録に好適である。Ｈｃ分布を小さくするためには、強磁
性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くす
る、単分散αＦｅ₂Ｏ₃を使用する、粒子間の焼結を防止
するなどの方法がある。

【００３９】［六方晶フェライト粉末］六方晶フェライ
トとしては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェ
ライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトおよびこ
れらの各種の各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的に
はマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びス
トロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆し
たマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネ
ル相を含有した複合マグネトプランバイト型のバリウム
フェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げら
れ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｎｂ、Ｓ
ｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａ
ｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｌａ、
Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｂ、
Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般には
Ｃｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔ
ｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｎ
ーＺｎ−Ｃｏ、Ｓｎ−Ｃｏ−Ｔｉ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素
を添加した物を使用することができる。原料・製法によ
っては特有の不純物を含有するものもある。粉体サイズ
は六角板径で好ましくは平均板径が１０〜５５nm、更に
好ましくは１０〜４５nmであり、特に好ましくは１０〜
４０nmである。

【００４０】特にトラック密度を上げるため磁気抵抗ヘ
ッド（ＭＲヘッド）で再生する場合、低ノイズにする必
要があり、平均板径は４５nm以下が好ましいが、１０nm
より小さいと熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。５
５nmより大きいとノイズが高く、いずれも高密度磁気記
録には向かない。板状比（板径／板厚）は１〜１５が望
ましい。好ましくは１〜７である。板状比が小さいと磁
性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が
得られない。１５より大きいと粉体間のスタッキングに
よりノイズが大きくなる。この粉体サイズ範囲のＢＥＴ
法による比表面積は３０〜２００m²/gを示す。比表面積
は概ね粉体板径と板厚からの算術計算値と符号する。粉
体板径・板厚の分布は狭いほど好ましい。数値化は困難
であるが、粉体ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）写真より約
５００個を無作為に測定する事で比較できる。分布は正
規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対
する標準偏差で表すとσ／平均粉体サイズ＝０．１〜
１．５である。粉体サイズ分布をシャープにするには粉
体生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した
粉体に分布改良処理を施すことも行われている。たとえ
ば酸溶液中で超微細粉体を選別的に溶解する方法等も知
られている。ガラス化結晶法では、熱処理を複数回行
い、核生成と成長を分離することでより均一な粉体を得
ている。磁性粉で測定された抗磁力Ｈｃは０．４×１０
⁵Ａ／ｍ〜４×１０⁵Ａ／ｍ程度まで作成できる。高Ｈｃ
の方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で
制限される。Ｈｃは粉体サイズ（板径・板厚）、含有元
素の種類と量、元素の置換サイト、粉体生成反応条件等
により制御できる。飽和磁化σｓは（４π×１０^-8）×
（３０〜７０）Ｗｂ／ｇである。σsは、微粉体になる
ほど小さくなる傾向がある。製法では結晶化温度、また
は熱処理温度時間を小さくする方法、添加する化合物を
増量する、表面処理量を多くする方法等がある。またＷ
型六方晶フェライトを用いることも可能である。磁性体
を分散する際に磁性体粉体表面を分散媒、ポリマーに合
った物質で処理することも行われている。表面処理剤は
無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物とし
てはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の酸化物または水酸化物、各種シ
ランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表
例である。量は磁性体に対して０．１〜１０重量％であ
る。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程
度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化
学的安定性、保存性から６〜１１程度が選択される。磁
性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマ
ーにより最適値があるが通常０．１〜２．０重量％が選
ばれる。六方晶フェライトの製法としては、炭酸バリウ
ム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質
として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるよう
に混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再
加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結
晶粉体を得るガラス化結晶法、バリウムフェライト組成
金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後
１００℃以上で液相加熱後、洗浄・乾燥・粉砕してバリ
ウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、バリウムフ
ェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物
を除去した後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕して
バリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、
本発明は製法を選ばない。

【００４１】［非磁性層］次に下層に関する詳細な内容
について説明する。下層は、実質的に非磁性であれば、
特に制限されるべきものではないが、好ましくは非磁性
粉末と結合剤を含む構成である。下層は実質的に非磁性
である範囲で磁性粉末も使用され得るものである。下層
が実質的に非磁性であるとは、上層の電磁変換特性を実
質的に低下させない範囲で下層が磁性を有することを許
容するということである。

【００４２】本発明の下層に用いられる非磁性粉末とし
ては、例えば、金属酸化物、含水金属酸化物、金属炭酸
塩、金属窒化物、金属炭化物、等の無機質化合物から選
択することができる。無機質化合物としては例えばα化
率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アル
ミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セ
リウム、α−酸化鉄、ゲータイト、窒化珪素、二酸化チ
タン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化
ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、などが単独ま
たは組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布
の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チ
タン、酸化亜鉛、α−酸化鉄、ゲ−タイト、硫酸バリウ
ムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α−酸化
鉄、ゲ−タイトである。α−酸化鉄は、粉体サイズがそ
ろった磁性酸化鉄やメタル用原料を加熱脱水、アニ−ル
処理し空孔を少なくし、必要により表面処理をしたもの
が好ましい。通常、二酸化チタンは光触媒性を持ってい
るので、光があたるとラジカルが発生しバインダー、潤
滑剤と反応する懸念がある。このため、本発明に使用す
る二酸化チタンは、Ａｌ、Ｆｅ等を１〜１０重量％固溶
させ光触媒特性を低下させることが好ましい。さらに表
面をＡｌ及び／又はＳｉ化合物で処理し、触媒作用を低
下させることが好ましい。これら非磁性粉末の粉体サイ
ズは０．００５〜１μｍが好ましいが、必要に応じて粉
体サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の
非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせ
ることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粉
体サイズは０．０１μｍ〜０．５μｍである。特に、非
磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子サイ
ズ０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である
場合は、平均長軸長が０．３μｍ以下が好ましく、０．
２μｍ以下がさらに好ましい。タップ密度は通常、０．
３〜１．５g/ml、好ましくは０．４〜１．３g/mlであ
る。非磁性粉末の含水率は通常、０．２〜５重量％、好
ましくは０．３〜３重量％、更に好ましくは０．３〜
１．５重量％である。非磁性粉末のｐＨは通常、３〜１
２であるが、ｐＨは５．５〜１１の間が特に好ましい。
非磁性粉末の比表面積は通常、１〜１００m²/g、好まし
くは５〜８０m²/g、更に好ましくは１０〜８０m²/gであ
る。非磁性粉末の結晶子サイズは４０〜１０００Åが好
ましく、４０〜８００Åが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブ
チルフタレート）を用いた吸油量は通常、５〜１００ml
/100g、好ましくは１０〜８０ml/100g、更に好ましくは
２０〜６０ml/100gである。比重は通常、１．５〜７、
好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体
状、板状のいずれでも良い。非磁性粉末のＳＡ（ステア
リン酸）吸着量は通常、１〜２０μｍol／m²、好ましく
は２〜１５μｍol/m²、さらに好ましくは３〜８μｍol/
m²である。ステアリン酸吸着量が多い非磁性粉末を使用する
時、表面に強く吸着する有機物で表面修飾して磁気記録
媒体を作成することが好ましい。これらの非磁性粉末の
表面にはＡｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、
Ｚｎ、Ｙ化合物で表面処理することが好ましい。特に分
散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｚｒ
Ｏ₂、ＭｇＯおよびこれらの含水酸化物であるが、更に
好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂およびこれら
の含水酸化物である。これらは組み合わせて使用しても
良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じ
て共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミ
ナを被覆処理した後にその表層をシリカを被覆処理する
方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、
表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わない
が、均質で密である方が一般には好ましい。

【００４３】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
ＨＩＴ−１００、ＨＩＴ−８２、戸田工業製α−酸化鉄
ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０
ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ、ＤＢ
Ｎ−６５０ＲＸ、ＤＡＮ−８５０ＲＸ、石原産業製酸化
チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５
Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５
Ｄ、ＳＮ−１００、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４
Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、
α−酸化鉄α−４０、テイカ製酸化チタンＭＴ−１００
Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００
Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００Ｈ
Ｄ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１
０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製酸化鉄ＤＥＦＩ
Ｃ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２Ｂ
Ｍ、ＴｉＯ ₂ Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、
及びそれを焼成したものが挙げられる。下層にカーボン
ブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Ｒ
ｓを下げること、光透過率を小さくすること、所望のマ
イクロビッカース硬度を得る事ができる。また、下層に
カーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果を
もたらすことも可能である。カーボンブラックの種類は
ゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラッ
ク、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック等を
用いることができる。下層のカーボンブラックは所望す
る効果によって、以下のような特性を最適化すべきであ
り、併用することでより効果が得られることがある。下
層のカーボンブラックの比表面積は通常、５０〜５００
m²/g、好ましくは７０〜４００m²/g、ＤＢＰ吸油量は通
常、２０〜４００ml/100g、好ましくは３０〜４００ml/
100gである。カーボンブラックの平均粒子サイズは通
常、５〜８０nm、好ましく１０〜５０nm、さらに好まし
くは１０〜４０nmである。カーボンブラックのｐＨは２
〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／mlが好ましい。本発明に用いられるカー
ボンブラックの具体的な例としてはキャボット製 ＢＬ
ＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、
９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ
−７２、三菱化学製 ＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃
３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃
９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、
＃４０００、＃４０１０、コロンビアンカーボン製 Ｃ
ＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００、８０
００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１
００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２
５０、アクゾー製ケッチェンブラックＥＣなどがあげら
れる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理した
り、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグ
ラファイト化したものを使用してもかまわない。また、
カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合
剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラック
は上記無機質化合物粉末に対して５０重量％を越えない
範囲、非磁性層総重量の４０重量％を越えない範囲で使
用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組
合せで使用することができる。本発明で使用できるカー
ボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カー
ボンブラック協会編）を参考にすることができる。

【００４４】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。

【００４５】下層の結合剤樹脂(種類と量)、潤滑剤・分
散剤・添加剤の量、種類、溶剤、分散方法に関しては磁
性層に関する公知技術が適用できる。

【００４６】［結合剤］本発明に使用される結合剤とし
ては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹脂として
は、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子
量が１,０００〜２００,０００、好ましくは１０,００
０〜１００,０００、重合度が約５０〜１０００程度の
ものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−
ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネ−トを組み合わせたものがあげられる。

【００４７】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−
Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、(以上につきＭは水素原子、また
はアルカリ金属塩基)、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは炭化
水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる
少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものをもちいることが好ましい。このような
極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは
１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００４８】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト製ＶＡＧＨ、ＶＹＨ
Ｈ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥ
Ｓ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨ
Ｈ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業製、
ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰ
Ｒ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−
ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学製１０００Ｗ、ＤＸ８
０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本
ゼオン製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、Ｍ
Ｒ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリ
ウレタン製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３
０４、大日本インキ製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−
Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ
−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋
紡製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７
００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化製、ダイフェ
ラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０
２０、９０２２、７０２０、三菱化学製、ＭＸ５００
４、三洋化成製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成製サラ
ンＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。

【００４９】本発明の非磁性層、磁性層に用いられる結
合剤は非磁性粉末または磁性体に対し、通常、５〜５０
重量％の範囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用
いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重
量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量
％、ポリイソシアネートは２〜２０重量％の範囲でこれ
らを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微
量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレ
タンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使
用することも可能である。本発明において、ポリウレタ
ンを用いる場合はガラス転移温度が通常、−５０〜１５
０℃、好ましくは０〜１００℃、破断伸びが１００〜２
０００％、破断応力は０．４９〜９８ＭＰａ、降伏点は
０．４９〜９８ＭＰａが好ましい。

【００５０】本発明の磁気記録媒体は好ましくは二層以
上からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化
ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ各層とで変えることはもちろん
可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁
性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層でバ
インダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らす
ためには磁性層のバインダー量を増量することが有効で
あり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするために
は、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせ
ることができる。

【００５１】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１、
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン製、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネー
ト２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、
ミリオネートＭＴＬ、武田薬品製、タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、住友バイエル製、デスモジュー
ルＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮデスモジ
ュールＨＬ、等がありこれらを単独または硬化反応性の
差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも
用いることができる。

【００５２】［カーボンブラック］本発明の磁性層は、
所望によりカーボンブラックを含むことができる。使用
されるカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サ
ーマル、カラー用ブラック、導電性カーボンブラック、
アセチレンブラック、等を用いることができる。比表面
積は５〜５００m²/g、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００mｌ
／１００ｇ、平均粒子サイズは５nm〜３００nm、ｐＨは
２〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／cc、が好ましい。本発明に用いられるカ
ーボンブラックの具体的な例としてはキャボット製、Ｂ
ＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１００
０、９００、９０５、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、旭カーボン製、＃８０、＃６０、＃５５、
＃５０、＃３５、三菱化学製、＃２４００Ｂ、＃２３０
０、＃９００、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０
Ｂ、コロンビアンカーボン製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ Ｓ
Ｃ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１５、ＲＡＶＥ
Ｎ−ＭＴ−Ｐ、アクゾー社製、ケッチェンブラックＥ
Ｃ、などがあげられる。カーボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかま
わない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する
前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これら
のカーボンブラックは単独、または組合せで使用するこ
とができる。カーボンブラックを使用する場合は磁性体
に対する量の０．１〜３０重量％で通常、用いることが
できる。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係
数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、こ
れらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本
発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層磁性
層、下層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子
サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性
をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能で
あり、むしろ各層で最適化すべきものである。本発明の
磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば（「カー
ボンブラック便覧」カーボンブラック協会編）を参考に
することができる。

【００５３】［研磨剤］本発明の磁性層に使用できる研
磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−
アルミナ、微粒子ダイヤモンド、炭化ケイ素、酸化クロ
ム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪
素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化
珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−ス硬度６以上の公
知の材料が単独または組合せで使用される。また、これ
らの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処
理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主
成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主
成分が９０重量％以上であれば効果にかわりはない。こ
れら研磨剤の粉体サイズは０．０１〜１μが好ましく、
特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭
い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応
じて粉体サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独
の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせる
ことも可能である。タップ密度は０．３〜１．５g/cc、
含水率は０．１〜５重量％、ｐＨは２〜１１、比表面積
は１〜４０m²/gが好ましい。本発明に用いられる研磨剤
の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良い
が、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好まし
い。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１０、ＡＫＰ−１
５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩ
Ｔ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ−６０
Ａ、ＨＩＴ−５０Ｇ、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０、Ｈ
ＩＴ−８２、ＨＩＴ−１００、レイノルズ社製ＥＲＣ−
ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤
社製ＷＡ１００００、上村工業社製ＵＢ２０、日本化学
工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ
１、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社
製ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製Ｂ−
３などが挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ下層
に添加することもできる。下層に添加することで表面形
状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりするこ
とができる。これら磁性層、下層の添加する研磨剤の粉
体サイズ、量はむろん最適値に設定すべきものである。

【００５４】［添加剤］本発明の磁性層、非磁性層に使
用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果などをもつものが使用される。二硫化
モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化
ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつ
シリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコ
ーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポ
リオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル
およびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニ
ルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェ
ニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、およびこれらの金属塩（Ｌｉ、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数
１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を含ん
でも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１０〜
２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二
価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ
（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エス
テルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重
合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数
８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミ
ン、などが使用できる。

【００５５】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレ
ート、２−オクチルドデシルパルミテート、２−ヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物 等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０重量％以下である。

【００５６】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエス
テル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑
剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるな
ど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁
性粉末に対し、０．１重量％〜５０重量％、好ましくは
２重量％〜２５重量％の範囲で選択される。

【００５７】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダ−した後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有
機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭６−６８
４５３に記載の溶剤を用いることができる。

【００５８】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が好ましくは２．５〜８μｍであるが、体積
密度を大きくするため更に好ましくは２．５〜７．５μ
ｍ、特に好ましくは２．５〜７μｍである。非磁性可撓
性支持体と非磁性層また磁性層の間に密着性向上のため
の下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは０．
０１〜０．５μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍで
ある。これらの下塗層は公知のものが使用できる。本発
明の媒体の磁性層の厚みは用いるヘッドの飽和磁化量や
ヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化される
ものであるが、一般には０．０５μｍ〜０．５μｍであ
り、好ましくは０．０５μｍ〜０．３０μｍである。磁
性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもか
まわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。

【００５９】本発明になる媒体の下層である非磁性層の
厚みは０．２〜３．０μｍ、好ましくは０．３〜２．５
μｍ、さらに好ましくは０．５〜２．０μｍである。な
お、本発明媒体の下層は実質的に非磁性であればその効
果を発揮するものであり、たとえば不純物としてあるい
は意図的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効果を示
すものであり、本発明と実質的に同一の構成と見なすこ
とができることは言うまでもない。実質的に非磁性とは
下層の残留磁束密度が０．０５Ｔ以下もしくは抗磁力が
上層磁性層の〜４０％以下であることを示し、好ましく
は残留磁束密度と抗磁力がゼロである。

【００６０】以下に、バック層について詳述する。バッ
ク層は基本的に帯電防止やカール補正などの効果を有す
る。バック層は、改質炭素質粉粒体を含有することがで
きる。また、バック層は微粒子で電気伝導性がすぐれた
カーボンブラックをフィラーとして含有し、平均粒子サ
イズの異なる二種類のカーボンブラックを含有させた
り、必要により無機質粉末を含有してもよい。例えば、
モース硬度５〜９の無機質粉末を含有させることができ
る。

【００６１】バック層に一般的に含有されるカーボンブ
ラックは、平均粒子サイズが１０〜２０ｎｍの微粒子状
カーボンブラックと平均粒子サイズが５０〜３００ｎｍ
(このましくは２３０〜３００ｎｍ)の粗粒子状カーボン
ブラックである。一般に、上記のような微粒子状のカー
ボンブラックの添加により、バック層の表面電気抵抗を
低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記
録の装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作
の信号に使用しているものが多くあるため、このような
場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効
になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に潤滑剤
の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄
与する。一方、５０〜３００ｎｍ(このましくは２３０
〜３００ｎｍ）の粗粒子状カーボンブラックは、固体潤
滑剤としての機能を有しており、またバック層の表面に
微小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の
低減化に寄与する。しかし粗粒子状カーボンブラック
は、過酷な走行系では、テープ摺動により、バック層か
らの脱落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる
欠点を有している。

【００６２】本発明で用いることができる微粒子状カー
ボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを挙
げることができる。かっこ内は、平均粒子サイズを示
す。ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８nm）、ＲＡＶＥＮ１５
００Ｂ（１７nm）（以上、コロンビアカーボン社製）、
ＢＰ８００（１７nm）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮ
ＴＥＸ９０（１４nm）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５n
m）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６nm）、ＰＲＩＮＴＥＸ
７５（１７nm）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１
６nm）（三菱化学（株）製）。また粗粒子カーボンブラ
ックの具体的な商品の例としては、サーマルブラック
（２７０nm）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮＭＴＰ
（２７５nm）（コロンビアカーボン社製）を挙げること
ができる。５０〜２００nmのカーボンブラックは，ゴム
用カーボンブラックや，カラー用カーボンブラックより
選択することができる．

【００６３】本発明において、前記バック層の厚みが、
０．２〜０．８μｍであり、前記磁気記録媒体の総厚み
が３〜１０μｍであり、該バック層の中心面平均表面粗
さＲａが、１．０〜１５ｎｍである磁気記録媒体を得る
ためには、バック層において、平均粒子サイズ１〜３０
０ｎｍの改質炭素質粉粒体を単独で用いるか、または、
１０〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックまたは５０
〜３００nmの粗粒子状カーボンブラックから適宜選択し
て、改質炭素質粉粒体と適量混合して用いる。

【００６４】バック層に添加することができる無機質粉
末としては、好ましくは平均粉体サイズが２０〜２５０
ｎｍ、更に好ましくは２０〜１５０μｍでモース硬度が
５〜９の無機質粉末が挙げられる。無機質粉末として
は、前述した下層に使用される非磁性粉末や研磨剤など
と同様のものが使用されるが、中でもα−酸化鉄、α−
アルミナ等が好ましい。

【００６５】カーボンブラックを除いた無機質粉末のバ
ック層への添加量は、後述する結合剤１００重量部に対
して、好ましくは３〜４０重量部の範囲であり、更に好
ましくは５〜３０重量部の範囲である。本発明に係るバ
ック層は、上記各成分が後述する結合剤中に分散されて
なるものであるが、他の任意の成分として、分散剤、潤
滑剤を添加することが好ましい。分散剤としては、例え
ば、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸等の炭素数１２〜１８個の脂肪酸（ＲＣＯＯＨ、
Ｒは炭素数１１〜１７個のアルキル基、又はアルケニル
基）、前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属
からなる金属石けん、前記の脂肪酸エステルのフッ素を
含有した化合物、前記脂肪酸のアミド、ポリアルキレン
オキサイドアルキルリン酸エステル、レシチン、トリア
ルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニウム塩（ア
ルキルは炭素数１〜５個、オレフィンは、エチレン、プ
ロピレンなど）、硫酸エステル、及び銅フタロシアニン
等を使用することができる。これらは、単独でも組み合
わせて使用しても良い。上記の中では、オレン酸銅、銅
フタロシアニン、及び硫酸バリウムが好ましい。分散剤
は、結合剤樹脂１００重量部に対して通常、０．５〜２
０重量部の範囲で添加される。

【００６６】潤滑剤としては、従来から磁気テープに通
常使用されている潤滑剤から適宜選択して使用できる
が、本発明では特に炭素数１８以上の脂肪酸、あるいは
脂肪酸エステルが走行性の向上の点から好ましい。潤滑
剤は、結合剤樹脂１００重量部に対して通常１〜５重量
部の範囲で添加される。

【００６７】バック層で使用できる結合剤としては、例
えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれ
らの混合物を挙げることができる。熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリルニト
リル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合
体、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタアク
リル酸エステル−アクリルニトリル共重合体、メタアク
リル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタアクリ
ル酸エステル−スチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩
ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−
アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニ
ルブチラール、繊維素系樹脂（セルロースアセテートブ
チレート、セルロースダイアセテート、セルロースプロ
ピオネート、ニトロセルロースなど）、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエー
テル−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種
ゴム系樹脂を挙げることができる。

【００６８】また熱硬化性樹脂または反応型樹脂として
は、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹
脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリ
コーン樹脂、エポキシーポリアミド樹脂、ポリイソシア
ネートを挙げることができる。バック層は、通常の方法
に従って支持体の磁性層が設けられている側とは反対側
に設けられる。即ち、前記の各成分を適当な有機溶媒に
溶解、分散させた塗布液を調製し、これを常法の塗布方
法に従い、塗布、乾燥することにより、支持体上にバッ
ク層を設けることができる。本発明において、バック層
は、その表面粗さＲａが、３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法による中
心面平均表面粗さで好ましくは１．０〜１５ｎｍ、更に
好ましくは１．０〜１０ｎｍの範囲にある。この表面粗
さは、テープが巻かれた状態でバック層の表面が磁性層
の表面に転写され、再生出力に影響を与えたり、ガイド
ポールに対する摩擦係数に影響を与えるため、上記の範
囲に調整することが好ましい。なお、この表面粗さＲａ
の調整は、通常バック層を塗布形成後、カレンダーによ
る表面処理工程において、用いるカレンダーロールの材
質、その表面性、圧力等の調整により行われる。本発明
において、バック層は、その厚みが０．２〜０．８μ
ｍ、さらに好ましくは０．２〜０．７μｍの範囲であ
る。

【００６９】［支持体］本発明に用いられる支持体はポ
リエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレート
等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−スト
リアセテ−ト、ポリカ−ボネート、ポリアミド、ポリイ
ミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、芳香族ポリ
アミド、ポリベンゾオキサゾ−ルなどの公知のフィルム
が使用できる。ガラス転移温度が１００℃以上の支持体
がこのましく、ポリエチレンナフタレ−ト、アラミドな
どの高強度支持体を用いることが特に好ましい。また必
要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため特
開平３−２２４１２７に示されるような積層タイプの支
持体を用いることもできる。これらの支持体にはあらか
じめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処
理、除塵処理、などを行ってもよい。

【００７０】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３ＤのＭＩＲＡＵ法で測定し
た中心面平均表面粗さ(ＳＲａ)は通常、５．０nm以下、
好ましくは３．０nm以下、さらに好ましくは２．０nm以
下のものを使用することが好ましい。これらの支持体は
単に中心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５
μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の
粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の
大きさと量により自由にコントロ−ルされるものであ
る。これらのフィラ−としては一例としてはＣａ、Ｓ
ｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの
有機粉末があげられる。支持体の最大高さＳＲmaxは１
μｍ以下、十点平均粗さＳＲzは０．５μｍ以下、中心
面山高さはＳＲpは０．５μｍ以下、中心面谷深さＳＲv
は０．５μｍ以下、中心面面積率ＳＳrは１０％以上、
９０％以下、平均波長Ｓλaは５μｍ以上、３００μｍ
以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るた
め、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意
にコントロールできるものであり、０．０１μｍから１
μｍの大きさのもの各々を０．１mm²あたり０個から２
０００個の範囲でコントロ−ルすることができる。

【００７１】本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好
ましくは４９〜４９０ＭＰａ、また、支持体の１００℃
３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ま
しくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ま
しくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下であ
る。破断強度は４９〜９８０ＭＰａ、弾性率は９８０〜
１９６００ＭＰａ、が好ましい。温度膨張係数は１０^-4
〜１０^-8/℃であり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃で
ある。湿度膨張係数は１０^-4/RH%以下であり、好ましく
は１０^-5/RH％以下である。これらの熱特性、寸法特
性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以
内の差でほぼで等しいことが好ましい。

【００７２】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗料
を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、お
よびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程
からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれて
いてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉
末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、
潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または
途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ
以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、
ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整
のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の
目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部
の工程として用いることができる。混練工程ではオープ
ンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、エクストルーダな
ど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニ
−ダを用いる場合は磁性体または非磁性粉末と結合剤の
すべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０重量％以
上が好ましい）および磁性体１００部に対し１５〜５０
０部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細
については特開平１−１０６３３８、特開平１−７９２
７４に記載されている。また、磁性層液および非磁性層
液を分散させるにはガラスビーズを用ることができる
が、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チ
タニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分
散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分
散機は公知のものを使用することができる。分散速度が
ことなる磁性体、研磨剤、カーボンブラック等をあらか
じめ別々に分散し、混合し必要によりさらに微分散して
塗布液とすることができる。

【００７３】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９、特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１、特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、
本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠
陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させる
ためには、前述の同時重層塗布を用いることが好まし
い。

【００７４】カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで処理するが、
特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同志で処理する
ことが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、
さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好まし
くは１．９６ｋＮ／ｍ以上、さらに好ましくは２．９４
ｋＮ／ｍ以上である。

【００７５】本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は温度−１０℃〜４０℃、湿度０％〜９５％の範
囲において０．５以下、好ましくは０．３以下、表面固
有抵抗は好ましくは磁性面１０⁴〜１０¹²オ−ム/sq、帯
電位は−５００Vから＋５００V以内が好ましい。磁性層
の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で好ましくは９
８０〜１９６０ＭＰａ、破断強度は好ましくは９８〜６
８６ＭＰａ、磁気記録媒体の弾性率は面内各方向で好ま
しくは９８０〜１４７００ＭＰａ、残留のびは好ましく
は０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収
縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％
以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁性層
のガラス転移温度(１１０Hzで測定した動的粘弾性測定
の損失弾性率の極大点)は５０℃以上１２０℃以下が好
ましく、下層非磁性層のそれは０℃〜１００℃が好まし
い。損失弾性率は１×１０⁷〜８×１０⁸Ｎ／ｍ²の範囲
にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であるこ
とが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生
しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方
向で１０％以内でほぼ等しいことが好ましい。磁性層中
に含まれる残留溶媒は好ましくは１００mg/m²以下、さ
らに好ましくは１０mg/m²以下である。塗布層が有する
空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは３０容量％以
下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は
高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的に
よってはある値を確保した方が良い場合がある。

【００７６】磁性層を３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法で測定した中
心面表面粗さＲａは、好ましくは１．０〜３．０ｎｍ、
更に好ましくは１．０〜２．５ｎｍである。磁性層の最
大高さＲmaxは０．５μｍ以下、十点平均粗さＲzは０．
３μｍ以下、中心面山高さＲpは０．３μｍ以下、中心
面谷深さＲvは０．３μｍ以下、中心面面積率Ｓrは２０
〜８０％以下、平均波長λaは５〜３００μｍ以下が好
ましい。磁性層の表面突起は０．０１μｍ〜１μｍの大
きさのものを０〜２０００個の範囲で任意に設定するこ
とが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を
最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラ−
による表面性のコントロ−ルや磁性層に添加する粉体の
粒径と量、カレンダ処理のロ−ル表面形状などで容易に
コントロ−ルすることができる。カールは±３mm以内と
することが好ましい。

【００７７】本発明の磁気記録媒体で非磁性層と磁性層
を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの
物理特性を変えることができるのは容易に推定されるこ
とである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性
を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。

【００７８】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明の要旨を越えない限りこれら実施例に限定さ
れるものではない。 製造例(磁性層に添加する改質炭素質粉粒体の製造) 表１に示すカーボンブラック（炭素質粉粒体）を原料と
して、以下の改質炭素質粉粒体を製造した。

【００７９】改質炭素質粉粒体（Ａ）の製造 表１に示す炭素質粉粒体（Ａ）〔カーボンブラック（三
菱化学社製 ＭＡ１００、平均粒子サイズ２２ｎｍ）〕
を、フッ素化処理用反応器内に入れ、容器内を真空に保
った後、フッ素ガスを導入し、室温でフッ素圧０．６７
ｋＰａ、酸素圧６．７ｋＰａ、窒素圧９４ｋＰａ、５分
間の条件でフッ素化処理した。このものを温度２５０℃
で、飽和水蒸気２５容量％を含んだ空気６００ｍｌ／分
を流しながら２時間処理した。得られた改質カーボンブ
ラックの水に対する濡れ性の尺度として簡易親水性およ
び浸漬熱を測定した。

【００８０】〔簡易親水性の測定法〕室温でビーカーに
水３０ｍｌを入れ、その上に約３０ｍｇのサンプルを落
として水に沈む時間の違いによって親水性のランクづけ
を行った。ランクづけは次の通りであり、水に沈む時間
が速い方が親水性が高いことを示す。 Ｓ；１５秒以内、Ａ；１５〜３０秒、Ａ′；３０〜４５
秒、Ｂ；４５〜６０秒、Ｂ′；６０〜７５秒、Ｃ；７５
〜９０秒、Ｃ′；９０秒以上（落ちない）

【００８１】〔浸漬熱の測定法〕浸漬熱は、東京理工
（株）社製、双子型カロリメーターを用い、水に対する
浸漬熱を文献（セラミックス第１１巻（１９７６）Ｎ
ｏ．５，ＰＰ．４３３−４４０）に従って測定した。 〔サンプルの前処理〕カーボンブラックを０．３ｇ精秤
し、これをガラスアンプルに取り、１０^-5ｔｏｒｒ
（１．３３Ｘ１０^-3Ｐａ）の真空下１５０℃で３時間加
熱脱気処理後そのまま封管した。 〔測定〕上記アンプルを２０ｃｃの水が入った容器に入
れ、これを双子型カロリメーター内にセットする。恒温
槽内の温度が一定（２５℃）になってから、ガラスアン
プルを破壊して、水とカーボンブラックを接触させ、こ
の時発生する熱量を検出した。ガラスアンプルの破壊熱
は参照側の空アンプルの破壊熱を差し引くことによって
校正した。測定された値は１１８ｍＪ／ｍ² であり、原
料カーボンブラックの値８２ｍＪ／ｍ² と比較して大き
な値を示した。結果を表２に示した。また、簡易親水性
を測定したところランクＳであった。以上の結果を表２
に示した。

【００８２】改質炭素質粉粒体（B）の製造 炭素質粉粒体（Ａ）を用い、改質炭素質粉粒体（Ａ）の
製造と同様にしてフッ素化処理したものを、温度２００
℃で、飽和水蒸気２５容量％を含んだ空気６００ｍｌ／
分を流しながら８時間処理した。得られた改質カーボン
ブラックの水に対する濡れ性の尺度として簡易親水性を
測定した。簡易親水性の結果はランクＳであった。結果
を表２に示した。

【００８３】改質炭素質粉粒体（C）の製造 炭素質粉粒体（Ｃ）である平均粒子サイズ10nmのファー
ネスブラックに変えた以外は、改質炭素質粉粒体（A）
の製造と同様にして、フッ素化処理した。このものを温
度２５０℃で、飽和水蒸気２５容量％を含んだ空気６０
０ｍｌ／分を流しながら２時間処理した。得られた改質
カーボンブラックの水に対する濡れ性の尺度として簡易
親水性および浸漬熱を測定した。結果を表２に示した。

【００８４】改質炭素質粉粒体（D）の製造 炭素質粉粒体（D）である平均粒子サイズ１７nmのファ
ーネスブラックに変えた以外は、改質炭素質粉粒体
（A）の製造と同様にして、フッ素化処理した。このも
のを温度２５０℃で、飽和水蒸気２５容量％を含んだ空
気６００ｍｌ／分を流しながら２時間処理した。得られ
た改質カーボンブラックの水に対する濡れ性の尺度とし
て簡易親水性を測定した。結果を表２に示した。

【００８５】改質炭素質粉粒体（E）の製造 炭素質粉粒体（Ｅ）である平均粒子サイズ５３nmのアセ
チレンブラックに変えた以外は、改質炭素質粉粒体
（A）の製造と同様にして、フッ素化処理した。このも
のを温度２５０℃で、飽和水蒸気２５容量％を含んだ空
気６００ｍｌ／分を流しながら２時間処理した。得られ
た改質カーボンブラックの水に対する濡れ性の尺度とし
て簡易親水性および浸漬熱を測定した。結果を表２に示
した。

【００８６】改質炭素質粉粒体（F）の製造 炭素質粉粒体（Ｆ）である平均粒子サイズ78nmのファー
ネスブラックに変えた以外は、改質炭素質粉粒体（A）
の製造と同様にして、フッ素化処理した。このものを温
度２５０℃で、飽和水蒸気２５容量％を含んだ空気６０
０ｍｌ／分を流しながら２時間処理した。得られた改質
カーボンブラックの水に対する濡れ性の尺度として簡易
親水性および浸漬熱を測定した。結果を表２に示した。

【００８７】改質炭素質粉粒体（G）の製造 炭素質粉粒体（Ｇ）である平均粒子サイズ99nmのファー
ネスブラックに変えた以外は、改質炭素質粉粒体（A）
の製造と同様にして、フッ素化処理した。このものを温
度２５０℃で、飽和水蒸気２５容量％を含んだ空気６０
０ｍｌ／分を流しながら２時間処理した。得られた改質
カーボンブラックの水に対する濡れ性の尺度として簡易
親水性を測定した。結果を表２に示した。

【００８８】改質炭素質粉粒体（Ｈ）（比較例） 炭素質粉粒体（A）を改質炭素質粉粒体（A）と同様の条
件でフッ素化したもので、水蒸気処理を施さなかった改
質炭素質粉粒体（Ｈ）の簡易親水性を測定したところラ
ンクはＡであった。結果を表２に示した。また、参考例
として炭素質粉粒体（Ａ）の浸漬熱及び簡易親水性を測
定し、表2に示した。

【００８９】

【表１】

【００９０】

【表２】

【００９１】 (磁気記録媒体の製造) 実施例１ 磁性塗料１ 磁性塗料１ 強磁性金属粉末 １００部 （Ｃｏ／Ｆｅ＝３０原子％、Ａｌ／Ｆｅ＝８原子％、Ｙ／Ｆｅ＝６原子％ 、 Ｈｃ１．８７×１０⁵Ａ／ｍ、比表面積５５m²/g、 σs１４０×４π×１０^-8Ｗｂ／ｇ、 結晶子サイズ１４０Å、平均長軸長０．０６８μｍ、平均針状比 ６ 表面酸化膜厚２５Å） 塩化ビニル重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ４部 αアルミナ（平均粒子サイズ ０．１５μｍ) ５部 改質炭素質粉粒体（Ａ） ５部 フェニルホスホン酸 ３部 ブチルステアレート ５部 ステアリン酸 ６部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部

【００９２】 非磁性塗料 非磁性粉末 α−Ｆｅ₂Ｏ₃ ８０部 平均長軸長 ０．１２μｍ、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m²/g ｐＨ ９、 表面処理剤アルミ化合物(Ａｌ₂Ｏ₃として １重量％) αアルミナ（平均粒子サイズ ０．１５μｍ) ７部 カーボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 塩化ビニル重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート ６部 ステアリン酸 ５部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（７／３混合溶剤） ２５０部

【００９３】 バック層形成用塗布液組成（１） 微粒子状カーボンブラック粉末 １００部 （キャボット社製、ＢＰ−８００、平均粒子サイズ：１７nm） 粗粒子状カーボンブラック粉末 １０部 （カーンカルブ社製、サーマルブラック、平均粒子サイズ：２７０nm） α−アルミナ １５部 （住友化学工業（株）製、ＨＩＴ６０Ａ、平均粒子サイズ：０．１７μｍ、 モース硬度：９） ニトロセルロース樹脂 １２０部 ポリウレタン樹脂 １５部 ポリイソシアネート ４０部 ポリエステル樹脂 ５部 分散剤：オレイン酸銅 ５部 銅フタロシアニン ５部 硫酸バリウム ５部 メチルエチルケトン ２２００部 トルエン ８００部

【００９４】上記の磁性層用塗料、非磁性層用塗料のそ
れぞれについて、顔料、ポリ塩化ビニル、フェニルホス
ホン酸と処方量の５０重量％の各溶剤をニ−ダで混練し
たのち、ポリウレタン樹脂と残りの成分を加えてサンド
グラインダーで分散した。得られた分散液にポリイソシ
アネートを非磁性層の塗布液には１５部、磁性層の塗布
液には１４部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノ
ン３０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルター
を用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の
塗布液をそれぞれ調製した。

【００９５】得られた非磁性層形成用塗布液を、乾燥後
の下層の厚さが１．７μｍになるようにさらにその直後
にその上に磁性塗料１の塗布液を磁性層の厚さが０．２
０μｍとなるように、厚さ５．５μｍで中心面平均表面
粗さが２ｎｍのアラミドベース上に同時重層塗布をおこ
ない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに４．８×１０ ⁵
Ａ／ｍの磁力を持つコバルト磁石と４．８×１０⁵Ａ／
ｍの磁力を持つソレノイドにより配向、乾燥させた。そ
の後、バック層形成用塗布液（１）を厚み０．４μｍと
なるように塗布した。金属ロ−ルのみから構成される７
段のカレンダ−で温度９５℃にて分速１５０ｍ／ｍｉ
ｎ．で処理を行い、熱処理を施した。次いで、得られた
塗布物を３．８ｍｍ幅にスリットし、表面研磨処理を施
した後、所定のカートリッジに組み込んでサンプル（磁
気テープ）とした。得られた磁性層の磁気特性、磁性層
とバック層のRaを測定した。さらに４．７ＭＨｚ再生出
力、ＤＯ評価、初期と６０℃９０％ＲＨ７日保存後の摩
擦係数を測定した。

【００９６】（１）磁気特性（Ｈｃ、φm）：振動試料
型磁力計（東英工業社製）を用い、Ｈｍ８×１０⁵Ａ／
ｍで測定した。φmとは(飽和磁束密度×磁性層厚み/4
π)で示される磁気記録媒体の単位面積当たりの磁化量
（単位はＷｂ／ｍ²)である。 （２）中心面平均表面粗さ（Ｒａ）：３Ｄ−ＭＩＲＡＵ
法での表面粗さ（Ｒａ）：ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを
用いて、３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法で約２５０×２５０μｍの
面積のＲａ値を測定した。測定波長約６５０nmにて球面
補正、円筒補正を加えている。本方式は光干渉にて測定
する非接触表面粗さ計である。

【００９７】（３）４．７ＭＨｚ再生出力 ＤＤＳドライブにて４．７ＭＨｚの単一周波数信号を最
適記録電流にて記録し、その再生出力を測定した。出力
値は、実施例５の再生出力を０ｄＢとして相対値で示し
た。 （４）ドロップアウト（ＤＯ） ＤＡＴデッキにて周波数２．３５ＭＨｚの信号を最適電
流値で書き込み、その再生信号をドロップアウトカウン
タ（シバソク（株）製）で計数した。計測は、５分間行
い、１５μ秒、−１６ｄＢのＤＯの１分間当りの平均個
数を求めた。

【００９８】（５）２３℃６０％RH環境下での磁性層面
の１パス目の摩擦係数（μ（N）値）、及び１００パス
目の摩擦係数（μ（N）値） ＤＤＳドライブで使用されている磁性層面面タッチのガ
イドポールに対して、磁気テープの磁性層面を接触させ
て荷重２０ｇ（Ｔ１）をかけ、１４ｍｍ／秒の速度にな
るように張力（Ｔ２）をかけ引っ張り、Ｔ２／Ｔ１より
ガイドポールに対する磁性層面の摩擦係数μ（N）を求
めた。測定は繰り返し１００パスまで行い、１パス目の
摩擦係数μ１と１００パス目の摩擦係数μ１００を求め
た。

【００９９】（６）６０℃９０％ＲＨ７日保存後の磁性
層面の１パス目の摩擦係数（μ値）、及び１００パス目
の摩擦係数（μ値）（保存後） カ−トリッジを６０℃９０％ＲＨ７日保存した後、前記
（５）と同様にして磁性層面の摩擦係数を求めた。測定
は繰り返し１００パスまで行い、１パス目の摩擦係数μ
１と１００パス目の摩擦係数μ１００を求めた。測定中
に張付きが発生し測定不可能となった場合は張付きと表
示した。

【０１００】（７）５℃２０％ＲＨ環境下での磁性層面
の１パス目の摩擦係数（μ(L)値）、及び１００パス目
の摩擦係数（μ(L)値） カ−トリッジを５℃２０％ＲＨ１２時間以上で保存した
後、５℃２０％ＲＨ環境下で、前記（５）と同様にして
磁性層面の摩擦係数μ（L）を求めた。測定は繰り返し
１００パスまで行い、１パス目の摩擦係数μ１と１００
パス目の摩擦係数μ１００を求めた。測定中に張付きが
発生し測定不可能となった場合は張付きと表示した。

【０１０１】実施例2〜5 実施例１において、磁性層の改質炭素質粉粒体を表３に
示す種類に変更した以外は実施例1と同様に作成した。 実施例６ 実施例１において、磁性層のブチルステアレートの添加
量を5部から４部に変更し、且つ磁性層のステアリン酸
の添加量を６部から４部に変更した以外は実施例1と同
様に作成した。

【０１０２】比較例１ 実施例１の磁性層に改質炭素質粉粒体を使用しなかった
以外は実施例1と同様に作成した。 比較例２ 実施例１の磁性層に改質炭素質粉粒体の用いず、代わり
にカーボンブラックＭＡ１００（三菱化学社製）（炭素
質粉粒体（Ａ））を使用した以外は実施例1と同様に作
成した。 比較例３ 実施例１において、磁性層の改質炭素質粉粒体（Ａ）の
代わりに改質炭素質粉粒体（Ｈ）を使用した以外は実施
例1と同様に作成した。

【０１０３】以上のサンプルの評価結果を表3に示し
た。

【０１０４】

【表３】

【０１０５】上記表3の結果から，比較例１〜２は磁性
層の表面粗さ(Ra)が同等にもかかわらず、初期の走行摩
擦係数の絶対値が大きく、及び初期と繰り返し走行での
摩擦係数の変化が大きく、さらに６０℃９０％ＲＨに保
管後の摩擦係数が大幅に大きくなり、特に比較例1で
は、張付きが発生した。DO数も大きく、表面改質された
炭素質粉粒体を使用した本発明に比較して走行、耐久性
が劣っている。

【０１０６】 実施例７ 磁性塗料 ２ バリウムフェライト磁性粉 １００部 （Ｈｃ１．６７×１０⁵Ａ／ｍ、比表面積５２m²/g、σs５６×(４π×１ ０^-8)Ｗｂ／ｇ、平均板径４０ｎｍ、平均板状比 ３） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） ５部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 αアルミナ（平均粒子サイズ ０．１５μｍ) ６部 改質炭素質粉粒体（Ａ） １部 フェニルホスホン酸 ２部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部

【０１０７】非磁性層用塗料：実施例１と同じ

【０１０８】 バック層形成用塗布液組成（２） 微粒子状カーボンブラック粉末 １００部 （キャボット社製、ＢＰ−８００、平均粒子サイズ：１７ｎｍ） 粗粒子状カーボンブラック粉末 １０部 （カーンカルブ社製、サーマルブラック、平均粒子サイズ：２７０nm） α−酸化鉄 １５部 （戸田工業（株）製、ＴＦ１００、平均粉体サイズ（平均長軸長）：１１０ｎ ｍ、モース硬度：５．５） ニトロセルロース樹脂 １４０部 ポリウレタン樹脂 １５部 ポリイソシアネート ４０部 ポリエステル樹脂 ５部 分散剤：オレイン酸銅 ５部 銅フタロシアニン ５部 硫酸バリウム ５部 メチルエチルケトン ２２００部 酢酸ブチル ３００部 トルエン ６００部

【０１０９】上記の磁性層用塗料、非磁性層用塗料のそ
れぞれについて、顔料、ポリ塩化ビニル、フェニルホス
ホン酸と処方量の５０重量％の各溶剤をニ−ダで混練し
たのち、ポリウレタン樹脂と残りの成分を加えてサンド
グラインダーで分散した。得られた分散液にポリイソシ
アネートを非磁性層の塗布液には１５部、磁性層の塗布
液には１４部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノ
ン３０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルター
を用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の
塗布液をそれぞれ調製した。

【０１１０】得られた非磁性層形成用塗布液を、乾燥後
の下層の厚さが１．５μｍになるようにさらにその直後
にその上に磁性塗料２の塗布液を磁性層の厚さが０．１
５μｍとなるように、厚さ５．５μｍで中心面平均表面
粗さが２ｎｍのＰＥＮベース上に同時重層塗布をおこな
い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに４．８×１０⁵Ａ
／ｍの磁力を持つコバルト磁石と４．８×１０⁵Ａ／ｍ
の磁力を持つソレノイドにより配向させた。乾燥後、バ
ック層形成用塗布液（２）を厚み０．６μｍとなるよう
に塗布した。金属ロ−ルのみから構成される７段のカレ
ンダ−で温度９５℃にて分速２００ｍ／ｍｉｎ．でカレ
ンダ−処理を行い、その後、３．８ｍｍ幅にスリット
し、パンケ−キを作成した。表面研磨処理を施した後、
所定のカートリッジに組み込んでサンプル（磁気テー
プ）とした。得られた磁性層の磁気特性、磁性層とバッ
ク層のRaを測定した。さらに４．７ＭＨｚ再生出力、Ｄ
Ｏ評価、初期と６０℃９０％ＲＨ７日保存後の摩擦係数
を測定した。出力は実施例７に対する相対値で示す。評
価条件は表１と同様に実施した。

【０１１１】実施例８〜１１ 実施例７の磁性層の改質炭素質粉粒体を表４に示す種類
に変更した以外は実施例７と同様に作成した。

【０１１２】実施例１２ 実施例７の磁性層の改質炭素質粉粒体（Ａ）の添加量を
１部から３部に変更し、且つブチルステアレートの添加
量を１０部から７部に変更した以外は実施例７と同様に
作成した。

【０１１３】比較例４ 実施例７の磁性層に改質炭素質粉粒体を使用しなかった
以外は実施例７と同様に作成した。

【０１１４】比較例５ 実施例７の磁性層に改質炭素質粉粒体（Ａ）を用いず、
代わりに炭素質粉粒体（Ａ）を使用した以外は実施例７
と同様に作成した。 比較例６ 実施例７の磁性層の改質炭素質粉粒体（Ａ）の代わりに
改質炭素質粉粒体（Ｈ）を使用した以外は実施例７と同
様に作成した。

【０１１５】

【表４】

【０１１６】上記表４の結果から，比較例４〜５は磁性
層の表面粗さ(Ra)が同等にもかかわらず、初期の走行摩
擦係数及び繰り返し走行摩擦係数の絶対値が大きく、ま
た、初期と繰り返し走行摩擦係数の変化が大きく、さら
に特に６０℃９０％ＲＨ保管後及び５℃２０％ＲＨ環境
下において摩擦係数が高く、特に比較例４では、測定し
ようとしたが張り付きが発生した。比較例４〜６は、DO
数も大きく、本発明の改質炭素質粉粒体を使用した実施
例に比較して走行、耐久性が劣っている。

【０１１７】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、磁性層に特異
な表面特性を有した改質炭素質粉粒体を含有させるため
に、全厚、そしてバック層共に薄くした形態に拘らず、
優れた電磁変換特性を維持した状態で、繰り返し走行に
よる摩擦係数の上昇も少なく、５℃２０％RHの環境下で
も繰り返し走行による摩擦係数の上昇も少なく、また６
０℃９０％ＲＨで保存した場合でも繰り返し走行による
摩擦係数の増加がなく良好な走行耐久性を備えている。
ドロップアウトが少ないので、データの記録、読み出し
に対する信頼性が高く、さらに劣悪な環境で保存されて
もデ−タ−の再生に関して信頼性が優れている。従って
本発明の磁気記録媒体は、コンピュータデータ記録用の
磁気テープとして特に有利に用いることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 5/70 Ｇ１１Ｂ 5/70 Ｆターム(参考） 4J037 AA01 AA02 CA05 CC00 DD05 DD12 EE02 EE44 EE47 FF11 FF17 FF18 4J038 CA001 CA021 CB021 CC031 CD031 CD081 CE021 CE051 CE061 CE071 CF031 CG031 CG071 CG141 CG161 DA021 DA061 DA161 DB001 DD001 DG001 DH001 DL001 HA026 HA036 HA066 HA166 KA08 KA14 NA11 NA22 PB11 PC08 5D006 BA10 BA19 FA02 FA05 FA09

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に少なくとも強磁性粉末と結合
   剤を含む磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記磁
   性層は、炭素質粉粒体の表面をフッ素含有ガスで処理を
   施した後、水蒸気含有ガスで処理してなる改質炭素質粉
   粒体を含有することを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記改質炭素質粉粒体は、水に対する浸
   漬熱が９０〜１４０ｍＪ／ｍ²である炭素質粉粒体を含
   有することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒
   体。
3. 【請求項３】 前記改質炭素質粉粒体は平均粒子サイズ
   が、１〜２００ｎｍであり、且つ前記改質炭素質粉粒体
   は強磁性粉末に対し、０．０５〜１０重量％添加するこ
   とを特徴とする請求項１または請求項２に記載の磁気記
   録媒体。
4. 【請求項４】 前記改質炭素質粉粒体は平均粒子サイズ
   が、３〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜
   ３のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記支持体と前記磁性層の間に非磁性粉
   末と結合材樹脂を主体とする非磁性層を設け、前記磁性
   層の厚みが０．０５〜０．５μｍであり、且つ前記磁性
   層の表面粗さが3D-MIRAU法による中心面平均表面粗さ
   で、１．０〜３．０ｎｍであることを特徴とする請求項
   １〜４の何れか1項に記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 該磁性層の抗磁力が１．４３×１０⁵Ａ
   ／ｍ以上であり、前記磁性層の磁化量φm(飽和磁束密度
   ×磁性層厚み/4π)が４π（１．０〜８．０）×１０^-7
   Ｗｂ／ｍ²）であることを特徴とする請求項１〜５の何
   れか１項に記載の磁磁気記録媒体。