JP2001083315A - Light-shielding thin film and resin black matrix using the same - Google Patents
Light-shielding thin film and resin black matrix using the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、高抵抗黒色被覆膜
組成物、特に樹脂ブラックマトリックス用組成物、およ
び該ブラックマトリックス使用の液晶表示装置用カラー
フィルターおよびかかるカラーフィルターを有する液晶
表示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-resistance black coating film composition, particularly a composition for a resin black matrix, a color filter for a liquid crystal display device using the black matrix, and a liquid crystal display device having such a color filter. .
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶表示装置は、液晶の電気光学応答を
用いることにより、画像や文字の表示や、情報処理など
に用いられるものであり、具体的には、パソコン、ワー
ドプロセッサー、ナビゲーションシステム、液晶テレ
ビ、ビデオなどの表示画面や、液晶プロジェクター、液
晶空間変調素子などに用いられる。2. Description of the Related Art A liquid crystal display device is used for displaying images and characters and for information processing by using the electro-optical response of a liquid crystal. Specifically, a personal computer, a word processor, a navigation system, a liquid crystal display, and the like. It is used for display screens such as televisions and videos, liquid crystal projectors, liquid crystal spatial modulation devices, and the like.
【０００３】液晶表示において、画素間、あるいは駆動
回路部分など光の透過を防止することが望ましい部分に
は遮光膜としてブラックマトリックスが必要となる。遮
光膜の材質としては、クロム、ニッケル、アルミニウム
等の消衰係数の大きな素材が採用されている。これらの
金属を用いた遮光膜の製膜方法としては、蒸着法、スパ
ッタ法、真空製膜が一般的であり、該遮光膜のパターン
化は、フォトリソグラフィー法によって行われる。In a liquid crystal display, a black matrix is required as a light-shielding film between pixels or in a portion where light transmission is desired, such as a driving circuit portion. As the material of the light-shielding film, a material having a large extinction coefficient such as chromium, nickel, and aluminum is used. As a method of forming a light-shielding film using these metals, a vapor deposition method, a sputtering method, and a vacuum film-forming method are generally used, and the light-shielding film is patterned by a photolithography method.
【０００４】一方、金属以外の遮光材としてはカーボン
ブラックが利用されており、特開平９−１５４０３号公
報に示されるごとく、樹脂とカーボンブラックからなる
組成物を適当な溶剤に分散してペーストを作成し、該ペ
ーストを液晶基板に塗布することによってブラックマト
リックスが形成される。この場合においても遮光膜のパ
ターン化は上述のフォトリソグラフィーと同様の方法に
よって行われる。該ブラックマトリックスはペースト塗
布法で成膜されること、反射率の低いカーボンブラック
を遮光材としていること、からプロセス上に低コストが
図れるとともに、金属遮光材と比較して反射率を低減で
きること等の特長を有する。On the other hand, as a light-shielding material other than metal, carbon black is used. As shown in JP-A-9-15403, a composition comprising a resin and carbon black is dispersed in an appropriate solvent to form a paste. A black matrix is formed by preparing and applying the paste to a liquid crystal substrate. Also in this case, the patterning of the light-shielding film is performed by a method similar to the above-described photolithography. The black matrix is formed by a paste coating method, and carbon black having a low reflectance is used as a light shielding material, so that the cost can be reduced in the process and the reflectance can be reduced as compared with a metal light shielding material. It has the features of
【０００５】最近、広い視野角が得られる液晶表示方式
として特開平７−１５９７８６号公報にあるようなイン
プレーンスイッチング（ＩＰＳ）方式と呼ばれる方式が
注目されている。本方式では、液晶分子を電極基板に並
行に配向させるとともに、一方の基板上にのみ櫛形状の
電極を対向させて形成し、対向電極間に電界を加え、す
なわち液晶層面内方向に電界を加えて液晶を層面内で回
転さることによって透過光量を調節する。Recently, a method called an in-plane switching (IPS) method as disclosed in JP-A-7-159786 has been attracting attention as a liquid crystal display method capable of obtaining a wide viewing angle. In this method, liquid crystal molecules are aligned in parallel with the electrode substrate, and a comb-shaped electrode is formed only on one of the substrates so as to be opposed, and an electric field is applied between the opposed electrodes, that is, an electric field is applied in the in-plane direction of the liquid crystal layer. The amount of transmitted light is adjusted by rotating the liquid crystal within the layer plane.
【０００６】しかし、電界が液晶層面内方向にかかる上
記ＩＰＳ方式では対向基板のブラックマトリックスの電
気抵抗が低いと、電界が正常に印加されず、そのために
液晶配向に乱れが発生して表示ムラの原因となるという
問題が生じる。However, in the IPS system in which the electric field is applied in the in-plane direction of the liquid crystal layer, if the electric resistance of the black matrix of the opposing substrate is low, the electric field is not applied normally, and the alignment of the liquid crystal is disturbed. There is a problem of causing.
【０００７】従来からブラックマトリックス用遮蔽剤と
して知られているカーボンブラックは遮光性は高いもの
の、電気抵抗が低いため高抵抗化には適していない。カ
ーボブラックの組成比率を減少させることによって高抵
抗化を図ることは可能であるが、その際には高い遮光性
を保てないという課題がある。[0007] Carbon black, which has hitherto been known as a black matrix shielding agent, has high light-shielding properties, but is not suitable for increasing the resistance because of its low electric resistance. Although it is possible to increase the resistance by reducing the composition ratio of carboblack, there is a problem that high light-shielding properties cannot be maintained.
【０００８】高い電気抵抗を有する遮蔽剤の一つとして
としては、酸化チタン（ＴｉｘＯｙ、一般にｘ／ｙは１
／２より大）が知られている（特開昭６４−２６８２０
号公報など）。また、遮光特性がより優れたものとし
て、チタン酸窒化物を用いた高抵抗遮蔽膜が公知である
（特開平１−１４１９６３号公報）。As one of the shielding agents having high electric resistance, titanium oxide (TixOy, generally, x / y is 1
/ 2) is known (JP-A-64-26820).
Issue publication). Further, a high-resistance shielding film using a titanium oxynitride is known as having better light-shielding properties (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-141963).
【０００９】しかし、上記チタン化合物（ＴｉＮｘＯ
ｙ、ここで０≦ｘ＜１．４、０．１＜ｙ＜２．０、以下
これをチタンブラックと呼ぶ）の電気抵抗はいずれも、
電気的には半導体領域の体積抵抗であり、１〜１０Ω・
cm程度であるため、遮光性を高めようとしてチタン微粒
子の濃度を増やすと、電気抵抗が下がってしまうという
問題がある。However, the above titanium compound (TiNxO)
y, where 0 ≦ x <1.4, 0.1 <y <2.0, hereinafter referred to as titanium black).
Electrically, the volume resistance of the semiconductor region is 1 to 10Ω ·
Since it is about cm, there is a problem that when the concentration of the titanium fine particles is increased in order to enhance the light-shielding property, the electric resistance decreases.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる問題
に鑑み、遮光剤として表面が絶縁性膜に被覆されたチタ
ンブラックを用いることによって、遮光性薄膜の高遮光
性を保ちながら電気抵抗を高めることを可能とする。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, the present invention uses titanium black coated on an insulating film as a light-shielding agent to reduce the electric resistance while maintaining a high light-shielding property of the light-shielding thin film. It is possible to increase.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は次の構成を有する。 （１）絶縁性膜で表面が被覆されたチタンブラックＴｉ
ＮｘＯｙ（ただし、０≦ｘ＜１．５、０．１＜ｙ＜２．
０）粒子と樹脂とを含む遮光性薄膜において、該遮光性
薄膜の光学濃度（ＯＤ値）が２．５以上で、電気抵抗が
１０11Ω・ｃｍ以上である遮光性薄膜。To solve the above problems, the present invention has the following arrangement. (1) Titanium black Ti whose surface is coated with an insulating film
NxOy (provided that 0 ≦ x <1.5, 0.1 <y <2.
0) A light-shielding thin film containing particles and a resin, wherein the light-shielding thin film has an optical density (OD value) of 2.5 or more and an electric resistance of 10 11 Ω · cm or more.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】本発明で使用される絶縁体被膜チ
タンブラックは、まずチタンブラックを作製し、微粉末
化した後、金属化合物を用いて被覆される。チタンブラ
ックの作製方法としては、二酸化チタンと金属チタンの
混合体を還元雰囲気で加熱し還元させる方法（特開昭４
９−５４３２号公報）、 四塩化チタンの高温加水分解
で得られた超微細二酸化チタンを水素を含む還元雰囲気
中で還元する方法（特開昭５７−２０５３２２号公
報）、二酸化チタンまたは水酸化チタンをアンモニア存
在下で高温還元する方法（特開昭６０−６５０６９号公
報、特開昭６１−２０１６１０号公報）、二酸化チタン
または水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、ア
ンモニア存在下で高温還元する方法（特開昭６１−２０
１６１０号公報）、などがあるがこれらに限定されるも
のではない。これらのチタンブラック粒子表面への絶縁
被膜の形成方法としては、上記の方法で得られたチタン
ブラックを例えばシリコンテトラエトキシドのエチルア
ルコール溶液中で処理することによって得る方法（特開
平８−５９２４０号公報）などが知られているが、被覆
が可能な方法であればいずれでも良い。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The insulator-coated titanium black used in the present invention is prepared by first preparing titanium black, pulverizing the black, and coating with a metal compound. As a method for producing titanium black, a method in which a mixture of titanium dioxide and metallic titanium is reduced by heating in a reducing atmosphere (Japanese Patent Laid-Open No.
9-5432), a method of reducing ultrafine titanium dioxide obtained by high-temperature hydrolysis of titanium tetrachloride in a reducing atmosphere containing hydrogen (JP-A-57-205322), titanium dioxide or titanium hydroxide. (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 60-65069 and 61-201610), a method in which a vanadium compound is attached to titanium dioxide or titanium hydroxide, and high-temperature reduction is performed in the presence of ammonia. (JP-A-61-20
No. 1610), but are not limited thereto. As a method of forming an insulating film on the surface of these titanium black particles, a method of treating the titanium black obtained by the above method in, for example, an ethyl alcohol solution of silicon tetraethoxide (JP-A-8-59240) Publication) is known, but any method may be used as long as coating is possible.
【００１３】また、このようなチタンブラック微粒子を
用いた遮光性薄膜は表面粗度の小さいものが得られる。
表面粗度とは、表面凹凸の度合いを表すものであり、表
面凹凸の測定器、例えば（株）東京精密製「サーフコム
１５００Ａ」により測定することができる。表面粗度が
低くなると表面の凹凸による液晶の配向乱れが少なくな
るので、液晶表示用ブラックマトリックスとして該遮光
性薄膜を使用する場合にはより好ましく用いられる。本
発明では遮光性薄膜は表面粗度０．０１μｍ以下とな
り、従来のチタンブラック使用と比べて２０％程度表面
粗度を小さくすることができる。これは、絶縁性被覆層
により、ペーストでの分散性が向上し２次粒子の形成が
抑制されるためと考えられる。Further, a light-shielding thin film using such titanium black fine particles can have a small surface roughness.
The surface roughness indicates the degree of surface unevenness, and can be measured by a surface unevenness measuring device, for example, “Surfcom 1500A” manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. When the surface roughness is low, the disorder of the alignment of the liquid crystal due to the unevenness of the surface is reduced. In the present invention, the light-shielding thin film has a surface roughness of 0.01 μm or less, and the surface roughness can be reduced by about 20% as compared with the conventional titanium black. This is probably because the insulating coating layer improves the dispersibility in the paste and suppresses the formation of secondary particles.
【００１４】なお、チタンブラックはＸ線解析の結果、
Ｘ線回折強度をもとにした下式（１）のＸ線強度比Ｒが
高いものほど高い遮光性を持つことがわかった。すなわ
ち、Ｒが０．２４以上、好ましくは０．２８以上、より
好ましくは０．３０以上のチタンブラックが良好な遮光
性薄膜として用いられる。 Ｒ＝Ｉ3／ ｛Ｉ3 ＋１．８×（Ｉ1＋１．８×Ｉ2）｝ （１） ここで、Ｘ線強度比Ｒは以下の方法で求められる。すな
わち、チタン酸窒化物のＸ線回折スペクトルを通常のＸ
線回折装置を用いて、ＣｕＫα線をＸ線源として測定す
る。回折角２θが２５°〜２６°での最大回折線強度を
Ｉ1、２７°〜２８°での最大回折線強度をＩ2、３７°
の付近での最大回折線強度をＩ3とした場合に、式
（１）から求められる。なお、回折線強度とは回折線の
ピーク位置におけるＸ線回折強度である。[0014] Titanium black was analyzed by X-ray analysis.
It was found that the higher the X-ray intensity ratio R in the following formula (1) based on the X-ray diffraction intensity, the higher the light shielding property. That is, titanium black having an R of 0.24 or more, preferably 0.28 or more, more preferably 0.30 or more is used as a good light-shielding thin film. R = I 3 / {I 3 + 1.8 × (I 1 + 1.8 × I 2 )} (1) Here, the X-ray intensity ratio R is obtained by the following method. That is, the X-ray diffraction spectrum of titanium oxynitride
Measurement is performed using a CuKα ray as an X-ray source using a line diffraction apparatus. The maximum diffraction line intensity at a diffraction angle 2θ of 25 ° to 26 ° is I 1 , and the maximum diffraction line intensity at 27 ° to 28 ° is I 2 , 37 °
When the maximum diffraction line intensity in the vicinity of is represented by I 3 , it can be obtained from Expression (1). The diffraction line intensity is the X-ray diffraction intensity at the peak position of the diffraction line.
【００１５】遮光性薄膜の体積電気抵抗（ρ）は遮光性
薄膜（電極断面積（Ｓ）、電極間隔（ｄ））に電圧
（Ｖ）を印加し、流れた電流（Ｉ）から、オーム則を用
いて求められる。 ρ ＝ （Ｖ／Ｉ）・（ｄ／Ｓ） （２） 一方、遮光性の指標となる光学濃度ＯＤ(optical densi
ty)値は顕微分光器（大塚電子製MCPD2000）を用いて下
記の関係式より求めた。 ＯＤ値 ＝ log10 （Ｉ0／Ｉ） （３） ここでＩ0 は入射光強度、Ｉは透過光強度である。The volume electric resistance (ρ) of the light-shielding thin film is determined by applying the voltage (V) to the light-shielding thin film (electrode cross-sectional area (S), electrode interval (d)) and flowing current (I) from Ohm's law Is determined using ρ = (V / I) · (d / S) (2) On the other hand, an optical density OD (optical densi
The ty) value was determined from the following relational expression using a microspectroscope (MCPD2000 manufactured by Otsuka Electronics). OD value = log 10 (I 0 / I) (3) where I 0 is the incident light intensity and I is the transmitted light intensity.
【００１６】本発明に使用されるチタンブラックの一次
粒子径は１００ｎｍ以下、より好ましくは６０ｎｍ以下
が好ましい。一次粒子径は、電子顕微鏡による算術平均
により求めることができる。The primary particle size of the titanium black used in the present invention is preferably 100 nm or less, more preferably 60 nm or less. The primary particle diameter can be determined by arithmetic mean with an electron microscope.
【００１７】本発明においてチタンブラック／ポリマー
樹脂の重量組成比は、９０／１０〜４０／６０の範囲が
高抵抗かつ高いＯＤ値を有する上で好ましい。重量比率
が９０／１０以上となると、チタンブラックが多すぎる
ため遮光性薄膜の電気抵抗が低下する。また、４０／６
０以下となるとＯＤ値が急激に低下する。ただし、ブラ
ックマトリックスの色度調整等のために、電気抵抗やＯ
Ｄ値が低下しない範囲でチタンブラックの一部を他の顔
料に代えることも可能である。In the present invention, the weight composition ratio of titanium black / polymer resin is preferably in the range of 90/10 to 40/60 in terms of high resistance and high OD value. If the weight ratio is 90/10 or more, the electrical resistance of the light-shielding thin film is reduced due to too much titanium black. Also, 40/6
When it becomes 0 or less, the OD value sharply decreases. However, the electric resistance and O
Part of titanium black can be replaced with another pigment as long as the D value does not decrease.
【００１８】本発明の樹脂ブラックマトリックスに用ら
れる樹脂としては、エポキシ樹脂、アクリルエポキシ樹
脂、アクリル樹脂、シロキサンポリマ系樹脂、ポリイミ
ド樹脂、ケイ素含有ポリイミド樹脂、ポリイミドシロキ
サン樹脂、ポリマレイミド樹脂等が挙げられるが、特に
ポリイミド樹脂が好ましく用いられる。中でも、ケイ素
含有ポリイミド樹脂、ポリイミドシロキサン樹脂、ポリ
マレイミド樹脂等のポリイミド系樹脂であることが好ま
しい。これらの樹脂の前駆体樹脂とチタンブラックから
製造される塗液から得られたブラックマトリックスは平
坦性、塗布性、耐熱性の点ですぐれている。Examples of the resin used in the resin black matrix of the present invention include epoxy resin, acrylic epoxy resin, acrylic resin, siloxane polymer resin, polyimide resin, silicon-containing polyimide resin, polyimide siloxane resin, and polymaleimide resin. However, a polyimide resin is particularly preferably used. Among them, a polyimide resin such as a silicon-containing polyimide resin, a polyimidesiloxane resin, and a polymaleimide resin is preferable. A black matrix obtained from a coating liquid produced from a precursor resin of these resins and titanium black is excellent in terms of flatness, coatability and heat resistance.
【００１９】ポリイミド系高分子膜は例えば、前駆体と
してのポリアミック酸を加熱閉環イミド化することによ
って形成される。ポリアミック酸は、通常一般式（１）
で表される構造単位を主成分とする。The polyimide-based polymer film is formed, for example, by subjecting a polyamic acid as a precursor to heat ring-closure imidization. The polyamic acid generally has the general formula (1)
The main component is a structural unit represented by
【００２０】[0020]
【化１】 Embedded image
【００２１】ここで一般式（１）のｎは０あるいは１〜
４の数である。Ｒ1は酸成分残基であり、Ｒ1は少なくと
も２個の炭素原子を有する３価または４価の有機基を示
す。耐熱性の面から、Ｒ1は環状炭化水素、芳香族環ま
たは芳香族複素環を含有し、かつ炭素数６から３０の３
価または４価の基が好ましい。Ｒ1の例として、フェニ
ル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフタレン基、
ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェニルスルフ
ォン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェノン基、ビ
フェニルトリフルオロプロパン基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基などから誘導された基が挙げられるがこ
れらに限定されるものではない。Here, n in the general formula (1) is 0 or 1 to 1.
Number 4 R 1 is an acid component residue, and R 1 is a trivalent or tetravalent organic group having at least two carbon atoms. From the viewpoint of heat resistance, R 1 contains a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocyclic ring and has 3 to 30 carbon atoms.
A valent or tetravalent group is preferred. Examples of R 1 include a phenyl group, a biphenyl group, a terphenyl group, a naphthalene group,
Examples include, but are not limited to, groups derived from a perylene group, diphenyl ether group, diphenylsulfone group, diphenylpropane group, benzophenone group, biphenyltrifluoropropane group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, and the like.
【００２２】Ｒ2は少なくなくとも２個の炭素原子を有
する２価の有機基を示す。耐熱性の面から、Ｒ2は環状
炭化水素、芳香族環または芳香族複素環を含有し、かつ
炭素数６から３０の２価の基が好ましい。Ｒ2の例とし
て、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフ
タレン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェ
ニルスルフォン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェ
ノン基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、ジフェニ
ルメタン基、シクロヘキシルメタン基などから誘導され
た基が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
一般式（１）で表される構造単位を主成分とするポリマ
ーはＲ1、Ｒ2がこれらの内各々１個から構成されていて
も良いし、各々２種以上から構成される共重合体であっ
ても良い。R 2 represents a divalent organic group having at least two carbon atoms. From the viewpoint of heat resistance, R 2 is preferably a divalent group containing a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocyclic ring and having 6 to 30 carbon atoms. Examples of R 2 include phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, perylene, diphenylether, diphenylsulfone, diphenylpropane, benzophenone, biphenyltrifluoropropane, diphenylmethane, cyclohexylmethane, and the like. Derived groups include, but are not limited to.
In the polymer having the structural unit represented by the general formula (1) as a main component, R 1 and R 2 may each be composed of one of these, or a copolymer composed of two or more of each. It may be.
【００２３】一般に樹脂ブラックマトリックスの塗液は
基板上に、ディップ法、ロールコータ法、スピナー法、
ダイコーティング法、ワイヤーバーによる方法などによ
って塗布され、この後、オーブンやホットプレートを用
いて加熱乾燥および硬化を行う。加熱条件は、使用する
樹脂、溶媒、塗布量により異なるが、通常５０〜４００
℃で、１〜３００分加熱することが好ましい。Generally, a coating liquid of a resin black matrix is applied onto a substrate by dipping, roll coating, spinner, or the like.
It is applied by a die coating method, a method using a wire bar, or the like, and thereafter, is heated and dried and cured using an oven or a hot plate. The heating conditions vary depending on the resin used, the solvent and the amount of application, but are usually 50 to 400.
It is preferable to heat at a temperature of 1 to 300 minutes.
【００２４】こうして得られた塗布膜は、通常、フォト
リソグラフィーなどの方法を用いてパターン加工され
る。すなわち、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、そ
の上にフォトレジストの被膜を形成した後に、また、樹
脂が感光性の樹脂である場合は、そのままかあるいは酸
素遮断膜を形成した後に露光現像を行い所望のパターン
にする。また、必要に応じて、フォトレジストまたは酸
素遮断膜を除去した後、加熱し硬化させる。熱硬化条件
は、樹脂により異なるが、前駆体からポリイミド系樹脂
を得る場合には、通常２００〜３５０℃で１〜６０分加
熱するのが一般的である。The coating film thus obtained is usually subjected to pattern processing using a method such as photolithography. That is, when the resin is a non-photosensitive resin, a photoresist film is formed thereon, and when the resin is a photosensitive resin, it is exposed as it is or after forming an oxygen barrier film. Develop to form the desired pattern. Further, if necessary, the photoresist or the oxygen barrier film is removed, and then the substrate is heated and cured. The thermosetting conditions differ depending on the resin, but when a polyimide resin is obtained from the precursor, it is generally heated at 200 to 350 ° C. for 1 to 60 minutes.
【００２５】以下に本発明に用いられるポリイミド樹脂
膜の形成方法について述べる。該ポリイミド樹脂膜は前
駆体としてのポリアミック酸溶液（ペースト）を基板上
に塗布することによって作製される。本発明における前
駆体としてのポリアミック酸は、上記（１）で表される
構造単位を主成分とする。遮光剤が分散されたポリアミ
ック酸膜を湿式エッチングによりパターン加工を行う場
合、前駆体の分子量が大き過ぎると、現像に要する時間
が長くなり過ぎるという問題がある。このため通常重合
度は、５から１０００の範囲にすることが望ましい。The method for forming the polyimide resin film used in the present invention will be described below. The polyimide resin film is produced by applying a polyamic acid solution (paste) as a precursor on a substrate. The polyamic acid as a precursor in the present invention has a structural unit represented by the above (1) as a main component. When pattern processing is performed on a polyamic acid film in which a light-shielding agent is dispersed by wet etching, if the molecular weight of the precursor is too large, there is a problem that the time required for development becomes too long. For this reason, it is usually desirable that the polymerization degree is in the range of 5 to 1,000.
【００２６】次に、上記の顔料分散されたポリアミック
酸膜を、化学処理または加熱処理し，イミド環やその他
の環状構造を有するポリマ（ポリイミド、ポリアミドイ
ミド）となすことにより顔料分散ポリイミド膜が得られ
る。このほか、ポリアミック酸エステルなどからポリイ
ミド膜を得ることもできる。Next, the above pigment-dispersed polyamic acid film is subjected to a chemical treatment or a heat treatment to form a polymer (polyimide, polyamideimide) having an imide ring or another cyclic structure, thereby obtaining a pigment-dispersed polyimide film. Can be In addition, a polyimide film can be obtained from a polyamic acid ester or the like.
【００２７】こうして得られる樹脂ブラックマトリック
スは、波長４３０〜６４０ｎｍの可視光域において光学
濃度が２．５以上であることが好ましい。より好ましく
は３．５以上、さらに好ましくは４．０以上である。光
学濃度が２．５以下である場合、液晶駆動時の表示のコ
ントラストが低下し、表示品位が著しく低下する。ブラ
ックマトリックスにより十分に遮光されず、液晶表示装
置内に形成された薄膜トランジスター等に光が入射した
場合、薄膜トランジスタの誤動作を生じる場合がある。
一方、インプレーン・スイッチング液晶表示素子におい
てはムラのない均一な表示には樹脂ブラックマトリック
スの電気抵抗が１０9Ω・ｃｍ以上が必要であるが（Int
ernational Display Workshop ’９７，ｐ１６７）、さ
らなる表示品質の向上には１０11Ω・ｃｍとすることが
望ましい。チタンブラックの重量組成比が増加するにし
たがって電気抵抗は低下するので高抵抗を保つためには
重量組成比としては８０／１０以下とする必要がある。The thus obtained resin black matrix preferably has an optical density of 2.5 or more in a visible light region having a wavelength of 430 to 640 nm. It is more preferably at least 3.5, even more preferably at least 4.0. When the optical density is 2.5 or less, the contrast of display at the time of driving the liquid crystal is reduced, and the display quality is significantly reduced. When light is not sufficiently shielded by the black matrix and light enters a thin film transistor or the like formed in the liquid crystal display device, a malfunction of the thin film transistor may occur.
On the other hand, in the in-plane switching liquid crystal display element, the electric resistance of the resin black matrix is required to be 10 9 Ω · cm or more for uniform display without unevenness (Int).
(International Display Workshop '97, p. 167) In order to further improve the display quality, it is desirable to set it to 10 11 Ω · cm. As the weight composition ratio of titanium black increases, the electric resistance decreases. Therefore, in order to maintain high resistance, the weight composition ratio needs to be 80/10 or less.
【００２８】樹脂ブラックマトリックスの膜厚として
は、０．３μｍから２μｍ、より好ましくは、０．５〜
１．５μｍ、さらに好ましくは０．７〜１．３μｍであ
る。ブラックマトリックスと画素間との段差を小さくす
るため、樹脂ブラックマトリックスの厚みは２μm以下
が好ましい。また、パターン形成、光学濃度の確保の点
から、０．３μm以上であることが好ましい。The thickness of the resin black matrix is from 0.3 μm to 2 μm, more preferably from 0.5 to 2 μm.
It is 1.5 μm, and more preferably 0.7 to 1.3 μm. In order to reduce the step between the black matrix and the pixel, the thickness of the resin black matrix is preferably 2 μm or less. The thickness is preferably 0.3 μm or more from the viewpoint of pattern formation and securing of optical density.
【００２９】本発明の遮光膜を液晶表示装置用カラーフ
ィルターに用いる場合、通常の製造工程としては、例え
ば特公平２−１３１１号公報に示されているように、ま
ず透明基板上にブラックマトリクス、次いで赤（Ｒ）、
緑（Ｇ）、青（Ｂ）の色選択性を有する画素を形成せし
め、この上に必要に応じてオーバーコート膜を形成させ
るものである。When the light-shielding film of the present invention is used for a color filter for a liquid crystal display device, as a usual manufacturing process, as shown in Japanese Patent Publication No. 2-1311, for example, a black matrix is first formed on a transparent substrate. Then red (R),
Pixels having green (G) and blue (B) color selectivity are formed, and an overcoat film is formed thereon as necessary.
【００３０】なお、画素の具体的な材質としては、任意
の光のみを透過するように膜厚制御された無機膜や、染
色、染料分散あるいは顔料分散された着色樹脂膜などが
ある。Specific examples of the material of the pixel include an inorganic film whose film thickness is controlled to transmit only arbitrary light, and a colored resin film in which dyeing, dye dispersion, or pigment dispersion is performed.
【００３１】本発明での画素に用いられる顔料には特に
制限はないが、耐光性、耐熱性、耐薬品性に優れた物が
望ましい。代表的な顔料の具体的な例をカラーインデッ
クス（ＣＩ）ナンバーで示す。黄色顔料の例としてはピ
グメントイエロー２０、２４、８３、８６、９３、９
４、１０９、１１０、１１７、１２５、１３７、１３
８、１３９、１４７、１４８、１５３、１５４、１６
６、１７３などがあげられる。橙色顔料の例としてはピ
グメントオレンジ１３、３１、３６、３８、４０、４
２、４３、５１、５５、５９、６１、６４、６５などが
挙げられる。赤色顔料の例としてはピグメントレッド
９、９７、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、
１６８、１７７、１９０、１９２、２１５、２１６、２
２４などが挙げられる。紫色顔料の例としてはピグメン
トバイオレット１９、２３、２９、３２、３３、３６、
３７、３８などが挙げられる。青色顔料の例としてはピ
グメントブルー１５（１５：３、１５：４、１５：６な
ど）、２１，２２、６０、６４などが挙げられる。緑色
顔料の例としてはピグメントグリーン７、１０、３６、
４７などが挙げられる。なお、顔料は必要に応じて、ロ
ジン処理，酸性基処理，塩基性基処理などの表面処理が
施されている物を使用してもよい。また、樹脂ブラック
マトリックスの密着力を向上させるために、必要に応じ
て顔料表面を樹脂で被覆したものを用いてもよい。The pigment used for the pixel in the present invention is not particularly limited, but a pigment excellent in light resistance, heat resistance and chemical resistance is desirable. Specific examples of typical pigments are indicated by color index (CI) numbers. Examples of yellow pigments include Pigment Yellow 20, 24, 83, 86, 93, 9
4, 109, 110, 117, 125, 137, 13
8, 139, 147, 148, 153, 154, 16
6, 173 and the like. Pigment oranges 13, 31, 36, 38, 40, 4 are examples of orange pigments.
2, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65 and the like. Examples of red pigments include Pigment Red 9, 97, 122, 123, 144, 149, 166,
168, 177, 190, 192, 215, 216, 2
24 and the like. Examples of violet pigments include Pigment Violet 19, 23, 29, 32, 33, 36,
37, 38 and the like. Examples of blue pigments include Pigment Blue 15 (15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), 21, 22, 60, 64, and the like. Examples of green pigments include Pigment Green 7, 10, 36,
47 and the like. If necessary, pigments that have been subjected to a surface treatment such as rosin treatment, acidic group treatment, or basic group treatment may be used. In order to improve the adhesion of the resin black matrix, a pigment whose pigment surface is coated with a resin may be used as necessary.
【００３２】着色樹脂膜として用いられる樹脂に特に制
限は無く、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ
アミド、ポリイミドなどを使用することができる。製造
プロセスの簡便さや、耐熱性、耐光性などの面から画素
としては顔料分散された樹脂膜を用いることが好まし
い。パターン形成の容易さの点からは顔料分散された感
光性のアクリル樹脂を用いることが好ましい。しかし、
耐熱性、耐薬品性の面からは、顔料分散されたポリイミ
ド膜を用いることが好ましい。The resin used as the colored resin film is not particularly limited, and acrylic resin, polyvinyl alcohol, polyamide, polyimide and the like can be used. It is preferable to use a pigment-dispersed resin film for the pixel in terms of simplicity of the manufacturing process, heat resistance, light resistance, and the like. From the viewpoint of ease of pattern formation, it is preferable to use a photosensitive acrylic resin in which a pigment is dispersed. But,
From the viewpoint of heat resistance and chemical resistance, it is preferable to use a polyimide film in which a pigment is dispersed.
【００３３】液晶表示装置用基板カラーフィルターで
は、画素間に該遮光膜からなるブラックマトリクスを配
置される。ブラックマトリクスの配置により、液晶表示
装置のコントラストを向上させることができることに加
え、光による液晶表示装置の駆動素子の誤動作を防止す
ることができる。In a liquid crystal display substrate color filter, a black matrix made of the light-shielding film is arranged between pixels. With the arrangement of the black matrix, the contrast of the liquid crystal display device can be improved, and malfunction of a driving element of the liquid crystal display device due to light can be prevented.
【００３４】本発明の液晶表示装置用基板上に固定され
たスペーサーを形成してもよい。固定されたスペーサー
とは、特開平４−３１８８１６号公報に示されるように
液晶表示装置用基板の特定の場所に固定され、液晶表示
装置を作製した際に対向基板と接するものである。これ
により対向基板との間に、一定のギャップが保持され
る。このギャップに、液晶が注入される。固定されたス
ペーサーを配することにより、液晶表示装置の製造工程
において球状スペーサーを散布する工程や、シール剤内
にロッド状のスペーサーを混練りする工程を省略するこ
とができる。A fixed spacer may be formed on the liquid crystal display device substrate of the present invention. The fixed spacer is fixed at a specific position on the substrate for a liquid crystal display device as shown in JP-A-4-318816, and comes into contact with the opposite substrate when the liquid crystal display device is manufactured. As a result, a certain gap is maintained with the counter substrate. Liquid crystal is injected into this gap. By disposing the fixed spacers, it is possible to omit the step of spraying the spherical spacers and the step of kneading the rod-shaped spacers in the sealant in the manufacturing process of the liquid crystal display device.
【００３５】固定されたスペーサーの形成は、フォトリ
ソグラフィーや印刷、電着などの方法によって行われ
る。スペーサーを容易に設計通りの位置に形成できるの
で、フォトリソグラフィーによって形成することが好ま
しい。The fixed spacer is formed by a method such as photolithography, printing, or electrodeposition. Since the spacer can be easily formed at a designed position, it is preferable to form the spacer by photolithography.
【００３６】本発明においては、基板上に樹脂ブラック
マトリックスを形成した後又は画素を形成した後又は固
定されたスペーサーを配した後に、オーバーコート膜を
形成してなるカラーフィルターであることがより好まし
い。In the present invention, it is more preferable that the color filter is formed by forming an overcoat film after forming a resin black matrix, forming pixels, or disposing fixed spacers on a substrate. .
【００３７】加熱硬化後の該オーバーコートの厚みは、
凹凸のある基板上に塗布された場合、オーバーコート剤
のレベリング性により、凹部（周囲より低い部分）では
厚く、凸部（周囲より高い部分）では薄くなる傾向があ
る。本発明においてのオーバーコートの厚みには、特に
制限がないが、０．０１〜５μm、好ましくは０．０３
〜４μm、さらに好ましくは０．０４〜３μmである。The thickness of the overcoat after heat curing is as follows:
When applied on a substrate having irregularities, the overcoating agent tends to be thicker at the concave portion (portion lower than the periphery) and thinner at the convex portion (portion higher than the periphery) due to the leveling property of the overcoat agent. The thickness of the overcoat in the present invention is not particularly limited, but is 0.01 to 5 μm, preferably 0.03 μm.
To 4 μm, and more preferably 0.04 to 3 μm.
【００３８】[0038]
【実施例】以下、本発明を実施例に基づき、さらに具体
的に説明する。もっとも、本発明は下記実施例に限定さ
れるものではない。EXAMPLES The present invention will be described below more specifically based on examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
【００３９】実施例１ γ−ブチロラクトン（３８２５ｇ）溶媒中で、ピロメリ
ット酸二無水物（１４９．６ｇ）、ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物（２２５．５ｇ）、３，３′−ジ
アミノジフェニルスルフォン（６９．５ｇ）、４，４´
−ジアミノジフェニルエーテル（２１０．２ｇ）、ビス
−３−（アミノプロピル）テトラメチルシロキサン（１
７．４ｇ）を６０℃、３時間反応させた後、無水マレイ
ン酸（２．２５ｇ）を添加し、更に６０℃１時間反応さ
せることによって、前駆体であるポリアミック酸溶液
（ポリマー濃度１５重量％）を得た。Example 1 In a solvent of γ-butyrolactone (3825 g), pyromellitic dianhydride (149.6 g), benzophenonetetracarboxylic dianhydride (225.5 g), 3,3′-diaminodiphenyl sulfone ( 69.5 g), 4,4 '
-Diaminodiphenyl ether (210.2 g), bis-3- (aminopropyl) tetramethylsiloxane (1
After reacting 7.4 g) at 60 ° C. for 3 hours, maleic anhydride (2.25 g) was added and further reacted at 60 ° C. for 1 hour to obtain a precursor polyamic acid solution (polymer concentration 15% by weight). ) Got.
【００４０】酸化シリコンで表面を被覆したチタンブラ
ック粒子１１．２ｇ、前記のポリマー濃度１５重量％の
ポリアミック酸溶液１８．７ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン５７．２ｇ、ソルフィトアセテート３−メチル−
３−メトキシブチルアセテート１２．９ｇをガラスビー
ズ１００ｇとともにホモジナイザーを用い、７０００ｒ
ｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により
除去し、顔料濃度１４重量％の顔料分散液を得た。用い
たチタンブラックの一次粒子径は０．０２３μmであっ
た。この時のチタンブラック／ポリイミド樹脂の重量比
率は８０／２０であった。11.2 g of titanium black particles whose surface was coated with silicon oxide, 18.7 g of the above-mentioned polyamic acid solution having a polymer concentration of 15% by weight, 57.2 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and sorbite acetate 3-methyl-
Using a homogenizer, 12.9 g of 3-methoxybutyl acetate and 100 g of glass beads were used at 7000 r.
After a dispersion treatment at pm for 30 minutes, the glass beads were removed by filtration to obtain a pigment dispersion having a pigment concentration of 14% by weight. The primary particle diameter of the used titanium black was 0.023 μm. At this time, the weight ratio of titanium black / polyimide resin was 80/20.
【００４１】なお、チタンブラック粒子表面への絶縁被
膜の形成方法は下記のとおりである。まず、チタンブラ
ックを水中に分散させた後、ダイノミル解砕機でチタン
ブラックを十分解砕した。該分散液に、シリコンテトラ
エトキシドのエチルアルコール溶液を滴下しながらチタ
ンブラック表面に絶縁被膜である酸化シリコンの被膜を
形成した。その後、生成物を濾過して乾燥後、粉砕する
ことによって絶縁被膜の形成されたチタンブラックを得
た。The method for forming the insulating coating on the surface of the titanium black particles is as follows. First, after titanium black was dispersed in water, titanium black was sufficiently crushed by a dynomill crusher. An ethyl alcohol solution of silicon tetraethoxide was added dropwise to the dispersion to form a silicon oxide film as an insulating film on the titanium black surface. Thereafter, the product was filtered, dried, and pulverized to obtain a titanium black on which an insulating film was formed.
【００４２】顔料分散液２７．５ｇに、前記のポリマー
濃度１５重量％ポリアミック酸溶液３．７ｇ、γ−ブチ
ロラクトン１ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン６ｇ、ソ
ルフィットアセテート１．８ｇを添加混合し、黒色ペー
ストを作製した。本ペーストを無アルカリガラス基板上
に塗布後、１４５℃でプリベークを行い、ポリイミド前
駆体薄膜を形成した。次に該ポリイミド前駆体薄膜を２
９０℃に加熱して熱硬化を行い、ポリイミドに転換して
遮光性薄膜を形成した。この遮光性薄膜のチタンブラッ
ク／ポリイミド樹脂の重量比率は７０／３０であった。To 27.5 g of the pigment dispersion, 3.7 g of the above-mentioned 15% by weight polymer concentration polyamic acid solution, 1 g of γ-butyrolactone, 6 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and 1.8 g of solfit acetate were added and mixed. A black paste was produced. After applying this paste on a non-alkali glass substrate, it was prebaked at 145 ° C. to form a polyimide precursor thin film. Next, the polyimide precursor thin film was
Heating was performed by heating to 90 ° C. to convert to polyimide to form a light-shielding thin film. The weight ratio of titanium black / polyimide resin of the light-shielding thin film was 70/30.
【００４３】得られた樹脂遮光膜薄膜の厚みは１μmで
あり、ＯＤ値は３．２、電気抵抗は５×１０11Ω・ｃｍ
であった。なお、使用したチタンブラックのＸ線回折に
よるＲ値は０．３５であった。The thickness of the obtained resin light-shielding film thin film was 1 μm, the OD value was 3.2, and the electric resistance was 5 × 10 11 Ω · cm.
Met. The R value of the used titanium black by X-ray diffraction was 0.35.
【００４４】実施例２ Ｘ線回折によるＲ値が０．３４のチタンブラックを使用
した以外は実施例１と同様の方法で樹脂遮光性薄膜を作
成した。Example 2 A resin light-shielding thin film was prepared in the same manner as in Example 1 except that titanium black having an R value of 0.34 by X-ray diffraction was used.
【００４５】得られた樹脂ブラックマトリックス用遮光
膜の厚みは１μmであり、ＯＤ値３．５、電気抵抗は３
×１０11Ω・ｃｍであった。また、表面粗度は０．００
８μｍであった。The thickness of the obtained light-shielding film for a resin black matrix was 1 μm, the OD value was 3.5, and the electric resistance was 3 μm.
× 10 11 Ω · cm. The surface roughness is 0.00
It was 8 μm.
【００４６】比較例１ 表面に絶縁性膜が被覆されていないチタンブラック（三
菱マテリアル制１３Ｍ）を使用した以外は実施例１と同
様の方法で樹脂遮光性薄膜を作成した。Ｘ線回折による
Ｒ値が０．２８であった。得られた樹脂ブラックマトリ
ックス用遮光膜の厚みは１μmであり、ＯＤ値３．１、
電気抵抗は１×１０10Ω・ｃｍであった。また、表面粗
度は０．０１２μｍであった。Comparative Example 1 A resin light-shielding thin film was prepared in the same manner as in Example 1, except that titanium black (Mitsubishi Materials 13M) whose surface was not coated with an insulating film was used. The R value by X-ray diffraction was 0.28. The thickness of the obtained light-shielding film for resin black matrix was 1 μm, and the OD value was 3.1.
The electric resistance was 1 × 10 10 Ω · cm. The surface roughness was 0.012 μm.
【００４７】実施例３ （ブラックマトリックスおよびカラーフィルターの作
製）実施例１と同様の方法でポリイミド前駆体からなる
遮光性薄膜を形成後、冷却し、ポジ型フォトレジストを
塗布して、９０℃で加熱乾燥してフォトレジスト被膜を
形成した。これを紫外線露光機を用いて、フォトマスク
を介して露光した。露光後、アルカリ現像液に浸漬し、
フォトレジストの現像、ポリイミド前駆体薄膜のエッチ
ングを同時に行い、開口部を形成した。エッチング後、
不要となったフォトレジスト層をメチルセルソルブアセ
テートにて剥離した。エッチングされたポリイミド前駆
体薄膜を２９０℃に加熱して熱硬化を行い、ポリイミド
に転換して樹脂ブラックマトリクスを形成した。その
後、該樹脂ブラックマトリクス基板上に通常の方法で、
赤、緑、青色画素の形成してカラーフィルターを作製し
た。 （カラー液晶表示素子の作製と評価）このカラーフィル
ター上に配向膜を設け、ラビング処理を施した。また、
同様に薄膜トランジスタと横電界型駆動電極を備えた液
晶表示素子用基板についても、ポリイミド系の配向膜を
設け、ラビング処理を施した。この２枚の基板を樹脂ブ
ラックマトリックスにかかるようにシール剤を塗布し貼
り合わせた。次にシール部に設けられた注入口から液晶
を注入した。液晶を注入後、注入口を封止し、さらに偏
光板を基板の外側に貼り合わせインプレーンスイッチン
グ方式による液晶表示装置を作製した。これらの液晶表
示装置の表示品位を評価したところ、表示品位は良好で
あった。Example 3 (Preparation of black matrix and color filter) A light-shielding thin film made of a polyimide precursor was formed in the same manner as in Example 1, cooled, coated with a positive photoresist, and heated at 90 ° C. Heat drying was performed to form a photoresist film. This was exposed through a photomask using an ultraviolet exposure machine. After exposure, immerse in an alkaline developer,
An opening was formed by simultaneously developing the photoresist and etching the polyimide precursor thin film. After etching,
The unnecessary photoresist layer was peeled off with methylcellosolve acetate. The etched polyimide precursor thin film was heated to 290 ° C. and thermally cured to be converted to polyimide to form a resin black matrix. Then, on the resin black matrix substrate, in a normal manner,
Red, green, and blue pixels were formed to produce a color filter. (Production and Evaluation of Color Liquid Crystal Display Element) An alignment film was provided on this color filter, and a rubbing treatment was performed. Also,
Similarly, a liquid crystal display element substrate provided with a thin film transistor and a lateral electric field type driving electrode was also provided with a polyimide-based alignment film and subjected to a rubbing treatment. The two substrates were coated with a sealant so as to cover the resin black matrix and bonded together. Next, liquid crystal was injected from an injection port provided in the seal portion. After injecting the liquid crystal, the injection port was sealed, and a polarizing plate was attached to the outside of the substrate to produce a liquid crystal display device using an in-plane switching method. When the display quality of these liquid crystal display devices was evaluated, the display quality was good.
【００４８】[0048]
【発明の効果】本構成による遮光膜によって遮光性、電
気抵抗が高いブラックマトリックスが製造可能となり、
特にインプレーン・スイッチング素子による液晶表示装
置において均一な表示を得ることが可能となる。According to the light-shielding film of the present invention, a black matrix having high light-shielding properties and high electric resistance can be manufactured.
In particular, a uniform display can be obtained in a liquid crystal display device using in-plane switching elements.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 BA45 BB02 BB14 BB44 2H091 FA35Y FB12 FB13 GA07 LA17 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H048 BA45 BB02 BB14 BB44 2H091 FA35Y FB12 FB13 GA07 LA17
Claims (11)
ックＴｉＮｘＯｙ（ただし、０≦ｘ＜１．５、０．１＜
ｙ＜２．０）粒子と樹脂とを含む遮光性薄膜において、
該遮光性薄膜の光学濃度（ＯＤ値）が２．５以上で、電
気抵抗が１０ 11Ω・ｃｍ以上である遮光性薄膜。1. A titanium bra whose surface is covered with an insulating film.
TiNxOy (where 0 ≦ x <1.5, 0.1 <
y <2.0) In a light-shielding thin film containing particles and a resin,
When the optical density (OD value) of the light-shielding thin film is 2.5 or more,
Qi is 10 11A light-shielding thin film of Ω · cm or more.
クの回折角２θが２５°〜２６°での最大回折線強度を
Ｉ1、２７°〜２８°での最大回折線強度をＩ2、３７°
の付近での最大回折線強度をＩ3とした場合に強度比Ｒ
〔ここで、Ｒ＝Ｉ3／｛ Ｉ3 ＋１．８×（Ｉ1＋１．８
×Ｉ2）｝〕が０．２８以上である請求項１に記載の遮
光性薄膜。2. The maximum diffraction line intensity at a diffraction angle 2θ of 25 ° to 26 ° of titanium black using CuKα ray as an X-ray source is I 1 , the maximum diffraction line intensity at 27 ° to 28 ° is I 2 , 37 °
Intensity ratio R when the maximum diffraction intensity in the vicinity of the I 3
[Where R = I 3 / ｛I 3 + 1.8 × (I 1 +1.8
× I 2 )｝] is 0.28 or more.
１または２の遮光性薄膜。3. The light-shielding thin film according to claim 1, wherein the insulating film is silicon oxide.
リイミド樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項
１〜のいずれかに記載の遮光性薄膜。4. The light-shielding thin film according to claim 1, wherein the resin is any one of an epoxy resin, an acrylic resin, and a polyimide resin.
が、チタンブラック／ポリイミド樹脂＝９０／１０〜４
０／６０の範囲にあることを特徴とする請求項５に記載
の黒色被覆組成物。5. The composition weight ratio of the titanium black and the resin is such that titanium black / polyimide resin = 90 / 10-4.
The black coating composition according to claim 5, which is in the range of 0/60.
薄膜からなる樹脂ブラックマトリックス。6. A resin black matrix comprising the light-shielding thin film according to claim 1.
ａが０．０１μｍ以下である請求項６に記載の樹脂ブラ
ックマトリックス。7. The surface roughness R of a resin black matrix
The resin black matrix according to claim 6, wherein a is 0.01 µm or less.
マトリックスを使用してなる液晶表示用カラーフィルタ
ー。8. A liquid crystal display color filter using the resin black matrix according to claim 6. Description:
いた液晶表示装置。9. A liquid crystal display device using the color filter according to claim 8.
ーフィルター基板上またはまたはそれに対向する基板上
の所定の位置にあらかじめ固定されたスペーサーを有す
ることを特徴とする液晶表示装置。10. The liquid crystal display device according to claim 9, further comprising a spacer fixed at a predetermined position on the color filter substrate or on a substrate facing the color filter substrate.
ィルターを用いた液晶表示装置において、インプレーン
スイッチング方式による駆動される液晶表示装置。11. A liquid crystal display device using the color filter according to claim 9 or 10, wherein the liquid crystal display device is driven by an in-plane switching method.
Priority Applications (1)
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| JP26079799A JP2001083315A (en) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | Light-shielding thin film and resin black matrix using the same |
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| JP2001083315A true JP2001083315A (en) | 2001-03-30 |
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Legal Events
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|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A02 | Decision of refusal |
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