JP2001082621A - Process gas supply unit - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、主に半導体製造に係る
プロセスガス供給ユニットに関し、特に詳細には、マニ
ホールドブロックを小スペース化し、ユニット全体を小
型化したプロセス供給ユニットに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process gas supply unit mainly for semiconductor manufacturing, and more particularly to a process supply unit in which a manifold block is reduced in space and the entire unit is reduced in size.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、半導体製造工程において、エッチ
ングガス等のプロセスガスを供給するためのプロセスガ
ス供給ユニットが開発されている。図１６は従来のプロ
セスガス供給ユニットの平面図である。図１５は図１６
の側面図である。図１７は図１６の下面図である。2. Description of the Related Art Conventionally, a process gas supply unit for supplying a process gas such as an etching gas in a semiconductor manufacturing process has been developed. FIG. 16 is a plan view of a conventional process gas supply unit. FIG. 15 shows FIG.
FIG. FIG. 17 is a bottom view of FIG.
【０００３】図１５及び図１６に示すように、プロセス
ガス供給ユニットは、略直方体のマニホールドブロック
１０１の上面に、供給弁１２０、真空弁１３０、パージ
弁１４０及びチェック弁１５０が上方からネジＮで固定
されている。マニホールドブロック１０１は、真空弁１
３０及びチェック弁１５０の下方側面に凸部１０１Ａ、
１０１Ｂが突設されている。マニホールドブロック１０
１の図中右側面には、直方体に成形された出力ブロック
１６０がネジＭで連結されている。出力ブロック１６０
にはＬ字形流路１６１が形成されている。Ｌ字形流路１
６１の一方の開口部は、マニホールドブロック１０１に
当接する面の略中央部に形成されている。また、他方の
開口部は、下面中央部に形成されたプロセスガス出力ポ
ート１６２（図１７参照）に接続されている。As shown in FIGS. 15 and 16, a process gas supply unit has a supply valve 120, a vacuum valve 130, a purge valve 140, and a check valve 150 provided on the upper surface of a substantially rectangular parallelepiped manifold block 101 from above with screws N. Fixed. The manifold block 101 is a vacuum valve 1
30 and the convex portion 101A on the lower side surface of the check valve 150,
101B is protruded. Manifold block 10
An output block 160 formed in a rectangular parallelepiped is connected to the right side surface in FIG. Output block 160
Is formed with an L-shaped channel 161. L-shaped channel 1
One opening of 61 is formed substantially at the center of the surface that contacts the manifold block 101. The other opening is connected to a process gas output port 162 (see FIG. 17) formed at the center of the lower surface.
【０００４】図１７に示すように、マニホールドブロッ
ク１０１の下面には、プロセスガスが供給されるプロセ
スガス入力ポート１０２と、不図示の真空ポンプに連通
する真空入力ポート１０３と、パージガスが供給される
パージガス入力ポート１０４とが形成されている。プロ
セスガス入力ポート１０２は、図中左端中央部に形成さ
れており、出力ブロック１６０のプロセスガス出力ポー
ト１６２に対して同一直線上に設けられている。また、
真空入力ポート１０３及びパージガス入力ポート１０４
は、凸部１０１Ａ、１０１Ｂの下面に各々形成されてお
り、両者は同一直線上に設けられている。As shown in FIG. 17, a process gas input port 102 for supplying a process gas, a vacuum input port 103 communicating with a vacuum pump (not shown), and a purge gas are supplied to the lower surface of the manifold block 101. A purge gas input port 104 is formed. The process gas input port 102 is formed at the center of the left end in the figure, and is provided on the same straight line as the process gas output port 162 of the output block 160. Also,
Vacuum input port 103 and purge gas input port 104
Are formed on the lower surfaces of the convex portions 101A and 101B, respectively, and both are provided on the same straight line.
【０００５】次に、従来のプロセスガス供給ユニットで
使用されているマニホールドブロック１０１の構成を説
明する。図１８は、従来のプロセスガス供給ユニットで
使用されているマニホールドブロックの上面図である。
図１９は図１８のＸＸ断面図である。図２０は図１８の
ＹＹ断面図である。図２１は図１８のＺＺ断面図であ
る。Next, the structure of the manifold block 101 used in the conventional process gas supply unit will be described. FIG. 18 is a top view of a manifold block used in a conventional process gas supply unit.
FIG. 19 is a sectional view taken along line XX of FIG. FIG. 20 is a sectional view taken along line YY of FIG. FIG. 21 is a sectional view taken along the line ZZ of FIG.
【０００６】図１９に示すように、マニホールドブロッ
ク１０１にはプロセスガス入力ポート１０２から供給弁
１２０の入力ポート１２１に連通するプロセスガス入力
流路１０５が形成されている。そして、マニホールドブ
ロック１０１の略中央部長手方向にはプロセスガス出力
流路１０６が形成されている。プロセスガス出力流路１
０６の一端は、上面に向かってまっすぐ形成されて、供
給弁１２０の出力ポート１２２に接続されている。一
方、他端は、出力ブロック１６０に形成されたＬ字形流
路１６１に接続されている。プロセスガス出力流路１０
６には、真空弁１３０の出力ポート１３２に接続する真
空出力流路１０７と、パージ弁１４０の出力ポート１４
２に接続するパージガス出力流路１０８とが各々連通し
ている。そして、マニホールドブロック１０１には、チ
ェック弁１５０の出力ポート１５２とパージ弁１４０の
入力ポート１４１とが連通するようにＶ字形に形成され
たＶ字形流路１０９が設けられている。これらの流路１
０５〜１０９は、マニホールドブロック１０１の同一断
面上に設けられている。As shown in FIG. 19, a process gas input flow path 105 is formed in the manifold block 101 so as to communicate from a process gas input port 102 to an input port 121 of a supply valve 120. A process gas output flow path 106 is formed substantially in the longitudinal direction of the central portion of the manifold block 101. Process gas output channel 1
One end of 06 is formed straight toward the upper surface, and is connected to the output port 122 of the supply valve 120. On the other hand, the other end is connected to an L-shaped channel 161 formed in the output block 160. Process gas output channel 10
6 has a vacuum output flow path 107 connected to an output port 132 of the vacuum valve 130 and an output port 14 of the purge valve 140.
2 and a purge gas output flow path 108 connected to each other. The manifold block 101 is provided with a V-shaped flow path 109 formed in a V-shape so that the output port 152 of the check valve 150 and the input port 141 of the purge valve 140 communicate with each other. These channels 1
05 to 109 are provided on the same cross section of the manifold block 101.
【０００７】また、マニホールドブロック１０１には、
図２０に示すように、真空入力ポート１０３と真空弁１
３０の入力ポート１３１とを接続する真空入力流路１１
０が形成されている。真空入力流路１１０は、真空入力
ポート１０３をパージガス入力ポート１０４と同一直線
上に配置した関係上、くの字型に形成されている。ま
た、マニホールドブロック１０１には、図２１に示すよ
うに、パージガス入力ポート１０４とチェック弁１５０
の入力ポート１５１とを接続するパージガス入力流路１
１１が形成されている。パージガス入力流路１１１は、
プロセスガス出力流路１０６を避けて斜めに形成されて
いる。The manifold block 101 includes:
As shown in FIG. 20, the vacuum input port 103 and the vacuum valve 1
Vacuum input flow path 11 connecting input ports 131
0 is formed. The vacuum input channel 110 is formed in a V shape because the vacuum input port 103 is arranged on the same straight line as the purge gas input port 104. As shown in FIG. 21, the manifold block 101 has a purge gas input port 104 and a check valve 150.
Gas input flow path 1 connecting to the input port 151 of
11 are formed. The purge gas input channel 111 is
It is formed obliquely avoiding the process gas output flow path 106.
【０００８】また、マニホールドブロック１０１の上面
には、図１８に示すように、供給弁１２０、真空弁１３
０、パージ弁１４０及びチェック弁１５０をネジ止めす
るために、ネジ孔１０１ａが複数個形成されている。ま
た、供給弁１２０、真空弁１３０、パージ弁１４０及び
チェック弁１５０をマニホールドブロック１０１に対し
て各々位置決めするために、位置決め孔１０１ｂが形成
されている。As shown in FIG. 18, a supply valve 120 and a vacuum valve 13 are provided on the upper surface of the manifold block 101.
A plurality of screw holes 101a are formed for screwing the purge valve 140 and the check valve 150. A positioning hole 101b is formed for positioning the supply valve 120, the vacuum valve 130, the purge valve 140, and the check valve 150 with respect to the manifold block 101, respectively.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
プロセスガス供給ユニットは、マニホールドブロック１
０１に凸部１０１Ａ、１０１Ｂが形成されていたため、
設置スペースが大きくなってしまっていた。近年、半導
体製造工程において、複数枚のウエハをバッチ処理する
方法から一枚ずつ処理する枚葉処理方法に移行するよう
になったため、装置数が増加し、プロセスガス供給ユニ
ットの小型化がより強く要求されるようになった。ま
た、半導体製造工程で使用されるガスの種類が多様化
し、システムが複雑化したため、プロセスガス供給ユニ
ットが１つの装置について複数個連設して使用されるよ
うになった。ところが、従来のプロセスガス供給ユニッ
トを連設すると、マニホールドブロック１０１の凸部１
０１Ａ、１０１Ｂの先端部が隣接するマニホールドブロ
ック１０１に当接して、マニホールドブロック１０１間
に隙間が生じ、装置全体が大きくなってしまっていた。
そのため、プロセスガス供給ユニットの小型化が要求さ
れていた。However, the conventional process gas supply unit has a manifold block 1
01 had the convex portions 101A and 101B formed thereon,
The installation space became large. In recent years, in the semiconductor manufacturing process, a shift has been made from a batch processing method for a plurality of wafers to a single-wafer processing method for processing a single wafer at a time, so that the number of apparatuses has increased and the miniaturization of the process gas supply unit has become stronger. Now required. In addition, since the types of gases used in the semiconductor manufacturing process have been diversified and the system has become complicated, a plurality of process gas supply units have been used for one apparatus. However, when the conventional process gas supply unit is connected in series, the convex portion 1 of the manifold block 101 is not provided.
The distal ends of 01A and 101B abut on adjacent manifold blocks 101, creating a gap between the manifold blocks 101, and the entire apparatus has become large.
Therefore, the process gas supply unit has been required to be reduced in size.
【００１０】そこで、本発明は上記技術的課題を解決す
るためになされたものであり、マニホールドブロックを
小スペース化し、ユニット全体を小型化したプロセス供
給ユニットを提供することを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned technical problems, and has as its object to provide a process supply unit in which a manifold block is reduced in space and the entire unit is reduced in size.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】本願請求項１に係る発明
のプロセスガス供給ユニットは、流路が形成されたマニ
ホールドブロックと、その上面に取り付けられた供給
弁、パージ弁、及びチェック弁とを有するものであっ
て、前記供給弁へのプロセスガス入力ポートと、前記供
給弁からのプロセスガス出力ポートと、前記チェック弁
へのパージガス入力ポートとが、前記マニホールドブロ
ック下面に、一直線上に形成されていることを特徴とす
る。上記構成を有する請求項１のプロセスガス供給ユニ
ットによれば、プロセスガス入力ポート、プロセスガス
出力ポート及びパージガス入力ポートが一直線上に形成
されるので、マニホールドブロックを直方体に形成する
ことができる。これにより、マニホールドブロックを小
スペース化することができる。また、プロセスガス供給
ユニットを隙間なく並べることができ、装置全体を小型
化することができる。According to a first aspect of the present invention, there is provided a process gas supply unit including a manifold block having a flow path formed therein, and a supply valve, a purge valve, and a check valve attached to an upper surface of the manifold block. Wherein a process gas input port to the supply valve, a process gas output port from the supply valve, and a purge gas input port to the check valve are formed in a straight line on the lower surface of the manifold block. It is characterized by having. According to the process gas supply unit of the first aspect having the above configuration, since the process gas input port, the process gas output port, and the purge gas input port are formed in a straight line, the manifold block can be formed in a rectangular parallelepiped. Thereby, the space of the manifold block can be reduced. Further, the process gas supply units can be arranged without gaps, and the entire apparatus can be downsized.
【００１２】本願請求項２に記載するプロセスガス供給
ユニットは、請求項１に記載するものであって、前記マ
ニホールドブロックの上面に真空弁が取り付けられ、前
記真空弁への真空入力ポートが、前記マニホールドの下
面に、前記プロセスガス入力ポート、前記プロセスガス
出力ポート、前記パージガス入力ポートと一直線上に形
成されていることを特徴とする。上記構成を有する請求
項２のプロセスガス供給ユニットによれば、プロセスガ
ス入力ポート、プロセスガス出力ポート、パージガス入
力ポート及び真空入力ポートが一直線上に形成されるの
で、マニホールドブロックを直方体に形成することがで
きる。これにより、マニホールドブロックを小スペース
化することができる。また、プロセスガス供給ユニット
を隙間なく並べることができ、装置全体を小型化するこ
とができる。A process gas supply unit according to a second aspect of the present invention is the process gas supply unit according to the first aspect, wherein a vacuum valve is attached to an upper surface of the manifold block, and a vacuum input port to the vacuum valve is The process gas input port, the process gas output port, and the purge gas input port are formed on the lower surface of the manifold in a straight line. According to the process gas supply unit having the above configuration, the process gas input port, the process gas output port, the purge gas input port, and the vacuum input port are formed in a straight line, so that the manifold block is formed in a rectangular parallelepiped. Can be. Thereby, the space of the manifold block can be reduced. Further, the process gas supply units can be arranged without gaps, and the entire apparatus can be downsized.
【００１３】本願請求項３に記載するプロセスガス供給
ユニットによれば、請求項１又は請求項２に記載するも
のであって、前記供給弁が、前記マニホールドブロック
の上面端部に取り付けられ、前記プロセスガス入力ポー
トが、前記マニホールドブロックの下面端部に形成さ
れ、前記プロセスガス出力ポートが、前記マニホールド
ブロックの下面他端部に形成され、前記プロセスガス供
給ポートと前記プロセスガス出力ポートとを連通するプ
ロセスガス出力流路が前記マニホールドブロックの中心
部に形成され、前記チェック弁と前記パージガス入力ポ
ートとを連通するパージガス入力流路が、前記プロセス
ガス出力流路を迂回してＶ字形に形成されていることを
特徴とする。上記構成を有する請求項３に記載するプロ
セスガス供給ユニットは、パージガス入力流路がＶ字形
に形成されているので、マニホールドブロックに凸部を
形成する必要がなく、プロセスガス供給ユニットを小型
化することができる。また、マニホールドブロックに余
分な孔が形成されないので、揮発性流体を流して流路を
洗浄するときに、流路内に付着した不純物を完全に除去
することができる。According to the process gas supply unit described in claim 3 of the present application, the process gas supply unit according to claim 1 or 2, wherein the supply valve is attached to an upper surface end of the manifold block, A process gas input port is formed at the lower end of the lower surface of the manifold block, and the process gas output port is formed at the other lower end of the lower surface of the manifold block. The process gas supply port communicates with the process gas output port. A process gas output flow path is formed at the center of the manifold block, and a purge gas input flow path communicating the check valve and the purge gas input port is formed in a V-shape bypassing the process gas output flow path. It is characterized by having. In the process gas supply unit according to the third aspect having the above configuration, since the purge gas input flow path is formed in a V-shape, it is not necessary to form a convex portion on the manifold block, and the process gas supply unit is downsized. be able to. In addition, since no extra holes are formed in the manifold block, it is possible to completely remove impurities adhering to the inside of the flow passage when cleaning the flow passage by flowing a volatile fluid.
【００１４】本願請求項４に記載するプロセスガス供給
ユニットによれば、請求項３に記載するものであって、
前記真空弁と前記真空入力ポートとを連通する真空入力
流路が、前記プロセスガス出力流路を迂回してＶ字形に
形成されていることを特徴とする。上記構成を有する請
求項４に記載するプロセスガス供給ユニットは、パージ
ガス入力流路及び真空入力流路がＶ字形に形成されてい
るので、マニホールドブロックに凸部を形成する必要が
なく、プロセスガス供給ユニットを小型化することがで
きる。また、マニホールドブロックに余分な孔が形成さ
れないので、揮発性流体を流して流路を洗浄するとき
に、流路内に付着した不純物を完全に除去することがで
きる。According to the process gas supply unit described in claim 4 of the present application, the process gas supply unit is described in claim 3,
A vacuum input passage communicating the vacuum valve and the vacuum input port is formed in a V-shape bypassing the process gas output passage. In the process gas supply unit according to the fourth aspect of the present invention, since the purge gas input passage and the vacuum input passage are formed in a V-shape, there is no need to form a convex portion on the manifold block, and the process gas supply unit is not required. The unit can be reduced in size. In addition, since no extra holes are formed in the manifold block, it is possible to completely remove impurities adhering to the inside of the flow passage when cleaning the flow passage by flowing a volatile fluid.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。図１は、本発明
の第１実施の形態に係るプロセスガス供給ユニットの側
面図である。図２は、本発明の第１実施の形態に係るプ
ロセスガス供給ユニットの上面図である。図３は、本発
明の第１実施の形態に係るプロセスガス供給ユニットの
下面図である。第１実施の形態のプロセスガス供給ユニ
ット１は、図１及び図２に示すように、マニホールドブ
ロック２の上面に供給弁２０、パージ弁４０及びチェッ
ク弁５０が上方から接続ネジＮで固定されている。Next, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a side view of the process gas supply unit according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a top view of the process gas supply unit according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a bottom view of the process gas supply unit according to the first embodiment of the present invention. In the process gas supply unit 1 of the first embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, a supply valve 20, a purge valve 40, and a check valve 50 are fixed to a top surface of a manifold block 2 from above by a connection screw N. I have.
【００１６】マニホールドブロック２の構成について図
面を参照しながら説明する。図４は、第１実施の形態に
係るプロセスガス供給ユニットで使用されているマニホ
ールドブロックの上面図である。図５は、第１実施の形
態に係るプロセスガス供給ユニットで使用されているマ
ニホールドブロックの下面図である。図６は図５のＡＡ
断面図である。The structure of the manifold block 2 will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a top view of a manifold block used in the process gas supply unit according to the first embodiment. FIG. 5 is a bottom view of the manifold block used in the process gas supply unit according to the first embodiment. FIG. 6 shows AA of FIG.
It is sectional drawing.
【００１７】図５に示すように、マニホールドブロック
２は第１マニホールドブロック２Ａと第２マニホールド
ブロック２Ｂとを接続ネジ９６で連結させたものであ
る。マニホールドブロック２の下面には、図３に示すよ
うに、プロセスガスが供給されるプロセスガス入力ポー
ト３、Ｎ2等のパージガスが供給されるパージガス入力
ポート４及びプロセスガスが排出されるプロセスガス出
力ポート５が、同一直線上に形成されている。また、マ
ニホールドブロック２の下面には、不図示のベースプレ
ートを固定するための接続ネジが締結されるネジ孔９３
が形成されている。As shown in FIG. 5, the manifold block 2 is formed by connecting a first manifold block 2A and a second manifold block 2B with connection screws 96. As shown in FIG. 3, a process gas input port 3 for supplying a process gas, a purge gas input port 4 for supplying a purge gas such as N 2 , and a process gas output for discharging the process gas are provided on the lower surface of the manifold block 2. Ports 5 are formed on the same straight line. Further, a screw hole 93 into which a connection screw for fixing a base plate (not shown) is fastened is provided on the lower surface of the manifold block 2.
Are formed.
【００１８】マニホールドブロック２には、図１に示す
ように、プロセスガス入力ポート３と供給弁２０の入力
ポート２１とを連通させるプロセスガス入力流路６が形
成されている。また、マニホールドブロック２には、供
給弁２０の出力ポート２２と第２マニホールドブロック
２Ｂに形成されたプロセスガス出力ポート５とを連通さ
せるプロセスガス出力流路７が形成されている。プロセ
スガス出力流路７は、供給弁２０の出力ポート２２から
第１マニホールドブロック２Ａの略中央に向かって斜め
に穿設された斜め流路７ａと、第１マニホールドブロッ
ク２Ａの略中央部長手方向に形成された水平流路７ｂ
と、第２マニホールドブロック２Ｂの略中央部長手方向
に形成された水平流路７ｃと、水平流路７ｃの端部から
プロセスガス出力ポート５に垂直に形成された垂直流路
７ｄとから形成されている。斜め流路７ａには、パージ
弁４０の出力ポート４２に連通するパージガス出力流路
８が連通している。As shown in FIG. 1, the manifold block 2 is provided with a process gas input passage 6 for connecting the process gas input port 3 with the input port 21 of the supply valve 20. The manifold block 2 is provided with a process gas output flow path 7 for communicating the output port 22 of the supply valve 20 with the process gas output port 5 formed in the second manifold block 2B. The process gas output flow path 7 includes an oblique flow path 7a formed obliquely from the output port 22 of the supply valve 20 toward the substantially center of the first manifold block 2A, and a substantially central portion longitudinal direction of the first manifold block 2A. Horizontal channel 7b formed in
A horizontal flow path 7c formed substantially in the longitudinal direction of the central portion of the second manifold block 2B, and a vertical flow path 7d formed vertically from the end of the horizontal flow path 7c to the process gas output port 5. ing. A purge gas output passage 8 communicating with the output port 42 of the purge valve 40 communicates with the oblique passage 7a.
【００１９】また、マニホールドブロック２には、チェ
ック弁５０の出力ポート５２とパージ弁４０の入力ポー
ト４１とを連通させるコの字形流路９が形成されてい
る。ここで、コの字形流路９と水平流路７ｂの途中に
は、第１、第２マニホールドブロック２Ａ、２Ｂの接続
部分があるため、その接続部分にはシール部材９５が配
設されている。Further, the manifold block 2 is formed with a U-shaped channel 9 for connecting the output port 52 of the check valve 50 and the input port 41 of the purge valve 40. Here, since there is a connection portion between the first and second manifold blocks 2A and 2B in the middle of the U-shaped flow passage 9 and the horizontal flow passage 7b, a seal member 95 is provided at the connection portion. .
【００２０】また、第２マニホールドブロック２Ｂに
は、チェック弁５０の入力ポート５１とパージガス入力
ポート４とを連通させるためのパージガス入力流路１０
が形成されている。パージガス入力流路１０は、図６に
示すように、チェック弁５０の入力ポート５１と接続す
る部分からプロセスガス出力流路７を回避するように斜
めに穿設された流路と、パージガス入力ポート４からプ
ロセスガス出力流路７を回避するように斜めに穿設され
た流路とを連通させたものであり、Ｖ字形に形成されて
いる。The second manifold block 2B has a purge gas input passage 10 for communicating the input port 51 of the check valve 50 with the purge gas input port 4.
Are formed. As shown in FIG. 6, the purge gas input flow path 10 has a flow path formed obliquely so as to avoid the process gas output flow path 7 from a portion connected to the input port 51 of the check valve 50, and a purge gas input port. 4 and a flow path formed obliquely so as to avoid the process gas output flow path 7, and is formed in a V-shape.
【００２１】マニホールドブロック２の上面に形成され
た流路６、７、８、９、１０の開口部は、図４に示すよ
うに、同一直線上に設けられている。また、マニホール
ドブロック２の上面には、接続ネジＮ（図２参照）が締
結されるネジ孔９１と、マニホールドブロック２に対し
て供給弁２０等を位置決めするための位置決めピンが挿
通される位置決め孔９２が形成されている。The openings of the flow paths 6, 7, 8, 9, 10 formed on the upper surface of the manifold block 2 are provided on the same straight line as shown in FIG. Further, on the upper surface of the manifold block 2, a screw hole 91 into which the connection screw N (see FIG. 2) is fastened, and a positioning hole through which a positioning pin for positioning the supply valve 20 or the like with respect to the manifold block 2 is inserted. 92 are formed.
【００２２】このように構成されたプロセスガス供給ユ
ニットは、半導体製造装置で使用される複数種類のガス
の流量を調節するために、マスフローコントローラ等と
共にシステム化される。図７は、第１実施の形態のプロ
セスガス供給ユニットをシステム化した一例を示す図で
ある。図７に示すように、プロセスガス供給ユニット１
は、マスフローコントローラ７０等と共に隙間なく連設
されて半導体製造装置に組み付けられる。The process gas supply unit thus configured is systemized together with a mass flow controller and the like in order to adjust the flow rates of a plurality of types of gases used in a semiconductor manufacturing apparatus. FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a systemized process gas supply unit according to the first embodiment. As shown in FIG. 7, the process gas supply unit 1
Are connected together with the mass flow controller 70 and the like without gaps and assembled into a semiconductor manufacturing apparatus.
【００２３】上記構成を有する第１実施の形態のプロセ
スガス供給ユニットは、次のように作用する。プロセス
ガス出力ポート５をマスフローコントローラ７０等を介
して、半導体製造工程の真空チャンバ（不図示）に接続
する。また、プロセスガス入力ポート３をプロセスガス
供給源（不図示）に接続する。パージ弁４０を閉じた状
態で供給弁２０を開くことにより、プロセスガスはプロ
セスガス入力流路６、入力ポート２１、出力ポート２
２、プロセスガス出力流路７を通ってプロセスガス出力
ポート５からマスフローコントローラ７０へと流れる。The process gas supply unit according to the first embodiment having the above configuration operates as follows. The process gas output port 5 is connected to a vacuum chamber (not shown) in the semiconductor manufacturing process via the mass flow controller 70 or the like. Further, the process gas input port 3 is connected to a process gas supply source (not shown). When the supply valve 20 is opened with the purge valve 40 closed, the process gas flows into the process gas input passage 6, the input port 21, and the output port 2.
2. Flow from the process gas output port 5 to the mass flow controller 70 through the process gas output channel 7.
【００２４】マスフローコントローラ７０で所定量のプ
ロセスガスを流したことを検出すると、供給弁２０を閉
じてプロセスガスの供給を停止する。そして、マスフロ
ーコントローラ７０の出口側を真空チャンバから排気手
段へ切り換える。その後、パージ弁４０を開いて、パー
ジガスとして、Ｎ2ガス等の不活性ガスをパージガス入
力ポート４、パージガス入力流路１０、チェック弁５０
の入力ポート５１、チェック弁５０の出力ポート５２、
コの字形流路９、パージ弁４０の入力ポート４１、パー
ジ弁４０の出力ポート４２、パージガス出力流路８を通
して、プロセスガス出力流路７へ流す。これにより、プ
ロセスガス出力流路７及びマスフローコントローラ７０
内に残留しているプロセスガスを排除することができ
る。When the mass flow controller 70 detects that a predetermined amount of process gas has flowed, the supply valve 20 is closed to stop the supply of the process gas. Then, the outlet side of the mass flow controller 70 is switched from the vacuum chamber to the exhaust unit. Thereafter, the purge valve 40 is opened, and an inert gas such as N 2 gas is supplied as a purge gas to the purge gas input port 4, the purge gas input flow path 10, the check valve 50.
Input port 51, output port 52 of check valve 50,
The gas flows into the process gas output channel 7 through the U-shaped channel 9, the input port 41 of the purge valve 40, the output port 42 of the purge valve 40, and the purge gas output channel 8. Thereby, the process gas output flow path 7 and the mass flow controller 70
The process gas remaining in the inside can be eliminated.
【００２５】以上詳細に説明したように、第１実施の形
態のプロセスガス供給装置によれば、パージガス入力流
路１０をＶ字形に形成したことにより、プロセスガス入
力ポート３、パージガス入力ポート４及びプロセスガス
出力ポート５を同一直線上に形成することができた。こ
れにより、マニホールドブロック２を直方体に成形する
ことができ、プロセスガス供給ユニットを小型化するこ
とができた。また、各種ガスの入力ポートが同一直線状
に配置されるので、流路を設計しやすくなった。As described in detail above, according to the process gas supply device of the first embodiment, the process gas input port 3, the purge gas input port 4, The process gas output port 5 could be formed on the same straight line. As a result, the manifold block 2 can be formed into a rectangular parallelepiped, and the process gas supply unit can be reduced in size. In addition, since the input ports for various gases are arranged on the same straight line, the flow path can be easily designed.
【００２６】また、マニホールドブロック２が直方体に
成形されているので、図７に示すようにプロセスガス供
給ユニット１を隙間なく連設することができ、半導体製
造装置全体を小スペース化することができた。Further, since the manifold block 2 is formed in a rectangular parallelepiped, the process gas supply units 1 can be continuously connected without gaps as shown in FIG. 7, and the entire semiconductor manufacturing apparatus can be reduced in space. Was.
【００２７】また、マニホールドブロック２が直方体に
成形されているので、流路を設計するときに従来のプロ
セスガス供給ユニット１００のように凸部の位置に拘束
されることがなく、設計の自由度が向上した。また、流
路の形成時においても、マニホールドブロック２の向き
を一々確認してから作業をする必要がなく、簡単に流路
を形成することができるようになり、作業効率が向上し
た。Further, since the manifold block 2 is formed in a rectangular parallelepiped, the flow path is not restricted by the position of the convex portion unlike the conventional process gas supply unit 100 when designing the flow path, and the degree of freedom in design is improved. Improved. Further, even when forming the flow path, it is not necessary to check the direction of the manifold block 2 one by one before performing the work, so that the flow path can be easily formed, and the working efficiency has been improved.
【００２８】また、パージガス供給流路１０はチェック
弁５０の入力ポート５１に接続する部分から斜めに穿設
された流路と、パージガス入力ポート４から斜めに穿設
された流路とを連通させてＶ字形に形成したので、パー
ジガス入力流路１０は余分な孔を形成せずに、簡単に形
成することができる。すなわち、例えば、上面から下面
に貫通する貫通孔を形成し、その貫通孔に連通する流路
をチェック弁５０の入力ポート５１及びパージガス入力
ポート４から形成して略「升」形の流路を設け、流体が
外部に洩れないように貫通孔の両端を塞ぐ必要がない。
また、パージガス入力流路１０をＶ字形に成形すること
により、揮発性流体で流路内を洗浄するときに、流路の
交差部分から揮発性流体が外部に漏れることがないの
で、流路内の不純物を完全に除去することができる。The purge gas supply flow path 10 connects a flow path formed obliquely from a portion connected to the input port 51 of the check valve 50 and a flow path formed obliquely from the purge gas input port 4. The purge gas input flow path 10 can be easily formed without forming an extra hole. That is, for example, a through-hole penetrating from the upper surface to the lower surface is formed, and a flow path communicating with the through-hole is formed from the input port 51 and the purge gas input port 4 of the check valve 50 to form a substantially “square” -shaped flow path. It is not necessary to close both ends of the through hole so that the fluid does not leak outside.
In addition, by forming the purge gas input flow path 10 into a V-shape, when the inside of the flow path is cleaned with the volatile fluid, the volatile fluid does not leak outside from the intersection of the flow paths. Can be completely removed.
【００２９】続いて、本発明の第２実施の形態のプロセ
スガス供給ユニットについて説明する。図８は、第２実
施の形態のプロセスガス供給にユニットの側面図であ
る。図９は、第２実施の形態のプロセスガス供給ユニッ
トの上面図である。図１０は、第２実施の形態のプロセ
スガス供給ユニットの下面図である。図１１は、第２実
施の形態で使用されているマニホールドブロックの上面
図である。図１２は、第２実施の形態で使用されている
マニホールドブロックの下面図である。図１３は、図１
２のＢＢ断面図である。図１４は、図１２ＣＣ断面図で
ある。尚、第２実施の形態のプロセスガス供給ユニット
は第１実施の形態のプロセスガス供給ユニット１に真空
弁を取り付けたものであるので、第１実施の形と重複す
る部分には同じ符号を付して詳細な説明を省略し、第１
実施の形態と異なる構成のみ説明する。Next, a process gas supply unit according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 8 is a side view of a process gas supply unit according to the second embodiment. FIG. 9 is a top view of the process gas supply unit according to the second embodiment. FIG. 10 is a bottom view of the process gas supply unit according to the second embodiment. FIG. 11 is a top view of the manifold block used in the second embodiment. FIG. 12 is a bottom view of the manifold block used in the second embodiment. FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along line BB of FIG. FIG. 14 is a cross-sectional view of FIG. 12CC. Since the process gas supply unit according to the second embodiment has a vacuum valve attached to the process gas supply unit 1 according to the first embodiment, parts that are the same as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals. And a detailed description is omitted, and the first
Only the configuration different from the embodiment will be described.
【００３０】図８及び図９に示すように、マニホールド
ブロック２の上面には、供給弁２０、パージ弁４０、チ
ェック弁５０及び真空弁３０が上方から接続ネジＮで固
定されている。図１２に示すように、マニホールドブロ
ック２は第１マニホールドブロック２Ａと第３マニホー
ルドブロック２Ｃとを接続ネジ９６で連結したものであ
る。図１０及び図１２に示すように、マニホールドブロ
ック２の下面には、プロセスガスが供給されるプロセス
ガス入力ポート３と、パージガスが供給されるパージガ
ス入力ポート１１と、不図示の真空ポンプに連通する真
空入力ポート１２と、プロセスガスが排出されるプロセ
スガス出力ポート１３が同一直線上に形成されている。As shown in FIGS. 8 and 9, on the upper surface of the manifold block 2, a supply valve 20, a purge valve 40, a check valve 50, and a vacuum valve 30 are fixed from above by connecting screws N. As shown in FIG. 12, the manifold block 2 is formed by connecting a first manifold block 2A and a third manifold block 2C with connection screws 96. As shown in FIGS. 10 and 12, the lower surface of the manifold block 2 communicates with a process gas input port 3 to which a process gas is supplied, a purge gas input port 11 to which a purge gas is supplied, and a vacuum pump (not shown). The vacuum input port 12 and the process gas output port 13 for discharging the process gas are formed on the same straight line.
【００３１】図８に示すように、マニホールドブロック
２には供給弁２０の出力ポート２２とプロセスガス出力
ポート１３とを連通させるプロセスガス出力流路７が形
成されている。第３マニホールドブロック２Ｃには、第
１マニホールドブロック２Ａに形成された水平流路７ｂ
に接続する水平流路７ｅが形成され、ぞの水平流路７ｅ
の端部とプロセスガス出力ポート１３とを連通させる垂
直流路７ｆが形成されている。第３マニホールドブロッ
ク２Ｃには、真空弁３０の出力ポート３２から水平流路
７ｅに対して垂直に形成された真空出力流路１５が形成
されており、真空出力流路１５と水平流路７ｅとは連通
している。As shown in FIG. 8, the manifold block 2 is provided with a process gas output passage 7 for connecting the output port 22 of the supply valve 20 and the process gas output port 13 to each other. The third manifold block 2C has a horizontal flow path 7b formed in the first manifold block 2A.
Is formed, and a horizontal flow path 7e is formed.
And a vertical flow path 7f for communicating the end of the process gas with the process gas output port 13. In the third manifold block 2C, a vacuum output flow path 15 formed perpendicular to the horizontal flow path 7e from the output port 32 of the vacuum valve 30 is formed, and the vacuum output flow path 15 and the horizontal flow path 7e are formed. Are communicating.
【００３２】また、第３マニホールドブロック２Ｃに
は、図８に示すように、真空弁３０の入力ポート３１と
真空入力ポート１２とを連通させる真空入力流路１６が
形成されている。真空入力流路１６は、図１４に示すよ
うに、真空弁３０の入力ポート３１が接続する部分から
斜めに穿設された流路と、真空入力ポート１２から斜め
に穿設された流路とを連通させたものであり、Ｖ字形に
形成されている。As shown in FIG. 8, the third manifold block 2C is provided with a vacuum input passage 16 for connecting the input port 31 of the vacuum valve 30 to the vacuum input port 12. As shown in FIG. 14, the vacuum input flow path 16 includes a flow path formed obliquely from a portion to which the input port 31 of the vacuum valve 30 is connected, and a flow path formed obliquely from the vacuum input port 12. And are formed in a V-shape.
【００３３】また、第３マニホールドブロック２Ｃに
は、図８に示すように、チェック弁５０の入力ポート５
１とパージガス入力ポート１１とを連通させるパージガ
ス入力流路１４が形成されている。ここで、図１３に示
すように、接続ネジ９６（図１２参照）が締結されるネ
ジ孔９７が４カ所形成されている。そのため、パージガ
ス入力流路１４は、図８及び図１３に示すように、プロ
セスガス出力流路７、コの字形流路９及びネジ孔９７を
回避するように形成されている。すなわち、チェック弁
５０の入力ポートから斜めに穿設した流路と、パージガ
ス入力ポート１１から斜めに穿設した流路とを連通させ
て、Ｖ字形に形成されている。これらの流路６、７、
８、９、１４、１５、１６の開口部は、図１１に示すよ
うに、マニホールドブロック２の上面に同一直線上に形
成されている。As shown in FIG. 8, the input port 5 of the check valve 50 is connected to the third manifold block 2C.
A purge gas input flow path 14 that connects the purge gas input port 11 to the purge gas input port 11 is formed. Here, as shown in FIG. 13, four screw holes 97 for fastening the connection screws 96 (see FIG. 12) are formed. Therefore, the purge gas input flow path 14 is formed so as to avoid the process gas output flow path 7, the U-shaped flow path 9, and the screw hole 97, as shown in FIGS. 8 and 13. That is, the flow path formed obliquely from the input port of the check valve 50 and the flow path formed obliquely from the purge gas input port 11 communicate with each other to form a V-shape. These channels 6, 7,
The openings of 8, 9, 14, 15, and 16 are formed on the upper surface of the manifold block 2 on the same straight line as shown in FIG.
【００３４】上記構成を有する第２実施の形態のプロセ
スガス供給ユニットの作用を第１実施の形態と異なる点
について簡単に説明する。プロセスガスの供給が終了し
てプロセスガス出力流路７内に残留しているプロセスガ
スをパージガスと置換するときに、供給弁２０を閉じた
後、真空弁３０を開いて、残留するプロセスガスを真空
入力流路１６を介して真空入力ポート１２から所定時間
（例えば数分間）吸引する。その後、パージ弁４０を開
いてパージガスによりパージを行う。この吸引とパージ
を数回繰り返すことにより、短時間で置換を完了するこ
とができる。The operation of the process gas supply unit according to the second embodiment having the above-described configuration will be briefly described in terms of differences from the first embodiment. When the supply of the process gas is completed and the process gas remaining in the process gas output flow path 7 is replaced with the purge gas, the supply valve 20 is closed, and then the vacuum valve 30 is opened to remove the remaining process gas. Suction is performed for a predetermined time (for example, several minutes) from the vacuum input port 12 through the vacuum input flow path 16. Thereafter, the purge valve 40 is opened to perform purging with the purge gas. By repeating the suction and the purge several times, the replacement can be completed in a short time.
【００３５】以上詳細に説明したように、第２実施の形
態のプロセスガス供給ユニットは、パージガス入力流路
１４及び真空入力流路１６をＶ字形に形成したことによ
り、プロセスガス供給ポート３、パージガス入力ポート
１１、真空入力ポート１２及びプロセスガス出力ポート
１３を同一直線上に形成することができたので、マニホ
ールドブロック２を直方体に成形することができ、プロ
セスガス供給ユニットを小スペース化することができ
た。また、マニホールドブロック２が直方体に成形され
ているので、隙間無く連設することができ、装置全体を
小型化することができた。As described in detail above, the process gas supply unit of the second embodiment has the process gas supply port 3 and the purge gas supply port 3 formed by forming the purge gas input flow path 14 and the vacuum input flow path 16 in a V-shape. Since the input port 11, the vacuum input port 12, and the process gas output port 13 could be formed on the same straight line, the manifold block 2 can be formed in a rectangular parallelepiped, and the space for the process gas supply unit can be reduced. did it. Further, since the manifold block 2 is formed in a rectangular parallelepiped, the manifold blocks 2 can be continuously connected without any gap, and the entire apparatus can be reduced in size.
【００３６】また、第１実施の形態のプロセスガス供給
ユニット及び第２実施の形態のプロセスガス供給ユニッ
トで第１マニホールドブロック２Ａを共用している。そ
のため、第１マニホールドブロック２Ａをベースプレー
ト（不図示）に固定した状態で、第２、第３マニホール
ドブロック２Ｂ、２Ｃを上方から接続ネジＮで取り付け
ると共に、第１マニホールドブロック２Ａの側面から接
続ネジ９６でブロック同士を締結するだけで簡単に仕様
変更をすることができるようになった。The first manifold block 2A is shared by the process gas supply unit according to the first embodiment and the process gas supply unit according to the second embodiment. Therefore, while the first manifold block 2A is fixed to a base plate (not shown), the second and third manifold blocks 2B and 2C are attached from above with the connection screws N, and the connection screws 96 are formed from the side surfaces of the first manifold block 2A. It is now possible to easily change specifications simply by fastening blocks.
【００３７】尚、本発明は上記実施の形態に何ら拘束さ
れるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内にお
いて、適宜変更可能であることはいうまでもない。すな
わち、例えば、プロセスガス供給ユニットを構成する各
パーツ機器の構成は、上記実施の形態のものに拘束され
るわけではない。It is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately changed without departing from the spirit of the invention. That is, for example, the configuration of each part device that configures the process gas supply unit is not limited to the above-described embodiment.
【００３８】[0038]
【発明の効果】よって、本発明のプロセスガス供給ユニ
ットによれば、流路が形成されたマニホールドブロック
と、その上面に取り付けられた供給弁、パージ弁、及び
チェック弁とを有するものであって、前記供給弁へのプ
ロセスガス入力ポートと、前記供給弁からのプロセスガ
ス出力ポートと、前記チェック弁へのパージガス入力ポ
ートとが、前記マニホールドブロック下面に、一直線上
に形成されているので、マニホールドブロックを直方体
に成形して小スペース化することができ、装置全体を小
型化することができた。Thus, according to the process gas supply unit of the present invention, there is provided a manifold block in which a flow path is formed, and a supply valve, a purge valve, and a check valve attached to the upper surface thereof. Since the process gas input port to the supply valve, the process gas output port from the supply valve, and the purge gas input port to the check valve are formed in a straight line on the lower surface of the manifold block, the manifold The block could be formed into a rectangular parallelepiped to reduce the space, and the entire device could be reduced in size.
【図１】本発明の第１実施の形態に係るプロセスガス供
給ユニットの側面図である。FIG. 1 is a side view of a process gas supply unit according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第１実施の形態に係るプロセスガス供
給ユニットの上面図である。FIG. 2 is a top view of the process gas supply unit according to the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第１実施の形態に係るプロセスガス供
給ユニットの下面図である。FIG. 3 is a bottom view of the process gas supply unit according to the first embodiment of the present invention.
【図４】第１実施の形態に係るプロセスガス供給ユニッ
トで使用されているマニホールドブロックの上面図であ
る。FIG. 4 is a top view of a manifold block used in the process gas supply unit according to the first embodiment.
【図５】第１実施の形態に係るプロセスガス供給ユニッ
トで使用されているマニホールドブロックの下面図であ
る。FIG. 5 is a bottom view of a manifold block used in the process gas supply unit according to the first embodiment.
【図６】図５のＡＡ断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along the line AA of FIG.
【図７】第１実施の形態のプロセスガス供給ユニットを
システム化した一例を示す図である。FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a systemized process gas supply unit according to the first embodiment.
【図８】第２実施の形態のプロセスガス供給にユニット
の側面図である。FIG. 8 is a side view of a process gas supply unit according to a second embodiment.
【図９】第２実施の形態のプロセスガス供給ユニットの
上面図である。FIG. 9 is a top view of a process gas supply unit according to a second embodiment.
【図１０】第２実施の形態のプロセスガス供給ユニット
の下面図である。FIG. 10 is a bottom view of a process gas supply unit according to a second embodiment.
【図１１】第２実施の形態で使用されているマニホール
ドブロックの上面図である。FIG. 11 is a top view of a manifold block used in the second embodiment.
【図１２】第２実施の形態で使用されているマニホール
ドブロックの下面図である。FIG. 12 is a bottom view of a manifold block used in the second embodiment.
【図１３】図１２のＢＢ断面図である。FIG. 13 is a sectional view taken along the line BB of FIG.
【図１４】図１２ＣＣ断面図である。FIG. 14 is a sectional view of FIG. 12CC.
【図１５】図１６の側面図である。FIG. 15 is a side view of FIG.
【図１６】従来のプロセスガス供給の平面図である。FIG. 16 is a plan view of a conventional process gas supply.
【図１７】図１６の下面図である。FIG. 17 is a bottom view of FIG. 16;
【図１８】従来のプロセスガス供給ユニットで使用され
ているマニホールドブロックの上面図である。FIG. 18 is a top view of a manifold block used in a conventional process gas supply unit.
【図１９】図１８のＸＸ断面図である。FIG. 19 is a sectional view taken along the line XX of FIG. 18;
【図２０】図１８のＹＹ断面図である。20 is a sectional view taken along the line YY of FIG.
【図２１】図１８のＺＺ断面図である。FIG. 21 is a sectional view taken along the line ZZ of FIG. 18;
１ プロセスガス供給ユニット ２ マニホールドブロック ３ プロセスガス入力ポート ４ パージガス入力ポート ５ プロセスガス出力ポート ２０ 供給弁 ４０ パージ弁 ５０ チェック弁 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Process gas supply unit 2 Manifold block 3 Process gas input port 4 Purge gas input port 5 Process gas output port 20 Supply valve 40 Purge valve 50 Check valve
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小池 和彦 愛知県春日井市堀ノ内町850 シーケーデ ィ株式会社春日井事業所内 Ｆターム(参考） 3H051 BB10 CC01 CC15 FF09 FF15 3H066 AA07 BA17 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Kazuhiko Koike 850 Horinouchi-cho, Kasugai-shi, Aichi F-term (reference) in Kasugai Works of KK K.K. 3H051 BB10 CC01 CC15 FF09 FF15 3H066 AA07 BA17
Claims (4)
と、その上面に取り付けられた供給弁、パージ弁、及び
チェック弁とを有するプロセスガス供給ユニットにおい
て、 前記供給弁へのプロセスガス入力ポートと、前記供給弁
からのプロセスガス出力ポートと、前記チェック弁への
パージガス入力ポートとが、前記マニホールドブロック
下面に、一直線上に形成されていることを特徴とするプ
ロセスガス供給ユニット。1. A process gas supply unit having a manifold block in which a flow path is formed, and a supply valve, a purge valve, and a check valve attached to an upper surface thereof, wherein a process gas input port to the supply valve; A process gas supply unit, wherein a process gas output port from the supply valve and a purge gas input port to the check valve are formed in a straight line on a lower surface of the manifold block.
ニットにおいて、 前記マニホールドブロックの上面に真空弁が取り付けら
れ、 前記真空弁への真空入力ポートが、前記マニホールドの
下面に、前記プロセスガス入力ポート、前記プロセスガ
ス出力ポート、前記パージガス入力ポートと一直線上に
形成されていることを特徴とするプロセスガス供給ユニ
ット。2. The process gas supply unit according to claim 1, wherein a vacuum valve is mounted on an upper surface of the manifold block, and a vacuum input port to the vacuum valve is provided on a lower surface of the manifold. A process gas supply unit formed in line with the process gas output port and the purge gas input port.
スガス供給ユニットにおいて、 前記供給弁が、前記マニホールドブロックの上面端部に
取り付けられ、 前記プロセスガス入力ポートが、前記マニホールドブロ
ックの下面端部に形成され、前記プロセスガス出力ポー
トが、前記マニホールドブロックの下面他端部に形成さ
れ、 前記プロセスガス供給ポートと前記プロセスガス出力ポ
ートとを連通するプロセスガス出力流路が前記マニホー
ルドブロックの中心部に形成され、 前記チェック弁と前記パージガス入力ポートとを連通す
るパージガス入力流路が、前記プロセスガス出力流路を
迂回してＶ字形に形成されていることを特徴とするプロ
セスガス供給ユニット。3. The process gas supply unit according to claim 1, wherein the supply valve is attached to an upper end of the manifold block, and the process gas input port is connected to a lower end of the manifold block. A process gas output port formed at the other end of the lower surface of the manifold block; and a process gas output passage communicating the process gas supply port and the process gas output port is formed at the center of the manifold block. A process gas supply unit formed in a portion, wherein a purge gas input flow path communicating the check valve and the purge gas input port is formed in a V-shape bypassing the process gas output flow path.
ニットにおいて、 前記真空弁と前記真空入力ポートとを連通する真空入力
流路が、前記プロセスガス出力流路を迂回してＶ字形に
形成されていることを特徴とするプロセスガス供給ユニ
ット。4. The process gas supply unit according to claim 3, wherein a vacuum input flow path connecting the vacuum valve and the vacuum input port is formed in a V-shape bypassing the process gas output flow path. A process gas supply unit.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25519899A JP4077998B2 (en) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | Process gas supply unit |
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|---|---|
| JP2001082621A true JP2001082621A (en) | 2001-03-30 |
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