JP2001066558A - Contact lens and its production - Google Patents
Contact lens and its productionInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、装用感に優れ、角
膜表面に損傷を与えにくく、しかも取扱中にレンズ表面
が傷つきにくいコンタクトレンズおよびその製造方法に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a contact lens which is excellent in wearing feeling, hardly damages a corneal surface, and is hardly damaged during handling, and a method of manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】コンタクトレンズはハードコンタクトレ
ンズとソフトコンタクトレンズに大別され、患者の生活
スタイルや眼の状態に合わせて処方される。ソフトコン
タクトレンズは装用感に優れ、酸素透過性が高い反面、
煮沸滅菌が必要なため取り扱いが困難であり、レンズ寿
命も短く耐久性が劣るという欠点がある。これに対し
て、ハードコンタクトレンズは取り扱いが簡便な上、視
力矯正や強度の乱視矯正に優れている反面、酸素透過性
や装用感が悪く、装用人口が減少気味である。2. Description of the Related Art Contact lenses are roughly classified into hard contact lenses and soft contact lenses, and are prescribed according to the lifestyle and eye condition of the patient. Soft contact lenses have excellent wearing feeling and high oxygen permeability,
Since boiling sterilization is required, handling is difficult, and there is a disadvantage that the life of the lens is short and the durability is poor. On the other hand, hard contact lenses are easy to handle and excellent in correction of visual acuity and correction of astigmatism, but on the other hand, oxygen permeability and feeling of wearing are poor, and the wearing population tends to decrease.
【０００３】ハードコンタクトレンズにおける酸素透過
性については、従来材料であるポリメチルメタクリレー
ト（ＰＭＭＡ）に替わり、酸素透過性に優れたシロキサ
ニルメタクリレート（ＳｉＭＡ）やシロキサニルスチレ
ン（ＳｉＳｔ）といった材料により、ソフトコンタクト
レンズを凌ぐようになってきた。[0003] Regarding the oxygen permeability of a hard contact lens, a material such as siloxanyl methacrylate (SiMA) or siloxanyl styrene (SiSt) having excellent oxygen permeability is used instead of polymethyl methacrylate (PMMA) which is a conventional material. , It has surpassed soft contact lenses.
【０００４】コンタクトレンズは直接目に入れるもので
あるため、ハードコンタクトレンズにおける装用感の向
上はもちろんのこと、またソフトコンタクトレンズにお
いてもさらなる向上が不可欠である。装用感の向上は、
コンタクトレンズ表面と水（涙液）との親和性に起因す
る。すなわち、レンズ表面の親水性が高いほど装用感に
優れる。特に、酸素透過性コンタクトレンズはシリコー
ン系、フッ素系材料を主成分としているため疎水性が強
く、装用初期の異物感や油膜、くもりなどが生じる。シ
リコーン系材料を主成分としたコンタクトレンズの接触
角は、通常８０〜１０５゜程度であるが、装用感を高
め、レンズ表面の汚れを防止するためには、６０゜以下
の接触角にすることが望ましい。[0004] Since a contact lens is directly visible, it is indispensable to improve not only the feeling of wearing a hard contact lens but also a soft contact lens. Improving the feeling of wearing
This is due to the affinity between the contact lens surface and water (tears). That is, the higher the hydrophilicity of the lens surface, the better the feeling of wearing. In particular, since oxygen-permeable contact lenses are mainly composed of a silicone-based or fluorine-based material, they have high hydrophobicity, and may cause a foreign-body sensation, an oil film, and cloudiness in the initial stage of wearing. The contact angle of a contact lens containing a silicone-based material as a main component is usually about 80 to 105 °, but the contact angle should be 60 ° or less in order to enhance the feeling of wearing and prevent the lens surface from being stained. Is desirable.
【０００５】このような観点から、レンズ表面を改質
し、親水性を高める試みが提案されている。例えば特開
平６−２８９３３２号公報においては、プラズマ処理に
より親水性高分子皮膜を形成している。また特開平５−
８０２７６号公報においては、低温プラズマによりレン
ズ表面に室温で親水性を示すモノマーのグラフト重合膜
を形成している。さらに特開平７−１３８３９２号公報
においては、レンズ表面に窒素雰囲気中で電子線を照射
し、その後水系溶液に浸漬することにより装用感を向上
させている。[0005] From such a viewpoint, attempts have been made to modify the lens surface to increase the hydrophilicity. For example, in JP-A-6-289332, a hydrophilic polymer film is formed by plasma treatment. Japanese Patent Laid-Open No. 5-
In Japanese Patent No. 80276, a graft polymerization film of a monomer having hydrophilicity at room temperature is formed on a lens surface by low-temperature plasma. Further, in JP-A-7-138392, the feeling of wearing is improved by irradiating the lens surface with an electron beam in a nitrogen atmosphere and then immersing the lens surface in an aqueous solution.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】このように、コンタク
トレンズの装用感を向上させるために、レンズ表面に親
水性の高分子皮膜を形成する技術が多数報告されてい
る。しかしながら、これらの高分子皮膜は硬度が低く、
長期間使用しているうちに磨耗・摩滅してしまうといっ
た問題点がある。重合等により作製された高分子膜のビ
ッカース硬度は、作製法にもよるが、通常０．２ＧＰａ
程度であり、ガラスや金属に比べて著しく小さい。また
コンタクトレンズの材料であるＰＭＭＡのビッカース硬
度も０．５〜１ＧＰａ程度である。コンタクトレンズは
毎日着脱を行い、酵素洗浄や擦り洗いが必要であるた
め、日常の手入れを行っているうちに、表面皮膜が磨耗
・摩滅するのはもちろんのこと、レンズ自身の表面にも
傷が入ってしまう可能性が高い。皮膜の厚さを厚くする
ことにより、摩滅による寿命を向上させることも可能で
はあるが、逆に酸素透過性を劣化させてしまうために、
眼球への負担を著しく増加させてしまう。As described above, many techniques for forming a hydrophilic polymer film on a lens surface in order to improve the wearing feeling of a contact lens have been reported. However, these polymer films have low hardness,
There is a problem that it is worn out or worn out after being used for a long time. The Vickers hardness of a polymer film produced by polymerization or the like depends on the production method, but is usually 0.2 GPa.
And is significantly smaller than glass or metal. The Vickers hardness of PMMA, which is a material for contact lenses, is also about 0.5 to 1 GPa. Contact lenses must be worn and removed daily, and enzyme cleaning and scrubbing are necessary.During daily maintenance, not only the surface film will be worn and worn, but also the surface of the lens itself will be damaged. There is a high possibility of entering. By increasing the thickness of the film, it is possible to improve the life due to attrition, but on the contrary, to deteriorate the oxygen permeability,
The burden on the eyeball is significantly increased.
【０００７】そこで本発明の目的は、親水性が高く装用
感に優れ、しかも十分な機械的強度を併せ持つコンタク
トレンズとその製造方法を提供することにある。Accordingly, an object of the present invention is to provide a contact lens which has high hydrophilicity, is excellent in wearing feeling, and has sufficient mechanical strength, and a method for producing the same.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は、コンタクトレ
ンズにおいて、少なくとも表面の一部にカーボン膜が形
成されていることを特徴とする。このカーボン膜とし
て、ダイヤモンド状カーボン（ＤＬＣ）と呼ばれる性質
を有する膜を用いることが望ましい。このカーボン膜は
硬度が１０ＧＰａ以上であることが好ましく、さらにカ
ーボン膜の表面を酸素もしくは窒素により終端すること
によって、コンタクトレンズに必要な機械的強度と、水
との親和性高くなるような構造を得ることができる。The present invention is characterized in that a carbon film is formed on at least a part of the surface of a contact lens. It is desirable to use a film having a property called diamond-like carbon (DLC) as the carbon film. The carbon film preferably has a hardness of 10 GPa or more. Further, by terminating the surface of the carbon film with oxygen or nitrogen, a structure that increases the mechanical strength required for the contact lens and the affinity for water is increased. Obtainable.
【０００９】カーボン膜の作製には、直流(ｄｃ)スパッ
タ法、高周波(ｒｆ)スパッタ法、マグネトロンスパッタ
法、イオンビームスパッタ(ＩＢＳ)法、電子サイクロト
ロン共鳴(ＥＣＲ)スパッタ法といった、グラファイト、
グラッシーカーボンなどのターゲット材料をアルゴン、
キセノン等の不活性ガスでスパッタリングする、いわゆ
る物理的気相成長(ＰＶＤ)法が利用可能である。あるい
は、ｄｃプラズマ化学的気相成長(ＣＶＤ)法、ｒｆプラ
ズマＣＶＤ法、ＥＣＲプラズマ気相成長法、イオンビー
ム堆積(ＩＢＳ)法など、メタン、アセチレンといった炭
化水素ガスをプラズマで分解して堆積させる、いわゆる
化学的気相成長(ＣＶＤ)法のような気相成長技術も利用
可能である。カーボン膜の性質は、これらの作製方法や
作製条件によって大きく変化する。すなわち、カーボン
同士の結合がグラファイト構造の基本となるｓｐ２結合
からなり、硬度が小さく電気伝導性を有する膜と、ダイ
ヤモンド構造の基本であるｓｐ３結合からなり、硬度が
大きく絶縁性である膜である。実際に気相成長法で得ら
れる膜は、アモルファスないしは微結晶を主体とした多
結晶構造であり、ダイヤモンドとグラファイトの中間的
な性質を示すことが多い。これらのうち、ｓｐ３結合の
存在割合が高くダイヤモンドに近い性質を示す膜は、特
にダイヤモンド状カーボンあるいはＤＬＣと呼ばれてい
る。本発明で用いるカーボン膜としては、ＤＬＣ と呼
ばれる性質を有する膜が特に好適に用いられる。特に、
その硬度としては１０ＧＰａ以上であることが望ましい
が、２０ＧＰａの硬度を持つものであれば材料として充
分な硬さとなりさらに望ましい。この硬度は、コンタク
トレンズの硬度より十分に大きく、日常の洗浄等で表面
を強く擦っても傷が入ったり、摩滅することがない。な
おかつ、このようなＤＬＣ膜は潤滑性にも優れており、
摩擦係数は０．５以下であるが、条件（成膜、摩擦時の
雰囲気、摩擦の相手の材質）によっては０．１以下と小
さい。The carbon film is formed by graphite such as direct current (dc) sputtering, high frequency (rf) sputtering, magnetron sputtering, ion beam sputtering (IBS), and electron cyclotron resonance (ECR) sputtering.
Argon, a target material such as glassy carbon
A so-called physical vapor deposition (PVD) method of sputtering with an inert gas such as xenon can be used. Alternatively, dc plasma chemical vapor deposition (CVD), rf plasma CVD, ECR plasma vapor deposition, ion beam deposition (IBS), and the like are used to decompose and deposit hydrocarbon gases such as methane and acetylene using plasma. Also, a vapor phase growth technique such as a so-called chemical vapor deposition (CVD) method can be used. The properties of the carbon film greatly change depending on these manufacturing methods and manufacturing conditions. That is, a film having a small hardness and electrical conductivity, and a film having a high hardness and a sp3 bond which is a basic structure of a diamond structure, wherein the bond between carbons is formed of an sp2 bond which is a basic structure of a graphite structure. . Actually, a film obtained by a vapor growth method has a polycrystalline structure mainly composed of amorphous or microcrystals, and often shows an intermediate property between diamond and graphite. Among them, a film having a high sp3 bond abundance and exhibiting properties close to diamond is particularly called diamond-like carbon or DLC. As the carbon film used in the present invention, a film having a property called DLC is particularly preferably used. In particular,
The hardness is desirably 10 GPa or more, but a material having a hardness of 20 GPa is more desirably sufficient as a material. This hardness is sufficiently higher than the hardness of the contact lens, so that the surface is not scratched or worn even if the surface is strongly rubbed in daily cleaning or the like. In addition, such a DLC film is also excellent in lubricity,
The friction coefficient is 0.5 or less, but as small as 0.1 or less depending on the conditions (film formation, atmosphere during friction, material of friction partner).
【００１０】このため、装脱着時や装用時における角膜
への負担を軽減し、角膜損傷といった事故を抑制する効
果も期待できる。[0010] For this reason, the effect of reducing the burden on the cornea at the time of putting on and taking off and wearing it and suppressing accidents such as corneal damage can be expected.
【００１１】ＤＬＣ膜は、前述したように、グラファイ
ト等のカーボン製ターゲットを原料としたＰＶＤ法、な
いしはメタン、エタン、アセチレン等の炭化水素ガスを
原料としたＣＶＤ法で基板上に堆積される。したがっ
て、作製時のＤＬＣ膜の表面は炭素のみ、あるいは炭素
と水素で構成される。このような表面状態の場合、水の
接触角は通常７０゜〜９０゜であり、疎水性を示す。そ
こで本発明では、カーボン膜表面を酸素プラズマで処理
し、表面を酸素で終端することを特徴としている。ある
いは、カーボン膜表面を窒素プラズマで処理し、表面を
窒素で終端することを特徴としている。この結果、水の
接触角は６０゜以下となり、装用感に優れたコンタクト
レンズが実現できる。またこのような親水化処理は、表
面への汚れ付着防止にも効果的である。As described above, the DLC film is deposited on the substrate by a PVD method using a carbon target such as graphite as a raw material or a CVD method using a hydrocarbon gas such as methane, ethane or acetylene as a raw material. Therefore, the surface of the DLC film at the time of fabrication is composed of only carbon or carbon and hydrogen. In the case of such a surface state, the contact angle of water is usually 70 ° to 90 °, indicating hydrophobicity. Therefore, the present invention is characterized in that the surface of the carbon film is treated with oxygen plasma and the surface is terminated with oxygen. Alternatively, the surface of the carbon film is treated with nitrogen plasma, and the surface is terminated with nitrogen. As a result, the contact angle of water becomes 60 ° or less, and a contact lens excellent in wearing feeling can be realized. Such a hydrophilizing treatment is also effective in preventing the adhesion of dirt to the surface.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。Embodiments of the present invention will be described below.
【００１３】本発明においては、コンタクトレンズの、
少なくとも一部分にカーボン膜が形成されている。コン
タクトレンズの具体的な材質は特に限定はされないが、
特に装用感が課題となっているハードコンタクトレンズ
にいて特に優れた効果を示す。具体的には、ハードコン
タクトレンズの材質としては、ポリメチルメタクリレー
ト（ＰＭＭＡ）、シロキサニルメタクリレート（ＳｉＭ
Ａ）、シロキサニルスチレン（ＳｉＳｔ）、あるいはこ
れらの材料にメチルメタクリレート（ＭＭＡ）やフルオ
ロメタクリレート（ＦＭＡ）を配合した材料、さらには
フマル酸エステルからなるポリマーなどがあげられる。
これらの材料の酸素透過性は、ＰＭＭＡを除いてかなり
高く、酸素透過係数、いわゆるＤｋ値は２０〜２５０を
示す。ソフトコンタクトレンズは、装用感についてはハ
ードコンタクトレンズに比較して問題にならないもの
の、レンズ表面の傷を防止し、耐久性を高めるといった
観点からも本発明の適用は有効である。ソフトコンタク
トレンズの材質としては、具体的には、２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）、ｎ−ビニルピロド
リン（ＮＶＰ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、２
−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン（ＭＰ
Ｃ）、ブチルメタクリレート（ＢｕＭＡ）あるいはブチ
ルアクリレート（ＢｕＡ）などがある。In the present invention, the contact lens
A carbon film is formed at least partially. The specific material of the contact lens is not particularly limited,
In particular, a hard contact lens, in which a feeling of wearing is an issue, exhibits particularly excellent effects. Specifically, as the material of the hard contact lens, polymethyl methacrylate (PMMA), siloxanyl methacrylate (SiM
A), siloxanylstyrene (SiSt), a material in which methyl methacrylate (MMA) or fluoromethacrylate (FMA) is blended with these materials, and a polymer made of fumaric acid ester.
The oxygen permeability of these materials is quite high, except for PMMA, and their oxygen permeability coefficients, so-called Dk values, are between 20 and 250. Although the soft contact lens does not cause a problem in wearing feeling as compared with the hard contact lens, the application of the present invention is effective from the viewpoint of preventing scratches on the lens surface and increasing durability. As the material of the soft contact lens, specifically, 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), n-vinylpyrrolidine (NVP), polyvinyl alcohol (PVA),
-Methacryloyloxyethyl phosphorylcholine (MP
C), butyl methacrylate (BuMA) or butyl acrylate (BuA).
【００１４】本発明においてカーボン膜は、少なくとも
レンズの周囲エッジ部分および凹面部分、すなわち眼球
と直接接する面に形成されていることが望ましい。より
好ましくは、コンタクトレンズ全面にカーボン膜が形成
されていることである。ここでいう全面とは、コンタク
トレンズの両面である。なぜなら、まばたきをした際に
レンズの凸面部分全面に涙液が供給されるが、カーボン
膜がない場合には、表面の疎水性が強く、次のまばたき
の間にレンズ表面の一部が乾いてしまい、異物感が強く
なってしまう。カーボン膜の硬さは、ビッカース硬度で
１０ＧＰａ以上必要である。この値は、ハードコンタク
トレンズ自身の硬さの数倍ないしは数十倍の硬さであ
る。１０ＧＰａ未満の硬さでは、擦り洗いを繰り返して
いるうちに、レンズ表面に傷が入る場合がある。硬度の
大きいカーボン膜、いわゆるＤＬＣ膜は、硬度が１０Ｇ
Ｐａ以上あるものを好適に用いるうえ、摩擦係数が０．
５以下、条件によっては０．１以下と小さいため、摩擦
時にレンズ表面に与える機械的ダメージを極めて小さく
することができる。したがって、従来のコンタクトレン
ズの機械的耐久性を飛躍的に向上させることが可能とな
る。またこのカーボン膜の水との接触角は６０゜以下に
する必要がある。これ以上接触角が大きくなると、言い
換えれば水との親和性が悪くなると、装用時に異物感を
強く感じ、装用感が悪くなってしまう。このように、カ
ーボン膜表面を親水性にするには、酸膜の再表面を酸素
ないしは窒素で終端することが極めて有効である。接触
角は、成膜手法、成膜条件等に起因するカーボン膜の表
面状態、およびカーボン表面を終端する酸素もしくは窒
素原子の表面被覆率等に依存する。従って、適切な接触
角を持ったカーボン膜を得るためには、これらの条件を
適当にコントロールすればよい。カーボン膜の膜厚につ
いては、酸素透過係数Ｄｋ値および可視光透過性が高
く、かつ耐摩耗性が十分確保できる範囲で、できるだけ
薄い方が好ましい。具体的には、Ｄｋ値として２０以
上、可視光透過率は９５％以上必要である。これらの条
件を満足するような必要最低限の厚さは成膜条件や膜質
等によって異なるが、１００ｎｍ以下、より好ましくは
５０ｎｍである。また薄ければ薄いほど透明性において
有利であるが、成膜条件を考慮すると、１ｎｍ以上の厚
さは必要である。In the present invention, it is desirable that the carbon film is formed on at least a peripheral edge portion and a concave portion of the lens, that is, a surface directly in contact with the eyeball. More preferably, a carbon film is formed on the entire surface of the contact lens. Here, the entire surface refers to both surfaces of the contact lens. This is because tears are supplied to the entire convex surface of the lens when blinking, but if there is no carbon film, the surface is strongly hydrophobic and a part of the lens surface will dry during the next blink. As a result, the feeling of foreign objects becomes stronger. The hardness of the carbon film needs to be 10 GPa or more in Vickers hardness. This value is several times or several tens times the hardness of the hard contact lens itself. If the hardness is less than 10 GPa, the surface of the lens may be damaged during repeated rubbing. A carbon film having high hardness, a so-called DLC film, has a hardness of 10G.
In addition to those having a Pa of at least Pa, a coefficient of friction of 0.1 Pa or more is preferably used.
Since it is as small as 5 or less and as small as 0.1 or less depending on the conditions, mechanical damage given to the lens surface during friction can be extremely reduced. Therefore, the mechanical durability of the conventional contact lens can be significantly improved. Further, the contact angle of the carbon film with water must be 60 ° or less. If the contact angle is further increased, in other words, if the affinity with water is deteriorated, a foreign-body sensation is strongly felt during wearing, and the wearing sensation is deteriorated. Thus, in order to make the surface of the carbon film hydrophilic, it is extremely effective to terminate the resurface of the acid film with oxygen or nitrogen. The contact angle depends on the surface state of the carbon film resulting from the film formation technique, film formation conditions, and the like, and the surface coverage of oxygen or nitrogen atoms terminating the carbon surface. Therefore, in order to obtain a carbon film having an appropriate contact angle, these conditions may be appropriately controlled. The thickness of the carbon film is preferably as thin as possible as long as the oxygen permeability coefficient Dk value and visible light transmittance are high and abrasion resistance can be sufficiently ensured. Specifically, a Dk value of 20 or more and a visible light transmittance of 95% or more are required. The minimum required thickness that satisfies these conditions varies depending on the film formation conditions, film quality, and the like, but is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm. The thinner the film, the more advantageous in transparency. However, a film thickness of 1 nm or more is necessary in consideration of film forming conditions.
【００１５】カーボン膜の成膜法としては、前述したよ
うな方法が考えられるが、コンタクトレンズ表面に所望
の厚さを制御よく成膜でき、しかも１０ＧＰａ以上の硬
度を有する膜が形成可能であれば、特に限定されるもの
ではない。いずれの成膜手法においても注意しなければ
ならないのは、コンタクトレンズ表面に、成膜プロセス
に起因するダメージを与えないことである。例えば、エ
ネルギー粒子のスパッタリング効果によるレンズ表面へ
の凹凸の形成、あるいはプラズマによるレンズ表面のエ
ッチング等はコンタクトレンズの性能を劣化させるもの
であるため、これらが起こるような条件は避けなければ
ならない。これらの方法で形成されるカーボン膜は、炭
素のみないしは炭素と水素を主成分としている。炭素と
水素を主成分とする場合には、水素は少なくとも５０％
以下が好ましい。これは水素が多くなりすぎると、高い
硬度が得られないといった問題があるからであり、水素
の量は少なければ少ないほど好ましい。またカーボン膜
のごく一般的な評価法であるラマン分光分析において
は、１５２０ｃｍ― 1〜１６００ｃｍ― 1付近にピークを
もつ、比較的ブロードなＧバンドと呼ばれるピークと、
１３２０ｃｍ― 1〜１４００ｃｍ― 1付近にピークをもつ
Ｄバンドと呼ばれるピークから構成されることが特徴で
ある。この他に、膜硬度を向上させるために、窒素やシ
リコンなどの元素をドープする方法が考えられる。ドー
プする量としては、膜の構造を変化させない程度である
ことが望ましく、全体の１５原子％以下である。特にＤ
ＬＣにおいてはこのように窒素をドープすることによっ
て硬さが増すと考えられる。As a method of forming the carbon film, the above-mentioned method can be considered. However, a film having a hardness of 10 GPa or more can be formed on the surface of the contact lens with a desired thickness with good controllability. However, there is no particular limitation. It should be noted that in any of the film forming techniques, the contact lens surface is not damaged by the film forming process. For example, the formation of irregularities on the lens surface due to the sputtering effect of energetic particles, or the etching of the lens surface by plasma, etc., degrade the performance of the contact lens. The carbon film formed by these methods contains only carbon or carbon and hydrogen as main components. When carbon and hydrogen are the main components, hydrogen is at least 50%
The following is preferred. This is because if the amount of hydrogen is too large, there is a problem that a high hardness cannot be obtained. The smaller the amount of hydrogen, the more preferable. In the Raman spectroscopic analysis is a very common evaluation of the carbon film, 1520cm - 1 ~1600cm - with a peak near 1, and peak called relatively broad G band,
1320cm - 1 ~1400cm - it is that characteristic that is configured from a peak called D band with a peak at around 1. In addition, a method of doping with an element such as nitrogen or silicon can be considered to improve the film hardness. The doping amount is desirably such that the structure of the film is not changed, and is 15 atomic% or less of the whole. Especially D
In LC, it is considered that the hardness is increased by doping with nitrogen as described above.
【００１６】また、レンズの機械的耐久性を損なう要因
として、カーボン膜とコンタクトレンズとの間の密着性
不良がある。硬度の大きなカーボン膜は、条件によって
は比較的大きな内部応力を示すため、剥離の原因となる
場合がある。この場合は、酸素透過性、可視光透過性を
損なわない範囲で、密着性を向上させるための中間層を
挿入することが可能である。具体的にはシリコンが有効
であるが、厚さによっては透明性において不利になる点
を考慮すると、この中間層はコンタクトレンズの材質に
シリコンが含まれていれば特に必要ではない。また中間
層は必ずしも連続膜である必要はなく、不連続な島状構
造であってもかまわない。Another factor that impairs the mechanical durability of the lens is poor adhesion between the carbon film and the contact lens. Since a carbon film having a high hardness shows a relatively large internal stress depending on conditions, it may cause peeling. In this case, it is possible to insert an intermediate layer for improving the adhesion as long as the oxygen permeability and the visible light permeability are not impaired. Specifically, silicon is effective, but considering the disadvantage of transparency depending on the thickness, this intermediate layer is not particularly required if the material of the contact lens contains silicon. Further, the intermediate layer does not necessarily need to be a continuous film, and may have a discontinuous island structure.
【００１７】カーボン膜表面を酸素ないしは窒素で終端
するためには、カーボン膜形成後に表面を酸素プラズマ
もしくは窒素プラズマで処理を行う。処理に用いられる
プラズマ源としては、ｄｃプラズマ、ｒｆプラズマ、Ｅ
ＣＲプラズマ等が利用可能である他、イオン源を利用し
た酸素イオンないしは窒素イオンの直接照射も有効であ
る。その他の条件については、接触角が所望の値となる
よう、適当に選択すればよい。またカーボン成膜からプ
ラズマ処理に至るプロセスは、可能な限り真空容器中で
連続して行うことが望ましい。このプラズマ処理はコン
タクトレンズの全面に覆われたカーボン膜に行うことが
好ましいが、カーボン膜が全面でない場合でも、コンタ
クトレンズ自身の表面にダメージを与えずに、充分な親
水化処理を行うことができる。In order to terminate the surface of the carbon film with oxygen or nitrogen, the surface is treated with oxygen plasma or nitrogen plasma after forming the carbon film. Plasma sources used for the processing include dc plasma, rf plasma, E
In addition to the use of CR plasma, direct irradiation of oxygen ions or nitrogen ions using an ion source is also effective. Other conditions may be appropriately selected so that the contact angle has a desired value. Further, it is desirable that the process from the carbon film formation to the plasma treatment be performed continuously in a vacuum vessel as much as possible. This plasma treatment is preferably performed on the carbon film covered on the entire surface of the contact lens. However, even when the carbon film is not on the entire surface, it is possible to perform a sufficient hydrophilic treatment without damaging the surface of the contact lens itself. it can.
【００１８】[0018]
【実施例】以下、実施例について説明する。Embodiments will be described below.
【００１９】（実施例１）基板として、ハードコンタク
トレンズの材料であるシロキサニルメタクリレート（Ｓ
ｉＭＡ）の５０×５０ｍｍ2の平板を用いた。基板をエ
タノール中で２０分間超音波洗浄し、さらに純水で洗
浄、乾燥した後、真空チャンバー内に基板ホルダーを用
いて高周波プラズマ用のカソード電極上に設置した。カ
ソードと対向して、ステンレス（ＳＵＳ３０４）製の対
向電極が設けてあり、接地電位とした。カソードと対向
電極の距離は４０ｍｍとした。続いて真空容器を１×１
０― 6Ｔｏｒｒ以下に排気した後、メタンガス１５ｓｃ
ｃｍ、水素ガスを３５ｓｃｃｍ容器中に導入し、バリア
ブルリークバルブを調整して容器内の圧力を０．１Ｔｏ
ｒｒとした。次に高周波電源よりカソードに１３．５６
ＭＨｚ、１００Ｗの高周波を印加し、プラズマを発生さ
せ、５分間基板上にカーボン膜を堆積させた。基板は特
に外部から加熱ないしは冷却は行ってはいないが、成膜
中の基板温度上昇は５０℃未満と思われる。カーボン膜
の成膜終了後、真空容器内を再び１×１０ ― 6Ｔｏｒｒ
まで排気し、続いて酸素を１０ｓｃｃｍ導入し、圧力を
０．２Ｔｏｒｒに設定した。次に高周波電源より１３．
５６ＭＨｚ、５０Ｗの高周波を印加して酸素プラズマを
生成し、３分間プラズマ処理を行った。(Embodiment 1) As a substrate, a hard contact
Siloxanyl methacrylate (S
iMA) 50x50mmTwoWas used. Substrate
Ultrasonic cleaning in Tanol for 20 minutes, and further with pure water
After cleaning and drying, use the substrate holder in the vacuum chamber.
And placed on a cathode electrode for high frequency plasma. Mosquito
Opposite to the sword, a pair of stainless steel (SUS304)
A counter electrode was provided and was set to the ground potential. Facing the cathode
The distance between the electrodes was 40 mm. Then, vacuum container is 1 × 1
0― 6After exhausting to Torr or less, methane gas 15sc
cm, hydrogen gas is introduced into a 35 sccm container and barrier
Adjust the pressure inside the container by adjusting the bull leak valve to 0.1 To
rr. Next, 13.56 from the high frequency power supply to the cathode
MHz, 100 W high frequency is applied to generate plasma.
And a carbon film was deposited on the substrate for 5 minutes. The board is special
Heating or cooling is not performed from outside
The substrate temperature rise in the middle is believed to be less than 50 ° C. Carbon membrane
After completion of the film formation, the inside of the vacuum vessel is again set to 1 × 10 ― 6Torr
And then introduce oxygen at 10 sccm and increase the pressure.
It was set to 0.2 Torr. Next, 13.
Applying a high frequency of 56 MHz and 50 W to generate oxygen plasma
Generated and plasma treated for 3 minutes.
【００２０】得られた膜をＨｅ―Ｎｅレーザーによるエ
リプソメトリーで測定した結果、膜厚は４２ｎｍであっ
た。この膜のラマン分光分析を行った結果、図１(ａ)の
ようなスペクトルが得られた。これをガウス関数でフィ
ッティングしたところ、図１(ｂ)のように、１５３０ｃ
ｍ― 1にピークを持つＧバンドと、１３１２ｃｍ― 1にピ
ークを持つＤバンドに分割できた。膜表面の元素分析を
Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）法により行った。試料表面に
ＭｇＫα線（エネルギー：１２５４ｅＶ）を照射し、出
てくる光電子を試料から７５°の位置に設置した検出器
で検出した。Ｃ１ｓスペクトルからは、Ｃ−Ｏ、Ｃ＝
Ｏ、Ｏ＝Ｃ−Ｏの結合が検出された。またそれぞれの結
合に対応するピークの面積強度から算出した表面近傍の
構成元素比は、炭素が５６原子パーセント、酸素が４４
原子パーセントであった。As a result of measuring the obtained film by ellipsometry using a He—Ne laser, the film thickness was 42 nm. As a result of performing Raman spectroscopic analysis of this film, a spectrum as shown in FIG. 1A was obtained. When this was fitted with a Gaussian function, as shown in FIG.
It was divided into a G band having a peak at m - 1 and a D band having a peak at 1312 cm - 1 . Elemental analysis of the film surface was performed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The sample surface was irradiated with MgKα rays (energy: 1254 eV), and the emitted photoelectrons were detected by a detector placed at a position 75 ° from the sample. From the C1s spectrum, C—O, C =
O, O = C—O bonds were detected. The ratio of the constituent elements near the surface calculated from the area intensity of the peak corresponding to each bond is as follows: 56 atomic percent of carbon and 44 atomic percent of oxygen.
Atomic percent.
【００２１】また分光光度計を用いて可視光の透過率を
測定した結果、基板自身の透過率を１００とした場合、
カーボン膜を成膜した試料においては全波長領域に渡っ
て９９以上であり、実用上問題がないことが判明した。
カーボン膜と水との接触角は２８°であり、実用上十分
な親水性を示すことが判明した。また、３６℃において
測定した酸素透過係数は８４で、十分な酸素透過性を有
することがわかった。ダイアモンド圧子を用いた薄膜用
微小硬度計で測定したカーボン膜の硬度は９４ＧＰａで
あった。この膜の耐磨耗性は、直径２ｍｍのアルミナボ
ールを２０ｇｆの力で押しつけ、膜上を往復摺動させ
た。この結果、１００往復の摺動回数後にも、膜上には
磨耗痕が見られなかった。また同時に測定した摩擦係数
は、摺動前後でも変化せず、０．１２の低い値を示し
た。As a result of measuring the transmittance of visible light using a spectrophotometer, when the transmittance of the substrate itself is set to 100,
In the sample on which the carbon film was formed, the value was 99 or more over the entire wavelength region, and it was found that there was no practical problem.
The contact angle between the carbon film and water was 28 °, which proved to be sufficiently hydrophilic for practical use. Further, the oxygen permeability coefficient measured at 36 ° C. was 84, indicating that the film had sufficient oxygen permeability. The hardness of the carbon film measured by a thin film microhardness meter using a diamond indenter was 94 GPa. The abrasion resistance of this film was determined by pressing an alumina ball having a diameter of 2 mm with a force of 20 gf and sliding the film back and forth. As a result, no wear marks were observed on the film even after 100 reciprocations. The coefficient of friction measured at the same time did not change before and after sliding, and showed a low value of 0.12.
【００２２】（実施例２）基板として、ハードコンタク
トレンズ材料であるシロキサニルスチレン（ＳｉＳｔ）
の５０×５０ｍｍ2の平板を用いた。これをエタノール
中で２０分間超音波洗浄し、さらに純水で洗浄、乾燥後
に真空容器中に設置した。この基板上に、イオンビーム
スパッタ法により、以下の条件でカーボン膜を成膜し
た。まず真空容器内を１×１０― 7Ｔｏｒｒ以下に排気
する。次にスパッタ用ＥＣＲイオン源にＡｒを４ｓｃｃ
ｍ導入し、２．４５ＧＨｚ、３００Ｗのマイクロ波電力
を投入し、プラズマを生成させる。次に引き出し電極に
直流２ｋＶの電圧を印加し、Ａｒイオンビームを引き出
し、ターゲットに照射する。ターゲットは９９．９９９
％のグラファイトで、直径６インチのものを使用した。
続いて、アシスト用イオン源にアルゴン３ｓｃｃｍを導
入し、２．４５ＧＨｚ、２００Ｗのマイクロ波電力を投
入し、プラズマを生成する。次に引き出し電極に１００
Ｖの直流電圧を印加しアルゴンイオンを直接基板に照射
する。この状態で、基板直前に設置されたシャッターを
開き、３０分間カーボン膜を成膜した。基板温度は室温
とした。引き続いて、アシスト用イオン源に窒素４ｓｃ
ｃｍ導入し、２．４５ＧＨｚ、３００Ｗのマイクロ波電
力を投入しプラズマを発生させ、引き出し電極に２００
Ｖの直流電圧を印加し、窒素イオンをカーボン膜の表面
に５分間照射した。(Example 2) Siloxanylstyrene (SiSt) which is a hard contact lens material was used as a substrate.
Of 50 × 50 mm 2 was used. This was ultrasonically washed in ethanol for 20 minutes, further washed with pure water, dried, and then placed in a vacuum vessel. On this substrate, a carbon film was formed by ion beam sputtering under the following conditions. First, the vacuum vessel 1 × 10 - exhausting below 7 Torr. Next, 4 scc of Ar was used as an ECR ion source for sputtering.
m, and microwave power of 2.45 GHz and 300 W is applied to generate plasma. Next, a DC voltage of 2 kV is applied to the extraction electrode to extract an Ar ion beam and irradiate the target with the Ar ion beam. The target is 99.999
% Graphite with a diameter of 6 inches was used.
Subsequently, argon of 3 sccm is introduced into the assisting ion source, and microwave power of 2.45 GHz and 200 W is applied to generate plasma. Next, 100
A DC voltage of V is applied to directly irradiate the substrate with argon ions. In this state, the shutter provided immediately before the substrate was opened, and a carbon film was formed for 30 minutes. The substrate temperature was room temperature. Subsequently, nitrogen 4 sc was supplied to the assist ion source.
cm, and microwave power of 2.45 GHz and 300 W is applied to generate plasma, and 200 μm is applied to the extraction electrode.
A DC voltage of V was applied, and the surface of the carbon film was irradiated with nitrogen ions for 5 minutes.
【００２３】得られたカーボン膜の膜厚は２５ｎｍで、
ラマンスペクトルでは１５２４ｃｍ ― 1にピークをもつ
Ｇバンドと、１３７７ｃｍ― 1にピークを持つＤバンド
からなるスペクトルが得られた。実施例１と同様に、膜
表面の元素分析をＸＰＳ法により行った結果、Ｃ１ｓス
ペクトルからはＣ−ＮおよびＣ＝Ｎの結合が検出され
た。また膜表面近傍の構成元素比は、炭素が５４原子パ
ーセント、窒素が４４原子パーセントであった。また、
カーボン膜を成膜した基板の可視光透過性は、基板自身
の透過率を１００として、９９以上の透過性を示した。
酸素透過係数は１２０、水の接触角は３２゜であった。
膜の硬度は１８０ＧＰａで、実施例と同様の耐磨耗試験
において、１００回の往復摺動に対しても磨耗痕は見ら
れなかった。The thickness of the obtained carbon film is 25 nm.
1524cm in Raman spectrum ― 1Has a peak at
G band and 1377cm― 1D band with peak at
Was obtained. Membrane as in Example 1
As a result of elemental analysis of the surface by the XPS method, C1s
The bond of C-N and C = N is detected from the spectrum.
Was. The ratio of constituent elements in the vicinity of the film surface is as follows:
-Cent, nitrogen was 44 atomic percent. Also,
The visible light transmittance of the substrate on which the carbon film is formed
Assuming that the transmittance was 100, a transmittance of 99 or more was exhibited.
The oxygen permeability coefficient was 120 and the contact angle of water was 32 °.
The hardness of the film is 180 GPa, the same abrasion resistance test as in the example
No wear marks are seen even after 100 reciprocal slides.
Was not.
【００２４】（実施例３）基板として、ハードコンタク
トレンズの材料であるシロキサニルメタクリレート（Ｓ
ｉＭＡ）の５０×５０ｍｍ2の平板を用いた。基板をエ
タノール中で２０分間超音波洗浄し、さらに純水で洗
浄、乾燥した後、真空チャンバー内に基板ホルダーを用
いて基板を設置した。その後、中間層としてスパッタ法
によりシリコンを成膜した。装置は通常の高周波マグネ
トロンスパッタ装置（周波数１３．５６ＭＨｚ）を用
い、ターゲットには９９．９９９％の多結晶シリコンを
用いた。チャンバー内をあらかじめ１×１０― 6Ｔｏｒ
ｒ以下に排気した後、アルゴンガスを導入し、２×１０
― 2Ｔｏｒｒの圧力でスパッタリングを行った。成膜は
室温で行い、シリコンの厚さが２０オングストロームと
なるよう成膜時間を調整した。(Example 3) As a substrate, siloxanyl methacrylate (S
iMA) 50 × 50 mm 2 flat plate was used. The substrate was ultrasonically washed in ethanol for 20 minutes, further washed with pure water and dried, and then placed in a vacuum chamber using a substrate holder. Thereafter, silicon was formed as an intermediate layer by a sputtering method. The apparatus used was an ordinary high-frequency magnetron sputtering apparatus (frequency 13.56 MHz), and 99.999% polycrystalline silicon was used as a target. The inside of the chamber beforehand 1 × 10 - 6 Tor
r, the argon gas was introduced, and 2 × 10
- it was sputtering at a pressure of 2 Torr. The film formation was performed at room temperature, and the film formation time was adjusted so that the thickness of silicon became 20 angstroms.
【００２５】この後、実施例１と同様な方法でカーボン
膜を１２ｎｍ成膜し、引き続いて酸素プラズマ処理を３
分間行った。この時の可視光透過性は、基板自身の透過
率を１００とした場合、９９以上であった。またカーボ
ン膜と水との接触角は３４°、３６℃で測定した酸素透
過係数は１３５であった。さらに、実施例１と同様の耐
磨耗試験において、１００回の往復摺動に対しても表面
に磨耗痕は見られなかった。Thereafter, a carbon film is formed to a thickness of 12 nm in the same manner as in the first embodiment, and subsequently, an oxygen plasma
Minutes. At this time, the visible light transmittance was 99 or more when the transmittance of the substrate itself was 100. The contact angle between the carbon film and water was 34 °, and the oxygen transmission coefficient measured at 36 ° C was 135. Furthermore, in the same abrasion resistance test as in Example 1, no wear marks were observed on the surface even after 100 reciprocal slidings.
【００２６】（実施例４）基板として、ハードコンタク
トレンズ材料であるシロキサニルスチレン（ＳｉＳｔ）
の５０×５０ｍｍ2の平板を用いた。これをエタノール
中で２０分間超音波洗浄し、さらに純水で洗浄、乾燥後
に空容器中に設置した。この基板上に、イオンビームス
パッタ法により、以下の条件で窒素含有カーボン膜を成
膜した。まず真空容器内を１×１０― 7Ｔｏｒｒ以下に
排気する。次にスパッタ用ＥＳＲイオン源にＡｒを４ｓ
ｃｃｍ導入し、２．４５ＧＨｚ、３００Ｗのマイクロ波
電力を投入し、プラズマを生成させる。次に引き出し電
極に直流２ｋＶの電圧を印加し、Ａｒイオンビームを引
き出し、ターゲットに照射する。ターゲットは９９．９
９９％のグラファイトで、直径６インチのものを使用し
た。続いて、アシスト用イオン源にアルゴン１ｓｃｃ
ｍ、窒素２ｓｃｃｍを導入し、２．４５ＧＨｚ、２００
Ｗのマイクロ波電力を投入し、プラズマを生成する。次
に引き出し電極に１００Ｖの直流電圧を印加しアルゴン
イオンと窒素イオンを直接基板に照射する。この状態
で、基板直前に設置されたシャッターを開き、３０分間
カーボン膜を成膜した。基板温度は室温とした。引き続
いて、アシスト用イオン源に窒素のみ４ｓｃｃｍ導入
し、２．４５ＧＨｚ、３００Ｗのマイクロ波電力を投入
しプラズマを発生させ、引き出し電極に２００Ｖの直流
電圧を印加し、窒素イオンをカーボン膜の表面に５分間
照射した。Example 4 Siloxanylstyrene (SiSt), which is a hard contact lens material, was used as a substrate.
Of 50 × 50 mm 2 was used. This was ultrasonically washed in ethanol for 20 minutes, further washed with pure water, dried, and then placed in an empty container. On this substrate, a nitrogen-containing carbon film was formed by an ion beam sputtering method under the following conditions. First, the vacuum vessel 1 × 10 - exhausting below 7 Torr. Next, Ar was applied to the ESR ion source for sputtering for 4 s.
Ccm is introduced, and microwave power of 2.45 GHz and 300 W is applied to generate plasma. Next, a DC voltage of 2 kV is applied to the extraction electrode to extract an Ar ion beam and irradiate the target with the Ar ion beam. Target is 99.9
99% graphite, 6 inches in diameter, was used. Subsequently, argon 1 scc was supplied to the assisting ion source.
m, 2 sccm of nitrogen, 2.45 GHz, 200
A microwave power of W is applied to generate plasma. Next, a DC voltage of 100 V is applied to the extraction electrode to directly irradiate the substrate with argon ions and nitrogen ions. In this state, the shutter provided immediately before the substrate was opened, and a carbon film was formed for 30 minutes. The substrate temperature was room temperature. Subsequently, only 4 sccm of nitrogen was introduced into the assisting ion source, a microwave power of 2.45 GHz and 300 W was applied to generate plasma, and a DC voltage of 200 V was applied to the extraction electrode, whereby nitrogen ions were applied to the surface of the carbon film. Irradiated for 5 minutes.
【００２７】得られたカーボン膜の膜厚は３２ｎｍで、
基板の可視光透過性は、基板自身の透過率を１００とし
て、９９以上の透過性を示した。酸素透過係数は１０
５、水の接触角は３５°であった。膜の硬度は２４５Ｇ
Ｐａで、実施例と同様の耐磨耗試験において、１００回
の往復摺動に対しても磨耗痕は見られなかった。The thickness of the obtained carbon film is 32 nm.
The visible light transmittance of the substrate was 99 or more, with the transmittance of the substrate itself being 100. Oxygen permeability coefficient is 10
5. The contact angle of water was 35 °. The hardness of the film is 245G
At Pa, in the same abrasion resistance test as in the example, no wear marks were observed even after 100 reciprocal slidings.
【００２８】（比較例１）実施例１と同様の条件で、ｒ
ｆプラズマＣＶＤ法によりカーボン膜を６５ｎｍ成膜し
た。この膜に何のプラズマ処理をせずに取り出し、水の
接触角を測定したところ８４゜であった。Comparative Example 1 Under the same conditions as in Example 1, r
A 65 nm carbon film was formed by the f plasma CVD method. The film was taken out without any plasma treatment, and the contact angle of water was measured to be 84 °.
【００２９】（比較例２）実施例１と同様に、ｒｆプラ
ズマＣＶＤ法によりカーボン膜を成膜した。この際、原
料ガスとしてメタンのみを用い、高周波電力を８００Ｗ
とした。その後の酸素プラズマ処理は、実施例１と全く
同じ条件で行った。得られた膜の硬度は８ＧＰａであ
り、アルミナボールによる摺動試験では、１２回往復し
た段階で膜が摩滅し、基板が露出した。Comparative Example 2 As in Example 1, a carbon film was formed by the rf plasma CVD method. At this time, only methane was used as the raw material gas, and the high frequency power was 800 W
And Subsequent oxygen plasma treatment was performed under exactly the same conditions as in Example 1. The hardness of the obtained film was 8 GPa, and in a sliding test using an alumina ball, the film was worn out at the stage of reciprocating 12 times and the substrate was exposed.
【００３０】[0030]
【発明の効果】本発明によれば、極めて薄いカーボン膜
を形成することで、極めて優れた親水性および機械的耐
久性を兼ね備えるコンタクトレンズを提供することがで
きる。According to the present invention, by forming an extremely thin carbon film, it is possible to provide a contact lens having extremely excellent hydrophilicity and mechanical durability.
【図１】（ａ）高周波プラズマＣＶＤ法により得られた
カーボン膜のラマンスペクトルを示す。 （ｂ）（ａ）のスペクトルをガウス関数でフィッティン
グした結果を示す。FIG. 1A shows a Raman spectrum of a carbon film obtained by a high-frequency plasma CVD method. (B) shows the result of fitting the spectrum of (a) with a Gaussian function.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H006 BC07 4F006 AA11 AA15 AA19 AA22 AB72 BA02 BA10 CA05 DA01 EA03 4F073 AA07 BA18 BA33 BB01 CA13 CA15 CA16 DA08 DA11 FA13 HA03 4G072 AA01 BB09 FF07 GG02 GG03 HH01 NN11 RR11 UU30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference) 2H006 BC07 4F006 AA11 AA15 AA19 AA22 AB72 BA02 BA10 CA05 DA01 EA03 4F073 AA07 BA18 BA33 BB01 CA13 CA15 CA16 DA08 DA11 FA13 HA03 4G072 AA01 BB09 FF07 GG02 U11 GG03 HH01 NN
Claims (13)
表面の一部にカーボン膜が形成されていることを特徴と
するコンタクトレンズ。1. A contact lens, wherein a carbon film is formed on at least a part of the surface.
ンド状カーボン）と呼ばれる性質を有する膜を用いたこ
とを特徴とする請求項１に記載のコンタクトレンズ。2. The contact lens according to claim 1, wherein a film having a property called DLC (diamond-like carbon) is used as the carbon film.
膜が炭素のみまたは炭素と水素を主成分とし、前記水素
を５０％以下含むことを特徴とする請求項１、２いずれ
かに記載のコンタクトレンズ。3. The contact lens according to claim 1, wherein the carbon film of the contact lens contains only carbon or carbon and hydrogen as main components and contains 50% or less of the hydrogen.
膜のビッカース硬度が１０ＧＰａ以上であることを特徴
とする請求項１から３いずれかに記載のコンタクトレン
ズ。4. The contact lens according to claim 1, wherein the carbon film of the contact lens has a Vickers hardness of 10 GPa or more.
膜の摩擦係数が０．５以下であることを特徴とする請求
項１から４いずれかに記載のコンタクトレンズ。5. The contact lens according to claim 1, wherein the coefficient of friction of the carbon film in the contact lens is 0.5 or less.
膜の、水との接触角を６０°以下にするための手段を有
する請求項１から５いずれかに記載のコンタクトレン
ズ。6. The contact lens according to claim 1, further comprising means for reducing the contact angle of the carbon film of the contact lens with water to 60 ° or less.
膜の表面が、酸素もしくは窒素で終端されていることを
特徴とする請求項６に記載のコンタクトレンズ。7. The contact lens according to claim 6, wherein the surface of the carbon film in the contact lens is terminated with oxygen or nitrogen.
であることを特徴とする請求項１から７いずれかに記載
のコンタクトレンズ。8. The contact lens according to claim 1, wherein said carbon film has a thickness of 100 nm or less.
ための元素をドープしたことを特徴とする請求項１から
８いずれかに記載のコンタクトレンズ。9. The contact lens according to claim 1, wherein said carbon film is doped with an element for improving film hardness.
膜との間に中間層を挿入させたことを特徴とする請求項
１から９いずれかに記載のコンタクトレンズ。10. The contact lens according to claim 1, wherein an intermediate layer is inserted between the contact lens and the carbon film.
徴とする請求項１０に記載のコンタクトレンズ。11. The contact lens according to claim 10, wherein the intermediate layer is silicon.
も表面の一部に、物理的気相成長法（ＰＶＤ法）あるい
は化学的気相成長法（ＣＶＤ法）によってカーボン膜を
形成することを特徴とするコンタクトレンズの製造方
法。12. A contact lens, wherein a carbon film is formed on at least a part of the surface by physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD). Manufacturing method.
一部に、カーボン膜を形成した後、該カーボン膜の表面
を酸素プラズマもしくは窒素プラズマで処理することを
特徴とする請求項１２に記載のコンタクトレンズの製造
方法。13. The contact lens according to claim 12, wherein after forming a carbon film on at least a part of the surface of the contact lens, the surface of the carbon film is treated with oxygen plasma or nitrogen plasma. Production method.
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JP2001066558A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003517503A (en) * | 2000-05-12 | 2003-05-27 | ボシュ・アンド・ロム・インコーポレイテッド | Plasma surface treatment of silicone hydrogel contact lenses with flexible carbon coating |
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-
1999
- 1999-08-31 JP JP24546799A patent/JP2001066558A/en active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030924 |