JP2001050709A - 位置検出装置 - Google Patents

位置検出装置

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JP2001050709A
JP2001050709A JP11224465A JP22446599A JP2001050709A JP 2001050709 A JP2001050709 A JP 2001050709A JP 11224465 A JP11224465 A JP 11224465A JP 22446599 A JP22446599 A JP 22446599A JP 2001050709 A JP2001050709 A JP 2001050709A
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light beam
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path
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JP11224465A
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Toru Yaku
亨 夜久
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Mitutoyo Corp
Mitsutoyo Kiko Co Ltd
Original Assignee
Mitutoyo Corp
Mitsutoyo Kiko Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザ光に直交する方向の位置を検出可能な
位置検出装置を提供する。 【解決手段】 レーザ発振管10からの水平偏波を第1
の偏光ビームスプリッタ14により主光路MLから分離
し、第1の交差光路CLに導く。第1の交差光路は、
入射光をこれと同一方向に反射し、ハの字に配置された
回折格子18,22を有している。第1の交差光路を通
ったレーザ光は、主光路に沿って受光素子に達する。ま
た、レーザ発振管10からの垂直偏波を、主光路MLか
ら第2の偏光ビームスプリッタ16により分離し、第2
の交差光路CLに導く。第2の交差光路は、第1の交
差光路と逆向きのハの字に配置された回折格子20,2
4を有している。第2の交差光路を通ったレーザ光は主
光路に沿って受光素子に達する。これら二つのレーザ光
の経路長は、移動テーブル12の移動量によって、別個
の変化をし、これを二つのレーザ光の干渉に基づき検出
し、位置検出ができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光波の干渉を用い
て測定対象の位置を測定する位置測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】測定対象までの距離を測定するレーザ干
渉計が一般的に知られている。このレーザ干渉計は、測
定対象に設けられたミラーに照射したレーザ光の反射波
と、固定された基準ミラーからの反射波の干渉に基づ
き、測定対象までの距離を測定する。よって、前記測定
対象のミラーに入射し、また反射するレーザ光の方向に
おける位置が検出される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】レーザ干渉計により2
次元の位置検出は、二つの異なる方向における位置を検
出する二つのレーザ干渉計を用いることで可能となる。
しかし、ミラーの大きさによって測定範囲が限定される
という問題があった。すなわち、第1の方向に関する測
定範囲を広くすると、この測定範囲に対応して第2の方
向測定用のミラーを大型化する必要があるという問題が
あった。さらに、特に限定された空間内、例えば真空槽
内の測定対象の位置を測定する場合、ミラーを大型化す
ると真空槽も大型化する必要が生じるという問題があっ
た。
【0004】本発明は、前述の問題点を解決するために
なされたものであり、測定対象の、レーザ光の方向以外
の移動を高精度で検出可能な位置検出装置を提供するこ
とを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めに、本発明に係る位置検出装置は、主光路に沿った光
束を形成する主光束形成手段と、主光束からその一部を
分離し、主光路に交差する方向の交差光路に沿った交差
光束を形成し、交差光束を再度主光路に導く、交差光束
形成手段と、主光路と交差光路を通った光束と、主光路
を通った光束のそれぞれの光路長の差を検出する光路長
差検出手段と、を有している。そして、前記交差光束形
成手段は、測定対象の、回転または主光路に交差する方
向の移動に応じて、交差光路の長さが変化するものであ
り、前記光路長の差に基づき、測定対象の、主光路に対
する角度または主光路に交差する方向の位置を検出す
る。また、本発明に係る他の位置検出装置は、前記位置
検出装置の交差光束形成手段を二つ設け、光路差検出手
段により、主光路と第1の交差光路を通った光束と、主
光路と第2の交差光路を通った光束のそれぞれの光路長
の差を検出し、前記光路長の差に基づき、測定対象の、
主光路に対する角度または主光路に交差する方向の位置
を検出する。この構成によれば、二つの交差光路を設け
たことにより、検出の精度を高めることができる。
【0006】さらに、具体的には、前記主光束形成手段
は、波長λのレーザ光を発生するレーザ発振管とするこ
とができ、前記各交差光束形成手段は、主光束から交差
光束を分離し、また交差光束を主光路へ導く偏光ビーム
スプリッタと、主光路を挟むように、交差光路上の位置
に配置された二つの反射手段と、前記偏光ビームスプリ
ッタからの出射光が前記反射手段により反射して当該偏
光ビームスプリッタに入射光として入るまでの光路上に
配置され、前記出射光と前記入射光との偏光面が直交す
るように偏光面の変換を行う交差光束偏光面変換手段
と、を有するものとすることができる。そして、前記反
射手段のうち少なくとも一つは格子ピッチPの回折格子
であり、この回折格子は、当該回折格子の法線と入射光
の方向のなす角θが、
【数2】nλ=2Psinθ (nは自然数) となるように配置されるものとすることができる。
【0007】レーザ発振管から発せられたレーザ光は、
偏光ビームスプリッタにより、直交する2成分ごとの直
線偏波に分けられる。一方が主光路を進み、他方が反射
され交差光路を進む。交差光路を進むレーザ光は、一つ
の反射手段により、入射した方向と同じ方向に反射し、
再び偏光ビームスプリッタに達する。この間に、レーザ
光は偏光ビームスプリッタを通過するように、交差光束
偏光面変換手段により、偏光面の向きが変更される。こ
れにより、偏光ビームスプリッタに再入射するレーザ光
は、偏光ビームスプリッタを通過して、もう一つの反射
手段に向かう。反射手段では、入射するレーザ光を、入
射方向と同じ方向に反射し、反射したレーザ光は、再々
度偏光ビームスプリッタに達する。この間にレーザ光
は、偏光ビームスプリッタにて反射するように、交差光
束偏光面変換手段により偏光面の向きが偏光される。偏
光ビームスプリッタにより反射されたレーザ光は、主光
路に復帰する。反射手段は、少なくとも一つを回折格
子、とすることができ、前記の式を満たすことによっ
て、入射光と同じ方向にレーザ光の一部を反射すること
ができる。回折格子を反射手段とすることで、測定対象
の移動によって、回折格子の傾いた角度θに対応するだ
け交差光路の長さが変化するようになる。
【0008】さらに、二つの交差光束形成手段を有する
装置の場合、第1の交差光束形成手段の偏光ビームスプ
リッタを主光路に沿って進んだ光束が、第2の交差光束
形成手段の偏光ビームスプリッタにおいては主光路から
分離されるようにする分離光束変更手段を有するものと
することができる。
【0009】前記各交差光束形成手段の、前記偏光ビー
ムスプリッタは測定対象と一体に移動し、前記二つの反
射装置の距離は一定であるようにすることができる。
【0010】さらに、前記各交差光束形成手段の、前記
偏光ビームスプリッタと前記二つの反射装置は、測定対
象と一体に移動するものとすることができる。
【0011】さらに、前記各交差光束形成手段の、前記
二つの反射板は、双方とも回折格子とすることができ
る。これにより、測定対象の位置の変化の検出精度を高
めることができる。
【0012】さらに、前記主光路は直線とし、前記各交
差光路は主光路に対し直交するものとすることができ
る。
【0013】さらに、前記各交差光束形成手段の二つの
回折格子は、偏光ビームスプリッタに対して対象に、ハ
の字形に配置されるものとすることができる。
【0014】さらに、交差光束形成手段を二つ有する装
置において、二つの交差光束形成手段に属する回折格子
の組は、そのハの字の向きが異なるよう配置することが
できる。この配置によれば、測定対象の平行移動に係る
位置検出が可能となる。
【0015】また、交差光束形成手段を二つ有する装置
において、二つの交差光束形成手段に属する回折格子の
組は、そのハの字の向きが同じになるよう配置すること
ができる。この配置によれば、測定対象の主光路に対す
る角度位置の検出が可能となる。
【0016】さらに、前記交差光束偏光面変換手段は、
1/4波長板とすることができる。
【0017】さらに、前記分離光束変更手段は、二つの
偏光ビームスプリッタの間に配置される1/2波長板と
することができる。
【0018】また、前記分離光束変更手段は、第1およ
び第2の交差光束形成手段に属する、分離する光束の偏
光面が異なる二つの偏光ビームスプリッタとすることが
できる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態(以下
実施形態という)を、図面に従って説明する。図1に
は、本実施形態の位置検出装置の主要構成が示されてい
る。レーザ発振管10は、位置測定の対象となる移動テ
ーブル12に向けてレーザ光を発射する。移動テーブル
12は、図における上下方向に移動可能となっている。
移動テーブル12上には、2個の偏光ビームスプリッタ
14,16、4個の回折格子18,20,22,24、
4個の1/4波長板26,28,30,32、2個の偏
光スプリッタの間には、1/2波長板34が配置されて
いる。移動テーブル12上の光学素子を通過したレーザ
光は、偏光板36を通過後、受光素子38に入射する。
【0020】レーザ光は、第1の偏光スプリッタ14に
よって、直交する2成分の一方がそのまま直進し、他方
が入射方向と直角をなす方向に反射される。反射された
レーザ光は、1/4波長板26を通過し、回折格子18
により反射される。回折格子18は、図示するように、
入射光に対し所定の傾きを持って配置されている。回折
格子18の反射光のうち、入射光の方向と同一の方向に
向かったものは、再び1/4波長板26を通過し、偏光
ビームスプリッタ14に入射する。このときは、前記1
/4波長板26の機能により、レーザ光は偏光ビームス
プリッタ14を通過し、反対側にある1/4波長板30
を通過し、回折格子22により反射される。回折格子2
2は、図示するように、回折格子18に偏光ビームスプ
リッタ14を挟んで、対称となるように配置されてい
る。回折格子22の反射光のうち、入射光と同一方向に
向かったものは、再び1/4波長板を通過し偏光ビーム
スプリッタ14に入射する。このとき、1/4波長板3
0の機能によりレーザ光は偏光ビームスプリッタ14に
より反射され、最初に偏光ビームスプリッタ14を通過
したレーザ光と共に1/2波長板34に向かう。
【0021】1/2波長板34を通過したレーザ光は、
第2の偏光ビームスプリッタ16に入射し、ここで再
び、直交する2成分に分離される。このとき、第1の偏
光ビームスプリッタ14を通過したレーザ光が反射さ
れ、一方、第1の偏光ビームスプリッタ14で反射した
ものは、ここを通過する。第2の偏光ビームスプリッタ
16により反射されたレーザ光は、第1の偏光ビームス
プリッタ14により反射されたレーザ光と同様に、二つ
の1/4波長板28,32と二つの回折格子20,24
により再び第2の偏光ビームスプリッタ16に入射され
る。そして、偏光ビームスプリッタ16を通過したレー
ザ光と共に、偏光板36を通過し、さらに受光素子38
により受光される。受光素子は、受光したレーザ光の強
度に従って増減する電気信号を出力する。
【0022】以下の説明では、前記レーザ発振管10か
ら二つの偏光ビームスプリッタ14,16を通過して受
光素子38に向かうレーザ光の経路を主光路ML、これ
に交差する光路を交差光路CLと記す。なお、第1およ
び第2の偏光ビームスプリッタ14,16により形成さ
れる交差光路を区別する場合には、第1および第2の交
差光路CL,CLと記す。
【0023】図2は、第1の交差光路CLを通過する
レーザ光(第1の交差光束)に関する説明図である。レ
ーザ発振管10は、直交する偏光面を有するレーザ光を
出射する。それぞれのレーザ光を、以下水平偏波および
垂直偏波のレーザ光と記す。第1の偏光ビームスプリッ
タ14は、垂直偏波を通過させ、水平偏波を反射するも
のである。垂直偏波のレーザ光は、図中破線で示すよう
に、主光路MLに沿って第1の偏光ビームスプリッタ1
4を通過する。一方、水平偏波のレーザ光は、分割面
で、主光路MLに直交する方向(図中上方)に反射す
る。分割されたレーザ光は、1/4波長板26に達し、
これにより円偏波のレーザ光に変換され、さらに回折格
子18に到達する。
【0024】回折格子18は、図3に示す、入射するレ
ーザ光の方向と回折格子18の法線とがなす角(回折
角)θと、格子ピッチPと、レーザ光の波長λが、
【数3】nλ=2Psinθ (nは自然数) ・・・(1) の関係を満たすように配置されている。この関係が満た
される場合、入射の方向に回折光が出射される。
【0025】回折格子18によって、反射したレーザ光
は、再び1/4波長板26を通過し、円偏波から垂直偏
波に変換される。垂直偏波となったレーザ光は、第1の
偏光ビームスプリッタに入射し、今度は、これを通過す
る。さらに反対側の1/4波長板30に到達し、ここで
円偏波に変換され、回折格子22に反射される。回折格
子22も、前述の回折格子18と同様に、式(1)を満
たすように配置されている。反射したレーザ光は、1/
4波長板30により水平偏波に変換される。レーザ光
は、第1の偏光ビームスプリッタ14に達し、ここで反
射され、最初に第1の偏光ビームスプリッタ14を通過
した垂直偏波と共に、主光路MLに沿って進む。主光路
ML上には、1/2波長板が配置され、水平偏波を垂直
偏波に、垂直偏波を水平偏波に変換する。
【0026】図4は、第2の交差光路CLを通過する
レーザ光(第2の交差光束)に関する説明図である。1
/2波長板を通過した水平および垂直偏波のレーザ光
は、第2の偏光ビームスプリッタ16に達する。第2の
偏光ビームスプリッタ16は、第1の偏光ビームスプリ
ッタ14と同様、垂直偏波を通過させ、水平偏波を反射
するものである。二つの偏光ビームスプリッタ14,1
6の間には、前述のように、1/2波長板34が配置さ
れており、偏光面が90°変換されるので、第1の偏光
ビームスプリッタ14を通過したレーザ光は、今度は、
第2の偏光ビームスプリッタ16により反射される。逆
に、第1の偏光ビームスプリッタ14で反射され、第1
の交差光路CLを経由したレーザ光は、第2の偏光ビ
ームスプリッタ16を通過する。第2の偏光ビームスプ
リッタ16で反射されたレーザ光は、1/4波長板2
8、回折格子20、1/4波長板32および回折格子2
4の各光学素子を経由して再び偏光ビームスプリッタ1
6に到達する。この第2の交差光路CLを通過するレ
ーザ光は、前述した第1の交差光路CLと同様に偏光
面の変換が行われる。また、回折格子20,24は、前
記式(1)を満たすように配置されている。また、4個
の回折格子は、図示するように、回折格子18,22
と、回折格子20,24がそれぞれハの字形に配置さ
れ、さらにこれらの組がハの字の間隔の狭い側が向き合
うように配置されている。
【0027】以上のように、第1の交差光路CLと主
光路MLを通過するレーザ光(第1の光束)と、第2の
交差光路CLと主光路MLを通過するレーザ光(第2
の光束)は異なる経路を通る。図においては、第1の光
束は実線で示され、第2の光束は破線で示されている。
これらのレーザ光は、それぞれの振動面に対し45°偏
光方向が傾いた偏光板36に達する。ここで、二つのレ
ーザ光の光路長の差によって干渉光が生じ、この干渉光
を受光素子38が受光し、干渉信号が出力される。
【0028】図5は、図1に示された移動テーブル12
が、図中上方向にδLだけ移動した状態を示している。
また、図示する場合は、前述の回折角θが45°であ
り、二つの偏光ビームスプリッタ14,16の分割面が
主光路MLに対し45°傾いている場合である。移動テ
ーブル12が移動することによって、主光路MLが二つ
の偏光ビームスプリッタ14,16を横切る位置が変わ
る。これに伴い、第1の交差光路CLの光路長が、回
折格子18,22のハの字配置によって長くなる。一
方、第2の交差光路CLの光路長は、逆のハの字配置
となっているために短くなる。各回折格子18,20,
22,24は、各交差光路CL,CLに対して45
°傾いているので、一つの回折格子当たり光路長は、移
動量δLと等しい長さだけ変化する。したがって、第1
の光束と第2の光束の光路長の差は4×δLだけ変化す
る。この光路長の変化に伴う受光素子38の受信信号か
ら、移動テーブル12の主光路MLに直交する方向の移
動量を検出することができる。
【0029】図6には、真空槽40内の移動テーブル1
2の位置を測定する装置の概略構成が示されている。移
動テーブル12は、図1などに示される移動テーブル1
2と同様の光学素子が載置されており、各光学素子の説
明は省略する。移動テーブル12は、真空槽40の長手
方向(X軸)およびX軸に直交する方向(Y軸)に移動
可能となっている。移動テーブル12上の各光学素子
は、XY平面に沿って配置されている。レーザ発振管1
0からのレーザ光は、ミラー42,44により真空槽4
0のガラス製の入射窓46に導かれ、X軸に沿って移動
テーブル12上の偏光ビームスプリッタに達する。そし
て、移動テーブル上の各光学素子により形成される交差
光路を通過し、再びX軸に沿って、出射窓48から真空
槽40を出る。真空槽40を出たレーザ光の干渉光が受
光素子38に受光される。前述のように、移動テーブル
12のY軸方向の動きに伴って、受光素子38の出力が
変化するので、この出力に基づき、移動テーブル12の
Y軸方向の位置を検出することができる。
【0030】一方、X軸方向の位置は、従来より広く用
いられているレーザ干渉計50により測定することがで
きる。レーザ干渉計50は、レーザ発振管52からのレ
ーザ光を偏光ビームスプリッタ54で分離し、一方を参
照ミラー56に向け、他方を測定対象ミラー58に向け
る。測定対象ミラー58は、移動テーブル12に固定さ
れている。参照ミラー56および測定対象ミラー58か
ら反射して戻ってきたレーザ光は、偏光ビームスプリッ
タ54により合成される。移動テーブル12、すなわち
測定対象ミラー58のX軸方向の移動により光路長が変
化し、これにより生じる干渉を受光素子60により検出
する。受光素子60の出力する干渉信号に基づき、移動
テーブル12のX軸方向の位置を検出することができ
る。
【0031】図6に示す装置によれば、X軸に沿った光
軸のみで、真空槽40のX軸、Y軸に関する位置を検出
することができる。
【0032】図7には、窓が一つだけ設けられた真空槽
62内の移動テーブル12の位置を測定する装置の概略
構成が示されている。移動テーブル12、レーザ干渉計
50などの構成は、図6の場合と同様の構成であり、そ
の他同一の構成についても図6と同一の符号を付し、そ
の説明を省略する。
【0033】レーザ発振管10からのレーザ光は、入出
射窓64より入射し、移動テーブル12の各光学素子に
より形成される交差光路を通過して、入出射窓64と反
対側にあるミラー66に達し、さらにミラー68,7
0,72に導かれて入出射窓64から出射する。さら
に、ミラー74,76により受光素子38まで導かれ
る。この受光素子38の出力に基づき移動テーブル12
のY軸方向の位置が検出できる。X軸方向の位置検出
は、レーザ干渉計50により、図6の場合と全く同様に
行うことができる。
【0034】図8は、他の実施形態を示す図である。こ
の実施形態の位置検出装置は、移動テーブル112の回
転を検出するものである。移動テーブル112は、前述
の実施形態の移動テーブル112と、第2の交差光路C
を形成する回折格子の配置が異なる。本実施形態の
回折格子120,124は、偏光ビームスプリッタ16
を挟んで、ハの字型に配置されるが、その向きが前述の
実施形態の場合と異なっている。すなわち、第1の交差
光路CLを形成するための回折格子18,22のハの
字と同じ向きに回折格子120,124のハの字が向い
ている。この配置の場合、前述の実施形態のように主光
路MLに直交する方向の移動は、検出することができな
いが、移動テーブル112の各光学素子が配置される面
内での回転に伴う角度位置を検出することができる。
【0035】図9には、交差光路を形成する手段とし
て、前述の回折格子18とミラー222を組み合わせた
場合が記載されている。図1などに示されている構成と
同様のものについては同一の符号を付し、その説明を省
略する。ミラー222は交差光路CLに直角に配置さ
れ、偏光ビームスプリッタ14からの入射光を同一の方
向に反射する。この構成において、ミラー222は、測
定対象の移動に伴う光路差の変化には関与しない。この
ような交差光路を図1または図8に示されるように2組
設けることができる。また、ミラー222は、移動テー
ブル12上に配置せず、移動テーブル12の主光路方向
の移動範囲に、主光路に平行に長いミラー222を配置
することもできる。
【0036】前述の実施形態においては、交差光路を二
つ設けた装置について説明したが、交差光路を一つ有す
る装置とすることもできる。例えば、図1に示す実施形
態において、移動テーブル12上の交差光路CLを形
成するための各光学素子を残し、1/2波長板34と交
差光路CLを形成するための各光学素子を取り除けば
前記の装置を得ることができる。また、図9に示すよう
な、回折格子とミラーを組み合わせて交差光路を形成す
る場合においても交差光路を一つとすることも可能であ
る。
【0037】また、二つの交差光路を設けた場合に、第
1の交差経路を通らなかったレーザ光を第2の交差経路
に導くための手段としては、図1などに示される1/2
波長板の他、2種類の偏光ビームスプリッタを用いるこ
ともできる。すなわち、第1の偏光ビームスプリッタは
水平偏波を反射するものとし、第2の偏光ビームスプリ
ッタは、垂直偏波を反射するものとすることができる。
この場合には、1/2波長板は不要となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本実施形態の位置検出装置の概略構成を示す
図である。
【図2】 交差光束形成の説明図である。
【図3】 回折格子による反射の説明図である。
【図4】 交差光束形成の説明図である。
【図5】 位置測定の原理の説明図である。
【図6】 本実施形態の位置検出装置の適用例の概略構
成を示す図である。
【図7】 本実施形態の位置検出装置を他の適用例の概
略構成を示す図である。
【図8】 他の実施形態の装置の概略構成を示す図であ
る。
【図9】 さらに他の実施形態の説明図である。
【符号の説明】
10 レーザ発振管、12 移動テーブル、14,16
偏光ビームスプリッタ(交差光束形成手段)、18,
20,22,24,120,124 回折格子(交差光
束形成手段、反射手段)、26,28,30,32 1
/4波長板(交差光束形成手段、交差光束偏光面変換手
段)、34 1/2波長板(分離光束偏光手段)、36
偏光板、38 受光素子、222 ミラー(交差光束
形成手段、反射手段)、ML 主光路、CL,CL
交差光路。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主光路に沿った光束を形成する主光束形
    成手段と、 主光束からその一部を分離し、主光路に交差する方向の
    交差光路に沿った交差光束を形成し、交差光束を再度主
    光路に導く、交差光束形成手段と、 主光路と交差光路を通った光束と、主光路を通った光束
    のそれぞれの光路長の差を検出する光路長差検出手段
    と、を有し、 交差光束形成手段は、測定対象の、回転または主光路に
    交差する方向の移動に応じて、交差光路の長さが変化す
    るものであり、 前記光路長の差に基づき、測定対象の、主光路に対する
    角度または主光路に交差する方向の位置を検出する、位
    置検出装置。
  2. 【請求項2】 主光路に沿った光束を形成する主光束形
    成手段と、 主光束からその一部を分離し、主光路に交差する方向の
    第1の交差光路に沿った交差光束を形成し、当該交差光
    束を再度主光路に導く、第1の交差光束形成手段と、 主光束からその一部を分離し、主光路に交差する方向の
    第2の交差光路に沿った交差光束を形成し、当該交差光
    束を再度主光路に導き、第2の交差光束形成手段と、 主光路と第1の交差光路を通った光束と、主光路と第2
    の交差光路を通った光束のそれぞれの光路長の差を検出
    する光路長差検出手段と、を有し、 第1および第2の交差光束形成手段は、測定対象の、回
    転または主光路に交差する方向の移動に応じて、第1お
    よび第2の交差光路の長さが各々別個の変化をするもの
    であり、 前記光路長の差に基づき、測定対象の、主光路に対する
    角度または主光路に交差する方向の位置を検出する、位
    置検出装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の位置検
    出装置であって、 前記主光束形成手段は、波長λのレーザ光を発生するレ
    ーザ発振管であり、 前記各交差光束形成手段は、 主光束から交差光束を分離し、また交差光束を主光路へ
    導く偏光ビームスプリッタと、 主光路を挟むように、交差光路上の位置に配置された二
    つの反射手段と、 前記偏光ビームスプリッタからの出射光が前記反射手段
    により反射して当該偏光ビームスプリッタに入射光とし
    て入るまでの光路上に配置され、前記出射光と前記入射
    光との偏光面が直交するように偏光面の変換を行う交差
    光束偏光面変換手段と、を有し、 さらに、前記反射手段のうち少なくとも一つは格子ピッ
    チPの回折格子であり、 前記回折格子は、 当該回折格子の法線と入射光の方向のなす角θが、 【数1】nλ=2Psinθ (nは自然数) となるように配置される、位置検出装置。
  4. 【請求項4】 請求項2に従属する請求項3に記載の位
    置検出装置であって、 第1の交差光束形成手段の偏光ビームスプリッタを主光
    路に沿って進んだ光束が、第2の交差光束形成手段の偏
    光ビームスプリッタにおいては主光路から分離されるよ
    うにする分離光束変更手段を有する、位置検出装置。
  5. 【請求項5】 請求項3または4に記載の位置検出装置
    であって、前記各交差光束形成手段の、少なくとも前記
    偏光ビームスプリッタは測定対象と一体に移動し、前記
    二つの反射装置の距離は一定である、位置検出装置。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の位置検出装置であっ
    て、前記各交差光束形成手段の、前記偏光ビームスプリ
    ッタと前記二つの反射装置は、測定対象と一体に移動す
    る、位置検出装置。
  7. 【請求項7】 請求項3から6のいずれかに記載の位置
    検出装置であって、前記各交差光束形成手段の、前記二
    つの反射板は、双方とも回折格子である、位置検出装
    置。
  8. 【請求項8】 請求項7に記載の位置検出装置であっ
    て、前記主光路は直線であり、前記各交差路は前記主光
    路に直交する、位置検出装置。
  9. 【請求項9】 請求項8に記載の位置検出装置であっ
    て、前記各交差光束形成手段の二つの回折格子は、偏光
    ビームスプリッタに対して対象に、ハの字形に配置され
    る、位置検出装置。
  10. 【請求項10】 請求項9に記載の位置検出装置であっ
    て、交差光束形成手段を二つ有する装置において、二つ
    の交差光束形成手段に属する回折格子の組は、そのハの
    字の向きが異なるよう配置されている、位置検出装置。
  11. 【請求項11】 請求項9に記載の位置検出装置であっ
    て、交差光束形成手段を二つ有する装置において、二つ
    の交差光束形成手段に属する回折格子の組は、そのハの
    字の向きが同じになるよう配置されている、位置検出装
    置。
  12. 【請求項12】 請求項3から11のいずれかに記載の
    位置検出装置であって、前記交差光束偏光面変換手段
    は、1/4波長板である、位置検出装置。
  13. 【請求項13】 請求項4に記載の位置検出装置であっ
    て、前記分離光束変更手段は、二つの偏光ビームスプリ
    ッタの間に配置される1/2波長板である、位置検出装
    置。
  14. 【請求項14】 請求項4に記載の位置検出装置であっ
    て、前記分離光束変更手段は、第1および第2の交差光
    束形成手段に属する、分離する光束の偏光面が異なる二
    つの偏光ビームスプリッタである、位置検出装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015212682A (ja) * 2014-04-14 2015-11-26 Dmg森精機株式会社 変位検出装置

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JP2015212682A (ja) * 2014-04-14 2015-11-26 Dmg森精機株式会社 変位検出装置

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