JP2001038310A

JP2001038310A - 枚葉式薬液洗浄方法および装置

Info

Publication number: JP2001038310A
Application number: JP11216029A
Authority: JP
Inventors: Akimasa Takii; 謙昌瀧井; Katsumichi Itou; 克通伊東; Ichiro Nakayama; 一郎中山; Masaaki Shibai; 正明芝井; Tomoya Maeda; 知哉前田; Yoshishige Matsushita; 圭成松下; Hideo Nikawa; 秀夫二河
Original assignee: Matsushita Electronics Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1999-07-30
Filing date: 1999-07-30
Publication date: 2001-02-13

Abstract

(57)【要約】【課題】被洗浄物一枚あたりに使用する薬液量を少な
くして、効率的にかつ被洗浄物の全体を均等に薬液洗浄
できる枚葉式薬液洗浄方法および装置を提供する。【解決手段】板状の被洗浄物１が水平にセットされる
被洗浄物保持手段１３ａに、被洗浄物１をセットすると
共に、このセットされた被洗浄物１の外周を薬液保持手
段１６によって取り囲み、洗浄時に薬液保持手段１６に
薬液を供給してセットされた被洗浄物１を薬液に浸漬
し、洗浄が終了すると薬液を被洗浄物保持手段１３ａか
ら排出して洗浄する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、板状の被洗浄物が
水平にセットされる被洗浄物保持手段に薬液を供給して
洗浄する枚葉式薬液洗浄方法および装置に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】ＬＳＩや液晶表示パネルの製造工程にお
いて半導体ウエハやガラス基板などの薬液洗浄工程は非
常に多く、この薬液洗浄工程は、半導体ウエハやガラス
基板の表面上の異物やコンタミ物質の除去あるいは自然
酸化膜の除去のように、後工程のためのライトウエット
エッチングといった製造歩留まりやデバイス特性に大き
く影響するものである。

【０００３】図４と図５は従来の薬液洗浄工程で使用さ
れる薬液洗浄装置を示し、以下、半導体ウエハの薬液洗
浄工程を例に挙げて説明する。薬液洗浄装置には、被洗
浄物を一度に複数枚処理するバッチ式薬液洗浄装置と、
被洗浄物を一枚ずつ処理する枚葉式薬液洗浄装置とがあ
る。図４は、従来のバッチ式薬液洗浄装置を示す。

【０００４】複数枚の半導体ウエハ１が垂直に収納され
たカセット２をセットする洗浄前カセット置場３と、薬
液供給口９と薬液排出口１０とが設けられた薬液洗浄槽
５と、純水供給口１１と純水排出口１２とが設けられた
純水洗浄槽６と、洗浄後の半導体ウエハ１が入ったカセ
ット２を載置する洗浄後カセット置場４とが、それぞれ
順に配置されている。

【０００５】洗浄前カセット置場３の上部には、昇降自
在に構成されたカセット運搬手段８と、このカセット運
搬手段８を水平方向に可動させるカセット保持手段７と
が配置されている。洗浄前カセット置場３に、複数枚の
半導体ウエハ１が収納されたカセット２が配置される
と、カセット運搬手段８が昇降してカセット２を取り出
し、カセット保持手段７が水平方向に移動してカセット
２を薬液洗浄槽５へと運搬する。

【０００６】薬液洗浄槽５では、カセット２にセットさ
れた半導体ウエハ１が十分に薬液に浸るまで薬液供給口
９から薬液が供給されたあと、一定時間放置されて薬液
洗浄が行われる。一定時間が経過した後の薬液は、薬液
排出口１０から外部へと排出される。薬液洗浄が終了し
たカセット２は、カセット保持手段７およびカセット運
搬手段８により純水洗浄槽６へと運搬される。

【０００７】純水洗浄槽６では、カセット２にセットさ
れた半導体ウエハ１が十分に純水に浸るまで純水供給口
１１から純水が供給され、一定時間放置されて純水洗浄
が行われる。純水洗浄中に純水洗浄槽６からオーバフロ
ーする純水および一定時間洗浄した後の純水洗浄槽６内
の純水は、純水排出口１２から外部へと排出される。純
水洗浄の終了した半導体ウエハ１は、カセット保持手段
７およびカセット運搬手段８によりカセット２ごと洗浄
後カセット置場４に運搬され、洗浄が終了する。

【０００８】図５は、従来の枚葉式薬液洗浄装置を示
す。半導体ウエハ１を洗浄するための薬液および純水の
排出口１４が設けられたケーシング２０内には、回転機
構１５を有するステージ１３が配置されている。ケーシ
ング２０の上部には、ステージ１３の上面に延びる薬液
供給口９と純水供給口１１とが配置されている。

【０００９】ステージ１３に半導体ウエハ１が水平にセ
ットされると、薬液供給口９から薬液が半導体ウエハ１
の上面に供給される。一定時間薬液を供給し続けた後
に、薬液の供給を停止する。そして、回転機構１５によ
りステージ１３を回転させて薬液を振り切った後、純水
供給口１１から純水を半導体ウエハ１の上面に一定時間
供給して、薬液を洗い流す。

【００１０】なお、薬液洗浄中および純水洗浄中の排液
は、随時ケーシング２０の下部に設けられた排出口１４
から排出される。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上記図４に示すバッチ
式薬液洗浄装置では、上述のように一度に複数枚の半導
体ウエハ１を洗浄できるため、生産性の良いものとな
る。しかしながら、多品種で小規模な生産ラインなど処
理枚数が少ない場合、例えば半導体ウエハ１が１枚だけ
カセット２にセットされた場合であっても、垂直にセッ
トされた半導体ウエハ１が十分に浸るだけの薬液が必要
となり、コスト高となる。また、廃液も多くなるため、
有害で危険な薬液を使用した場合には、廃液処理面や環
境保全面からも問題がある。

【００１２】そのため、処理枚数の少ない生産ラインで
は、図５に示す枚葉式薬液洗浄装置が使用される。この
枚葉式薬液洗浄装置では、水平方向にセットした半導体
ウエハ１が漬かるだけの液量を供給すれば良いため、従
来のバッチ式薬液洗浄装置よりも半導体ウエハ１一枚あ
たりの薬液の液量を少なくできる。

【００１３】しかしながら、洗浄中は常に半導体ウエハ
１に薬液を供給し続けているため、やはり必要以上の薬
液が用いられ、少ない薬液で効率良く洗浄を行うことが
できない。本発明は前記問題点を解決し、少量の液量で
効率的に被洗浄物を洗浄するとともに、被洗浄物の全体
を均一に薬液洗浄できる枚葉式薬液洗浄方法および装置
を提供するものである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の枚葉式薬液洗浄
方法および装置は、被洗浄物が水平にセットされる被洗
浄物保持手段に薬液保持手段を設けたことを特徴とす
る。この発明によると、少量の薬液で効率的に被洗浄物
を洗浄できる。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１記載の枚葉式薬
液洗浄装置は、板状の被洗浄物が水平にセットされる被
洗浄物保持手段と、前記被洗浄物保持手段に設けられ、
セットされた前記被洗浄物の外周を取り囲む薬液保持手
段と、洗浄時に前記薬液保持手段に薬液を供給してセッ
トされた前記被洗浄物を薬液に浸漬させる手段と、前記
薬液を前記被洗浄物保持手段から排出する手段とを有す
ることを特徴とする。

【００１６】請求項２記載の枚葉式薬液洗浄装置は、板
状の被洗浄物に対して、薬液を霧状または蒸気状にして
供給して洗浄する手段を有することを特徴とする。請求
項３記載の枚葉式薬液洗浄装置は、セットされた被洗浄
物を水平方向に対して傾斜しながら回転させる手段と、
前記被洗浄物に対して薬液を供給して洗浄する手段とを
有することを特徴とする。

【００１７】請求項４記載の枚葉式薬液洗浄装置は、請
求項２において、薬液供給手段を被洗浄物と対向する位
置に配置し、前記薬液供給手段の薬液供給口を前記被洗
浄物の面積よりも大きくなるよう構成したことを特徴と
する。請求項５記載の枚葉式薬液洗浄方法は、板状の被
洗浄物が水平にセットされる被洗浄物保持手段に、前記
被洗浄物をセットすると共に、このセットされた前記被
洗浄物の外周を薬液保持手段によって取り囲み、洗浄時
に前記薬液保持手段に薬液を供給してセットされた前記
被洗浄物を薬液に浸漬し、洗浄が終了すると前記薬液を
前記被洗浄物保持手段から排出して洗浄することを特徴
とする。

【００１８】請求項６記載の枚葉式薬液洗浄方法は、被
洗浄物保持手段に水平にセットされた板状の被洗浄物に
対して、薬液を霧状または蒸気状にして供給して洗浄す
ることを特徴とする。請求項７記載の枚葉式薬液洗浄方
法は、請求項６において、霧状または蒸気上の薬液の散
布面積が、板状の被洗浄物の面積よりも大きくなるよう
に薬液を供給して洗浄することを特徴とする。

【００１９】請求項８記載の枚葉式薬液洗浄方法は、被
洗浄物保持手段に水平にセットされた板状の被洗浄物
を、水平方向に対して傾斜しながら回転させるととも
に、前記被洗浄物に対して薬液を供給して洗浄すること
を特徴とする。請求項９記載の枚葉式薬液洗浄方法は、
請求項５〜請求項７のいずれかにおいて、被洗浄物保持
手段にセットされた前記被洗浄物を、洗浄時に水平方向
に対して回転させることを特徴とする。

【００２０】請求項１０記載の枚葉式薬液洗浄方法は、
請求項８において、被洗浄物を水平方向に対して１０°
以内の範囲で傾斜させることを特徴とする。請求項１１
記載の枚葉式薬液洗浄方法は、請求項８または請求項９
において、被洗浄物を１００〜３００ｒｐｍの回転数で
回転させることを特徴とする。以下、本発明の各実施の
形態について、図１〜図３を用いて説明する。

【００２１】なお、上記従来例を示す図４，図５と同様
をなすものには同一の符号を付けて説明する。（実施の形態１）図１は、本発明の（実施の形態１）を
示す。この図１は枚葉式薬液洗浄装置の構成を示し、少
量の薬液で被洗浄物を洗浄できるように、被洗浄物保持
手段の構成を上記従来例を示す図４とは異なる構成とし
た。以下、各実施の形態において、板状の被洗浄物とし
て半導体ウエハ１を用いた例を挙げて説明する。

【００２２】半導体ウエハ１が水平にセットされた被洗
浄物保持手段としてのステージ１３ａには、セットされ
た半導体ウエハ１の外周を取り囲む薬液保持手段として
の環状壁１６が設けられており、環状壁１６は昇降手段
１７によりステージ１３ａと相対移動するよう構成され
ている。半導体ウエハ１の洗浄時には、環状壁１６がス
テージ１３ａに対して上昇して半導体ウエハ１の外周部
を全周にわたって取り囲み、ステージ１３ａに設けられ
た回転機構１５によりステージ１３ａが回転する。

【００２３】薬液供給手段としての薬液供給口９から薬
液が供給されると、半導体ウエハ１が薬液に浸るよう
に、環状壁１６の内側にある一定量の薬液が保持される
まで一定時間薬液が供給される。薬液洗浄の終了時に
は、薬液の供給を停止するとともに環状壁１６を下降さ
せて、保持した薬液をステージ１３ａの外部へ排出す
る。このとき、ステージ１３ａを回転させることで、よ
り効率良く薬液を振り切れる。

【００２４】次いで、ステージ１３ａを回転させなが
ら、純水供給口１１より純水を半導体ウエハ１に供給す
る。そして一定時間純水を供給し続けた後に、純水の供
給を止める。なお、薬液洗浄中および純水洗浄中の廃液
は、随時、排出口１４から排出される。

【００２５】このようにステージ１３ａに、セットされ
た半導体ウエハ１の外周を取り囲む環状壁１６を設ける
ことで、供給された薬液を半導体ウエハ１が浸漬するよ
うにステージ１３ａ上に一定量保持することができ、少
量の薬液でも半導体ウエハ１に均一に薬液が触れるた
め、効率良く洗浄できる。なお、上記（実施の形態１）
では、薬液の供給時にステージ１３ａを回転機構１５に
より回転させるようにしたが、本発明はこれに限定され
るものではなく、ステージ１３ａを停止させたまま薬液
を供給しても良い。

【００２６】ただし、上記（実施の形態１）のように、
ステージ１３ａを回転させながら薬液を供給した方が、
少ない液量で半導体ウエハ１を薬液に効率良く浸漬でき
る。さらに、ステージ１３ａの回転数を１００〜３００
ｒｐｍとすれば、ステージ１３ａ上における薬液の分布
が良くなるため、より少量の薬液で半導体ウエハ１を均
一に洗浄できる。この回転数が１００ｒｐｍよりも少な
くなると、半導体ウエハ１の濡れ性が低下し、３００ｒ
ｐｍを超えると、ステージ１３ａの外部に薬液が飛び出
してしまうため必要となる液量が増えることとなる。

【００２７】また、上記（実施の形態１）では、薬液保
持手段としてステージ１３ａに対して昇降可能に構成し
た環状壁１６を設けたが、本発明はこれに限定されるも
のではなく、供給された薬液を被洗浄物が浸漬するよう
に溜められる構造のものであればよく、環状壁１６に対
してステージ１３ａが昇降するよう構成してもよい。ま
た、上記（実施の形態１）では、薬液保持手段として環
状壁１６を形成したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、被洗浄物の外周部を囲んで薬液を溜められる
形状であればよく、例えば四角状の筒状物など様々な形
状とすることができる。あるいは、それぞれに薬液の排
出口が形成された外壁と内壁との二重壁を設け、洗浄時
にはそれぞれの排出口が重ならないように内壁と外壁を
ずらして壁内に薬液を溜め、排出時にはそれぞれの排出
口が重なるようにして薬液の排出を行うよう構成したも
のなど、様々なものが使用できる。

【００２８】（実施の形態２）上記（実施の形態１）で
はステージ１３ａに薬液保持手段を設けて薬液を供給し
たが、この（実施の形態２）では、薬液保持手段を設け
る代わりに薬液を霧状にして供給するように構成した点
で上記（実施の形態１）と異なる。図２は、本発明の
（実施の形態２）を示す。

【００２９】半導体ウエハ１を載置した被洗浄物保持手
段としてのステージ１３には、このステージ１３を回転
させるための回転機構１５が設けられている。ステージ
１３の上部には、その供給口が半導体ウエハ１と対向す
る位置に設けられた薬液供給手段としての薬液供給口９
ａが配置されている。薬液供給口９ａはケーシング２０
の外部に設けられた薬液噴霧手段１８に連結されてお
り、薬液を霧状にして供給するよう構成されている。

【００３０】ステージ１３に被洗浄物である半導体ウエ
ハ１が載置されると、回転機構１５によりステージ１３
が回転し、この半導体ウエハ１に薬液供給口９ａから霧
状の薬液が供給される。薬液供給口９ａの面積は、半導
体ウエハ１の面積より広くすることが好ましく、このよ
うな構成とするとより短時間で半導体ウエハ１に薬液を
供給できる。

【００３１】また、薬液洗浄中のステージ１３の回転数
を１００〜３００ｒｐｍとすると、ステージ１３上にお
ける薬液の分布が良くなるため、より少量の薬液で半導
体ウエハ１を均一に洗浄できる。この回転数が１００ｒ
ｐｍよりも少なくなると、半導体ウエハ１の濡れ性にや
や劣り、３００ｒｐｍを超えると供給された薬液の飛び
散りが多くなり、必要とする液量が多くなる。

【００３２】一定時間薬液を供給して半導体ウエハ１に
均一に薬液が供給されると、薬液の供給を停止する。次
に、回転機構１５により半導体ウエハ１を保持したステ
ージ１３を回転させながら、純水供給口１１から純水を
半導体ウエハ１に供給する。一定時間純水を供給し続け
た後に、純水供給を停止する。

【００３３】なお、薬液洗浄時あるいは純水供給時にお
ける廃液は、排出口１４より排出される。このように薬
液供給手段を、薬液を霧状にして供給するように構成す
ることで、半導体ウエハ１の全面にわたって均一に薬液
が分散されるため、少量の薬液で効率良く洗浄を行え
る。

【００３４】なお、上記（実施の形態２）では、噴霧等
により薬液を霧状すなわち微小な薬液の滴にして供給し
たが、薬液を蒸気（ガス）状にして供給しても同様の効
果が得られる。また、上記（実施の形態２）では、薬液
供給口９ａの面積を半導体ウエハ１の面積より広くする
ことが好ましいとしたが、本発明はこれに限定されるも
のではなく、霧状または蒸気上の薬液の散布面積が、板
状の被洗浄物の面積よりも大きくなるように薬液を供給
しても同様の効果が得られる。

【００３５】また、上記（実施の形態２）では、薬液供
給時にステージ１３を回転させながら薬液を供給した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、ステージ
１３を停止させた状態で薬液を供給しても良い。（実施の形態３）図３は本発明の（実施の形態３）を示
す。

【００３６】上記（実施の形態１）では、ステージ１３
ａに薬液保持手段を設けたが、この（実施の形態３）で
は、薬液保持手段の代わりにステージ１３ｂを水平面に
対して傾斜させる傾斜手段を設けたことを特徴とする。
ステージ１３ｂには、ステージ１３ｂを回転させる回転
機構１５と、ステージ１３ｂを水平面に対して傾斜させ
る傾斜手段としての傾斜機構１９とが設けられている。

【００３７】ステージ１３ｂに半導体ウエハ１が水平に
セットされると、傾斜機構１９によりステージ１３ｂが
水平面に対して傾斜するとともに、回転機構１５により
回転する。この状態で半導体ウエハ１に薬液供給口９か
ら薬液が供給され、一定時間の間薬液が供給される。

【００３８】このときステージ１３ｂの回転数は１００
〜３００ｒｐｍの範囲とすることが好ましく、回転数が
１００ｒｐｍより少ないと、ステージ１３ｂ上での薬液
の広がりにやや劣り、３００ｒｐｍを超えると、薬液が
ステージ１３ｂの外部へ飛び散る傾向にあるため必要と
する薬液の液量が多くなる。またステージ１３ｂの傾き
は、水平方向に対して１０°以内とするとステージ１３
ｂ上に薬液が広がりやすくなり、より均一に薬液洗浄が
できる。ステージ１３ｂの傾きが１０°よりも大きくな
ると、供給された薬液がステージ１３ｂの外部に流れや
すくなるため、洗浄に要する薬液の量が増えることとな
る。

【００３９】その後、薬液の供給を停止するとともにス
テージ１３ｂの回転を止めて、傾斜機構１９によりステ
ージ１３ｂを水平な状態に戻す。次に、回転機構１５に
より半導体ウエハ１を載置したステージ１３ｂを回転さ
せながら、純水供給口１１から半導体ウエハ１に純水を
供給する。一定時間純水を供給し続けた後、純水供給を
停止して純水洗浄を終了する。

【００４０】なお、薬液洗浄および純水洗浄にて生じた
廃液は、随時、排出口１４からケーシング２０の外に排
出される。このように半導体ウエハ１を、水平面に対し
て傾斜しながら回転するよう構成することで、供給され
た薬液は、ステージ１３ｂの外部に流れ出る前に半導体
ウエハ１の表面に均一に広がるため、少量の薬液で均一
に洗浄できる。

【００４１】なお、上記各実施の形態では、被洗浄物と
して半導体ウエハ１を用いた例を示したが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、例えば液晶パネルに使用
するガラス基板などについても同様の効果が得られる。
また、その形状も円盤状に限定されるものではなく、矩
形状のものでもよい。

【００４２】

【発明の効果】以上のように本発明の枚葉式薬液洗浄装
置によると、板状の被洗浄物が水平にセットされる被洗
浄物保持手段に、セットされた前記被洗浄物の外周を取
り囲む薬液保持手段を設け、洗浄時に前記薬液保持手段
に薬液を供給してセットされた前記被洗浄物を薬液に浸
漬し洗浄が終了すると前記薬液を前記被洗浄物保持手段
から排出するように構成することで、薬液保持手段によ
り一定量保持された薬液に被洗浄物を浸漬して洗浄でき
るため、１枚あたりに使用する薬液量を少なくすること
ができ、効率的にかつ均一に洗浄できる。

【００４３】また、本発明の枚葉式薬液洗浄装置による
と、被洗浄物保持手段に水平にセットされた板状の被洗
浄物に対して、薬液を霧状または蒸気状にして供給して
洗浄するように構成することで、薬液が被洗浄物の表面
に均一に分散され、少量の薬液で効率的に洗浄できる。
また、本発明の枚葉式薬液洗浄装置は、板状の被洗浄物
が水平にセットされる被洗浄物保持手段を、セットされ
た前記被洗浄物を水平方向に対して傾斜しながら回転さ
せるとともに、前記被洗浄物に対して薬液を供給して洗
浄するように構成することで、供給された薬液は被洗浄
物保持手段の外部に流れ出る前に被洗浄物の表面に均一
に広がるため、少量の薬液でも効率良く、均一に洗浄で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の（実施の形態１）における枚葉式薬液
洗浄装置の構成図

【図２】本発明の（実施の形態２）における枚葉式薬液
洗浄装置の構成図

【図３】本発明の（実施の形態３）における枚葉式薬液
洗浄装置の構成図

【図４】従来のバッチ式薬液洗浄装置の構成図

【図５】従来の枚葉式薬液洗浄装置の構成図

【符号の説明】

１半導体ウエハ９ａ薬液供給口１３ａ，１３ｂステージ１５回転機構１６環状壁１７昇降手段１８薬液噴霧手段１９傾斜手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者伊東克通大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者中山一郎大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者芝井正明大阪府高槻市幸町１番１号松下電子工業株式会社内 (72)発明者前田知哉大阪府高槻市幸町１番１号松下電子工業株式会社内 (72)発明者松下圭成大阪府高槻市幸町１番１号松下電子工業株式会社内 (72)発明者二河秀夫大阪府高槻市幸町１番１号松下電子工業株式会社内Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB01 AB34 AB44 BB03 BB21 BB92 BB93 CB12 CC13

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】板状の被洗浄物が水平にセットされる被洗
浄物保持手段と、前記被洗浄物保持手段に設けられ、セットされた前記被
洗浄物の外周を取り囲む薬液保持手段と、洗浄時に前記薬液保持手段に薬液を供給してセットされ
た前記被洗浄物を薬液に浸漬させる手段と、前記薬液を前記被洗浄物保持手段から排出する手段とを
有する枚葉式薬液洗浄装置。
【請求項２】板状の被洗浄物に対して、薬液を霧状また
は蒸気状にして供給して洗浄する手段を有する枚葉式薬
液洗浄装置。
【請求項３】セットされた被洗浄物を水平方向に対して
傾斜しながら回転させる手段と、前記被洗浄物に対して薬液を供給して洗浄する手段とを
有する枚葉式薬液洗浄装置。
【請求項４】薬液供給手段を被洗浄物と対向する位置に
配置し、前記薬液供給手段の薬液供給口を前記被洗浄物
の面積よりも大きくなるよう構成した請求項２記載の枚
葉式薬液洗浄装置。
【請求項５】板状の被洗浄物が水平にセットされる被洗
浄物保持手段に、前記被洗浄物をセットすると共に、こ
のセットされた前記被洗浄物の外周を薬液保持手段によ
って取り囲み、洗浄時に前記薬液保持手段に薬液を供給してセットされ
た前記被洗浄物を薬液に浸漬し、洗浄が終了すると前記
薬液を前記被洗浄物保持手段から排出して洗浄する枚葉
式薬液洗浄方法。
【請求項６】被洗浄物保持手段に水平にセットされた板
状の被洗浄物に対して、薬液を霧状または蒸気状にして
供給して洗浄する枚葉式薬液洗浄方法。
【請求項７】霧状または蒸気上の薬液の散布面積が、板
状の被洗浄物の面積よりも大きくなるように薬液を供給
して洗浄する請求項６記載の枚葉式薬液洗浄方法。
【請求項８】被洗浄物保持手段に水平にセットされた板
状の被洗浄物を、水平方向に対して傾斜しながら回転さ
せるとともに、前記被洗浄物に対して薬液を供給して洗
浄する枚葉式薬液洗浄方法。
【請求項９】被洗浄物保持手段にセットされた前記被洗
浄物を、洗浄時に水平方向に対して回転させる請求項５
〜請求項７のいずれか記載の枚葉式薬液洗浄方法。
【請求項１０】被洗浄物を水平方向に対して１０°以内
の範囲で傾斜させる請求項８記載の枚葉式薬液洗浄方
法。
【請求項１１】被洗浄物を１００〜３００ｒｐｍの回転
数で回転させる請求項８または請求項９記載の枚葉式薬
液洗浄方法。