JP2001035112A - Magnetic head slider - Google Patents
Magnetic head sliderInfo
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- JP2001035112A JP2001035112A JP11201317A JP20131799A JP2001035112A JP 2001035112 A JP2001035112 A JP 2001035112A JP 11201317 A JP11201317 A JP 11201317A JP 20131799 A JP20131799 A JP 20131799A JP 2001035112 A JP2001035112 A JP 2001035112A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク装置な
どに用いる磁気ヘッドおよびその製造方法に関する物で
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head used for a magnetic disk drive and the like and a method of manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッ
ドは記録密度を高めるために、ディスクと磁気ヘッドの
間隔、すなわち磁気ヘッドの浮上量は年々低下する傾向
にあり、浮上量が30nm以下の磁気ディスク装置も実用化
されている。このような低浮上の磁気ディスク装置に用
いられる磁気ヘッドのスライダには空気ベアリング面を
高精度に加工することが求められる。従来は空気ベアリ
ング面の加工を行うために、フォトレジストなどをマス
クとしてしてイオンビームエッチングやイオンミリン
グ、反応性イオンエッチングにより加工が行われてい
る。2. Description of the Related Art In a magnetic head used in a magnetic disk drive, the distance between the disk and the magnetic head, that is, the flying height of the magnetic head tends to decrease year by year in order to increase the recording density. The device has also been put to practical use. The slider of the magnetic head used in such a low-flying magnetic disk device is required to process the air bearing surface with high precision. Conventionally, in order to process the air bearing surface, processing is performed by ion beam etching, ion milling, or reactive ion etching using a photoresist or the like as a mask.
【０００３】これらの加工法では加工時に生じる反応生
成物などの影響により加工バッチ毎に微妙に加工レート
が変動するため、数ナノメートルから十数ナノメートル
オーダーの加工精度を安定に保つのが困難である。しか
しながら、磁気ヘッドの低浮上化にともないスライダの
空気ベアリング面に数百マイクロメートルの加工段差が
必要になるなど、数ナノメートル〜十数ナノメートルオ
ーダーでの加工精度が要求されるようになっている。[0003] In these processing methods, since the processing rate slightly changes for each processing batch due to the influence of reaction products and the like generated during processing, it is difficult to stably maintain the processing accuracy of several nanometers to several tens of nanometers. It is. However, as the flying height of the magnetic head becomes lower, a processing step of several hundred micrometers is required on the air bearing surface of the slider, and processing accuracy on the order of several nanometers to several tens of nanometers is required. I have.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】スライダの空気ベアリ
ング面に形成される加工段差は浮上特性に大きな影響を
及ぼすため高精度に加工することが必要である。The processing step formed on the air bearing surface of the slider has a great effect on the flying characteristics, so that it is necessary to perform the processing with high precision.
【０００５】本発明の目的は、加工段差が高精度に制御
された高い信頼性を備えた磁気ヘッドスライダ及びその
製造方法を提供することである。An object of the present invention is to provide a highly reliable magnetic head slider in which a processing step is controlled with high precision and a method of manufacturing the same.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、磁気ヘッドスライダの段差下部に空気ベア
リング面に形成する保護膜とは膜厚のことなる膜を形成
し、その形成した膜によって段差深さの制御を行うこと
を特徴とする磁気ヘッドスライダ及びその製造方法であ
る。In order to achieve the above object, according to the present invention, a film having a thickness different from that of a protective film formed on an air bearing surface is formed under a step of a magnetic head slider. A magnetic head slider and a method of manufacturing the same, wherein the step depth is controlled by a film.
【０００７】[0007]
【発明の実施の形態】本発明に係わる実施の形態につい
て図を用いて説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings.
【０００８】図１は本発明による磁気ヘッドスライダの
製造方法を示した図である。FIG. 1 is a view showing a method of manufacturing a magnetic head slider according to the present invention.
【０００９】本実施例の磁気ヘッドスライダ５は２つの
段差を有し、図１（ｍ）に示すように第一段差が0.1μ
ｍ、第二段差が1.5μｍである。まず、素子が形成され
たウェハからバー１と呼ばれる状態に切り出される。こ
のバー１を数十本まとめて基板２に接着する（図１
（ａ））。このとき、図示しないが段差の深さを測定す
るためのダミーバーを同時に接着しておく。このあと、
フォトレジスト１０をコートして露光現像し、第一段差
のパターンマスクを形成する（図１（ｂ））。そして、
イオンミリングにより第一段差の加工を行う（図１
（ｃ））。このとき第一段差が0.1μｍよりもわずかに
深くなるように加工を行う。次にダミーバーのフォトレ
ジスト１０をアセトンなどの有機溶剤を含浸させた綿棒
などにより除去する。そして加工深さを光学式の段差測
定装置により測定する。この結果を元に段差下部に形成
する膜厚を決定する。例えば段差深さが0.12μｍだった
場合は0.02μｍ、すなわち20nmの膜を形成するようにす
る。本実施例ではＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボ
ン）膜を形成している。The magnetic head slider 5 of this embodiment has two steps, and the first step is 0.1 μm as shown in FIG.
m, and the second step is 1.5 μm. First, the wafer on which the elements are formed is cut into a state called a bar 1. Dozens of the bars 1 are collectively adhered to the substrate 2 (FIG. 1).
(A)). At this time, although not shown, a dummy bar for measuring the depth of the step is bonded at the same time. after this,
A photoresist 10 is coated and exposed and developed to form a first level difference pattern mask (FIG. 1B). And
The first step is processed by ion milling (Fig. 1
(C)). At this time, the processing is performed so that the first step is slightly deeper than 0.1 μm. Next, the photoresist 10 on the dummy bar is removed with a cotton swab impregnated with an organic solvent such as acetone. Then, the processing depth is measured by an optical step measurement device. Based on this result, the film thickness to be formed below the step is determined. For example, if the step depth is 0.12 μm, a film of 0.02 μm, that is, a film of 20 nm is formed. In this embodiment, a DLC (diamond-like carbon) film is formed.
【００１０】まず、図示していないがフォトレジスト１
０が付いた状態でＤＬＣ膜の接着性を確保するためシリ
コン膜を３nm形成する。次に上記で決定された膜厚から
シリコン膜厚を引いたＤＬＣ膜３を形成する（図１
（ｄ））。例えば決定された膜厚が20nmの場合はシリコ
ン膜厚の３nmを引いた17nmの膜を形成する。ＤＬＣ膜３
は10nm以下の厚さで形成される空気ベアリング面の保護
膜としても用いられており、1nm程度の精度で成膜が可
能である。従って、第一段差深さを数ナノメートル以下
の高精度に制御することが出来る。First, although not shown, the photoresist 1
In a state where 0 is attached, a silicon film is formed to a thickness of 3 nm in order to secure the adhesiveness of the DLC film. Next, a DLC film 3 is formed by subtracting the silicon film thickness from the film thickness determined above.
(D)). For example, when the determined film thickness is 20 nm, a film of 17 nm is formed by subtracting 3 nm of the silicon film thickness. DLC film 3
Is also used as a protective film for the air bearing surface formed with a thickness of 10 nm or less, and can be formed with an accuracy of about 1 nm. Therefore, the depth of the first step can be controlled with high accuracy of several nanometers or less.
【００１１】シリコン膜やＤＬＣ膜３はフォトレジスト
１０表面にも形成されるため、このままではフォトレジ
スト１０を剥離することが出来ない。このため、第一段
差のパターン形状とは逆のパターンをフォトレジスト２
０により形成した後（図１（ｅ））、酸素プラズマによ
りアッシングを行う。これによりフォトレジスト１０表
面のＤＬＣ膜３が除去される。このあとにシリコン膜を
アルゴンプラズマを利用したスパッタリングにより除去
する（図１（ｆ））。このあと、再び酸素プラズマでア
ッシングを行いフォトレジスト１０及びその側面に付い
ているＤＬＣ膜３を除去してから（図１（ｇ））、レジ
スト剥離液によりフォトレジスト２０を除去する（図１
（ｈ））。Since the silicon film and the DLC film 3 are also formed on the surface of the photoresist 10, the photoresist 10 cannot be removed as it is. Therefore, a pattern opposite to the pattern shape of the first step is formed in the photoresist 2.
After the formation with 0 (FIG. 1E), ashing is performed by oxygen plasma. As a result, the DLC film 3 on the surface of the photoresist 10 is removed. Thereafter, the silicon film is removed by sputtering using argon plasma (FIG. 1F). Thereafter, ashing is performed again with oxygen plasma to remove the photoresist 10 and the DLC film 3 on the side surface thereof (FIG. 1 (g)), and then the photoresist 20 is removed with a resist stripper (FIG. 1).
(H)).
【００１２】次にフォトレジスト３０をコートして露光
現像を行うことにより第二段差のパターンマスクを形成
する（図１（ｉ））。そしてイオンミリングにより第二
段差の加工を行う（図１（ｊ））。第二段差は加工深さ
が大きいため、イオンミリングだけで所定の加工精度で
加工を行うことが出来る。Next, a photoresist 30 is coated and exposed and developed to form a pattern mask having a second step (FIG. 1 (i)). Then, the second step is processed by ion milling (FIG. 1 (j)). Since the second step has a large processing depth, the processing can be performed with a predetermined processing accuracy only by ion milling.
【００１３】そしてフォトレジスト３０をレジスト剥離
液で剥離した後（図１（ｋ））、保護膜としてＤＬＣ膜
４を７nm以下の厚さで成膜する（図１（ｌ））。このと
きも図示していないがＤＬＣ膜４の下に接着性を確保す
るためのシリコン膜を３nm形成している。そしてバーを
個々のスライダに切断することにより磁気ヘッドスライ
ダ５が完成する（図１（ｍ））。After the photoresist 30 is stripped with a resist stripper (FIG. 1 (k)), a DLC film 4 having a thickness of 7 nm or less is formed as a protective film (FIG. 1 (l)). At this time, though not shown, a 3 nm-thick silicon film is formed under the DLC film 4 to ensure adhesiveness. The bar is cut into individual sliders to complete the magnetic head slider 5 (FIG. 1 (m)).
【００１４】これにより、磁気ヘッドスライダの空気ベ
アリング面の加工深さを高精度に制御することが可能と
なり、浮上バラツキの少ない信頼性の高い磁気ヘッドが
得られる。また、段差の深さを所定の精度よりも深く加
工しすぎる不良がなくなるため磁気ヘッドスライダの歩
留まりを向上させることが出来る。This makes it possible to control the machining depth of the air bearing surface of the magnetic head slider with high precision, and to obtain a highly reliable magnetic head with little flying variation. Further, since there is no defect in which the depth of the step is deeper than a predetermined accuracy, the yield of the magnetic head slider can be improved.
【００１５】本実施例に示したように加工深さを制御す
る膜とスライダの間に他の材質の膜が形成されていても
良い。例えば、本実施例に示したようにカーボン膜の下
にシリコン膜を形成することで、カーボン膜の接着性が
向上し、膜剥離に対する信頼性を向上させることができ
る。As shown in this embodiment, a film of another material may be formed between the film for controlling the processing depth and the slider. For example, by forming a silicon film under a carbon film as shown in this embodiment, the adhesiveness of the carbon film is improved, and the reliability against film peeling can be improved.
【００１６】カーボン膜の他にスライダと同じ材質の
膜、例えばアルミナチタンカーバイトなどを用いてもよ
い。スライダと同じ材質の膜を使った場合は下地との接
着性が良く、ＤＬＣ膜を形成する場合のように接着性を
確保する膜を必要としない利点がある。また、特に問題
がない限り成膜可能な膜は全て本発明に適用可能であ
る。In addition to the carbon film, a film made of the same material as the slider, for example, alumina titanium carbide may be used. When a film made of the same material as the slider is used, there is an advantage that the adhesion to the base is good and a film for securing the adhesion is not required unlike the case of forming a DLC film. In addition, all films that can be formed can be applied to the present invention unless otherwise specified.
【００１７】また、本実施例では第一段差を加工してか
ら第二段差を加工しているがこの順番が逆であってもよ
い。In this embodiment, the first step is processed before the second step is processed. However, the order may be reversed.
【００１８】[0018]
【発明の効果】上述したように本発明によれば、磁気ヘ
ッドスライダの空気ベアリング面の加工深さを高精度に
制御することが可能となり、浮上バラツキの少ない信頼
性の高い磁気ヘッドが得られる。また、段差の深さを所
定の精度よりも深く加工しすぎる不良がなくなるため磁
気ヘッドスライダの歩留まりを向上させることが出来
る。As described above, according to the present invention, the processing depth of the air bearing surface of the magnetic head slider can be controlled with high precision, and a highly reliable magnetic head with little flying variation can be obtained. . Further, since there is no defect in which the depth of the step is deeper than a predetermined accuracy, the yield of the magnetic head slider can be improved.
【図１】本発明に係わる第１の実施例による磁気ヘッド
スライダの製造方法の一例を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic view illustrating an example of a method for manufacturing a magnetic head slider according to a first embodiment of the present invention.
１…バー、２…基板、３，４…ＤＬＣ膜、５…磁気ヘッ
ドスライダ、１０，２０，３０…フォトレジスト。1 bar, 2 substrate, 3, 4 DLC film, 5 magnetic head slider, 10, 20, 30 photoresist.
Claims (5)
加工を施した磁気ヘッドスライダ及びその製造方法であ
って、被加工面に加工して出来た段差の下部に形成する
膜の膜厚と、空気ベアリング面を保護する保護膜の膜厚
が異なること特徴とする磁気ヘッドスライダ。A magnetic head slider in which an air bearing surface of a magnetic head slider is processed and a method of manufacturing the same, wherein the film thickness of a film formed under a step formed on a surface to be processed and air A magnetic head slider, wherein a thickness of a protective film for protecting a bearing surface is different.
の深さを制御することを特徴とする磁気ヘッドスライ
ダ。2. A magnetic head slider, wherein the depth of the step is controlled by the film formed according to claim 1.
ーボン膜であることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。3. The magnetic head slider according to claim 1, wherein the film to be formed is a carbon film.
ルミナチタンカーバイド膜であることを特徴とする磁気
ヘッドスライダ。4. A magnetic head slider according to claim 1, wherein the film to be formed is an alumina titanium carbide film.
地と同じ材質であることを特徴とする磁気ヘッドスライ
ダ。5. A magnetic head slider according to claim 1, wherein the film to be formed is made of the same material as the underlayer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11201317A JP2001035112A (en) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | Magnetic head slider |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11201317A JP2001035112A (en) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | Magnetic head slider |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001035112A true JP2001035112A (en) | 2001-02-09 |
Family
ID=16439013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11201317A Pending JP2001035112A (en) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | Magnetic head slider |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001035112A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7168939B2 (en) | 2004-02-26 | 2007-01-30 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | System, method, and apparatus for multilevel UV molding lithography for air bearing surface patterning |
| CN100385503C (en) * | 2004-03-30 | 2008-04-30 | 株式会社东芝 | Manufacturing method of magnetic head slider, magnetic head slider and magnetic device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005104723A (en) * | 2003-09-09 | 2005-04-21 | Fuji Xerox Co Ltd | Sheet supply device |
| JP2010254462A (en) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Konica Minolta Business Technologies Inc | Paper feeder, paper feed unit, image forming device, and image forming system |
| JP2011051768A (en) * | 2009-09-03 | 2011-03-17 | Toshiba Corp | State determining device of stacked paper sheets and paper sheet processing device |
-
1999
- 1999-07-15 JP JP11201317A patent/JP2001035112A/en active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005104723A (en) * | 2003-09-09 | 2005-04-21 | Fuji Xerox Co Ltd | Sheet supply device |
| JP2010254462A (en) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Konica Minolta Business Technologies Inc | Paper feeder, paper feed unit, image forming device, and image forming system |
| JP2011051768A (en) * | 2009-09-03 | 2011-03-17 | Toshiba Corp | State determining device of stacked paper sheets and paper sheet processing device |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7168939B2 (en) | 2004-02-26 | 2007-01-30 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | System, method, and apparatus for multilevel UV molding lithography for air bearing surface patterning |
| CN100385503C (en) * | 2004-03-30 | 2008-04-30 | 株式会社东芝 | Manufacturing method of magnetic head slider, magnetic head slider and magnetic device |
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