JP2001033612A - アポダイズド光ファイバ格子制作装置 - Google Patents
アポダイズド光ファイバ格子制作装置Info
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
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- G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
- G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
- G02B6/02133—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
- G02B6/02138—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference based on illuminating a phase mask
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- G02B6/0208—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アポダイズド光ファイバ格子制作装置を提供
する。 【解決手段】 紫外線レーザービームを放出する紫外線
レーザー2と、紫外線レーザーから放出されたビームを
二つに分離するビームスプリッター10と、光経路を形
成する多数のミラーと、所定の周期で格子を生成させる
位相マスク40と、光ファイバに照射された一方向のビ
ームを漸進的にブロッキングして生成された格子のアポ
ダイゼーションを提供し、位相マスクとミラーの間に備
えられる第1ブロッキング装置と、光ファイバ60を基
準として第1ブロッキング手段の反対方向に備えられ、
光ファイバに同時に照射された一方向のビームを漸進的
にブロッキングして生成された格子のアポダイゼーショ
ンを提供することにより、生成された光ファイバ格子の
全体的な平均屈折率変化を一定化する移動性第2ブロッ
キング装置とを含むことを特徴とする。
する。 【解決手段】 紫外線レーザービームを放出する紫外線
レーザー2と、紫外線レーザーから放出されたビームを
二つに分離するビームスプリッター10と、光経路を形
成する多数のミラーと、所定の周期で格子を生成させる
位相マスク40と、光ファイバに照射された一方向のビ
ームを漸進的にブロッキングして生成された格子のアポ
ダイゼーションを提供し、位相マスクとミラーの間に備
えられる第1ブロッキング装置と、光ファイバ60を基
準として第1ブロッキング手段の反対方向に備えられ、
光ファイバに同時に照射された一方向のビームを漸進的
にブロッキングして生成された格子のアポダイゼーショ
ンを提供することにより、生成された光ファイバ格子の
全体的な平均屈折率変化を一定化する移動性第2ブロッ
キング装置とを含むことを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ格子に
係り、特に、アポダイズド光ファイバ格子(apodized op
tical fiber grating)制作装置に関する。
係り、特に、アポダイズド光ファイバ格子(apodized op
tical fiber grating)制作装置に関する。
【0002】
【従来の技術】WDM(Wavelength Division Multiplex
ing)システムでデータの伝送容量が増加するに従いチャ
ネル間隔は段々狭くなっている。よって、狭い帯域幅を
有しながら隣接したチャネルとの隔離(adjacent channe
l isolation)は大きい特性を備えた光フィルターの必要
性が高まっている。光ファイバ格子は光フィルターが備
えるべき条件、即ち低損失、低い偏光依存性、高いチャ
ネル選択的特性などを有する。かつ、光ファイバ格子は
低コストを充足する光フィルターとして脚光を浴びてい
る。
ing)システムでデータの伝送容量が増加するに従いチャ
ネル間隔は段々狭くなっている。よって、狭い帯域幅を
有しながら隣接したチャネルとの隔離(adjacent channe
l isolation)は大きい特性を備えた光フィルターの必要
性が高まっている。光ファイバ格子は光フィルターが備
えるべき条件、即ち低損失、低い偏光依存性、高いチャ
ネル選択的特性などを有する。かつ、光ファイバ格子は
低コストを充足する光フィルターとして脚光を浴びてい
る。
【0003】しかしながら、従来の光ファイバ格子制作
方法の一つであるエキサイマレーザー(eximer laser)や
均等位相マスク(uniform phase mask)を用いて一般的な
光ファイバ格子を制作すると、全体的な屈折率変化の模
様が図1に示した形態で現れる。
方法の一つであるエキサイマレーザー(eximer laser)や
均等位相マスク(uniform phase mask)を用いて一般的な
光ファイバ格子を制作すると、全体的な屈折率変化の模
様が図1に示した形態で現れる。
【0004】図11で点線(参照番号)により示したよ
うに、サイドローブ(sidelobe)が発生して格子のアポダ
イゼーション(apodization)が具現されない。このよう
なサイドローブを減らす方法として、格子の端に行くほ
ど屈折率変調量を縮めるアポダイゼーションが挙げられ
る。前記アポダイゼーションを備えた格子の屈折率変化
が図11の点線(参照番号)により示されている。アポ
ダイズド光ファイバ格子は格子の屈折率が中央又は両端
に行くほど大きくなるか小さくなる光ファイバ格子のこ
とである。このようなアポダイズド光ファイバ格子は長
波長又は短波長帯のサイドローブが最少化された光ファ
イバ格子のことである。
うに、サイドローブ(sidelobe)が発生して格子のアポダ
イゼーション(apodization)が具現されない。このよう
なサイドローブを減らす方法として、格子の端に行くほ
ど屈折率変調量を縮めるアポダイゼーションが挙げられ
る。前記アポダイゼーションを備えた格子の屈折率変化
が図11の点線(参照番号)により示されている。アポ
ダイズド光ファイバ格子は格子の屈折率が中央又は両端
に行くほど大きくなるか小さくなる光ファイバ格子のこ
とである。このようなアポダイズド光ファイバ格子は長
波長又は短波長帯のサイドローブが最少化された光ファ
イバ格子のことである。
【0005】しかし、前記アポダイゼーションは長波長
帯域(long band)のサイドローブを縮める効果はある
が、格子の自己誘導チャープ(self induced chirp)現象
のために短波長帯域のサイドローブを縮めるのは困難で
ある。アポダイゼーションの自己誘導チョッピングは、
図2に示したように、格子の平均インデックス値が不均
一なために発生するものである。従って、自己誘導チョ
ッピングにより発生するサイドローブを縮めるために
は、格子長さに対して平均インデックス値を一定化する
必要がある。
帯域(long band)のサイドローブを縮める効果はある
が、格子の自己誘導チャープ(self induced chirp)現象
のために短波長帯域のサイドローブを縮めるのは困難で
ある。アポダイゼーションの自己誘導チョッピングは、
図2に示したように、格子の平均インデックス値が不均
一なために発生するものである。従って、自己誘導チョ
ッピングにより発生するサイドローブを縮めるために
は、格子長さに対して平均インデックス値を一定化する
必要がある。
【0006】一方、図2に示したように、光ファイバ格
子のアポダイゼーションを具現する従来の方法は、重畳
記録方法、圧電素子(piezo tranducer:以下、PTZと
いう)を用いる方法、光スキャンニング方法及び空間フ
ィルター(spatial filter)を用いる方法の四つに大別さ
れる。第一、重畳記録方法は、干渉方法(interference
method)であって、格子を記録する場合、周期とサイズ
がそれぞれ異なる格子を光ファイバに重畳記録してアポ
ダイゼーションを具現する方法である。
子のアポダイゼーションを具現する従来の方法は、重畳
記録方法、圧電素子(piezo tranducer:以下、PTZと
いう)を用いる方法、光スキャンニング方法及び空間フ
ィルター(spatial filter)を用いる方法の四つに大別さ
れる。第一、重畳記録方法は、干渉方法(interference
method)であって、格子を記録する場合、周期とサイズ
がそれぞれ異なる格子を光ファイバに重畳記録してアポ
ダイゼーションを具現する方法である。
【0007】第二、圧電素子を用いる方法は、圧電素子
を用いて光ファイバに張力を加えながら格子を記録する
ことにより、アポダイゼーションを具現する方法であ
る。さらに、格子を記録する間には、圧電素子を用いて
光ファイバ又は位相マスクを光ファイバの長さ方向に適
宜な長さだけ振動を与えてアポダイゼーションを具現す
る方法である。
を用いて光ファイバに張力を加えながら格子を記録する
ことにより、アポダイゼーションを具現する方法であ
る。さらに、格子を記録する間には、圧電素子を用いて
光ファイバ又は位相マスクを光ファイバの長さ方向に適
宜な長さだけ振動を与えてアポダイゼーションを具現す
る方法である。
【0008】第三、光スキャンニング方法は、位相マス
クを用いて格子を記録する場合、レーザーを光ファイバ
の長さ方向に沿って移動すると同時にスキャンニングし
ながら相異なる紫外線光の強さとスキャンニング速度を
与えてアポダイズド格子を記録する方法である。
クを用いて格子を記録する場合、レーザーを光ファイバ
の長さ方向に沿って移動すると同時にスキャンニングし
ながら相異なる紫外線光の強さとスキャンニング速度を
与えてアポダイズド格子を記録する方法である。
【0009】最後に、空間フィルターを用いる方法は、
干渉方法を用いる方法であって、一方の干渉光に回折ス
リット(diffraction slit)を設けて、スリットを通った
干渉光の強さがガウス(Gaussian)分布を有する特性を用
いてアポダイゼーションを具現する。かつ、位相マスク
にUV光を走査する時、位相マスクの前に光ファイバの
長さ方向に相異なる透過度の空間フィルターを設けてア
ポダイゼーションを具現する方法である。
干渉方法を用いる方法であって、一方の干渉光に回折ス
リット(diffraction slit)を設けて、スリットを通った
干渉光の強さがガウス(Gaussian)分布を有する特性を用
いてアポダイゼーションを具現する。かつ、位相マスク
にUV光を走査する時、位相マスクの前に光ファイバの
長さ方向に相異なる透過度の空間フィルターを設けてア
ポダイゼーションを具現する方法である。
【0010】ところが、前記のようにアポダイズド光フ
ァイバ格子を制作する従来の方法には次のような問題点
がある。重畳記録方法は、適宜な重畳を用いるためには
格子周期より短い長さを高精密に制御する装置を要する
ので、制作に手間がかかる問題点がある。圧電素子を用
いたアポダイズド光ファイバ格子制作時にも、格子周期
より短い長さを適宜に制御しなければならない問題点が
ある。
ァイバ格子を制作する従来の方法には次のような問題点
がある。重畳記録方法は、適宜な重畳を用いるためには
格子周期より短い長さを高精密に制御する装置を要する
ので、制作に手間がかかる問題点がある。圧電素子を用
いたアポダイズド光ファイバ格子制作時にも、格子周期
より短い長さを適宜に制御しなければならない問題点が
ある。
【0011】光スキャンニング方法は、必要なアポダイ
ズド格子を得るために適宜な光スキャンニング速度と光
強さを調節しなければならない問題点がある。空間フィ
ルターを用いる方法は、干渉模様を記録して格子を制作
するので、振動を遮らなければならない問題点がある。
かつ、そのためには高価の装備を必要とする。
ズド格子を得るために適宜な光スキャンニング速度と光
強さを調節しなければならない問題点がある。空間フィ
ルターを用いる方法は、干渉模様を記録して格子を制作
するので、振動を遮らなければならない問題点がある。
かつ、そのためには高価の装備を必要とする。
【0012】かつ、位相マスクを用いてアポダイズド光
ファイバ格子を制作する場合、集中イオンビーム注入技
術(focused ion beam implantation)と湿式エッチング
(wetetching)技術を用いて効果的なプロファイルを有す
る位相マスクを制作しなければならない。前記方法はア
ポダイゼーションの条件を変える毎に新たな位相マスク
を再び制作しなければならないので、コストと柔軟性の
側面で問題になる。
ファイバ格子を制作する場合、集中イオンビーム注入技
術(focused ion beam implantation)と湿式エッチング
(wetetching)技術を用いて効果的なプロファイルを有す
る位相マスクを制作しなければならない。前記方法はア
ポダイゼーションの条件を変える毎に新たな位相マスク
を再び制作しなければならないので、コストと柔軟性の
側面で問題になる。
【0013】なお、紫外線光を光ファイバの長さ方向に
変調量を調節しながらスキャンニングして制作する方法
は、多様な特性で制作できる長所がある反面、制作に長
時間がかかり、再現性のある結果を得難いという問題点
がある。結果的に、アポダイズド位相マスクを用いる方
法は、位相マスクの制作が難しく、アポダイゼーション
条件を変える毎に新たなマスクを再び制作しなければな
らないため、コストと柔軟性の側面で問題になる、さら
に、ビームスキャンニング方法は、制作が難しく、長時
間がかかり、再現性のある結果を得難いという問題点が
ある。
変調量を調節しながらスキャンニングして制作する方法
は、多様な特性で制作できる長所がある反面、制作に長
時間がかかり、再現性のある結果を得難いという問題点
がある。結果的に、アポダイズド位相マスクを用いる方
法は、位相マスクの制作が難しく、アポダイゼーション
条件を変える毎に新たなマスクを再び制作しなければな
らないため、コストと柔軟性の側面で問題になる、さら
に、ビームスキャンニング方法は、制作が難しく、長時
間がかかり、再現性のある結果を得難いという問題点が
ある。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ビームスプリッターとスクリーンマスクを用いて簡
単に制作できるアポダイゼーション光ファイバ格子制作
装置を提供することにある。本発明の他の目的は、光フ
ァイバ格子の長さ方向に沿って屈折率分布が均一なアポ
ダイズド光ファイバ格子制作装置を提供することにあ
る。
は、ビームスプリッターとスクリーンマスクを用いて簡
単に制作できるアポダイゼーション光ファイバ格子制作
装置を提供することにある。本発明の他の目的は、光フ
ァイバ格子の長さ方向に沿って屈折率分布が均一なアポ
ダイズド光ファイバ格子制作装置を提供することにあ
る。
【0015】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置
は、紫外線レーザービームを放出する紫外線レーザー
と、前記紫外線レーザーから放出されたビームを二つに
分離するビームスプリッターと、前記ビームスプリッタ
ーにより分離された二つのビームをそれぞれ反射させて
前記光ファイバに両方向に照射されるように光経路を形
成する多数のミラーと、前記ミラーから反射されたビー
ムが通過することにより前記光ファイバに所定の周期で
格子を生成する位相マスクと、光ファイバに照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供し、前記位相マス
クとミラーの間に備えられる第1ブロッキング装置と、
前記光ファイバを基準として第1ブロッキング手段の反
対方向に備えられ、前記光ファイバに同時に照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供することにより、
前記生成された光ファイバ格子の全体的な平均屈折率変
化を一定化する移動性第2ブロッキング装置と、を含む
ことを特徴とする。
に、本発明によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置
は、紫外線レーザービームを放出する紫外線レーザー
と、前記紫外線レーザーから放出されたビームを二つに
分離するビームスプリッターと、前記ビームスプリッタ
ーにより分離された二つのビームをそれぞれ反射させて
前記光ファイバに両方向に照射されるように光経路を形
成する多数のミラーと、前記ミラーから反射されたビー
ムが通過することにより前記光ファイバに所定の周期で
格子を生成する位相マスクと、光ファイバに照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供し、前記位相マス
クとミラーの間に備えられる第1ブロッキング装置と、
前記光ファイバを基準として第1ブロッキング手段の反
対方向に備えられ、前記光ファイバに同時に照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供することにより、
前記生成された光ファイバ格子の全体的な平均屈折率変
化を一定化する移動性第2ブロッキング装置と、を含む
ことを特徴とする。
【0016】さらに、前記目的を達成するために、本発
明によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置は、光フ
ァイバの一方向にビームを放出する第1紫外線レーザー
と、前記光ファイバの他方向にビームを放出する第2紫
外線レーザーと、前記第1紫外線レーザーから放出され
たビームが補強、干渉により光ファイバに所定の周期で
格子を生成させる位相マスクと、前記光ファイバに照射
された一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記
生成された格子のアポダイゼーションを提供し、前記第
1紫外線レーザーと位相マスクの間に備えられる第1ブ
ロッキング装置と、前記光ファイバを基準として第1ブ
ロッキング装置の反対方向に備えられ、前記光ファイバ
に同時に照射された一方向のビームを漸進的にブロッキ
ングして前記生成された格子のアポダイゼーションを提
供することにより、光ファイバ格子の全体的な平均屈折
率変化を一定化する移動性第2ブロッキング装置と、を
含むことを特徴とする。
明によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置は、光フ
ァイバの一方向にビームを放出する第1紫外線レーザー
と、前記光ファイバの他方向にビームを放出する第2紫
外線レーザーと、前記第1紫外線レーザーから放出され
たビームが補強、干渉により光ファイバに所定の周期で
格子を生成させる位相マスクと、前記光ファイバに照射
された一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記
生成された格子のアポダイゼーションを提供し、前記第
1紫外線レーザーと位相マスクの間に備えられる第1ブ
ロッキング装置と、前記光ファイバを基準として第1ブ
ロッキング装置の反対方向に備えられ、前記光ファイバ
に同時に照射された一方向のビームを漸進的にブロッキ
ングして前記生成された格子のアポダイゼーションを提
供することにより、光ファイバ格子の全体的な平均屈折
率変化を一定化する移動性第2ブロッキング装置と、を
含むことを特徴とする。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明に従う好適な実施形
態を添付図面を参照しつつ詳細に説明する。本発明の説
明において、本発明の要旨のみを明瞭にする目的で、関
連した公知機能又は構成に関する具体的な説明は省略す
る。
態を添付図面を参照しつつ詳細に説明する。本発明の説
明において、本発明の要旨のみを明瞭にする目的で、関
連した公知機能又は構成に関する具体的な説明は省略す
る。
【0018】図3は本発明の望ましい第1実施形態によ
るアポダイズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成
を示すものである。図3に示されたアポダイズド光ファ
イバ格子制作装置は、光源の紫外線レーザー(UV lase
r)2と、前記レーザー2から放出されたビーム8を分離
するビームスプリッター(beam splitter)10と、前記
ビームスプリッター10から照射されたビームの方向を
調節するための少なくとも一つ以上のミラー20,2
2,24と、前記ミラーから反射されたビームが光ファ
イバ60に照射されて格子の生成時、前記格子のアポダ
イゼーションのための移動性第1,2スクリーンマスク
(screen mask)30,50及び照射された光の干渉、補
強により格子を生成させる位相マスク(phase mask)40
とを含む。
るアポダイズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成
を示すものである。図3に示されたアポダイズド光ファ
イバ格子制作装置は、光源の紫外線レーザー(UV lase
r)2と、前記レーザー2から放出されたビーム8を分離
するビームスプリッター(beam splitter)10と、前記
ビームスプリッター10から照射されたビームの方向を
調節するための少なくとも一つ以上のミラー20,2
2,24と、前記ミラーから反射されたビームが光ファ
イバ60に照射されて格子の生成時、前記格子のアポダ
イゼーションのための移動性第1,2スクリーンマスク
(screen mask)30,50及び照射された光の干渉、補
強により格子を生成させる位相マスク(phase mask)40
とを含む。
【0019】前記ビームスプリッター10は前記紫外線
レーザーから照射されたビーム8を二つのビーム12,
14に分離する。前記分離された二つのビームのうち、
一つのビーム12は前記ミラー20,22により反射さ
れて第1スクリーンマスク30の方に照射され、もう一
つのビーム14は第2スクリーンマスク50の方に照射
される。前記ビームスプリッターにより分離された二つ
のビーム12,14は相互垂直方向に向かう。前記二つ
のビームのうち、一つのビーム12は第1ミラー20に
より第2ミラー22に反射される。次に、前記第1ミラ
ー20に反射されたビーム12は第2ミラー22により
反射されて位相マスク40に照射される。この際、前記
光ファイバ60を中心として一側に第1スクリーンマス
ク30が位置し、他側に第2スクリーンマスク50が位
置し、前記第1,2スクリーンマスクは相互対向され
る。かつ、前記第1スクリーンマスク30と光ファイバ
60との間に位相マスク40が備えられる。
レーザーから照射されたビーム8を二つのビーム12,
14に分離する。前記分離された二つのビームのうち、
一つのビーム12は前記ミラー20,22により反射さ
れて第1スクリーンマスク30の方に照射され、もう一
つのビーム14は第2スクリーンマスク50の方に照射
される。前記ビームスプリッターにより分離された二つ
のビーム12,14は相互垂直方向に向かう。前記二つ
のビームのうち、一つのビーム12は第1ミラー20に
より第2ミラー22に反射される。次に、前記第1ミラ
ー20に反射されたビーム12は第2ミラー22により
反射されて位相マスク40に照射される。この際、前記
光ファイバ60を中心として一側に第1スクリーンマス
ク30が位置し、他側に第2スクリーンマスク50が位
置し、前記第1,2スクリーンマスクは相互対向され
る。かつ、前記第1スクリーンマスク30と光ファイバ
60との間に位相マスク40が備えられる。
【0020】前記一つのビーム12が前記位相マスク4
0に照射されると、前記照射されたビームは位相マスク
40を通りながら光の補強、干渉作用により光ファイバ
60に所定周期で多数個の格子を生成する。一方、前記
ビームスプリッター10により分離されたもう一つのビ
ーム14は第3ミラー24により反射されて第2スクリ
ーンマスク50に照射される。結果的に、前記紫外線レ
ーザーで照射されたビーム8はビームスプリッター10
とミラー20,22,24により前記第1,2スクリー
ンマスク30,50に同時に照射される。このような光
ファイバ格子の制作時、前記格子のアポダイゼーション
のために本発明の第1,2スクリーンマスク30,50
は移動性を備える。
0に照射されると、前記照射されたビームは位相マスク
40を通りながら光の補強、干渉作用により光ファイバ
60に所定周期で多数個の格子を生成する。一方、前記
ビームスプリッター10により分離されたもう一つのビ
ーム14は第3ミラー24により反射されて第2スクリ
ーンマスク50に照射される。結果的に、前記紫外線レ
ーザーで照射されたビーム8はビームスプリッター10
とミラー20,22,24により前記第1,2スクリー
ンマスク30,50に同時に照射される。このような光
ファイバ格子の制作時、前記格子のアポダイゼーション
のために本発明の第1,2スクリーンマスク30,50
は移動性を備える。
【0021】一方、図3に示されたアポダイズド光ファ
イバ格子制作装置のさらに他の実施形態を説明すること
にする。図4は本発明の望ましい第2実施形態によるア
ポダイズド光ファイバ格子制作装置の構成を概略的に示
したものである。図3に示されたアポダイズド光ファイ
バ格子制作装置は、一つの紫外線レーザーから放出され
たビームをビームスプリッターと多数個のミラーを用い
て光ファイバに両方向にビームを照射する構成からなる
反面、図4に示されたアポダイズド光ファイバ格子制作
装置は、二つの紫外線レーザーを用いて光ファイバに両
方向にビームを照射する構成からなる。
イバ格子制作装置のさらに他の実施形態を説明すること
にする。図4は本発明の望ましい第2実施形態によるア
ポダイズド光ファイバ格子制作装置の構成を概略的に示
したものである。図3に示されたアポダイズド光ファイ
バ格子制作装置は、一つの紫外線レーザーから放出され
たビームをビームスプリッターと多数個のミラーを用い
て光ファイバに両方向にビームを照射する構成からなる
反面、図4に示されたアポダイズド光ファイバ格子制作
装置は、二つの紫外線レーザーを用いて光ファイバに両
方向にビームを照射する構成からなる。
【0022】図4を参照すると、本発明の第2実施形態
によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置は、光ファ
イバ60の一側に備えられる第1紫外線レーザー4と、
前記光ファイバ60の他側に備えられる第2紫外線レー
ザー6と、前記第1紫外線レーザー4から照射されたビ
ーム16が通過して補強、干渉により光ファイバ60に
格子を生成する位相マスク40と、前記光ファイバ格子
にアポダイゼーションのために前記位相マスク40上に
備えられる第1スクリーンマスク30と、前記光ファイ
バ格子にアポダイゼーションのために前記第2紫外線レ
ーザーと光ファイバ60との間に備えられる第2スクリ
ーンマスク50とを含む。前記光ファイバ60を基準と
して前記第1,2スクリーンマスク30,50は相互一
定な間隔で対向される。かつ、生成された格子のアポダ
イゼーションのために、前記第1,2スクリーンマスク
30,50は移動性を備える。前記第1紫外線レーザー
から照射されたビーム16は位相マスク40に照射さ
れ、前記照射されたビームは位相マスク40を通過しな
がら光の補強、干渉作用により光ファイバ60に所定の
間隔で格子を生成する。その反面、前記第1,2スクリ
ーンマスク30,50は相互近接しようとする方向に移
動しながら生成された格子にアポダイゼーションを具現
する。
によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置は、光ファ
イバ60の一側に備えられる第1紫外線レーザー4と、
前記光ファイバ60の他側に備えられる第2紫外線レー
ザー6と、前記第1紫外線レーザー4から照射されたビ
ーム16が通過して補強、干渉により光ファイバ60に
格子を生成する位相マスク40と、前記光ファイバ格子
にアポダイゼーションのために前記位相マスク40上に
備えられる第1スクリーンマスク30と、前記光ファイ
バ格子にアポダイゼーションのために前記第2紫外線レ
ーザーと光ファイバ60との間に備えられる第2スクリ
ーンマスク50とを含む。前記光ファイバ60を基準と
して前記第1,2スクリーンマスク30,50は相互一
定な間隔で対向される。かつ、生成された格子のアポダ
イゼーションのために、前記第1,2スクリーンマスク
30,50は移動性を備える。前記第1紫外線レーザー
から照射されたビーム16は位相マスク40に照射さ
れ、前記照射されたビームは位相マスク40を通過しな
がら光の補強、干渉作用により光ファイバ60に所定の
間隔で格子を生成する。その反面、前記第1,2スクリ
ーンマスク30,50は相互近接しようとする方向に移
動しながら生成された格子にアポダイゼーションを具現
する。
【0023】以下、前記第1,2スクリーンマスク3
0,50の構成及び動作原理に関して説明することにす
る。まず、前記第1,2スクリーンマスク30,50は
ビームのブロッキング機能を行う構成要素であることを
明示する。前記第1,2スクリーンマスクはビームのブ
ロッキング装置であって、ビームの進行を遮る役割を果
たし、前記ブロッキング装置はビームの進行を遮られる
ならどんな材質でも適用することができる。
0,50の構成及び動作原理に関して説明することにす
る。まず、前記第1,2スクリーンマスク30,50は
ビームのブロッキング機能を行う構成要素であることを
明示する。前記第1,2スクリーンマスクはビームのブ
ロッキング装置であって、ビームの進行を遮る役割を果
たし、前記ブロッキング装置はビームの進行を遮られる
ならどんな材質でも適用することができる。
【0024】本発明は、多数個のミラーを通じて誘導さ
れたビームが光ファイバ60の両方向に伝達される構成
からなり、光ファイバ60の両方向に伝達されたビーム
16,18は位相マスク40を通って光ファイバ60に
格子を形成させた後、第1,2スクリーンマスク30,
50により生成された格子にアポダイゼーションを具現
する。この際、前記第1,2スクリーンマスク30,5
0は定められた時間に応じて移動しながら位相マスク4
0にガウス状のビームを伝える。
れたビームが光ファイバ60の両方向に伝達される構成
からなり、光ファイバ60の両方向に伝達されたビーム
16,18は位相マスク40を通って光ファイバ60に
格子を形成させた後、第1,2スクリーンマスク30,
50により生成された格子にアポダイゼーションを具現
する。この際、前記第1,2スクリーンマスク30,5
0は定められた時間に応じて移動しながら位相マスク4
0にガウス状のビームを伝える。
【0025】図5A乃至図7Bを参照して、時間に応じ
て移動する第1,2スクリーンマスク30,50の構成
及び動作原理に関して詳細に説明することにする。図5
A,図5Bはt=0である場合の第1,2スクリーンマ
スク30,50の動作を示すものであり、図6A,図6
Bはt=t1である場合の第1,2スクリーンマスク3
0,50の動作を示すものであり、図7A,図7Bはt
=t2である場合の第1,2スクリーンマスク30,5
0の動作を示すものである。
て移動する第1,2スクリーンマスク30,50の構成
及び動作原理に関して詳細に説明することにする。図5
A,図5Bはt=0である場合の第1,2スクリーンマ
スク30,50の動作を示すものであり、図6A,図6
Bはt=t1である場合の第1,2スクリーンマスク3
0,50の動作を示すものであり、図7A,図7Bはt
=t2である場合の第1,2スクリーンマスク30,5
0の動作を示すものである。
【0026】図面に示されたX軸は第1,2スクリーン
マスク30,50の移動方向を意味し、Z軸は光ファイ
バ60の長さ方向を意味する。かつ、図面に示された大
きい矢印は第1,2スクリーンマスク30,50の移動
方向を意味する。なお、図面に示されたLは光ファイバ
60に格子が生成される長さを意味し、BはLの中央部
分を意味し、AとCはLの両端部分を意味する。
マスク30,50の移動方向を意味し、Z軸は光ファイ
バ60の長さ方向を意味する。かつ、図面に示された大
きい矢印は第1,2スクリーンマスク30,50の移動
方向を意味する。なお、図面に示されたLは光ファイバ
60に格子が生成される長さを意味し、BはLの中央部
分を意味し、AとCはLの両端部分を意味する。
【0027】前記第1スクリーンマスク30は中央で窪
んだ凹部30aと、前記凹部30aを基準として両端側
に行くほど段々突き出た凸部30bとを含む。一方、前
記第2スクリーンマスク50は中央で突き出た凸部50
aと、前記凸部50aを中心として両端側に行くほど窪
んだ凹部50bとを含む。本発明において、前記第1,
2スクリーンマスク30,50の形状を必ず図面に示さ
れたものだけに限る必要は無く、多様な形状を具現する
ことができる。但し、生成された格子にアポダイゼーシ
ョンのためなら如何なる形状であっても本発明の第1,
2スクリーンマスク30,50に適用することができ
る。例えば、前記第1スクリーンマスク30は階段状に
変更することができ、前記第2スクリーンマスク50も
階段状に変更することができる。
んだ凹部30aと、前記凹部30aを基準として両端側
に行くほど段々突き出た凸部30bとを含む。一方、前
記第2スクリーンマスク50は中央で突き出た凸部50
aと、前記凸部50aを中心として両端側に行くほど窪
んだ凹部50bとを含む。本発明において、前記第1,
2スクリーンマスク30,50の形状を必ず図面に示さ
れたものだけに限る必要は無く、多様な形状を具現する
ことができる。但し、生成された格子にアポダイゼーシ
ョンのためなら如何なる形状であっても本発明の第1,
2スクリーンマスク30,50に適用することができ
る。例えば、前記第1スクリーンマスク30は階段状に
変更することができ、前記第2スクリーンマスク50も
階段状に変更することができる。
【0028】図5Aに示したように、t=0である場合
は、第1紫外線レーザーから放出されたすべてのビーム
が位相マスク40に照射されることにより、前記位相マ
スクを通じて光ファイバ60に所定周期で格子を生成さ
せるようになる。図6Aに示したように、t=t1であ
る場合、即ち、前記第1スクリーンマスク30が一定な
速度で光ファイバ60に近接して移動する場合、前記第
1スクリーンマスク30は矢印方向に移動し、前記光フ
ァイバ60のAとC部分が隠れるようになる。従って、
前記AとC部分はそれ以上第1紫外線レーザービームが
照射されない。一方、前記光ファイバ60のB部分は第
1紫外線レーザービームが一定な時間だけ照射される。
は、第1紫外線レーザーから放出されたすべてのビーム
が位相マスク40に照射されることにより、前記位相マ
スクを通じて光ファイバ60に所定周期で格子を生成さ
せるようになる。図6Aに示したように、t=t1であ
る場合、即ち、前記第1スクリーンマスク30が一定な
速度で光ファイバ60に近接して移動する場合、前記第
1スクリーンマスク30は矢印方向に移動し、前記光フ
ァイバ60のAとC部分が隠れるようになる。従って、
前記AとC部分はそれ以上第1紫外線レーザービームが
照射されない。一方、前記光ファイバ60のB部分は第
1紫外線レーザービームが一定な時間だけ照射される。
【0029】図7Aに示したように、t=t2である場
合、前記第1スクリーンマスク30は矢印方向に移動し
て、A,B,Cのすべての部分を隠すようになる。従っ
て、前記光ファイバのA,B,C部分ではそれ以上第1
紫外線レーザービームが照射されない。前記のように第
1スクリーンマスク30が移動して位相マスク40を漸
進的に隠して第1レーザービームの照射量が調節される
ことにより、図6のような屈折率インデックスが現れ
る。図6は第1スクリーンマスクを用いて光ファイバに
格子を形成させた場合、光ファイバの長さ方向に応じる
屈折率変化を示したものである。図面に示されたX軸は
屈折率変化量を意味し、Z軸は光ファイバの長さ方向を
意味する。
合、前記第1スクリーンマスク30は矢印方向に移動し
て、A,B,Cのすべての部分を隠すようになる。従っ
て、前記光ファイバのA,B,C部分ではそれ以上第1
紫外線レーザービームが照射されない。前記のように第
1スクリーンマスク30が移動して位相マスク40を漸
進的に隠して第1レーザービームの照射量が調節される
ことにより、図6のような屈折率インデックスが現れ
る。図6は第1スクリーンマスクを用いて光ファイバに
格子を形成させた場合、光ファイバの長さ方向に応じる
屈折率変化を示したものである。図面に示されたX軸は
屈折率変化量を意味し、Z軸は光ファイバの長さ方向を
意味する。
【0030】前記生成されたアポダイズド光ファイバ格
子は光ファイバ60のB部分に近づくほど屈折率変化が
大きく、光ファイバのAとC部分に近づくほど屈折率変
化が少ない。図5Bに示されたように、t=0である場
合、すべての第2紫外線レーザービームが所定の幅で光
ファイバに照射される。
子は光ファイバ60のB部分に近づくほど屈折率変化が
大きく、光ファイバのAとC部分に近づくほど屈折率変
化が少ない。図5Bに示されたように、t=0である場
合、すべての第2紫外線レーザービームが所定の幅で光
ファイバに照射される。
【0031】図6Bに示されたように、t=t1 である
場合、前記第2スクリーンマスク50は矢印方向に移動
し、前記光ファイバのB部分が漸進的に隠れるようにな
る。従って、前記B部分はそれ以上第2紫外線レーザー
ビームが照射されない。一方、前記光ファイバのAとC
部分は一定時間だけ第2紫外線レーザービームが照射さ
れる。
場合、前記第2スクリーンマスク50は矢印方向に移動
し、前記光ファイバのB部分が漸進的に隠れるようにな
る。従って、前記B部分はそれ以上第2紫外線レーザー
ビームが照射されない。一方、前記光ファイバのAとC
部分は一定時間だけ第2紫外線レーザービームが照射さ
れる。
【0032】図7Bに示されたように、t=t2である
場合、前記第2スクリーンマスク50は矢印方向に移動
して、A,B,Cのすべての部分が隠れるようになる。
従って、前記光ファイバのA,B,C部分ではそれ以上
紫外線レーザービームが照射されない。
場合、前記第2スクリーンマスク50は矢印方向に移動
して、A,B,Cのすべての部分が隠れるようになる。
従って、前記光ファイバのA,B,C部分ではそれ以上
紫外線レーザービームが照射されない。
【0033】前記のように第1スクリーンマスク30が
移動して位相マスク40を漸進的に隠すことにより、第
1紫外線レーザービームの照射量が調整される。従っ
て、図9のような屈折率インデックスが現れる。図9は
第1スクリーンマスク30を用いて光ファイバに格子を
形成させた場合、光ファイバの長さ方向に応じる屈折率
変化を示すものである。X軸は屈折率変化量を意味し、
Z軸は光ファイバの長さ方向を意味する。
移動して位相マスク40を漸進的に隠すことにより、第
1紫外線レーザービームの照射量が調整される。従っ
て、図9のような屈折率インデックスが現れる。図9は
第1スクリーンマスク30を用いて光ファイバに格子を
形成させた場合、光ファイバの長さ方向に応じる屈折率
変化を示すものである。X軸は屈折率変化量を意味し、
Z軸は光ファイバの長さ方向を意味する。
【0034】光ファイバのAとC部分に近づくほど屈折
率変化量が大きく、光ファイバのB部分に近づくほど屈
折率変化量が少ない。図10は前記第1,2スクリーン
マスク30、50を同時に移動させて光ファイバに両方
向に紫外線レーザービームを照射して格子を生成させた
場合、光ファイバ格子の長さ方向に応じる屈折率変化を
示すものである。図10に示されたように、光ファイバ
格子長さに対して平均屈折率インデックス値を一定化す
ることにより格子のアポダイゼーションが具現され、図
11に示されたように、短波長及び長波長帯域でサイド
ローブが最少化された。
率変化量が大きく、光ファイバのB部分に近づくほど屈
折率変化量が少ない。図10は前記第1,2スクリーン
マスク30、50を同時に移動させて光ファイバに両方
向に紫外線レーザービームを照射して格子を生成させた
場合、光ファイバ格子の長さ方向に応じる屈折率変化を
示すものである。図10に示されたように、光ファイバ
格子長さに対して平均屈折率インデックス値を一定化す
ることにより格子のアポダイゼーションが具現され、図
11に示されたように、短波長及び長波長帯域でサイド
ローブが最少化された。
【0035】図11を参照して本発明のアポダイズド光
ファイバ格子の特性に関して説明すると次の通りであ
る。図11に示された点線(参照番号)は、図1に示さ
れたように均等マスクを用いて一般的な光ファイバの制
作時に現れる反射スペクトルのことである。図面に示さ
れた実線は図2に示されたように、アポダイズド光ファ
イバ格子の反射スペクトルである。しかし、短波長側で
サイドローブを最少化するのが難しい問題点がある。
ファイバ格子の特性に関して説明すると次の通りであ
る。図11に示された点線(参照番号)は、図1に示さ
れたように均等マスクを用いて一般的な光ファイバの制
作時に現れる反射スペクトルのことである。図面に示さ
れた実線は図2に示されたように、アポダイズド光ファ
イバ格子の反射スペクトルである。しかし、短波長側で
サイドローブを最少化するのが難しい問題点がある。
【0036】図面に示された実線は、本発明のアポダイ
ズド光ファイバ格子の波長に応じる反射スペクトルを示
すものであり、長波長及び短波長側でサイドローブが減
る結果を得るようになった。
ズド光ファイバ格子の波長に応じる反射スペクトルを示
すものであり、長波長及び短波長側でサイドローブが減
る結果を得るようになった。
【0037】本発明では、ビームのブロッキング手段
を、二つのスクリーンマスクが備えられたアポダイズド
光ファイバ格子制作装置だけに限ったが、二つ以上のス
クリーンマスクが備えられて、アポダイズド光ファイバ
格子の制作が可能である。即ち、本発明は二つのスクリ
ーンマスクの数に限られる必要がない。但し、前記生成
されたアポダイズド光ファイバ格子に現れる全体的な平
均屈折率の変化を一定化することができれば、それ以上
のスクリーンマスクを備えられる。
を、二つのスクリーンマスクが備えられたアポダイズド
光ファイバ格子制作装置だけに限ったが、二つ以上のス
クリーンマスクが備えられて、アポダイズド光ファイバ
格子の制作が可能である。即ち、本発明は二つのスクリ
ーンマスクの数に限られる必要がない。但し、前記生成
されたアポダイズド光ファイバ格子に現れる全体的な平
均屈折率の変化を一定化することができれば、それ以上
のスクリーンマスクを備えられる。
【0038】一方、本発明の詳細な説明では具体的な実
施形態に関して説明したが、本発明の範囲から逸れない
限り多様な変形が可能であることは、当分野で通常の知
識を有する者には自明である。
施形態に関して説明したが、本発明の範囲から逸れない
限り多様な変形が可能であることは、当分野で通常の知
識を有する者には自明である。
【0039】
【発明の効果】前述の如き、本発明は、マスクの制作が
難しく、アポダイゼーション条件を変える度に新たなマ
スクを再び制作しなければならない特別なアポダイズド
位相マスクを用いるか或いは制作が難しく、長時間がか
かり、再現性のある結果を得難い問題のあるビームスキ
ャンニング方法を用いず、既存の光学装置及び位相マス
クにビームスプリッター及びスクリーンマスクを用いる
ことにより、簡単で手軽くアポダイズド光ファイバ格子
を制作することができる。かつ、二つの紫外線レーザー
ビームを用いてアポダイズド光ファイバ格子を生成する
ことにより、制作が容易になる。
難しく、アポダイゼーション条件を変える度に新たなマ
スクを再び制作しなければならない特別なアポダイズド
位相マスクを用いるか或いは制作が難しく、長時間がか
かり、再現性のある結果を得難い問題のあるビームスキ
ャンニング方法を用いず、既存の光学装置及び位相マス
クにビームスプリッター及びスクリーンマスクを用いる
ことにより、簡単で手軽くアポダイズド光ファイバ格子
を制作することができる。かつ、二つの紫外線レーザー
ビームを用いてアポダイズド光ファイバ格子を生成する
ことにより、制作が容易になる。
【図1】 従来の一実施形態による均等位相マスクを用
いて一般的な光ファイバ格子を制作した場合、光ファイ
バ格子の長さ方向に対する屈折率の変化を示す図であ
る。
いて一般的な光ファイバ格子を制作した場合、光ファイ
バ格子の長さ方向に対する屈折率の変化を示す図であ
る。
【図2】 従来の一実施形態によるアポダイズド光ファ
イバ格子を制作した場合、格子の長さに対する屈折率変
化を示す図である。
イバ格子を制作した場合、格子の長さに対する屈折率変
化を示す図である。
【図3】 本発明の望ましい第1実施形態によるアポダ
イズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成図であ
る。
イズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成図であ
る。
【図4】 本発明の望ましい第2実施形態によるアポダ
イズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成図であ
る。
イズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成図であ
る。
【図5】 Aは、t=0である場合、第1スクリーンマ
スクの動作を示し、Bは、t=0である場合、第2スク
リーンマスクの動作を示す図である。
スクの動作を示し、Bは、t=0である場合、第2スク
リーンマスクの動作を示す図である。
【図6】 Aは、t=t1である場合、第1スクリーン
マスクの動作を示し、Bは、t=t1である場合、第2
スクリーンマスクの動作を示す図である。
マスクの動作を示し、Bは、t=t1である場合、第2
スクリーンマスクの動作を示す図である。
【図7】 Aは、t=t2である場合、第1スクリーン
マスクの動作を示し、Bは、t=t2である場合、第2
スクリーンマスクの動作を示す図である。
マスクの動作を示し、Bは、t=t2である場合、第2
スクリーンマスクの動作を示す図である。
【図8】 本発明によって、第1スクリーンマスクを用
いてアポダイズド光ファイバ格子を制作する時、光ファ
イバ格子の長さ方向に対する屈折率変化を示す図であ
る。
いてアポダイズド光ファイバ格子を制作する時、光ファ
イバ格子の長さ方向に対する屈折率変化を示す図であ
る。
【図9】 本発明によって、第2スクリーンマスクを用
いてアポダイズド光ファイバ格子を制作する時、光ファ
イバ格子の長さ方向に対する屈折率変化を示す図であ
る。
いてアポダイズド光ファイバ格子を制作する時、光ファ
イバ格子の長さ方向に対する屈折率変化を示す図であ
る。
【図10】 本発明によって、第1,2スクリーンマス
クを同時に移動させてアポダイズド光ファイバ格子を制
作する時、光ファイバ格子の長さ方向に対する屈折率変
化を示す図である。
クを同時に移動させてアポダイズド光ファイバ格子を制
作する時、光ファイバ格子の長さ方向に対する屈折率変
化を示す図である。
【図11】 図1,図2及び図9に示された屈折率変化
に対するそれぞれの光ファイバ格子反射スペクトルを示
す図である。
に対するそれぞれの光ファイバ格子反射スペクトルを示
す図である。
2 紫外線レーザー 8,12,14 ビーム 10 ビームスプリッター 20,22,24 ミラー 30 第1スクリーンマスク 40 位相マスク 50 第2スクリーンマスク 60 光ファイバ
Claims (10)
- 【請求項1】 アポダイズド光ファイバ格子制作装置に
おいて、 紫外線レーザービームを放出する紫外線レーザーと、 前記紫外線レーザーから放出されたビームを二つに分離
するビームスプリッターと、 前記ビームスプリッターにより分離された二つのビーム
をそれぞれ反射させて前記光ファイバの両方向に照射さ
れるように光経路を形成する多数のミラーと、 前記ミラーから反射されたビームが通過することにより
前記光ファイバに所定の周期で格子を生成させる位相マ
スクと、 光ファイバに照射された一方向のビームを漸進的にブロ
ッキングして前記生成された格子のアポダイゼーション
を提供し、前記位相マスクとミラーの間に備えられる第
1ブロッキング装置と、 前記光ファイバを基準として第1ブロッキング手段の反
対方向に備えられ、前記光ファイバに同時に照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供することにより、
前記生成された光ファイバ格子の全体的な平均屈折率変
化を一定化する移動性第2ブロッキング装置と、を含む
ことを特徴とするアポダイズド光ファイバ格子制作装
置。 - 【請求項2】 前記第1ブロッキング装置は、第1スク
リーンマスクから構成されることを特徴とする請求項1
記載のアポダイズド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項3】 前記第1スクリーンマスクは、 前記生成された格子にアポダイゼーションを提供するた
めに中央で窪んだ凹部と、 前記凹部から両端側に行くほど漸進的に突き出た凸部
と、を含むことを特徴とする請求項2記載のアポダイズ
ド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項4】 前記第2ブロッキング装置は、第2スク
リーンマスクから構成されることを特徴とする請求項1
記載のアポダイズド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項5】 前記第2スクリーンマスクは、 中央で突き出た凸部と、 前記凸部を基準として両端側に行くほど窪んだ凹部と、
を含むことを特徴とする請求項4記載のアポダイズド光
ファイバ格子制作装置。 - 【請求項6】 光ファイバの一方向にビームを放出する
第1紫外線レーザーと、 前記光ファイバの他方向にビームを放出する第2紫外線
レーザーと、 前記第1紫外線レーザーから放出されたビームが補強、
干渉により光ファイバに所定の周期で格子を生成させる
位相マスクと、 前記光ファイバに照射された一方向のビームを漸進的に
ブロッキングして前記生成された格子のアポダイゼーシ
ョンを提供し、前記第1紫外線レーザーと位相マスクと
の間に備えられる第1ブロッキング装置と、 前記光ファイバを基準として第1ブロッキング装置の反
対方向に備えられ、前記光ファイバに同時に照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供することにより、
光ファイバ格子の全体的な平均屈折率変化を一定化する
移動性第2ブロッキング装置と、を含むことを特徴とす
るアポダイズド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項7】 前記第1ブロッキング装置は、第1スク
リーンマスクから構成されることを特徴とする請求項6
記載のアポダイズド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項8】 前記第1スクリーンマスクは、 前記生成された格子にアポダイゼーションを提供するた
めに中央で窪んだ凹部と、 前記凹部から両端側に行くほど漸進的に突き出た凸部
と、を含むことを特徴とする請求項7記載のアポダイズ
ド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項9】 前記第2ブロッキング装置は、第2スク
リーンマスクから構成されることを特徴とする請求項6
記載のアポダイズド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項10】 前記第2スクリーンマスクは、 中央で突き出た凸部と、 前記凸部を基準として両端側に行くほど窪んだ凹部と、
を含むことを特徴とする請求項9記載のアポダイズド光
ファイバ格子制作装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR199926671 | 1999-07-02 | ||
KR1019990026671A KR100334812B1 (ko) | 1999-07-02 | 1999-07-02 | 아포다이즈드 광섬유 격자 제작장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001033612A true JP2001033612A (ja) | 2001-02-09 |
Family
ID=19599100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000191665A Pending JP2001033612A (ja) | 1999-07-02 | 2000-06-26 | アポダイズド光ファイバ格子制作装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6707956B1 (ja) |
EP (1) | EP1065535A3 (ja) |
JP (1) | JP2001033612A (ja) |
KR (1) | KR100334812B1 (ja) |
CN (1) | CN1175292C (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9354362B2 (en) | 2009-09-23 | 2016-05-31 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Optical devices based on diffraction gratings |
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---|---|---|---|---|
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US6853772B2 (en) * | 2003-05-13 | 2005-02-08 | 3M Innovative Properties Company | Fiber grating writing interferometer with continuous wavelength tuning and chirp capability |
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US8685628B2 (en) * | 2006-04-24 | 2014-04-01 | Stc.Unm | Large area patterning using interferometric lithography |
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US8728719B2 (en) * | 2009-08-19 | 2014-05-20 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Diffractive laser beam homogenizer including a photo-active material and method of fabricating the same |
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---|---|---|---|---|
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GB2302599B (en) * | 1995-06-20 | 1998-08-26 | Northern Telecom Ltd | Forming Bragg gratings in photosensitive optical waveguides |
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IT1292316B1 (it) | 1997-05-20 | 1999-01-29 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Procedimento e dispositivo per la realizzazione di reticoli di bragg in fibre o guide d'onda ottiche. |
FR2764394B1 (fr) * | 1997-06-10 | 1999-08-06 | France Telecom | Banc de photoinscription pour la realisation de reseaux de bragg |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9423539B2 (en) | 2009-07-17 | 2016-08-23 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Non-periodic grating reflectors with focusing power and methods for fabricating the same |
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