JP2001033612A - アポダイズド光ファイバ格子制作装置 - Google Patents
アポダイズド光ファイバ格子制作装置Info
- Publication number
- JP2001033612A JP2001033612A JP2000191665A JP2000191665A JP2001033612A JP 2001033612 A JP2001033612 A JP 2001033612A JP 2000191665 A JP2000191665 A JP 2000191665A JP 2000191665 A JP2000191665 A JP 2000191665A JP 2001033612 A JP2001033612 A JP 2001033612A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- grating
- fiber grating
- apodized
- blocking device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
- G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
- G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
- G02B6/02133—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
- G02B6/02138—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference based on illuminating a phase mask
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
- G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
- G02B6/0208—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response
- G02B6/02085—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response characterised by the grating profile, e.g. chirped, apodised, tilted, helical
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アポダイズド光ファイバ格子制作装置を提供
する。 【解決手段】 紫外線レーザービームを放出する紫外線
レーザー２と、紫外線レーザーから放出されたビームを
二つに分離するビームスプリッター１０と、光経路を形
成する多数のミラーと、所定の周期で格子を生成させる
位相マスク４０と、光ファイバに照射された一方向のビ
ームを漸進的にブロッキングして生成された格子のアポ
ダイゼーションを提供し、位相マスクとミラーの間に備
えられる第１ブロッキング装置と、光ファイバ６０を基
準として第１ブロッキング手段の反対方向に備えられ、
光ファイバに同時に照射された一方向のビームを漸進的
にブロッキングして生成された格子のアポダイゼーショ
ンを提供することにより、生成された光ファイバ格子の
全体的な平均屈折率変化を一定化する移動性第２ブロッ
キング装置とを含むことを特徴とする。
する。 【解決手段】 紫外線レーザービームを放出する紫外線
レーザー２と、紫外線レーザーから放出されたビームを
二つに分離するビームスプリッター１０と、光経路を形
成する多数のミラーと、所定の周期で格子を生成させる
位相マスク４０と、光ファイバに照射された一方向のビ
ームを漸進的にブロッキングして生成された格子のアポ
ダイゼーションを提供し、位相マスクとミラーの間に備
えられる第１ブロッキング装置と、光ファイバ６０を基
準として第１ブロッキング手段の反対方向に備えられ、
光ファイバに同時に照射された一方向のビームを漸進的
にブロッキングして生成された格子のアポダイゼーショ
ンを提供することにより、生成された光ファイバ格子の
全体的な平均屈折率変化を一定化する移動性第２ブロッ
キング装置とを含むことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ格子に
係り、特に、アポダイズド光ファイバ格子(apodized op
tical fiber grating)制作装置に関する。
係り、特に、アポダイズド光ファイバ格子(apodized op
tical fiber grating)制作装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＷＤＭ(Wavelength Division Multiplex
ing)システムでデータの伝送容量が増加するに従いチャ
ネル間隔は段々狭くなっている。よって、狭い帯域幅を
有しながら隣接したチャネルとの隔離(adjacent channe
l isolation)は大きい特性を備えた光フィルターの必要
性が高まっている。光ファイバ格子は光フィルターが備
えるべき条件、即ち低損失、低い偏光依存性、高いチャ
ネル選択的特性などを有する。かつ、光ファイバ格子は
低コストを充足する光フィルターとして脚光を浴びてい
る。
ing)システムでデータの伝送容量が増加するに従いチャ
ネル間隔は段々狭くなっている。よって、狭い帯域幅を
有しながら隣接したチャネルとの隔離(adjacent channe
l isolation)は大きい特性を備えた光フィルターの必要
性が高まっている。光ファイバ格子は光フィルターが備
えるべき条件、即ち低損失、低い偏光依存性、高いチャ
ネル選択的特性などを有する。かつ、光ファイバ格子は
低コストを充足する光フィルターとして脚光を浴びてい
る。
【０００３】しかしながら、従来の光ファイバ格子制作
方法の一つであるエキサイマレーザー(eximer laser)や
均等位相マスク(uniform phase mask)を用いて一般的な
光ファイバ格子を制作すると、全体的な屈折率変化の模
様が図１に示した形態で現れる。
方法の一つであるエキサイマレーザー(eximer laser)や
均等位相マスク(uniform phase mask)を用いて一般的な
光ファイバ格子を制作すると、全体的な屈折率変化の模
様が図１に示した形態で現れる。
【０００４】図１１で点線(参照番号)により示したよ
うに、サイドローブ(sidelobe)が発生して格子のアポダ
イゼーション(apodization)が具現されない。このよう
なサイドローブを減らす方法として、格子の端に行くほ
ど屈折率変調量を縮めるアポダイゼーションが挙げられ
る。前記アポダイゼーションを備えた格子の屈折率変化
が図１１の点線(参照番号)により示されている。アポ
ダイズド光ファイバ格子は格子の屈折率が中央又は両端
に行くほど大きくなるか小さくなる光ファイバ格子のこ
とである。このようなアポダイズド光ファイバ格子は長
波長又は短波長帯のサイドローブが最少化された光ファ
イバ格子のことである。
うに、サイドローブ(sidelobe)が発生して格子のアポダ
イゼーション(apodization)が具現されない。このよう
なサイドローブを減らす方法として、格子の端に行くほ
ど屈折率変調量を縮めるアポダイゼーションが挙げられ
る。前記アポダイゼーションを備えた格子の屈折率変化
が図１１の点線(参照番号)により示されている。アポ
ダイズド光ファイバ格子は格子の屈折率が中央又は両端
に行くほど大きくなるか小さくなる光ファイバ格子のこ
とである。このようなアポダイズド光ファイバ格子は長
波長又は短波長帯のサイドローブが最少化された光ファ
イバ格子のことである。
【０００５】しかし、前記アポダイゼーションは長波長
帯域(long band)のサイドローブを縮める効果はある
が、格子の自己誘導チャープ(self induced chirp)現象
のために短波長帯域のサイドローブを縮めるのは困難で
ある。アポダイゼーションの自己誘導チョッピングは、
図２に示したように、格子の平均インデックス値が不均
一なために発生するものである。従って、自己誘導チョ
ッピングにより発生するサイドローブを縮めるために
は、格子長さに対して平均インデックス値を一定化する
必要がある。
帯域(long band)のサイドローブを縮める効果はある
が、格子の自己誘導チャープ(self induced chirp)現象
のために短波長帯域のサイドローブを縮めるのは困難で
ある。アポダイゼーションの自己誘導チョッピングは、
図２に示したように、格子の平均インデックス値が不均
一なために発生するものである。従って、自己誘導チョ
ッピングにより発生するサイドローブを縮めるために
は、格子長さに対して平均インデックス値を一定化する
必要がある。
【０００６】一方、図２に示したように、光ファイバ格
子のアポダイゼーションを具現する従来の方法は、重畳
記録方法、圧電素子(piezo tranducer：以下、ＰＴＺと
いう)を用いる方法、光スキャンニング方法及び空間フ
ィルター(spatial filter)を用いる方法の四つに大別さ
れる。第一、重畳記録方法は、干渉方法(interference
method)であって、格子を記録する場合、周期とサイズ
がそれぞれ異なる格子を光ファイバに重畳記録してアポ
ダイゼーションを具現する方法である。
子のアポダイゼーションを具現する従来の方法は、重畳
記録方法、圧電素子(piezo tranducer：以下、ＰＴＺと
いう)を用いる方法、光スキャンニング方法及び空間フ
ィルター(spatial filter)を用いる方法の四つに大別さ
れる。第一、重畳記録方法は、干渉方法(interference
method)であって、格子を記録する場合、周期とサイズ
がそれぞれ異なる格子を光ファイバに重畳記録してアポ
ダイゼーションを具現する方法である。
【０００７】第二、圧電素子を用いる方法は、圧電素子
を用いて光ファイバに張力を加えながら格子を記録する
ことにより、アポダイゼーションを具現する方法であ
る。さらに、格子を記録する間には、圧電素子を用いて
光ファイバ又は位相マスクを光ファイバの長さ方向に適
宜な長さだけ振動を与えてアポダイゼーションを具現す
る方法である。
を用いて光ファイバに張力を加えながら格子を記録する
ことにより、アポダイゼーションを具現する方法であ
る。さらに、格子を記録する間には、圧電素子を用いて
光ファイバ又は位相マスクを光ファイバの長さ方向に適
宜な長さだけ振動を与えてアポダイゼーションを具現す
る方法である。
【０００８】第三、光スキャンニング方法は、位相マス
クを用いて格子を記録する場合、レーザーを光ファイバ
の長さ方向に沿って移動すると同時にスキャンニングし
ながら相異なる紫外線光の強さとスキャンニング速度を
与えてアポダイズド格子を記録する方法である。
クを用いて格子を記録する場合、レーザーを光ファイバ
の長さ方向に沿って移動すると同時にスキャンニングし
ながら相異なる紫外線光の強さとスキャンニング速度を
与えてアポダイズド格子を記録する方法である。
【０００９】最後に、空間フィルターを用いる方法は、
干渉方法を用いる方法であって、一方の干渉光に回折ス
リット(diffraction slit)を設けて、スリットを通った
干渉光の強さがガウス(Gaussian)分布を有する特性を用
いてアポダイゼーションを具現する。かつ、位相マスク
にＵＶ光を走査する時、位相マスクの前に光ファイバの
長さ方向に相異なる透過度の空間フィルターを設けてア
ポダイゼーションを具現する方法である。
干渉方法を用いる方法であって、一方の干渉光に回折ス
リット(diffraction slit)を設けて、スリットを通った
干渉光の強さがガウス(Gaussian)分布を有する特性を用
いてアポダイゼーションを具現する。かつ、位相マスク
にＵＶ光を走査する時、位相マスクの前に光ファイバの
長さ方向に相異なる透過度の空間フィルターを設けてア
ポダイゼーションを具現する方法である。
【００１０】ところが、前記のようにアポダイズド光フ
ァイバ格子を制作する従来の方法には次のような問題点
がある。重畳記録方法は、適宜な重畳を用いるためには
格子周期より短い長さを高精密に制御する装置を要する
ので、制作に手間がかかる問題点がある。圧電素子を用
いたアポダイズド光ファイバ格子制作時にも、格子周期
より短い長さを適宜に制御しなければならない問題点が
ある。
ァイバ格子を制作する従来の方法には次のような問題点
がある。重畳記録方法は、適宜な重畳を用いるためには
格子周期より短い長さを高精密に制御する装置を要する
ので、制作に手間がかかる問題点がある。圧電素子を用
いたアポダイズド光ファイバ格子制作時にも、格子周期
より短い長さを適宜に制御しなければならない問題点が
ある。
【００１１】光スキャンニング方法は、必要なアポダイ
ズド格子を得るために適宜な光スキャンニング速度と光
強さを調節しなければならない問題点がある。空間フィ
ルターを用いる方法は、干渉模様を記録して格子を制作
するので、振動を遮らなければならない問題点がある。
かつ、そのためには高価の装備を必要とする。
ズド格子を得るために適宜な光スキャンニング速度と光
強さを調節しなければならない問題点がある。空間フィ
ルターを用いる方法は、干渉模様を記録して格子を制作
するので、振動を遮らなければならない問題点がある。
かつ、そのためには高価の装備を必要とする。
【００１２】かつ、位相マスクを用いてアポダイズド光
ファイバ格子を制作する場合、集中イオンビーム注入技
術(focused ion beam implantation)と湿式エッチング
(wetetching)技術を用いて効果的なプロファイルを有す
る位相マスクを制作しなければならない。前記方法はア
ポダイゼーションの条件を変える毎に新たな位相マスク
を再び制作しなければならないので、コストと柔軟性の
側面で問題になる。
ファイバ格子を制作する場合、集中イオンビーム注入技
術(focused ion beam implantation)と湿式エッチング
(wetetching)技術を用いて効果的なプロファイルを有す
る位相マスクを制作しなければならない。前記方法はア
ポダイゼーションの条件を変える毎に新たな位相マスク
を再び制作しなければならないので、コストと柔軟性の
側面で問題になる。
【００１３】なお、紫外線光を光ファイバの長さ方向に
変調量を調節しながらスキャンニングして制作する方法
は、多様な特性で制作できる長所がある反面、制作に長
時間がかかり、再現性のある結果を得難いという問題点
がある。結果的に、アポダイズド位相マスクを用いる方
法は、位相マスクの制作が難しく、アポダイゼーション
条件を変える毎に新たなマスクを再び制作しなければな
らないため、コストと柔軟性の側面で問題になる、さら
に、ビームスキャンニング方法は、制作が難しく、長時
間がかかり、再現性のある結果を得難いという問題点が
ある。
変調量を調節しながらスキャンニングして制作する方法
は、多様な特性で制作できる長所がある反面、制作に長
時間がかかり、再現性のある結果を得難いという問題点
がある。結果的に、アポダイズド位相マスクを用いる方
法は、位相マスクの制作が難しく、アポダイゼーション
条件を変える毎に新たなマスクを再び制作しなければな
らないため、コストと柔軟性の側面で問題になる、さら
に、ビームスキャンニング方法は、制作が難しく、長時
間がかかり、再現性のある結果を得難いという問題点が
ある。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ビームスプリッターとスクリーンマスクを用いて簡
単に制作できるアポダイゼーション光ファイバ格子制作
装置を提供することにある。本発明の他の目的は、光フ
ァイバ格子の長さ方向に沿って屈折率分布が均一なアポ
ダイズド光ファイバ格子制作装置を提供することにあ
る。
は、ビームスプリッターとスクリーンマスクを用いて簡
単に制作できるアポダイゼーション光ファイバ格子制作
装置を提供することにある。本発明の他の目的は、光フ
ァイバ格子の長さ方向に沿って屈折率分布が均一なアポ
ダイズド光ファイバ格子制作装置を提供することにあ
る。
【００１５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置
は、紫外線レーザービームを放出する紫外線レーザー
と、前記紫外線レーザーから放出されたビームを二つに
分離するビームスプリッターと、前記ビームスプリッタ
ーにより分離された二つのビームをそれぞれ反射させて
前記光ファイバに両方向に照射されるように光経路を形
成する多数のミラーと、前記ミラーから反射されたビー
ムが通過することにより前記光ファイバに所定の周期で
格子を生成する位相マスクと、光ファイバに照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供し、前記位相マス
クとミラーの間に備えられる第１ブロッキング装置と、
前記光ファイバを基準として第１ブロッキング手段の反
対方向に備えられ、前記光ファイバに同時に照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供することにより、
前記生成された光ファイバ格子の全体的な平均屈折率変
化を一定化する移動性第２ブロッキング装置と、を含む
ことを特徴とする。
に、本発明によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置
は、紫外線レーザービームを放出する紫外線レーザー
と、前記紫外線レーザーから放出されたビームを二つに
分離するビームスプリッターと、前記ビームスプリッタ
ーにより分離された二つのビームをそれぞれ反射させて
前記光ファイバに両方向に照射されるように光経路を形
成する多数のミラーと、前記ミラーから反射されたビー
ムが通過することにより前記光ファイバに所定の周期で
格子を生成する位相マスクと、光ファイバに照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供し、前記位相マス
クとミラーの間に備えられる第１ブロッキング装置と、
前記光ファイバを基準として第１ブロッキング手段の反
対方向に備えられ、前記光ファイバに同時に照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供することにより、
前記生成された光ファイバ格子の全体的な平均屈折率変
化を一定化する移動性第２ブロッキング装置と、を含む
ことを特徴とする。
【００１６】さらに、前記目的を達成するために、本発
明によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置は、光フ
ァイバの一方向にビームを放出する第１紫外線レーザー
と、前記光ファイバの他方向にビームを放出する第２紫
外線レーザーと、前記第１紫外線レーザーから放出され
たビームが補強、干渉により光ファイバに所定の周期で
格子を生成させる位相マスクと、前記光ファイバに照射
された一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記
生成された格子のアポダイゼーションを提供し、前記第
１紫外線レーザーと位相マスクの間に備えられる第１ブ
ロッキング装置と、前記光ファイバを基準として第１ブ
ロッキング装置の反対方向に備えられ、前記光ファイバ
に同時に照射された一方向のビームを漸進的にブロッキ
ングして前記生成された格子のアポダイゼーションを提
供することにより、光ファイバ格子の全体的な平均屈折
率変化を一定化する移動性第２ブロッキング装置と、を
含むことを特徴とする。
明によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置は、光フ
ァイバの一方向にビームを放出する第１紫外線レーザー
と、前記光ファイバの他方向にビームを放出する第２紫
外線レーザーと、前記第１紫外線レーザーから放出され
たビームが補強、干渉により光ファイバに所定の周期で
格子を生成させる位相マスクと、前記光ファイバに照射
された一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記
生成された格子のアポダイゼーションを提供し、前記第
１紫外線レーザーと位相マスクの間に備えられる第１ブ
ロッキング装置と、前記光ファイバを基準として第１ブ
ロッキング装置の反対方向に備えられ、前記光ファイバ
に同時に照射された一方向のビームを漸進的にブロッキ
ングして前記生成された格子のアポダイゼーションを提
供することにより、光ファイバ格子の全体的な平均屈折
率変化を一定化する移動性第２ブロッキング装置と、を
含むことを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明に従う好適な実施形
態を添付図面を参照しつつ詳細に説明する。本発明の説
明において、本発明の要旨のみを明瞭にする目的で、関
連した公知機能又は構成に関する具体的な説明は省略す
る。
態を添付図面を参照しつつ詳細に説明する。本発明の説
明において、本発明の要旨のみを明瞭にする目的で、関
連した公知機能又は構成に関する具体的な説明は省略す
る。
【００１８】図３は本発明の望ましい第１実施形態によ
るアポダイズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成
を示すものである。図３に示されたアポダイズド光ファ
イバ格子制作装置は、光源の紫外線レーザー(ＵＶ lase
r)２と、前記レーザー２から放出されたビーム８を分離
するビームスプリッター(beam splitter)１０と、前記
ビームスプリッター１０から照射されたビームの方向を
調節するための少なくとも一つ以上のミラー２０，２
２，２４と、前記ミラーから反射されたビームが光ファ
イバ６０に照射されて格子の生成時、前記格子のアポダ
イゼーションのための移動性第１，２スクリーンマスク
(screen mask)３０，５０及び照射された光の干渉、補
強により格子を生成させる位相マスク(phase mask)４０
とを含む。
るアポダイズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成
を示すものである。図３に示されたアポダイズド光ファ
イバ格子制作装置は、光源の紫外線レーザー(ＵＶ lase
r)２と、前記レーザー２から放出されたビーム８を分離
するビームスプリッター(beam splitter)１０と、前記
ビームスプリッター１０から照射されたビームの方向を
調節するための少なくとも一つ以上のミラー２０，２
２，２４と、前記ミラーから反射されたビームが光ファ
イバ６０に照射されて格子の生成時、前記格子のアポダ
イゼーションのための移動性第１，２スクリーンマスク
(screen mask)３０，５０及び照射された光の干渉、補
強により格子を生成させる位相マスク(phase mask)４０
とを含む。
【００１９】前記ビームスプリッター１０は前記紫外線
レーザーから照射されたビーム８を二つのビーム１２，
１４に分離する。前記分離された二つのビームのうち、
一つのビーム１２は前記ミラー２０，２２により反射さ
れて第１スクリーンマスク３０の方に照射され、もう一
つのビーム１４は第２スクリーンマスク５０の方に照射
される。前記ビームスプリッターにより分離された二つ
のビーム１２，１４は相互垂直方向に向かう。前記二つ
のビームのうち、一つのビーム１２は第１ミラー２０に
より第２ミラー２２に反射される。次に、前記第１ミラ
ー２０に反射されたビーム１２は第２ミラー２２により
反射されて位相マスク４０に照射される。この際、前記
光ファイバ６０を中心として一側に第１スクリーンマス
ク３０が位置し、他側に第２スクリーンマスク５０が位
置し、前記第１，２スクリーンマスクは相互対向され
る。かつ、前記第１スクリーンマスク３０と光ファイバ
６０との間に位相マスク４０が備えられる。
レーザーから照射されたビーム８を二つのビーム１２，
１４に分離する。前記分離された二つのビームのうち、
一つのビーム１２は前記ミラー２０，２２により反射さ
れて第１スクリーンマスク３０の方に照射され、もう一
つのビーム１４は第２スクリーンマスク５０の方に照射
される。前記ビームスプリッターにより分離された二つ
のビーム１２，１４は相互垂直方向に向かう。前記二つ
のビームのうち、一つのビーム１２は第１ミラー２０に
より第２ミラー２２に反射される。次に、前記第１ミラ
ー２０に反射されたビーム１２は第２ミラー２２により
反射されて位相マスク４０に照射される。この際、前記
光ファイバ６０を中心として一側に第１スクリーンマス
ク３０が位置し、他側に第２スクリーンマスク５０が位
置し、前記第１，２スクリーンマスクは相互対向され
る。かつ、前記第１スクリーンマスク３０と光ファイバ
６０との間に位相マスク４０が備えられる。
【００２０】前記一つのビーム１２が前記位相マスク４
０に照射されると、前記照射されたビームは位相マスク
４０を通りながら光の補強、干渉作用により光ファイバ
６０に所定周期で多数個の格子を生成する。一方、前記
ビームスプリッター１０により分離されたもう一つのビ
ーム１４は第３ミラー２４により反射されて第２スクリ
ーンマスク５０に照射される。結果的に、前記紫外線レ
ーザーで照射されたビーム８はビームスプリッター１０
とミラー２０，２２，２４により前記第１，２スクリー
ンマスク３０，５０に同時に照射される。このような光
ファイバ格子の制作時、前記格子のアポダイゼーション
のために本発明の第１，２スクリーンマスク３０，５０
は移動性を備える。
０に照射されると、前記照射されたビームは位相マスク
４０を通りながら光の補強、干渉作用により光ファイバ
６０に所定周期で多数個の格子を生成する。一方、前記
ビームスプリッター１０により分離されたもう一つのビ
ーム１４は第３ミラー２４により反射されて第２スクリ
ーンマスク５０に照射される。結果的に、前記紫外線レ
ーザーで照射されたビーム８はビームスプリッター１０
とミラー２０，２２，２４により前記第１，２スクリー
ンマスク３０，５０に同時に照射される。このような光
ファイバ格子の制作時、前記格子のアポダイゼーション
のために本発明の第１，２スクリーンマスク３０，５０
は移動性を備える。
【００２１】一方、図３に示されたアポダイズド光ファ
イバ格子制作装置のさらに他の実施形態を説明すること
にする。図４は本発明の望ましい第２実施形態によるア
ポダイズド光ファイバ格子制作装置の構成を概略的に示
したものである。図３に示されたアポダイズド光ファイ
バ格子制作装置は、一つの紫外線レーザーから放出され
たビームをビームスプリッターと多数個のミラーを用い
て光ファイバに両方向にビームを照射する構成からなる
反面、図４に示されたアポダイズド光ファイバ格子制作
装置は、二つの紫外線レーザーを用いて光ファイバに両
方向にビームを照射する構成からなる。
イバ格子制作装置のさらに他の実施形態を説明すること
にする。図４は本発明の望ましい第２実施形態によるア
ポダイズド光ファイバ格子制作装置の構成を概略的に示
したものである。図３に示されたアポダイズド光ファイ
バ格子制作装置は、一つの紫外線レーザーから放出され
たビームをビームスプリッターと多数個のミラーを用い
て光ファイバに両方向にビームを照射する構成からなる
反面、図４に示されたアポダイズド光ファイバ格子制作
装置は、二つの紫外線レーザーを用いて光ファイバに両
方向にビームを照射する構成からなる。
【００２２】図４を参照すると、本発明の第２実施形態
によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置は、光ファ
イバ６０の一側に備えられる第１紫外線レーザー４と、
前記光ファイバ６０の他側に備えられる第２紫外線レー
ザー６と、前記第１紫外線レーザー４から照射されたビ
ーム１６が通過して補強、干渉により光ファイバ６０に
格子を生成する位相マスク４０と、前記光ファイバ格子
にアポダイゼーションのために前記位相マスク４０上に
備えられる第１スクリーンマスク３０と、前記光ファイ
バ格子にアポダイゼーションのために前記第２紫外線レ
ーザーと光ファイバ６０との間に備えられる第２スクリ
ーンマスク５０とを含む。前記光ファイバ６０を基準と
して前記第１，２スクリーンマスク３０，５０は相互一
定な間隔で対向される。かつ、生成された格子のアポダ
イゼーションのために、前記第１，２スクリーンマスク
３０，５０は移動性を備える。前記第１紫外線レーザー
から照射されたビーム１６は位相マスク４０に照射さ
れ、前記照射されたビームは位相マスク４０を通過しな
がら光の補強、干渉作用により光ファイバ６０に所定の
間隔で格子を生成する。その反面、前記第１，２スクリ
ーンマスク３０，５０は相互近接しようとする方向に移
動しながら生成された格子にアポダイゼーションを具現
する。
によるアポダイズド光ファイバ格子制作装置は、光ファ
イバ６０の一側に備えられる第１紫外線レーザー４と、
前記光ファイバ６０の他側に備えられる第２紫外線レー
ザー６と、前記第１紫外線レーザー４から照射されたビ
ーム１６が通過して補強、干渉により光ファイバ６０に
格子を生成する位相マスク４０と、前記光ファイバ格子
にアポダイゼーションのために前記位相マスク４０上に
備えられる第１スクリーンマスク３０と、前記光ファイ
バ格子にアポダイゼーションのために前記第２紫外線レ
ーザーと光ファイバ６０との間に備えられる第２スクリ
ーンマスク５０とを含む。前記光ファイバ６０を基準と
して前記第１，２スクリーンマスク３０，５０は相互一
定な間隔で対向される。かつ、生成された格子のアポダ
イゼーションのために、前記第１，２スクリーンマスク
３０，５０は移動性を備える。前記第１紫外線レーザー
から照射されたビーム１６は位相マスク４０に照射さ
れ、前記照射されたビームは位相マスク４０を通過しな
がら光の補強、干渉作用により光ファイバ６０に所定の
間隔で格子を生成する。その反面、前記第１，２スクリ
ーンマスク３０，５０は相互近接しようとする方向に移
動しながら生成された格子にアポダイゼーションを具現
する。
【００２３】以下、前記第１，２スクリーンマスク３
０，５０の構成及び動作原理に関して説明することにす
る。まず、前記第１，２スクリーンマスク３０，５０は
ビームのブロッキング機能を行う構成要素であることを
明示する。前記第１，２スクリーンマスクはビームのブ
ロッキング装置であって、ビームの進行を遮る役割を果
たし、前記ブロッキング装置はビームの進行を遮られる
ならどんな材質でも適用することができる。
０，５０の構成及び動作原理に関して説明することにす
る。まず、前記第１，２スクリーンマスク３０，５０は
ビームのブロッキング機能を行う構成要素であることを
明示する。前記第１，２スクリーンマスクはビームのブ
ロッキング装置であって、ビームの進行を遮る役割を果
たし、前記ブロッキング装置はビームの進行を遮られる
ならどんな材質でも適用することができる。
【００２４】本発明は、多数個のミラーを通じて誘導さ
れたビームが光ファイバ６０の両方向に伝達される構成
からなり、光ファイバ６０の両方向に伝達されたビーム
１６，１８は位相マスク４０を通って光ファイバ６０に
格子を形成させた後、第１，２スクリーンマスク３０，
５０により生成された格子にアポダイゼーションを具現
する。この際、前記第１，２スクリーンマスク３０，５
０は定められた時間に応じて移動しながら位相マスク４
０にガウス状のビームを伝える。
れたビームが光ファイバ６０の両方向に伝達される構成
からなり、光ファイバ６０の両方向に伝達されたビーム
１６，１８は位相マスク４０を通って光ファイバ６０に
格子を形成させた後、第１，２スクリーンマスク３０，
５０により生成された格子にアポダイゼーションを具現
する。この際、前記第１，２スクリーンマスク３０，５
０は定められた時間に応じて移動しながら位相マスク４
０にガウス状のビームを伝える。
【００２５】図５Ａ乃至図７Ｂを参照して、時間に応じ
て移動する第１，２スクリーンマスク３０，５０の構成
及び動作原理に関して詳細に説明することにする。図５
Ａ，図５Ｂはｔ＝０である場合の第１，２スクリーンマ
スク３０，５０の動作を示すものであり、図６Ａ，図６
Ｂはｔ＝ｔ1である場合の第１，２スクリーンマスク３
０，５０の動作を示すものであり、図７Ａ，図７Ｂはｔ
＝ｔ2である場合の第１，２スクリーンマスク３０，５
０の動作を示すものである。
て移動する第１，２スクリーンマスク３０，５０の構成
及び動作原理に関して詳細に説明することにする。図５
Ａ，図５Ｂはｔ＝０である場合の第１，２スクリーンマ
スク３０，５０の動作を示すものであり、図６Ａ，図６
Ｂはｔ＝ｔ1である場合の第１，２スクリーンマスク３
０，５０の動作を示すものであり、図７Ａ，図７Ｂはｔ
＝ｔ2である場合の第１，２スクリーンマスク３０，５
０の動作を示すものである。
【００２６】図面に示されたＸ軸は第１，２スクリーン
マスク３０，５０の移動方向を意味し、Ｚ軸は光ファイ
バ６０の長さ方向を意味する。かつ、図面に示された大
きい矢印は第１，２スクリーンマスク３０，５０の移動
方向を意味する。なお、図面に示されたＬは光ファイバ
６０に格子が生成される長さを意味し、ＢはＬの中央部
分を意味し、ＡとＣはＬの両端部分を意味する。
マスク３０，５０の移動方向を意味し、Ｚ軸は光ファイ
バ６０の長さ方向を意味する。かつ、図面に示された大
きい矢印は第１，２スクリーンマスク３０，５０の移動
方向を意味する。なお、図面に示されたＬは光ファイバ
６０に格子が生成される長さを意味し、ＢはＬの中央部
分を意味し、ＡとＣはＬの両端部分を意味する。
【００２７】前記第１スクリーンマスク３０は中央で窪
んだ凹部３０ａと、前記凹部３０ａを基準として両端側
に行くほど段々突き出た凸部３０ｂとを含む。一方、前
記第２スクリーンマスク５０は中央で突き出た凸部５０
ａと、前記凸部５０ａを中心として両端側に行くほど窪
んだ凹部５０ｂとを含む。本発明において、前記第１，
２スクリーンマスク３０，５０の形状を必ず図面に示さ
れたものだけに限る必要は無く、多様な形状を具現する
ことができる。但し、生成された格子にアポダイゼーシ
ョンのためなら如何なる形状であっても本発明の第１，
２スクリーンマスク３０，５０に適用することができ
る。例えば、前記第１スクリーンマスク３０は階段状に
変更することができ、前記第２スクリーンマスク５０も
階段状に変更することができる。
んだ凹部３０ａと、前記凹部３０ａを基準として両端側
に行くほど段々突き出た凸部３０ｂとを含む。一方、前
記第２スクリーンマスク５０は中央で突き出た凸部５０
ａと、前記凸部５０ａを中心として両端側に行くほど窪
んだ凹部５０ｂとを含む。本発明において、前記第１，
２スクリーンマスク３０，５０の形状を必ず図面に示さ
れたものだけに限る必要は無く、多様な形状を具現する
ことができる。但し、生成された格子にアポダイゼーシ
ョンのためなら如何なる形状であっても本発明の第１，
２スクリーンマスク３０，５０に適用することができ
る。例えば、前記第１スクリーンマスク３０は階段状に
変更することができ、前記第２スクリーンマスク５０も
階段状に変更することができる。
【００２８】図５Ａに示したように、ｔ＝０である場合
は、第１紫外線レーザーから放出されたすべてのビーム
が位相マスク４０に照射されることにより、前記位相マ
スクを通じて光ファイバ６０に所定周期で格子を生成さ
せるようになる。図６Ａに示したように、ｔ＝ｔ1であ
る場合、即ち、前記第１スクリーンマスク３０が一定な
速度で光ファイバ６０に近接して移動する場合、前記第
１スクリーンマスク３０は矢印方向に移動し、前記光フ
ァイバ６０のＡとＣ部分が隠れるようになる。従って、
前記ＡとＣ部分はそれ以上第１紫外線レーザービームが
照射されない。一方、前記光ファイバ６０のＢ部分は第
１紫外線レーザービームが一定な時間だけ照射される。
は、第１紫外線レーザーから放出されたすべてのビーム
が位相マスク４０に照射されることにより、前記位相マ
スクを通じて光ファイバ６０に所定周期で格子を生成さ
せるようになる。図６Ａに示したように、ｔ＝ｔ1であ
る場合、即ち、前記第１スクリーンマスク３０が一定な
速度で光ファイバ６０に近接して移動する場合、前記第
１スクリーンマスク３０は矢印方向に移動し、前記光フ
ァイバ６０のＡとＣ部分が隠れるようになる。従って、
前記ＡとＣ部分はそれ以上第１紫外線レーザービームが
照射されない。一方、前記光ファイバ６０のＢ部分は第
１紫外線レーザービームが一定な時間だけ照射される。
【００２９】図７Ａに示したように、ｔ＝ｔ2である場
合、前記第１スクリーンマスク３０は矢印方向に移動し
て、Ａ，Ｂ，Ｃのすべての部分を隠すようになる。従っ
て、前記光ファイバのＡ，Ｂ，Ｃ部分ではそれ以上第１
紫外線レーザービームが照射されない。前記のように第
１スクリーンマスク３０が移動して位相マスク４０を漸
進的に隠して第１レーザービームの照射量が調節される
ことにより、図６のような屈折率インデックスが現れ
る。図６は第１スクリーンマスクを用いて光ファイバに
格子を形成させた場合、光ファイバの長さ方向に応じる
屈折率変化を示したものである。図面に示されたＸ軸は
屈折率変化量を意味し、Ｚ軸は光ファイバの長さ方向を
意味する。
合、前記第１スクリーンマスク３０は矢印方向に移動し
て、Ａ，Ｂ，Ｃのすべての部分を隠すようになる。従っ
て、前記光ファイバのＡ，Ｂ，Ｃ部分ではそれ以上第１
紫外線レーザービームが照射されない。前記のように第
１スクリーンマスク３０が移動して位相マスク４０を漸
進的に隠して第１レーザービームの照射量が調節される
ことにより、図６のような屈折率インデックスが現れ
る。図６は第１スクリーンマスクを用いて光ファイバに
格子を形成させた場合、光ファイバの長さ方向に応じる
屈折率変化を示したものである。図面に示されたＸ軸は
屈折率変化量を意味し、Ｚ軸は光ファイバの長さ方向を
意味する。
【００３０】前記生成されたアポダイズド光ファイバ格
子は光ファイバ６０のＢ部分に近づくほど屈折率変化が
大きく、光ファイバのＡとＣ部分に近づくほど屈折率変
化が少ない。図５Ｂに示されたように、ｔ＝０である場
合、すべての第２紫外線レーザービームが所定の幅で光
ファイバに照射される。
子は光ファイバ６０のＢ部分に近づくほど屈折率変化が
大きく、光ファイバのＡとＣ部分に近づくほど屈折率変
化が少ない。図５Ｂに示されたように、ｔ＝０である場
合、すべての第２紫外線レーザービームが所定の幅で光
ファイバに照射される。
【００３１】図６Ｂに示されたように、ｔ＝ｔ1 である
場合、前記第２スクリーンマスク５０は矢印方向に移動
し、前記光ファイバのＢ部分が漸進的に隠れるようにな
る。従って、前記Ｂ部分はそれ以上第２紫外線レーザー
ビームが照射されない。一方、前記光ファイバのＡとＣ
部分は一定時間だけ第２紫外線レーザービームが照射さ
れる。
場合、前記第２スクリーンマスク５０は矢印方向に移動
し、前記光ファイバのＢ部分が漸進的に隠れるようにな
る。従って、前記Ｂ部分はそれ以上第２紫外線レーザー
ビームが照射されない。一方、前記光ファイバのＡとＣ
部分は一定時間だけ第２紫外線レーザービームが照射さ
れる。
【００３２】図７Ｂに示されたように、ｔ＝ｔ2である
場合、前記第２スクリーンマスク５０は矢印方向に移動
して、Ａ，Ｂ，Ｃのすべての部分が隠れるようになる。
従って、前記光ファイバのＡ，Ｂ，Ｃ部分ではそれ以上
紫外線レーザービームが照射されない。
場合、前記第２スクリーンマスク５０は矢印方向に移動
して、Ａ，Ｂ，Ｃのすべての部分が隠れるようになる。
従って、前記光ファイバのＡ，Ｂ，Ｃ部分ではそれ以上
紫外線レーザービームが照射されない。
【００３３】前記のように第１スクリーンマスク３０が
移動して位相マスク４０を漸進的に隠すことにより、第
１紫外線レーザービームの照射量が調整される。従っ
て、図９のような屈折率インデックスが現れる。図９は
第１スクリーンマスク３０を用いて光ファイバに格子を
形成させた場合、光ファイバの長さ方向に応じる屈折率
変化を示すものである。Ｘ軸は屈折率変化量を意味し、
Ｚ軸は光ファイバの長さ方向を意味する。
移動して位相マスク４０を漸進的に隠すことにより、第
１紫外線レーザービームの照射量が調整される。従っ
て、図９のような屈折率インデックスが現れる。図９は
第１スクリーンマスク３０を用いて光ファイバに格子を
形成させた場合、光ファイバの長さ方向に応じる屈折率
変化を示すものである。Ｘ軸は屈折率変化量を意味し、
Ｚ軸は光ファイバの長さ方向を意味する。
【００３４】光ファイバのＡとＣ部分に近づくほど屈折
率変化量が大きく、光ファイバのＢ部分に近づくほど屈
折率変化量が少ない。図１０は前記第１，２スクリーン
マスク３０、５０を同時に移動させて光ファイバに両方
向に紫外線レーザービームを照射して格子を生成させた
場合、光ファイバ格子の長さ方向に応じる屈折率変化を
示すものである。図１０に示されたように、光ファイバ
格子長さに対して平均屈折率インデックス値を一定化す
ることにより格子のアポダイゼーションが具現され、図
１１に示されたように、短波長及び長波長帯域でサイド
ローブが最少化された。
率変化量が大きく、光ファイバのＢ部分に近づくほど屈
折率変化量が少ない。図１０は前記第１，２スクリーン
マスク３０、５０を同時に移動させて光ファイバに両方
向に紫外線レーザービームを照射して格子を生成させた
場合、光ファイバ格子の長さ方向に応じる屈折率変化を
示すものである。図１０に示されたように、光ファイバ
格子長さに対して平均屈折率インデックス値を一定化す
ることにより格子のアポダイゼーションが具現され、図
１１に示されたように、短波長及び長波長帯域でサイド
ローブが最少化された。
【００３５】図１１を参照して本発明のアポダイズド光
ファイバ格子の特性に関して説明すると次の通りであ
る。図１１に示された点線(参照番号)は、図１に示さ
れたように均等マスクを用いて一般的な光ファイバの制
作時に現れる反射スペクトルのことである。図面に示さ
れた実線は図２に示されたように、アポダイズド光ファ
イバ格子の反射スペクトルである。しかし、短波長側で
サイドローブを最少化するのが難しい問題点がある。
ファイバ格子の特性に関して説明すると次の通りであ
る。図１１に示された点線(参照番号)は、図１に示さ
れたように均等マスクを用いて一般的な光ファイバの制
作時に現れる反射スペクトルのことである。図面に示さ
れた実線は図２に示されたように、アポダイズド光ファ
イバ格子の反射スペクトルである。しかし、短波長側で
サイドローブを最少化するのが難しい問題点がある。
【００３６】図面に示された実線は、本発明のアポダイ
ズド光ファイバ格子の波長に応じる反射スペクトルを示
すものであり、長波長及び短波長側でサイドローブが減
る結果を得るようになった。
ズド光ファイバ格子の波長に応じる反射スペクトルを示
すものであり、長波長及び短波長側でサイドローブが減
る結果を得るようになった。
【００３７】本発明では、ビームのブロッキング手段
を、二つのスクリーンマスクが備えられたアポダイズド
光ファイバ格子制作装置だけに限ったが、二つ以上のス
クリーンマスクが備えられて、アポダイズド光ファイバ
格子の制作が可能である。即ち、本発明は二つのスクリ
ーンマスクの数に限られる必要がない。但し、前記生成
されたアポダイズド光ファイバ格子に現れる全体的な平
均屈折率の変化を一定化することができれば、それ以上
のスクリーンマスクを備えられる。
を、二つのスクリーンマスクが備えられたアポダイズド
光ファイバ格子制作装置だけに限ったが、二つ以上のス
クリーンマスクが備えられて、アポダイズド光ファイバ
格子の制作が可能である。即ち、本発明は二つのスクリ
ーンマスクの数に限られる必要がない。但し、前記生成
されたアポダイズド光ファイバ格子に現れる全体的な平
均屈折率の変化を一定化することができれば、それ以上
のスクリーンマスクを備えられる。
【００３８】一方、本発明の詳細な説明では具体的な実
施形態に関して説明したが、本発明の範囲から逸れない
限り多様な変形が可能であることは、当分野で通常の知
識を有する者には自明である。
施形態に関して説明したが、本発明の範囲から逸れない
限り多様な変形が可能であることは、当分野で通常の知
識を有する者には自明である。
【００３９】
【発明の効果】前述の如き、本発明は、マスクの制作が
難しく、アポダイゼーション条件を変える度に新たなマ
スクを再び制作しなければならない特別なアポダイズド
位相マスクを用いるか或いは制作が難しく、長時間がか
かり、再現性のある結果を得難い問題のあるビームスキ
ャンニング方法を用いず、既存の光学装置及び位相マス
クにビームスプリッター及びスクリーンマスクを用いる
ことにより、簡単で手軽くアポダイズド光ファイバ格子
を制作することができる。かつ、二つの紫外線レーザー
ビームを用いてアポダイズド光ファイバ格子を生成する
ことにより、制作が容易になる。
難しく、アポダイゼーション条件を変える度に新たなマ
スクを再び制作しなければならない特別なアポダイズド
位相マスクを用いるか或いは制作が難しく、長時間がか
かり、再現性のある結果を得難い問題のあるビームスキ
ャンニング方法を用いず、既存の光学装置及び位相マス
クにビームスプリッター及びスクリーンマスクを用いる
ことにより、簡単で手軽くアポダイズド光ファイバ格子
を制作することができる。かつ、二つの紫外線レーザー
ビームを用いてアポダイズド光ファイバ格子を生成する
ことにより、制作が容易になる。
【図１】 従来の一実施形態による均等位相マスクを用
いて一般的な光ファイバ格子を制作した場合、光ファイ
バ格子の長さ方向に対する屈折率の変化を示す図であ
る。
いて一般的な光ファイバ格子を制作した場合、光ファイ
バ格子の長さ方向に対する屈折率の変化を示す図であ
る。
【図２】 従来の一実施形態によるアポダイズド光ファ
イバ格子を制作した場合、格子の長さに対する屈折率変
化を示す図である。
イバ格子を制作した場合、格子の長さに対する屈折率変
化を示す図である。
【図３】 本発明の望ましい第１実施形態によるアポダ
イズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成図であ
る。
イズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成図であ
る。
【図４】 本発明の望ましい第２実施形態によるアポダ
イズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成図であ
る。
イズド光ファイバ格子制作装置の概略的な構成図であ
る。
【図５】 Ａは、ｔ＝０である場合、第１スクリーンマ
スクの動作を示し、Ｂは、ｔ＝０である場合、第２スク
リーンマスクの動作を示す図である。
スクの動作を示し、Ｂは、ｔ＝０である場合、第２スク
リーンマスクの動作を示す図である。
【図６】 Ａは、ｔ＝ｔ1である場合、第１スクリーン
マスクの動作を示し、Ｂは、ｔ＝ｔ1である場合、第２
スクリーンマスクの動作を示す図である。
マスクの動作を示し、Ｂは、ｔ＝ｔ1である場合、第２
スクリーンマスクの動作を示す図である。
【図７】 Ａは、ｔ＝ｔ2である場合、第１スクリーン
マスクの動作を示し、Ｂは、ｔ＝ｔ2である場合、第２
スクリーンマスクの動作を示す図である。
マスクの動作を示し、Ｂは、ｔ＝ｔ2である場合、第２
スクリーンマスクの動作を示す図である。
【図８】 本発明によって、第１スクリーンマスクを用
いてアポダイズド光ファイバ格子を制作する時、光ファ
イバ格子の長さ方向に対する屈折率変化を示す図であ
る。
いてアポダイズド光ファイバ格子を制作する時、光ファ
イバ格子の長さ方向に対する屈折率変化を示す図であ
る。
【図９】 本発明によって、第２スクリーンマスクを用
いてアポダイズド光ファイバ格子を制作する時、光ファ
イバ格子の長さ方向に対する屈折率変化を示す図であ
る。
いてアポダイズド光ファイバ格子を制作する時、光ファ
イバ格子の長さ方向に対する屈折率変化を示す図であ
る。
【図１０】 本発明によって、第１，２スクリーンマス
クを同時に移動させてアポダイズド光ファイバ格子を制
作する時、光ファイバ格子の長さ方向に対する屈折率変
化を示す図である。
クを同時に移動させてアポダイズド光ファイバ格子を制
作する時、光ファイバ格子の長さ方向に対する屈折率変
化を示す図である。
【図１１】 図１，図２及び図９に示された屈折率変化
に対するそれぞれの光ファイバ格子反射スペクトルを示
す図である。
に対するそれぞれの光ファイバ格子反射スペクトルを示
す図である。
２ 紫外線レーザー ８，１２，１４ ビーム １０ ビームスプリッター ２０，２２，２４ ミラー ３０ 第１スクリーンマスク ４０ 位相マスク ５０ 第２スクリーンマスク ６０ 光ファイバ
Claims (10)
- 【請求項１】 アポダイズド光ファイバ格子制作装置に
おいて、 紫外線レーザービームを放出する紫外線レーザーと、 前記紫外線レーザーから放出されたビームを二つに分離
するビームスプリッターと、 前記ビームスプリッターにより分離された二つのビーム
をそれぞれ反射させて前記光ファイバの両方向に照射さ
れるように光経路を形成する多数のミラーと、 前記ミラーから反射されたビームが通過することにより
前記光ファイバに所定の周期で格子を生成させる位相マ
スクと、 光ファイバに照射された一方向のビームを漸進的にブロ
ッキングして前記生成された格子のアポダイゼーション
を提供し、前記位相マスクとミラーの間に備えられる第
１ブロッキング装置と、 前記光ファイバを基準として第１ブロッキング手段の反
対方向に備えられ、前記光ファイバに同時に照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供することにより、
前記生成された光ファイバ格子の全体的な平均屈折率変
化を一定化する移動性第２ブロッキング装置と、を含む
ことを特徴とするアポダイズド光ファイバ格子制作装
置。 - 【請求項２】 前記第１ブロッキング装置は、第１スク
リーンマスクから構成されることを特徴とする請求項１
記載のアポダイズド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項３】 前記第１スクリーンマスクは、 前記生成された格子にアポダイゼーションを提供するた
めに中央で窪んだ凹部と、 前記凹部から両端側に行くほど漸進的に突き出た凸部
と、を含むことを特徴とする請求項２記載のアポダイズ
ド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項４】 前記第２ブロッキング装置は、第２スク
リーンマスクから構成されることを特徴とする請求項１
記載のアポダイズド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項５】 前記第２スクリーンマスクは、 中央で突き出た凸部と、 前記凸部を基準として両端側に行くほど窪んだ凹部と、
を含むことを特徴とする請求項４記載のアポダイズド光
ファイバ格子制作装置。 - 【請求項６】 光ファイバの一方向にビームを放出する
第１紫外線レーザーと、 前記光ファイバの他方向にビームを放出する第２紫外線
レーザーと、 前記第１紫外線レーザーから放出されたビームが補強、
干渉により光ファイバに所定の周期で格子を生成させる
位相マスクと、 前記光ファイバに照射された一方向のビームを漸進的に
ブロッキングして前記生成された格子のアポダイゼーシ
ョンを提供し、前記第１紫外線レーザーと位相マスクと
の間に備えられる第１ブロッキング装置と、 前記光ファイバを基準として第１ブロッキング装置の反
対方向に備えられ、前記光ファイバに同時に照射された
一方向のビームを漸進的にブロッキングして前記生成さ
れた格子のアポダイゼーションを提供することにより、
光ファイバ格子の全体的な平均屈折率変化を一定化する
移動性第２ブロッキング装置と、を含むことを特徴とす
るアポダイズド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項７】 前記第１ブロッキング装置は、第１スク
リーンマスクから構成されることを特徴とする請求項６
記載のアポダイズド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項８】 前記第１スクリーンマスクは、 前記生成された格子にアポダイゼーションを提供するた
めに中央で窪んだ凹部と、 前記凹部から両端側に行くほど漸進的に突き出た凸部
と、を含むことを特徴とする請求項７記載のアポダイズ
ド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項９】 前記第２ブロッキング装置は、第２スク
リーンマスクから構成されることを特徴とする請求項６
記載のアポダイズド光ファイバ格子制作装置。 - 【請求項１０】 前記第２スクリーンマスクは、 中央で突き出た凸部と、 前記凸部を基準として両端側に行くほど窪んだ凹部と、
を含むことを特徴とする請求項９記載のアポダイズド光
ファイバ格子制作装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR199926671 | 1999-07-02 | ||
| KR1019990026671A KR100334812B1 (ko) | 1999-07-02 | 1999-07-02 | 아포다이즈드 광섬유 격자 제작장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001033612A true JP2001033612A (ja) | 2001-02-09 |
Family
ID=19599100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000191665A Pending JP2001033612A (ja) | 1999-07-02 | 2000-06-26 | アポダイズド光ファイバ格子制作装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6707956B1 (ja) |
| EP (1) | EP1065535A3 (ja) |
| JP (1) | JP2001033612A (ja) |
| KR (1) | KR100334812B1 (ja) |
| CN (1) | CN1175292C (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9354362B2 (en) | 2009-09-23 | 2016-05-31 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Optical devices based on diffraction gratings |
| US9423539B2 (en) | 2009-07-17 | 2016-08-23 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Non-periodic grating reflectors with focusing power and methods for fabricating the same |
| US10061139B2 (en) | 2010-01-29 | 2018-08-28 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Optical devices based on non-periodic sub-wavelength gratings |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3813059B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2006-08-23 | 三菱電機株式会社 | グレーティングの作製方法 |
| US6912331B2 (en) * | 2002-03-12 | 2005-06-28 | Cambrius Inc. | Periodic electromagnetic waveguide structures with controlled polarization properties |
| US6853772B2 (en) * | 2003-05-13 | 2005-02-08 | 3M Innovative Properties Company | Fiber grating writing interferometer with continuous wavelength tuning and chirp capability |
| US6963432B2 (en) | 2004-01-14 | 2005-11-08 | National Chiao Tung University | Fabrication of true apodized fiber Bragg grating using a new two-beam interferometer with polarization control |
| US8685628B2 (en) * | 2006-04-24 | 2014-04-01 | Stc.Unm | Large area patterning using interferometric lithography |
| TW200918977A (en) | 2007-10-26 | 2009-05-01 | Univ Nat Chiao Tung | Method to modulate refractivity of the optic fiber grating |
| EP3709061B1 (en) | 2009-08-19 | 2022-12-14 | Lawrence Livermore National Security, LLC | Method of fabricating and method of using a diffractive optic |
| US8728719B2 (en) * | 2009-08-19 | 2014-05-20 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Diffractive laser beam homogenizer including a photo-active material and method of fabricating the same |
| CN102955267A (zh) * | 2012-11-08 | 2013-03-06 | 上海交通大学 | 硅基集成啁啾光栅可调光延迟线 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5712715A (en) | 1992-12-23 | 1998-01-27 | Lucent Technologies Inc. | Optical transmission system with spatially-varying Bragg reflector |
| GB2302599B (en) * | 1995-06-20 | 1998-08-26 | Northern Telecom Ltd | Forming Bragg gratings in photosensitive optical waveguides |
| US5717799A (en) | 1996-10-10 | 1998-02-10 | Northern Telecom Limited | Optical waveguide filters |
| IT1292316B1 (it) | 1997-05-20 | 1999-01-29 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Procedimento e dispositivo per la realizzazione di reticoli di bragg in fibre o guide d'onda ottiche. |
| FR2764394B1 (fr) * | 1997-06-10 | 1999-08-06 | France Telecom | Banc de photoinscription pour la realisation de reseaux de bragg |
| US5912999A (en) | 1997-10-02 | 1999-06-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for fabrication of in-line optical waveguide index grating of any length |
| US6035083A (en) | 1997-10-02 | 2000-03-07 | 3M Innovative Company | Method for writing arbitrary index perturbations in a wave-guiding structure |
-
1999
- 1999-07-02 KR KR1019990026671A patent/KR100334812B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-06-26 EP EP00113502A patent/EP1065535A3/en not_active Ceased
- 2000-06-26 JP JP2000191665A patent/JP2001033612A/ja active Pending
- 2000-06-30 US US09/608,134 patent/US6707956B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-06-30 CN CNB001199889A patent/CN1175292C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9423539B2 (en) | 2009-07-17 | 2016-08-23 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Non-periodic grating reflectors with focusing power and methods for fabricating the same |
| US10436956B2 (en) | 2009-07-17 | 2019-10-08 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Grating apparatus for target phase changes |
| US9354362B2 (en) | 2009-09-23 | 2016-05-31 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Optical devices based on diffraction gratings |
| US10061139B2 (en) | 2010-01-29 | 2018-08-28 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Optical devices based on non-periodic sub-wavelength gratings |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1292500A (zh) | 2001-04-25 |
| KR20010008723A (ko) | 2001-02-05 |
| US6707956B1 (en) | 2004-03-16 |
| EP1065535A3 (en) | 2002-04-24 |
| CN1175292C (zh) | 2004-11-10 |
| KR100334812B1 (ko) | 2002-05-02 |
| EP1065535A2 (en) | 2001-01-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100425568B1 (ko) | 광회절격자 | |
| US5996375A (en) | Method of making an optical waveguide grating with two dissimilar irradiating steps | |
| JP2001033612A (ja) | アポダイズド光ファイバ格子制作装置 | |
| JPH01500375A (ja) | 光信号処理方法および光学素子 | |
| JP2002529762A (ja) | 光誘起回折格子の波長整調 | |
| EP0880042B1 (en) | A method of and a device for making bragg gratings in optical fibres or waveguides | |
| JP2002519742A (ja) | 感光性媒体に形成された光フィルタのアポダイゼーション | |
| WO2007134452A1 (en) | Method and system for writing fiber bragg grating having apodized spectrum on optical fibers | |
| CA2640710A1 (en) | Apparatus and method for producing fibre bragg gratings in a waveguide | |
| KR100342493B1 (ko) | 회절 효과를 최소화하기 위한 광섬유 격자 제작장치 | |
| US6628863B2 (en) | Long-period optical fiber grating | |
| KR100304102B1 (ko) | 분광특성개선을위한광섬유격자의제조방법 | |
| US20020075533A1 (en) | Method and device to fabricate holographic gratings with large area uniformity | |
| KR20030026264A (ko) | 코아가 확장된 광섬유를 사용하여 무족화시킨 광섬유격자와 그 제조기술 | |
| JPH1090539A (ja) | 光導波路グレーティングおよびその作成方法 | |
| JP2003255158A (ja) | 光導波路型回折格子素子製造方法、光導波路型回折格子素子製造装置、光導波路型回折格子素子、光部品および光通信システム | |
| JP2000121820A (ja) | 光ファイバグレーティングの作製方法 | |
| JPH10133039A (ja) | 屈折率分布の形成方法 | |
| JP2002048927A (ja) | チャープトファイバグレーティングの製造方法 | |
| JP2005221530A (ja) | グレーティングデバイスの製造装置及び製造方法 | |
| JP2000249849A (ja) | グレーティングが形成された光導波路の製造方法 | |
| KR20020082528A (ko) | 격자 어레이 제작 방법 및 이를 이용한 레이저 어레이 | |
| KR19990004127A (ko) | 광섬유 브래그 격자 제작장치 | |
| JP2002357727A (ja) | ファイバグレーティングの製造装置および製造方法 | |
| KR20030005594A (ko) | 광섬유 격자 제조 장치 |