JP2001021267A - 基板回転乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板に付着するパーティクルを少くして清浄
度高く基板を乾燥することができる基板回転乾燥装置を
提供すること。 【手段】 チャンバ開閉蓋１８を閉じてから所定時間Ｔ
ａが経過してから（ステップＳ６）、槽排気ダンパー５
２を開き（ステップＳ７）、プされた基板及び保持具１
９の保持を解除するため、チャンバ開閉蓋１８を閉じた
直後に、チャンバ開閉蓋１８を気密に閉じるために装備
されている弾性パッキン１４が、気密に閉じる姿勢へ変
形する途中の気密性が不安定な期間を過ぎてから、槽排
気ダンパー５２を開くこととなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、排気装置、特に、濡れ
た基板を回転させて乾燥させる基板回転乾燥装置の排気
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハや液晶用ガラス基板等の薄
板状の被処理基板（以下、単に基板と記す）に対し、洗
浄処理等の表面処理を行う場合には、基板を処理槽内に
浸漬して処理する浸漬型の基板処理装置が用いられる。
この浸漬型の基板処理装置には、基板を処理するための
基板処理槽と、処理された基板を乾燥させるための基板
回転乾燥装置とが配置されている。この種の基板回転乾
燥装置として、横軸回転型の基板回転乾燥装置が知られ
ている（実開平４−４８６２２号）。

【０００３】この基板回転乾燥装置は、基板を保持する
回転体と、この回転体を覆い、軸受により回転軸を回転
自在に支持するチャンバとを備えている。このチャンバ
には、上部に基板出入口と吸気口とが設けられており、
下部にチャンバ排気口が設けられている。チャンバ排気
口は排気ダクトが接続されており、排気ダクトは、設備
排気ダクトに接続されている。

【０００４】かかる基板回転乾燥装置では、基板をチャ
ンバ内から出す際には、基板出入口が開きチャンバ内が
外気に開放される。しかし、チャンバ排気口から常時換
気を行なうと、基板を出し入れする間、外気がチャンバ
内に侵入しつづけ、外気に含まれるパーティクルがチャ
ンバ内に侵入し、基板に付着する不具合が生じる。

【０００５】そのような不具合を解消すべく、基板出入
口を開ける際には、チャンバ排気口からの排気を停止さ
せ、チャンバ内へ外気が流入しにくくして、外気に含ま
れるパーティクルがチャンバ内に侵入しにくくするよう
に対処することが知られている（特開平７−２２３７８
号）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】前記従来では、基板を
チャンバ内へ出し入れする出す際に、チャンバ排気口か
らの排気を停止させるので、板出入口が開いている間終
始、排気し続けていたのより基板の汚染はかなり低減し
たが、それでもまだ、乾燥した基板にパーティクルの付
着が認められる。

【０００７】そこで本願発明者らは、基板へパーティク
ルが付着する原因を鋭意探求した結果、これまで知られ
ていなかった次のようなことが原因で、基板にパーティ
クルが付着することを、新たに見出した。

【０００８】つまり、基板出入口を閉じるのとチャンバ
排気口からの排気開始とが同時であるので、基板出入口
を閉じた直後に、チャンバの基板出入口に付設された開
閉蓋が気密に閉じるように開閉蓋と基板出入口との間に
介装されている弾性パッキン等の気密保持部材が、気密
に閉じる姿勢へ弾性変形する途中の気密性が不安定な期
間にチャンバ排気口からの排気が開始され、吸気口とは
別に、チャンバ出入口の弾性パッキンにおける微少な隙
間からも外気を吸い込んでしまうことが判明した。

【０００９】そして、基板出入口を閉じた直後に、基板
出入口の僅かな隙間からチャンバ内へ流れ込む気流は、
特段パーティクルが多いことが判明した。これは、基板
回転乾燥装置はダウンフロー流が形成されたクリーンル
ームに設置され、ダウンフロー流は基板回転乾燥装置ま
で流下してくると、下方へ流れることが阻止され、横向
き、上向き、渦を巻いたりして、複雑に向きを変えるの
で、ダウンフロー流に乗って流下してきたパーティクル
は方向を変えるダウンフロー流からから振り落とされる
ようにして、基板回転乾燥装置における外装上面に近く
は、パーティクルが比較的高濃度に分布した雰囲気状態
にある。このため、開き始めた基板出入口の僅かな隙間
からチャンバ内へ流れ込む気流は、基板出入口側方の前
記したパーティクルが高濃度に分布する雰囲気を引き込
むこととなる。したがって、基板出入口を閉じた直後
に、基板出入口の僅かな隙間からチャンバ内へ気流が流
れ込むと、その流量は僅かでもも、多くのパーティクル
がチャンバ内へ入り込み、基板に付着する。

【００１０】本発明は、前記したような基板回転乾燥装
置における基板へのパーティクル付着原因の探求に基づ
くもので、本発明の目的は、基板を清浄度高く乾燥する
ことができる基板回転乾燥装置を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明はこのような目的
を達成するために、次のような構成をとる。

【００１２】すなわち、請求項１に記載の発明は、基板
を保持して回転する基板回転保持手段と、前記基板回転
保持手段を囲むチャンバと、前記チャンバ内を排気する
チャンバ排気部とを備え、前記チャンバが、基板を出し
入れする開閉可能な基板出入口と、基板出入口を閉じた
状態でも内部と外部が連通して外気を吸い込む吸気口と
を有する基板回転乾燥装置であって、チャンバの基板出
入口を閉じてから所定時間経過後に、前記排気部による
排気を開始するようにしたことを特徴とする基板回転乾
燥装置である。

【００１３】以上のように構成することにより、請求項
１に記載の発明は次のような作用を有する。

【００１４】チャンバの基板出入口を閉じてから所定時
間経過後に、チャンバ排気部による排気を開始する。こ
のため、チャンバの基板出入口を閉じた直後は、チャン
バの基板出入口がまだ完全に気密に閉じていなくても、
まだ、チャンバ排気部による排気は開始していない。し
たがって、チャンバ内部と外部とで気圧差は生じておら
ず、チャンバ内部への気流の流入は起こらない。これに
より、パーティクルが比較的高濃度に分布した状況にあ
る基板出入口側方の雰囲気が、閉じた直後の基板出入口
の僅かな隙間からチャンバ内へ気流に引かれて流れ込む
ことは避けられ、パーティクルの基板への付着は解消さ
れる。

【００１５】チャンバ排気部による排気が開始するの
は、チャンバの基板出入口を閉じてから所定時間経過し
てからであり、かかる所定時間経過の間に、チャンバの
基板出入口は完全に気密に閉じ、僅かな隙間から外気を
吸い込むことなく、チャンバ排気部による排気が始ま
る。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１において、本発明の好適な実
施の形態が採用された浸漬型基板処理装置１は、搬入・
搬出部２と、基板移載装置３と、基板洗浄装置４と、横
軸回転型の基板回転乾燥装置と、基板搬送ロボット６と
を備えている。

【００１７】搬入・搬出部２は、基板を収納するための
キャリアＣを搬入・搬出するためのものであり、キャリ
アＣを搬送する基板移載ロボット１０が設けられてい
る。基板移載ロボット１０は、昇降及び回転が可能であ
り、また図１の矢印Ａで示す方向に移動可能である。基
板移載装置３、基板洗浄装置４及び基板回転乾燥装置
は、左右方向に並設されている。基板搬送ロボット６
は、基板を把持するための１対のアーム１１を有してい
る。また基板搬送ロボット６は、矢印Ｂで示す方向に移
動可能であり、かつ昇降可能である。この基板搬送ロボ
ット６により基板を各装置３〜５間で搬送可能である。
基板洗浄装置４には、たとえば石英ガラス製の基板洗浄
槽１３が設けられており、この洗浄槽１３内には、昇降
可能な基板保持部１２が設けられている。また、基板洗
浄槽１３に、複数の薬液貯溜容器７ａ〜７ｅから処理に
応じた薬液が供給される構成となっている。

【００１８】基板回転乾燥装置は、図２及び図３に示す
ように、略円筒状のチャンバ１５と、チャンバ１５内に
回転可能に設けられた横軸型のロータ１６と、ロータ１
６に着脱自在に架設された基板保持部１９と、基板保持
部１９を昇降するためにチャンバ１５の下部に昇降自在
に設けられた保持具昇降部２０とを備えている。

【００１９】チャンバ１５の周壁上部には基板出入口２
３が、また周壁下部にはチャンバ排気口２４がそれぞれ
形成されている。基板出入口２３は開閉自在のチャンバ
開閉蓋１８で閉止されている。チャンバ開閉蓋１８の上
部には、外気を取り入れるための吸気口２６が設けられ
ており、吸気口２６にはフィルタ２５が装着されてい
る。フィルタ２５の下方には、１対の放電針からなる静
電気除去装置２７が配置されている。この静電気除去装
置２７は、放電針に高電圧を印加して放電させ、チャン
バ内の空気をイオン化し、回転中に空気との摩擦により
基板Ｗに生じた静電気を除去するものである。チャンバ
排気口２４には、ダクト接続部１５ａが形成されてお
り、このダクト接続部１５ａに槽排気ダクト２８（図
５）が接続されている。

【００２０】チャンバ１５に付設された開閉蓋１８は、
基板出入口２３を閉じた状態では、チャンバ１５の内部
が外部と連通するのは専ら吸気口２６だけとなるよう
に、チャンバ１５と開閉蓋１８との間を気密に閉じるこ
とができるように、開閉蓋１８とチャンバ１５との間に
は、フッ素系の樹脂やシリコン系の樹脂等からなる弾性
パッキン１４が介装されている。

【００２１】ロータ１６は、図３に示すように、間隔を
隔てて対向するように配置された左右１対の回転フラン
ジ３１ａ，３１ｂと、回転フランジ３１ａ，３１ｂを一
体的に連結する複数の連結棒３２とを有している。１対
の回転フランジ３１ａ，３１ｂ間には、基板保持具１９
で保持した複数の基板Ｗと基板保持具１９とをそれぞれ
ロータ１６に固定する基板クランプ装置２１及び保持具
クランプ装置２２が設けられている。

【００２２】回転フランジ３１ａ，３１ｂには、左右外
方に突出する回転軸３３ａ，３３ｂがそれぞれ固定され
ている。回転軸３３ａは、軸受３４ａにより支持されて
いる。軸受３４ａは、チャンバ１５の左側面に固定され
た軸受ホルダ３５ａに保持されている。

【００２３】回転軸３３ａの先端には、ロータ１６を基
準位置（保持した基板Ｗのオリエンテーションフラット
面が下向きに水平となる位置）に位置決めするための位
置決めリング３８が固定されている。位置決めリング３
８の外周面には位置決め穴３８ａが形成されている。こ
の位置決め穴３８ａには、位置決め部材３９ａが対向配
置されており、位置決め部材３９ａの先端が係合可能で
ある。位置決め部材３９ａは、エアシリンダ３９により
進退可能である。

【００２４】軸受３４ａと位置決めリング３８との間に
は、検出ドッグ４０が固定されている。検出ドッグ４０
はフォトインタラプタ４１により検出される。フォトイ
ンタラプタ４１は、ロータ１６が基準位置にあるとき、
検出ドッグ４０を検出する位置に配置されている。

【００２５】右側の回転軸３３ｂは１対の軸受３４ｂ，
３４ｂに回転自在に支持されている。軸受３４ｂ，３４
ｂは、チャンバ１５の右側面に固定された軸受ホルダ３
５ｂに保持されている。回転軸３３ｂの先端には、プー
リ４２が固定されている。プーリ４２はベルト４３を介
してモータ１７に連結されている。

【００２６】またチャンバ１５において、回転軸３３
ａ，３３ｂの貫通部分それぞれには、軸排気チャンバ３
６が形成されている。軸排気チャンバ３６は回転軸を外
周側から覆うように形成されている。また、軸排気チャ
ンバ３６は、軸排気ダクト３７に接続されている。

【００２７】図４に示すように、軸受ホルダ３５ａの軸
受３４ａより内側には、回転軸３３ａの外周をシールす
るための断面視凸状のラビリンスシール４４が配置され
ている。ラビリンスシール４４の凸部外方には、円環状
の加圧空間４５が形成されている。加圧空間４５には、
軸受ホルダ３５ａの外周面に開口するガス供給口４６の
内周端が開口している。加圧空間４５とラビリンスシー
ル４４の凸部との間には、複数の連絡孔４８が形成され
ている。

【００２８】ラビリンスシール４４の外周部と軸受ホル
ダ３５ａとの間には僅かな隙間が形成されている。ま
た、軸受３４ａとラビリンスシール４４との間には、円
環状の排気空間４９が形成されている。この排気空間４
９には、軸受ホルダ３５ａの外周面に開口するガス排出
口５０の内周端が開口している。ガス排出口５０は、ガ
ス排出ダクト５１に連結されている。

【００２９】なお、軸受ホルダ３５ｂも同様の構成とな
っており、左右のガス供給口４６は、図５に示すよう
に、ガス供給配管４７及びガス供給弁５５を介して窒素
ガス源に接続されている。また、左右のガス排出ダクト
５１は、槽排気ダクト２８に合流している。槽排気ダク
ト２８の合流部分より下流側の途中には、槽排気ダンパ
ー５２が配置されている。

【００３０】両側の２本の軸排気ダクト３７は途中で合
流しており、合流部分より下流側の途中には、軸排気ダ
ンパー５３及びブロア５４が配置されている。ダンパー
５２，５３は、それぞれ槽排気ダクト２８及び軸排気ダ
クト３７を開閉するためのものである。ブロア５４は、
軸排気チャンバ３６を排気するものである。このブロア
５４を設けることにより、軸排気チャンバ３６をチャン
バ１５内より高い負圧にできる。なおこれらのダクト２
８，３７は、独立して設備排気ダクトに接続されてい
る。

【００３１】基板処理装置１は、図６に示すマイクロコ
ンピュータからなる制御部６０を有している。制御部６
０には、その内部に時間をカウントするタイマー部を備
えており、そいて、エアシリンダ３９、モータ１７、槽
排気ダンパー５２、軸排気ダンパー５３、静電気除去装
置２７、ガス供給弁５５及び他の入出力部が接続されて
いる。

【００３２】次に、上述の実施例の動作を、図７に示す
制御フローチャート及び図８に示すタイミングチャート
に従って説明する。

【００３３】基板を収容したキャリアＣが基板搬入排出
部２に載置されると、基板移載ロボット１０によりキャ
リアＣを基板移載装置３に搬入する。基板移載装置３で
は、キャリアＣから複数の基板を一括して受け取り、こ
れを基板移載ロボット６のアーム１１により保持する。
そして、受け取った複数の基板を基板洗浄槽１３の基板
保持具１２に渡す。ここで基板に対する洗浄処理が施さ
れる。洗浄が終了すると、基板搬送ロボット６が基板保
持具１２から基板を受け取り、基板回転乾燥装置に基板
を運ぶ。

【００３４】基板回転乾燥装置では、運ばれてきた基板
を検出する（ステップＳ１）と、チャンバ開閉蓋１８を
開く（ステップＳ２）。そして、保持具昇降部２０によ
り基板保持具１９を上昇させ、基板搬送ロボット６のア
ーム１１から基板を一括して受け取る。基板保持具１９
で基板を受け取ると、保持具昇降部２０を下降させるこ
とにより保持具１９を下降させ、基板を所定の位置に配
置する（ステップＳ３）。そして基板及び保持具１９を
各クランプ装置２１，２２によりクランプする。クラン
プが完了すると、エアシリンダ３９を退入させ、位置決
めリング３８と位置決め部材３９ａとの係合を解除し、
ロータ１６をロック状態からアンロック状態にして（ス
テップＳ４）、チャンバ開閉蓋１８を閉じる（ステップ
Ｓ５）。なおこのとき、ダンパー５２，５３はともに閉
じている。

【００３５】次に、チャンバ開閉蓋１８を閉じてから、
所定時間Ｔａが経過してから（ステップＳ６）、槽排気
ダンパー５２と軸排気ダンパー５３を共に開く（ステッ
プＳ７）。また、静電気除去装置２７をＯＮにし（ステ
ップＳ８）、ガス供給弁５５を開き、ラビリンスシール
４４の周囲に窒素ガスを供給する（ステップＳ９）。

【００３６】ここでは、ガス供給弁５５が開くことで、
ガス供給口４６を介して加圧空間４５に加圧された窒素
ガスが充満し、さらに連絡孔４８からラビリンスシール
４４側へ侵入する。侵入した窒素ガスは、ラビリンスシ
ール４４の外周に沿って、一部が排気空間４９にまた他
の一部が軸排気チャンバ３６に流れる。排気空間４９に
流れた窒素ガスは、ガス排出口５０を介してガス排気ダ
クト５１に排出される。そして槽排気ダクト２８に合流
し、槽排気ダンパー５２を介して設備排気ダクトに排出
される。また軸排気チャンバ３６に流れた窒素ガスは、
チャンバ内部の空気とともに、軸排気ダクト３７に排出
される。そして軸排気ダンパー５３及びブロア５４を介
して設備排気ダクトに排出される。

【００３７】次に、槽排気ダンパー５２と軸排気ダンパ
ー５３を共に開いてから所定時間Ｔｂが経過してから
（ステップＳ１０）、モータ１７に所定の電流を流し、
ロータ１６を１速（たとえば１０００ｒｐｍ）で回転さ
せる（ステップＳ１１）。引き続き、２速（たとえば１
２００ｒｐｍ）でロータ１６を回転させ（ステップＳ１
２）、さらに所定時間後に３速（たとえば１５００ｒｐ
ｍ）で回転させる（ステップＳ１３）。

【００３８】所要の乾燥時間が経過すると、ロータ１６
を位置決め速度（たとえば１０ｒｐｍ）に減速する（ス
テップＳ１４）。そして、フォトインタラプタ４１が検
出ドッグ４０を検出すると（ステップＳ１５）、モータ
１７を停止してロータ１６の回転を停止する（ステップ
Ｓ１６）。

【００３９】次に、停止してロータ１６の回転を停止し
てから所定時間Ｔｃが経過してから（ステップＳ１
７）、静電気除去装置２７をＯＦＦする（ステップＳ１
８）し、ガス供給弁５５を閉じて窒素ガスの供給を停止
し（ステップＳ１９）、槽排気ダンパー５２と軸排気ダ
ンパー５３を共に閉じる（ステップＳ２０）。

【００４０】ここでは、ダンパー５２を閉じることによ
り槽排気ダクト２８は閉じられ、チャンバ１５内の気圧
が大気圧と同圧へ戻るようになり、ダンパー５３を閉じ
ることにより軸排気ダクト３７は閉じられ、軸排気チャ
ンバ３６内の気圧も大気圧と同圧へ戻るようになる。

【００４１】引き続き、そしてエアシリンダ３９を進出
し、位置決めリング３８に位置決め部材３９ａを係合さ
せる。これによりロータ１６が基準位置でロック状態と
なる（ステップＳ２１）。

【００４２】次に、槽排気ダンパー５２と軸排気ダンパ
ー５３を共に閉じてから所定時間Ｔｄが経過してから
（ステップＳ２２）、チャンバ開閉蓋１８を開き（ステ
ップＳ２３）、各クランプ装置２１，２２によりクラン
プされた基板及び保持具１９の保持を解除する。そして
保持具昇降部２０を上昇させることにより、保持具１９
を所定の受渡し位置まで上昇させる（ステップＳ２
４）、基板搬送ロボット６のアーム１１に基板を一括し
て渡す。

【００４３】乾燥が終了した基板は、基板搬送ロボット
６によりさらに基板移載装置３に搬送され、この基板移
載装置３において基板がキャリアＣ内に収納される。キ
ャリアＣは、基板移載ロボット１０によって基板移載装
置３から搬入・搬出部２に搬送される。ここでは、ラビ
リンスシール４４の外周側から加圧された窒素ガスを供
給しているので、軸受３４ａ，３４ｂで発生したパーテ
ィクルは、チャンバ１５側へは流れない。さらに、フィ
ルタ２５の下方に静電気除去装置２７を設け、内部の気
体をイオン化しているので、回転中において空気との接
触により基板に生じる静電気を確実に除去できる。

【００４４】上記実施の形態では、槽排気ダンパー５２
を開くに際しては、チャンバ開閉蓋１８を閉じてから、
所定時間Ｔａが経過してから（ステップＳ６）、開く
（ステップＳ７）ようにしている。したがって、チャン
バ開閉蓋１８を閉じた直後に、チャンバ１５に付設され
ているチャンバ開閉蓋１８とチャンバ１５との間を気密
に閉じるために、チャンバ開閉蓋１８とチャンバ１５と
の間に介装されている弾性パッキン１４が、気密に閉じ
る姿勢へ変形する途中の気密性が不安定な期間を過ぎて
から、槽排気ダンパー５２を開くこととなる。

【００４５】このため、チャンバ開閉蓋１８が閉じた直
後に、チャンバ開閉蓋１８とチャンバ１５との間の弾性
パッキン１４における微少な隙間からの外気吸い込みは
解消され、パーティクルが多く存在する基板回転乾燥装
置５の上面あたりに位置する基板出入口２３周囲からの
パーティクルを多く浮遊する外気がチャンバ１５内へ侵
入することは解消される。

【００４６】また、上記実施の形態では、基板を回転す
るに際しては、槽排気ダンパー５２と軸排気ダンパー５
３を共に開いてから所定時間Ｔｂが経過してから（ステ
ップＳ１０）、回転を始めるようにしている。したがっ
て、吸気口２６からチャンバ１５内へ取り入れられ、チ
ャンバ排気口２４を経て槽排気ダクト２８よりチャンバ
１５外へ排気される気流を、先にチャンバ１５内の基板
の周囲に形成しておいてから、基板を回転させることと
なる。また、軸排気チャンバ３６内から軸排気ダクト３
７へ排出される気流を形成しておいてから、基板を回転
させることとなる。

【００４７】ところで、基板に付着している液滴やパー
ティクルが基板から振り切られて生ずるチャンバ１５内
のミスト状の浮遊物は、回転の初期の段階に最も多く集
中的に発生するが、前記したように、回転前にチャンバ
１５内の基板の周囲にチャンバ排気口２４へ向かう気流
を形成しているので、かかる気流に乗って、回転当初よ
り速やかに確実にチャンバ１５外へ排出される。さら
に、回転初期段階に基板から振り切られた液がチャンバ
１５の内壁面を濡らすことがなく、回転乾燥に要する時
間を短くできる。

【００４８】また、回転軸３３ａ、３３ｂのチャンバ１
５との貫通部や、軸受け３４ａ、３４ｂで生ずるパーテ
ィクルも、回転の初期の段階に最も多く発生するが、前
記したように、回転前に軸排気チャンバ３６内から軸排
気ダクト３７へ排出される気流を形成しているので、か
かる気流に乗って回転当初より速やかに確実に排出さ
れ、基板を清浄度高く乾燥できる。

【００４９】また、上記実施の形態では、槽排気ダンパ
ー５２と軸排気ダンパー５３を閉じるに際しては、基板
が回転停止してから所定時間Ｔｃが経過してから（ステ
ップＳ１７）、閉じるようにしている。したがって、基
板の回転が停止してから所定時間Ｔｃの間、槽排気ダン
パー５２と軸排気ダンパー５３は開いており、槽排気ダ
クト２８は開いたままで、軸排気ダクト３７も開いたま
まである。

【００５０】このため、回転停止した時点で、チャンバ
１５内に浮遊していたミスト状の浮遊物やパーティクル
は、回転停止した後も流れる槽排気ダクト２８から排気
される気流に乗って、速やかに確実にチャンバ１５内よ
り排出され、基板を清浄度高く乾燥できる。また、回転
停止した時点で、軸排気チャンバ３６内を浮遊していた
パーティクルは、回転停止した後も流れる軸排気ダクト
３７から排気される気流に乗って、速やかに確実に軸排
気チャンバ３６より排出され、チャンバ１５へ流れ込む
ことはなく、基板を清浄度高く乾燥できる。

【００５１】また、上記実施の形態では、チャンバ開閉
蓋１８を開けるに際しては、槽排気ダンパー５２を閉じ
てから所定時間Ｔｄが経過してから（ステップＳ２
２）、開けるようにしている。したがって、槽排気ダク
ト２８からのチャンバ１５の排気を停止させた時点で
は、チャンバ１５内部が外部より気圧が低い状態にあっ
ても、槽排気ダンパー５２を閉じてからチャンバ開閉蓋
１８が開くまでの所定時間Ｔｄの間に、チャンバ１５内
部へ吸気口２６からチャンバ外より外気が流入し、チャ
ンバ内部は外部と気圧差がなくなり、基板出入口２３を
開け際には、開ける当初からチャンバ１５内部への気流
の流入は起こらない。これにより、パーティクルが比較
的高濃度に分布した状況にある基板回転乾燥装置５の上
面近の雰囲気、すなわち基板出入口２３側方の雰囲気を
引き込む気流に由来するパーティクルの基板への付着は
解消される。

【００５２】また、チャンバ開閉蓋１８を開ける前に、
乾燥前の濡れた基板が基板回転乾燥装置５の近くに在っ
ても、開けるより所定時間Ｔｄ前に、、槽排気ダンパー
５２を閉じるので、槽排気ダクト２８からの排気に伴っ
て吸気口２６からチャンバ内へ流れ込む気流が生じるこ
とによる基板回転乾燥装置５の周囲でのダウンフロー流
の乱れは、チャンバ開閉蓋１８を開ける前に解消し、ダ
ウンフロー流の乱れによる乾燥前の濡れた基板が部分的
に蒸発乾燥することは低減される。これにより、乾燥前
の基板を濡らしている液に含まれていた不純物や、その
液と基板との反応生成物等に由来するパーティクルの基
板への付着は解消され、基板を清浄度高く乾燥できる。

【００５３】なお、前記実施の形態では、ガス排出口５
０に連結されたガス排出ダクト５１は、槽排気ダクト２
８に合流しているが、より負圧が高い軸排気ダクト３７
に合流してもよい。また単独で設備排気ダクトに接続さ
れてもよい。

【００５４】なお、前記実施の形態における各所定時間
Ｔａ、Ｔｂ，Ｔｃ，Ｔｄは、チャンバ１５の容積や、槽
排気ダクト２８の吸引風量等のように、基板回転乾燥装
置に関わる各種機械要素の程度加減により、個々の装置
ごとに最適値は決定される。また、前記実施の形態にお
ける各所定時間Ｔａ、Ｔｂ，Ｔｃ，Ｔｄ相互の関係は、
同じ時間に統一することは要さず、違えさせる必要もな
い。

【００５５】また、前記実施の形態では、チャンバ排気
口２４に接続されている槽排気ダクト２８に配置されて
いる槽排気ダンパー５２に対して、軸排気チャンバ３６
に接続する軸排気ダクト３７に配置されている軸排気ダ
ンパー５３を、同時に開閉するが、必ずしも槽排気ダン
パー５２と同時に開閉することを要するものではない。

【００５６】例えば、チャンバ開閉蓋１８を閉じてから
所定時間Ｔａ経過後の槽排気ダンパ５２を開ける時点よ
り、前に軸排気ダンパー５３を開けたり、後に軸排気ダ
ンパー５３を開けてもかまわない。また、例えば、回転
停止してから所定時間Ｔｃ経過後の槽排気ダンパ５２を
閉じる時点より、前に軸排気ダンパー５３を閉じたり、
後に軸排気ダンパー５３を閉じてもかまわない。

【００５７】また、前記実施の形態では、基板を回転開
始するのは、槽排気ダンパー５２と軸排気ダンパー５３
の双方を開けた時点より所定時間Ｔｂ経過後とするもの
でり、このように槽排気ダンパー５２と軸排気ダンパー
５３の双方を開けた時点を始点に所定時間Ｔｂ経過して
から回転を始める方が、回転軸３３ａ、３３ｂのチャン
バ１５との貫通部や、軸受け３４ａ、３４ｂで生ずるパ
ーティクルも回転当初より速やかに確実に排出され、基
板を清浄度高く乾燥できて特段望ましいが、しかし、必
ずしも、槽排気ダンパー５２と軸排気ダンパー５３の双
方を開けた時点であることを要するものではない。この
所定時間Ｔｂの始点は、少なくとも槽排気ダンパ５２を
開けた時点であればよい。

【００５８】また、前記実施の形態では、チャンバ開閉
蓋１８を開けるのは、槽排気ダンパー５２と軸排気ダン
パー５３の双方を閉じた時点より、所定時間Ｔｄ経過後
であるが、この所定時間Ｔｄの始点は、少なくとも槽排
気ダンパ５２を閉じた時点であればよく、必ずしも、槽
排気ダンパー５２と軸排気ダンパー５３の双方を閉じた
時点であることを要しない。

【００５９】軸排気チャンバ３６は、前記実施の形態に
おける槽排気ダンパー５２を開けるときより、先に開け
てもよく、後に開けても良いが、少なくと回転開始時ま
でには開けておくことが望ましい。また、軸排気チャン
バ３６は、前記実施の形態における槽排気ダンパー５２
を閉じるときより、先に閉じてもよく、後に閉じても良
いが、少なくとも、回転を停止してから閉じることが望
ましい。

【００６０】また、前記実施の形態では、水平方向に横
たえた回転軸３３ａ、３３ｂを中心に基板を回転させ横
軸回転型であるが、本発明にかかる基板回転乾燥装置
は、鉛直に立てた回転軸を中心に基板が回転する縦軸回
転型でもよい。

【００６１】

【発明の効果】本発明では、チャンバの基板出入口を閉
じてから所定時間経過後に、チャンバ排気部による排気
を開始するから、チャンバの基板出入口を閉じた直後
は、チャンバの基板出入口がまだ完全に気密に閉じてい
なくても、まだ、チャンバ排気部による排気は開始せ
ず、チャンバ内部と外部とで気圧差は生じておらず、チ
ャンバ内部への気流の流入は起こらず、これにより、パ
ーティクルが比較的高濃度に分布した状況にある基板出
入口側方の雰囲気が、閉じた直後の基板出入口の僅かな
隙間からチャンバ内へ気流に引かれて流れ込むことは避
けられ、パーティクルの基板への付着は解消され，清浄
度高く基板を乾燥することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一つの実施の形態を採用した基板処理
装置の斜視概略図。

【図２】基板回転乾燥装置の横断面図。

【図３】その縦断面図。

【図４】軸受ホルダの断面部分図。

【図５】排気ダクトを示す斜視概略図。

【図６】基板処理装置の制御ブロック図。

【図７】その制御フローの一部を示すフローチャート。

【図８】その動作タイミングを示すタイミングチャー
ト。

【符号の説明】

１ 基板処理装置 ５ 基板回転乾燥装置 １５ チャンバ １８ チャンバ開閉蓋 ２３ 基板出入口 ２８ 槽排気ダクト ３６ 軸排気チャンバ ３７ 軸排気ダクト ５２ 槽排気ダンパー ５３ 軸排気ダンパー

フロントページの続き Ｆターム(参考） 3L113 AA06 AB02 AC28 AC45 AC46 AC53 AC63 AC68 AC75 AC76 BA34 CA15 CA20 CB19 CB24 CB34 DA24

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を保持して回転する基板回転保持手
   段と、 前記基板回転保持手段を囲むチャンバと、 前記チャンバ内を排気するチャンバ排気部とを備え、 前記チャンバが、基板を出し入れする開閉可能な基板出
   入口と、基板出入口を閉じた状態でも内部と外部が連通
   して外気を吸い込む吸気口とを有する基板回転乾燥装置
   であって、 チャンバの基板出入口を閉じてから所定時間経過後に、
   前記排気部による排気を開始するようにしたことを特徴
   とする基板回転乾燥装置。