JP2001021267A - 基板回転乾燥装置 - Google Patents
基板回転乾燥装置Info
- Publication number
- JP2001021267A JP2001021267A JP11196849A JP19684999A JP2001021267A JP 2001021267 A JP2001021267 A JP 2001021267A JP 11196849 A JP11196849 A JP 11196849A JP 19684999 A JP19684999 A JP 19684999A JP 2001021267 A JP2001021267 A JP 2001021267A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- chamber
- exhaust
- closing
- opened
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
度高く基板を乾燥することができる基板回転乾燥装置を
提供すること。 【手段】 チャンバ開閉蓋18を閉じてから所定時間T
aが経過してから(ステップS6)、槽排気ダンパー5
2を開き(ステップS7)、プされた基板及び保持具1
9の保持を解除するため、チャンバ開閉蓋18を閉じた
直後に、チャンバ開閉蓋18を気密に閉じるために装備
されている弾性パッキン14が、気密に閉じる姿勢へ変
形する途中の気密性が不安定な期間を過ぎてから、槽排
気ダンパー52を開くこととなる。
Description
た基板を回転させて乾燥させる基板回転乾燥装置の排気
装置に関する。
板状の被処理基板(以下、単に基板と記す)に対し、洗
浄処理等の表面処理を行う場合には、基板を処理槽内に
浸漬して処理する浸漬型の基板処理装置が用いられる。
この浸漬型の基板処理装置には、基板を処理するための
基板処理槽と、処理された基板を乾燥させるための基板
回転乾燥装置とが配置されている。この種の基板回転乾
燥装置として、横軸回転型の基板回転乾燥装置が知られ
ている(実開平4−48622号)。
回転体と、この回転体を覆い、軸受により回転軸を回転
自在に支持するチャンバとを備えている。このチャンバ
には、上部に基板出入口と吸気口とが設けられており、
下部にチャンバ排気口が設けられている。チャンバ排気
口は排気ダクトが接続されており、排気ダクトは、設備
排気ダクトに接続されている。
ンバ内から出す際には、基板出入口が開きチャンバ内が
外気に開放される。しかし、チャンバ排気口から常時換
気を行なうと、基板を出し入れする間、外気がチャンバ
内に侵入しつづけ、外気に含まれるパーティクルがチャ
ンバ内に侵入し、基板に付着する不具合が生じる。
口を開ける際には、チャンバ排気口からの排気を停止さ
せ、チャンバ内へ外気が流入しにくくして、外気に含ま
れるパーティクルがチャンバ内に侵入しにくくするよう
に対処することが知られている(特開平7−22378
号)。
チャンバ内へ出し入れする出す際に、チャンバ排気口か
らの排気を停止させるので、板出入口が開いている間終
始、排気し続けていたのより基板の汚染はかなり低減し
たが、それでもまだ、乾燥した基板にパーティクルの付
着が認められる。
ルが付着する原因を鋭意探求した結果、これまで知られ
ていなかった次のようなことが原因で、基板にパーティ
クルが付着することを、新たに見出した。
排気口からの排気開始とが同時であるので、基板出入口
を閉じた直後に、チャンバの基板出入口に付設された開
閉蓋が気密に閉じるように開閉蓋と基板出入口との間に
介装されている弾性パッキン等の気密保持部材が、気密
に閉じる姿勢へ弾性変形する途中の気密性が不安定な期
間にチャンバ排気口からの排気が開始され、吸気口とは
別に、チャンバ出入口の弾性パッキンにおける微少な隙
間からも外気を吸い込んでしまうことが判明した。
出入口の僅かな隙間からチャンバ内へ流れ込む気流は、
特段パーティクルが多いことが判明した。これは、基板
回転乾燥装置はダウンフロー流が形成されたクリーンル
ームに設置され、ダウンフロー流は基板回転乾燥装置ま
で流下してくると、下方へ流れることが阻止され、横向
き、上向き、渦を巻いたりして、複雑に向きを変えるの
で、ダウンフロー流に乗って流下してきたパーティクル
は方向を変えるダウンフロー流からから振り落とされる
ようにして、基板回転乾燥装置における外装上面に近く
は、パーティクルが比較的高濃度に分布した雰囲気状態
にある。このため、開き始めた基板出入口の僅かな隙間
からチャンバ内へ流れ込む気流は、基板出入口側方の前
記したパーティクルが高濃度に分布する雰囲気を引き込
むこととなる。したがって、基板出入口を閉じた直後
に、基板出入口の僅かな隙間からチャンバ内へ気流が流
れ込むと、その流量は僅かでもも、多くのパーティクル
がチャンバ内へ入り込み、基板に付着する。
置における基板へのパーティクル付着原因の探求に基づ
くもので、本発明の目的は、基板を清浄度高く乾燥する
ことができる基板回転乾燥装置を提供することである。
を達成するために、次のような構成をとる。
を保持して回転する基板回転保持手段と、前記基板回転
保持手段を囲むチャンバと、前記チャンバ内を排気する
チャンバ排気部とを備え、前記チャンバが、基板を出し
入れする開閉可能な基板出入口と、基板出入口を閉じた
状態でも内部と外部が連通して外気を吸い込む吸気口と
を有する基板回転乾燥装置であって、チャンバの基板出
入口を閉じてから所定時間経過後に、前記排気部による
排気を開始するようにしたことを特徴とする基板回転乾
燥装置である。
1に記載の発明は次のような作用を有する。
間経過後に、チャンバ排気部による排気を開始する。こ
のため、チャンバの基板出入口を閉じた直後は、チャン
バの基板出入口がまだ完全に気密に閉じていなくても、
まだ、チャンバ排気部による排気は開始していない。し
たがって、チャンバ内部と外部とで気圧差は生じておら
ず、チャンバ内部への気流の流入は起こらない。これに
より、パーティクルが比較的高濃度に分布した状況にあ
る基板出入口側方の雰囲気が、閉じた直後の基板出入口
の僅かな隙間からチャンバ内へ気流に引かれて流れ込む
ことは避けられ、パーティクルの基板への付着は解消さ
れる。
は、チャンバの基板出入口を閉じてから所定時間経過し
てからであり、かかる所定時間経過の間に、チャンバの
基板出入口は完全に気密に閉じ、僅かな隙間から外気を
吸い込むことなく、チャンバ排気部による排気が始ま
る。
施の形態が採用された浸漬型基板処理装置1は、搬入・
搬出部2と、基板移載装置3と、基板洗浄装置4と、横
軸回転型の基板回転乾燥装置と、基板搬送ロボット6と
を備えている。
キャリアCを搬入・搬出するためのものであり、キャリ
アCを搬送する基板移載ロボット10が設けられてい
る。基板移載ロボット10は、昇降及び回転が可能であ
り、また図1の矢印Aで示す方向に移動可能である。基
板移載装置3、基板洗浄装置4及び基板回転乾燥装置
は、左右方向に並設されている。基板搬送ロボット6
は、基板を把持するための1対のアーム11を有してい
る。また基板搬送ロボット6は、矢印Bで示す方向に移
動可能であり、かつ昇降可能である。この基板搬送ロボ
ット6により基板を各装置3〜5間で搬送可能である。
基板洗浄装置4には、たとえば石英ガラス製の基板洗浄
槽13が設けられており、この洗浄槽13内には、昇降
可能な基板保持部12が設けられている。また、基板洗
浄槽13に、複数の薬液貯溜容器7a〜7eから処理に
応じた薬液が供給される構成となっている。
ように、略円筒状のチャンバ15と、チャンバ15内に
回転可能に設けられた横軸型のロータ16と、ロータ1
6に着脱自在に架設された基板保持部19と、基板保持
部19を昇降するためにチャンバ15の下部に昇降自在
に設けられた保持具昇降部20とを備えている。
3が、また周壁下部にはチャンバ排気口24がそれぞれ
形成されている。基板出入口23は開閉自在のチャンバ
開閉蓋18で閉止されている。チャンバ開閉蓋18の上
部には、外気を取り入れるための吸気口26が設けられ
ており、吸気口26にはフィルタ25が装着されてい
る。フィルタ25の下方には、1対の放電針からなる静
電気除去装置27が配置されている。この静電気除去装
置27は、放電針に高電圧を印加して放電させ、チャン
バ内の空気をイオン化し、回転中に空気との摩擦により
基板Wに生じた静電気を除去するものである。チャンバ
排気口24には、ダクト接続部15aが形成されてお
り、このダクト接続部15aに槽排気ダクト28(図
5)が接続されている。
基板出入口23を閉じた状態では、チャンバ15の内部
が外部と連通するのは専ら吸気口26だけとなるよう
に、チャンバ15と開閉蓋18との間を気密に閉じるこ
とができるように、開閉蓋18とチャンバ15との間に
は、フッ素系の樹脂やシリコン系の樹脂等からなる弾性
パッキン14が介装されている。
隔てて対向するように配置された左右1対の回転フラン
ジ31a,31bと、回転フランジ31a,31bを一
体的に連結する複数の連結棒32とを有している。1対
の回転フランジ31a,31b間には、基板保持具19
で保持した複数の基板Wと基板保持具19とをそれぞれ
ロータ16に固定する基板クランプ装置21及び保持具
クランプ装置22が設けられている。
方に突出する回転軸33a,33bがそれぞれ固定され
ている。回転軸33aは、軸受34aにより支持されて
いる。軸受34aは、チャンバ15の左側面に固定され
た軸受ホルダ35aに保持されている。
準位置(保持した基板Wのオリエンテーションフラット
面が下向きに水平となる位置)に位置決めするための位
置決めリング38が固定されている。位置決めリング3
8の外周面には位置決め穴38aが形成されている。こ
の位置決め穴38aには、位置決め部材39aが対向配
置されており、位置決め部材39aの先端が係合可能で
ある。位置決め部材39aは、エアシリンダ39により
進退可能である。
は、検出ドッグ40が固定されている。検出ドッグ40
はフォトインタラプタ41により検出される。フォトイ
ンタラプタ41は、ロータ16が基準位置にあるとき、
検出ドッグ40を検出する位置に配置されている。
34bに回転自在に支持されている。軸受34b,34
bは、チャンバ15の右側面に固定された軸受ホルダ3
5bに保持されている。回転軸33bの先端には、プー
リ42が固定されている。プーリ42はベルト43を介
してモータ17に連結されている。
a,33bの貫通部分それぞれには、軸排気チャンバ3
6が形成されている。軸排気チャンバ36は回転軸を外
周側から覆うように形成されている。また、軸排気チャ
ンバ36は、軸排気ダクト37に接続されている。
受34aより内側には、回転軸33aの外周をシールす
るための断面視凸状のラビリンスシール44が配置され
ている。ラビリンスシール44の凸部外方には、円環状
の加圧空間45が形成されている。加圧空間45には、
軸受ホルダ35aの外周面に開口するガス供給口46の
内周端が開口している。加圧空間45とラビリンスシー
ル44の凸部との間には、複数の連絡孔48が形成され
ている。
ダ35aとの間には僅かな隙間が形成されている。ま
た、軸受34aとラビリンスシール44との間には、円
環状の排気空間49が形成されている。この排気空間4
9には、軸受ホルダ35aの外周面に開口するガス排出
口50の内周端が開口している。ガス排出口50は、ガ
ス排出ダクト51に連結されている。
っており、左右のガス供給口46は、図5に示すよう
に、ガス供給配管47及びガス供給弁55を介して窒素
ガス源に接続されている。また、左右のガス排出ダクト
51は、槽排気ダクト28に合流している。槽排気ダク
ト28の合流部分より下流側の途中には、槽排気ダンパ
ー52が配置されている。
流しており、合流部分より下流側の途中には、軸排気ダ
ンパー53及びブロア54が配置されている。ダンパー
52,53は、それぞれ槽排気ダクト28及び軸排気ダ
クト37を開閉するためのものである。ブロア54は、
軸排気チャンバ36を排気するものである。このブロア
54を設けることにより、軸排気チャンバ36をチャン
バ15内より高い負圧にできる。なおこれらのダクト2
8,37は、独立して設備排気ダクトに接続されてい
る。
ンピュータからなる制御部60を有している。制御部6
0には、その内部に時間をカウントするタイマー部を備
えており、そいて、エアシリンダ39、モータ17、槽
排気ダンパー52、軸排気ダンパー53、静電気除去装
置27、ガス供給弁55及び他の入出力部が接続されて
いる。
制御フローチャート及び図8に示すタイミングチャート
に従って説明する。
部2に載置されると、基板移載ロボット10によりキャ
リアCを基板移載装置3に搬入する。基板移載装置3で
は、キャリアCから複数の基板を一括して受け取り、こ
れを基板移載ロボット6のアーム11により保持する。
そして、受け取った複数の基板を基板洗浄槽13の基板
保持具12に渡す。ここで基板に対する洗浄処理が施さ
れる。洗浄が終了すると、基板搬送ロボット6が基板保
持具12から基板を受け取り、基板回転乾燥装置に基板
を運ぶ。
を検出する(ステップS1)と、チャンバ開閉蓋18を
開く(ステップS2)。そして、保持具昇降部20によ
り基板保持具19を上昇させ、基板搬送ロボット6のア
ーム11から基板を一括して受け取る。基板保持具19
で基板を受け取ると、保持具昇降部20を下降させるこ
とにより保持具19を下降させ、基板を所定の位置に配
置する(ステップS3)。そして基板及び保持具19を
各クランプ装置21,22によりクランプする。クラン
プが完了すると、エアシリンダ39を退入させ、位置決
めリング38と位置決め部材39aとの係合を解除し、
ロータ16をロック状態からアンロック状態にして(ス
テップS4)、チャンバ開閉蓋18を閉じる(ステップ
S5)。なおこのとき、ダンパー52,53はともに閉
じている。
所定時間Taが経過してから(ステップS6)、槽排気
ダンパー52と軸排気ダンパー53を共に開く(ステッ
プS7)。また、静電気除去装置27をONにし(ステ
ップS8)、ガス供給弁55を開き、ラビリンスシール
44の周囲に窒素ガスを供給する(ステップS9)。
ガス供給口46を介して加圧空間45に加圧された窒素
ガスが充満し、さらに連絡孔48からラビリンスシール
44側へ侵入する。侵入した窒素ガスは、ラビリンスシ
ール44の外周に沿って、一部が排気空間49にまた他
の一部が軸排気チャンバ36に流れる。排気空間49に
流れた窒素ガスは、ガス排出口50を介してガス排気ダ
クト51に排出される。そして槽排気ダクト28に合流
し、槽排気ダンパー52を介して設備排気ダクトに排出
される。また軸排気チャンバ36に流れた窒素ガスは、
チャンバ内部の空気とともに、軸排気ダクト37に排出
される。そして軸排気ダンパー53及びブロア54を介
して設備排気ダクトに排出される。
ー53を共に開いてから所定時間Tbが経過してから
(ステップS10)、モータ17に所定の電流を流し、
ロータ16を1速(たとえば1000rpm)で回転さ
せる(ステップS11)。引き続き、2速(たとえば1
200rpm)でロータ16を回転させ(ステップS1
2)、さらに所定時間後に3速(たとえば1500rp
m)で回転させる(ステップS13)。
を位置決め速度(たとえば10rpm)に減速する(ス
テップS14)。そして、フォトインタラプタ41が検
出ドッグ40を検出すると(ステップS15)、モータ
17を停止してロータ16の回転を停止する(ステップ
S16)。
てから所定時間Tcが経過してから(ステップS1
7)、静電気除去装置27をOFFする(ステップS1
8)し、ガス供給弁55を閉じて窒素ガスの供給を停止
し(ステップS19)、槽排気ダンパー52と軸排気ダ
ンパー53を共に閉じる(ステップS20)。
り槽排気ダクト28は閉じられ、チャンバ15内の気圧
が大気圧と同圧へ戻るようになり、ダンパー53を閉じ
ることにより軸排気ダクト37は閉じられ、軸排気チャ
ンバ36内の気圧も大気圧と同圧へ戻るようになる。
し、位置決めリング38に位置決め部材39aを係合さ
せる。これによりロータ16が基準位置でロック状態と
なる(ステップS21)。
ー53を共に閉じてから所定時間Tdが経過してから
(ステップS22)、チャンバ開閉蓋18を開き(ステ
ップS23)、各クランプ装置21,22によりクラン
プされた基板及び保持具19の保持を解除する。そして
保持具昇降部20を上昇させることにより、保持具19
を所定の受渡し位置まで上昇させる(ステップS2
4)、基板搬送ロボット6のアーム11に基板を一括し
て渡す。
6によりさらに基板移載装置3に搬送され、この基板移
載装置3において基板がキャリアC内に収納される。キ
ャリアCは、基板移載ロボット10によって基板移載装
置3から搬入・搬出部2に搬送される。ここでは、ラビ
リンスシール44の外周側から加圧された窒素ガスを供
給しているので、軸受34a,34bで発生したパーテ
ィクルは、チャンバ15側へは流れない。さらに、フィ
ルタ25の下方に静電気除去装置27を設け、内部の気
体をイオン化しているので、回転中において空気との接
触により基板に生じる静電気を確実に除去できる。
を開くに際しては、チャンバ開閉蓋18を閉じてから、
所定時間Taが経過してから(ステップS6)、開く
(ステップS7)ようにしている。したがって、チャン
バ開閉蓋18を閉じた直後に、チャンバ15に付設され
ているチャンバ開閉蓋18とチャンバ15との間を気密
に閉じるために、チャンバ開閉蓋18とチャンバ15と
の間に介装されている弾性パッキン14が、気密に閉じ
る姿勢へ変形する途中の気密性が不安定な期間を過ぎて
から、槽排気ダンパー52を開くこととなる。
後に、チャンバ開閉蓋18とチャンバ15との間の弾性
パッキン14における微少な隙間からの外気吸い込みは
解消され、パーティクルが多く存在する基板回転乾燥装
置5の上面あたりに位置する基板出入口23周囲からの
パーティクルを多く浮遊する外気がチャンバ15内へ侵
入することは解消される。
るに際しては、槽排気ダンパー52と軸排気ダンパー5
3を共に開いてから所定時間Tbが経過してから(ステ
ップS10)、回転を始めるようにしている。したがっ
て、吸気口26からチャンバ15内へ取り入れられ、チ
ャンバ排気口24を経て槽排気ダクト28よりチャンバ
15外へ排気される気流を、先にチャンバ15内の基板
の周囲に形成しておいてから、基板を回転させることと
なる。また、軸排気チャンバ36内から軸排気ダクト3
7へ排出される気流を形成しておいてから、基板を回転
させることとなる。
ティクルが基板から振り切られて生ずるチャンバ15内
のミスト状の浮遊物は、回転の初期の段階に最も多く集
中的に発生するが、前記したように、回転前にチャンバ
15内の基板の周囲にチャンバ排気口24へ向かう気流
を形成しているので、かかる気流に乗って、回転当初よ
り速やかに確実にチャンバ15外へ排出される。さら
に、回転初期段階に基板から振り切られた液がチャンバ
15の内壁面を濡らすことがなく、回転乾燥に要する時
間を短くできる。
5との貫通部や、軸受け34a、34bで生ずるパーテ
ィクルも、回転の初期の段階に最も多く発生するが、前
記したように、回転前に軸排気チャンバ36内から軸排
気ダクト37へ排出される気流を形成しているので、か
かる気流に乗って回転当初より速やかに確実に排出さ
れ、基板を清浄度高く乾燥できる。
ー52と軸排気ダンパー53を閉じるに際しては、基板
が回転停止してから所定時間Tcが経過してから(ステ
ップS17)、閉じるようにしている。したがって、基
板の回転が停止してから所定時間Tcの間、槽排気ダン
パー52と軸排気ダンパー53は開いており、槽排気ダ
クト28は開いたままで、軸排気ダクト37も開いたま
まである。
15内に浮遊していたミスト状の浮遊物やパーティクル
は、回転停止した後も流れる槽排気ダクト28から排気
される気流に乗って、速やかに確実にチャンバ15内よ
り排出され、基板を清浄度高く乾燥できる。また、回転
停止した時点で、軸排気チャンバ36内を浮遊していた
パーティクルは、回転停止した後も流れる軸排気ダクト
37から排気される気流に乗って、速やかに確実に軸排
気チャンバ36より排出され、チャンバ15へ流れ込む
ことはなく、基板を清浄度高く乾燥できる。
蓋18を開けるに際しては、槽排気ダンパー52を閉じ
てから所定時間Tdが経過してから(ステップS2
2)、開けるようにしている。したがって、槽排気ダク
ト28からのチャンバ15の排気を停止させた時点で
は、チャンバ15内部が外部より気圧が低い状態にあっ
ても、槽排気ダンパー52を閉じてからチャンバ開閉蓋
18が開くまでの所定時間Tdの間に、チャンバ15内
部へ吸気口26からチャンバ外より外気が流入し、チャ
ンバ内部は外部と気圧差がなくなり、基板出入口23を
開け際には、開ける当初からチャンバ15内部への気流
の流入は起こらない。これにより、パーティクルが比較
的高濃度に分布した状況にある基板回転乾燥装置5の上
面近の雰囲気、すなわち基板出入口23側方の雰囲気を
引き込む気流に由来するパーティクルの基板への付着は
解消される。
乾燥前の濡れた基板が基板回転乾燥装置5の近くに在っ
ても、開けるより所定時間Td前に、、槽排気ダンパー
52を閉じるので、槽排気ダクト28からの排気に伴っ
て吸気口26からチャンバ内へ流れ込む気流が生じるこ
とによる基板回転乾燥装置5の周囲でのダウンフロー流
の乱れは、チャンバ開閉蓋18を開ける前に解消し、ダ
ウンフロー流の乱れによる乾燥前の濡れた基板が部分的
に蒸発乾燥することは低減される。これにより、乾燥前
の基板を濡らしている液に含まれていた不純物や、その
液と基板との反応生成物等に由来するパーティクルの基
板への付着は解消され、基板を清浄度高く乾燥できる。
0に連結されたガス排出ダクト51は、槽排気ダクト2
8に合流しているが、より負圧が高い軸排気ダクト37
に合流してもよい。また単独で設備排気ダクトに接続さ
れてもよい。
Ta、Tb,Tc,Tdは、チャンバ15の容積や、槽
排気ダクト28の吸引風量等のように、基板回転乾燥装
置に関わる各種機械要素の程度加減により、個々の装置
ごとに最適値は決定される。また、前記実施の形態にお
ける各所定時間Ta、Tb,Tc,Td相互の関係は、
同じ時間に統一することは要さず、違えさせる必要もな
い。
口24に接続されている槽排気ダクト28に配置されて
いる槽排気ダンパー52に対して、軸排気チャンバ36
に接続する軸排気ダクト37に配置されている軸排気ダ
ンパー53を、同時に開閉するが、必ずしも槽排気ダン
パー52と同時に開閉することを要するものではない。
所定時間Ta経過後の槽排気ダンパ52を開ける時点よ
り、前に軸排気ダンパー53を開けたり、後に軸排気ダ
ンパー53を開けてもかまわない。また、例えば、回転
停止してから所定時間Tc経過後の槽排気ダンパ52を
閉じる時点より、前に軸排気ダンパー53を閉じたり、
後に軸排気ダンパー53を閉じてもかまわない。
始するのは、槽排気ダンパー52と軸排気ダンパー53
の双方を開けた時点より所定時間Tb経過後とするもの
でり、このように槽排気ダンパー52と軸排気ダンパー
53の双方を開けた時点を始点に所定時間Tb経過して
から回転を始める方が、回転軸33a、33bのチャン
バ15との貫通部や、軸受け34a、34bで生ずるパ
ーティクルも回転当初より速やかに確実に排出され、基
板を清浄度高く乾燥できて特段望ましいが、しかし、必
ずしも、槽排気ダンパー52と軸排気ダンパー53の双
方を開けた時点であることを要するものではない。この
所定時間Tbの始点は、少なくとも槽排気ダンパ52を
開けた時点であればよい。
蓋18を開けるのは、槽排気ダンパー52と軸排気ダン
パー53の双方を閉じた時点より、所定時間Td経過後
であるが、この所定時間Tdの始点は、少なくとも槽排
気ダンパ52を閉じた時点であればよく、必ずしも、槽
排気ダンパー52と軸排気ダンパー53の双方を閉じた
時点であることを要しない。
おける槽排気ダンパー52を開けるときより、先に開け
てもよく、後に開けても良いが、少なくと回転開始時ま
でには開けておくことが望ましい。また、軸排気チャン
バ36は、前記実施の形態における槽排気ダンパー52
を閉じるときより、先に閉じてもよく、後に閉じても良
いが、少なくとも、回転を停止してから閉じることが望
ましい。
たえた回転軸33a、33bを中心に基板を回転させ横
軸回転型であるが、本発明にかかる基板回転乾燥装置
は、鉛直に立てた回転軸を中心に基板が回転する縦軸回
転型でもよい。
じてから所定時間経過後に、チャンバ排気部による排気
を開始するから、チャンバの基板出入口を閉じた直後
は、チャンバの基板出入口がまだ完全に気密に閉じてい
なくても、まだ、チャンバ排気部による排気は開始せ
ず、チャンバ内部と外部とで気圧差は生じておらず、チ
ャンバ内部への気流の流入は起こらず、これにより、パ
ーティクルが比較的高濃度に分布した状況にある基板出
入口側方の雰囲気が、閉じた直後の基板出入口の僅かな
隙間からチャンバ内へ気流に引かれて流れ込むことは避
けられ、パーティクルの基板への付着は解消され,清浄
度高く基板を乾燥することができる。
装置の斜視概略図。
ト。
Claims (1)
- 【請求項1】 基板を保持して回転する基板回転保持手
段と、 前記基板回転保持手段を囲むチャンバと、 前記チャンバ内を排気するチャンバ排気部とを備え、 前記チャンバが、基板を出し入れする開閉可能な基板出
入口と、基板出入口を閉じた状態でも内部と外部が連通
して外気を吸い込む吸気口とを有する基板回転乾燥装置
であって、 チャンバの基板出入口を閉じてから所定時間経過後に、
前記排気部による排気を開始するようにしたことを特徴
とする基板回転乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19684999A JP3631395B2 (ja) | 1999-07-12 | 1999-07-12 | 基板回転乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19684999A JP3631395B2 (ja) | 1999-07-12 | 1999-07-12 | 基板回転乾燥装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001021267A true JP2001021267A (ja) | 2001-01-26 |
JP3631395B2 JP3631395B2 (ja) | 2005-03-23 |
Family
ID=16364691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19684999A Expired - Fee Related JP3631395B2 (ja) | 1999-07-12 | 1999-07-12 | 基板回転乾燥装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3631395B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113720128A (zh) * | 2021-09-03 | 2021-11-30 | 徐州金琳光电材料产业研究院有限公司 | 一种光学镀膜材料用导料烘干装置及其烘干方法 |
-
1999
- 1999-07-12 JP JP19684999A patent/JP3631395B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113720128A (zh) * | 2021-09-03 | 2021-11-30 | 徐州金琳光电材料产业研究院有限公司 | 一种光学镀膜材料用导料烘干装置及其烘干方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3631395B2 (ja) | 2005-03-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3425592B2 (ja) | 処理装置 | |
TWI617368B (zh) | 循環基板容器清洗系統及其方法 | |
TWI500101B (zh) | 液體處理裝置、液體處理方法及記錄有用來實行此液體處理方法之程式的記錄媒體 | |
KR20030007014A (ko) | 기판 수납 용기, 기판 반송 시스템, 보관 장치 및 가스치환 방법 | |
JP7480249B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JPH11214348A (ja) | 基板乾燥処理装置及び基板乾燥処理方法 | |
JP2022162002A (ja) | Efem、及び、efemにおけるガス置換方法 | |
JPH0531472A (ja) | 洗浄装置 | |
JP3372585B2 (ja) | 処理装置 | |
JP2003332213A (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
JP2001021267A (ja) | 基板回転乾燥装置 | |
JP2001023944A (ja) | 基板回転乾燥装置 | |
JP3014899B2 (ja) | 基板回転乾燥装置の排気装置 | |
JP2002057137A (ja) | 基板洗浄装置及び基板処理装置 | |
JP2001023943A (ja) | 基板回転乾燥装置 | |
JP2001023945A (ja) | 基板回転乾燥装置 | |
JP2006190828A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2003115519A (ja) | 半導体装置の製造方法、半導体製造装置、ロードロック室、基板収納ケース、ストッカ | |
JP2002043272A (ja) | 基板洗浄装置及び基板処理装置 | |
JP3856726B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
JP2005347667A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP4298840B2 (ja) | スピン処理装置およびスピン処理方法 | |
JPH0722377A (ja) | 基板回転乾燥装置の排気装置 | |
JP2000015198A (ja) | 洗浄装置 | |
JPH1022187A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20040210 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040831 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041015 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041214 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041216 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071224 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081224 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081224 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091224 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091224 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091224 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101224 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101224 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |