JP2001011597A - ガス浸炭窒化方法 - Google Patents
ガス浸炭窒化方法Info
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Abstract
ガス浸炭窒化方法を提供する。 【解決手段】 浸炭処理に適する温度の下で行われる浸
炭工程と、該浸炭工程後の降温工程と、の少なくともい
ずれかの工程でNH3ガスを供給して被処理材に窒化処
理を施す。
Description
に関するものである。
00℃以下の処理温度で浸炭と窒化を同時に行う方法、
また900℃以上の温度で一次加熱として浸炭処理を行
った後、900℃以下の温度、一般的には850℃付近
に降温させて二次加熱を設けて、その温度で窒化を行う
方法が行われていた。
の温度で浸炭と窒化を同時に行う方法では、温度が通常
の浸炭温度より低いため、浸炭処理に時間がかかりすぎ
るので、処理が長時間に及ぶという欠点があった。
法は、窒化工程追加分だけ時間がかかるし、一次加熱か
ら二次加熱への降温工程の時間も、長時間処理となる原
因となっている。
させると、浸炭処理は行われるものの、炉内で供給され
たNH3ガスの分解が進み、逆に窒化処理が長時間に及
ぶため、鋼材料の結晶粒度が粗大化してしまうことが指
摘されている。
もので、短時間で大きな窒化深さを得ることができるガ
ス浸炭窒化方法を提供しようとするものである。
め、本発明に係るガス浸炭窒化方法は、浸炭処理に適す
る温度の下で行われる浸炭工程と、該浸炭工程後の降温
工程と、の少なくともいずれかの工程でNH3ガスを供
給して被処理材に窒化処理を施すものである。
炭工程で前記NH3ガスを供給したり、前記降温工程で
前記NH3ガスを供給したり、あるいは、前記浸炭工程
と前記降温工程とに時間的にまたがって前記NH3ガス
を供給したりして、前記被処理材に窒化処理を施すこと
ができる。このようにすれば、従来方法より高い温度で
窒化処理が行われるので、短時間で大きな窒化深さを得
ることができる。また、浸炭工程と降温工程にまたがっ
て窒化が行われることによって、浸炭後に材料の結晶粒
度の粗大化がおこることもなく、特別な処理時間を必要
とすることもない。しかも、従来方法の一つで必要とさ
れていた前記二次加熱工程が不要となるので、処理時間
の大幅な短縮に貢献できる。
ば、前記降温工程の終了時点と、前記被処理材の窒素濃
度を目標値に到達せしめるのに必要な窒化時間と、から
算出することができる。また、前記浸炭工程に適する温
度としては、例えば、900乃至950℃の温度が望ま
しい。
関係に着目して定義すれば、熱処理炉内の温度が浸炭に
適する温度に達した後、焼入温度に至るまでの間に、前
記熱処理炉内にNH3ガスを供給して被処理材に窒化処
理を施す方法と表現することもできる。
明の好適な実施の形態を説明する。
よる処理工程と、従来のガス浸炭窒化方法の一つによる
処理工程とを、同一時間軸上に示した比較図である。こ
の図を参照すれば、本発明方法の利点の一つである総処
理時間の短縮が視覚的に明らかとなる。
加熱工程としての浸炭工程と、該浸炭工程に続いて行わ
れる降温工程(降温期)と、該降温工程に続いて行われ
る二次加熱工程としての窒化工程と、該窒化工程に続い
て行われる焼入れ工程と、を備えた周知の方法である。
この従来の方法では、一次加熱温度T1の下で浸炭時間
t1と拡散時間t2とを経過することにより前記浸炭工
程が終了し、該浸炭工程後に降温時間t3を経過して降
温工程が終わり、該降温工程後に、二次加熱温度T2の
下で窒化時間t4を経過することにより窒化工程が終わ
り、その後、前記焼入れ工程が行われる。
の一実施の形態に係るガス浸炭窒化方法は、浸炭工程
と、該浸炭工程に続いて行われる降温工程(降温期)
と、該降温工程に続いて行われる焼入れ工程と、を備え
ている。本実施の形態では、前記従来方法と同一の一次
加熱温度T1の下で浸炭時間t1と拡散時間t2とを経
過することにより前記浸炭工程が終了し、該浸炭工程後
に降温時間t3を経過して降温工程が終わり、該降温工
程後に、前記焼入れ工程が行われる。そして、窒化工程
は、前記浸炭工程と前記降温工程の少なくともいずれか
の工程で熱処理炉内にNH3ガス(アンモニアガス)を
供給することにより、前記いずれかの工程と同時並行的
に行われる。
従来から浸炭処理に適するとされている温度、すなわ
ち、例えば、900乃至950℃の下で行われる。
方法における前記降温工程後の二次加熱工程における前
記窒化工程を省き、その代わりに、前記浸炭工程と前記
降温工程の少なくともいずれかの工程で窒化処理を並行
的に行う点にある。このようにすれば、従来、時間的に
独立した工程であった窒化工程が他の工程と同時に行わ
れるので、総処理時間を大幅に短縮することができる。
また、従来方法より高い温度で窒化処理が行われること
になるので、短時間で目標窒化深さを得ることができ
る。
に一致させて前記熱処理炉内に前記NH3ガスを供給す
る。ここで、前記熱処理炉内に装入される被処理材の表
面積が小さい等の理由で、前記降温期の全期間に渡って
窒化処理を行うと窒化深さが深くなりすぎる場合には、
例えば、前記NH3ガスの供給開始時点を遅らせたり、
前記NH3ガスの供給停止時点を早めたりして、目標窒
化深さを得るのに必要な時間だけ窒化処理を行うように
すれば良い。
り、目標窒化深さが深い等の場合には、前記降温期だけ
を利用した窒化処理では窒化深さ不足となることも予想
される。この場合には、前記NH3ガスの供給を前記浸
炭工程中から開始すれば良い。前記浸炭工程の初めか
ら、又は該浸炭工程の途中から、前記NH3ガスの供給
を開始し、前記浸炭工程から前記降温期へと時間的にま
たがって前記NH3ガスを供給し続け、前記降温期の途
中で、又は該降温期の終了時点で、前記NH3ガスの供
給を停止することもできる。
炭工程の途中から、前記NH3ガスを供給し始め、前記
浸炭工程の途中で、又は該浸炭工程の終了と同時に、前
記NH3ガスの供給を停止してもよい。
うにして算出することができる。すなわち、前記熱処理
炉内の残留NH3の濃度とカーボンポテンシャルとを測
定し、これから窒化ポテンシャルを算出する。そして、
この値を基に、目標窒化深さに応じて、前記被処理材の
窒素濃度を目標値に到達せしめるのに必要な窒化時間
(以下、「必要窒化時間」という。)が定まる。また、
前記被処理材の降温速度と、設定降温終了温度と、か
ら、前記降温期の終了時点を予測することができる。そ
こで、該降温期の終了時点から前記必要窒化時間を差し
引くことにより、前記NH3ガスの供給開始時点、すな
わち、窒化処理の開始時点を算出することができる。
と、従来のガス浸炭窒化方法の一つによる処理工程と
を、同一時間軸上に示した比較図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 浸炭処理に適する温度の下で行われる浸
炭工程と、該浸炭工程後の降温工程と、の少なくともい
ずれかの工程でNH3ガスを供給して被処理材に窒化処
理を施すことを特徴とする、ガス浸炭窒化方法。 - 【請求項2】 前記浸炭工程で前記NH3ガスを供給し
て前記被処理材に窒化処理を施すことを特徴とする、請
求項1に記載のガス浸炭窒化方法。 - 【請求項3】 前記降温工程で前記NH3ガスを供給し
て前記被処理材に窒化処理を施すことを特徴とする、請
求項1に記載のガス浸炭窒化方法。 - 【請求項4】 前記浸炭工程と前記降温工程とに時間的
にまたがって前記NH3ガスを供給して前記被処理材に
窒化処理を施すことを特徴とする、請求項1に記載のガ
ス浸炭窒化方法。 - 【請求項5】 前記NH3ガスの供給開始時点を、前記
降温工程の終了時点と、前記被処理材の窒素濃度を目標
値に到達せしめるのに必要な窒化時間と、から算出する
ことを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一項に記
載のガス浸炭窒化方法。 - 【請求項6】 熱処理炉内の温度が浸炭に適する温度に
達した後、焼入温度に至るまでの間に、前記熱処理炉内
にNH3ガスを供給して被処理材に窒化処理を施すこと
を特徴とするガス浸炭窒化方法。 - 【請求項7】 前記浸炭工程における浸炭温度が900
乃至950℃である、請求項1乃至6のいずれか一項に
記載のガス浸炭窒化方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1999
- 1999-06-28 JP JP18210099A patent/JP3849742B2/ja not_active Expired - Fee Related
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