JP2000506260A - 微小加工された集積面磁力計 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.基板上に懸架され、少なくとも1つの回転可能な構造体フィンガを有する回 転可能構造体と、 各々が基板に接続された第1の端部と回転可能構造体に接続された第2の端部 とを有する少なくとも1つの懸架アームと、 各々が前記回転可能構造体フィンガの1つの第1の側に隣接している、前記基 板に接続された少なくとも1つの第1の固定フィンガと、 各々が前記回転可能構造体フィンガの1つの第2の側に隣接している、前記基 板に接続された少なくとも1つの第2の固定フィンガと、 磁気モーメントを持ち、回転可能構造体に接続された強磁性体と を備える微小加工電気機械的装置。 2.前記回転可能構造体が少なくとも2個の回転可能構造体フィンガを持ち、前 記回転可能構造体フィンガが前記回転可能構造体の回転軸の周囲に略々対称的に 配置される請求項1記載の装置。 3.前記回転可能構造体が中心部分を持ち、各回転可能構造体フィンガが該中心 部分から略々半径方向に延在する請求項1記載の装置。 4.前記強磁性体が前記回転可能構造体の中心部分に接続される請求項3記載の 装置。 5.前記強磁性体がバリウムヘクサフェライドを含む請求項1記載の装置。 6.前記強磁性体がコバルトプラチナクロームを含む請求項1記載の装置。 7.基板上に懸架されて回転可能な電極を持つ軸の周囲に回転可能な構造体と、 各々が前記基板に接続された第1の端部と前記回転可能基板に接続された第2 の端部とを持つ少なくとも1つの懸架アームと、 前記基板に接続され、第1の電極を有する第1の固定板と を備え、該第1の電極と前記回転可能電極とが第1のコンデンサを形成し、前記 軸の周囲における第1の方向の前記構造体の回転運動が、前記第1の コンデンサの容量を増し、前記軸周囲における第2の方向の前記構造体の回転運 動が前記第1のコンデンサの容量を減じ、 前記基板に接続され、第2の電極を有する第2の固定板 を備え、前記第2の電極と回転可能電極とが第2のコンデンサを形成し、前記軸 周囲の第1の方向における構造体の回転運動が前記第2のコンデンサの容量を減 じ、前記軸の周囲の第2の方向における構造体の回転運動が前記第2のコンデン サの容量を増し、 磁気モーメントを有し、前記回転可能な構造体に接続された強磁性体を備える 微小加工電気機械的装置。 8.前記基板に形成され、前記回転可能電極に電気的に接続された入力と、出力 とを有するバッファと、 前記基板に形成され、前記バッファの出力に接続された入力と、出力とを有す る復調器と、 前記基板に形成され、前記復調器の出力に接続された入力と、出力とを有する 増幅器と を更に備える請求項7記載の装置。 9.各々が 基板上に懸架され回転可能な電極を有する、軸の周囲に回転可能な第1の構 造体と、 各々が前記基板に接続された第1の端部と前記回転可能構造体に接続された 第2の端部とを有する少なくとも1つの懸架アームと、 前記基板に接続され、第1の電極を有する第1の固定板と を有し、該第1の電極と前記回転可能電極とが第1のコンデンサを形成し、前記 構造体の前記軸周囲の第1の方向における回転運動が前記第1のコンデンサの容 量を増し、前記軸周囲の第2の方向における前記構造体の回転運動が前記第1の コンデンサの容量を減じ、 前記基板に接続され、第1の電極を有する第1の固定板を含み、該第1の電 極と回転可能電極とが第1のコンデンサを形成し、前記軸周囲の第1の方向にお ける前記構造体の回転運動が前記第1のコンデンサの容量を 増し、前記軸周囲の第2の方向における前記構造体の回転運動が前記第1のコン デンサの容量を減じ、 前記基板に接続され、第2の電極を有する第2の固定板を含み、該第2の電 極と回転可能電極とが第2のコンデンサを形成し、前記軸周囲の第1の方向にお ける前記構造体の回転運動が前記第2のコンデンサの容量を減じ、前記軸周囲の 第2の方向における前記構造体の回転運動が前記第2のコンデンサの容量を増し 、 磁気モーメントを持ち、前記回転可能構造体に接続された強磁性体を含む複 数の磁力計 を備える微小加工電気機械的装置。 10.前記複数の磁力計の第1の磁力計が第1の軸の周囲に回転可能であり、該 複数の磁力計の第2の磁力計が前記第1の軸と直角をなす第2の軸の周囲に回転 可能である請求項9記載の装置。 11.前記複数の磁力計の第1の磁力計の磁気モーメントと、該複数の磁力計の 第2の磁力計の磁気モーメントとが、共に第1の方向に配向される請求項10記 載の装置。 12.前記複数の磁力計の第1の磁力計が第1の軸の周囲に回転可能であり、該 複数の磁力計の第2の磁力計が前記第1の軸と直角をなす第2の軸の周囲に回転 可能である請求項9記載の装置。 13.前記複数の磁力計の第1の磁力計の磁気モーメントが前記第1の軸と直角 をなす第3の軸に沿って配向され、前記複数の磁力計の第2の磁力計の磁気モー メントが前記第1の軸と直角をなしかつ前記第3の軸と直角をなす第4の軸に沿 って配向される請求項12記載の装置。 14.前記複数の磁力計の第3の磁力計が前記第3の軸の周囲に回転可能である 請求項13記載の装置。 15.前記複数の磁力計の第3の磁力計の磁気モーメントが前記第4の軸に沿っ て配向される請求項14記載の装置。 16.前記基板上に懸架された可動質量と複数の懸架アームとを有する加速度計 を更に備え、各懸架アームが前記基板に接続された第1の端部と前 記可動質量に接続された第2の端部とを有する請求項9記載の装置。 17.微小加工電気機械的装置を製造する方法において、 各々が略々第1の軸に沿って配向される第1の複数の帯条の強磁性体を第1の センサ構造上に被着させるステップと、 各々が略々第2の軸に沿って配向される第2の複数の帯条の強磁性体を第2の センサ構造上に被着させるステップと、 磁界を装置に印加するステップと を含み、前記磁界が前記第1の軸と前記第2の軸とにより形成される面内の第1 の方向に沿って配向され、前記第1の方向が前記第1の軸から約45°の角度で あり、前記磁界の印加が、前記第1の軸に沿って前記第1の複数の帯条に磁気ダ イポールを形成させ、前記第2の軸に沿って前記第2の複数の帯条に磁気ダイポ ールを形成させる 方法。 18.微小加工電気機械的装置を製造する方法において、 第1の保磁力を持つ第1の強磁性体を第1のセンサ構造上に被着させるステッ プと、 前記第1の保磁力より大きな第2の保磁力を持つ第2の強磁性体を第2のセン サ構造上に被着させるステップと、 前記第1の強磁性体と前記第2の強磁性体とが第1の方向に磁化されるように 、前記装置に対して、前記第2の保磁力より大きく前記第1の方向に配向された 第1の磁界を印加するステップと、 前記第1の強磁性体が前記第2の方向に磁化されるように、前記装置に対して 、前記第1の保磁力より大きく前記第2の保磁力より小さな第2の磁界を前記第 1の方向と略々直角をなす第2の方向に印加するステップとを含む方法。 19.前記第1の強磁性体が第1のキューリー温度を持ち、前記第2の強磁性体 が前記第1のキューリー温度より高い第2のキューリー温度を持ち、前記第1の 強磁性体が消磁されるように、前記第1の磁界を印加した後で、かつ前記第2の 磁界を印加する前に、前記装置を前記第1のキューリ ー温度より高くかつ前記第2のキューリー温度より低い温度に加熱するステップ を更に含む請求項18記載の方法。 20.前記第1のセンサ構造が第1の軸の周囲に回転可能であり、かつ前記第2 のセンサ構造が第2の軸の周囲に回転可能であるように、該第1のセンサ構造と 該第2のセンサ構造とを解放するステップを更に含む請求項18記載の方法。
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---|---|---|---|
US08/605,743 US5818227A (en) | 1996-02-22 | 1996-02-22 | Rotatable micromachined device for sensing magnetic fields |
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PCT/US1997/002607 WO1997031274A1 (en) | 1996-02-22 | 1997-02-21 | Integrated surface micromachined magnetometer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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DE (1) | DE69712044T2 (ja) |
WO (1) | WO1997031274A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011129930A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Commissariat A L'energie Atomique & Aux Energies Alternatives | 同一の基板上に形成されそれぞれの異なる磁化の向きを有する磁気構造を備えるデバイスの製造 |
JP2012515907A (ja) * | 2009-01-26 | 2012-07-12 | コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ | 吊り下げられた応力ゲージを備える磁場センサー |
JP2015531871A (ja) * | 2012-08-29 | 2015-11-05 | コミサリア ア レネルジ アトミクエ オウ エネルジ アルタナティヴ | ラプラス力を用いた磁場計測装置 |
JP2016085186A (ja) * | 2014-10-29 | 2016-05-19 | 佐保 ミドリ | 磁性加速度センサーおよび磁気特性測定装置 |
JP2018502291A (ja) * | 2014-12-12 | 2018-01-25 | コリア リサーチ インスティチュート オブ スタンダーズ アンド サイエンス | 磁場センサ及び磁場測定装置 |
JP7445337B2 (ja) | 2020-05-13 | 2024-03-07 | 江▲蘇▼多▲維▼科技有限公司 | 回転ディスク型磁場プローブ |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6124712A (en) * | 1997-05-16 | 2000-09-26 | The Regents Of The University Of California | Apparatus and method for imaging metallic objects using an array of giant magnetoresistive sensors |
DE19740049A1 (de) * | 1997-09-12 | 1999-03-25 | Bosch Gmbh Robert | Sensorelement |
US6275034B1 (en) | 1998-03-11 | 2001-08-14 | Analog Devices Inc. | Micromachined semiconductor magnetic sensor |
DE19827056A1 (de) * | 1998-06-18 | 1999-12-23 | Bosch Gmbh Robert | Mikromechanischer Magnetfeldsensor |
DE19858826A1 (de) | 1998-12-19 | 2000-06-29 | Micronas Intermetall Gmbh | Kapazitiver Magnetfeldsensor |
AU756936B2 (en) * | 1999-01-13 | 2003-01-30 | Kevin L. Alft | Automated bore planning method and apparatus for horizontal directional drilling |
DE19938206A1 (de) * | 1999-08-12 | 2001-02-15 | Bosch Gmbh Robert | Mikromechanischer Drehbeschleunigungssensor |
US6315062B1 (en) | 1999-09-24 | 2001-11-13 | Vermeer Manufacturing Company | Horizontal directional drilling machine employing inertial navigation control system and method |
WO2001067122A2 (en) | 2000-03-09 | 2001-09-13 | The Johns Hopkins University | Force detected magnetic field gradiometer |
US6765160B1 (en) * | 2002-08-21 | 2004-07-20 | The United States Of America As Represented By The Secetary Of The Army | Omnidirectional microscale impact switch |
EP1443018A1 (en) * | 2003-01-15 | 2004-08-04 | STMicroelectronics S.r.l. | Rotational micro-electromechanical (mems) structure with parallel electrodes |
US7514283B2 (en) | 2003-03-20 | 2009-04-07 | Robert Bosch Gmbh | Method of fabricating electromechanical device having a controlled atmosphere |
US8912174B2 (en) * | 2003-04-16 | 2014-12-16 | Mylan Pharmaceuticals Inc. | Formulations and methods for treating rhinosinusitis |
US7075160B2 (en) | 2003-06-04 | 2006-07-11 | Robert Bosch Gmbh | Microelectromechanical systems and devices having thin film encapsulated mechanical structures |
US6936491B2 (en) | 2003-06-04 | 2005-08-30 | Robert Bosch Gmbh | Method of fabricating microelectromechanical systems and devices having trench isolated contacts |
US6952041B2 (en) | 2003-07-25 | 2005-10-04 | Robert Bosch Gmbh | Anchors for microelectromechanical systems having an SOI substrate, and method of fabricating same |
US7068125B2 (en) | 2004-03-04 | 2006-06-27 | Robert Bosch Gmbh | Temperature controlled MEMS resonator and method for controlling resonator frequency |
US7102467B2 (en) | 2004-04-28 | 2006-09-05 | Robert Bosch Gmbh | Method for adjusting the frequency of a MEMS resonator |
US7066004B1 (en) | 2004-09-02 | 2006-06-27 | Sandia Corporation | Inertial measurement unit using rotatable MEMS sensors |
EP1655613A3 (en) * | 2004-11-09 | 2006-05-17 | LG Electronics Inc. | Low power and proximity AC current sensor |
US7898244B2 (en) * | 2005-03-07 | 2011-03-01 | Digisensors, Inc. | Electromagnetic sensor systems |
US7253616B2 (en) * | 2005-10-13 | 2007-08-07 | Lucent Technologies Inc. | Microelectromechanical magnetometer |
DE112005003758B4 (de) * | 2005-11-25 | 2011-12-08 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Auslenkbares mikromechanisches Element |
US20070170528A1 (en) | 2006-01-20 | 2007-07-26 | Aaron Partridge | Wafer encapsulated microelectromechanical structure and method of manufacturing same |
US8159218B2 (en) * | 2008-08-04 | 2012-04-17 | Alcatel Lucent | Microelectromechanical magnetometer with integrated electronics |
ITTO20090973A1 (it) | 2009-12-10 | 2011-06-11 | St Microelectronics Srl | Magnetometro triassiale integrato di materiale semiconduttore realizzato in tecnologia mems |
EP2865990A4 (en) * | 2012-06-22 | 2016-03-16 | Nat Inst Of Advanced Ind Scien | DEVICE FOR MEASURING ROTATION ANGLE ACCELERATION |
US9839783B2 (en) * | 2014-07-25 | 2017-12-12 | Medtronic, Inc. | Magnetic field detectors, implantable medical devices, and related methods that utilize a suspended proof mass and magnetically sensitive material |
CN109813483A (zh) * | 2019-03-28 | 2019-05-28 | 交通运输部公路科学研究所 | 一种开环可调式索力测量装置及其测量方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5613244B2 (ja) * | 1974-07-31 | 1981-03-27 | ||
US4506221A (en) * | 1982-06-28 | 1985-03-19 | Sanders Associates, Inc. | Magnetic heading transducer having dual-axis magnetometer with electromagnet mounted to permit pivotal vibration thereof |
US5182515A (en) * | 1987-04-24 | 1993-01-26 | Wacoh Corporation | Detector for magnetism using a resistance element |
US5036286A (en) * | 1988-06-03 | 1991-07-30 | The Research Corporation Of The University Of Hawaii | Magnetic and electric force sensing method and apparatus |
US5233213A (en) * | 1990-07-14 | 1993-08-03 | Robert Bosch Gmbh | Silicon-mass angular acceleration sensor |
US5326726A (en) * | 1990-08-17 | 1994-07-05 | Analog Devices, Inc. | Method for fabricating monolithic chip containing integrated circuitry and suspended microstructure |
US5314572A (en) * | 1990-08-17 | 1994-05-24 | Analog Devices, Inc. | Method for fabricating microstructures |
DE69113632T2 (de) * | 1990-08-17 | 1996-03-21 | Analog Devices Inc | Monolithischer beschleunigungsmesser. |
CH679341A5 (en) * | 1990-12-10 | 1992-01-31 | Landis & Gyr Betriebs Ag | Magnetic field measuring device - uses torsion force induced in pivoted plate with magnetised layer |
US5206983A (en) * | 1991-06-24 | 1993-05-04 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Method of manufacturing micromechanical devices |
JP3027457B2 (ja) * | 1991-10-25 | 2000-04-04 | 和廣 岡田 | 多次元方向に関する力・加速度・磁気の検出装置 |
US5412265A (en) * | 1993-04-05 | 1995-05-02 | Ford Motor Company | Planar micro-motor and method of fabrication |
US5672967A (en) * | 1995-09-19 | 1997-09-30 | Southwest Research Institute | Compact tri-axial fluxgate magnetometer and housing with unitary orthogonal sensor substrate |
US5731703A (en) * | 1995-10-31 | 1998-03-24 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Micromechanical d'arsonval magnetometer |
US5684276A (en) * | 1995-12-12 | 1997-11-04 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Micromechanical oscillating mass balance |
-
1996
- 1996-02-22 US US08/605,743 patent/US5818227A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-02-21 JP JP53029897A patent/JP4052671B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1997-02-21 WO PCT/US1997/002607 patent/WO1997031274A1/en active IP Right Grant
- 1997-02-21 DE DE69712044T patent/DE69712044T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-02-21 EP EP03077911A patent/EP1376145A3/en not_active Withdrawn
- 1997-02-21 EP EP01200441A patent/EP1096265A1/en not_active Withdrawn
- 1997-02-21 EP EP97907704A patent/EP0882242B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-06-09 US US09/094,012 patent/US6233811B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012515907A (ja) * | 2009-01-26 | 2012-07-12 | コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ | 吊り下げられた応力ゲージを備える磁場センサー |
JP2011129930A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Commissariat A L'energie Atomique & Aux Energies Alternatives | 同一の基板上に形成されそれぞれの異なる磁化の向きを有する磁気構造を備えるデバイスの製造 |
JP2015531871A (ja) * | 2012-08-29 | 2015-11-05 | コミサリア ア レネルジ アトミクエ オウ エネルジ アルタナティヴ | ラプラス力を用いた磁場計測装置 |
JP2016085186A (ja) * | 2014-10-29 | 2016-05-19 | 佐保 ミドリ | 磁性加速度センサーおよび磁気特性測定装置 |
JP2018502291A (ja) * | 2014-12-12 | 2018-01-25 | コリア リサーチ インスティチュート オブ スタンダーズ アンド サイエンス | 磁場センサ及び磁場測定装置 |
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