JP2000500856A - 薄膜ブリッジ型起爆体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 爆薬を起爆するための薄膜ブリッジ型起爆体は、ニクロム又は窒化タンタルから選択された組成を有する薄膜抵抗素子を備えており、上記ニクロム又は窒化タンタルは、アルミナ基板の上に蒸着（ニクロムの場合）又はスパッタリング（窒化タンタルの場合）される。起爆薬混合物が、積極的に保持する接触器アセンブリによって、薄膜起爆素子に接した状態で収容されている。

Description

【発明の詳細な説明】 薄膜ブリッジ型起爆体及びその製造方法 発明の背景 薄膜ブリッジ型起爆体は、爆薬を起爆させるための作動装置として広く使用す ることができる。自動車の安全性自体に関しては、偶発的な衝突からの乗員の保 護対策が発展していて、シートベルトのプリテンショナ（予張力手段）及びエア バックのための火工技術作動型の圧力カートリッジが開発されている。より詳細 に言えば、本発明は、セラミック上に設けられていて火工物質を低エネルギで且 つ高速で機能させる薄膜抵抗素子を用いる、火工技術的な圧力カートリッジ又は 起爆体に関する。「薄膜抵抗素子」という用語は、本明細書においては、蒸発法 、スパッタリング法又は他の方法でセラミック又は他の被覆可能な材料に堆積さ れる、窒化タンタル又はニクロム（ニッケル／クロム）の如き任意の抵抗素子を 意味している。半導体ブリッジ、及び、伝統的なブリッジワイヤ装置は、多くの 点に関して満足すべきものであるが、以下の通り特徴づけられる下記の条件を総 て満足するものではない。すなわち、そのような条件とは、高速機能性（すなわ ち、電力を与えてから１００マイクロ秒よりも短い時間）、低エネルギ消費量（ すなわち、１ミリジュールよりも少ない）、極めて高い静電放電（ＥＳＤ）耐久 性（すなわち、０．１マイクロ秒の間に最大２４アンペアで１，１５０ワットの 消散）、及び、点火エネルギが与えられている間の非常に安定した抵抗である。 本明細書で言うところのＴＦＢとして知られる薄膜ブリッジは、電気的には抵 抗器と等価である。薄膜ブリッジは、オーム計すなわち電気抵抗計で測定した場 合に、その幾何学的形状（すなわち、抵抗要素の長さ、幅及び厚さ）によって決 定される値の読み値を示す。本回路の公称値は、２オームであるが、ブリッジの 幾何学的形状を変えることによって、他の適宜な値が可能である。抵抗の温度係 数は極めて小さい。すなわち、温度変動に伴うその抵抗変化は極く僅かである。 最後に、ｄ．ｃ．から数百メガヘルツまでのその抵抗は、反応成分が存在しない 状態において、安定している。要約すれば、ＴＦＢすなわち薄膜ブリッジは、極 めて安定で予測可能な簡単な電気部品であって、点火パルスの間に加熱する場合 でも、標準的な抵抗器として成形することができる。 エンドユーザにとっては、ＴＦＢは、火薬を点火させる時点まで、簡単な抵抗 器のように見える。低い点火電流においては、ブリッジの温度は、該抵抗ブリッ ジの融点に達する前に、火薬の発火温度に到達する。点火が起こり、ブリッジは 、反応により破壊されるか、あるいは、最終的には点火電流によって融解される （燃焼により開成される）。より高い点火電流においては、総ての発火領域にお いて、ブリッジの温度は、該抵抗ブリッジが蒸発する温度まで急激に上昇する。 そのような急激な温度上昇が生ずると、プラズマが火薬の中に放出されて、点火 プロセスを開始させる。 通常のブリッジワイヤの技術からＴＦＢまでの上記技術的な進歩の範囲内にお いて、１００マイクロ秒を機能時間の上限値として設定した。より詳細に言えば 、総ての感度テスト、及び、総ての点火の規格は、１００マイクロ秒（公称時間 を５０マイクロ秒として）よりも短い時間の間に火薬を点火する満足すべき起爆 に基づくものとする。下の表は、現在市販されている半導体ブリッジ（ＳＣＢ） 及び通常のブリッジワイヤ装置に対するＴＦＢの利点を明らかに示している。 本発明のＴＦＢに対するＳＣＢ及び熱線装置の比較 従来技術 従来技術の薄膜ブリッジに関する注目すべき例は、以下の通りである。 米国特許第３，６６９，０２２号（発明者：Dahn，et al.、発行日：１９７２ 年６月１３日）は、ヒューズ又は起爆開始機構として使用することのできる薄膜 ブリッジ装置（薄膜橋絡装置）を開示している。この装置は、チタン又はアルミ ニウムと橋絡された導電層の間に設けられた層状の薄膜構造を備えており、ＰＥ ＴＮ、ＲＤＸ、ＨＮＳ等の如き爆薬を起爆する用途に限定されている。 米国特許第４，４０９，８９８号（発明者：Blix，et al.、発行日：１９８３ 年１０月１８日）は、火砲弾薬と共に使用される電気的な点火器を開示している 。 米国特許第４，７０８，０６０号（発明者：Bickes，et al.、発行日：１９８ ７年１１月２４日）は、爆薬を点火するのに適した半導体系の点火器を開示して いる。この半導体ブリッジは、サファイア又はシリコンのウエーハにシリコンを ドープさせたものである。 米国特許第４，７２９，３１５号（発明者：Proffit，et al.、発行日：１９ ８８年３月８日）は、ブリッジ型起爆体を有する爆薬収容シェルを用いて、*** すなわち起爆装置を接続する方法を開示している。上記ブリッジ型起爆体を構成 するために使用されるプロセス工程は、ビームリード素子のための半導体処理に 使用されるプロセス工程と極めて類似している。上記素子は、ヘッダのスロット に固定することを必要とする。 米国特許第４，８１９，５６０号（発明者：Pats，et al.、発行日：１９８９ 年４月１１日）は、トランジスタ、電界効果トランジスタ、４層素子、ツエナー ダイオード、及び、発光素子の中の少なくとも１つの要素を含む起爆発火装置を 開示している。また、上記起爆発火装置は、この起爆発火装置の作動を制御する ための集積回路を必要とする。 米国特許第４，９２４，７７４号（発明者：Reiner Lenzen、発行日：１９９ ０年５月１５日）は、プラスチック材料又はポリ塩化ビニルから形成された出力 側のシースを有する、点火可能な火工技術的な伝送線を開示しており、この伝送 線は、エアバック・インフレータ又はシートベルト・プリテンショナを作動させ ることのできる半導体ブリッジによって作動される。 米国特許第４，９７６，２００号（発明者：Ｂenson，et al.、発行日：１９ ９０年１２月１１日）は、化学蒸着法を用いてシリコン又はサファイアの基板に 埋 め込まれたタングステン薄膜ブリッジ型の点火器を開示している。 国際特許公開９４／１９６６１（ＷＯ９４／１９６６１、発明者：Willis，et al.、公開日：１９９４年９月１日）は、真正シリコンにドープされたシリコン 又はタンタルの薄膜を用いた電気信管装置を製造して包装する方法を開示してい る。この方法は、更に、冗長な接続線を設け、メッキされた／充填されたスルー ホール（バイアとして知られている）をシリコンチップ自体を通して設ける工程 を含む。 発明の概要 今日市販されているものには見られないＥＳＤ耐久性を備えた、廉価で且つ高 速に機能する低エネルギ型の起爆体のアセンブリ及びその製造方法を、本発明が 提供することは、当業者には理解されよう。薄膜に基づく本発明の抵抗性の点火 器を作製する際には、スチフニン酸（ｓｔｙｐｈｎａｔｅ）系の物質を全く必要 としないことは注目すべきことである。２つの異なる抵抗素子組成物、すなわち 、ニクロム、及び、窒化タンタル（Ｔａ₂Ｎ）が本発明を特徴づける。予め選択 された抵抗性の組成物が、材料及びプロセスの優位性に応じて、アルミナ基板の 上に熱蒸着又はスパッタリングされ、ニクロムは、熱的に蒸着される。 本発明の製造方法においては、薄膜抵抗素子／抵抗器チップが、後に説明する ヘッダに取り付けられ、２又はそれ以上のアルミニウム導線によって、有効化回 路に接続される。標準的なマイクロ電子プロセスを用いて、約５０．８ｍｍ（２ ．０インチ）×約５０．８ｍｍ（２．０インチ）のウエーハが、互いに実質的に 同一の約９００個の上述の回路を形成する。本発明の目的に含まれるものは、複 数の並列的な機能、並びに、電気的な負荷の容易なモデリングを達成することで ある。また、火工技術的なガス発生器を組み立てるこの技術は、乾式又はスラリ ー状の火薬の装填技術に応用される。 本発明の薄膜ブリッジの点火作用の間の性能は、ブリッジの体積、ブリッジの その下のアルミナセラミックとの接触、及び、抵抗素子の表面の上に緊密に接触 する起爆薬混合物によって、影響を受ける。電流がブリッジ抵抗に作用した時に 、ブリッジの体積の中で加熱作用が生ずる。電力が、Ｉ²Ｒに従って発生される 。その後、ブリッジの温度は、任意の抵抗性加熱素子と同様に上昇し、与えられ た 点火電流に関する温度上昇は、ブリッジの質量及び比熱によって統御される。フ ォーマットを異なる表面積対体積の比に調節することにより、上記温度上昇を調 節して、種々の点火感度、並びに、電気的な危険性（例えば、静電放電、不点火 電流、及び、種々の無線周波数（ｒ．ｆ．）の暴露）に対する許容度を生じさせ ることができる。 後に説明するように、自動車用の安全装置に応用した場合の本発明の主要な目 的は、エアバック及び同様な安全装置の火工技術的なカートリッジを作動させる ために必要な点火時間及びエネルギ消費量を低減することである。 本発明の火工技術的な起爆体を製造してこれを利用する他の目的は、以下の事 項を含む。 ５００ピコファラッド（５，０００オームの抵抗器を通して２５キロボルトの 静電放電を行う）、及び、１５０ピコファラッド（３３０オームの抵抗器を通し て８キロボルトの静電放電を行う）に、測定可能な性能の低下を示すことなく合 格することにより証明される、ＥＳＤ耐久性を有する薄膜起爆体を形成する。 ニッケルあるいは他の拡散性物質をその構造に必要としないプリテンショナ・ カートリッジ又はエアバックのタイプの起爆体を選択的に提供する。 従来のブリッジワイヤ式の装置に適するプリテンショナ又はエアバックのタイ プの起爆体を選択的に提供する。 マイクロ電子産業において通常用いられる標準的な薄膜プロセスを用いて、総 てが実質的に同一の多くの薄膜ブリッジ型起爆回路を廉価に製造することのでき る、本発明の薄膜ブリッジ回路を製造する高度な方法を提供する。 スチフニン酸（ｓｔｙｐｈｎａｔｅ）系の物質を用いることを必要としない本 発明のプリテンショナ又はエアバックの起爆体を選択的に提供する。 ヘッダの直径に関係無く等しく良好に作動するプリテンショナ・カートリッジ 又はエアバックの起爆体を選択的に提供する。 低エネルギで再現性のある機能時間を提供し、商業的な発破及び油井に利用で きる用途を有するプリテンショナ又はエアバックの起爆体を選択的に提供する。 図面の説明 図１は、本発明に従って製造されたヘッダアセンブリを含む薄膜ブリッジ（Ｔ ＦＢ）型の火工技術的な圧力カートリッジの概略的な側面図である（図４参照） 。図１Ａは、上記圧力カートリッジのための有効化回路を概略的に示している。 図２は、本発明の薄膜抵抗素子の拡大断面図である。 図３は、従来技術の一般的な半導体ブリッジ（ＳＣＢ）の拡大断面図である。 図４は、薄膜抵抗素子／抵抗器チップの上記ヘッダアセンブリに対する取り付 けを示す平面図である。 図５は、図１と同様なＴＦＢの概略的な側面図であって、同軸状のヘッダアセ ンブリの変更例を示している。 好ましい実施例説明 図１は、積極的な火薬保持機構１１を備える薄膜ブリッジ（ＴＦＢ）型の火工 技術的なプリテンショナ・カートリッジを示している。このプリテンショナ・カ ートリッジは、本発明において、薄膜ブリッジから圧縮成形された起爆薬／爆薬 の混合物に起爆刺激を一定して上手く伝送するための要件である。 装填されたヘッダアセンブリ８の中の本発明の起爆薬／爆薬の混合物１２は、 ヒドロホウ酸塩系の物質を含んでいる。過塩素酸カリウム・チタンサブハイドラ イド（ＴｉＨ_1.65ＫＣｌＯ₄）、過塩素酸カリウムジルコニウム、及び、熱伝導 又は熱伝達を用いて起爆することのできる他の適宜な物質を用いることができる 。 従って、上記積極的な保持機構１１は、薄膜ブリッジ１から圧縮成形された起 爆薬／爆薬の混合物１２へ起爆刺激を一定して伝送するために必要である。上記 積極的な保持／圧縮力は、以下のように作用する。すなわち、起爆薬混合物１２ は、薄膜ブリッジ１、及び、導電体（図１ＡにピンＡ及びＢとして示す）１０の 回りで固化されている。種々の環境的な暴露を受ける間に、上記固化した起爆薬 混合物は、薄膜ブリッジ（ＴＦＢ）から浮き上がる傾向があり、これにより、積 極的な保持又は一定の圧縮力が必要となる。 この目的のために必要とされるコンパクタすなわち圧縮器は、積極的な保持装 置１３を備えており、この保持装置は、補助的な火薬プレート１４と圧縮プレー ト１５との間に保持された波形ワッシャのディスクである。後に示す実験１及び 実験２で証明されたように、どのような積極的な保持でもそのような保持を行わ ないよりも好ましく、上記波形ワッシャのコンパクタ１３は、最適な圧縮力を与 える。従って、爆薬混合物とブリッジ型抵抗素子１との間の密接した関係を維持 するための上記積極的且つ連続的な圧縮力の存在により、起爆エネルギの信頼性 の高い伝達、及び、再現性のある点火特性が確実に得られる。 火工技術的な圧力カートリッジは、装填されたヘッダアセンブリ８を含んでお り、このヘッダアセンブリを通って導電性のピンが伸長している（図１Ａ参照） 。これらピンＡ、Ｂは、薄膜抵抗ブリッジ（ＦＲＢ）１と接触して、１．８０− ２．４０オームの抵抗を形成している。薄膜抵抗素子１及びヘッダアセンブリ８ を示す図４も同時に参照されたい。 図２は、代表的な薄膜抵抗素子（ＦＲＢ）１の拡大断面図である。ベース基板 ／セラミックウエーハ２は、一般的に、約０．６３５ｍｍ（０．０２５インチ） の厚さを有していて、微細な又は超微細なＡｌ₂Ｏ₃から形成されている。製造方 法における第１の工程は、選択した抵抗層１のスパッタリング又は熱蒸着を行っ て、正方形当たり０．１乃至２０オームの面積抵抗率を達成することである。ニ クロムを９９．６％の純度のＡｌ₂Ｏ₃の基板の上に熱的に蒸着させる。別の選択 を行う場合には、窒化タンタル（Ｔａ₂Ｎ）を約０．６３５ｍｍ（０．０２５イ ンチ）の厚さのアルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）の上にスパッタリングする。上記スパッタ リングプロセス又は蒸着プロセスの間に、約０．０１５乃至５．０８ミクロン（ ０．６乃至２００マイクロインチ）程度の純金の種層３も同様に付与される。次 に、金又は他の適宜な金属（例えば、アルミニウムの導線１０と接合することの できるアルミニウム又は白金の如き金属）から成る最終層４を外部のアルミニウ ムピン／ワイヤボンディングを支持するに必要な厚さまで電気メッキする。その 後、メッキされた上記基板に一連の光露光（フォトリソグラフィー）及びエッチ ングのプロセスを施して、望ましくない材料を除去し、これにより、複数の完成 された抵抗素子から成るウエーハを得る。次に、該ウエーハをサイコロ状に切断 し、例えば図４に示すように、適宜なヘッダアセンブリ８に取り付けてワイヤボ ンディングすることができる。上記ヘッダアセンブリの直径を変えて、種々の用 途に適合するようにすることができるということが重要な点である。 図３は、従来技術の代表的な半導体ブリッジ（ＳＣＢ）の拡大断面図である。 ＳＣＢを製造するプロセスの出発材料は、厚さが２マイクロメートル程度の薄い 真正シリコンの膜５から構成されており、この真正シリコンの膜は、約５００マ イクロメートルの厚さのサファイア又は単結晶シリコンのウエーハ６の上にエピ タキシャル成長されたものである。ＳＣＢを製造する第１の工程は、上記薄いシ リコン膜５を均一にドープして、所望の導電率又は抵抗率を得る工程である。上 記ドーピングプロセスは、一般的に、ある高い温度で種々の不純物を拡散させる 工程と、その後、スパッタリング法又は蒸着法によって、ボンディング層（一般 的にはアルミニウム）７を予めドープされたシリコン膜５の上に形成する工程と を含む。通常、上記ウエーハに一連の光露光又はエッチングの工程を施して、望 ましくない材料を除去し、これにより、複数の完成された半導体ブリッジから成 るウエーハを得る。このウエーハをサイコロ状に切断して、次のより上位のアセ ンブリに取り付けてワイヤボンディングすることができる。上記技術の大きな欠 点は、加熱の間に抵抗値が大きく変動することである。ブリッジの抵抗は、一般 的に、その初期値の二倍であり、その後、ブリッジの融点に到達する際には、そ の初期値のほぼ半分になる。 これとは対照的に、選択的なニクロム及び窒化タンタルの薄膜ブリッジは、加 熱した場合に、極めて安定な抵抗を有している。同様に、多数の装置を共通のエ ネルギ源によって容易に点火させることができ、全体的な抵抗負荷を任意の時点 で容易に予測することができる。 図４は、抵抗薄膜１をエポキシ９又は共融手段によってヘッダアセンブリ８の 表面に取り付けた状態を示している。薄膜ブリッジを接続するために使用する導 体１０は、約０．０２５ｍｍ（０．００１インチ）乃至約０．５０８ｍｍ（０． ０２０インチ）の直径を有する単数又は複数のアルミニウムである。これら導体 を基板に取り付ける好ましい方法は、例えば、超音波ワイヤボンディング法であ る。本発明においては、上記ワイヤボンディングを十分に低い温度にして、金属 間空隙の形成を防止し、これにより、基板パッドの境界面に対する結合を弱くし ないようにすることが重要である。 図５は、図１に示し上に説明したヘッダアセンブリ８の同軸状の変更例を示し ている。右側の導電ピンＡは、金属ヘッダ８を通じて、接地されている状態で示 されており、この導電ピンの密閉された端部は、誘電体すなわちガラスに埋め込 まれている。 本発明の好ましい記述に従って、以下の実験を行った。 実験１ シリコーンゴムの圧縮パッドの構造、凹所を有するマグネシウムの蓋の構造、 及び、波形ワッシャの構造を含む種々の積極的な保持機構の効果を証明するため に、実験を行った。上述の積極的な保持構造を有する複数のグループの圧力カー トリッジを製造し、−１２°Ｃと＋９０°Ｃとの間の温度衝撃を２００回繰り返 し与えた。下の表は、そのような種々の構造を有する薄膜ブリッジが焼き切れる すなわち断線するバーンアウト時間を示している。 実験２ −６５°Ｃと＋１２５°Ｃとの間の温度衝撃を２５回繰り返し与えたことを除 いて、上記実験１と同様な実験２を行った。その結果を下の表に示す。 上記実験は、積極的な保持機構を適所に設けない場合には、ブリッジのバーン アウト（焼き切れ）によって決定される機能時間は、約５０％長く、起爆の失敗 が生ずることがあることを示している。 補足実験 幾つかの追加の実験を、ニクロム又は窒化タンタルの抵抗素子を有する薄膜ブ リッジ（ＴＦＢ）、及び、種々の半導体ブリッジ（ＳＣＢ）に関して行った。尚 、これらブリッジは総て、２オームの公称範囲にあった。ドーパントとしてリン を使用したＳＣＢをサファイア及びシリコンの基板の上で評価した。このＳＣＢ は、ＥＳＤ耐久性を有するように形成されたブリッジの幾何学的形状を有してい た。その結果を、現在商業的に入手可能な代表的な幾つかの熱線装置の場合と比 較して、下の表に示す。 上記構造１Ａは、２５ｋＶまで充電され、その後、５キロオームの抵抗器を通 じて試験片に放電された、５００ピコファラッドのコンデンサを示している。放 電スイッチは、接近した２つの金属球として形成されている。 構造２Ｂは、８ｋＶまで充電され、その後、３３０オームの抵抗器を通じて試 験片に放電された、１５０ピコファラッドのコンデンサを示しており、このコン デンサは、構造１Ａと同様の放電スイッチを有している。 上述の教示内容に基づいて、本発明の多くの変更例及び変形例を考えることが できる。例えば、上に説明した本発明の用途は、（自動車用安全装置に加えて） 商業用航空機、並びに、低エネルギで小型の点火装置、並びに、再現性のある高 速の機能時間が求められている、商業的な発破及び油井での利用に拡張される。 従って、本発明者等は、上で使用した用語は、本発明の好ましい実施例を例示的 に説明するためのものであって、本発明の範囲を限定するものではないと認識し ている。使用される参照符号は、単に便宜上のものであって何等制限的な意味を もたない添付の請求の範囲に記載の範囲内において、当業者は、上述の特定の形 態以外の形態で本発明を実施することができる。 従って、本発明の範囲は、以下の請求の範囲の記載によって規定されるもので ある。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲイリー・ディー・モラン アメリカ合衆国カリフォルニア州95023, ホリスター，センベリン・ドライブ 1550

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． プリテンショナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体の中の火工物質 に接した状態で付与される、エネルギ消費量が少なく高速で機能する薄膜ブリッ ジ型起爆回路であって、 （ａ） 約０．６３５ｍｍ（０．０２５インチ）の公称厚さを有するセラミッ ク製すなわちアルミナ製の基板（２）と、 （ｂ） 該基板に積層された薄膜ブリッジとを備えており、 該薄膜ブリッジは、 （ｂ１）予め選択された交互の金属系組成から成り、他の金属層に橋絡 されている、１乃至２ミクロンの厚さの抵抗層（１）と、 （ｂ２）０．０１５ミクロン（０．６マイクロインチ）乃至約５．０８ ミクロン（２００マイクロインチ）の厚さまで前記抵抗層（１）の上に熱的に蒸 着された第１の膜すなわち金の種層（３）と、 （ｂ３）対向する前記第１の膜の上に電気メッキされた、金、白金又は アルミニウムの如き金属から成る厚い第２の膜とを有しており、 当該薄膜ブリッジ型起爆回路は、更に、 （ｃ） 導電体（１０）によって前記抵抗層（１）に接続された電源手段を備 えていることを特徴とする薄膜ブリッジ型起爆回路。 ２． 請求項１に記載の薄膜ブリッジ型起爆回路において、前記抵抗層（１） はニクロムであり、該抵抗層は、前記基板（２）の上に熱的に蒸着されているこ とを特徴とする薄膜ブリッジ型起爆回路。 ３． 請求項２に記載の薄膜ブリッジ型起爆回路において、前記抵抗層（１） の面積抵抗率が、０．１乃至２０オーム／平方であることを特徴とする薄膜ブリ ッジ型起爆回路。 ４． 請求項１に記載の薄膜ブリッジ型起爆回路において、前記抵抗層（１） は、窒化タンタルであり、該抵抗層は、前記基板（２）の上にスパッタリングさ れていることを特徴とする薄膜ブリッジ型起爆回路。 ５． 請求項４に記載の薄膜ブリッジ型起爆回路において、前記抵抗層（１） の面積抵抗率が、０．１乃至２０オーム／平方であることを特徴とする薄膜ブリ ッジ型起爆回路。 ６． 請求項１の薄膜ブリッジ型起爆回路を備える火工技術的なプリテンショ ナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体であって、前記導電体（１０）の一方 を前記薄膜ブリッジに接続する誘電体の接地手段（９’）を含むことを特徴とす る火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体。 ７． 請求項６に記載の火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエア バックの起爆体において、前記接地手段がガラスから構成されていることを特徴 とする火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体。 ８． 以下の（ａ）から（ｄ）の構成要素を備えたことを特徴とする火工技術 的なプリテンショナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体：、 （ａ） 装填されたヘッダアセンブリ（８）：このヘッダアセンブリは、対向 する導電体（１０）を固定しており、前記導電体は、エポキシ又は共融手段（９ ）によって、当該ヘッダアセンブリに接合されていて、０．１乃至２０オーム／ 平方の面積抵抗率を有する抵抗層（１）を含む積層された薄膜ブリッジに接触し ている； （ｂ） 起爆薬混合物（１２）：この起爆薬混合物は、積極的に保持するコン パクタアセンブリ（１１）に収容されており、該コンパクタアセンブリは、収容 された火薬を保持する保持装置（１３）を含んでおり、該保持装置は、補助的な 火薬プレート（１４）と圧縮プレート（１５）との間に設けられている； （ｃ） 出力シェル（１１’）：この出力シェルは、前記ヘッダアセンブリ（ ８）に接続されていると共に、前記起爆薬混合物（１２）と協働するように位置 決めされている爆薬（１２’）の出力装填物を収容している； （ｄ） 電源：この電源は、前記抵抗層（１）に接続されている。 ９． 請求項８に記載の火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエア バックの起爆体であって、前記導電体（１０）の一方を前記薄膜ブリッジに接続 する誘電体の接地手段（９’）を備えることを特徴とする火工技術的なプリテン ショナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体。 １０． 請求項９に記載の火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエア バックの起爆体において、前記接地手段は、ガラスから構成されていることを特 徴とする火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体。 １１． 請求項８に記載の火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエア バックの起爆体において、 （ａ）約０．６３５ｍｍ（０．０２５インチ）の公称厚さを有するセラミック 製すなわちアルミナ製の基板（２）と、 （ｂ）予め選択された交互の金属系組成から成り、他の接合された金属膜に橋 絡されている、１乃至２ミクロンの厚さの抵抗層（１）と、 （ｃ）０．０１５ミクロン（０．６マイクロインチ）乃至約５．０８ミクロン （２００マイクロインチ）の厚さまで前記抵抗層（１）の上に熱的に蒸着された 金から成る第１の膜（種層）（３）と、 （ｄ）該第１の金の膜の上に電気メッキされた金のプレートから成る膜（４） とを備えることを特徴とする火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエ アバックの起爆体。 １２． 請求項１１に記載の火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエ アバックの起爆体において、前記抵抗層（１）がニクロムであることを特徴とす る火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体。 １３． 請求項１１に記載の火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエ アバックの起爆体において、前記抵抗層（１）が窒化タンタルであることを特徴 とする火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体。 １４． 請求項８に記載の火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエア バックの起爆体において、前記起爆薬混合物（１２）は、発火することのできる ヒドロホウ素系の組成を含むことを特徴とする火工技術的なプリテンショナ・カ ートリッジ又はエアバックの起爆体。 １５． 請求項１１に記載の火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエ アバックの起爆体において、前記起爆薬混合物（１２）は、発火することのでき るヒドロホウ素系の組成を含むことを特徴とする火工技術的なプリテンショナ・ カートリッジ又はエアバックの起爆体。 １６． 請求項１１に記載の火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエ アバックの起爆体において、前記導電体（１０）の一方を前記薄膜ブリッジに接 続する誘電体の接地手段（９’）を備えることを特徴とする火工技術的なプリテ ンショナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体。 １７． 請求項１６に記載の火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエ アバックの起爆体において、前記接地手段がガラスから構成されていることを特 徴とする火工技術的なプリテンショナ・カートリッジ又はエアバックの起爆体。