JP2000337377A - ステージ装置 - Google Patents
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- JP2000337377A JP2000337377A JP11153101A JP15310199A JP2000337377A JP 2000337377 A JP2000337377 A JP 2000337377A JP 11153101 A JP11153101 A JP 11153101A JP 15310199 A JP15310199 A JP 15310199A JP 2000337377 A JP2000337377 A JP 2000337377A
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
- F16C29/02—Sliding-contact bearings
- F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/06—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings
- F16C32/0603—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
- Bearings For Parts Moving Linearly (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の空気案内軸受では、固定部と可動部と
の間に異物が挟まり、可動部の移動が阻害されてステー
ジ装置が動作不良を起こす可能性がある。 【解決手段】 案内面15aを有する固定部17Aと、
案内面15aに案内される被案内面15bを有しこの被
案内面15bに設けられた吹出孔15cから案内面15
aに向けて気体を吹き出すことで案内面15aとの間に
空隙を形成する可動部17Bとを有する空気案内軸受に
ついて、可動部17Bに、案内面15a上の異物を吸い
込む異物除去機構27を設ける。異物除去機構27を作
動させた状態で可動部17Bを移動させると、案内面1
5a上に存在する異物が吸い込まれて除去される。
の間に異物が挟まり、可動部の移動が阻害されてステー
ジ装置が動作不良を起こす可能性がある。 【解決手段】 案内面15aを有する固定部17Aと、
案内面15aに案内される被案内面15bを有しこの被
案内面15bに設けられた吹出孔15cから案内面15
aに向けて気体を吹き出すことで案内面15aとの間に
空隙を形成する可動部17Bとを有する空気案内軸受に
ついて、可動部17Bに、案内面15a上の異物を吸い
込む異物除去機構27を設ける。異物除去機構27を作
動させた状態で可動部17Bを移動させると、案内面1
5a上に存在する異物が吸い込まれて除去される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、加工対象物を位置
決めするためのステージ装置に関するものである。
決めするためのステージ装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体素子等を製造する露光装置、マス
クや半導体素子等の検査を行う検査装置、不良が発見さ
れた半導体素子等について不良個所を修復するレーザ加
工装置等には、加工対象物を所定位置に移動させて位置
決めするためのステージ装置が具備されている。
クや半導体素子等の検査を行う検査装置、不良が発見さ
れた半導体素子等について不良個所を修復するレーザ加
工装置等には、加工対象物を所定位置に移動させて位置
決めするためのステージ装置が具備されている。
【0003】ステージ装置は、一般に、直交する二方向
(X,Y方向)にそれぞれ移動可能なXステージおよび
Yステージを備えており、これらをそれぞれ駆動するこ
とで加工対象物をXY平面上のあらゆる場所に配置する
ことができるようになっている。
(X,Y方向)にそれぞれ移動可能なXステージおよび
Yステージを備えており、これらをそれぞれ駆動するこ
とで加工対象物をXY平面上のあらゆる場所に配置する
ことができるようになっている。
【0004】ところで、高速かつ高精度な位置決めを実
現するために、近年では空気案内軸受を用いたステージ
装置が採用されている。このようなステージ装置に用い
られる空気案内軸受は、可動部と固定部との間に一定の
静圧を有する空気の層を形成し、可動部と固定部との間
に空隙を設けることで可能な限り両者間の抵抗を抑える
ようにしたものであり、これによって可動部を高速かつ
円滑に移動できるようになっている。
現するために、近年では空気案内軸受を用いたステージ
装置が採用されている。このようなステージ装置に用い
られる空気案内軸受は、可動部と固定部との間に一定の
静圧を有する空気の層を形成し、可動部と固定部との間
に空隙を設けることで可能な限り両者間の抵抗を抑える
ようにしたものであり、これによって可動部を高速かつ
円滑に移動できるようになっている。
【0005】従来の空気案内軸受の構造を図9に示す。
図において、符号1は案内面1aを有する固定部、2は
固定部1に沿って移動可能な可動部、3は可動部2に対
し圧縮空気を供給する供給源、4は可動部2を駆動する
駆動機構、5は供給源3から可動部2に供給される空気
中の塵を除去するエアクリーナ、6は供給源3から可動
部2に供給される空気の圧力を調整する調圧弁である。
図において、符号1は案内面1aを有する固定部、2は
固定部1に沿って移動可能な可動部、3は可動部2に対
し圧縮空気を供給する供給源、4は可動部2を駆動する
駆動機構、5は供給源3から可動部2に供給される空気
中の塵を除去するエアクリーナ、6は供給源3から可動
部2に供給される空気の圧力を調整する調圧弁である。
【0006】可動部2は、供給源3から供給される圧縮
空気を案内面1aに向けて吹き出すようになっており、
供給源3から可動部2に対して圧縮空気を供給すると、
可動部2が案内面1aから浮上して一定の静圧を有する
空気の層が形成され、これによって固定部1と可動部2
との間に空隙が生まれる。通常、この空隙の大きさは数
μm程度と非常に小さく設定される。
空気を案内面1aに向けて吹き出すようになっており、
供給源3から可動部2に対して圧縮空気を供給すると、
可動部2が案内面1aから浮上して一定の静圧を有する
空気の層が形成され、これによって固定部1と可動部2
との間に空隙が生まれる。通常、この空隙の大きさは数
μm程度と非常に小さく設定される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な従来の空気案内軸受では、固定部1と可動部2との間
の空隙が非常に小さく設定されているため、この空隙に
それ以上に大きな径の異物が挟まれると、可動部の移動
が阻害されてステージ装置が動作不良を起こしたり、軸
受自体を破損に至らしめる可能性がある。
な従来の空気案内軸受では、固定部1と可動部2との間
の空隙が非常に小さく設定されているため、この空隙に
それ以上に大きな径の異物が挟まれると、可動部の移動
が阻害されてステージ装置が動作不良を起こしたり、軸
受自体を破損に至らしめる可能性がある。
【0008】このように、空気軸受は異物の侵入に対し
て弱いという問題がある。そこで、従来はステージ装置
を備える上記各装置をクリーン度を高めたチャンバ内に
設置して異物の侵入を防止しているが、例えばウェハの
かけらや装置の機構部等から発生する金属片、チャンバ
内に設置した装置から発生する異物については対処され
ていないのが現状である。
て弱いという問題がある。そこで、従来はステージ装置
を備える上記各装置をクリーン度を高めたチャンバ内に
設置して異物の侵入を防止しているが、例えばウェハの
かけらや装置の機構部等から発生する金属片、チャンバ
内に設置した装置から発生する異物については対処され
ていないのが現状である。
【0009】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、案内面上の異物を除去することで空気案内軸受
の安定した作動状態を確保することが可能なステージ装
置を提供することを目的としている。
であり、案内面上の異物を除去することで空気案内軸受
の安定した作動状態を確保することが可能なステージ装
置を提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する第
1の手段として採用されるステージ装置は、図3に示す
ように、案内面(15a)を有するガイド部材(17
A)と、案内面(15a)に案内される被案内面(15
b)を有しこの被案内面(15b)に設けられた吹出孔
(15c)から案内面(15a)に向けて気体を吹き出
すことで案内面(15a)との間に空隙を形成する被ガ
イド部材(17B)とを有するステージ本体(15)を
備えており、被ガイド部材(17B)には、案内面(1
5a)上の異物を吸い込む吸引手段(27)が設けられ
ることを特徴とする。
1の手段として採用されるステージ装置は、図3に示す
ように、案内面(15a)を有するガイド部材(17
A)と、案内面(15a)に案内される被案内面(15
b)を有しこの被案内面(15b)に設けられた吹出孔
(15c)から案内面(15a)に向けて気体を吹き出
すことで案内面(15a)との間に空隙を形成する被ガ
イド部材(17B)とを有するステージ本体(15)を
備えており、被ガイド部材(17B)には、案内面(1
5a)上の異物を吸い込む吸引手段(27)が設けられ
ることを特徴とする。
【0011】このステージ装置においては、吸引手段
(27)を作動させた状態でガイド部材(17A)に沿
って被ガイド部材(17B)を移動させると、案内面
(15a)上に存在する異物が吸引手段(27)に吸い
込まれて除去される。これにより、被ガイド部材(17
B)の移動が異物に阻まれることなく円滑に行えるよう
になる。
(27)を作動させた状態でガイド部材(17A)に沿
って被ガイド部材(17B)を移動させると、案内面
(15a)上に存在する異物が吸引手段(27)に吸い
込まれて除去される。これにより、被ガイド部材(17
B)の移動が異物に阻まれることなく円滑に行えるよう
になる。
【0012】上記の課題を解決する第2の手段として採
用されるステージ装置は、図5に示すように、案内面
(15a)を有するガイド部材(17A)と、案内面
(15a)に案内される被案内面(15b)を有しこの
被案内面(15b)に設けられた第1の吹出孔(15
c)から案内面(15c)に向けて気体を吹き出すこと
で案内面(15a)との間に空隙を形成する被ガイド部
材(17B)とを有するステージ本体(15)を備えて
おり、被ガイド部材(17B)には、案内面(15a)
に向けて気体を吹き出して案内面(15a)上の異物を
吹き飛ばす吹出手段(35)が設けられることを特徴と
している。
用されるステージ装置は、図5に示すように、案内面
(15a)を有するガイド部材(17A)と、案内面
(15a)に案内される被案内面(15b)を有しこの
被案内面(15b)に設けられた第1の吹出孔(15
c)から案内面(15c)に向けて気体を吹き出すこと
で案内面(15a)との間に空隙を形成する被ガイド部
材(17B)とを有するステージ本体(15)を備えて
おり、被ガイド部材(17B)には、案内面(15a)
に向けて気体を吹き出して案内面(15a)上の異物を
吹き飛ばす吹出手段(35)が設けられることを特徴と
している。
【0013】このステージ装置においては、吹出手段
(35)を作動させた状態でガイド部材(17A)に沿
って被ガイド部材(17B)を移動させると、案内面
(15a)上に存在する異物が吹出手段(35)によっ
て吹き飛ばされる。これにより、被ガイド部材(17
B)の移動が異物に阻まれることなく円滑に行えるよう
になる。
(35)を作動させた状態でガイド部材(17A)に沿
って被ガイド部材(17B)を移動させると、案内面
(15a)上に存在する異物が吹出手段(35)によっ
て吹き飛ばされる。これにより、被ガイド部材(17
B)の移動が異物に阻まれることなく円滑に行えるよう
になる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明に係るステージ装置の第1
実施形態を図1ないし図4に示して説明する。図1は本
発明のステージ装置を採用したレーザ加工装置を示して
いる。レーザ加工装置は、レーザ光を集光させて微細加
工を行う装置であり、半導体素子の製造プロセスにおい
ては特にヒューズ(冗長回路)を切断する際に用いられ
る。図において、符号10はレーザ発生装置、11は反
射鏡、12は対物レンズ、13は加工対象物としてのウ
ェハWを載置するウェハステージ、14はウェハステー
ジ13上に載置されたウェハWを直交する二方向すなわ
ち図中に示すX,Y方向に移動させるXYステージ(ス
テージ装置)である。これらの各構成要素はすべてチャ
ンバC内に収納されている。
実施形態を図1ないし図4に示して説明する。図1は本
発明のステージ装置を採用したレーザ加工装置を示して
いる。レーザ加工装置は、レーザ光を集光させて微細加
工を行う装置であり、半導体素子の製造プロセスにおい
ては特にヒューズ(冗長回路)を切断する際に用いられ
る。図において、符号10はレーザ発生装置、11は反
射鏡、12は対物レンズ、13は加工対象物としてのウ
ェハWを載置するウェハステージ、14はウェハステー
ジ13上に載置されたウェハWを直交する二方向すなわ
ち図中に示すX,Y方向に移動させるXYステージ(ス
テージ装置)である。これらの各構成要素はすべてチャ
ンバC内に収納されている。
【0015】レーザ発生装置10には半導体レーザ励起
固体レーザが採用されており、レーザ発生装置10から
射出されたレーザ光は、図示しない光量調整機構、ビー
ム径調整機構等を経たのち反射鏡11によって反射さ
れ、対物レンズ12を通じてウェハWの表面に照射され
るようになっている。
固体レーザが採用されており、レーザ発生装置10から
射出されたレーザ光は、図示しない光量調整機構、ビー
ム径調整機構等を経たのち反射鏡11によって反射さ
れ、対物レンズ12を通じてウェハWの表面に照射され
るようになっている。
【0016】XYステージ14は、ウェハステージ13
上のウェハWを±X方向に案内する第1の空気案内軸受
(ステージ本体)15と、ウェハWを±Y方向に案内す
る第2の空気案内軸受(ステージ本体)16とを備えて
いる。
上のウェハWを±X方向に案内する第1の空気案内軸受
(ステージ本体)15と、ウェハWを±Y方向に案内す
る第2の空気案内軸受(ステージ本体)16とを備えて
いる。
【0017】第1の空気案内軸受15は、X方向に延在
する案内面15aを有する固定部(ガイド部材)17A
と、案内面15aに案内される被案内面15b(図1で
は図示略)を有し案内面15aに沿って±X方向に移動
自在に支持された可動部(被ガイド部材)17Bと、可
動部17Bを±X方向に駆動するリニアモータ18とを
備えている。
する案内面15aを有する固定部(ガイド部材)17A
と、案内面15aに案内される被案内面15b(図1で
は図示略)を有し案内面15aに沿って±X方向に移動
自在に支持された可動部(被ガイド部材)17Bと、可
動部17Bを±X方向に駆動するリニアモータ18とを
備えている。
【0018】固定部17Aは平行に離間する2本のレー
ル19,19を有し、これら2本のレール19,19を
X方向に向けて定盤B上に固定されており、案内面15
aは各レール19の上面とこれに隣り合う外側面に形成
されている。
ル19,19を有し、これら2本のレール19,19を
X方向に向けて定盤B上に固定されており、案内面15
aは各レール19の上面とこれに隣り合う外側面に形成
されている。
【0019】可動部17Bはレール19,19を両側方
から抱き込むようにして固定部17Aと組み合わされて
いる。被案内面15bは案内面15aと向き合うように
可動部17Bの下面に形成されており、さらに被案内面
15bには後述する圧縮空気供給機構23から供給され
る圧縮空気を案内面15aに向けて吹き出す吹出孔(第
1の吹出孔、図1では図示略)15cが設けられてい
る。
から抱き込むようにして固定部17Aと組み合わされて
いる。被案内面15bは案内面15aと向き合うように
可動部17Bの下面に形成されており、さらに被案内面
15bには後述する圧縮空気供給機構23から供給され
る圧縮空気を案内面15aに向けて吹き出す吹出孔(第
1の吹出孔、図1では図示略)15cが設けられてい
る。
【0020】リニアモータ18は、固定部17Aに固定
された固定子18Aと、可動部17Bに固定された可動
部18Bとを備えている。固定子18Aはレール19,
19間に固定され、可動子18BはX方向に延在する固
定子18Aに上方から組み合わされる形で可動部17B
の下面に固定されている。
された固定子18Aと、可動部17Bに固定された可動
部18Bとを備えている。固定子18Aはレール19,
19間に固定され、可動子18BはX方向に延在する固
定子18Aに上方から組み合わされる形で可動部17B
の下面に固定されている。
【0021】第2の空気案内軸受16は、Y方向に延在
する案内面16aを有する固定部(ガイド部材)20A
と、案内面16aに案内される被案内面(図示略)を有
し案内面16aに沿って±Y方向に移動自在に支持され
た可動部(被ガイド部材)20Bと、可動部20Bを±
Y方向に駆動するリニアモータ21とを備えている。
する案内面16aを有する固定部(ガイド部材)20A
と、案内面16aに案内される被案内面(図示略)を有
し案内面16aに沿って±Y方向に移動自在に支持され
た可動部(被ガイド部材)20Bと、可動部20Bを±
Y方向に駆動するリニアモータ21とを備えている。
【0022】固定部20Aは平行に離間する2本のレー
ル22,22を有し、これら2本のレール22,22を
Y方向に向けて第1の空気案内軸受15の可動部17B
上に固定されており、案内面16aは各レール22の上
面とこれに隣り合う外側面に形成されている。
ル22,22を有し、これら2本のレール22,22を
Y方向に向けて第1の空気案内軸受15の可動部17B
上に固定されており、案内面16aは各レール22の上
面とこれに隣り合う外側面に形成されている。
【0023】可動部20Bはレール22,22を両側方
から抱き込むようにして固定部20Aと組み合わされて
いる。被案内面16bは案内面16aと向き合うように
可動部20Bの下面に形成されており、さらに被案内面
15bには後述する圧縮空気供給機構23から供給され
る圧縮空気を案内面16aに向けて吹き出す吹出孔(図
示略)が設けられている。
から抱き込むようにして固定部20Aと組み合わされて
いる。被案内面16bは案内面16aと向き合うように
可動部20Bの下面に形成されており、さらに被案内面
15bには後述する圧縮空気供給機構23から供給され
る圧縮空気を案内面16aに向けて吹き出す吹出孔(図
示略)が設けられている。
【0024】リニアモータ21は、固定部20Aに固定
された固定子21Aと、可動部20Bに固定された可動
部21Bとを備えている。固定部21Aはレール22,
22間に固定され、可動子21BはY方向に延在する固
定子21Aに上方から組み合わされる形で可動部20B
の下面に固定されている。
された固定子21Aと、可動部20Bに固定された可動
部21Bとを備えている。固定部21Aはレール22,
22間に固定され、可動子21BはY方向に延在する固
定子21Aに上方から組み合わされる形で可動部20B
の下面に固定されている。
【0025】第1の空気案内軸受15には、固定部17
Aと可動部17Bとの間に空気の層を形成するための圧
縮空気供給機構23が設けられている。圧縮空気供給機
構23は、可動部17Bに対し圧縮空気を供給する供給
源24と、供給源24から可動部17Bに供給される圧
縮空気中の塵を除去するエアクリーナ25と、可動部1
7Bに供給される圧縮空気の圧力を調整する調圧弁26
とを備えており、供給源24から供給される圧縮空気を
可動部17Bに設けられた吹出孔15cから案内面15
aに向けて吹き出すようになっている。また、第2の空
気案内軸受16にも同じ構造の圧縮空気供給機構が設け
られており、案内面16aに向けて圧縮空気を吹き出し
て固定部20Aと可動部20Bとの間に空気の層を形成
するようになっている。なお、これについての詳細な説
明は省略する。
Aと可動部17Bとの間に空気の層を形成するための圧
縮空気供給機構23が設けられている。圧縮空気供給機
構23は、可動部17Bに対し圧縮空気を供給する供給
源24と、供給源24から可動部17Bに供給される圧
縮空気中の塵を除去するエアクリーナ25と、可動部1
7Bに供給される圧縮空気の圧力を調整する調圧弁26
とを備えており、供給源24から供給される圧縮空気を
可動部17Bに設けられた吹出孔15cから案内面15
aに向けて吹き出すようになっている。また、第2の空
気案内軸受16にも同じ構造の圧縮空気供給機構が設け
られており、案内面16aに向けて圧縮空気を吹き出し
て固定部20Aと可動部20Bとの間に空気の層を形成
するようになっている。なお、これについての詳細な説
明は省略する。
【0026】さらに、第1の空気案内軸受15には、図
2に示すように、案内面15a上に存在する異物を吸い
込んで除去する異物除去機構(吸引手段)27が設けら
れている。異物除去機構27は、案内面15a近傍の空
気を吸引する真空源28と、真空源28に吸引される空
気中の異物や塵を除去するエアクリーナ29と、真空源
28による吸引動作を必要に応じて断続する電磁弁30
とを備えており、図示しない制御装置により電磁弁30
を開放し、可動部17Bに設けられた吸引ノズル31を
通じて異物を吸引除去してエアクリーナ29に捕えるよ
うになっている。
2に示すように、案内面15a上に存在する異物を吸い
込んで除去する異物除去機構(吸引手段)27が設けら
れている。異物除去機構27は、案内面15a近傍の空
気を吸引する真空源28と、真空源28に吸引される空
気中の異物や塵を除去するエアクリーナ29と、真空源
28による吸引動作を必要に応じて断続する電磁弁30
とを備えており、図示しない制御装置により電磁弁30
を開放し、可動部17Bに設けられた吸引ノズル31を
通じて異物を吸引除去してエアクリーナ29に捕えるよ
うになっている。
【0027】吸引ノズル31は、X方向に離間する可動
部17Bの両端面に、可動部17Bの移動方向前方すな
わち+X方向、−X方向にそれぞれ突出しかつレール1
9の上面および外側面に形成された案内面15aに向け
てそれぞれ設けられており、吸引ノズル31の先端に
は、案内面15aの幅にほぼ等しい幅広の吸込口32が
設けられている。第2の空気案内軸受16にも同じ構造
の異物除去機構が設けられており、案内面16a上に存
在する異物を吸込口33を通じて吸引除去するようにな
っている(説明は省略)。
部17Bの両端面に、可動部17Bの移動方向前方すな
わち+X方向、−X方向にそれぞれ突出しかつレール1
9の上面および外側面に形成された案内面15aに向け
てそれぞれ設けられており、吸引ノズル31の先端に
は、案内面15aの幅にほぼ等しい幅広の吸込口32が
設けられている。第2の空気案内軸受16にも同じ構造
の異物除去機構が設けられており、案内面16a上に存
在する異物を吸込口33を通じて吸引除去するようにな
っている(説明は省略)。
【0028】上記のように構成されたレーザ加工装置で
は、稼動を開始する前にイニシャル動作として各可動部
17B,20Bが固定部17A,20Aに沿ってフルス
トローク分往復移動するが、これと同時に、稼動を停止
している間に案内面15a,16a上に落ちた異物を取
り除くために異物除去機構27が作動する。以下では、
第1の空気案内軸受15においてイニシャル動作と並行
して実施される異物除去処理を図3を参照して説明す
る。
は、稼動を開始する前にイニシャル動作として各可動部
17B,20Bが固定部17A,20Aに沿ってフルス
トローク分往復移動するが、これと同時に、稼動を停止
している間に案内面15a,16a上に落ちた異物を取
り除くために異物除去機構27が作動する。以下では、
第1の空気案内軸受15においてイニシャル動作と並行
して実施される異物除去処理を図3を参照して説明す
る。
【0029】まず、イニシャル動作として調圧弁26が
開かれ、所定の圧力の圧縮空気が吹出孔15cから吹き
出される。これにより可動部17Bが案内面15aから
浮上し、案内面15aと被案内面15bとの間に一定の
静圧を有する空気の層が形成される。さらに、これと同
時に電磁弁30が開放され、吸引ノズル31を通じて真
空源28による吸引が開始される。
開かれ、所定の圧力の圧縮空気が吹出孔15cから吹き
出される。これにより可動部17Bが案内面15aから
浮上し、案内面15aと被案内面15bとの間に一定の
静圧を有する空気の層が形成される。さらに、これと同
時に電磁弁30が開放され、吸引ノズル31を通じて真
空源28による吸引が開始される。
【0030】この状態でリニアモータ18が作動し、可
動部17Bが固定部17Aに沿ってフルストローク分往
復移動する。この過程で、可動部17Bの移動方向(図
中矢印X方向)前方に位置する案内面15aに対して順
次吸引動作が行われていき、案内面15a上に存在する
異物が吸込口32から吸い込まれてエアクリーナ29に
捕らえられる。イニシャル動作が終了すると電磁弁30
は閉じられ、続いてレーザ加工装置が本格稼動に入る。
なお、説明は省略するが、第2の空気案内軸受16にお
いても同様の異物除去処理がイニシャル動作と並行して
実施される。
動部17Bが固定部17Aに沿ってフルストローク分往
復移動する。この過程で、可動部17Bの移動方向(図
中矢印X方向)前方に位置する案内面15aに対して順
次吸引動作が行われていき、案内面15a上に存在する
異物が吸込口32から吸い込まれてエアクリーナ29に
捕らえられる。イニシャル動作が終了すると電磁弁30
は閉じられ、続いてレーザ加工装置が本格稼動に入る。
なお、説明は省略するが、第2の空気案内軸受16にお
いても同様の異物除去処理がイニシャル動作と並行して
実施される。
【0031】上記のように構成されたレーザ加工装置に
よれば、案内面15a上に存在する異物がイニシャル動
作時に除去されるので、可動部17Bの移動が異物に阻
まれることなく円滑に行えるようになる。しかも、吸込
口32が可動部17Bの移動方向前方に突出する吸引ノ
ズル31の先端に設けられており、案内面15a上に存
在する異物が、案内面15aと被案内面15bとの間に
挟まれる前に吸い込まれるので、異物の除去がより確実
に行われるようになる。これにより、XYステージ14
の動作不良や破損を防止して加工精度ならびに作業効率
の向上を図ることができる。
よれば、案内面15a上に存在する異物がイニシャル動
作時に除去されるので、可動部17Bの移動が異物に阻
まれることなく円滑に行えるようになる。しかも、吸込
口32が可動部17Bの移動方向前方に突出する吸引ノ
ズル31の先端に設けられており、案内面15a上に存
在する異物が、案内面15aと被案内面15bとの間に
挟まれる前に吸い込まれるので、異物の除去がより確実
に行われるようになる。これにより、XYステージ14
の動作不良や破損を防止して加工精度ならびに作業効率
の向上を図ることができる。
【0032】また、従来のようにチャンバ内のクリーン
度を高く設定しなくてもステージ装置の動作不良や破損
が起こり難くなる。このため、クリーン度の低いチャン
バを採用する等、空調装置を含むレーザ加工設備の簡略
化ならびにコスト削減を図ることができる。
度を高く設定しなくてもステージ装置の動作不良や破損
が起こり難くなる。このため、クリーン度の低いチャン
バを採用する等、空調装置を含むレーザ加工設備の簡略
化ならびにコスト削減を図ることができる。
【0033】ところで、本実施形態では異物除去機構2
7の一部が可動部17Bの内部に組み込まれている空気
案内軸受を例に挙げて説明したが、図4に示すように、
各吸引ノズル31および吸引ノズル31に接続される配
管34を可動部17Bの外側面に沿わせた形態としても
構わない。
7の一部が可動部17Bの内部に組み込まれている空気
案内軸受を例に挙げて説明したが、図4に示すように、
各吸引ノズル31および吸引ノズル31に接続される配
管34を可動部17Bの外側面に沿わせた形態としても
構わない。
【0034】また、本実施形態では異物除去処理をイニ
シャル動作と並行して実施する場合について説明した
が、例えば、レーザ加工装置の稼動中に、一定時間の間
隔をあけて間欠的に異物除去処理を実施するようにして
も構わない。また、異物に対して敏感な空気案内軸受に
ついては、異物除去処理を常時実施するようにしても構
わない。
シャル動作と並行して実施する場合について説明した
が、例えば、レーザ加工装置の稼動中に、一定時間の間
隔をあけて間欠的に異物除去処理を実施するようにして
も構わない。また、異物に対して敏感な空気案内軸受に
ついては、異物除去処理を常時実施するようにしても構
わない。
【0035】次に、本発明に係るステージ装置の第2実
施形態を図5および図6に示して説明する。なお、第1
実施形態において既に説明した構成要素には同一符号を
付して説明は省略する。
施形態を図5および図6に示して説明する。なお、第1
実施形態において既に説明した構成要素には同一符号を
付して説明は省略する。
【0036】本実施形態において、レーザ加工装置のX
Yステージ14を構成する第1の空気案内軸受15に
は、異物除去機構27にかえて、図5に示すように案内
面15aに向けて空気を吹き出して案内面15a上に存
在する異物を吹き飛ばす異物除去機構(吹出手段)35
が設けられている。
Yステージ14を構成する第1の空気案内軸受15に
は、異物除去機構27にかえて、図5に示すように案内
面15aに向けて空気を吹き出して案内面15a上に存
在する異物を吹き飛ばす異物除去機構(吹出手段)35
が設けられている。
【0037】異物除去機構35は、供給源24から可動
部17Bに供給される圧縮空気中の塵を除去するエアク
リーナ36と、可動部17Bに供給される圧縮空気の圧
力を調整する調圧弁37とを備えており、供給源24か
ら供給される圧縮空気を可動部17Bに設けられた吹出
ノズル38から案内面15aに向けて吹き出すようにな
っている。なお、調圧弁37では吹出ノズル38から吹
き出される圧縮空気の圧力が吹出孔15cから吹き出さ
れる圧縮空気よりも高く設定されている。
部17Bに供給される圧縮空気中の塵を除去するエアク
リーナ36と、可動部17Bに供給される圧縮空気の圧
力を調整する調圧弁37とを備えており、供給源24か
ら供給される圧縮空気を可動部17Bに設けられた吹出
ノズル38から案内面15aに向けて吹き出すようにな
っている。なお、調圧弁37では吹出ノズル38から吹
き出される圧縮空気の圧力が吹出孔15cから吹き出さ
れる圧縮空気よりも高く設定されている。
【0038】吹出ノズル38は、X方向に離間する可動
部17Bの両端面に、可動部17Bの移動方向前方すな
わち+X方向、−X方向にそれぞれ突出しかつレール1
9の上面および外側面に形成された案内面15aに向け
てそれぞれ設けられており、吹出ノズル38の先端に
は、案内面15aの幅にほぼ等しい幅広の吹出口39が
設けられている。この異物除去機構35は、第2の空気
案内軸受16にも設けられており、案内面16a上に存
在する異物を吹き飛ばすようになっている(説明は省
略)。
部17Bの両端面に、可動部17Bの移動方向前方すな
わち+X方向、−X方向にそれぞれ突出しかつレール1
9の上面および外側面に形成された案内面15aに向け
てそれぞれ設けられており、吹出ノズル38の先端に
は、案内面15aの幅にほぼ等しい幅広の吹出口39が
設けられている。この異物除去機構35は、第2の空気
案内軸受16にも設けられており、案内面16a上に存
在する異物を吹き飛ばすようになっている(説明は省
略)。
【0039】上記のように構成されたレーザ加工装置で
も、イニシャル動作と同時に異物除去処理が実施され
る。以下では、第1の空気案内軸受15においてイニシ
ャル動作と並行して実施される異物除去処理について説
明する。まず、イニシャル動作として調圧弁26が開か
れ、案内面15aと被案内面15bとの間に一定の静圧
を有する空気の層が形成される。これと同時に調圧弁3
7が開かれ、吹出ノズル38から案内面15aに向けて
圧縮空気が吹き出される。
も、イニシャル動作と同時に異物除去処理が実施され
る。以下では、第1の空気案内軸受15においてイニシ
ャル動作と並行して実施される異物除去処理について説
明する。まず、イニシャル動作として調圧弁26が開か
れ、案内面15aと被案内面15bとの間に一定の静圧
を有する空気の層が形成される。これと同時に調圧弁3
7が開かれ、吹出ノズル38から案内面15aに向けて
圧縮空気が吹き出される。
【0040】この状態でリニアモータ18が作動し、可
動部17Bが固定部17Aに沿ってフルストローク分往
復移動する。この過程で、可動部17Bの移動方向(図
中矢印X方向)前方に位置する案内面15aに対して順
次吹出動作が行われていき、案内面15a上に存在する
異物が案内面15a上から吹き飛ばされる。イニシャル
動作が終了すると調圧弁37は閉じられ、続いてレーザ
加工装置が本格稼動に入る。なお、説明は省略するが、
第2の空気案内軸受16においても同様の異物除去処理
がイニシャル動作と並行して実施される。
動部17Bが固定部17Aに沿ってフルストローク分往
復移動する。この過程で、可動部17Bの移動方向(図
中矢印X方向)前方に位置する案内面15aに対して順
次吹出動作が行われていき、案内面15a上に存在する
異物が案内面15a上から吹き飛ばされる。イニシャル
動作が終了すると調圧弁37は閉じられ、続いてレーザ
加工装置が本格稼動に入る。なお、説明は省略するが、
第2の空気案内軸受16においても同様の異物除去処理
がイニシャル動作と並行して実施される。
【0041】上記のように構成されたレーザ加工装置に
よれば、案内面15a上に存在する異物がイニシャル動
作時に除去されるので、可動部17Bの移動が異物に阻
まれることなく円滑に行えるようになる。しかも、吹出
口39が可動部17Bの移動方向前方に突出する吹出ノ
ズル38の先端に設けられており、案内面15a上に存
在する異物が、案内面15aと被案内面15bとの間に
挟まれる前に吹き飛ばされるので、異物の除去がより確
実に行われるようになる。これにより、XYステージ1
4の動作不良や破損を防止して加工精度ならびに作業効
率の向上を図ることができる。
よれば、案内面15a上に存在する異物がイニシャル動
作時に除去されるので、可動部17Bの移動が異物に阻
まれることなく円滑に行えるようになる。しかも、吹出
口39が可動部17Bの移動方向前方に突出する吹出ノ
ズル38の先端に設けられており、案内面15a上に存
在する異物が、案内面15aと被案内面15bとの間に
挟まれる前に吹き飛ばされるので、異物の除去がより確
実に行われるようになる。これにより、XYステージ1
4の動作不良や破損を防止して加工精度ならびに作業効
率の向上を図ることができる。
【0042】ところで、本実施形態では異物除去機構3
5の一部が可動部17Bの内部に組み込まれている空気
案内軸受を例に挙げて説明したが、図6に示すように、
各吹出ノズル38および吹出ノズル38に接続される配
管40を可動部17Bの外側面に沿わせた形態としても
構わない。
5の一部が可動部17Bの内部に組み込まれている空気
案内軸受を例に挙げて説明したが、図6に示すように、
各吹出ノズル38および吹出ノズル38に接続される配
管40を可動部17Bの外側面に沿わせた形態としても
構わない。
【0043】本実施形態においては可動部17Bの端面
に吹出ノズル38を設けた場合について説明したが、吹
出ノズル38にかえて、移動方向前方に位置する案内面
15aに向けて吹出孔15cよりも高圧の気体を吹き出
す第2の吹出孔を設けても構わない。この場合も、可動
部17Bの移動方向前方に位置する案内面15a上に存
在する異物が、案内面15aと被案内面15bとの間に
挟まれる前に吹き飛ばされるので、障害となる異物の除
去をより確実に行うことができる。
に吹出ノズル38を設けた場合について説明したが、吹
出ノズル38にかえて、移動方向前方に位置する案内面
15aに向けて吹出孔15cよりも高圧の気体を吹き出
す第2の吹出孔を設けても構わない。この場合も、可動
部17Bの移動方向前方に位置する案内面15a上に存
在する異物が、案内面15aと被案内面15bとの間に
挟まれる前に吹き飛ばされるので、障害となる異物の除
去をより確実に行うことができる。
【0044】また、本実施形態では異物除去処理をイニ
シャル動作と並行して実施する場合について説明した
が、例えば、レーザ加工装置の稼動中に、一定時間の間
隔をあけて間欠的に異物除去処理を実施するようにして
も構わない。さらに、異物に対して敏感な空気案内軸受
については、異物除去処理を常時実施するようにしても
構わない。
シャル動作と並行して実施する場合について説明した
が、例えば、レーザ加工装置の稼動中に、一定時間の間
隔をあけて間欠的に異物除去処理を実施するようにして
も構わない。さらに、異物に対して敏感な空気案内軸受
については、異物除去処理を常時実施するようにしても
構わない。
【0045】次に、本発明に係るステージ装置の第3実
施形態を図7に示して説明する。なお、第1、第2の各
実施形態において既に説明した構成要素には同一符号を
付して説明は省略する。
施形態を図7に示して説明する。なお、第1、第2の各
実施形態において既に説明した構成要素には同一符号を
付して説明は省略する。
【0046】本実施形態において、レーザ加工装置のX
Yステージ14を構成する第1の空気案内軸受15に
は、案内面15a上の異物を吹き飛ばす異物除去機構3
5とともに、異物除去機構35によって吹き飛ばされる
異物を回収する異物回収機構41が設けられている。異
物回収機構41は、図7に示すように、吹出ノズル38
の吹出方向前方を覆って異物の周囲への飛散を阻止する
飛散防止カバー42と、飛散防止カバー42内の空気を
異物とともに吸引除去する吸引機構(吸引手段)43と
を備えている。吸引機構43は、飛散防止カバー42内
の空気を吸引する真空源44と、真空源44に吸引され
る空気中の異物や塵を除去するエアクリーナ45と、真
空源44による吸引動作を必要に応じて断続する電磁弁
46とを備えており、異物除去機構35に同調して作動
し、異物除去機構35により吹き飛ばされた異物を吸引
除去してエアクリーナ45に捕えるようになっている。
Yステージ14を構成する第1の空気案内軸受15に
は、案内面15a上の異物を吹き飛ばす異物除去機構3
5とともに、異物除去機構35によって吹き飛ばされる
異物を回収する異物回収機構41が設けられている。異
物回収機構41は、図7に示すように、吹出ノズル38
の吹出方向前方を覆って異物の周囲への飛散を阻止する
飛散防止カバー42と、飛散防止カバー42内の空気を
異物とともに吸引除去する吸引機構(吸引手段)43と
を備えている。吸引機構43は、飛散防止カバー42内
の空気を吸引する真空源44と、真空源44に吸引され
る空気中の異物や塵を除去するエアクリーナ45と、真
空源44による吸引動作を必要に応じて断続する電磁弁
46とを備えており、異物除去機構35に同調して作動
し、異物除去機構35により吹き飛ばされた異物を吸引
除去してエアクリーナ45に捕えるようになっている。
【0047】また、吹出ノズル38の先端は可動部17
Bの移動方向に対して斜め前方に空気を吹き出すように
屈曲され、飛散防止カバー42は吹出口39の前方を覆
うように設置されている。なお、説明は省略するが、第
2の空気案内軸受16にも同様の異物回収機構が設けら
れている。
Bの移動方向に対して斜め前方に空気を吹き出すように
屈曲され、飛散防止カバー42は吹出口39の前方を覆
うように設置されている。なお、説明は省略するが、第
2の空気案内軸受16にも同様の異物回収機構が設けら
れている。
【0048】上記のように構成されたレーザ加工装置に
よれば、異物除去機構35により吹き飛ばされた異物の
周囲への飛散が飛散防止カバー42で阻止され、さらに
飛散防止カバー42内の空気が異物とともに吸引除去さ
れるので、装置内部を異物の少ない環境にすることがで
き、これによってXYステージ14の動作不良や破損を
防止することができる。
よれば、異物除去機構35により吹き飛ばされた異物の
周囲への飛散が飛散防止カバー42で阻止され、さらに
飛散防止カバー42内の空気が異物とともに吸引除去さ
れるので、装置内部を異物の少ない環境にすることがで
き、これによってXYステージ14の動作不良や破損を
防止することができる。
【0049】次に、本発明に係るステージ装置の第4実
施形態を図8に示して説明する。なお、第1、第2、第
3の各実施形態において既に説明した構成要素には同一
符号を付して説明は省略する。
施形態を図8に示して説明する。なお、第1、第2、第
3の各実施形態において既に説明した構成要素には同一
符号を付して説明は省略する。
【0050】本実施形態におけるレーザ加工装置には、
異物を吸引除去する異物除去機構27とともに、案内面
15a上の異物の有無を検出する異物検出機構(異物検
出手段)47と、異物検出機構47の検出結果に基づい
て異物除去機構27を作動させる制御部48とが設けら
れている。異物検出機構47は、図8に示すように、案
内面15a上に検出光を照射する光源49と、検出光が
案内面15a上に存在する異物により生じる散乱光を検
出する散乱光検出部50を備えている。なお、説明は省
略するが、第2の空気案内軸受16にも同様の異物検出
機構が設けられている。また、図8には示されていない
が、可動部17Bの移動に連動するように、光源49と
散乱光検出部50とを可動部17Bに取り付けるように
してもよい。
異物を吸引除去する異物除去機構27とともに、案内面
15a上の異物の有無を検出する異物検出機構(異物検
出手段)47と、異物検出機構47の検出結果に基づい
て異物除去機構27を作動させる制御部48とが設けら
れている。異物検出機構47は、図8に示すように、案
内面15a上に検出光を照射する光源49と、検出光が
案内面15a上に存在する異物により生じる散乱光を検
出する散乱光検出部50を備えている。なお、説明は省
略するが、第2の空気案内軸受16にも同様の異物検出
機構が設けられている。また、図8には示されていない
が、可動部17Bの移動に連動するように、光源49と
散乱光検出部50とを可動部17Bに取り付けるように
してもよい。
【0051】上記のように構成されたレーザ加工装置に
おいては、光源49が案内面15aに対し一定時間おき
に検出光を照射しており、案内面15a上に異物が存在
する場合には検出光が異物に反射して散乱光を生じる。
散乱光検出部50ではこの散乱光を検出し、その検出結
果に基づいて異物除去機構27が作動が開始されて異物
が吸引除去される。異物が除去されれば異物除去機構2
7は停止する。
おいては、光源49が案内面15aに対し一定時間おき
に検出光を照射しており、案内面15a上に異物が存在
する場合には検出光が異物に反射して散乱光を生じる。
散乱光検出部50ではこの散乱光を検出し、その検出結
果に基づいて異物除去機構27が作動が開始されて異物
が吸引除去される。異物が除去されれば異物除去機構2
7は停止する。
【0052】上記のように構成されたレーザ加工装置に
よれば、案内面15a上に異物が存在することが検出さ
れた場合にのみ、異物除去機構27が作動してその異物
を吸引除去するので、XYステージ14を無駄なく稼動
させることができる。
よれば、案内面15a上に異物が存在することが検出さ
れた場合にのみ、異物除去機構27が作動してその異物
を吸引除去するので、XYステージ14を無駄なく稼動
させることができる。
【0053】なお、本実施形態においては異物除去機構
27を搭載したレーザ加工装置について説明したが、異
物を吹き飛ばして除去する異物除去機構35を搭載もの
であっても問題はない。
27を搭載したレーザ加工装置について説明したが、異
物を吹き飛ばして除去する異物除去機構35を搭載もの
であっても問題はない。
【0054】また、上記第1ないし第4実施形態におい
ては本発明に係るステージ装置を搭載したレーザ加工装
置について説明したが、本発明に係るステージ装置は、
レーザ加工装置に限らず、半導体ウェハ製造用の投影露
光装置や微小線幅測定装置等、サブミクロンからナノメ
ータオーダの超精密位置決めを必要とする装置に搭載さ
れる。
ては本発明に係るステージ装置を搭載したレーザ加工装
置について説明したが、本発明に係るステージ装置は、
レーザ加工装置に限らず、半導体ウェハ製造用の投影露
光装置や微小線幅測定装置等、サブミクロンからナノメ
ータオーダの超精密位置決めを必要とする装置に搭載さ
れる。
【0055】また、チャンバ内のクリーン度が一時的に
悪くなるような状況、例えば、チャンバの扉を開けたと
きや、空調装置が停止した直後にステージ装置を作動さ
せるときには、異物除去機構を作動させることによりX
Yステージの動作不良や破損を防止することができる。
悪くなるような状況、例えば、チャンバの扉を開けたと
きや、空調装置が停止した直後にステージ装置を作動さ
せるときには、異物除去機構を作動させることによりX
Yステージの動作不良や破損を防止することができる。
【0056】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る請求
項1記載のステージ装置によれば、吸引手段を作動させ
た状態でガイド部材に沿って被ガイド部材を移動させる
と、案内面上に存在する異物が吸引手段に吸い込まれて
除去されるので、被ガイド部材の移動が異物に阻まれる
ことなく円滑に行えるようになる。これにより、ステー
ジ装置の動作不良や破損を防止して安定した作動状態を
確保することができる。さらに、本発明のステージ装置
を備える各種装置については、従来のようにチャンバ内
のクリーン度を高く設定しなくてもステージ装置の動作
不良や破損が起こり難くなる。このため、クリーン度の
低いチャンバを採用する等、空調装置を含む設備の簡略
化ならびにコスト削減を図ることができる。
項1記載のステージ装置によれば、吸引手段を作動させ
た状態でガイド部材に沿って被ガイド部材を移動させる
と、案内面上に存在する異物が吸引手段に吸い込まれて
除去されるので、被ガイド部材の移動が異物に阻まれる
ことなく円滑に行えるようになる。これにより、ステー
ジ装置の動作不良や破損を防止して安定した作動状態を
確保することができる。さらに、本発明のステージ装置
を備える各種装置については、従来のようにチャンバ内
のクリーン度を高く設定しなくてもステージ装置の動作
不良や破損が起こり難くなる。このため、クリーン度の
低いチャンバを採用する等、空調装置を含む設備の簡略
化ならびにコスト削減を図ることができる。
【0057】本発明に係る請求項2記載のステージ装置
によれば、吸引手段が、被ガイド部材の移動方向前方に
突出しかつ先端の吸込口を案内面に近接させた吸引ノズ
ルを備えることにより、被ガイド部材の移動方向前方の
案内面上に存在する異物が、案内面と被案内面との間に
挟まれる前に吸引手段に吸い込まれるので、障害となる
異物の除去をより確実に行うことができ、これによって
ステージ装置の動作不良や破損を防止することができ
る。
によれば、吸引手段が、被ガイド部材の移動方向前方に
突出しかつ先端の吸込口を案内面に近接させた吸引ノズ
ルを備えることにより、被ガイド部材の移動方向前方の
案内面上に存在する異物が、案内面と被案内面との間に
挟まれる前に吸引手段に吸い込まれるので、障害となる
異物の除去をより確実に行うことができ、これによって
ステージ装置の動作不良や破損を防止することができ
る。
【0058】本発明に係る請求項3記載のステージ装置
によれば、異物検出手段により案内面上に異物が存在す
ることが検出された場合にのみ、吸引手段を作動させて
その異物を除去するので、ステージ装置を無駄なく稼動
させることができる。
によれば、異物検出手段により案内面上に異物が存在す
ることが検出された場合にのみ、吸引手段を作動させて
その異物を除去するので、ステージ装置を無駄なく稼動
させることができる。
【0059】本発明に係る請求項4記載のステージ装置
によれば、吹出手段を作動させた状態でガイド部材に沿
って被ガイド部材を移動させると、案内面上に存在する
異物が吹出手段によって吹き飛ばされるので、被ガイド
部材の移動が異物に阻まれることなく円滑に行えるよう
になる。これにより、ステージ装置の動作不良や破損を
防止することができる。
によれば、吹出手段を作動させた状態でガイド部材に沿
って被ガイド部材を移動させると、案内面上に存在する
異物が吹出手段によって吹き飛ばされるので、被ガイド
部材の移動が異物に阻まれることなく円滑に行えるよう
になる。これにより、ステージ装置の動作不良や破損を
防止することができる。
【0060】本発明に係る請求項5記載のステージ装置
によれば、吹出手段が、移動方向前方に突出しかつ先端
の吹出口を案内面に近接させた吹出ノズルを備えること
により、被ガイド部材の移動方向前方の案内面上に存在
する異物が、案内面と被案内面との間に挟まれる前に吹
出手段に吹き飛ばされるので、障害となる異物の除去を
より確実に行うことができ、これによってステージ装置
の動作不良や破損を防止することができる。
によれば、吹出手段が、移動方向前方に突出しかつ先端
の吹出口を案内面に近接させた吹出ノズルを備えること
により、被ガイド部材の移動方向前方の案内面上に存在
する異物が、案内面と被案内面との間に挟まれる前に吹
出手段に吹き飛ばされるので、障害となる異物の除去を
より確実に行うことができ、これによってステージ装置
の動作不良や破損を防止することができる。
【0061】本発明に係る請求項6記載のステージ装置
によれば、吹出手段が、被ガイド部材の移動方向前端
に、該移動方向前方に位置する案内面に向けて第1の吹
出孔よりも高圧の気体を吹き出す第2の吹出孔を備える
ことにより、被ガイド部材の移動方向前方の案内面上に
存在する異物が、案内面と被案内面との間に挟まれる前
に、第2の吹出孔から吹き出された高圧の気体に吹き飛
ばされるので、障害となる異物の除去をより確実に行う
ことができ、これによってステージ装置の動作不良や破
損を防止することができる。
によれば、吹出手段が、被ガイド部材の移動方向前端
に、該移動方向前方に位置する案内面に向けて第1の吹
出孔よりも高圧の気体を吹き出す第2の吹出孔を備える
ことにより、被ガイド部材の移動方向前方の案内面上に
存在する異物が、案内面と被案内面との間に挟まれる前
に、第2の吹出孔から吹き出された高圧の気体に吹き飛
ばされるので、障害となる異物の除去をより確実に行う
ことができ、これによってステージ装置の動作不良や破
損を防止することができる。
【0062】本発明に係る請求項7記載のステージ装置
によれば、吹出手段により吹き飛ばされた異物の周囲へ
の飛散がカバーで阻止され、さらにカバー内の気体が異
物とともに吸引除去されるので、異物の他所への飛散を
防止するとともに装置内部を異物の少ない環境にするこ
とができ、これによってステージ装置の動作不良や破損
を防止することができる。
によれば、吹出手段により吹き飛ばされた異物の周囲へ
の飛散がカバーで阻止され、さらにカバー内の気体が異
物とともに吸引除去されるので、異物の他所への飛散を
防止するとともに装置内部を異物の少ない環境にするこ
とができ、これによってステージ装置の動作不良や破損
を防止することができる。
【0063】本発明に係る請求項8記載のステージ装置
によれば、異物検出手段により案内面上に異物が存在す
ることが検出された場合にのみ、吹出手段を作動させて
その異物を除去するので、ステージ装置を無駄なく稼動
させることができる。
によれば、異物検出手段により案内面上に異物が存在す
ることが検出された場合にのみ、吹出手段を作動させて
その異物を除去するので、ステージ装置を無駄なく稼動
させることができる。
【図1】 本発明に係るステージ装置の第1実施形態を
示す図であって、ステージ装置を具備するレーザ加工装
置を示す概略構成図である。
示す図であって、ステージ装置を具備するレーザ加工装
置を示す概略構成図である。
【図2】 図1に示した第1の空気案内軸受を示す斜視
図である。
図である。
【図3】 第1の空気案内軸受における異物除去機構の
作動状態を示す状態説明図である。
作動状態を示す状態説明図である。
【図4】 第1の空気案内軸受に設置される異物除去機
構の変形例を示す斜視図である。
構の変形例を示す斜視図である。
【図5】 本発明に係るステージ装置の第2実施形態を
示す図であって、第1の空気案内軸受における異物除去
機構の作動状態を示す状態説明図である。
示す図であって、第1の空気案内軸受における異物除去
機構の作動状態を示す状態説明図である。
【図6】 第1の空気案内軸受に設置される異物除去機
構の変形例を示す斜視図である。
構の変形例を示す斜視図である。
【図7】 本発明に係るステージ装置の第3実施形態を
示す図であって、第1の空気案内軸受に具備される異物
回収機構を示す平面図および側面図である。
示す図であって、第1の空気案内軸受に具備される異物
回収機構を示す平面図および側面図である。
【図8】 本発明に係るステージ装置の第4実施形態を
示す図であって、第1の空気案内軸受に具備される異物
検出機構および異物除去機構を示す平面図である。
示す図であって、第1の空気案内軸受に具備される異物
検出機構および異物除去機構を示す平面図である。
【図9】 従来の空気案内軸受の構成を示す斜視図であ
る。
る。
15 第1の空気案内軸受(ステージ装置) 17A 固定部(ガイド部材) 17B 可動部(被ガイド部材) 18 リニアモータ 23 圧縮空気供給機構 24 供給源 25 エアクリーナ 26 調圧弁 27 異物除去機構(吸引手段) 28 真空源 29 エアクリーナ 30 電磁弁 31 吸込ノズル 32 吸引口 41 異物回収機構 42 飛散防止カバー 43 吸引機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3J102 AA02 BA07 BA09 CA05 CA13 EA02 EA07 EA30 EB01 GA01 GA07 3J104 AA42 AA44 BA51 BA74 DA13 EA01 EA02 EA04 5F031 CA02 CA07 JA22 KA06 MA27 MA33 NA14
Claims (8)
- 【請求項1】 案内面を有するガイド部材と、前記案内
面に案内される被案内面を有し該被案内面に設けられた
吹出孔から前記案内面に向けて気体を吹き出すことで前
記案内面との間に空隙を形成する被ガイド部材とを有す
るステージ本体を備えるステージ装置であって、 前記被ガイド部材に、前記案内面上の異物を吸い込む吸
引手段が設けられることを特徴とするステージ装置。 - 【請求項2】 前記吸引手段は、前記被ガイド部材の移
動方向前方に突出しかつ先端の吸込口を前記案内面に近
接させた吸引ノズルを備えることを特徴とする請求項1
記載のステージ装置。 - 【請求項3】 前記案内面上の異物を検出する異物検出
手段と、該異物検出手段の検出結果に応じて前記吸引手
段を作動させる制御部とを備えることを特徴とする請求
項1または2記載のステージ装置。 - 【請求項4】 案内面を有するガイド部材と、前記案内
面に案内される被案内面を有し該被案内面に設けられた
第1の吹出孔から前記案内面に向けて気体を吹き出すこ
とで前記案内面との間に空隙を形成する被ガイド部材と
を有するステージ本体を備えるステージ装置であって、 前記被ガイド部材に、前記案内面に向けて気体を吹き出
して該案内面上の異物を吹き飛ばす吹出手段が設けられ
ることを特徴とするステージ装置。 - 【請求項5】 前記吹出手段は、前記移動方向前方に突
出しかつ先端の吹出口を前記案内面に近接させた吹出ノ
ズルを備えることを特徴とする請求項4記載のステージ
装置。 - 【請求項6】 前記吹出手段は、前記被ガイド部材の移
動方向前端に、該移動方向前方に位置する前記案内面に
向けて前記第1の吹出孔よりも高圧の気体を吹き出す第
2の吹出孔を備えることを特徴とする請求項4記載のス
テージ装置。 - 【請求項7】 前記吹出手段により吹き飛ばされた異物
の周囲への飛散を阻止するカバーと、該カバー内の気体
を異物とともに吸引除去する除去手段とを備えることを
特徴とする請求項4、5または6記載のステージ装置。 - 【請求項8】 前記案内面上の異物の存在を検出する異
物検出手段と、該異物検出手段の検出結果に応じて前記
吹出手段を作動させる制御部とを備えることを特徴とす
る請求項4、5、6または7記載のステージ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11153101A JP2000337377A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | ステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11153101A JP2000337377A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | ステージ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000337377A true JP2000337377A (ja) | 2000-12-05 |
Family
ID=15555004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11153101A Withdrawn JP2000337377A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | ステージ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000337377A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007100776A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Nsk Ltd | 直線案内 |
JP2010204650A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-09-16 | Hoya Corp | ステージクリーナ、描画装置及び基板処理装置 |
WO2018055981A1 (ja) * | 2016-09-26 | 2018-03-29 | Thk株式会社 | 異物除去装置、及びリニアガイド |
JP2021019073A (ja) * | 2019-07-19 | 2021-02-15 | キヤノン株式会社 | リソグラフィー装置及びクリーニング方法 |
-
1999
- 1999-05-31 JP JP11153101A patent/JP2000337377A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007100776A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Nsk Ltd | 直線案内 |
JP2010204650A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-09-16 | Hoya Corp | ステージクリーナ、描画装置及び基板処理装置 |
WO2018055981A1 (ja) * | 2016-09-26 | 2018-03-29 | Thk株式会社 | 異物除去装置、及びリニアガイド |
JP2021019073A (ja) * | 2019-07-19 | 2021-02-15 | キヤノン株式会社 | リソグラフィー装置及びクリーニング方法 |
JP7297576B2 (ja) | 2019-07-19 | 2023-06-26 | キヤノン株式会社 | リソグラフィー装置及びクリーニング方法 |
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Date | Code | Title | Description |
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