JP2000327474A - 結晶シリコンの製造方法及び結晶シリコン製造用ルツボ - Google Patents
結晶シリコンの製造方法及び結晶シリコン製造用ルツボInfo
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Abstract
する。 【解決手段】 ルツボ1に収容したシリコン融液4にル
ツボ1の内側底面2aから上方に正の温度勾配を付与し
て、該ルツボ1の内側底面2aから上方に前記シリコン
融液4を結晶化する結晶シリコンの製造方法において、
前記ルツボ1の内側底面2aに孔部3を形成しておき、
当初該孔部3内に結晶を形成し、その後該結晶を核とし
て前記ルツボ1の内側底面2aから上方にシリコン融液
4を結晶化する。
Description
却して一方向に徐々に凝固する結晶シリコンの製造方法
及び結晶シリコン製造用ルツボに関するものである。
めるシリコン系のものは、結晶構造の面から、単結晶、
多結晶、アモルファスに分類される。その中で、多結晶
シリコン太陽電池は、当初コストの低減を最大の目標と
して研究開発され、その後、さらに高効率化を目指して
多大な努力が払われてきた結果、今日最も多く製造され
ている太陽電池である。高効率化の点では単結晶シリコ
ン太陽電池は優れているが、現在では、多結晶シリコン
太陽電池もさまざまな技術の向上により、単結晶シリコ
ン太陽電池と匹敵する変換効率が得られるまでになっ
た。
ラー・セル)は、多結晶シリコンの基板を用いて作られ
るため、その品質が多結晶シリコン太陽電池の性能を大
きく左右する。そのため、多結晶シリコンの製造にはこ
れまで様々な改良がなされてきた。
ソーラー・セル内のキャリアの寿命の短縮と移動度の低
下につながって太陽電池のエネルギー変換効率を下げ
る。そのため、多結晶シリコン太陽電池で大きなエネル
ギー変換効率を得るためには、多結晶シリコンの製造に
おいて、その結晶粒界をできるだけ少なくすること、言
い換えると、結晶粒径をできるだけ大きく成長させるこ
とが重要である。この結晶粒径は、多結晶シリコンの製
造方法に大きく依存する。
ものに、ルツボに収容したシリコン融液をルツボの一端
から徐冷して一方向に凝固していく方法がある。この方
法によれば、太陽電池用ウェーハとして十分な数mm以
上の結晶粒径を有する多結晶シリコンインゴットが得ら
れる。
る高効率化を達成するためにはさらに大きな結晶粒径を
もつ多結晶シリコンが望まれ、そのためには、上述のよ
うな方法において何かしらの改良が必要である。
その種結晶を核として結晶を成長させることが考えられ
るが、図3において模式的に示すように、例えばルツボ
21の底面中央部に種結晶22を備えて結晶成長させた
場合、一般にインゴット23のルツボの下側周辺部Aに
は製品として使用できない不良部が形成され、また、下
側周辺部Aの内側の内側不要部Bも形状不良のため使用
できないという問題がある。さらに、この場合、種結晶
の使用がコストアップにつながるという欠点もある。加
えて、種結晶を融解せずに原料シリコンのみを融解する
という温度制御が困難であるという問題もある。さらに
は、ルツボの内側底面全体に種結晶を備えることも考え
られるが、これはさらに大きなコストアップにつながっ
てしまう。
もので、種結晶を使用しないで、従来法による場合より
大きな結晶粒径を有する結晶シリコンの製造を可能にす
る結晶シリコンの製造方法及び結晶シリコン製造用ルツ
ボを提供することを主な目的とし、さらには、製造され
た結晶シリコン内部に不良部が少ない結晶シリコンの製
造方法及び結晶シリコン製造用ルツボを提供することも
副次的な目的としている。
の本発明に係る結晶シリコンの製造方法は、ルツボに収
容したシリコン融液にルツボの内側底面から上方に正の
温度勾配を付与して、該ルツボ内の底面から上方にシリ
コン融液を結晶化する結晶シリコンの製造方法におい
て、前記ルツボの内側底面に孔部を形成しておき、当初
該孔部内の前記シリコン融液を結晶化し、その後この結
晶を核として前記ルツボの内側底面から上方にシリコン
融液を結晶化することを特徴とする。
と、冷却手段に最も近い前記孔部の底である孔底部に結
晶核が発生する。該結晶核は孔部内で成長し、やがてル
ツボの内側底面に現れる。こうして内側底面に現れた結
晶は、その後の結晶化においていわゆる種結晶(以下、
内側底面に現れた結晶核を擬種結晶という。)の役割を
することになり、それらの擬種結晶を核として結晶化が
進むため、より大きな結晶粒径を有する結晶シリコンを
製造することが可能になる。すなわち、本発明のルツボ
を使用すると、種結晶を使用した場合と同様に大きな結
晶粒径を有する結晶シリコンを製造することが可能にな
る。
直線状に並んで孔部列をなし、各孔部から該孔部列に対
して60゜の方向に前記間隔と等間隔で孔部が並んで孔
部列をなすようにしてもよい。
すれば、等間隔に配列した孔部の底である孔底部に結晶
核が発生し、それらの結晶核は孔部内で同様に成長して
同程度のサイズの擬種結晶ができる。その後の結晶化
は、等間隔に配列したこれらの擬種結晶を核として進む
ので、できあがった結晶シリコンは同程度の結晶粒径を
有する結晶粒からなる。こうして製造された同程度の結
晶粒径の結晶粒からなる結晶シリコンのインゴットを切
断して太陽電池の基板を作製した場合、各基板において
それらが有する結晶粒の結晶粒径のばらつきは小さいの
で、それらの基板を使用して作製した太陽電池の間で変
換効率のばらつきは小さいという利点がある。また、上
述のように結晶シリコンインゴット内の結晶粒の結晶粒
径のばらつきが小さいばかりではなく、擬種結晶は毎イ
ンゴットの同じルツボの孔部位置にできることから、イ
ンゴット毎の結晶シリコンが有する結晶粒の平均結晶粒
径のばらつきが小さくなる。これは製造される結晶シリ
コンの品質の安定化につながる。さらに、種結晶をルツ
ボの内側底面の中央部に配置して結晶シリコンを製造し
た場合、ルツボの周辺部のかなり広い範囲にわたって、
特に底部に近いところは結晶不良となり使用できないの
に対して、この場合は、ルツボの内側底面全面にできた
擬種結晶が成長するので、結晶不良部は少なくなる利点
もある。
て該孔底部から上方に向けて、漸次拡径する形状であっ
てもよい。
いて結晶核が発生し易くなる。そして、その後、その結
晶核は孔底部から上方への正の温度勾配にそって孔部内
で成長するので、配向性よく成長しやすいという利点が
ある。
の製造方法および結晶シリコン製造用ルツボの好適な実
施の形態を図を参照して説明する。
ルツボを備えた結晶シリコン製造装置の模式図である。
ルツボ(結晶シリコン製造用ルツボ)1は、上部が開口
した箱形に形成されたものであって、矩形の底部2とこ
の底部2の四辺から立ち上がる側壁部1a、1a、1
a、1aとからなるものである。底部2の上面、すなわ
ち、ルツボ1の内側底面2aには、孔部3が設けられて
いる。この孔部3は、その孔底部3aを中心として該孔
底部3aから上方に向けて、漸次断面積が大となる逆円
錐形に形成されている。
線状に並んで孔部列10をなし、そして、各孔部3から
該孔部列10に対して60゜の方向に前記間隔と等間隔
で孔部3が並んで孔部列11をなしている。言い換える
と、孔部3は、図中において一点鎖線で示している六角
格子の格子点及びその中心点に配置している。この場
合、隣接する孔部3間の距離は等距離で、各孔部3は周
辺部の一部の孔部を除いて最近接の孔部を6個づつ有し
ている。このルツボ1は、図1に示すように、冷却板5
上に載置され、その底部2が該冷却板5により冷却され
る構成になっている。また、冷却板5のルツボ1が載置
される面は、ルツボ1の底部2全体を均一に冷却できる
ように、平坦に形成されている。
により結晶シリコンを製造するには、まず、ルツボ1に
所定量充填した固体シリコンを、図示していないヒータ
ーにより溶融する。次に、冷却板5を作動させて、ルツ
ボ1の底部2を冷却し、ルツボ1内のシリコン融液をル
ツボ1の底部2から上方に向けて正の温度勾配が付与さ
れた環境下におく。そうすると、ルツボ1内において、
冷却板5に最も近接するために最も温度が低い孔部3の
孔底部3aには、結晶核が発生し、結晶化が始まる。そ
して、それらの結晶核は、孔部3内で成長し、ルツボ1
の内側底面2a上に現れて前記擬種結晶となる。こうし
てルツボ1の内側底面2a全面の孔部3にできた各擬種
結晶は、周辺部の一部にできたものを除いて、同等な温
度勾配の下でその後の成長が進み、結晶シリコンが製造
される。
リコンの製造方法によれば、シリコン融液の冷却開始時
にルツボの内側底面2aに形成した孔部3内に結晶を形
成し、この結晶を擬種結晶として結晶成長させるので、
大きな結晶粒径を有する結晶シリコンを製造することが
できるという利点がある。また、これら擬種結晶は、ル
ツボの内側底面2aにおいて、孔部3の配列と同様に等
距離間隔で配列し、ルツボ1の周辺部の一部を除いて同
等な温度勾配の下で成長するので、同程度の結晶粒径の
結晶粒となる。すなわち、できあがった結晶シリコンは
結晶粒径のばらつきが少ない結晶粒からなるという利点
がある。さらに、擬種結晶は毎インゴットで同等なルツ
ボ1の孔部3にできるので、インゴット毎の結晶シリコ
ンの結晶粒の平均結晶粒径のばらつきが小さくなるとい
う利点がある。これは製造される結晶シリコンの品質の
安定化につながる。さらには、ルツボ1の内側底面2a
全面の孔部3にできた擬種結晶は、周辺部の一部にでき
たものを除いてほぼ同等な温度勾配の下で成長するの
で、結晶不良部は少なくなり、歩留まりがあがるという
利点がある。
て該孔底部3aから上方に向けて、漸次拡径する形状な
ので、孔部3内の孔底部3aにおいて結晶核が発生し、
その後、その結晶核は孔底部3aから上方への正の温度
勾配にそって成長するので、配向性よく成長しやすいと
いう利点がある。
の格子点及びその中心点を占めるような配置であるが、
隣接する孔部ができるだけ等距離になる配置であれば、
結晶粒径のばらつきが小さい結晶シリコンを得ることが
できる。
る結晶シリコン製造装置のルツボとそれを用いた結晶シ
リコンの製造方法によれば、以下に記載されるような効
果を奏する。
によれば、孔部内に現れた結晶を擬種結晶として結晶成
長させるので、大きな結晶粒径を有する結晶シリコンを
製造することができるという効果が得られる。
ボによれば、ルツボの内側底面に孔部を設けたので、冷
却開始時にその孔部内に結晶が形成し、その後その結晶
を核として結晶成長が進むので、大きな結晶粒径を有す
る結晶シリコンを製造することができるという効果が得
られる。
ボによれば、ルツボの内側底面に孔部が複数あり、その
孔部が等間隔で直線状に並んで孔部列をなし、各孔部か
ら該孔部列に対して60゜の方向に前記間隔と等間隔で
孔部が並んで孔部列をなすように形成されており、これ
らの孔部内に形成した擬種結晶を核として結晶成長した
後得られた結晶シリコンは結晶粒径のばらつきが小さい
結晶粒からなるという効果が得られる。また、擬種結晶
の形成される位置はルツボの孔部なので、インゴット毎
の結晶シリコンの結晶粒の平均結晶粒径のばらつきが小
さいという効果が得られる。さらに、ルツボの内側底面
全面の孔部にできた擬種結晶は、ほぼ同等な温度勾配の
下で成長するので、結晶不良部は少なくなるという効果
が得られる。
ボによれば、ルツボの内側底面に形成した孔部はその孔
底部を中心として該孔底部から上方に向けて、漸次拡径
する形状なので、孔部内の孔底部において結晶核が発生
し、その後、その結晶核は孔底部から上方への正の温度
勾配にそって成長するので、配向性がよい結晶シリコン
を製造することができるという効果が得られる。
近傍の断面図である。
面図である。
長させた場合の結晶シリコンを示す模式図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 ルツボに収容したシリコン融液にルツボ
の内側底面から上方に正の温度勾配を付与して、該ルツ
ボの内側底面から上方に前記シリコン融液を結晶化する
結晶シリコンの製造方法において、 前記ルツボの内側底面に孔部を形成しておき、当初該孔
部内に結晶を形成し、その後該結晶を核として前記ルツ
ボの内側底面から上方にシリコン融液を結晶化すること
を特徴とする結晶シリコンの製造方法。 - 【請求項2】 ルツボに収容したシリコン融液に前記ル
ツボの内側底面から上方に正の温度勾配をもたせた環境
下で前記ルツボの内側底面から上方に前記シリコン融液
を結晶化する結晶シリコン製造用ルツボにおいて、 該結晶シリコン製造用ルツボの内側底面に孔部を有する
ことを特徴とする結晶シリコン製造用ルツボ。 - 【請求項3】 前記孔部を複数有してなり、該孔部が等
間隔で直線状に並んだ孔部列と各孔部から該孔部列に対
して60゜の方向に前記間隔と等間隔で孔部が並んだ孔
部列を有することを特徴とする請求項2に記載の結晶シ
リコン製造用ルツボ。 - 【請求項4】 前記孔部がその底である孔底部を中心と
して該孔底部から上方に向けて、漸次拡径する形状であ
ることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の結
晶シリコン製造用ルツボ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11144128A JP2000327474A (ja) | 1999-05-24 | 1999-05-24 | 結晶シリコンの製造方法及び結晶シリコン製造用ルツボ |
Applications Claiming Priority (1)
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JP11144128A JP2000327474A (ja) | 1999-05-24 | 1999-05-24 | 結晶シリコンの製造方法及び結晶シリコン製造用ルツボ |
Publications (1)
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---|---|
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Family
ID=15354864
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP11144128A Pending JP2000327474A (ja) | 1999-05-24 | 1999-05-24 | 結晶シリコンの製造方法及び結晶シリコン製造用ルツボ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000327474A (ja) |
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- 1999-05-24 JP JP11144128A patent/JP2000327474A/ja active Pending
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