JP2000308846A - 防汚層の形成方法 - Google Patents
防汚層の形成方法Info
- Publication number
- JP2000308846A JP2000308846A JP11118824A JP11882499A JP2000308846A JP 2000308846 A JP2000308846 A JP 2000308846A JP 11118824 A JP11118824 A JP 11118824A JP 11882499 A JP11882499 A JP 11882499A JP 2000308846 A JP2000308846 A JP 2000308846A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antifouling layer
- antifouling
- forming
- optical
- optical member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Prevention Of Fouling (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等
に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれてお
り、この課題の解決を目的とする。 【解決手段】被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤
を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を
形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前
処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を
提供する。
Description
種の被処理基材の表面に、防汚層を形成する方法に関す
るものである。さらに詳しくは、各種の被処理基材上に
防汚層を速やかに定着させる方法である。
や双眼鏡などのレンズには、光の反射を減らし、光の透
過性を高めるために、通常、その表面に反射防止処理が
施されている。これらの光学部材を人が使用することに
よって、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着する
場合が多い。
60J/m2 と大きいために、そのような汚れが付着し
やすく、かつ、微細な凹凸があるため除去することが容
易ではない。また、そのような汚れが付着した部分だけ
高反射となり、汚れが目立つため問題があった。
として、汚れが付着しにくく、付着しても拭き取りやす
い性能を持つ防汚層を設ける工夫が考案されている。
は、基材の表面に、主として二酸化珪素からなる反射防
止膜を設け、更にその表面に有機珪素置換基を含む化合
物で処理した耐汚染性、耐擦傷性の反射防止膜物品が提
案されている。
に基材表面に末端シラノール有機ポリシロキサンを被膜
した耐汚染性、耐擦傷性のCRTフィルターが提案され
ている。
プラスチック表面にポリフルオロアルキル基を含むモノ
およびジシラン化合物およびハロゲン、アルキルまたは
アルコキシのシラン化合物とからなる反射防止膜を有す
る低反射率および防汚性のプラスチックが提案されてい
る。
パーフルオロアルキル(メタ)アクリレートとアルコキ
シシラン基を有する単量体との共重合体を二酸化珪素を
主とする光学薄膜上に形成した光学物品が提案されてい
る。
来の防汚層の形成技術において、防汚層を成膜後、その
耐防汚性、耐摩耗性、耐溶剤性等を最大限にするまで数
時間、場合によっては数日という長時間を要し、その間
では汚れや傷が入りやすく、また、他の物品と接触する
と、防汚層の一部が転写し、防汚層が剥離してしまうと
いう問題があった。
解決しようとするものであり、本発明の目的は、各種光
学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによ
って、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層
を短時間に形成することができ防汚層の形成方法を提供
することである。
請求項1の発明は、被処理基材上の少なくとも片面に、
防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防
汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片
面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する
ことを特徴とする防汚層の形成方法である。
法、電子ビーム法、イオンビーム法、蒸着法、スパッタ
リング法、アルカリ処理法、酸処理法、コロナ処理法、
大気圧グロー放電プラズマ法の何れかであることを特徴
とする、請求項1記載の防汚層の形成方法である。
学部材であることを特徴とする請求項1または2記載の
防汚層の形成方法である。
ズ、眼鏡レンズ、カメラや双眼鏡、または他の光学装置
のレンズ、ビーム・スプリッタ、プリズム、鏡、窓ガラ
ス、反射防止膜、光学フィルターのうち何れかであるこ
とを特徴とする請求項3記載の防汚層の形成方法であ
る。
ための防汚剤としては、パーフルオロポリエーテル基を
含有する有機シラン化合物であることを特徴する請求項
1〜4何れか記載の防汚層の形成方法である。
(1)で示される有機シラン化合物からなることを特徴
とする請求項1〜5何れか記載の防汚層の形成方法であ
る。 Rf ―(OC3 F6 )n ―O―(CF2 )m ―(CH2 )l ―O―(CH2 ) s ―Si(R)3 …(1) (但し、Rf は炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、nは1〜50の整数、mは0〜
3の整数、lは0〜3の整数、sは0〜6の整数、但
し、6≧m+l>0、Rは加水分解基を示す。)
おいて、加熱し、蒸発させ、被処理基材上に成膜するこ
とを特徴とする請求項1〜6何れか記載の防汚層の形成
方法である。
る為の加熱方法としは、抵抗加熱法、電子線加熱法、光
加熱法、イオンビーム加熱法、高周波加熱法であること
を特徴とする請求項1〜7記載の防汚層の形成方法であ
る。
載の方法により防汚層を形成する事を特徴とする防汚層
付き光学部材の製造方法である。
くとも片面が前処理した表面である事を特徴とする防汚
層付き光学部材である。
ンズ、眼鏡レンズ、カメラや双眼鏡、または他の光学装
置のレンズ、ビーム・スプリッタ、プリズム、鏡、窓ガ
ラス、反射防止膜、光学フィルターのうち何れかである
ことを特徴とする請求項10記載の防汚層付き光学部材
である。
は、パーフルオロポリエーテル基を含有する有機シラン
化合物であることを特徴する請求項10〜11何れか記
載の防汚層付き光学部材である。
(1)で示される有機シラン化合物からなることを特徴
とする請求項10〜12何れか記載の防汚層付き光学部
材である。 Rf ―(OC3 F6 )n ―O―(CF2 )m ―(CH2 )l ―O―(CH2 ) s ―Si(R)3 …(1) (但し、Rf は炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、nは1〜50の整数、mは0〜
3の整数、lは0〜3の整数、sは0〜6の整数、但
し、6≧m+l>0、Rは加水分解基を示す。)
ーフルオロポリエーテル基を含有する有機シラン化合物
からなる防汚剤が使用される。前記有機シラン化合物
は、下記一般式(1)で表される化合物またはその重合
体が好適である。 Rf −(OC3 F6 )n −O−(CF2 )m −(CH2 )l −O−(CH2 ) s −Si(R)3 …(1)
16の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基であ
り、特に、CF3 ―、C2 F5 ―、C3 F7 ―が好まし
い。Rは加水分解基であり、―Cl、―Br、―I、―
OR1 、―OOCR1 、―OC(R1 )C=C(R2 )
2 、―ON=C(R1 )2 、―ON=CR3 、―N(R
2 )2 、―R2 NOCR1 等が好ましい。
0の脂肪族炭化水素基、またはフェニル基等の炭素数6
〜20の芳香族炭化水素基、R2 は水素原子またはアル
キル基等の炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、R3 はア
ルキリデン基等の炭素数3〜6の二価の脂肪族炭化水素
基である。
は、1種類のみならず、2種類以上の混合系として用い
ることも可能である。特に、―OCH3 、―OC2 H
5 、―OOCCH3 、―NH2 が好ましい。また、nは
1〜50の整数、mは0〜3の整数、lは0〜3の整
数、sは0〜6の整数、但し、6≧m+l>0である。
形成時には希釈溶媒を用いないPVD法によることが好
ましく、特に真空蒸着法によることが好ましい。該方法
では、前記防汚剤を1Pa以下の圧力において加熱し、
蒸発させ、被処理基材上に形成する。
法、光加熱法、イオンビーム加熱法、高周波加熱法のよ
うな方法が有効である。PVD法によると、従来困難で
あった防汚層の膜厚をオングストロームオーダーで正確
に制御することができる。
は、被処理基材表面のOH基と有機シラン化合物の加水
分解可能な基が反応して加水分解を起こし、化学結合を
形成すると考えられている。しかし、一般的に防汚層と
被処理基材表面との間の加水分解反応は遅く、防汚層が
完全に定着し、最大限の耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性
等が生じるまでに数時間から数十日という時間を要す
る。
電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、蒸着
法、スパッタリング法、アルカリ処理法、酸処理法、コ
ロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等は、被処理
基材表面をクリーニングするだけではなく、表面の分子
同士の結合を切り離し、活性な表面を作り出すことがで
きるため、有機シラン化合物を含有する防汚剤からなる
防汚層が容易に定着しやすい被処理基材表面を作り出す
ことができる。
カメラや双眼鏡、または他の光学装置のレンズ、ビーム
・スプリッタ、プリズム、鏡、窓ガラス、反射防止膜、
光学フィルターなどの光学部材に対して特に有効であ
る。
に限定されるものではない。
波放電装置内に設置し、該装置内を1.0×10 -3Pa
にまで排気した。該装置内に水素ガスを10sccm/
min.の流量で導入して圧力を1.0×10-1Paに
調節した。該装置内に高周波(周波数=13.56MH
z)を印可し、発生された100Wのプラズマに該反射
防止膜を1分間さらすことにより該反射防止膜の表面の
前処理を行った。
化合物をモリブデンボート上に入れ、真空蒸着法(抵抗
加熱法)により、該反射防止膜上に防汚層を作製した。
真空蒸着機内を1.0×10-3Pa以下に排気した後、
ボートを400℃に加熱し、該有機シラン化合物を蒸発
させた。 CF3 −(OC3 F6 )24−O−(CF2 )2 −(CH2 )2 −O−CH2 − Si(OCH3 )3 …(2)
で発生された50W/m2 ・min.のコロナ放電にさ
らすことにより前処理を行った。次に、実施例1と同様
にして前記反射防止膜上に防汚層を形成した。
て実施例1と同様にして前処理を行っていない反射防止
膜上に防汚層を形成した。上記の実施例1及び2並びに
比較例において、各種物性評価方法と結果を(表1)を
以下に示す。
て、乾燥状態(20℃−65%RH)で直径1.0mm
の液滴を針先に作り、これを基材(固体)の表面に接触
させて液滴を作った。接触角とは、固体液体が接する点
における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、
液体を含む方の角度で定義した。液体には蒸留水を使用
した。
不織布[ベンコットM−3:旭化成(株)製]で荷重5
00gf/m2 で100回こすった後に前記物性評価を
行った。
(光学レンズ、眼鏡レンズ、カメラや双眼鏡、または他
の光学装置のレンズ、ビーム・スプリッタ、プリズム、
鏡、窓ガラス、反射防止膜、光学フィルターなど)の表
面に、各種光学特性を損なわせることがなく、指紋、皮
脂、汗、化粧品などの汚れが付着しにくく、付着しても
拭き取りやすい性能を持ち、また、定着性の高く、耐久
性のある防汚層を形成することが可能になる。
Claims (13)
- 【請求項1】被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤
を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を
形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前
処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜することを
特徴とする防汚層の形成方法。 - 【請求項2】前処理が、高周波放電プラズマ法、電子ビ
ーム法、イオンビーム法、蒸着法、スパッタリング法、
アルカリ処理法、酸処理法、コロナ処理法、大気圧グロ
ー放電プラズマ法の何れかであることを特徴とする請求
項1記載の防汚層の形成方法。 - 【請求項3】前記被処理基材が、光学部材であることを
特徴とする請求項1または2記載の防汚層の形成方法。 - 【請求項4】光学部材が、光学レンズ、眼鏡レンズ、カ
メラや双眼鏡、または他の光学装置のレンズ、ビーム・
スプリッタ、プリズム、鏡、窓ガラス、反射防止膜、光
学フィルターのうち何れかであることを特徴とする請求
項3記載の防汚層の形成方法。 - 【請求項5】前記防汚剤としては、パーフルオロポリエ
ーテル基を含有する有機シラン化合物であることを特徴
する請求項1〜4何れか記載の防汚層の形成方法。 - 【請求項6】前記防汚剤が一般式(1)で示される有機
シラン化合物からなることを特徴とする請求項1〜5何
れか記載の防汚層の形成方法。 Rf ―(OC3 F6 )n ―O―(CF2 )m ―(CH2 )l ―O―(CH2 ) s ―Si(R)3 …(1) (但し、Rf は炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、nは1〜50の整数、mは0〜
3の整数、lは0〜3の整数、sは0〜6の整数、但
し、6≧m+l>0、Rは加水分解基を示す。) - 【請求項7】前記防汚剤を1Pa以下の圧力において、
加熱し、蒸発させ、被処理基材上に成膜することを特徴
とする請求項1〜6何れか記載の防汚層の形成方法。 - 【請求項8】前記防汚剤を蒸発させる為の加熱方法とし
ては、抵抗加熱法、電子線加熱法、光加熱法、イオンビ
ーム加熱法、高周波加熱法であることを特徴とする請求
項1〜7何れか記載の防汚層の形成方法。 - 【請求項9】請求項3〜8何れか記載の方法により防汚
層を形成する事を特徴とする防汚層付き光学部材の製造
方法。 - 【請求項10】光学部材材上の少なくとも片面が前処理
した表面である事を特徴とする防汚層付き光学部材。 - 【請求項11】光学部材が、光学レンズ、眼鏡レンズ、
カメラや双眼鏡、または他の光学装置のレンズ、ビーム
・スプリッタ、プリズム、鏡、窓ガラス、反射防止膜、
光学フィルターのうち何れかであることを特徴とする請
求項10記載の防汚層付き光学部材。 - 【請求項12】前記防汚剤としては、パーフルオロポリ
エーテル基を含有する有機シラン化合物であることを特
徴する請求項10〜11何れか記載の防汚層付き光学部
材。 - 【請求項13】前記防汚剤が一般式(1)で示される有
機シラン化合物からなることを特徴とする請求項10〜
12何れか記載の防汚層付き光学部材。 Rf ―(OC3 F6 )n ―O―(CF2 )m ―(CH2 )l ―O―(CH2 ) s ―Si(R)3 …(1) (但し、Rf は炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、nは1〜50の整数、mは0〜
3の整数、lは0〜3の整数、sは0〜6の整数、但
し、6≧m+l>0、Rは加水分解基を示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11882499A JP4672095B2 (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | 反射防止膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11882499A JP4672095B2 (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | 反射防止膜の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005369437A Division JP2006175438A (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | 防汚層の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000308846A true JP2000308846A (ja) | 2000-11-07 |
JP4672095B2 JP4672095B2 (ja) | 2011-04-20 |
Family
ID=14746069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11882499A Expired - Fee Related JP4672095B2 (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | 反射防止膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4672095B2 (ja) |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002265866A (ja) * | 2001-03-13 | 2002-09-18 | Toppan Printing Co Ltd | 低屈折率コーティング剤及び反射防止フィルム |
JP2002277604A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フイルム |
WO2004111691A1 (en) * | 2003-06-13 | 2004-12-23 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Process for replacing an initial outermost coating layer of a coated optical lens by or depositing thereon a different coating layer |
JP2006201558A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Hitachi Ltd | 撥液層を有する物品又は透明部品、撥液層を有する光学レンズ及びその製造方法、並びにこの光学レンズを用いた投射型画像表示装置 |
FR2892409A1 (fr) * | 2005-10-25 | 2007-04-27 | Saint Gobain | Procede de traitement d'un substrat |
WO2007051841A1 (en) * | 2005-11-04 | 2007-05-10 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Process for coating an optical article with an anti-fouling surface coating by vacuum evaporation |
WO2007068760A2 (en) * | 2005-12-15 | 2007-06-21 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Article coated with a ultra high hydrophobic film and process for obtaining same |
WO2007137972A1 (en) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Process for obtaining a hard coated article having anti-fouling properties |
CN104419236A (zh) * | 2013-08-29 | 2015-03-18 | 江苏远大光学科技有限公司 | 一种镜片处理药水 |
JP2017025324A (ja) * | 2016-08-18 | 2017-02-02 | 信越化学工業株式会社 | フッ素系表面処理剤及び該表面処理剤で処理された物品 |
CN108329820A (zh) * | 2018-01-03 | 2018-07-27 | 中车青岛四方机车车辆股份有限公司 | 一种聚氨酯涂料 |
WO2020027037A1 (ja) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 日本電産株式会社 | コーティング方法、光学部品、及びレンズアッセンブリ |
WO2021177350A1 (ja) * | 2020-03-04 | 2021-09-10 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
WO2021177348A1 (ja) * | 2020-03-04 | 2021-09-10 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
JP2022007993A (ja) * | 2020-03-04 | 2022-01-13 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
JP2022007992A (ja) * | 2020-03-04 | 2022-01-13 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
WO2022014577A1 (ja) * | 2020-07-13 | 2022-01-20 | 日東電工株式会社 | 積層体 |
WO2022014701A1 (ja) * | 2020-07-17 | 2022-01-20 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
WO2022014576A1 (ja) * | 2020-07-13 | 2022-01-20 | 日東電工株式会社 | 積層体 |
WO2022014696A1 (ja) * | 2020-07-17 | 2022-01-20 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP2022019686A (ja) * | 2020-07-17 | 2022-01-27 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
WO2022054827A1 (ja) * | 2020-09-10 | 2022-03-17 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6451279B2 (ja) | 2014-03-31 | 2019-01-16 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品 |
JP6398500B2 (ja) | 2014-09-10 | 2018-10-03 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素コーティング剤及び該コーティング剤で処理された物品 |
WO2018216406A1 (ja) | 2017-05-25 | 2018-11-29 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物、表面処理剤及び物品 |
CN111886306B (zh) | 2018-03-14 | 2022-05-17 | 信越化学工业株式会社 | 含氟涂布剂组合物、表面处理剂和物品 |
-
1999
- 1999-04-26 JP JP11882499A patent/JP4672095B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (53)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002265866A (ja) * | 2001-03-13 | 2002-09-18 | Toppan Printing Co Ltd | 低屈折率コーティング剤及び反射防止フィルム |
JP2002277604A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フイルム |
JP4820751B2 (ja) * | 2003-06-13 | 2011-11-24 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 皮膜付き光学レンズの仮の最外皮膜層上に別の皮膜層を成膜もしくはそれにより該最外皮膜層を置換する方法 |
WO2004111691A1 (en) * | 2003-06-13 | 2004-12-23 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Process for replacing an initial outermost coating layer of a coated optical lens by or depositing thereon a different coating layer |
JP2006527402A (ja) * | 2003-06-13 | 2006-11-30 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 皮膜付き光学レンズの仮の最外皮膜層上に別の皮膜層を成膜もしくはそれにより該最外皮膜層を置換する方法 |
US7217440B2 (en) | 2003-06-13 | 2007-05-15 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Process for replacing an initial outermost coating layer of a coated optical lens with a different coating layer or by depositing thereon a different coating layer |
JP2006201558A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Hitachi Ltd | 撥液層を有する物品又は透明部品、撥液層を有する光学レンズ及びその製造方法、並びにこの光学レンズを用いた投射型画像表示装置 |
FR2892409A1 (fr) * | 2005-10-25 | 2007-04-27 | Saint Gobain | Procede de traitement d'un substrat |
WO2007048963A2 (fr) * | 2005-10-25 | 2007-05-03 | Saint-Gobain Glass France | Procede de traitement d'un substrat |
WO2007048963A3 (fr) * | 2005-10-25 | 2007-06-14 | Saint Gobain | Procede de traitement d'un substrat |
WO2007051841A1 (en) * | 2005-11-04 | 2007-05-10 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Process for coating an optical article with an anti-fouling surface coating by vacuum evaporation |
US8945684B2 (en) | 2005-11-04 | 2015-02-03 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Process for coating an article with an anti-fouling surface coating by vacuum evaporation |
WO2007068760A2 (en) * | 2005-12-15 | 2007-06-21 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Article coated with a ultra high hydrophobic film and process for obtaining same |
JP2009519149A (ja) * | 2005-12-15 | 2009-05-14 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 超高疎水性膜で被覆された物品およびその取得方法 |
WO2007068760A3 (en) * | 2005-12-15 | 2007-11-22 | Essilor Int | Article coated with a ultra high hydrophobic film and process for obtaining same |
WO2007137972A1 (en) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Process for obtaining a hard coated article having anti-fouling properties |
US8163354B2 (en) | 2006-05-29 | 2012-04-24 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Process for obtaining a hard coated article having anti-fouling properties |
CN104419236A (zh) * | 2013-08-29 | 2015-03-18 | 江苏远大光学科技有限公司 | 一种镜片处理药水 |
JP2017025324A (ja) * | 2016-08-18 | 2017-02-02 | 信越化学工業株式会社 | フッ素系表面処理剤及び該表面処理剤で処理された物品 |
CN108329820A (zh) * | 2018-01-03 | 2018-07-27 | 中车青岛四方机车车辆股份有限公司 | 一种聚氨酯涂料 |
CN108329820B (zh) * | 2018-01-03 | 2020-05-08 | 中车青岛四方机车车辆股份有限公司 | 一种聚氨酯涂料 |
WO2020027037A1 (ja) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 日本電産株式会社 | コーティング方法、光学部品、及びレンズアッセンブリ |
CN112513682A (zh) * | 2018-07-31 | 2021-03-16 | 日本电产株式会社 | 涂敷方法、光学元件以及透镜组件 |
JP2022007992A (ja) * | 2020-03-04 | 2022-01-13 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP2022121462A (ja) * | 2020-03-04 | 2022-08-19 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP2022007993A (ja) * | 2020-03-04 | 2022-01-13 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
WO2021177350A1 (ja) * | 2020-03-04 | 2021-09-10 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP7113160B1 (ja) | 2020-03-04 | 2022-08-04 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
WO2021177348A1 (ja) * | 2020-03-04 | 2021-09-10 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
JP7089609B2 (ja) | 2020-03-04 | 2022-06-22 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP7089610B2 (ja) | 2020-03-04 | 2022-06-22 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
JP7228067B2 (ja) | 2020-03-04 | 2023-02-22 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP7147095B2 (ja) | 2020-03-04 | 2022-10-04 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
JP2022130456A (ja) * | 2020-03-04 | 2022-09-06 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP2022130457A (ja) * | 2020-03-04 | 2022-09-06 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
WO2022014577A1 (ja) * | 2020-07-13 | 2022-01-20 | 日東電工株式会社 | 積層体 |
CN115867436A (zh) * | 2020-07-13 | 2023-03-28 | 日东电工株式会社 | 层叠体 |
WO2022014576A1 (ja) * | 2020-07-13 | 2022-01-20 | 日東電工株式会社 | 積層体 |
CN115867436B (zh) * | 2020-07-13 | 2024-01-26 | 日东电工株式会社 | 层叠体 |
JP7101297B2 (ja) | 2020-07-17 | 2022-07-14 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP2022019686A (ja) * | 2020-07-17 | 2022-01-27 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
WO2022014701A1 (ja) * | 2020-07-17 | 2022-01-20 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
WO2022014696A1 (ja) * | 2020-07-17 | 2022-01-20 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
WO2022054827A1 (ja) * | 2020-09-10 | 2022-03-17 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP7204849B2 (ja) | 2020-09-10 | 2023-01-16 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP7204850B2 (ja) | 2020-09-10 | 2023-01-16 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
JP2022046445A (ja) * | 2020-09-10 | 2022-03-23 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP2023040132A (ja) * | 2020-09-10 | 2023-03-22 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
WO2022054828A1 (ja) * | 2020-09-10 | 2022-03-17 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
JP2023054799A (ja) * | 2020-09-10 | 2023-04-14 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP7273239B2 (ja) | 2020-09-10 | 2023-05-12 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 |
JP7273238B2 (ja) | 2020-09-10 | 2023-05-12 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
JP2022046446A (ja) * | 2020-09-10 | 2022-03-23 | デクセリアルズ株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4672095B2 (ja) | 2011-04-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000308846A (ja) | 防汚層の形成方法 | |
JP2006175438A (ja) | 防汚層の形成方法 | |
US6582823B1 (en) | Wear-resistant polymeric articles and methods of making the same | |
AU2002313976B2 (en) | Hybrid film, antireflection film comprising it, optical product, and method for restoring the defogging property of hybrid film | |
JP3849673B2 (ja) | 防汚性眼鏡レンズ | |
CN111163936B (zh) | 防水防油构件和防水防油构件的制造方法 | |
JP2005301208A (ja) | 防汚性光学物品の製造方法 | |
EA024640B1 (ru) | Способ изготовления стойкого к истиранию оптического изделия | |
JPH09258003A (ja) | 防汚性レンズ | |
JP2006126782A (ja) | 光学物品の防汚層処理方法 | |
JP2012529663A (ja) | 多層塗膜スタックの接着を改善するために開裂可能な界面活性剤により改質された硬化性塗膜組成物 | |
JP2003064348A (ja) | 防汚性表面処理剤及び防汚性表面処理用組成物 | |
JP2009251008A (ja) | 光学物品およびその製造方法 | |
JPH11133206A (ja) | 反射防止フィルタおよびこの反射防止フィルタを用いた文字画像表示装置 | |
JP2003064345A (ja) | 表面改質材、表面改質膜用組成物、表面改質膜、光学部品及び表示装置 | |
JPH10195417A (ja) | 防汚膜形成用組成物及び表示素子用フィルター | |
JP3449070B2 (ja) | 汚れ防止処理方法 | |
JP3570134B2 (ja) | 防汚膜の形成方法及び表示素子用フィルター | |
JPH10232301A (ja) | 反射防止膜及び光学素材 | |
KR100693656B1 (ko) | 방오성 안경 렌즈 및 그 제조방법 | |
TW202222906A (zh) | 表面處理劑 | |
JPH10148701A (ja) | 反射防止フィルタおよびその製造方法ならびにこの反射防止フィルタを用いた表示装置 | |
JP2006039007A (ja) | 反射防止部材 | |
US20070178301A1 (en) | Antisoiling dlc layer | |
JPH1192177A (ja) | 撥水処理ガラス及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051025 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070227 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070423 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080205 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080325 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080428 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20081107 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110119 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140128 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |