JP2000306231A - Magnetic recording medium - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、スパッタリング法
により基板上に磁性層が形成されてなる磁気記録媒体に
関する。[0001] The present invention relates to a magnetic recording medium having a magnetic layer formed on a substrate by a sputtering method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】コンピューター等の外部記憶装置として
従来より多用されているハードディスクドライブでは、
記録媒体として、アルミニウムやガラス等からなる基板
上に磁性層が形成されてなる磁気ディスクを用いてい
る。そして、この磁気ディスクに対向するように、スラ
イダーに組み込まれた磁気ヘッドを支持するとともに、
磁気ディスクを回転させたときに、スライダーに組み込
まれた磁気ヘッドが磁気ディスク上で僅かに浮上するよ
うにしておく。そして、磁気ディスクに対する磁気情報
の記録再生は、回転する磁気ディスク上において僅かに
浮上した状態の磁気ヘッドによって行う。2. Description of the Related Art Hard disk drives which have been frequently used as external storage devices such as computers,
As a recording medium, a magnetic disk in which a magnetic layer is formed on a substrate made of aluminum, glass, or the like is used. And, while supporting the magnetic head incorporated in the slider so as to face this magnetic disk,
When the magnetic disk is rotated, the magnetic head incorporated in the slider is slightly floated above the magnetic disk. Recording and reproduction of magnetic information on and from the magnetic disk are performed by a magnetic head slightly floating above the rotating magnetic disk.
【０００３】このようなハードディスクドライブでは、
高記録密度化を進めるために、磁気ヘッドと磁気ディス
クの間隙を極力狭めることが要求されている。このと
き、磁気ディスクには、記録再生時の磁気ヘッドの浮上
量よりも高い突起がディスク表面に存在しないことが要
求される。そこで、アルミニウムやガラス等からなる基
板上に磁性層が形成されてなる磁気ディスクを製造する
にあたっては、当該基板の作製時に、その表面の突起を
取り除く研磨工程や洗浄工程を繰り返し実施するように
している。しかしながら、このようにして作製した基板
を使用して磁気ディスクを製造すると、作業が複雑であ
るため製造コストが高くついてしまう。In such a hard disk drive,
In order to increase the recording density, it is required to reduce the gap between the magnetic head and the magnetic disk as much as possible. At this time, it is required that the magnetic disk does not have protrusions higher than the flying height of the magnetic head during recording and reproduction on the disk surface. Therefore, when manufacturing a magnetic disk in which a magnetic layer is formed on a substrate made of aluminum, glass, or the like, when the substrate is manufactured, a polishing process and a cleaning process for removing protrusions on the surface thereof are repeatedly performed. I have. However, when a magnetic disk is manufactured using the substrate manufactured in this way, the operation is complicated and the manufacturing cost is high.
【０００４】そこで、磁気ディスクの基板として、プラ
スチックからなる基板を使用する手法が考案されてい
る。プラスチック基板は、金型を用いた射出成形等の手
段で作製されるため、金型の表面平滑性により基板の表
面平滑性が決定される。したがって、金型の表面平滑性
を十分に高めておけば、作製された基板に研磨や洗浄を
施す必要がない。そして、金型の表面平滑性は、比較的
容易に確保される。したがって、プラスチック基板を使
用すれば、磁気ディスクを製造する作業が煩雑となるこ
とがなく、製造コストを安価に抑えることが可能とな
る。Therefore, a method of using a plastic substrate as a magnetic disk substrate has been devised. Since the plastic substrate is manufactured by means such as injection molding using a mold, the surface smoothness of the substrate is determined by the surface smoothness of the mold. Therefore, if the surface smoothness of the mold is sufficiently enhanced, it is not necessary to polish or wash the manufactured substrate. Then, the surface smoothness of the mold is relatively easily secured. Therefore, if a plastic substrate is used, the operation of manufacturing the magnetic disk does not become complicated, and the manufacturing cost can be reduced.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気記録媒
体の磁性層は、例えば、Ｃｏ系合金薄膜をスパッタリン
グ法で成膜することにより作製される。スパッタリング
法で薄膜を成膜する場合、原子の移動度（基板表面に飛
来した原子が結晶軸を揃えて密に並ぶまでに有する運動
エネルギー）は、基板温度が低い時よりも、基板温度が
高いときの方が大きい。したがって、基板上にＣｏ系合
金薄膜をスパッタリング法により成膜する場合は、２０
０℃程度以上に基板を加熱することで、Ｃｏ系合金薄膜
の磁気異方性を高めて、磁性層の磁気特性を向上するこ
とができる。The magnetic layer of the magnetic recording medium is produced by, for example, forming a Co-based alloy thin film by a sputtering method. When a thin film is formed by a sputtering method, the mobility of atoms (kinetic energy of atoms flying to the surface of the substrate until they are aligned densely with their crystal axes aligned) is higher when the substrate temperature is lower than when the substrate temperature is low. Time is bigger. Therefore, when a Co-based alloy thin film is formed on a substrate by sputtering,
By heating the substrate to about 0 ° C. or higher, the magnetic anisotropy of the Co-based alloy thin film can be increased, and the magnetic properties of the magnetic layer can be improved.
【０００６】しかし、上述したようなプラスチック基板
はガラス転移温度が低いため、プラスチック基板を使用
する場合は、２００℃以上という高い温度に加熱した状
態で成膜することはできない。したがって、プラスチッ
ク基板を採用するにあたっては、室温程度の基板温度で
磁性層の成膜を行っても、磁気記録媒体として十分な磁
気異方性を磁性層に付与できるようにすることが望まれ
ている。However, since the plastic substrate described above has a low glass transition temperature, it is impossible to form a film while heating to a high temperature of 200 ° C. or more when using a plastic substrate. Therefore, in adopting a plastic substrate, it is desired that the magnetic layer can be given sufficient magnetic anisotropy as a magnetic recording medium even when the magnetic layer is formed at a substrate temperature of about room temperature. I have.
【０００７】また、磁気記録媒体においては、磁性層の
磁気異方性を高めるだけでなく、記録再生に使用する磁
気ヘッドの特性等を考慮して、磁気異方性以外の磁気特
性についても最適なものとすることが望まれる。In the magnetic recording medium, not only the magnetic anisotropy of the magnetic layer is increased, but also the magnetic characteristics other than the magnetic anisotropy are optimized in consideration of the characteristics of the magnetic head used for recording and reproduction. It is hoped that it will be.
【０００８】すなわち、磁気記録の分野においては、高
記録密度化が要求されているとともに、信号形態もアナ
ログ信号からデジタル信号に変わりつつある。そのた
め、高記録密度化と共に、信号形態に合わせた媒体設計
も必要となっている。そして、磁気記録媒体を設計する
にあたっては、磁気異方性以外の磁気特性についても、
記録再生に使用する磁気ヘッドの特性等によって考慮し
なければならない要素が多数ある。That is, in the field of magnetic recording, higher recording density is required, and the signal form is changing from an analog signal to a digital signal. Therefore, it is necessary to design a medium according to a signal form as well as to increase the recording density. In designing a magnetic recording medium, magnetic characteristics other than magnetic anisotropy are also considered.
There are many factors that need to be considered depending on the characteristics of the magnetic head used for recording and reproduction.
【０００９】そして、磁気記録媒体の磁気特性のうち、
再生用磁気ヘッドの再生能力によって制限される磁気特
性が残留磁化厚みである。磁性層の残留磁化厚みは、磁
性層の残留磁化Ｍｒと、磁性層の厚さｔとの積Ｍｒ・ｔ
で表される。この残留磁化厚みは、ヘッドアンプのノイ
ズを無視できる程度に再生出力が大きくなるように（す
なわち十分に高いＳ／Ｎを得るために）、一定の値以上
である必要がある。そこで、ヘッドアンプのノイズを無
視できる程度に再生出力が大きくなるようにするという
観点から、残留磁化厚みの最低値が決定される。Then, among the magnetic characteristics of the magnetic recording medium,
The magnetic characteristic limited by the reproducing ability of the reproducing magnetic head is the residual magnetization thickness. The residual magnetization thickness of the magnetic layer is a product Mr · t of the residual magnetization Mr of the magnetic layer and the thickness t of the magnetic layer.
It is represented by This remnant magnetization thickness needs to be a certain value or more so that the reproduction output becomes large enough to ignore the noise of the head amplifier (that is, to obtain a sufficiently high S / N). Therefore, the minimum value of the residual magnetization thickness is determined from the viewpoint of increasing the reproduction output to such an extent that the noise of the head amplifier can be ignored.
【００１０】また、磁気記録媒体の磁気特性のうち、記
録用磁気ヘッドの書き込み能力によって制限される磁気
特性が保磁力である。磁性層の保磁力は、記録用磁気ヘ
ッドの書き込み能力の範囲内である必要がある。そこ
で、記録用磁気ヘッドの書き込み能力の範囲内にすると
いう観点から、保磁力の最大値が決定される。[0010] Of the magnetic characteristics of the magnetic recording medium, the magnetic characteristics limited by the writing ability of the recording magnetic head are the coercive forces. The coercive force of the magnetic layer needs to be within the range of the writing capability of the recording magnetic head. Therefore, the maximum value of the coercive force is determined from the viewpoint of keeping the write capability of the recording magnetic head within the range.
【００１１】更に、高記録密度（特に高線記録密度）を
実現するには、分解能を高め、高周波信号を記録再生し
ても再生出力が小さくならないようにすることが必要で
ある。分解能を示す指標としては、保磁力に対する残留
磁化厚みの比（Ｍｒ・ｔ／Ｈｃ）がある。この値が小さ
いほど、分解能が高まり、周波数特性が向上する。した
がって、分解能を高めるという観点からは、保磁力を大
きくし、且つ残留磁化厚みを小さくすることが望まれ
る。Further, in order to realize a high recording density (in particular, a high linear recording density), it is necessary to increase the resolution so that the reproduction output does not decrease even when recording and reproducing a high-frequency signal. As an index indicating the resolution, there is a ratio of the residual magnetization thickness to the coercive force (Mr · t / Hc). The smaller the value, the higher the resolution and the better the frequency characteristics. Therefore, from the viewpoint of enhancing the resolution, it is desired to increase the coercive force and reduce the thickness of the remanent magnetization.
【００１２】以上のことから、磁気記録媒体の高記録密
度化を図るには、残留磁化厚みの値を、再生用磁気ヘッ
ドの再生能力によって決定される最低値とし、且つ、保
磁力の値を、記録用磁気ヘッドの書き込み能力によって
決定される最大値とすれば良いことが分かる。From the above, in order to increase the recording density of the magnetic recording medium, the value of the residual magnetization thickness is set to the minimum value determined by the reproducing capability of the reproducing magnetic head, and the value of the coercive force is set to It can be seen that the maximum value should be determined by the writing capability of the recording magnetic head.
【００１３】残留磁化厚みが再生用磁気ヘッドの再生能
力によって決定される最低値よりも大きい場合でも、ま
た、保磁力が記録用磁気ヘッドの書き込み能力によって
決定される最大値よりも大きい場合でも、本来実現可能
な最高レベルの高記録密度を達成することができない。
したがって、磁気記録媒体の高記録密度化を進めるに
は、保磁力と残留磁化厚みをそれぞれ独立して制御し、
それぞれの値を最適値にする必要がある。しかも、保磁
力や残留磁化厚みの最適な値は、磁気ヘッドの改良に伴
い変化する場合がある。そのため、保磁力や残留磁化厚
みの値は、それぞれを独立して広い値にわたって容易に
変えることが可能であることが望まれる。[0013] Even when the residual magnetization thickness is larger than the minimum value determined by the reproducing capability of the reproducing magnetic head, and when the coercive force is larger than the maximum value determined by the writing capability of the recording magnetic head, It is not possible to achieve the highest possible high recording density.
Therefore, in order to increase the recording density of the magnetic recording medium, the coercive force and the residual magnetization thickness are controlled independently,
Each value must be optimized. In addition, the optimum values of the coercive force and the residual magnetization thickness may change with the improvement of the magnetic head. Therefore, it is desired that the values of the coercive force and the residual magnetization thickness can be easily changed over a wide range independently.
【００１４】また、別の重要な制限要素として、保磁力
や残留磁化厚み等の磁気特性を必要に応じて独立して変
えることが、磁性層を物理的に支持するのに適した基板
上において実現できるということも必要である。更に、
目標の磁気特性を実現するための方法をひとたび決めた
後は、容易に変更可能なパラメータを調整することで、
保磁力や残留磁化厚み等の磁気特性を独立して微調整で
きることが望ましい。Another important limiting factor is that the magnetic properties such as coercive force and remanent magnetization thickness can be independently changed as necessary, on a substrate suitable for physically supporting the magnetic layer. It must also be possible. Furthermore,
Once you've decided on a way to achieve your target magnetic properties, you can adjust parameters that can be easily changed,
It is desirable that magnetic properties such as coercive force and residual magnetization thickness can be finely adjusted independently.
【００１５】以上のように、磁気記録媒体の高記録密度
化を進めるには、保磁力や残留磁化厚み等の磁気特性を
必要に応じて独立して制御できるようにすることが望ま
れる。しかも、プラスチック基板を採用する場合には、
基板をあまり加熱することができないので、室温程度の
基板温度で磁性層の成膜を行っても、保磁力や残留磁化
厚み等の磁気特性を制御できるようにすることが望まれ
る。As described above, in order to increase the recording density of a magnetic recording medium, it is desirable to be able to independently control magnetic properties such as coercive force and residual magnetization thickness as needed. And when using a plastic substrate,
Since the substrate cannot be heated too much, it is desired to be able to control magnetic properties such as coercive force and residual magnetization thickness even when the magnetic layer is formed at a substrate temperature of about room temperature.
【００１６】本発明は、以上のような従来の実情を鑑み
て提案されたものであり、保磁力や残留磁化厚み等の磁
気特性を制御して、高記録密度化に適した磁気記録媒体
を提供することを目的としている。The present invention has been proposed in view of the above-described conventional circumstances, and provides a magnetic recording medium suitable for high recording density by controlling magnetic characteristics such as coercive force and residual magnetization thickness. It is intended to provide.
【００１７】[0017]
【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気記録媒
体は、少なくともＣｏ及びＰｔを含む磁性層が基板上に
形成されてなる磁気記録媒体である。そして、上記磁性
層が、酸素含有雰囲気中でのスパッタリングにより成膜
されてなり、当該磁性層中に８原子％以上、１６原子％
以下の酸素を含有することを特徴とする。A magnetic recording medium according to the present invention is a magnetic recording medium having a magnetic layer containing at least Co and Pt formed on a substrate. The magnetic layer is formed by sputtering in an oxygen-containing atmosphere, and the magnetic layer contains at least 8 atomic% and at least 16 atomic%.
It is characterized by containing the following oxygen.
【００１８】以上のような本発明に係る磁気記録媒体
は、少なくともＣｏ及びＰｔを含む磁性層中に８原子％
以上、１６原子％以下の酸素を含有することで、高保磁
力と高Ｓ／Ｎとを兼ね備える。特に、この磁気記録媒体
は、基板加熱を行うことなく磁性層を成膜しても、高保
磁力と高Ｓ／Ｎとを兼ね備えることができる。したがっ
て、本発明に係る磁気記録媒体では、基板としてプラス
チック基板を採用することもできる。In the magnetic recording medium according to the present invention as described above, the magnetic layer containing at least Co and Pt contains at least 8 atomic%.
As described above, by containing 16 atomic% or less of oxygen, high coercive force and high S / N are provided. In particular, this magnetic recording medium can have both high coercive force and high S / N even if the magnetic layer is formed without heating the substrate. Therefore, the magnetic recording medium according to the present invention may employ a plastic substrate as the substrate.
【００１９】[0019]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【００２０】本発明を適用した磁気記録媒体の一例を図
１に示す。この磁気記録媒体１は、ディスク基板上に磁
性層を含む積層膜が形成されてなる磁気ディスクであ
り、図１に示すように、プラスチック材料からなるディ
スク基板２の上に、Ｃｒを主成分とする下地層３と、Ｃ
ｏＣｒ又はＣｒＴｉ等からなる非磁性層４と、ＣｏＰｔ
又はＣｏＰｔＣｒ等からなる磁性層５と、Ｃ等からなる
保護層６とがこの順に積層形成されてなる。FIG. 1 shows an example of a magnetic recording medium to which the present invention is applied. The magnetic recording medium 1 is a magnetic disk in which a laminated film including a magnetic layer is formed on a disk substrate, and as shown in FIG. Underlying layer 3 and C
a nonmagnetic layer 4 made of oCr or CrTi;
Alternatively, a magnetic layer 5 made of CoPtCr or the like and a protective layer 6 made of C or the like are laminated in this order.
【００２１】上記ディスク基板２は、後述するように射
出成形により作製されてなり、その表面の中心線平均粗
さが２ｎｍ以下、最大突起高さが２５ｎｍ以下とされ
る。このディスク基板２は、その表面にグルーブやサー
ボパターンに対応した凹凸パターン等が形成されていて
もよい。ただし、このような凹凸パターンを形成する場
合、上記中心線平均粗さや上記最大突起高さには、凹凸
パターンによる段差は含まれないものとする。The disk substrate 2 is manufactured by injection molding as described later, and has a surface with a center line average roughness of 2 nm or less and a maximum projection height of 25 nm or less. The disk substrate 2 may have an uneven pattern or the like corresponding to a groove or a servo pattern formed on the surface thereof. However, when such a concavo-convex pattern is formed, it is assumed that the center line average roughness and the maximum protrusion height do not include a step due to the concavo-convex pattern.
【００２２】また、上記磁性層５は、情報を磁化の方向
として保持する磁気記録層となるものであり、酸素含有
雰囲気中でのスパッタリングにより成膜されてなる。そ
して、この磁性層５は、少なくともＣｏ及びＰｔを含む
とともに、８原子％以上、１６原子％以下の酸素を含有
する。The magnetic layer 5 serves as a magnetic recording layer for retaining information in the direction of magnetization, and is formed by sputtering in an oxygen-containing atmosphere. The magnetic layer 5 contains at least Co and Pt, and contains oxygen in an amount of 8 atomic% or more and 16 atomic% or less.
【００２３】つぎに、以上のような磁気記録媒体１に使
用されるディスク基板２の作製方法について、具体的な
例を挙げて説明する。Next, a method of manufacturing the disk substrate 2 used for the magnetic recording medium 1 as described above will be described with a specific example.
【００２４】ディスク基板２を作製する際は、先ず、図
２に示すように、ガラス原盤１１を用意する。このガラ
ス基盤１１は、アルカリ、酸又は流水超音波等により洗
浄しておく。このガラス原盤１１の上に、フォトレジス
ト溶液をスピンコータ等を用いて塗布する。フォトレジ
スト溶液の塗布後、フォトレジスト溶液を所定の温度
（通常１０００℃以下）でベークする。これにより、図
３に示すように、ガラス原盤１１の上に、所定の膜厚の
フォトレジスト層１２が形成される。When manufacturing the disk substrate 2, first, as shown in FIG. 2, a glass master 11 is prepared. The glass substrate 11 is cleaned with an alkali, an acid, running water ultrasonic waves, or the like. A photoresist solution is applied onto the glass master 11 using a spin coater or the like. After the application of the photoresist solution, the photoresist solution is baked at a predetermined temperature (usually 1000 ° C. or less). Thus, a photoresist layer 12 having a predetermined thickness is formed on the glass master 11 as shown in FIG.
【００２５】次に、フォトレジスト層１２に対して、図
４に示すように、例えば波長４４２ｎｍのＨｅ−Ｃｄレ
ーザや波長４１２ｎｍのＫｒレーザ等により、所定のカ
ッティングデータに基づいて、グルーブやサーボパター
ン等に対応した所定のパターン露光を施す。パターン露
光後、フォトレジスト層１２に対して、アルカリ性の現
像液等を用いて現像処理を施す。これにより、フォトレ
ジスト層１２の露光部１２ａが溶出され、結果として、
図５に示すように、グルーブやサーボパターン等に対応
した所定のパターンがフォトレジスト層１２に形成され
る。Next, as shown in FIG. 4, for example, a He-Cd laser having a wavelength of 442 nm or a Kr laser having a wavelength of 412 nm is applied to the photoresist layer 12 on the basis of predetermined cutting data based on groove or servo pattern. A predetermined pattern exposure corresponding to the above is performed. After the pattern exposure, the photoresist layer 12 is subjected to a development process using an alkaline developer or the like. Thereby, the exposed portion 12a of the photoresist layer 12 is eluted, and as a result,
As shown in FIG. 5, a predetermined pattern corresponding to a groove, a servo pattern, or the like is formed on the photoresist layer 12.
【００２６】次に、所定のパターンが形成されたフォト
レジスト層１２上に、導電化層を形成し、更にＮｉ等の
めっきを施す。これにより、図６に示すように、フォト
レジスト層１２の上にスタンパ１３が形成される。Next, a conductive layer is formed on the photoresist layer 12 on which a predetermined pattern has been formed, and plated with Ni or the like. Thus, a stamper 13 is formed on the photoresist layer 12, as shown in FIG.
【００２７】次に、スタンパ１３をガラス原盤１１及び
フォトレジスト層１２から剥離するとともに、剥離した
スタンパ１３の表面上に残っているフォトレジストをア
ルカリ溶液や有機溶剤等により洗浄して除去する。ま
た、このスタンパ１３の裏面を研磨して、スタンパ１３
を所望の厚みに整える。これにより、図７に示すよう
に、ディスク基板射出成形用のスタンパ１３が完成す
る。Next, the stamper 13 is peeled off from the glass master 11 and the photoresist layer 12, and the photoresist remaining on the surface of the peeled stamper 13 is removed by washing with an alkaline solution or an organic solvent. Further, the back surface of the stamper 13 is polished to
Is adjusted to a desired thickness. Thereby, as shown in FIG. 7, the stamper 13 for disk substrate injection molding is completed.
【００２８】なお、ディスク基板２として、グルーブや
サーボパターン等を有していない平板のディスク基板を
作製する場合には、上記工程のうち、パターン露光及び
現像処理を行わないようにする。この場合、フォトレジ
スト溶液の塗布及びベーク処理だけを行い、その上にＮ
ｉ等のめっきを施す。これにより、表面に凹凸パターン
の無い、平板状のスタンパが得られる。When a flat disk substrate having no groove, servo pattern, or the like is manufactured as the disk substrate 2, the pattern exposure and development processing in the above steps are not performed. In this case, only application and baking of a photoresist solution are performed, and N
Apply plating such as i. Thereby, a flat stamper having no uneven pattern on the surface can be obtained.
【００２９】ディスク基板２は、以上のように作製され
たスタンパ１３を用いて、プラスチック材料を射出成形
することで作製される。このとき得られるディスク基板
表面の粗さは、フォトレジスト層１２の表面の粗さに対
応したものとなる。そして、本発明者が実際に、以上の
ようにディスク基板２を作製したところ、ディスク基板
表面の中心線平均粗さＲａは２ｎｍ以下、最大の突起高
さＲmaxは２５ｎｍ以下となった。このように、射出成
形によりディスク基板２を作製することで、ディスク基
板表面の突起を取り除く研磨工程や洗浄工程を施すこと
なく、表面平滑性に優れたディスク基板２を作製するこ
とができる。The disk substrate 2 is manufactured by injection-molding a plastic material using the stamper 13 manufactured as described above. The surface roughness of the disk substrate obtained at this time corresponds to the surface roughness of the photoresist layer 12. When the inventor actually manufactured the disk substrate 2 as described above, the center line average roughness Ra of the disk substrate surface was 2 nm or less, and the maximum protrusion height Rmax was 25 nm or less. As described above, by manufacturing the disk substrate 2 by injection molding, the disk substrate 2 having excellent surface smoothness can be manufactured without performing a polishing step or a cleaning step of removing projections on the disk substrate surface.
【００３０】磁気記録媒体１は、以上のように作製され
たディスク基板２の上に磁性層５を含む積層膜を成膜す
ることで作製される。ディスク基板２上への積層膜の成
膜には、例えば、図８に示すようなインライン型スパッ
タリング装置２１を用いる。The magnetic recording medium 1 is manufactured by forming a laminated film including the magnetic layer 5 on the disk substrate 2 manufactured as described above. For forming a laminated film on the disk substrate 2, for example, an in-line type sputtering apparatus 21 as shown in FIG. 8 is used.
【００３１】このインライン型スパッタリング装置２１
は、一列に並んだ５つのチャンバー２３ａ〜２３ｅを備
えており、各チャンバー２３ａ〜２３ｅ毎に、チャンバ
ー内の大気を排出して内部を高真空に保つための排気装
置２２ａ〜２２ｅと、スパッタガスを導入するためのガ
ス導入口２６ａ〜２６ｅとをそれぞれ備えている。そし
て、各チャンバー２３ａ〜２３ｅの内部は、排気装置２
２ａ〜２２ｅによって高真空に保たれるとともに、成膜
時にはガス導入口２６ａ〜２６ｅからアルゴンガス等の
スパッタガスが導入される。This in-line type sputtering apparatus 21
Is provided with five chambers 23a to 23e arranged in a line, and for each of the chambers 23a to 23e, exhaust devices 22a to 22e for exhausting the atmosphere in the chambers and keeping the inside at a high vacuum, and a sputtering gas And gas introduction ports 26a to 26e for introducing the gas. The interior of each of the chambers 23a to 23e is provided with an exhaust device 2
A high vacuum is maintained by 2a to 22e, and a sputtering gas such as an argon gas is introduced from gas inlets 26a to 26e during film formation.
【００３２】このインライン型スパッタリング装置２１
において、チャンバー２３ａの内部には、ターゲット電
源より整合回路を介して電力が供給されるカソード２４
ａが配されている。また、チャンバー２３ａの内部に
は、カソード２４ａに接触した状態で保持されているバ
ッキングプレートも配されており、このバッキングプレ
ート上にターゲットが設置される。なお、後述する実施
例の磁気ディスクを作製する際、このチャンバー２３ａ
の内部には、Ｃｒからなる下地層用のターゲットを配し
た。This in-line type sputtering apparatus 21
, A cathode 24 to which power is supplied from a target power supply via a matching circuit is provided inside the chamber 23a.
a is arranged. A backing plate held in contact with the cathode 24a is also provided inside the chamber 23a, and a target is set on the backing plate. When manufacturing a magnetic disk of an embodiment described later, the chamber 23a
Was provided with an underlayer target made of Cr.
【００３３】チャンバー２３ｂの内部にも、ターゲット
電源より整合回路を介して電力が供給されるカソード２
４ｂが配されている。また、チャンバー２３ｂの内部に
は、カソード２４ｂに接触した状態で保持されているバ
ッキングプレートも配されており、このバッキングプレ
ート上にターゲットが設置される。なお、後述する実施
例の磁気ディスクを作製する際、このチャンバー２３ｂ
の内部には、ＣｏＰｔ又はＣｏＰｔＣｒからなる磁性層
用のターゲットを配した。The cathode 2 to which power is supplied from a target power supply via a matching circuit is also provided inside the chamber 23b.
4b are provided. A backing plate held in contact with the cathode 24b is also provided inside the chamber 23b, and a target is set on the backing plate. When manufacturing a magnetic disk of an embodiment described later, the chamber 23b
Was provided with a magnetic layer target made of CoPt or CoPtCr.
【００３４】チャンバー２３ｃの内部にも、ターゲット
電源より整合回路を介して電力が供給されるカソード２
４ｃが配されている。また、チャンバー２３ｃの内部に
は、カソード２４ｃに接触した状態で保持されているバ
ッキングプレートも配されており、このバッキングプレ
ート上にターゲットが設置される。なお、後述する実施
例の磁気ディスクを作製する際、このチャンバー２３ｃ
の内部には、ＣｏＣｒ又はＣｒＴｉからなる非磁性層用
のターゲットを配した。The cathode 2 to which power is supplied from a target power supply via a matching circuit is also provided inside the chamber 23c.
4c are arranged. A backing plate held in contact with the cathode 24c is also provided inside the chamber 23c, and a target is placed on the backing plate. When manufacturing a magnetic disk of an embodiment to be described later, the chamber 23 c
Was provided with a target for a non-magnetic layer made of CoCr or CrTi.
【００３５】チャンバー２３ｄの内部にも、ターゲット
電源より整合回路を介して電力が供給されるカソード２
４ｄが配されている。また、チャンバー２３ｄの内部に
は、カソード２４ｄに接触した状態で保持されているバ
ッキングプレートも配されており、このバッキングプレ
ート上にターゲットが設置される。なお、後述する実施
例の磁気ディスクを作製する際、このチャンバー２３ｄ
の内部には、Ｃからなる保護層用のターゲットを配し
た。A cathode 2 to which power is supplied from a target power supply via a matching circuit is also provided inside the chamber 23d.
4d are arranged. A backing plate held in contact with the cathode 24d is also provided inside the chamber 23d, and a target is set on the backing plate. When manufacturing a magnetic disk of an embodiment described later, the chamber 23d
Was provided with a target for a protective layer made of C.
【００３６】また、このインライン型スパッタリング装
置２１は、ディスク基板２を保持するパレット２５を備
えている。このパレット２５は、各チャンバー２３ａ〜
２３ｅの間を移動可能とされている。そして、ディスク
基板２上への薄膜の成膜時には、ディスク基板２をパレ
ット２５によって保持した状態で、成膜する薄膜に対応
したチャンバーへとパレット２５を移動させる。The in-line type sputtering apparatus 21 has a pallet 25 for holding the disk substrate 2. This pallet 25 has a
23e. When a thin film is formed on the disk substrate 2, the pallet 25 is moved to a chamber corresponding to the thin film to be formed while the disk substrate 2 is held by the pallet 25.
【００３７】以上のようなインライン型スパッタリング
装置２１を用いてディスク基板２上に磁性層等を成膜す
る際は、ディスク基板２をパレット２５によって支持し
てチャンバー２３ｅの内部へ導入する。そして、排気装
置２２ａ〜２２ｅにより、各チャンバー２３ａ〜２３ｅ
の内部から大気を排出して、各チャンバー２３ａ〜２３
ｅの内部を高真空状態にし、その後、ガス導入口２６ａ
〜２６ｅからアルゴンガス等のスパッタガスを導入し、
各チャンバー２３ａ〜２３ｅの内部を所定のガス圧とす
る。When a magnetic layer or the like is formed on the disk substrate 2 using the in-line type sputtering apparatus 21 as described above, the disk substrate 2 is supported by the pallet 25 and introduced into the chamber 23e. Each of the chambers 23a to 23e is exhausted by the exhaust devices 22a to 22e.
The atmosphere is exhausted from the inside of each of the chambers 23a to 23a.
e to a high vacuum state, and then the gas inlet 26a
~ 26e to introduce a sputtering gas such as argon gas,
The inside of each of the chambers 23a to 23e is set to a predetermined gas pressure.
【００３８】そして、ディスク基板２を支持したパレッ
ト２５を、成膜する薄膜に対応したチャンバー内へと移
動させ、ディスク基板２をターゲットと対向させた状態
で、ターゲットをスパッタリングする。これにより、デ
ィスク基板２上に薄膜が成膜される。そして、このよう
な成膜を、ディスク基板２上に磁性層５を含む所定の積
層膜が形成されるように、それぞれのチャンバー２３ａ
〜２３ｄにおいて行う。Then, the pallet 25 supporting the disk substrate 2 is moved into a chamber corresponding to the thin film to be formed, and the target is sputtered with the disk substrate 2 facing the target. Thus, a thin film is formed on the disk substrate 2. Then, such a film is formed on each of the chambers 23 a so that a predetermined laminated film including the magnetic layer 5 is formed on the disk substrate 2.
To 23d.
【００３９】このとき、成膜する薄膜に対応したチャン
バーへのディスク基板２の移動は、ディスク基板２を支
持したパレット２５を、各チャンバー２３ａ〜２３ｅの
間で移動させることで行う。すなわち、パレット２５
は、各チャンバー２３ａ〜２３ｅの間を移動可能とされ
ており、ディスク基板２は、パレット２５に保持された
状態で、成膜する薄膜に対応したチャンバーへと移動す
ることとなる。At this time, the disk substrate 2 is moved to the chamber corresponding to the thin film to be formed by moving the pallet 25 supporting the disk substrate 2 between the chambers 23a to 23e. That is, the pallet 25
Is movable between the chambers 23a to 23e, and the disk substrate 2 is moved to the chamber corresponding to the thin film to be formed while being held on the pallet 25.
【００４０】以上のようにして、パレット２５によって
支持されたディスク基板２を、各チャンバー２３ａ〜２
３ｄの間を移動させ、各チャンバー内において、所定の
薄膜を所望の厚みにて成膜することで、ディスク基板２
上に磁性層５を含む積層膜を形成する。これにより、デ
ィスク基板２上に磁性層５を含む積層膜が形成されてな
る磁気記録媒体１が完成する。As described above, the disk substrate 2 supported by the pallet 25 is transferred to each of the chambers 23a to 23a.
3d, and a predetermined thin film is formed in a desired thickness in each chamber, whereby the disk substrate 2
A laminated film including the magnetic layer 5 is formed thereon. Thus, the magnetic recording medium 1 in which the laminated film including the magnetic layer 5 is formed on the disk substrate 2 is completed.
【００４１】そして、本発明では、このようにディスク
基板２上に磁性層５を含む積層膜を形成するにあたり、
磁性層５の成膜時に、酸素含有雰囲気中でスパッタリン
グを行うようにする。これにより、後述する実施例から
も分かるように、磁性層５に酸素を含有し、優れた磁気
特性を有する磁気磁気録媒体１を作製することが可能と
なる。According to the present invention, in forming the laminated film including the magnetic layer 5 on the disk substrate 2 as described above,
At the time of forming the magnetic layer 5, sputtering is performed in an oxygen-containing atmosphere. This makes it possible to manufacture the magnetic magnetic recording medium 1 which contains oxygen in the magnetic layer 5 and has excellent magnetic properties, as can be seen from the examples described later.
【００４２】[0042]
【実施例】以下、本発明を適用して、図８に示したイン
ライン型スパッタリング装置２１を用いて実際に金属薄
膜型の磁気ディスクを作製し、その磁気特性等を調べた
結果について説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A description will now be given of the results of applying the present invention to actually fabricating a metal thin-film type magnetic disk using the in-line type sputtering apparatus 21 shown in FIG. 8 and examining the magnetic characteristics and the like.
【００４３】上述のようにプラスチック材料を射出成形
することによって作製されてなるディスク基板上に、Ｃ
ｒからなる下地層と、ＣｏＣｒからなる非磁性層と、Ｃ
ｏ80Ｐｔ20からなる磁性層と、Ｃからなる保護層とをこ
の順に積層形成して、磁気ディスクを作製した。なお、
ディスク基板の材料には、日本ゼオン社製のＺＥＯＮＥ
Ｘ（商品名）を使用した。As described above, a C substrate is formed on a disk substrate formed by injection molding a plastic material.
r underlayer, a non-magnetic layer made of CoCr, and C
A magnetic layer made of o 80 Pt 20 and a protective layer made of C were laminated in this order to produce a magnetic disk. In addition,
The material of the disk substrate is ZEONE manufactured by Zeon Corporation.
X (trade name) was used.
【００４４】この磁気ディスクを作製する際は、先ず、
インライン型スパッタリング装置２１のパレット２５に
ディスク基板をセットし、下地層の成膜用ターゲットと
してＣｒからなるターゲットをチャンバーの内部のカソ
ードに設置し、非磁性層の成膜用ターゲットとしてＣｏ
Ｃｒからなるターゲットをチャンバーの内部のカソード
に設置し、磁性層の成膜用ターゲットとしてＣｏ80Ｐｔ
20からなるターゲットをチャンバーの内部のカソードに
設置し、保護層の成膜用ターゲットとしてＣからなるタ
ーゲットをチャンバーの内部のカソードに設置した。When manufacturing this magnetic disk, first,
The disk substrate is set on the pallet 25 of the in-line type sputtering apparatus 21, a target made of Cr is set on the cathode inside the chamber as a target for forming a base layer, and Co is used as a target for forming a nonmagnetic layer.
A target made of Cr is set on the cathode inside the chamber, and Co 80 Pt is used as a target for forming a magnetic layer.
A target composed of 20 was set on the cathode inside the chamber, and a target composed of C was set on the cathode inside the chamber as a target for forming a protective layer.
【００４５】次に、インライン型スパッタリング装置２
１を用いて、ディスク基板上に下地層、非磁性層、磁性
層及び保護層をこの順に順次形成した。最後に、保護層
の表面にフッ素系潤滑剤を塗布して、磁気ディスクとし
た。Next, the in-line type sputtering apparatus 2
Using No. 1, an underlayer, a nonmagnetic layer, a magnetic layer, and a protective layer were sequentially formed on a disk substrate in this order. Finally, a fluorine-based lubricant was applied to the surface of the protective layer to obtain a magnetic disk.
【００４６】なお、インライン型スパッタリング装置２
１による成膜時において、ターゲットとディスク基板と
の間の距離は、６０ｍｍとなるようにした。また、それ
ぞれのターゲットの直径は、１５２．４ｍｍとした。ま
た、成膜時には、ターゲットと対向するようにディスク
基板を配置した状態でカソードに約６００〜８００Ｖの
マイナス電位を印加し、これにより、ターゲットをスパ
ッタリングした。The in-line type sputtering apparatus 2
At the time of film formation according to No. 1, the distance between the target and the disk substrate was set to 60 mm. The diameter of each target was 152.4 mm. Further, at the time of film formation, a negative potential of about 600 to 800 V was applied to the cathode in a state where the disk substrate was arranged so as to face the target, thereby sputtering the target.
【００４７】また、それぞれの薄膜の膜形成速度は、下
地層（Ｃｒ）の成膜時は２ｎｍ／ｓｅｃとし、非磁性層
（ＣｏＣｒ）の成膜時は１．６ｎｍ／ｓｅｃとし、磁性
層（Ｃｏ80Ｐｔ20）の成膜時は２ｎｍ／ｓｅｃとし、保
護層（Ｃ）の成膜時は０．５ｎｍ／ｓｅｃとした。ま
た、これらの薄膜を成膜する際、スパッタリングは、パ
レット２５の温度を室温に保って行った。The film forming speed of each thin film is 2 nm / sec when forming the underlayer (Cr), 1.6 nm / sec when forming the non-magnetic layer (CoCr), and (Co 80 Pt 20 ) was set at 2 nm / sec, and at the time of forming the protective layer (C), 0.5 nm / sec. In forming these thin films, sputtering was performed while maintaining the temperature of the pallet 25 at room temperature.
【００４８】また、スパッタリング前のチャンバー内圧
力は、２×１０-6Ｐａ以下とし、スパッタリング時のア
ルゴンガスの圧力は、下地層（Ｃｒ）の成膜時は約１．
６Ｐａとし、非磁性層（ＣｏＣｒ）の成膜時は約１．３
Ｐａとし、磁性層（Ｃｏ80Ｐｔ20）の成膜時は約１．５
Ｐａとし、保護層（Ｃ）の成膜時は約０．５Ｐａとし
た。The pressure in the chamber before sputtering is set to 2 × 10 −6 Pa or less, and the pressure of the argon gas during sputtering is set to about 1.10 when the underlayer (Cr) is formed.
6 Pa, and about 1.3 at the time of forming the nonmagnetic layer (CoCr).
Pa, and about 1.5 at the time of forming the magnetic layer (Co 80 Pt 20 ).
Pa, and about 0.5 Pa when forming the protective layer (C).
【００４９】更に、磁性層（Ｃｏ80Ｐｔ20）の成膜時
に、チャンバーの内部に酸素を導入するとともに、その
導入量を変えて複数のサンプル磁気ディスクを作製し
た。Further, at the time of forming the magnetic layer (Co 80 Pt 20 ), oxygen was introduced into the chamber, and a plurality of sample magnetic disks were manufactured by changing the amount of oxygen introduced.
【００５０】そして、以上のように磁性層の成膜時の酸
素導入量が異なる複数のサンプル磁気ディスクについ
て、それらの保磁力Ｈｃを振動試料型磁力計（ＶＳＭ）
で測定した。また、線速度１２．９ｍ／ｓｅｃ、記録信
号波長０．５μｍ（約１００ｋＦＣＩ）としたときのＳ
／Ｎを、電磁変換測定機「ＧＵＺＩＫ−１６３２Ａ」で
測定した。As described above, the coercive force Hc of a plurality of sample magnetic disks having different amounts of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer is measured by a vibrating sample magnetometer (VSM).
Was measured. Further, when the linear velocity is 12.9 m / sec and the recording signal wavelength is 0.5 μm (about 100 kFCI), the S
/ N was measured with an electromagnetic conversion measuring device “GUZIK-1632A”.
【００５１】なお、Ｓ／Ｎの測定に用いる磁気ヘッドに
は、インダクティブ型磁気ヘッドからなる記録用磁気ヘ
ッドと、シールド型の磁気抵抗効果型磁気ヘッドからな
る再生用磁気ヘッドとを組み合わせたものを使用した。
ここで、記録用磁気ヘッドについては、記録トラック幅
を２．７μｍとし、ギャップ長を０．３５μｍとした。
また、再生用磁気ヘッドについては、磁気抵抗効果素子
の磁界検出に寄与する部分の幅（いわゆる再生ＭＲ幅）
を２．３μｍとし、磁気抵抗効果素子を挟持するシール
ドの間隔を０．２６μｍとした。また、これらの磁気ヘ
ッドは、いわゆる５０％ナノスライダーに搭載した。The magnetic head used for S / N measurement is a combination of a recording magnetic head composed of an inductive magnetic head and a reproducing magnetic head composed of a shield type magnetoresistive magnetic head. used.
Here, for the recording magnetic head, the recording track width was 2.7 μm and the gap length was 0.35 μm.
As for the reproducing magnetic head, the width of a portion contributing to magnetic field detection of the magnetoresistive element (so-called reproducing MR width).
Was set to 2.3 μm, and the interval between the shields sandwiching the magnetoresistive element was set to 0.26 μm. These magnetic heads were mounted on a so-called 50% nano slider.
【００５２】各サンプル磁気ディスクについて、保磁力
を測定した結果を図９に示すとともに、Ｓ／Ｎを測定し
た結果を図１０に示す。なお、図９において、横軸は、
アルゴンガス導入量に対する酸素導入量の割合を示して
おり、縦軸は、作製したサンプル磁気ディスクの保磁力
の大きさを示している。また、図１０において、横軸
は、アルゴンガス導入量に対する酸素導入量の割合を示
しており、縦軸は、作製したサンプル磁気ディスクに対
して記録再生を行ったときのＳ／Ｎを示している。FIG. 9 shows the result of measuring the coercive force of each sample magnetic disk, and FIG. 10 shows the result of measuring the S / N. In FIG. 9, the horizontal axis is
The ratio of the oxygen introduction amount to the argon gas introduction amount is shown, and the vertical axis shows the magnitude of the coercive force of the manufactured sample magnetic disk. In FIG. 10, the horizontal axis indicates the ratio of the oxygen introduction amount to the argon gas introduction amount, and the vertical axis indicates the S / N when recording / reproducing was performed on the manufactured sample magnetic disk. I have.
【００５３】図９から分かるように、磁性層成膜時の酸
素導入量を５〜６％としたときに高い保磁力が得られて
おり、それ以上酸素導入量を増やしていくと、保磁力は
低下してしまう。特に、酸素導入量を９％以上とする
と、酸素を導入していない場合よりも保磁力が低下して
しまう。As can be seen from FIG. 9, a high coercive force is obtained when the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer is 5 to 6%, and when the amount of oxygen introduced is further increased, the coercive force becomes higher. Will decrease. In particular, when the oxygen introduction amount is 9% or more, the coercive force is lower than when oxygen is not introduced.
【００５４】また、図１０から分かるように、磁性層成
膜時の酸素導入量を約６％としたときに高いＳ／Ｎが得
られており、それ以上酸素導入量を増やしていくと、Ｓ
／Ｎは低下してしまう。特に、酸素導入量を９％以上と
すると、酸素を導入していない場合よりもＳ／Ｎが低下
してしまう。As can be seen from FIG. 10, a high S / N was obtained when the amount of oxygen introduced at the time of forming the magnetic layer was about 6%. S
/ N decreases. In particular, when the oxygen introduction amount is 9% or more, the S / N is lower than when oxygen is not introduced.
【００５５】以上の結果から、磁性層成膜時の酸素導入
量を約６％とすることにより、高い保磁力と高いＳ／Ｎ
とを両立できることが分かる。From the above results, by setting the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer to about 6%, a high coercive force and a high S / N
It can be seen that both can be achieved.
【００５６】つぎに、磁性層成膜時の酸素導入量を１
％、３％、６％として作製した各サンプル磁気ディスク
について、磁性層中に含まれる酸素量を光電子分光分析
法（ＥＳＣＡ）により測定し、磁性層中に含まれる酸素
量と保磁力との関係、並びに磁性層中に含まれる酸素量
とＳ／Ｎとの関係を調べた。磁性層中に含まれる酸素量
と保磁力との関係を調べた結果を図１１に示すととも
に、磁性層中に含まれる酸素量とＳ／Ｎとの関係を調べ
た結果を図１２に示す。Next, the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer was set to 1
%, 3%, and 6% of each sample magnetic disk, the amount of oxygen contained in the magnetic layer was measured by photoelectron spectroscopy (ESCA), and the relationship between the amount of oxygen contained in the magnetic layer and the coercive force was measured. And the relationship between the S / N and the amount of oxygen contained in the magnetic layer. FIG. 11 shows the result of examining the relationship between the amount of oxygen contained in the magnetic layer and the coercive force, and FIG. 12 shows the result of examining the relationship between the amount of oxygen contained in the magnetic layer and S / N.
【００５７】図１１に示すように、磁性層成膜時の酸素
導入量が１％のとき、磁性層中に含まれる酸素量は３〜
９原子％程度であり、このときの保磁力は約７０ｋＡ／
ｍであった。磁性層成膜時の酸素導入量が３％のとき、
磁性層中に含まれる酸素量は６〜１１原子％程度であ
り、このときの保磁力は約１９０ｋＡ／ｍであった。磁
性層成膜時の酸素導入量が６％のとき、磁性層中に含ま
れる酸素量は８〜１６原子％程度であり、このときの保
磁力は約２２０ｋＡ／ｍであった。As shown in FIG. 11, when the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer is 1%, the amount of oxygen contained in the magnetic layer is 3 to 3%.
The coercive force at this time is about 70 kA /
m. When the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer is 3%,
The amount of oxygen contained in the magnetic layer was about 6 to 11 atomic%, and the coercive force at this time was about 190 kA / m. When the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer was 6%, the amount of oxygen contained in the magnetic layer was about 8 to 16 atomic%, and the coercive force at this time was about 220 kA / m.
【００５８】また、図１２に示すように、磁性層成膜時
の酸素導入量が１％のとき、磁性層中に含まれる酸素量
は３〜９原子％程度であり、このときのＳ／Ｎは約１
９．５ｄＢであった。磁性層成膜時の酸素導入量が３％
のとき、磁性層中に含まれる酸素量は６〜１１原子％程
度であり、このときのＳ／Ｎは約２０．５ｄＢであっ
た。磁性層成膜時の酸素導入量が６％のとき、磁性層中
に含まれる酸素量は８〜１６原子％程度であり、このと
きのＳ／Ｎは約２５．５ｄＢであった。As shown in FIG. 12, when the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer is 1%, the amount of oxygen contained in the magnetic layer is about 3 to 9 atomic%. N is about 1
It was 9.5 dB. 3% oxygen introduction during magnetic layer deposition
In this case, the amount of oxygen contained in the magnetic layer was about 6 to 11 atomic%, and the S / N at this time was about 20.5 dB. When the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer was 6%, the amount of oxygen contained in the magnetic layer was about 8 to 16 atomic%, and the S / N at this time was about 25.5 dB.
【００５９】以上の結果から、磁性層成膜時の酸素導入
量を約６％とした場合、磁性層中に含まれる酸素量は８
〜１６原子％程度となり、このときに高い保磁力と高い
Ｓ／Ｎとが両立することが分かる。換言すれば、磁性層
中に８〜１６原子％の酸素を含有させることにより、高
い保磁力と高いＳ／Ｎとを両立させることができる。From the above results, when the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer was set to about 6%, the amount of oxygen contained in the magnetic layer was 8%.
１６16 at%, which indicates that a high coercive force and a high S / N are compatible at this time. In other words, a high coercive force and a high S / N can be achieved at the same time by including 8 to 16 atomic% of oxygen in the magnetic layer.
【００６０】なお、サンプル磁気ディスクのディスク基
板は、上述したように射出成形によりプラスチック材料
を成形することにより作製されたものであり、その表面
の中心線平均粗さＲａは２ｎｍ以下であり、最大突起高
さＲmaxは２５ｎｍ以下であった。このように表面平滑
性に優れたディスク基板を用いることで、記録再生時に
磁気ヘッドの姿勢が不安定になってしまったり、記録再
生時に磁気ヘッドがディスク表面の突起にぶつかってし
まったりするようなことなく、安定に記録再生を行うこ
とが可能となる。The disk substrate of the sample magnetic disk is manufactured by molding a plastic material by injection molding as described above, and the center line average roughness Ra of the surface is 2 nm or less. The protrusion height Rmax was 25 nm or less. By using a disk substrate having excellent surface smoothness, the posture of the magnetic head becomes unstable during recording / reproducing, or the magnetic head hits a protrusion on the disk surface during recording / reproducing. Recording and reproduction can be performed stably without the need.
【００６１】そして、このようなディスク基板は、磁性
層等の成膜を室温で行うようにしているからこそ採用で
きるものである。上記ディスク基板は、射出成形により
プラスチック材料を成形することにより作製されたもの
であるため、ガラス転移温度が低い。そのため、ディス
ク基板を加熱した状態で磁性層等を成膜することはでき
ない。Such a disk substrate can be adopted only because the film formation of the magnetic layer and the like is performed at room temperature. The disc substrate has a low glass transition temperature because it is produced by molding a plastic material by injection molding. Therefore, a magnetic layer or the like cannot be formed while the disk substrate is heated.
【００６２】従来、磁性層の成膜を室温で行うようにし
た場合、高い保磁力と高いＳ／Ｎとを両立することは困
難であった。しかし、図９及び図１０から分かるよう
に、磁性層等の成膜を室温で行うようにしても、磁性層
の成膜時にアルゴンガスに対して約６％の酸素を導入す
ることで、高い保磁力と高いＳ／Ｎとを両立することが
可能となる。換言すれば、本発明を適用して、磁性層の
成膜時に約６％の酸素を導入することにより、容易に優
れた表面平滑性が得られるプラスチック製のディスク基
板を採用しつつ、高い保磁力と高いＳ／Ｎとを両立する
ことが可能となる。Conventionally, when forming a magnetic layer at room temperature, it has been difficult to achieve both high coercive force and high S / N. However, as can be seen from FIGS. 9 and 10, even when the magnetic layer and the like are formed at room temperature, a high level is obtained by introducing about 6% oxygen to the argon gas during the formation of the magnetic layer. It is possible to achieve both coercive force and high S / N. In other words, by applying the present invention and introducing about 6% of oxygen at the time of forming the magnetic layer, a plastic disk substrate that can easily obtain excellent surface smoothness can be used, and high protection can be achieved. It is possible to achieve both magnetic force and high S / N.
【００６３】なお、上述の例では、磁性層をＣｏ80Ｐｔ
20により形成し、非磁性層をＣｏＣｒにより形成した
が、磁性層をＣｏ64Ｐｔ20Ｃｒ16やＣｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13
により形成した場合や、非磁性層をＣｒＴｉにより形成
した場合にも、磁性層中の酸素含有量と保磁力やＳ／Ｎ
との関係は、上述の例とほぼ同様な傾向が見られた。し
たがって、磁性層をＣｏ64Ｐｔ20Ｃｒ16やＣｏ75Ｐｔ12
Ｃｒ13により形成した場合や、非磁性層をＣｒＴｉによ
り形成した場合にも、磁性層中に８〜１６原子％の酸素
を含有させることにより、高い保磁力と高いＳ／Ｎとを
両立させることができる。In the above example, the magnetic layer is made of Co 80 Pt.
20 and the non-magnetic layer was formed of CoCr, but the magnetic layer was formed of Co 64 Pt 20 Cr 16 or Co 75 Pt 12 Cr 13.
Also, when the nonmagnetic layer is formed of CrTi, the oxygen content in the magnetic layer and the coercive force and S / N
, A tendency almost similar to that of the above example was observed. Therefore, the magnetic layer is made of Co 64 Pt 20 Cr 16 or Co 75 Pt 12
And when formed by cr 13, even when the non-magnetic layer is formed by CrTi, by containing from 8 to 16 atomic% of oxygen in the magnetic layer, to achieve both a high coercive force and a high S / N Can be.
【００６４】[0064]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、高記録密度化に適した磁気記録媒体を提供するこ
とができる。すなわち、本発明に係る磁気記録媒体は、
少なくともＣｏ及びＰｔを含む磁性層中に８〜１６原子
％の酸素を含有しており、これにより、高保磁力と高Ｓ
／Ｎとを兼ね備えたものとなっている。特に、この磁気
記録媒体は、基板加熱を行うことなく磁性層を成膜して
も、高保磁力と高Ｓ／Ｎとを兼ね備えることができるの
で、基板としてプラスチック基板を採用することも可能
である。そして、基板としてプラスチック基板を採用す
ることで、製造コストを大幅に低減することができる。As described above in detail, according to the present invention, a magnetic recording medium suitable for high recording density can be provided. That is, the magnetic recording medium according to the present invention
The magnetic layer containing at least Co and Pt contains 8 to 16 atomic% of oxygen, thereby providing high coercive force and high S
/ N. In particular, since the magnetic recording medium can have both high coercive force and high S / N even if the magnetic layer is formed without heating the substrate, a plastic substrate can be used as the substrate. . By adopting a plastic substrate as the substrate, the manufacturing cost can be significantly reduced.
【図１】本発明を適用した磁気記録媒体の一例を示す要
部拡大断面図である。FIG. 1 is a main part enlarged sectional view showing an example of a magnetic recording medium to which the present invention is applied.
【図２】上記磁気記録媒体に用いるディスク基板の作製
方法を示す工程図である。FIG. 2 is a process chart showing a method for manufacturing a disk substrate used for the magnetic recording medium.
【図３】上記磁気記録媒体に用いるディスク基板の作製
方法を示す工程図である。FIG. 3 is a process chart showing a method for manufacturing a disk substrate used for the magnetic recording medium.
【図４】上記磁気記録媒体に用いるディスク基板の作製
方法を示す工程図である。FIG. 4 is a process chart showing a method of manufacturing a disk substrate used for the magnetic recording medium.
【図５】上記磁気記録媒体に用いるディスク基板の作製
方法を示す工程図である。FIG. 5 is a process chart showing a method for manufacturing a disk substrate used for the magnetic recording medium.
【図６】上記磁気記録媒体に用いるディスク基板の作製
方法を示す工程図である。FIG. 6 is a process chart showing a method for manufacturing a disk substrate used for the magnetic recording medium.
【図７】上記磁気記録媒体に用いるディスク基板の作製
方法を示す工程図である。FIG. 7 is a process chart showing a method for manufacturing a disk substrate used for the magnetic recording medium.
【図８】インライン型スパッタリング装置の概略構成を
示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of an in-line type sputtering apparatus.
【図９】磁性層成膜時の酸素導入量を変えて作製した各
サンプル磁気ディスクについて、保磁力を測定した結果
を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing the results of measuring the coercive force of each sample magnetic disk manufactured by changing the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer.
【図１０】磁性層成膜時の酸素導入量を変えて作製した
各サンプル磁気ディスクについて、Ｓ／Ｎを測定した結
果を示す図である。FIG. 10 is a view showing the results of measuring the S / N of each sample magnetic disk manufactured by changing the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer.
【図１１】磁性層成膜時の酸素導入量を変えて作製した
各サンプル磁気ディスクの磁性層中に含まれる酸素量を
測定し、磁性層中に含まれる酸素量と保磁力との関係を
調べた結果を示す図である。FIG. 11 shows the relationship between the amount of oxygen contained in the magnetic layer and the coercive force by measuring the amount of oxygen contained in the magnetic layer of each sample magnetic disk manufactured by changing the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer. It is a figure showing the result of examination.
【図１２】磁性層成膜時の酸素導入量を変えて作製した
各サンプル磁気ディスクの磁性層中に含まれる酸素量を
測定し、磁性層中に含まれる酸素量とＳ／Ｎとの関係を
調べた結果を示す図である。FIG. 12 shows the relationship between the amount of oxygen contained in the magnetic layer and the S / N measured by measuring the amount of oxygen contained in the magnetic layer of each sample magnetic disk manufactured by changing the amount of oxygen introduced during the formation of the magnetic layer. It is a figure which shows the result of having investigated.
１ 磁気記録媒体、 ２ ディスク基板、 ３ 下地
層、 ４ 非磁性層、５ 磁性層、 ６ 保護層Reference Signs List 1 magnetic recording medium, 2 disk substrate, 3 underlayer, 4 nonmagnetic layer, 5 magnetic layer, 6 protective layer
Claims (4)
基板上に形成されてなる磁気記録媒体において、 上記磁性層は、酸素含有雰囲気中でのスパッタリングに
より成膜されてなり、当該磁性層中に８原子％以上、１
６原子％以下の酸素を含有することを特徴とする磁気記
録媒体。1. A magnetic recording medium comprising a magnetic layer containing at least Co and Pt formed on a substrate, wherein the magnetic layer is formed by sputtering in an oxygen-containing atmosphere. 8 atomic% or more, 1
A magnetic recording medium containing 6 atomic% or less of oxygen.
を特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein said substrate is a plastic substrate.
れていることを特徴とする請求項２記載の磁気記録媒
体。3. The magnetic recording medium according to claim 2, wherein an uneven pattern is formed on the surface of the substrate.
含む下地層を有することを特徴とする請求項１記載の磁
気記録媒体。4. The magnetic recording medium according to claim 1, further comprising an underlayer containing at least Cr under the magnetic layer.
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|---|---|---|---|
| JP11112487A JP2000306231A (en) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | Magnetic recording medium |
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|---|---|---|---|
| JP11112487A JP2000306231A (en) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | Magnetic recording medium |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000306231A true JP2000306231A (en) | 2000-11-02 |
Family
ID=14587884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11112487A Pending JP2000306231A (en) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | Magnetic recording medium |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000306231A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003077122A (en) * | 2001-08-31 | 2003-03-14 | Fuji Electric Co Ltd | Perpendicular magnetic recording medium and manufacturing method therefor |
| CN1333387C (en) * | 2004-03-25 | 2007-08-22 | 株式会社东芝 | Magnetic recording medium, method for manufacturing recording medium and magnetic recording apparatus |
-
1999
- 1999-04-20 JP JP11112487A patent/JP2000306231A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003077122A (en) * | 2001-08-31 | 2003-03-14 | Fuji Electric Co Ltd | Perpendicular magnetic recording medium and manufacturing method therefor |
| USRE41282E1 (en) | 2001-08-31 | 2010-04-27 | Fuji Electric Device Technology Co., Ltd. | Perpendicular magnetic recording medium and a method of manufacturing the same |
| JP4626840B2 (en) * | 2001-08-31 | 2011-02-09 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | Perpendicular magnetic recording medium and manufacturing method thereof |
| CN1333387C (en) * | 2004-03-25 | 2007-08-22 | 株式会社东芝 | Magnetic recording medium, method for manufacturing recording medium and magnetic recording apparatus |
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