JP2000305267A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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JP2000305267A
JP2000305267A JP11465099A JP11465099A JP2000305267A JP 2000305267 A JP2000305267 A JP 2000305267A JP 11465099 A JP11465099 A JP 11465099A JP 11465099 A JP11465099 A JP 11465099A JP 2000305267 A JP2000305267 A JP 2000305267A
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monomer
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克夫 越村
Tsukasa Toyoshima
司 豊島
Takashi Nishioka
隆 西岡
Tadaaki Tanaka
忠昭 田中
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 低硬度、高反発弾性であり、かつ優れた特性
バランスを有する、水現像が可能な感光性樹脂組成物を
提供する。 【解決手段】 (1)脂肪族共役ジエン単量体単位を
10〜99.8モル%、1個の重合性不飽和基とアミ
ノ基とを有する単量体単位を0.1〜30モル%、少
なくとも2個の重合性不飽和基を有する単量体単位を
0.1〜20モル%および1個の重合性不飽和基を有
する共重合可能な他の単量体単位を0〜40モル%含有
する粒子状共重合体、(2)光重合性不飽和単量体、並
びに(3)9−フルオレノン、2−i−プロピルチオキ
サントン等で代表される光重合開始剤を含有することを
特徴とする感光性樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水現像が可能な感
光性樹脂組成物に関わり、さらに詳しくは、低硬度、高
反発弾性であり、感光性印刷版やフォトレジスト材料等
として有用な感光性樹脂組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、感光性樹脂組成物はフォトレジス
ト、インキ、印刷版等に広く利用されているが、フォト
レジストや印刷版の多くが現像時に有機溶剤を使用して
いる。しかし近年、作業時の安全性、健康上の問題に加
え、環境に及ぼす有機溶剤の影響が問題となっており、
より安全な水による現像が可能な感光性樹脂組成物が望
まれている。このような要求に対して、例えばポリビニ
ルアルコール、ゼラチン、カゼイン等の水溶性ポリマー
をベース材料とした感光性樹脂組成物が提案されてい
る。しかしながら、従来の水現像性感光性樹脂組成物で
は、極性の強いヒドロキシル基やアミド基等を有するた
め、得られる組成物の光硬化後の硬度が高く、反発弾性
が低くなる。したがって、これらの組成物は、例えば、
柔軟性を有する包装材料の表面に印刷するなどの用途に
は適さない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる問題
点に鑑みてなされたものであり、その課題は、低硬度、
高反発弾性であり、かつ優れた特性バランスを有する、
水現像が可能な感光性樹脂組成物を提供することにあ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、(1)共重合
体中の繰返し単位として、脂肪族共役ジエン単量体単
位を10〜99.8モル%、1個の重合性不飽和基と
アミノ基とを有する単量体単位を0.1〜30モル%、
少なくとも2個の重合性不飽和基を有する単量体単位
を0.1〜20モル%および1個の重合性不飽和基を
有する共重合可能な他の単量体単位を0〜40モル%
(但し、+++=100モル%)含有する粒子
状共重合体、(2)光重合性不飽和単量体、並びに
(3)下記一般式(I)または一般式(II)で表される
化合物の群から選ばれる少なくとも1種の光重合開始剤
を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、
【0005】
【化3】
【0006】
【化4】
【0007】〔一般式(I)および一般式(II) におい
て、XおよびYは相互に独立に、水素原子、ハロゲン原
子、カルボキシル基、炭素数1〜20の1価の炭化水素
基または炭素数1〜20のアルコキシル基を示し、Zは
酸素原子または硫黄原子を示す。〕からなる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。(1)粒子状共重合体 本発明の感光性樹脂組成物の構成成分の一つである粒子
状共重合体は、本質的な成分として、脂肪族共役ジエ
ン単量体(以下、「単量体」という。)、1個の重
合性不飽和基とアミノ基とを有する単量体(以下、「単
量体」という。)、および少なくとも2個の重合性
不飽和基を有する単量体(以下、「単量体」とい
う。)からなり、必要に応じて1個の重合性不飽和基
を有する共重合可能な他の単量体(以下、「単量体」
という。)を含有する単量体混合物を、乳化重合あるい
は懸濁重合することにより製造することができる。単量
体の例としては、1,3−ブタジエン、イソプレン、
2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、クロロプレン
等を挙げることができる。これらの単量体は、単独で
または2種以上を混合して使用することができる。粒子
状共重合体中の繰返し単位において、単量体単位の含
有率は、10〜99.8モル%、好ましくは30〜90
モル%である。この場合、単量体単位の含有率が10
モル%未満では、得られる組成物の光硬化後の強度が低
下し、一方99.8モル%を超えると、得られる組成物
の水現像性が劣り、いずれも好ましくない。
【0009】また、単量体としては、三級アミノ基を
有する単量体が好ましく、その例としては、ジメチルア
ミノメチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノメチ
ル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、2−ジエチルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、2−(ジ−n−プロピルアミノ)エ
チル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノプロピ
ル(メタ)アクリレート、2−ジエチルアミノプロピル
(メタ)アクリレート、2−(ジ−n−プロピルアミ
ノ)プロピル(メタ)アクリレート、3−ジメチルアミ
ノプロピル(メタ)アクリレート、3−ジエチルアミノ
プロピル(メタ)アクリレート、3−(ジ−n−プロピ
ルアミノ)プロピル(メタ)アクリレート等のジアルキ
ルアミノアルキル(メタ)アクリレート類;N−ジメチ
ルアミノメチル(メタ)アクリルアミド、N−ジエチル
アミノメチル(メタ)アクリルアミド、N−(2−ジメ
チルアミノエチル)(メタ)アクリルアミド、N−(2
−ジエチルアミノエチル)(メタ)アクリルアミド、N
−(2−ジメチルアミノプロピル)(メタ)アクリルア
ミド、N−(2−ジエチルアミノプロピル)(メタ)ア
クリルアミド、N−(3−ジメチルアミノプロピル)
(メタ)アクリルアミド、N−(3−ジエチルアミノプ
ロピル)(メタ)アクリルアミド等のN−ジアルキルア
ミノアルキル基含有不飽和アミド類;N,N−ジメチル
−p−アミノスチレン、N,N−ジエチル−p−アミノ
スチレン、ビニルピリジン等の三級アミノ基を有するビ
ニル芳香族化合物等を挙げることができる。これらの三
級アミノ基を有する単量体は、単独でまたは2種以上を
混合して使用することができる。粒子状共重合体中の繰
返し単位において、単量体単位の含有率は、0.1〜
30モル%、好ましくは0.5〜20モル%である。こ
の場合、単量体単位の含有率が0.1モル%未満で
は、得られる組成物の水現像性が乏しく、一方30モル
%を超えると、得られる組成物が硬く脆くなり、いずれ
も好ましくない。
【0010】また、単量体の例としては、エチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ
(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、ジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベン
ゼン、トリビニルベンゼン等を挙げることができる。こ
れらの単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使
用することができる。粒子状共重合体中の繰返し単位に
おいて、単量体単位の含有率は、0.1〜20モル
%、好ましくは0.5〜10モル%である。この場合、
単量体単位の含有率が0.1モル%未満では、得られ
る組成物の水現像性が劣り、一方20モル%を超える
と、粒子状共重合体と(2)光重合性不飽和単量体との
相溶性が低下して組成物の加工性が損なわれ、また組成
物の光硬化後の強度低下が著しくなり、いずれも好まし
くない。
【0011】さらに、単量体については、1個の重合
性不飽和基を有する共重合可能な化合物であれば特に限
定されるものではなく、その例としては、スチレン、α
−メチルスチレン、o−ビニルトルエン、m−ビニルト
ルエン、p−ビニルトルエン、(メタ)アクリロニトリ
ル、シアン化ビニリデン、塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、(メタ)アクリルアミド、マレイミド、メチル(メ
タ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−
プロピル(メタ)アクリレート、i−プロピル(メタ)
アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−
ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)
アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、n−
アミル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)ア
クリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレー
ト、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等を挙げるこ
とができる。これらの単量体は、単独でまたは2種以
上を混合して使用することができる。粒子状共重合体中
の繰返し単位において、単量体単位の含有率は、0〜
40モル%である。この場合、単量体単位の含有率が
40モル%を超えると、組成物の光硬化後の弾性の低下
が著しくなり好ましくない。
【0012】粒子状共重合体は、ラジカル開始剤を用い
る乳化重合法あるいは懸濁重合法により製造することが
できるが、粒子の大きさ、粒子サイズの均一性の点で、
乳化重合法が好ましい。前記ラジカル開始剤としては、
例えば、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキ
シド、t−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペ
ルオキシド、パラメンタンヒドロペルオキシド、ジ−t
−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド等の有機
過酸化物;アゾビスイソブチロニトリルで代表されるジ
アゾ化合物;過硫酸カリウムで代表される無機過酸化
物;これらの過酸化物−硫酸第一鉄の組合せで代表され
るレドックス系触媒等を挙げることができる。これらの
ラジカル開始剤は、単独でまたは2種以上を混合して使
用することができる。乳化重合に使用される乳化剤とし
ては、例えば、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面
活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等を挙
げることができ、またこれらの界面活性剤はふっ素系で
あることもできる。これらの乳化剤は、単独でまたは2
種以上を混合して使用することができる。また、懸濁重
合に使用される懸濁安定剤としては、例えば、ポリビニ
ルアルコール、ポリアクリル酸ナトリウム、ヒドロキシ
エチルセルロース等を挙げることができる。これらの懸
濁安定剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用する
ことができる。乳化重合および懸濁重合において、各単
量体やラジカル開始剤等の重合薬剤は、反応開始時に全
量添加してもよいし、反応開始後に連続的あるいは段階
的に添加してもよい。重合は、酸素を除去した反応器
中、通常、0〜80℃で行われるが、反応途中で温度や
攪拌等の操作条件を適宜に変更することもできる。重合
方式は、連続式、回分式のいずれも可能である。また、
粒子状共重合体は、その粒子表面を親水化し、粒子内部
を疎水化することによって、感光性樹脂組成物の耐水性
と水現像性をさらに向上させることができる。
【0013】粒子状共重合体の数平均粒子径は、通常、
5〜1,500nm、好ましくは10〜1,000n
m、さらに好ましくは20〜500nm、特に好ましく
は30〜300nmである。この場合、粒子状共重合体
の数平均粒子径が5nm未満では、水現像性が低下する
傾向があり、一方1,500nmを超えると、加工性が
低下する傾向がある。本発明において、粒子状共重合体
は、単独でまたは2種以上を混合して使用することがで
きる。
【0014】(2)光重合性不飽和単量体 本発明の感光性樹脂組成物の構成成分の一つである光重
合性不飽和単量体については、後述する(3)光重合開
始剤の存在下での光照射により重合できるものであれば
特に限定されるものではなく、その例としては、スチレ
ン、α−メチルスチレン、o−ビニルトルエン、m−ビ
ニルトルエン、p−ビニルトルエン、p−t−ブチルス
チレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレ
ン、p−メトキシスチレン、ジビニルベンゼン、ジイソ
プロペニルベンゼン、o−クロロスチレン、m−クロロ
スチレン、p−クロロスチレン、1,1−ジフェニルエ
チレン、N,N−ジメチル−p−アミノスチレン、N,
N−ジエチル−p−アミノスチレン、o−ヒドロキシス
チレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチ
レン、o−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、m−ヒド
ロキシ−α−メチルスチレン、p−ヒドロキシ−α−メ
チルスチレン、p−ビニルベンジルアルコール、ビニル
ピリジン等のビニル芳香族化合物;(メタ)アクリロニ
トリル、α−クロロアクリロニトリル、α−クロロメチ
ルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニトリル、
α−エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニトリル、
けい皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マレイン酸
ジニトリル、フマル酸ジニトリル等の不飽和ニトリル
類;
【0015】メチル(メタ)アクリレート、エチル(メ
タ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレー
ト、i−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル
(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレー
ト、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル
(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレ
ート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチル
ヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)
アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステア
リル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリ
レート類;クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、クロ
トン酸n−プロピル、クロトン酸n−ブチル、けい皮酸
メチル、けい皮酸エチル、けい皮酸n−プロピル、けい
皮酸n−ブチル等の他の不飽和モノカルボン酸エステル
類;マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイ
ン酸ジ−n−ブチル、マレイン酸ジ−n−ヘキシル、マ
レイン酸ジ−n−オクチル、フマル酸ジメチル、フマル
酸ジエチル、フマル酸ジ−n−ブチル、フマル酸ジ−n
−ヘキシル、フマル酸ジ−n−オクチル、イタコン酸ジ
メチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジ−n−ブチ
ル、イタコン酸ジ−n−ヘキシル、イタコン酸ジ−n−
オクチル等の不飽和ジカルボン酸ジエステル類;
【0016】2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)
アクリレート、3,3,3,2,2−ペンタフルオロプ
ロピル(メタ)アクリレート、4,4,4,3,3,
2,2−ヘプタフルオロブチル(メタ)アクリレート等
のフルオロアルキル(メタ)アクリレート類;エチレン
グリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロ
パンジオール、3−クロロ−1,2−プロパンジオー
ル、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオール等のアルキレングリコー
ルのモノ−またはジ−(メタ)アクリレート類;ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリ
アルキレングリコール(アルキレングリコール単位数は
例えば2〜23)のモノ−またはジ−(メタ)アクリレ
ート類;2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2
−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシ
プロピル(メタ)アクリレート、2−エトキシプロピル
(メタ)アクリレート、3−メトキシプロピル(メタ)
アクリレート、3−エトキシプロピル(メタ)アクリレ
ート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレート類;
メトキシポリエチレングリコール、エトキシポリエチレ
ングリコール、メトキシポリプロピレングリコール、エ
トキシポリプロピレングリコール等のアルコキシポリア
ルキレングリコール(アルキレングリコール単位数は例
えば2〜23)の(メタ)アクリレート類;
【0017】2−フェノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、3
−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート等のアリー
ロキシアルキル(メタ)アクリレート類;フェノキシポ
リエチレングリコール、フェノキシポリプロピレングリ
コール等のアリーロキシポリアルキレングリコール(ア
ルキレングリコール単位数は例えば2〜23)の(メ
タ)アクリレート類;2−シアノエチル(メタ)アクリ
レート、2−シアノプロピル(メタ)アクリレート、3
−シアノプロピル(メタ)アクリレート等のシアノアル
キル(メタ)アクリレート類;グリセリン、1,2,4
−ブタントリオール、ペンタエリスリトール、トリメチ
ロールアルカン(アルカンの炭素数は例えば1〜3)、
テトラメチロールアルカン(アルカンの炭素数は例えば
1〜3)等の3価以上の多価アルコール類のモノ−また
はオリゴ−(メタ)アクリレート類;前記3価以上の多
価アルコールのポリアルキレングリコール付加物(アル
キレングリコール単位数は例えば2〜23)のモノ−ま
たはオリゴ−(メタ)アクリレート類;1,4−シクロ
ヘキサンジオール、1,4−ベンゼンジオール、1,4
−ビス(2−ヒドロキシエチル)ベンゼン等の環式ポリ
オールのモノ−またはオリゴ−(メタ)アクリレート
類;
【0018】クロトン酸2−ヒドロキシエチル、クロト
ン酸2−ヒドロキシプロピル、クロトン酸3−ヒドロキ
シプロピル、けい皮酸2−ヒドロキシエチル、けい皮酸
2−ヒドロキシプロピル、けい皮酸3−ヒドロキシプロ
ピル等の他の不飽和モノカルボン酸ヒドロキシアルキル
エステル類;N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルア
ミド、N−(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリル
アミド、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)(メ
タ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチルクロトン酸
アミド、N−(2−ヒドロキシエチル)クロトン酸アミ
ド、N−ヒドロキシメチルけい皮酸アミド、N−(2−
ヒドロキシエチル)けい皮酸アミド等の不飽和モノカル
ボン酸アミドのN−ヒドロキシアルキル誘導体類;(メ
タ)アリルアルコール等の不飽和アルコール類;
【0019】(メタ)アクリル酸、クロトン酸、けい皮
酸等の不飽和モノカルボン酸類;(無水)マレイン酸、
フマル酸、(無水)イタコン酸、シトラコン酸、メサコ
ン酸等の不飽和ポリカルボン酸(無水物)類;前記不飽
和ポリカルボン酸のモノメチルエステル、モノエチルエ
ステル、モノ−n−プロピルエステル、モノ−n−ブチ
ルエステル、モノ−n−ヘキシルエステル、モノ−n−
オクチルエステル等の遊離カルボキシル基含有エステル
類;前記不飽和ポリカルボン酸のモノニトリル等の遊離
カルボキシル基含有ニトリル類;前記不飽和ポリカルボ
ン酸のモノアミド等の遊離カルボキシル基含有アミド
類;前記不飽和ポリカルボン酸のモノ(2−ヒドロキシ
エチルエステル)、モノ(2−ヒドロキシプロピルエス
テル)、モノ(3−ヒドロキシプロピルエステル)等の
遊離カルボキシル基含有ヒドロキシアルキルエステル
類;前記不飽和ポリカルボン酸の遊離カルボキシル基含
有アミドのN−ヒドロキシアルキル誘導体類;フタル
酸、コハク酸、アジピン酸等の非重合性多価カルボン酸
と(メタ)アリルアルコール、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート等のヒドロキシル基含有不飽和化
合物とのモノエステル等の遊離カルボキシル基含有エス
テル類;
【0020】ジメチルアミノメチル(メタ)アクリレー
ト、ジエチルアミノメチル(メタ)アクリレート、2−
ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジエ
チルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−(ジ−n
−プロピルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、2−
ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、2−ジ
エチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、2−(ジ
−n−プロピルアミノ)プロピル(メタ)アクリレー
ト、3−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレー
ト、3−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレー
ト、3−(ジ−n−プロピルアミノ)プロピル(メタ)
アクリレート等のジアルキルアミノアルキル(メタ)ア
クリレート類;2−(2−ジメチルアミノエトキシ)エ
チル(メタ)アクリレート、2−(2−ジエチルアミノ
エトキシ)エチル(メタ)アクリレート、2−(2−ジ
メチルアミノエトキシ)プロピル(メタ)アクリレー
ト、2−(2−ジエチルアミノエトキシ)プロピル(メ
タ)アクリレート、3−(2−ジメチルアミノエトキ
シ)プロピル(メタ)アクリレート、3−(2−ジエチ
ルアミノエトキシ)プロピル(メタ)アクリレート等の
(ジアルキルアミノアルコキシ)アルキル(メタ)アク
リレート類;N−ジメチルアミノメチル(メタ)アクリ
ルアミド、N−ジエチルアミノメチル(メタ)アクリル
アミド、N−(2−ジメチルアミノエチル)(メタ)ア
クリルアミド、N−(2−ジエチルアミノエチル)(メ
タ)アクリルアミド、N−(2−ジメチルアミノプロピ
ル)(メタ)アクリルアミド、N−(2−ジエチルアミ
ノプロピル)(メタ)アクリルアミド、N−(3−ジメ
チルアミノプロピル)(メタ)アクリルアミド、N−
(3−ジエチルアミノプロピル)(メタ)アクリルアミ
ド等の(メタ)アクリルアミドのN−ジアルキルアミノ
アルキル誘導体類;
【0021】アリルグリシジルエーテル、グリシジル
(メタ)アクリレート、3,4−オキシシクロヘキシル
(メタ)アクリレート等のエポキシ基含有不飽和化合
物;(メタ)アクリルアミド、N,N’ーメチレンビス
(メタ)アクリルアミド、N,N’−エチレンビス(メ
タ)アクリルアミド、N,N’−ヘキサメチレンビス
(メタ)アクリルアミド、クロトン酸アミド、けい皮酸
アミド、マレイミド等の不飽和アミドまたは不飽和イミ
ド類や、塩化ビニル、酢酸ビニル、ジシクロペンタジエ
ン、エチリデンノルボルネン等を挙げることができる。
これらの光重合性不飽和単量体は、単独でまたは2種以
上を混合して使用することができる。
【0022】本発明においては、前記光重合性不飽和単
量体を選択することにより、感光性樹脂組成物の特性お
よびその光硬化後の特性を容易に調整することができる
が、これらの特性を幅広い範囲で容易に制御できるとい
う点から、光重合性不飽和単量体としてカルボキシル基
を有する化合物を使用して、(1)粒子状共重合体中の
アミノ基と組み合わせることが好ましい。このような組
み合わせにおけるアミノ基に対するカルボキシル基のモ
ル比は、好ましくは0.1以上、さらに好ましくは0.
4〜10である。この場合、アミノ基に対するカルボキ
シル基のモル比が0.1未満では、得られる組成物の水
現像性が低下する傾向にある。本発明において、光重合
性不飽和単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使
用することができる。
【0023】光重合性不飽和単量体は、感光性樹脂組成
物の使用目的に応じて任意の割合で用いることができ、
その量に応じて組成物の流動性をワックス状乃至ゴム状
から低粘度液体状まで自由に設計できるが、光重合性不
飽和単量体の使用量は、(1)粒子状共重合体100重
量部に対して、通常、5〜1,000重量部、好ましく
は10〜500重量部である。この場合、光重合性不飽
和単量体の使用量が5重量部未満では、得られる組成物
の強度が低下する傾向があり、一方1,000重量部を
超えると、組成物の光硬化後の収縮が大きくなり、組成
物の耐水性と水現像性との両立が困難となったり、組成
物の粘度設計の自由度が小さくなる傾向がある。
【0024】(3)光重合開始剤 本発明の感光性樹脂組成物の構成成分の一つである光重
合開始剤は、前記一般式(I)または一般式(II)で表
される化合物の群から選ばれる少なくとも1種(以下、
「光重合開始剤(A)」という。)からなる。一般式
(I)および一般式(II)において、XおよびYのハロ
ゲン原子としては、例えば、ふっ素原子、塩素原子、よ
う素原子等を挙げることができる。
【0025】また、XおよびYの炭素数1〜20の1価
の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−
ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペン
チル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチ
ル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシ
ル基等の脂肪族アルキル基;シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、o−メチルシクロヘキシル基、m−メチル
シクロヘキシル基、p−メチルシクロヘキシル基、p−
エチルシクロヘキシル基、p−n−プロピルシクロヘキ
シル基、p−i−プロピルシクロヘキシル基、p−n−
ブチルシクロヘキシル基、p−t−ブチルシクロヘキシ
ル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の脂環族
アルキル基;フェニル基、o−メチルフェニル基、m−
メチルフェニル基、p−メチルフェニル基、p−エチル
フェニル基、p−n−プロピルフェニル基、p−i−プ
ロピルフェニル基、p−n−ブチルフェニル基、p−t
−ブチルフェニル基、1−ナフチル基等のアリール基;
ベンジル基、o−メチルベンジル基、m−メチルベンジ
ル基、p−メチルベンジル基、p−エチルベンジル基、
p−n−プロピルベンジル基、p−i−プロピルベンジ
ル基、p−n−ブチルベンジル基、p−t−ブチルベン
ジル基、フェネチル基、p−メチルフェネチル基、p−
エチルフェネチル基、p−n−プロピルフェネチル基、
p−i−プロピルフェネチル基、p−n−ブチルフェネ
チル基、p−t−ブチルフェネチル基等のアラルキル基
等を挙げることができる。
【0026】また、XおよびYの炭素数1〜20のアル
コキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ
基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキ
シ基、i−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブト
キシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ
基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n
−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基等の脂肪族アル
コキシル基;シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシル
オキシ基、p−メチルシクロヘキシルオキシ基、p−エ
チルシクロヘキシルオキシ基、p−n−プロピルシクロ
ヘキシルオキシ基、p−i−プロピルシクロヘキシルオ
キシ基、p−n−ブチルシクロヘキシルオキシ基、p−
t−ブチルシクロヘキシルオキシ基等の脂環族アルキル
オキシ基;フェノキシ基、o−メチルフェノキシ基、m
−メチルフェノキシ基、p−メチルフェノキシ基、p−
エチルフェノキシ基、p−n−プロピルフェノキシ基、
p−i−プロピルフェノキシ基、p−n−ブチルフェノ
キシ、p−t−ブチルフェノキシ基等のアリールオキシ
基;ベンジルオキシ基、o−メチルベンジルオキシ基、
m−メチルベンジルオキシ基、p−メチルベンジルオキ
シ基、p−エチルベンジルオキシ基、p−n−プロピル
ベンジルオキシ基、p−i−プロピルベンジルオキシ
基、p−n−ブチルベンジルオキシ基、p−t−ブチル
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等のアラルキル
オキシ基等を挙げることができる。
【0027】一般式(I)および一般式(II)における
XおよびYとしては、水素原子、塩素原子、メチル基、
エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基等が好まし
い。本発明において、光重合開始剤(A)は、単独でま
たは2種以上を混合して使用することができる。
【0028】また、本発明においては、光重合開始剤
(A)と共に、他の光重合開始剤を併用することもでき
る。前記他の光重合開始剤としては、例えば、ジアセチ
ル、ベンジル等のαージケトン類;ベンゾイン、ピバロ
イン等のアシロイン類;ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾインn−プロピルエー
テル等のアシロインエーテル類;アントラキノン、1,
4ーナフトキノン等の多核キノン類;2,2−ジメトキ
シ−2−フェニルアセトフェノン、トリクロロアセトフ
ェノン等のアセトフェノン類;ベンゾフェノン、o−ベ
ンゾイル安息香酸メチル等のベンゾフェノン類等を挙げ
ることができる。これらの他の光重合開始剤は、単独で
または2種以上を混合して使用することができる。他の
光重合開始剤の使用割合は、光重合開始剤(A)と他の
光重合開始剤との合計に対して、通常、50重量%以
下、好ましくは30重量%以下である。この場合、他の
光重合開始剤の使用割合が50重量%を超えると、特
に、本発明における硬度と反発弾性についての所期の効
果が損なわれるおそれがある。
【0029】光重合開始剤の使用量は、(1)粒子状共
重合体100重量部に対して、通常、0.1〜20重量
部、好ましくは1〜10重量部である。この場合、光重
合開始剤の使用量が0.1重量部未満では、得られる組
成物の硬化が不十分となる場合があり、一方20重量部
を超えても、光重合開始剤の全てが反応に関与しないの
で不経済であるばかりか、ときには(1)粒子状共重合
体や(2)光重合性不飽和単量体との相溶性が悪く、分
散が不均一になる場合がある。
【0030】他の添加剤 また、本発明の感光性樹脂組成物には、その水現像性を
さらに向上させる目的で、カルボキシル基、ヒドロキシ
ル基およびエポキシ基の群から選ばれる少なくとも1種
の官能基を有する非重合性極性化合物を、組成物全体の
20重量%以下の範囲で添加することができる。前記非
重合性極性化合物の例としては、ぎ酸、酢酸、プロピオ
ン酸等のカルボン酸類;メタノール、エタノール、n−
プロパノール、n−ブタノール、トリエタノール、トリ
プロパノール等のアルコール類;1,2−エポキシブタ
ン、1,2−エポキシヘキサン等のエポキシ化合物等を
挙げることができる。これらの非重合性極性化合物は、
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。また、本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じ
て、(3)光重合開始剤の効率を高める目的で、促進剤
を、組成物全体の10重量%以下の範囲で添加すること
ができる。前記促進剤の例としては、トリエタノールア
ミン、メチルジエタノールアミン、トリ−i−プロパノ
ールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸メチル、p−
ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安
息香酸i−ペンチル、p−ジメチルアミノ安息香酸2−
エチルヘキシル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、
p−ジメチルアミノ安息香酸2−n−ブトキシエチル、
4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−
ジエチルアミノベンゾフェノン等の三級アミノ化合物を
挙げることができる。これらの促進剤は、単独でまたは
2種以上を混合して使用することができる。
【0031】また、本発明の感光性樹脂組成物には、必
要に応じて、常套の添加剤、例えば熱付加重合禁止剤
を、組成物全体の2重量%以下の範囲で添加することが
できる。前記熱付加重合禁止剤の例としては、ヒドロキ
ノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ヒドロキノン
モノ−t−ブチルエーテル、カテコール、p−メトキシ
フェノール、p−t−ブチルカテコール、2,6−ジ−
t−ブチル−p−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル
−m−クレゾール、ピロガロール、β−ナフトール等の
ヒドロキシ芳香族化合物;ベンゾキノン、2,5−ジフ
ェニル−p−ベンゾキノン、p−トルキノン、p−キシ
ロキノン等のキノン類;ニトロベンゼン、m−ジニトロ
ベンゼン、2−メチル−2−ニトロプロパン、α−フェ
ニル−t−ブチルニトロン、5,5−ジメチル−2−ピ
ロリン−1−オキシド等のニトロ化合物またはニトロン
化合物;クロラニル/アミン系、フェノール/1−ナフ
チルアミン系、ジフェニルアミン、ジフェニルピクリル
ヒドラジン、ピリジン、フェノチアジン等のアミン類;
ジチオベンゾイルスルフィド、ジベンジルテトラスルフ
ィド等のスルフィド類;1,1−ジフェニルエチレン、
α−メチルチオアクリロニトリル等の不飽和化合物;チ
オニンブルー、トルイジンブルー、メチレンブルー等の
チアジン染料;1,1−ジフェニル−2−ピクリルヒド
ラジル、1,3,5−トリフェニルフェルダジル、4−
ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−1−オキシル、2,6−ジ−t−ブチル−α−(3,
5−ジ−t−ブチル)−4−オキソ−2,5−シクロヘ
キサジエン−1−イリデン−p−トリオキシル等の安定
ラジカル等を挙げることができる。これらの熱付加重合
禁止剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用するこ
とができる。
【0032】さらに、本発明の感光性樹脂組成物には、
得られる組成物の強度をさらに改良することを目的とし
て、必要に応じて、ハードセグメントおよびソフトセグ
メントより主としてなり、ハードセグメントが20℃以
上のガラス転移点を有する熱可塑性非エラストマー状重
合体セグメントであり、ソフトセグメントが10℃以下
のガラス転移点を有する脂肪族共役ジエン系エラストマ
ー状重合体セグメントからなるブロック状共重合体を添
加することができる。また、前記ブロック状重合体は、
そのソフトセグメントを構成する脂肪族共役ジエンモノ
マーに由来する不飽和二重結合を水素添加することによ
り、水素添加後のソフトセグメント中に残存する不飽和
二重結合を1分子中に30モル%以下として使用するこ
ともできる。このようなブロック状共重合体の代表例と
しては、商品名で、JSR TR2000(スチレン・
ブタジエン系熱可塑性エラストマー)、JSR SIS
5000(スチレン・イソプレン系熱可塑性エラストマ
ー)や、JSR DYNARON1320P(水素添加
ポリマー)等を挙げることができる。これらのブロック
状共重合体は、単独でまたは2種以上を混合して使用す
ることができる。
【0033】感光性樹脂組成物の調製と用途 本発明の感光性樹脂組成物は、(1)粒子状共重合体、
(2)光重合性不飽和単量体および(3)光重合開始剤
を、場合により添加される配合成分と共に、例えば、加
温しながら,ニーダー、インターミキサー等を用いて十
分に混練することにより調製される。このようにして得
られる感光性樹脂組成物は、流動性のないワックス状乃
至ゴム状から流動性の優れた低粘度液状まで自由に設計
することができる。流動性のない感光性樹脂組成物は、
適度の厚みを持つスペーサーを挟んで一定膜厚に成形す
るか、ロールコーター等により支持体上に塗布するか、
あるいは圧縮成型、押出成型等により、一定膜厚の感光
性樹脂版に加工することができる。この感光性樹脂版に
ネガフィルムを当てて露光し、未露光部を水で洗い流す
ことにより、印刷版を得ることができる。また、流動性
に優れた感光性樹脂組成物は、必要に応じて、適当な溶
媒を加えて粘度を調節して、例えばスピンコートに適す
るレジストとして使用することができる。このレジスト
も、前記と同様に露光し、未露光部を水で洗い流すこと
により、鮮明なレジストパターンを形成することができ
る。
【0034】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明の実施の形態を
さらに具体的に説明する。但し、本発明は、以下の実施
例に何ら制約されるものではない。 実施例1(1)粒子状共重合体の製造 ラウリル硫酸ナトリウムを乳化剤とし、ベンゾイルペル
オキシドを重合開始剤として、ブタジエン/2−ジエチ
ルアミノエチルメタクリレート/エチレングリコールジ
メタクリレート/メチルメタクリレート=80/6.5
/1.0/12.5(モル%)の割合の単量体混合物を
用いて、乳化重合を実施し、得られた共重合体エマルジ
ョンを塩化カルシウムにより塩析凝固させ、乾燥して、
(1)粒子状共重合体を製造した。このときの重合転化
率はほぼ100%であった。感光性樹脂組成物の調製 前記(1)粒子状共重合体100重量部に対して、
(2)光重合性不飽和単量体としてラウリルメタクリレ
ート30重量部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレ
ート5重量部およびコハク酸モノ(2−アクリロイルオ
キシエチル)20重量部、(3)光重合開始剤として9
−フルオレノン1重量部、保存安定剤としてt−ブチル
カテコール0.5重量部、ブロック状共重合体としてS
IS5000を30重量部加え、50℃に温調したニー
ダー中で30分間撹拌して、本発明の感光性樹脂組成物
を調製した。この組成物は、透明なワックス状であっ
た。評価 得られた感光性樹脂組成物を用いて、ポリエステルシー
ト上に厚さ0.5mmの感光性樹脂版を形成したのち、
日本電子精機(株)製JOW−A−4P型現像機を用
い、30℃の温水中でブラッシングして、感光性樹脂層
が消滅す感るまでに要する時間(溶出所要時間)を測定
した。また、前記感光性樹脂版を、日本電子精機(株)
製露光機(JE−A3−SS)を用い、6分間露光して
硬化させたのち、JIS K6301に準拠して、引張
強度、破断伸び、反発弾性および硬度を測定した。その
結果、この感光性樹脂組成物は、水現像性および樹脂版
強度に優れるとともに、低硬度で、反発弾性が優れ、ま
た樹脂版の透明性も良く、優れた特性バランスを有して
いた。以上の結果を表1に示す。
【0035】実施例2(1)粒子状共重合体の製造 ブタジエン/2−ジメチルアミノエチルメタクリレート
/ジビニルベンゼン/メチルメタクリレート=80/
6.5/1.0/12.5(モル%)の割合の単量体混
合物を用いた以外は、実施例1と同様にして、(1)粒
子状共重合体を製造した。このときの重合転化率はほぼ
100%であった。感光性樹脂組成物の調製と評価 前記(1)粒子状共重合体100重量部に対して、
(2)光重合性不飽和単量体としてラウリルメタクリレ
ート30重量部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレ
ート5重量部およびアクリル酸20重量部、(3)光重
合開始剤として2−i−プロピルチオキサントン1重量
部、保存安定剤としてt−ブチルカテコール0.5重量
部、ブロック状共重合体としてSIS5000を30重
量部加えたのち、実施例1と同様に処理して、本発明の
感光性樹脂組成物を調製した。この組成物は、透明なワ
ックス状であった。得られた感光性樹脂組成物につい
て、実施例1と同様にして、評価を行った。その結果、
この感光性樹脂組成物は、水現像性および樹脂版強度に
優れるとともに、低硬度で、反発弾性が優れ、また樹脂
版の透明性も良く、優れた特性バランスを有していた。
以上の結果を表1に示す。
【0036】実施例3(1)粒子状共重合体の製造 ブタジエン/2−ジエチルアミノエチルメタクリレート
/ジビニルベンゼン/スチレン=80/6.5/1.0
/12.5(モル%)の割合の単量体混合物を用いた以
外は、実施例1と同様にして、(1)粒子状共重合体を
製造した。このときの重合転化率はほぼ100%であっ
た。感光性樹脂組成物の調製と評価 前記(1)粒子状共重合体を用いた以外は、実施例1と
同様に処理して、本発明の感光性樹脂組成物を調製し
た。この組成物は、透明なワックス状であった。得られ
た感光性樹脂組成物について、実施例1と同様にして、
評価を行った。その結果、この感光性樹脂組成物は、水
現像性および樹脂版強度に優れるとともに、低硬度で、
反発弾性が優れ、また樹脂版の透明性も良く、優れた特
性バランスを有していた。以上の結果を表1に示す。
【0037】比較例1粒子状共重合体の製造 ブタジエン/メタクリル酸/エチレングリコールジメタ
クリレート/メチルメタクリレート=80/6.5/
1.0/12.5(モル%)の割合の単量体混合物を用
いた以外は、実施例1と同様にして、粒子状共重合体を
製造した。このときの重合転化率はほぼ100%であっ
た。感光性樹脂組成物の調製と評価 前記粒子状共重合体100重量部に対して、(2)光重
合性不飽和単量体としてラウリルメタクリレート30重
量部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート5重量
部およびN−(2−ジメチルアミノプロピル)アクリル
アミド20重量部、(3)光重合開始剤として9−フル
オレノン1重量部、保存安定剤としてt−ブチルカテコ
ール0.5重量部、ブロック状共重合体としてSIS5
000を30重量部加えたのち、実施例1と同様に処理
して、感光性樹脂組成物を調製した。この組成物は、透
明なワックス状であった。得られた感光性樹脂組成物に
ついて、実施例1と同様にして、評価を行った。その結
果、この感光性樹脂組成物は、水現像性および樹脂版強
度が劣り、かつ硬度が高く、反発弾性にも劣っていた。
以上の結果を表1に示す。
【0038】比較例2 光重合開始剤として2,2−ジメトキシ−2−フェニル
アセトフェノンを用いた以外は、実施例1と同様に処理
して、感光性樹脂組成物を調製した。この組成物は、透
明なワックス状であった。得られた感光性樹脂組成物に
ついて、実施例1と同様にして、評価を行った。その結
果、この感光性樹脂組成物は、樹脂版強度が劣り、かつ
硬度が高く、反発弾性にも劣っていた。以上の結果を表
1に示す。
【0039】
【表1】
【0040】
【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物は、水現像性
および露光後の樹脂版強度に優れるとともに、硬度が低
く、反発弾性が優れ、また樹脂版の透明性も良く、優れ
た特性バランスを有する。しかも、本組成物は、流動性
のないワックス状乃至ゴム状から流動性の優れた低粘度
液状までの性状に自由に設計することができ、かつ加工
性も良好である。したがって、本発明の感光性樹脂組成
物は、感光性印刷版やフォトレジスト材料として極めて
好適に使用できるほか、感光性インキ、感光性塗料、感
光性接着剤、光成形材料等を含む広い技術分野における
感光性材料として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/027 G03F 7/027 7/031 7/031 (72)発明者 西岡 隆 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 (72)発明者 田中 忠昭 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA00 AB01 AB02 AB03 AB20 AC01 AD01 BC32 BC42 CA01 CB09 CB11 CB14 CB15 CB16 CB47 CB54 FA03 FA17 2H096 AA00 AA02 AA03 AA26 AA27 BA05 BA20 EA02 GA08 4J011 AA05 PA65 PA69 PA76 QA01 QA02 QA03 QA05 QA06 QA07 QA08 QA09 QA13 QA17 QA22 QA23 QA24 QA32 QA33 QA39 QA45 QA46 QB15 QB16 RA03 RA05 SA62 SA64 VA01 WA01 4J026 AA17 AA18 AA24 AA25 AA45 AA46 AA47 AA49 AA50 AA56 AA57 AA60 AA67 AA68 AA69 AA71 BA05 BA06 BA07 BA08 BA10 BA20 BA25 BA26 BA27 BA28 BA29 BA30 BA31 BA32 BA34 BA36 BA37 BA38 BA40 BA45 BA50 DB36 GA07

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (1)共重合体中の繰返し単位として、
    脂肪族共役ジエン単量体単位を10〜99.8モル
    %、1個の重合性不飽和基とアミノ基とを有する単量
    体単位を0.1〜30モル%、少なくとも2個の重合
    性不飽和基を有する単量体単位を0.1〜20モル%お
    よび1個の重合性不飽和基を有する共重合可能な他の
    単量体単位を0〜40モル%(但し、+++=
    100モル%)含有する粒子状共重合体、(2)光重合
    性不飽和単量体、並びに(3)下記一般式(I)または
    一般式(II)で表される化合物の群から選ばれる少なく
    とも1種の光重合開始剤を含有することを特徴とする感
    光性樹脂組成物。 【化1】 【化2】 〔一般式(I)および一般式(II) において、Xおよび
    Yは相互に独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキ
    シル基、炭素数1〜20の1価の炭化水素基または炭素
    数1〜20のアルコキシル基を示し、Zは酸素原子また
    は硫黄原子を示す。〕
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007091476A1 (ja) * 2006-02-09 2007-08-16 Asahi Kasei Emd Corporation サンドブラスト用レジスト材料

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000314961A (ja) * 1999-04-28 2000-11-14 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
EP1152030B1 (en) * 2000-05-01 2012-12-12 JSR Corporation Rubber mixtures based on crosslinked rubber particles and non-crosslinked rubbers
US20020018958A1 (en) * 2000-06-20 2002-02-14 Jsr Corporation Polymeric material for laser processing and a laminated body for laser processing thereof, flexographic printing plate and the method of producing the same, and a seal material
US6509134B2 (en) * 2001-01-26 2003-01-21 International Business Machines Corporation Norbornene fluoroacrylate copolymers and process for the use thereof
US6548219B2 (en) * 2001-01-26 2003-04-15 International Business Machines Corporation Substituted norbornene fluoroacrylate copolymers and use thereof in lithographic photoresist compositions
US6730452B2 (en) * 2001-01-26 2004-05-04 International Business Machines Corporation Lithographic photoresist composition and process for its use
EP1364367A2 (en) * 2001-02-27 2003-11-26 TDK Corporation Method for producing photoresist master for optical information medium, and method for producing stamper for optical information medium
US6579664B2 (en) 2001-03-30 2003-06-17 Napp Systems, Inc. High performance, photoimageable resin compositions and printing plates prepared therefrom
US6716949B2 (en) * 2001-09-20 2004-04-06 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Amphipathic polymer particles and methods of manufacturing the same
JP2003082042A (ja) * 2001-09-07 2003-03-19 Jsr Corp 隔壁形成用感放射線性樹脂組成物、隔壁、および表示素子。
EP1913339B1 (en) * 2005-08-12 2014-12-24 Markem-Imaje Corporation Cationic ink formulations
EP1803555B1 (en) * 2005-12-28 2017-02-22 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, producing method of planographic printing plate, and planographic printing plate
JP4890388B2 (ja) * 2007-08-22 2012-03-07 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
KR101238403B1 (ko) 2009-09-04 2013-02-28 주식회사 엘지화학 광 반응성기를 갖는 노보넨계 중합체를 포함하는 액정 배향용 조성물 및 이를 포함하는 광 배향 필름
JP6695369B2 (ja) * 2017-02-16 2020-05-20 住友化学株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化膜及び表示装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU582628B2 (en) 1985-02-12 1989-04-06 Nippon Paint Co., Ltd. Photosensitive resin composition
US4895788A (en) * 1985-08-02 1990-01-23 Hoechst Celanese Corporation Water developable lithographic composition
JP2581094B2 (ja) * 1987-08-20 1997-02-12 日本合成ゴム株式会社 感光性樹脂組成物
US5736298A (en) 1992-10-02 1998-04-07 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Water developable photosensitive resin composition
JPH06214386A (ja) * 1993-01-20 1994-08-05 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感光性樹脂組成物
JPH06230573A (ja) * 1993-01-29 1994-08-19 Japan Synthetic Rubber Co Ltd レジスト組成物
JPH07140655A (ja) 1993-09-09 1995-06-02 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 水現像性感光性樹脂組成物
JPH07134411A (ja) 1993-11-10 1995-05-23 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感光性樹脂組成物
EP0675412B1 (en) 1994-03-30 2001-01-17 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Photosensitive resin composition
JP3011864B2 (ja) * 1994-12-09 2000-02-21 日本ペイント株式会社 水現像性感光性樹脂組成物
JPH08328248A (ja) * 1995-06-02 1996-12-13 Nippon Paint Co Ltd 水現像性感光性樹脂組成物
US6140017A (en) * 1997-03-11 2000-10-31 Jsr Corporation Water-developable photosensitive resin composition

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007091476A1 (ja) * 2006-02-09 2007-08-16 Asahi Kasei Emd Corporation サンドブラスト用レジスト材料

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