JP2000299273A

JP2000299273A - 周辺露光装置及び方法

Info

Publication number: JP2000299273A
Application number: JP11107281A
Authority: JP
Inventors: Masanori Kato; 正紀加藤
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1999-04-14
Filing date: 1999-04-14
Publication date: 2000-10-24

Abstract

(57)【要約】【課題】、４００ｎｍ以下の露光光を用いて大型基板へ
周辺露光を行う場合であっても、容易でかつ安価で、か
つコストをかけずにスループットを向上させ、感光性材
料が不均一な膜厚に対応する。【解決手段】角型基板に塗布された感光性材料上の所定
の回路パターンが転写される領域とは異なる領域に対し
て露光光を照射する周辺露光装置は、露光光を供給する
光源と；該光源からの露光光を基板へ向ける照明光学系
と；を有する。そして、照明光学系は、基板上に第１照
射領域を形成する第１部分照明系と、基板上で第１照射
領域と離れた第２照射領域を形成する第２部分照明系と
を備え、第１及び第２照射領域は互いに大きさが異な
り、第１及び第２照射領域の一部は基板上で重畳して露
光されるものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子や液晶
表示素子等のデバイスの製造に用いられる基板の周辺の
不要なレジスト等の感光性材料を露光し、除去する周辺
露光装置及び方法に関する。特に本発明は、液晶表示素
子等の角型の大型基板への周辺露光に好適な周辺露光装
置及び方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の周辺露光装置は、特開平
６−２８３４０６に記載されているような構成をしてい
る。超高圧水銀ランプを光源にもち、楕円鏡によりその
第二焦点位置に光ファイバーを配置し、この射出側の形
状スリット状に形成された光ファイバーにて基板上に露
光光を導き、露光を行う。この光ファイバーが基板上を
走査することにより露光を行うのである。走査方向に
は、走査するためのガイドがあり、ほぼ等速に光ファイ
バーが移動するように制御され、この光ファイバーの射
出側は、2分岐され、各射出端がスリット形状角型基板
の同方向を走査するように構成されている。また、基板
の走査と直交する方向を露光する場合には、基板を９０
°回転することにより露光を行う構成を採用している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年で
は、液晶表示素子には特に４００ｎｍ以下の光に感度を
強く持つ感光性樹脂等の特殊な感光性材料を用いられる
ケースが増えてきている。そして、基板は、年々大型化
の道を辿り、最近では、６００ｍｍ×７５０ｍｍ程度の
基板が多用されており、さらに大型の基板として、８０
０ミリ角程度や、１０００ミリ角程度の基板も検討され
ている。

【０００４】このように近年では、４００ｎｍ以下の光
を用いる必然性があり、更に１ｍ角のような大型の基板
に対応しなくてはならない要求がある。従来例で挙げた
ような周辺露光装置の場合には、光ファイバーを用いる
ため、特に４００ｎｍ以下の光を用いるには、ファイバ
ーの繊維を石英ファイバーにしなければなくなってしま
う。一般に石英ファイバーは、多成分ファイバーに比べ
て光の取込み角度も小さいため、ファイバーとして大型
な基板に対応するためには、長く太い石英ファイバーが
必要で高価になってしまう。また、基板自体の大型化に
より、当然周辺露光するための露光幅も大きなものに対
応する必要がある。例えば、基板の外周１００ｍｍを露
光するためには、少なくともファイバーの幅も１００ｍ
ｍの幅が必要になるのである。ファイバーのスリット形
状を例えば５ｍｍ×１００ｍｍとすると、ファイバーの
入射側の径Φ１は、射出側の２分岐を考慮すると、 Φ１＝２×√（２×５×１００／π）＝３５．７ｍｍとなり、基板の外周を露光するためには、長くて、径の
太いものとなり、高価で極まりないものになってしま
う。更に、従来例の周辺露光装置で大型基板に対応させ
ようとすると、太いファイバー自体を基板上で走り回る
ような構成とする必要があるため、ファイバー自体にス
トレスが加わり断線してしまう可能性もでてくる。安価
なものであれば、交換部品的に交換することも可能であ
るが、高価であるがためにそれも難しい。

【０００５】また、周辺露光を行うことにより除去する
必要のある基板上のレジストの膜厚は一様ではなく、基
板の周辺部付近での膜厚は中央部に比べて厚くなりがち
である。そこで、膜厚の厚くなった部分に対して周辺露
光を行おうとする場合、この部分への露光エネルギー量
を増加させる必要がある。ここで、大きな露光領域が必
要な場合で、基板の外周部の露光量を上げようとする
と、従来例の装置ではファイバーの体積が更に増加し、
当然コストも増加してしまうといった問題が発生してし
まう。

【０００６】そこで、本発明は、上記の問題点に鑑み
て、露光光に４００ｎｍ以下の光を用いる場合であって
も、大型の基板に対しても比較的容易でかつ安価で、か
つコストをかけずにスループットを向上させることが可
能であり、感光性材料が不均一な膜厚であっても良好に
周辺露光を行うことができる周辺露光装置を提供するこ
とを目的とする。

【０００７】

【課題を解決する為の手段】上述の目的を達成するため
に、本発明にかかる周辺露光装置は、角型基板に塗布さ
れた感光性材料上の所定の回路パターンが転写される領
域とは異なる領域に対して露光光を照射する周辺露光装
置であって、露光光を供給する光源と；該光源からの露
光光を前記基板へ向ける照明光学系と；を有する。そし
て、前記照明光学系は、前記基板上に第１照射領域を形
成する第１部分照明系と、前記基板上で前記第１照射領
域と離れた第２照射領域を形成する第２部分照明系とを
備え、前記第１及び第２照射領域は互いに大きさが異な
り、前記第１及び第２照射領域の一部は前記基板上で重
畳して露光されるものである。

【０００８】なお、上述の構成にかかる周辺露光装置に
おいては、前記第１及び第２部分照明系のうちの少なく
とも一方と前記基板との間に配置されて、前記基板上で
の照射領域を規定する露光領域規定手段をさらに備える
ことが好ましい。また、本発明において、前記第１照射
領域が形成される前記基板上の辺と、前記第２照射領域
が形成される前記基板上の辺とは異なる辺であることが
好ましい。

【０００９】また、前記基板を略９０°の整数倍ごとに
回転させる基板回転手段をさらに備えることが好まし
い。この基板回転手段を用いる場合には、前記第１及び
第２照射領域による周辺露光と、基板の回転とを交互に
行うことにより、前記第１及び第２照射領域の一部が基
板上で重畳して露光される。また、前記光源は、第１光
源と、該第１光源とは異なる第２光源とを備えることが
好ましく、このとき、該第１光源からの露光光が前記第
１部分照明系へ導かれ、かつ該第２光源からの露光光が
前記第２部分照明系へ導かれるように構成されることが
好ましい。

【００１０】また、前記光源からの露光光を分岐させ
て、少なくとも前記第１部分照明系と前記第２部分照明
光学系とへ導くための光束分岐手段をさらに備えること
が好ましい。また、前記第１及び第２照射領域のうちの
少なくとも一方と前記基板とは、前記基板への露光中に
相対移動することが好ましい。

【００１１】また、前記第１及び第２照射領域のうちの
少なくとも一方は、露光中に前記基板に対して静止した
状態であることが好ましい。また、前記基板回転手段を
備えている場合、前記基板回転手段による回転中心位置
を含む領域に第３照射領域を形成することが好ましい。
このとき、該第３照射領域は、前記第１部分照明系によ
り形成されるか、前記第１及び第２部分照明系とは異な
る第３部分照明系により形成されることが好ましい。こ
のとき、第３照射領域の幅は、該第３照射領域に対応し
て形成される露光領域の短手方向の幅の１／２よりも大
きく設定することが好ましい。

【００１２】また、本発明は、前記感光性材料を前記角
型基板へ塗布する第１工程と；前記角型基板上の前記感
光性材料上の所定領域に回路パターンを転写する第２工
程と；上述の構成の何れかに記載の周辺露光装置を用い
て前記回路パターンが転写される領域に対して露光光を
照射する第３工程とを有する周辺露光方法であって、前
記第３工程は、前記第２工程の前または後に実行される
ものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を液
晶表示基板製造に用いられる基板の周辺露光装置に用い
た実施形態について詳細に説明する。図１は、本発明の
周辺露光装置の第１の実施形態を示す装置概略図であ
る。なお、図１においてはＸＹＺ座標系を採用してい
る。

【００１４】図１に示す周辺露光装置は、角型基板２２
の２つの辺のそれぞれに露光領域２２Ａ，２２Ｂを形成
するための２つの照明ユニット１Ａ，１Ｂを有してい
る。ここで、照明ユニット１Ａは、基板２２上の露光領
域２２Ａを一括露光するために、露光領域２２Ａを覆う
形状の照射領域ＩＬＡを形成する。この照射ユニット１
Ａを構成する各部材は、露光領域２２Ａへの露光の際に
は静止状態となっている。すなわち、照射領域ＩＬＡは
露光動作中には基板２２に対して静止状態である。

【００１５】図１において、例えば超高圧水銀ランプか
らなる光源１０Ａからの光は、第１焦点位置に光源１０
Ａが位置するように配置された楕円鏡１１Ａにより集光
され、例えば波長が４００ｎｍ以下の光のみを反射させ
るダイクロイックミラー１２Ａにて所定波長域の光が反
射されて、楕円鏡１１Ａの第２焦点位置に光源像を形成
する。この光源像からの光は、コリメータレンズ１４Ａ
によりほぼコリメートされた後、オプティカルインテグ
レータ１５Ａに入射する。なお、楕円鏡１１Ａの第２焦
点位置近傍には、露光のＯＮ／ＯＦＦを行うためのシャ
ッター１３Ａが設けられている。

【００１６】また、本実施形態では、オプティカルイン
テグレータ１５Ａとして複数のエレメントをマトリック
ス状に集積してなるフライアイレンズを採用している。
ここでフライアイレンズ１５Ａを構成する各レンズエレ
メントの断面形状は照射領域ＩＬＡと相似の長方形状と
なる。そして複数のエレメントは通常、各々正レンズで
構成され、それらの射出側に複数の光源像（２次光源）
を形成する。フライアイレンズ１５Ａを通過した光は、
コンデンサ光学系としての凹面鏡１６Ａを介して基板上
に導かれる。この凹面鏡１６Ａは、その有効領域（光束
が照射される領域）の中心と凹面の曲率中心とで定まる
光軸を有し、凹面鏡１６Ａの光軸とフライアイレンズ１
５Ａ（コリメータレンズ１４Ａ）の光軸とは所定角度を
なす。つまり凹面鏡１６Ａは軸外しで使用されている。

【００１７】フライアイレンズ１５Ａの複数のエレメン
トの長方形状の入射面の各々が、これら複数のエレメン
ト及び凹面鏡１６Ａによって所定倍率のもとで角型基板
２２上にそれぞれ結像する。これにより、角型基板２２
上にほぼ長方形状の照射領域ＩＬＡが形成される。この
ように、本実施形態における第１の照射ユニット１Ａ
は、光源１０、楕円鏡１１Ａ、ダイクロイックミラー１
２Ａ、シャッター１３Ａ、コリメートレンズ１４Ａ、オ
プティカルインテグレータ１５Ａ、及び凹面鏡１６Ａで
構成されており、上記各部材のなかで楕円鏡１１Ａから
凹面鏡１６Ａまでの部材が第１部分照明系を構成してい
る。

【００１８】そして、凹面鏡１６Ａと基板２２との間、
すなわち照射ユニット１Ａ（第１部分光学系）と基板２
２との間には、照射領域ＩＬＡの形状を規定するための
露光領域規定手段としてのブラインド１７Ａが配置され
ている。本実施形態のブラインド１７Ａは、図中Ｘ方向
に沿って移動可能に構成されており、これにより基板２
２上に形成される露光領域２２ＡのＸ方向の幅を可変に
することができる。

【００１９】本実施形態においては、照射ユニット１Ａ
が形成する照射領域ＩＬＡにより、例えば７００〜１０
００ｍｍぐらいの大型の基板の一辺を一括露光するた
め、フライアイレンズ１５Ａと凹面鏡１６Ａとの距離を
可能な限り近づけて光学系、特に凹面鏡１６Ａの小型化
を図っている。なお、本実施形態の照射ユニット１Ａの
目的が周辺の不要なレジストを単に感光させるためであ
るため、照射ユニット１Ａは基板側が非テレセントリッ
クな光学系である。例えば、照射ユニット１Ａにて露光
できるエリア（照射領域ＩＬＡ）の大きさを７００×１
００ｍｍの長方形状とした場合を考える。この場合、基
板２２上において、ブラインド１７Ａにて規定される照
射領域ＩＬＡの回路パターン側（−Ｘ方向側）の端部
（エッジ）を精度良く露光することが必要となるが、こ
の方向（Ｘ方向）は照射領域ＩＬＡの短手方向に相当
し、照射ユニット１Ａが基板側非テレセントリックであ
っても、像高が小さくなるため主光線の傾き角は小さな
範囲に収められる。

【００２０】なお、照射光学系が非テレセントリックで
あることによるブラインド１７Ａの位置と、照射領域Ｉ
ＬＡのエッジの位置とのずれ（エッジのテレセン誤差）
は以下の手法で補正することができる。まず、ブライン
ド１７ＡのＸＹ平面内での位置と、このブラインド１７
Ａにより規定される照射領域ＩＬＡの回路パターン側の
端部のＸＹ平面内での位置との関係を予め求めておき、
この関係を所定の記憶部へ記憶させておく。そして、こ
の記憶された関係にもどづいて、実際の露光位置（照射
領域ＩＬＡの端部の位置）とブラインド１７Ａの設定位
置とのオフセット管理を行えば、より正確な露光位置の
管理を行うことが可能になる。

【００２１】また、凹面鏡１６Ａと基板２２との距離を
大きく設定し、凹面鏡１６Ａ自体の焦点距離を長く設定
すれば、基板２２上へ向かう光束の開口数（Ｎ．Ａ．）
を小さくでき、ブラインド１７Ａで制限される照射領域
ＩＬＡの端部のエッジのボケを少なくすることができ
る。なお、本実施形態では、凹面鏡１６ＡをＹＺ平面内
の軸を中心として回転可能に設けることにより、照射領
域ＩＬＡ自体のＸ方向の位置を変更可能としている。

【００２２】次に第２の照射ユニット１Ｂについて説明
する。図１において、１００〜２５０ｗ程度の小型の超
高圧水銀ランプからなる光源１０Ｂからの光は、第１焦
点位置に光源１０Ｂが位置するように配置された楕円鏡
１１Ｂにより反射集光され、例えば４００ｎｍ以下の波
長の光のみを通過させるためのダイクロイックフィルタ
１８Ｂを透過した後、楕円鏡１１Ｂの第２焦点位置近傍
に集光される。なお、楕円鏡１１Ｂの第２焦点位置近傍
（楕円鏡１１Ｂとロッド１９ｂとの間）には露光のＯＮ
／ＯＦＦを行うためのシャッター１３Ｂが設けられてい
る。

【００２３】ダイクロイックフィルタ１８Ｂを介した光
は、楕円鏡１１Ｂの第２焦点位置近傍に位置決めされた
入射端面を持つロッド１９Ｂに入射し、ロッド内壁で反
射を繰り返した後、基板２２の近傍（基板２２とわずか
な量のギャップをあけた位置）に位置決めされた射出端
から射出されて基板２２に到達する。ここで、ロッド１
９Ｂの射出端の形状は、基板２２上に形成される照射領
域ＩＬＢとほぼ相似形状としている。例えば、基板２２
の最外周５ｍｍの領域においてレジスト厚が厚くなると
すれば、５ｍｍ角以上のロッドとしてある。

【００２４】そして、光源１０Ｂ、楕円鏡１１Ｂ、シャ
ッター１３Ｂ、ダイクロイックフィルタ１８Ｂ、及びロ
ッド１９Ｂはランプハウス２０Ｂ内に収められており、
このランプハウス２０Ｂは図中Ｙ方向に延びた形状の直
線ガイド２１Ｂに沿って移動可能に設けられている。こ
こで、ランプハウス２０Ｂごと直線ガイド２１Ｂに沿っ
て移動させつつ、シャッター１３Ｂを開いて基板２２上
に露光光を照射すれば、基板２２上では照射領域ＩＬＢ
が図中Ｙ方向に沿って移動することになり、Ｘ方向の所
定幅にわたって露光領域２２Ｂを形成できる。なお、前
述の通り、ロッド１９Ｂを５ｍｍ角とすると、基板２２
Ｂ上にはＸ方向の幅が５ｍｍ程度の露光領域２２Ｂがス
キャン露光されることになる。

【００２５】なお、走査型露光部としての照射ユニット
１Ｂは、縦横サイズが異なる角型基板の縦辺と横辺とへ
の露光に対応するために、図中Ｘ方向に移動可能に構成
されており、これにより照射領域ＩＬＢのＸ方向の位置
を調整できる。このとき、ランプハウス２０Ｂを、Ｘ方
向に移動可能に保持するＸ方向ガイドを介して直線ガイ
ド（Ｙ方向ガイド）２１Ｂに取り付けても良く、また直
線ガイド２１Ｂ自体がＸ方向へ移動可能となるようにＸ
方向ガイドで保持しても良い。

【００２６】次に、露光動作について説明する。まず、
基板２２が図示無きローダーのアーム（ロードアーム）
により装置内に搬入される。ここで、図１では不図示で
はあるが、周辺露光装置内の基板載置位置には、上下動
可能（Ｚ方向に可動）なピンを備えた基板ホルダが位置
している。そして、ロードアームは基板ホルダ上のピン
に基板を載置し、このロードアームが退避した後、基板
ホルダ上のピンが下方に移動し、基板２２がホルダ上に
吸着される。また、基板ホルダまたはその周囲には、基
板２２のＸＹ平面内での位置決めを行うための基準ピン
が設けられており、ロードアームが基板ホルダ上のピン
に基板２２を載置する際、基板２２を基準ピンに押し当
てて基板の位置合わせを行う。

【００２７】本実施形態では、基板２２（を載置する基
板ホルダ）をＺ軸を中心として回転させる基板回転ユニ
ット２３が設けられており、基板２２は、基板回転ユニ
ット２３により９０°の整数倍（９０°、１８０°、２
７０°、３６０°）ごとに回転される。なお、基板の位
置合わせにあたっては、ポテンシヨメータ等により基板
２２の位置を計測した後、基板に補正をかけても構わな
いし、例えば、基板ホルダごと回転調整したり、走査の
ためのガイド自身を回転調整したり、ブラインドの位置
により補正をかけても構わない。この場合、基板ホルダ
をＸＹ方向及びＺ軸を中心とする回転方向（θ方向）で
微動可動となるように構成しておく。

【００２８】ここで、照射ユニット１Ａと基板２２との
間に配置されるブラインド１７Ａは、ロードアームによ
る基板搬入時及び搬出時における基板２２との干渉を避
けるために、基板２２が載置される位置に対して１０ｍ
ｍ程度上方（＋Ｚ方向）に設置されている。なお、ブラ
インド１７Ａと基板２２との間隔により照射領域ＩＬＡ
端部のボケ具合、すなわちエッジ精度が決定されるた
め、厳しいエッジ精度が要求される際にはブラインド１
７Ａを基板２２に可能な限り近接させる必要がある。こ
のような場合には、基板２２の搬入時及び搬出時にブラ
インド１７Ａが基板２２の搬入路（搬出路）から外れた
位置となるようにＸＹ平面内で退避可能に構成する、あ
るいはブラインド１７ＡをＺ方向に可動に設けて基板２
２と干渉しないように構成すれば良い。

【００２９】次に、基板２２上での照射領域の幅（Ｘ方
向の幅）が所望の値となるようにブラインド１７Ａを移
動させる。そして、各照射ユニット１Ａ，１Ｂ内のシャ
ッター１３Ａ，１３Ｂを開き、周辺露光を開始する。次
に走査露光部としての照射ユニット１Ｂにおける露光動
作について説明する。照射ユニット１Ｂにおいては、照
射ユニット１Ａ側に設けられているブラインド１７Ａの
ような露光領域の幅（照射領域の幅）を可変に設定する
機構はなく、照射ユニット１Ｂ内のロッド１９Ｂの射出
端面の形状により露光領域の幅（照射領域ＩＬＢのＸ方
向の幅）を設定している。

【００３０】なお、照射ユニット１Ｂは基板２２に近接
して配置されているため、基板２２を搬入または搬出す
る場合に基板２２と照射ユニット１Ｂとが干渉する恐れ
があるが、このような場合には、基板２２の搬入及び搬
出時において照射ユニット１Ｂを基板２２と干渉しない
ＸＹ平面上の位置へ退避させる構成とすることが好まし
い。また、基板２２を載置する基板ホルダが上下動（Ｚ
方向に可動）する機構となっていれば、基板ホルダを下
げた状態（照射ユニット１Ｂと基板２２との間隔を開け
た状態）で基板２２の搬入及び搬出を行っても良い。ま
た、ランプハウス２０Ｂ自体を上下動する構成としても
良い。

【００３１】さて、基板２２が基板ホルダ上に載置され
た後、照射ユニット１Ｂのロッド１９Ｂの射出端面（照
射領域ＩＬＢ）を基板２２の端部へ移動させる。その
後、シャッター１３Ｂを開いて照射領域ＩＬＢを基板２
２上に形成させつつ照射ユニット１ＢをＹ方向へ移動さ
せて、照射領域ＩＬＢを基板２２の辺に沿って走査させ
る。このとき、照射ユニット１Ｂの移動速度（照射領域
ＩＬＢの走査速度）により、基板２２（上の感光性材料
(レジスト)）への露光エネルギー量が決定される。

【００３２】ここで、照射ユニット１Ａにおける露光量
の制御（シャッター１３Ａを開いている時間）は、基板
２２が載置される基板ホルダ面内の近傍に配置した照度
センサを用いて照度を計測し、基板２２（上に塗布され
た感光性材料）に必要な露光量を達成するための時間を
算出することにより行われる。また、照射ユニット１Ｂ
における露光量の制御（照射ユニット１Ｂの移動速度の
制御）は、基板２２が載置される基板ホルダ面内の近傍
に配置した照度センサを用いて照度を計測し、基板２２
（上に塗布された感光材料）に必要な露光量を達成する
ための走査速度（移動速度）を算出することにより行わ
れる。

【００３３】なお、照度センサは、上記のように基板ホ
ルダに隣接して設ける構成の代わりに、照射ユニット１
Ａ，１Ｂの光路を通過する光の一部を取り出して照度セ
ンサへ導くように構成しても良い。また、基板ホルダ上
に設けてもかまわない。また、照度を計測する場合は、
露光中モニタを行っても構わないが、不要なレジストを
感光させることが目的であるので、複数枚毎に一度計測
するような構成をとっても構わない。

【００３４】次に図２を参照して基板２２に対する露光
領域の形成手順につき説明する。なお、以下の説明で
は、基板回転ユニット２３が基板２２の中心を軸として
基板２２を回転させることを前提としている。図２にお
いて、まず照射ユニット１Ａを用いて基板２２上の露光
領域２２１Ａを形成しつつ照射ユニット１Ｂを用いて基
板２２上の露光領域２２１Ｂを形成する。次に基板回転
ユニット２３によりＸＹ平面内において基板２２を９０
°回転させる。そして、図２の例では基板２２の縦横長
さが異なっているため、照射ユニット１Ａ内の凹面鏡１
６Ａを回転させて照射領域ＩＬＡを＋Ｘ方向へ移動さ
せ、照射ユニット１Ｂ内のランプハウス２０Ｂを−Ｘ方
向へ移動させて照射領域ＩＬＢを−Ｘ方向へ移動させ
る。その後、照射ユニット１Ａを用いて基板２２上の露
光領域２２２Ａを形成し、照射ユニット１Ｂを用いて基
板２２上の露光領域２２２Ｂを形成する。

【００３５】そして、基板回転ユニット２３により基板
２２を９０°回転させ、各照射ユニット１Ａ，１ＢのＸ
方向の位置（照射領域ＩＬＡ，ＩＬＢのＸ方向の位置）
を元の位置に戻した後、照射ユニット１Ａにより露光領
域２２３Ａを、照射ユニット１Ｂにより露光領域２２３
Ｂをそれぞれ形成する。最後に、基板回転ユニット２３
により基板２２を９０°回転させ、各照射ユニット１
Ａ，１ＢのＸ方向の位置（照射領域ＩＬＡ，ＩＬＢのＸ
方向の位置）を２回目の露光位置（露光領域２２２Ａ，
２２２Ｂへの露光時の位置）へ移動させた後、照射ユニ
ット１Ａにより露光領域２２４Ａを、照射ユニット１Ｂ
により露光領域２２４Ｂをそれぞれ形成する。

【００３６】この露光動作により、基板２２の所定の辺
には露光領域２２１Ａと露光領域２２３Ｂとが重畳した
状態で形成され、この辺と直交する辺には露光領域２２
２Ａと露光領域２２４Ｂとが重畳した状態で形成され、
上記所定の辺と対向する辺には露光領域２２３Ａと露光
領域２２１Ｂとが重畳した状態で形成され、残りの辺に
は露光領域２２４Ａと露光領域２２２Ｂとが重畳した状
態で形成される。ここで、２つの露光領域が重畳した領
域では、１つの露光領域が形成される領域よりも多くの
露光エネルギーとなり、感光性材料の膜厚が厚くても、
この感光性材料を除去するのに十分な露光エネルギーが
与えられる。

【００３７】なお、４回目の露光の後に、基板回転ユニ
ット２３により基板２２をさらに９０°回転させれば、
搬入時の向きと同じ向きで基板２２を搬出することがで
きる。また、上述の例では、基板２２の長辺及び短辺へ
の露光位置が異なることに対応して、照射領域ＩＬＡを
Ｘ方向へ移動させる構成としたが、照射領域ＩＬＡのＸ
方向の最大幅（ブラインド１７Ａがない状態のときの照
射領域ＩＬＡのＸ方向の幅）を、基板２２上で必要とさ
れる照射領域の幅と、角型基板２２の長辺と短辺との長
さの差の１／２との和よりも大きく設定し、ブラインド
１７Ａの移動可能な範囲を角型基板２２の長辺と短辺と
の長さの差の１／２との和よりも大きく設定すれば良
い。

【００３８】例えば基板２２のサイズが７００×８００
ｍｍの長方形状である場合を考える。基板２２の中心で
基板を回転させて互いに直交する辺への露光を行う場
合、８００ｍｍ側の辺（基板２２の長辺）を露光する場
合の照射領域の位置と、７００ｍｍ側の辺（基板２２の
短辺）を露光する場合の照射領域の位置とのＸ方向での
差は、それぞれ５０ｍｍずつとなる。例えば８００ｍｍ
側の辺（長辺）を周辺露光した後に基板２２を回転させ
て７００ｍｍ側の辺（短辺）を周辺露光する場合には、
照射領域の位置を片側５０ｍｍずつ内側へ移動させる必
要がある。但し、照射領域ＩＬＡのＸ方向における最大
幅と、ブラインド１７Ａの移動可能範囲とを上記のよう
に設定すれば、ブラインド１７Ａの移動のみで照射領域
ＩＬＡのＸ方向の位置を設定することが可能となり、照
射ユニット１Ａ内の凹面鏡を移動させる必要はなくな
り、照射ユニット１Ａ内の各光学部材を固定的に配置す
ることができる。

【００３９】なお、上述の例では、基板２２への周辺露
光の後に基板を９０°回転させる動作としたが、１８０
°回転させても良い。この場合の動作について以下に簡
単に説明する。図２において、まず照射ユニット１Ａを
用いて基板２２上の露光領域２２１Ａを形成しつつ照射
ユニット１Ｂを用いて基板２２上の露光領域２２１Ｂを
形成する。次に基板回転ユニット２３によりＸＹ平面内
において基板２２を１８０°回転させる。その後、照射
ユニット１Ａを用いて基板２２上の露光領域２２３Ａを
形成し、照射ユニット１Ｂを用いて基板２２上の露光領
域２２３Ｂを形成する。

【００４０】その後、基板回転ユニット２３を用いて基
板２２を９０°回転させ、照射ユニット１Ａ内の凹面鏡
１６Ａを回転させて照射領域ＩＬＡを＋Ｘ方向へ移動さ
せ、照射ユニット１Ｂ内のランプハウス２０Ｂを−Ｘ方
向へ移動させて照射領域ＩＬＢを−Ｘ方向へ移動させ
る。そして、照射ユニット１Ａにより露光領域２２２Ａ
を、照射ユニット１Ｂにより露光領域２２２Ｂをそれぞ
れ形成する。

【００４１】なお、上記露光動作においては、露光領域
２２２Ａ，２２２Ｂへの露光の後に基板２２を９０°回
転させて搬入時と同じ姿勢で基板２２を搬出することが
好ましい。なお、角型基板２２が正方形状である場合に
は、照射ユニット１Ａ，１Ｂ（照明領域ＩＬＡ，ＩＬ
Ｂ）のＸ方向への移動はさせなくとも良い。

【００４２】次に、基板２２上への露光時間の一例につ
いて簡単に数値を掲げる。基板２２のサイズを７００ｍ
ｍ角として、基板２２の外周から５ｍｍ幅の領域に対し
て露光量１００ｍＪ／ｃｍ²で露光し、その領域より内
側であって外周から１００ｍｍ幅までの領域に対して露
光量５０ｍＪ／ｃｍ²で露光する場合を考える。

【００４３】この場合、照射ユニット１Ａを用いて一括
露光（静止露光）する領域を基板２２の外周から１００
ｍｍ幅に設定すると共にこの領域への露光量を５０ｍＪ
／ｃｍ²に設定し、照射ユニット１Ｂを用いて走査露光
する領域の幅を基板２２の外周から５ｍｍに設定すると
共にこの領域への露光量を５０ｍＪ／ｃｍ²に設定すれ
ば、基板２２の外周から５ｍｍ幅の領域に対して露光量
１００ｍＪ／ｃｍ²で露光でき、この領域の内側の外周
から１００ｍｍ幅の領域に対して露光量１００ｍＪ／ｃ
ｍ²で露光することができる。

【００４４】また、本実施形態における照射ユニット１
Ａでは、凹面鏡１６Ａを用いた照射光学系を例として記
載したが、凹面鏡１６Ａの代わりに、レンズ系と平面鏡
との組合わせ、レンズ系と凹面鏡との組合わせ、レンズ
系と凸面鏡との組合わせ、レンズ系のみ、フレネルレン
ズを用いた光学系とすることができる。また、オプティ
カルインテグレータとしてフライアイレンズを用いた
が、射出面形状が露光フィールドと相似形の長方形のロ
ッドインテグレータや、ランダムファイバー束を用いて
も構わない。

【００４５】次に図３を参照して本発明にかかる第２の
実施形態について説明する。なお、図３では図１と同様
にＸＹＺ座標系を採用しており、図１と同様の機能を有
する部材には同じ符号を付している。図３において、第
２の実施形態にかかる周辺露光装置は、基板２２上にお
けるＸ方向の幅が例えば１００ｍｍ程度の照射領域ＩＬ
Ａを形成し、かつこの照射領域ＩＬＡをＹ方向へ走査可
能な照射ユニット２Ａと、基板２２上におけるＸ方向の
幅が例えば３０ｍｍ程度の照射領域ＩＬＢを形成し、か
つこの照射領域ＩＬＢをＹ方向へ走査可能な照射ユニッ
ト２Ｂとを有する。なお、図３では、基板２２を９０°
ごとに回転させる基板回転ユニットの図示を省略してい
る。

【００４６】第２実施形態において、照射ユニット２Ａ
と照射ユニット２Ｂとの差異は、基板２２上に形成され
る照射領域ＩＬＡ，ＩＬＢの大きさの差に基づく点のみ
であり、その機能は両者とも同一であるため、以下では
照射ユニット２Ａの構成のみの説明で代表させる。図３
において、光源１０Ａ、楕円鏡１１Ａ及びダイクロイッ
クミラー１２Ａの構成は図１と同様であるため説明を省
略する。そして、ダイクロイックミラー１２Ａを介した
楕円鏡１１Ａからの光は、その第２焦点位置に集光され
て光源像を形成した後、この第２焦点位置の近傍に入射
端面が位置決めされたロッド型インテグレータ（内面反
射型インテグレータ）１９Ａに入射する。このロッド型
インテグレータ１９Ａは、先に図１で説明したロッド１
９Ｂと同様の機能（入射光束を内面で繰り返し反射させ
ることによりその射出端面に均一な照度分布を形成する
機能）を有する。ここで、ロッド型インテグレータの射
出端面１９Ａは、基板２２上に形成される照射領域ＩＬ
Ａと相似形状となっている。

【００４７】そして、ロッド型インテグレータ１９Ａの
射出側には、レンズ群２４Ａ，２５Ａを有するリレー光
学系と、このリレー光学系からの光を基板２２へ向けて
偏向する光路折り曲げミラー３０Ａが配置されており、
このリレー光学系２４Ａ，２５Ａは、ロッド型インテグ
レータ１９Ａの射出端面の像を所定倍率のもとで基板２
２上に形成して照射領域ＩＬＡを形成する機能を有す
る。このとき、照射領域ＩＬＡを図中Ｙ方向へ走査させ
るためには、光源１０Ａからリレー光学系２４Ａ，２５
Ａに至る光学系全体をＹ方向へ移動させても良いが、本
実施形態では、光学系の一部のみを移動させている。

【００４８】本実施形態において、リレー光学系を構成
するレンズ群２４Ａ，２５Ａの間には、複数の反射ミラ
ー２６Ａ〜２９Ａが配置されている。ここで、ミラー２
６Ａ及びミラー２９Ａは、光源１０Ａ〜レンズ群２４Ａ
までの光学系に対して相対的に固定されており、ミラー
２７Ａ，２８Ａは、ミラー２６Ａに対してＺ方向に沿っ
て移動可能となるようにユニット３１Ａ内に収められて
いる。また、レンズ群２５Ａ及び光路折り曲げミラー３
０Ａは、。一体的にユニット３２Ａ内に保持されてお
り、このユニット３２Ａは図中Ｙ方向に沿って移動可能
となっている。

【００４９】上記構成において、ユニット３２ＡをＹ方
向へ移動させると共に、レンズ群２４Ａ及びレンズ群２
５Ａとの間の光路長が一定となるようにユニット３１Ａ
をＺ方向へ移動させることにより、基板２２上では照射
領域ＩＬＡがＹ方向に走査される。このとき、レンズ群
２５Ａ（ユニット３２Ａ）の移動によるレンズ群２４Ａ
との光路長の変化をミラー２７Ａ，２８Ａ（ユニット３
１Ａ）の移動により補償しているため、リレー光学系２
４Ａ，２５Ａに関するロッド型インテグレータ１９Ａの
射出端面と基板２２との共役関係は一定に維持され、か
つ両者の倍率関係も一定に維持される。

【００５０】なお、各ユニット３１Ａ，３２Ａの連動機
構については、図３の例と同様なオプティカルトロンボ
ーン光学系を周辺露光装置に適用した特開平１１−７２
９２６号に記載してあるため、ここでの説明は省略す
る。また、図３の例において、ロッド型インテグレータ
１９Ａ，１９Ｂの射出端面形状は矩形であることが好ま
しい。また、ロッド型インテグレータ１９Ａ，１９Ｂの
射出端面の近傍に視野絞りを配置することにより、基板
２２上の照射領域ＩＬＡ，ＩＬＢのＸ方向の幅を規定で
き、この視野絞りの開口部のＸ方向の幅を可変とする
と、照射領域ＩＬＡ，ＩＬＢのＸ方向の幅を可変にする
ことが可能である。

【００５１】この図３の例における露光動作は、上述に
おいて図２を参照して説明した第１の実施形態と同様で
あるため、説明は省略する。次に図４及び図５を参照し
て本発明にかかる第３の実施形態について説明する。な
お、図４においては、図１及び図３と同様にＸＹＺ座標
系を採用している。第３の実施形態にかかる周辺露光装
置は、図１に示した第１の実施形態の周辺露光装置の構
成を基本として、それぞれの照射ユニットが光源を有す
るのではなく、１つの光源からの光を光束分岐手段とし
ての分岐ミラーで分岐している点が異なる。従って、以
下の説明では、図１に示した部材と同様の機能を有する
部材には同じ符号を付してある。なお、図４において
も、基板２２を回転させる基板回転ユニットを図示省略
している。

【００５２】図４に示す周辺露光装置は、楕円鏡１１Ａ
の第２焦点位置近傍に分岐ミラー３３が配置されている
点が図１の例とは異なる。この分岐ミラーは図５
（ａ），（ｂ）に示す通り、光透過性材料からなる透明
基板３３１の中央部付近に反射膜３３２を蒸着したもの
である。図４に戻って、分岐ミラー３３の光通過部分
（反射膜３３２が設けられていない領域）を通過した光
は、図１の例と同様に、コリメータレンズ１４Ａ、オプ
ティカルインテグレータ１５Ａ、凹面鏡１６Ａを順に介
して基板２２上に照射領域ＩＬＡを形成する。なお、図
１の例と同様に、照射領域ＩＬＡのＸ方向の幅を規定す
るためのブラインド１７Ａが凹面鏡１６Ａと基板２２と
の間に配置される。

【００５３】一方、分岐ミラー３３の反射部分（反射膜
３３２）で反射された光束は、楕円鏡１１の第２焦点位
置近傍に入射端が位置決めされた光ファイバー３４Ｂに
入射する。この光ファイバー３４Ｂの射出端は、基板２
２上の照射領域ＩＬＡ形成位置と対向する辺の近接した
状態で位置決めされ、基板２２上に照射領域ＩＬＢを形
成する。そして、光ファイバー３４Ｂの射出端は、図中
Ｙ方向に沿って延びた形状のＹ方向ガイド２１Ｂに添っ
て移動可能に設けられており、光ファイバー３４Ｂの射
出端のＹ方向への移動により、照射領域ＩＬＢを基板２
２上でＹ方向に走査でき、Ｙ方向に延びた露光領域２２
Ｂを形成することができる。

【００５４】第３の実施形態では、分岐ミラー３３によ
って、楕円鏡１１Ａからの光束のうち、特に照度の高い
光軸近傍の光束のみを反射膜３３２で反射して光ファイ
バー３４Ｂへ導くことにより、比較的高い照度が要求さ
れる照射領域ＩＬＢでの照度が十分なものとなるように
している。また、照射領域ＩＬＢの大きさは、照射領域
ＩＬＡの大きさよりも小さな領域、例えば基板２２の外
周から５〜１０ｍｍ程度の幅であるため、光ファイバー
３４Ｂとして石英ファイバーを用いても、さほど高価に
はならない。なお、光ファイバー３４Ｂにおいて、入射
端での複数のファイバ素線の密度よりも射出端での密度
を粗となるように構成すれば、光ファイバー３４Ｂでの
射出端における可撓性を向上でき、光ファイバー３４Ｂ
自体にストレスが加わることによる断線の危険性を低減
できる。

【００５５】なお、第３の実施形態において、照射領域
ＩＬＡを形成する照射ユニット３Ａは、光源１０Ａ〜凹
面鏡１６Ａまでの光学系であり、照射領域ＩＬＢを形成
する照射ユニット３Ｂは、光ファイバー３４Ｂ及びＹ方
向ガイド２１Ｂを有している。なお、光源１０Ａ、楕円
鏡１１Ａ、ダイクロイックミラー１２Ａは、照射ユニッ
ト３Ａ及び３Ｂの共有となっている。

【００５６】この第３の実施形態における露光動作は、
上述した第１及び第２の実施形態と同様であるためここ
での説明は省略する。なお、第３の実施形態では、光束
分岐手段として、光束を波面分割する分岐ミラー３３を
用いたが、その代わりに、光束を所定の光量比で振幅分
割するハーフミラーを用いることも可能である。このと
きには、光ファイバー３４Ｂへ導かれる光量がコリメー
タレンズ１４Ａへ導かれる光量よりも大きくなるように
ハーフミラーの振幅分割比を設定することが好ましい。

【００５７】次に図６を参照して、本発明にかかる第４
の実施形態について説明する。なお、図６においてもＸ
ＹＺ座標系を採用している。第４の実施形態の周辺露光
装置では、２つの照射ユニット４Ａ，４Ｂにより基板２
２上に２つの照射領域ＩＬＡ，ＩＬＢを形成しつつ、各
照射ユニット４Ａ，４Ｂ中の一部の光学部材を回転させ
ることによりそれぞれの照射領域ＩＬＡ，ＩＬＢを所定
の方向へ移動させて走査露光を行っている。

【００５８】なお、図６に示す周辺露光装置における２
つの照射ユニット４Ａ，４Ｂの基本的な構成は、図１に
示したものと同様であるため、以下の説明では特に相違
点について説明する。また、図６において、２つの照射
ユニット４Ａ，４Ｂ間の相違点は、基板２２上に形成さ
れる照射領域の大きさ及び形状に関連する部分だけであ
るため、以下では照射ユニット４Ａで代表させて説明す
る。図６に示す照射ユニット４Ａの構成において、光源
１０Ａからコリメータレンズ１４Ａまでの構成は図１に
示した第１の実施形態のものと同様であるため説明を省
略する。第４の実施形態の照射ユニット４Ａにおけるオ
プティカルインテグレータ３５Ａは、図１の例と同様に
所定の断面形状を有する複数のエレメントからなるフラ
イアイレンズであるが、基板２２上での照射領域ＩＬＡ
の形状がＸ方向に長手方向を持つ長方形状であることか
ら、複数のエレメントの各々の断面形状が図中Ｘ方向に
長手方向を有する長方形状である点が図１の例とは異な
る。

【００５９】オプティカルインテグレータ３５Ａの射出
側に配置される凹面鏡３６Ａは、図１の凹面鏡１６Ａと
は異なり、図中Ｘ方向を中心として回転可能に設けられ
ている。この凹面鏡３６Ａの回転により、基板２２上に
形成される照射領域ＩＬＡは、図中Ｙ方向に沿って移動
する。その結果、基板２２上にはＹ方向に伸びた形状の
露光領域２２Ａが形成される。

【００６０】第４の実施形態における照射ユニット４Ｂ
は、オプティカルインテグレータ３５Ｂの構成が、照射
ユニット４Ａのそれとは異なる。具体的には、オプティ
カルインテグレータ３５Ｂを長方形状の断面を持つ複数
のエレメントからなるフライアイレンズとすることは、
照射ユニット４Ａと同様であるが、照射ユニット４Ｂで
は、複数のエレメントの長手方向が照射ユニット４Ａの
それとは光軸を中心として９０°回転させた状態となる
ようになっている。すなわちオプティカルインテグレー
タ３５Ａ，３５Ｂは、同一構成のフライアイレンズを、
その向きが光軸を中心として９０°異なるように配置し
ている点が異なる。この構成により、照射ユニット４Ｂ
は、図中Ｙ方向に長手方向を持つ長方形状の照射領域Ｉ
ＬＢを基板２２上に形成することになる。照射ユニット
４Ｂにおいても、オプティカルインテグレータ３５Ｂの
射出側に配置される凹面鏡３６ＢをＸ軸を中心として回
転させることにより、照射領域ＩＬＢを図中Ｙ方向に沿
って走査させることができる。

【００６１】ここで、照射ユニット４Ａ，４Ｂは、同一
構成の光学部材で構成されている（オプティカルインテ
グレータ３５Ａ，３５Ｂの組み付け方向のみが異なる）
ため、製造時のイニシャルコストを削減できる利点があ
る。さて、第４の実施形態では、２つの照射領域ＩＬ
Ａ，ＩＬＢをＹ方向に沿って走査させて露光領域２２
Ａ，２２Ｂを形成しており、比較的低い露光量しか要求
されないがＸ方向の露光幅の広い露光領域２２Ａを、走
査直交方向（Ｘ方向）に長手方向を有する照射領域ＩＬ
Ａで形成し、Ｘ方向の露光幅は狭いが高い露光量が要求
される露光領域２２Ｂを、走査方向（Ｙ方向）に長手方
向を有する照射領域ＩＬＢで形成している。これによ
り、光源１０Ａ，１０Ｂの出力が同じで、各照射領域Ｉ
ＬＡ，ＩＬＢの走査速度が同程度である状態でも、露光
領域２２Ｂの方の露光量を露光領域２２Ａよりも高くす
ることができる。このように、第４の実施形態では、ほ
ぼ同じ構成の２つの照射ユニット４Ａ，４Ｂを用いなが
ら、高露光量の最外周の露光領域２２Ｂと、低露光量の
若干内側までをカバーする露光領域２２Ａとを効率良く
周辺露光することができる。

【００６２】なお、第４の実施形態において、各々の照
射ユニット４Ａ，４Ｂごとに最適な光源を選択し、さら
に最適な照射領域を形成する光学系を別の構成としても
良い。第４の実施形態における露光動作は、２つの露光
領域を形成する際に２つの照射領域ＩＬＡ，ＩＬＢの双
方を移動させる点だけが上記各実施形態とは異なるだけ
であるので、ここでの説明は省略する。

【００６３】図６に示した第４の実施形態では、基板２
２上に形成される２つの露光領域２２Ａ，２２Ｂを走査
露光で形成したが、この２つの露光領域を一括露光（静
止露光）で形成しても良い。図７は、全ての露光領域を
一括露光（静止露光）で形成する第５の実施形態にかか
る周辺露光装置の概略図である。なお、図７ではＸＹＺ
座標系を採用しており、上述の各実施例と同様の機能を
有する部材には同じ符号を付してある。

【００６４】この図７の周辺露光装置では、基板２２上
に２つの露光領域２２Ａ，２２Ｂを２つの照射ユニット
１Ａ，５Ｂを用いてそれぞれ形成しているが、２つの照
射ユニットのうち照射ユニット１Ａは、図１に示した第
１の実施形態の照射ユニット１Ａと同一の構成・機能を
有しているものであるため、ここでは説明を省略する。

【００６５】図７に示す照射ユニット５Ｂは、ｇ線(436
nm)、ｈ線(404nm)及びｉ線(365nm)の波長を含む光を発
光する放電型光源としてのロングアーク型ランプ３７Ｂ
と、そのロングアーク型ランプ３７Ｂからの光を集光す
る反射鏡３８Ｂとを有している。ここで、反射鏡３８Ｂ
は、ロングアーク型ランプ３７Ｂの発光長の方向（長手
方向）と直交する方向においてのみパワーを有する放物
面鏡とすることができる。

【００６６】なお、ロングアーク型ランプ３７Ｂとして
は、ブラックライトや、高圧ロングアーク水銀灯、低圧
ロングアーク水銀灯などの棒状の発光部を有するものを
適用できる。第５実施形態では、電源のＯＮ／ＯＦＦに
より露光のＯＮ／ＯＦＦを行うことのできるブラックラ
イトをロングアーク型ランプ３７Ｂとして適用してい
る。

【００６７】また、第５実施形態では、反射鏡３８Ｂと
基板２２との間に、基板２２上の照射領域２２ＢのＸ方
向の端部を規定するためのエッジ絞り３９Ｂを配置して
いる。なお、このエッジ絞り３９Ｂを図中Ｘ方向に可動
に設けて、反射鏡３８Ｂを介したロングアーク型ランプ
３７Ｂからの光を通過・遮光するためのシャッターとし
ても良い。

【００６８】本実施形態では、ロングアーク型ランプ３
７Ｂとして、ブラックライトのように低パワーのものを
適用しているため、ロングアーク型ランプ３７Ｂと基板
２２との間を近接させて必要となる照度を確保してい
る。しかしながら、ロングアーク型ランプ３７Ｂと基板
２２との間を近接して配置すればするほど、逆にエッジ
絞り３９Ｂを回り込む光束が大きくなるため、照射領域
ＩＬＢの内側（＋Ｙ方向側）の端部を正確にすることが
困難となる。ただし、本実施形態では、照射領域ＩＬＢ
の内側（＋Ｙ方向側）の端部がぼけて露光領域２２Ｂの
内側（＋Ｙ方向側）の境界線がぼけたとしても、そのボ
ケた境界線よりも内側の領域を照射領域ＩＬＡにより露
光する構成であるため、問題は生じない。このように、
本実施形態では、２重露光を行うことを前提としている
ため、棒状光源と反射鏡とからなる簡単で安価な照射ユ
ニット５Ｂを用いたとしても、内側をエッジ精度よく露
光できる照射ユニット１Ａを別に配置する構成であるた
め、非常に安価で単純な構成にもかかわらず、精度良く
周辺露光を行うことが可能になる。

【００６９】なお、第５実施形態における露光動作は、
２つの露光領域を形成する際に２つの照射領域ＩＬＡ，
ＩＬＢの双方を静止させた状態で一括露光する点だけが
上記各実施形態とは異なるだけであるので、ここでの説
明は省略する。なお、第５の実施形態において、照射ユ
ニット５Ｂ（及びエッジ絞り３９Ｂ）は、Ｘ方向に移動
可能であることが好ましい。この構成により、角型基板
２２の縦横の長さが異なっている場合にも対応でき、さ
らには基板２２の搬入及び搬出時において照射ユニット
５Ｂを搬入路及び搬出路から退避させることも可能とな
る。

【００７０】さて、上述の各実施例には、角型基板２２
の周辺部のみを露光する例を示したが、１つの基板から
２面や４面、６面のパネルを形成する場合などの多面取
りを行う場合には、角型基板２２の周辺部のみならず、
基板２２の中央部に対しても露光を行うことになる。こ
の場合には、角型基板２２上に複数の回路パターン領域
が形成され、これら複数の回路パターン領域の間及び基
板の周辺部に対して周辺露光を行う。通常の液晶表示素
子の場合には、ＴＦＴと呼ばれる薄膜トランジスタ部を
含む基板と色を表示するためのカラーフィルタを張り合
わせると言った工程が存在する。このときにカラーフィ
ルタのサイズによっては、パネル間で１０〜３０ｍｍ程
度の間隔を取る必要があるため、中央部の露光が必要と
なる。

【００７１】このような場合には、上述に説明した照射
ユニット１Ａ〜４Ａのうちの何れかを、基板２２の中央
部直上に配置しても良いが、コストが高くなりすぎるの
で、照射ユニット１Ａ〜４Ａを露光領域２２Ａの長手方
向と交差する方向（例えばＸ方向）へ移動可能な構成を
とるのが望ましい。この場合、照射ユニット１Ａ〜４Ａ
の移動に連動させてブラインド１７Ａも移動させること
が好ましい。

【００７２】なお、照射ユニット１Ａ，３Ａまたは４Ａ
を用いる場合には、凹面鏡１６Ａ（３６Ａ）をＹ方向を
軸として回転可能に設け、照射領域ＩＬＡ自体を基板２
２の中央部に形成させる構成でも良い。この場合におい
ても、照射領域ＩＬＡの移動に連動させてブラインド１
７Ａも移動させることが好ましい。以下、図８を参照し
て、基板２２の周辺部と中央部とに対して露光を行う際
の例について説明する。図８は基板２２、照射領域、及
び露光領域規定手段としてのブラインドの配置関係を説
明するためのＸＹ平面図であり、図８（ａ）は第１の変
形例を、図８（ｂ）は第２の変形例を示す。図８
（ａ），（ｂ）において、上述の各実施形態と同じ機能
を有する部材には同じ符号を付してあり、照射領域ＩＬ
Ｂにより露光領域２２Ｂを形成する点は上述の各実施形
態と同様であるためここでの説明は省略する。

【００７３】図８（ａ）において、上述の各実施形態の
周辺露光装置とは異なる点は、基板２２の中央部の露光
領域２２Ｃ（照射領域）を規定するためのブラインド１
７２，１７３を設け、照射ユニットによって、基板２２
の＋Ｘ方向端部からブラインド１７３までを一括照明し
た点である。なお、図８（ａ）にはこの一括照明領域Ｉ
ＬＬを破線で示している。

【００７４】ここで、ブラインド１７Ａ及びブラインド
１７２は、図中Ｘ方向に移動可能であり、これらのブラ
インド１７Ａ，１７２間には図示無き遮光部が設けられ
ている。また、ブラインド１７３は、そのエッジ部分が
基板２２の中心Ｃ（基板回転ユニットによる回転中心）
よりも多少−Ｘ方向側となるように固定した状態で設け
られている。なお、基板２２の（回転）中心Ｃとブライ
ンド１７３のエッジとの距離は例えば１ｍｍ程度に設定
すれば良い。ブラインド１７ＡのＸ方向の位置設定によ
り基板２２の外周部に形成される露光領域２２ＡのＸ方
向の幅が設定される。

【００７５】さて、基板２２の外周部への露光に関して
は前述の実施形態と同様に１つの辺に２つの露光領域２
２Ａ，２２Ｂが重畳された状態で形成されるが、基板２
２の中央部の露光に関しては、基板２２を１８０°回転
させる前後２回の露光により、露光領域２２Ｃがその短
手方向へ所定量ずれた状態で２箇所に形成される。ここ
で、互いにずれて形成される２つの露光領域２２Ｃは、
露光領域２２Ｃ自体が基板２２の（回転）中心Ｃを含む
ように設定してあるため、互いに一部重複することにな
る。このとき、一部重複して形成される露光領域２２Ｃ
の全体の幅は、ブラインド１７２のＸ方向での位置設定
により設定することができる。

【００７６】なお、図８（ｂ）に示すように、２つの露
光領域２２Ａ，２２Ｃを一つの照射ユニットで一括露光
するのではなく、別々の照明領域ＩＬＬＡ，ＩＬＬＣを
形成するために、２つの照射ユニットを設ける、あるい
は照射ユニットによる照射領域をＸ方向へ移動可能に構
成することも可能である。上記図８（ａ），（ｂ）の例
においては、露光領域２２Ａ，２２Ｃを一括照明により
形成したが、小さな照射領域を例えば図中Ｙ方向へ移動
させる走査露光を行って露光領域２２Ａ，２２Ｃを形成
しても良い。

【００７７】このように、図８の例では、２つのブライ
ンド１７２，１７３により、中央部に形成すべき露光領
域の露光幅の１／２よりも広い露光領域２２Ｃを形成し
ているため、基板２２の１８０°回転動作により中央部
の露光領域を上記露光幅とすることができる。また、上
述の各実施形態においては、２つの照射ユニットを、そ
れらが形成する露光領域２２Ａ，２２Ｂが互いに平行と
なるように配置した例を示した。しかしながら、２つの
照射ユニットにより形成される露光領域同士が直交する
ように照射ユニットを配置しても構わない。また、照射
ユニットの数も２つのみには限られず、３つ、４つとし
ても当然構わない。

【００７８】また、同一の辺を多重露光できるように静
止露光と走査露光、走査露光と走査露光、静止露光と静
止露光といったように配置しても構わない。また、上述
の各実施例においては、複数の照射ユニットにより形成
される複数の照射領域を基板２２上の別の辺に形成する
例を示したが、基板２２の１つの辺上の互いに異なる場
所に複数の照射領域を形成する構成でも良い。

【００７９】また、上述の例では、光源として４００ｎ
ｍ以下の波長の光を供給する超高圧水銀ランプを適用し
たが、本発明の光源としては超高圧水銀ランプには限定
されない。また、上記各実施形態は４００ｎｍ以下の露
光光を用いることを前提としているが、本発明は４００
ｎｍ以下の露光光を用いる装置のみには限定されない。

【００８０】このように本発明は上述の実施形態に限定
されずに種々の構成をとり得る。

【００８１】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、露光光に
４００ｎｍ以下の光を用いて露光する場合であっても、
長くて太い石英ファイバーを用いることなく、露光幅の
拡大を容易にでき、基板の周辺部の露光量を上げること
が安価な構成で可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態にかかる周辺露光装置
を概略的に示す斜視図である。

【図２】第１の実施形態の周辺露光装置による角型基板
上での露光領域を示す平面図である。

【図３】本発明の第２の実施形態にかかる周辺露光装置
を概略的に示す斜視図である。

【図４】本発明の第３の実施形態にかかる周辺露光装置
を概略的に示す斜視図である。

【図５】第３の実施形態の周辺露光装置の光束分岐手段
の構成を示す図である。

【図６】本発明の第４の実施形態にかかる周辺露光装置
を概略的に示す斜視図である。

【図７】本発明の第５の実施形態にかかる周辺露光装置
を概略的に示す斜視図である。

【図８】本発明の実施形態の変形例を示す図である。

【符号の説明】

１０Ａ，１０Ｂ：光源１Ａ〜４Ａ，１Ｂ〜５Ｂ：照射ユニットＩＬＡ，ＩＬＢ：照射領域２２：基板２２Ａ，２２Ｂ：露光領域

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】角型基板に塗布された感光性材料上の所定
の回路パターンが転写される領域とは異なる領域に対し
て露光光を照射する周辺露光装置であって、露光光を供給する光源と、該光源からの露光光を前記基板へ向ける照明光学系とを
有し、前記照明光学系は、前記基板上に第１照射領域を形成す
る第１部分照明系と、前記基板上で前記第１照射領域と
離れた第２照射領域を形成する第２部分照明系とを備
え、前記第１及び第２照射領域は互いに大きさが異なり、前記第１及び第２照射領域の一部は前記基板上で重畳し
て露光されることを特徴とする周辺露光装置。
【請求項２】前記第１照射領域が形成される前記基板上
の辺と、前記第２照射領域が形成される前記基板上の辺
とは異なる辺であることを特徴とする請求項１記載の周
辺露光装置。
【請求項３】前記基板を略９０°の整数倍ごとに回転さ
せる基板回転手段をさらに備えることを特徴とする請求
項１または２記載の周辺露光装置。
【請求項４】前記光源は、第１光源と、該第１光源とは
異なる第２光源とを備え、該第１光源からの露光光が前記第１部分照明系へ導か
れ、かつ該第２光源からの露光光が前記第２部分照明系
へ導かれるように構成されることを特徴とする請求項１
乃至３の何れか一項記載の周辺露光装置。
【請求項５】前記光源からの露光光を分岐させて、少な
くとも前記第１部分照明系と前記第２部分照明光学系と
へ導くための光束分岐手段をさらに備えることを特徴と
する請求項１乃至３の何れか一項記載の周辺露光装置。
【請求項６】前記第１及び第２照射領域のうちの少なく
とも一方と前記基板とは、前記基板への露光中に相対移
動することを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項記
載の周辺露光装置。
【請求項７】前記第１及び第２照射領域のうちの少なく
とも一方は、露光中に前記基板に対して静止した状態で
あることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項記載
の周辺露光装置。
【請求項８】前記感光性材料を前記角型基板へ塗布する
第１工程と、前記角型基板上の前記感光性材料上の所定領域に回路パ
ターンを転写する第２工程と、請求項１乃至７の何れか一項記載の周辺露光装置を用い
て前記回路パターンが転写される領域に対して露光光を
照射する第３工程とを有し、前記第３工程は、前記第２工程の前または後に実行され
ることを特徴とする周辺露光方法。