JP2000294758A - 固体撮像素子 - Google Patents
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Abstract
よる微細な原色(赤、緑、青)の色フィルタの形成を可
能にし、且つ色再現性の良好化を図る。 【解決手段】 色素含有ポジ型レジストを用いて赤、緑
及び青の3色からなる色フィルタが形成されてなる固体
撮像素子であって、緑色フィルタがイエロー系フィルタ
層とシアン系フィルタ層の積層で形成され、赤色フィル
タが単層若しくはイエロー系フィルタ層と赤系フィルタ
層の積層で形成され、青色フィルタが単層で形成されて
成る。
Description
素子、MOS又はCMOS型撮像素子等の固体撮像素子
に関する。より詳しくは、固体撮像素子上の色フィルタ
に関する。
光センサ部上に形成される色フィルタが染色法に代わっ
て、いわゆるカラーレジスト法と称される色素含有感光
性樹脂法で形成されるようになってきている。このカラ
ーレジスト法(色素含有感光性樹脂法)は、染色工程が
不要なため製造上のメリットが大きい方法である。
のように微細なカラーフィルタをカラーレジストで赤
(R)、緑(G)、青(B)の3色で形成する場合に
は、フィルタをパターニングするのに必要な露光量が著
しく増加してしまい、結果として精度の良いパターニン
グが困難であるといった不都合を生じている。
スト中に色素を大量に含有させるためレジストの感度が
低いものとなっている。そこで、このようなレジスト感
度の低下を避けるために、感度の高いネガ型レジストを
使用するのが一般的である。例えば、赤、緑、青形成用
レジストとしては、バインダー樹脂に多感応アクリル系
モノマ、光重合開始剤、顔料を加えて形成された顔料分
散型アクリル系ネガ型レジストが広く普及している。こ
のレジストは、顔料を入れない場合、微細加工用に普及
しているノボラック系ポジ型レジスト(ノボラック樹脂
にナフトキノンジアジド系感光剤を加えて形成されたレ
ジスト)の100倍以上の感度を有するものである。
ガ型レジストで固体撮像素子用の微細な色フィルタを形
成した場合は、レジストの解像度不足、得られるレジス
トパターンのレジストエッジ形状が逆テーパになるこ
と、さらに顔料の現像残渣の影響等で画素間の混色や感
度不均一性が起こることなどにより、固体撮像素子の画
質を著しく低下させる。従って、このような理由から、
解像度の良好なレジストで原色(赤、緑、青)の色フィ
ルタを形成することが望まれている。
に色素として染料を含有させた、いわゆるポジ型染料系
カラーレジストを用いて、赤、緑及び青の色フィルタの
形成方法を提案した。ポジ型染料系のカラーレジストで
原色(赤、緑、青)の色フィルタを形成する場合には、
カラーレジストをパターニングするのに必要な露光量が
著しく増加するとという問題が生ずる。そこで、上記提
案の方法では、ポジ型染料系の補色のカラーレジストで
形成したパターンの積層で、原色(赤、緑、青)の色フ
ィルタを形成するようにしている(特願平10−823
66号参照)。
いて原色(赤、緑、青)の色フィルタを形成したCCD
固体撮像素子の例を示す。同図は、CCD固体撮像素子
の撮像領域の要部の断面構造を示す。このCCD固体撮
像素子1は、半導体基板2の主面に複数の受光センサ部
3がマトリックス状に配列形成され、各受光センサ部列
の一側にCCD構造の垂直転送レジスタ4が形成され
る。垂直転送レジスタ4は、基板2に形成された転送チ
ャネル領域5と、その上のゲート絶縁膜6と、ゲート絶
縁膜6上に電荷転送方向に配列形成された例えば多結晶
シリコンからなる複数の転送電極7とによって構成され
る。
介して例えばAl等による遮光膜9が形成され、さらに
全面に層間絶縁膜10及び平坦化膜11が形成される。
この平坦化膜11上に、各受光センサ部3に対応するよ
うにポジ型染料系の補色のカラーレジストによる色フィ
ルタ12が形成され、さらにその上にオンチップマイク
ロレンズ13が形成される。
Gがイエロー(YE)フィルタ層14とシアン(CY)
フィルタ層15の積層で形成され、赤色フィルタ12R
がイエローフィルタ層14とマゼンタ(MG)フィルタ
層16の積層で形成され、青色フィルタ層12Bがシア
ンフィルタ層15とマゼンタフィルタ層16の積層で形
成される。この色フィルタ12は、イエローフィルタ層
14、シアンフィルタ層15及びマゼンタフィルタ層1
6の3回のパターニングによって形成することができ
る。
実用的な方法であるが、分光感度特性に対する自由度が
小さいため、固体撮像素子の色再現特性を十分に満足さ
せるものを得るが容易でない。
固体撮像素子1(比較例)の分光感度特性の例を示す。
曲線Iは赤(R)の感度、曲線IIは緑(G)の感度、曲
線III は青(B)の感度を夫々示す。この分光感度特性
によれば、赤の波長480nm付近Ia、緑の波長62
0nm付近IIb及び青の波長580nm付近 IIIcが不
要な感度いわゆる感度の浮きを有しており、色再現性を
不利にしている。
ト法による微細な原色(赤、緑、青)の色フィルタを有
し、色再現性の良好な固体撮像素子を提供するものであ
る。
子は、色素含有ポジ型レジストを用いて赤、緑及び青の
3色からなる色フィルタが形成されてなる固体撮像素子
であって、緑色フィルタがイエロー系フィルタ層とシア
ン系フィルタ層の積層で形成され、赤色フィルタが単
層、又はイエロー系フィルタ層と赤系フィルタ層の積層
で形成され、青色フィルタが単層で形成されて成る。
ルタを解像度の良好な色素含有ポジ型レジストを用いて
形成するので、微細パターンの色フィルタが得られる。
色再現性についてみたとき、緑画素の分光感度特性の6
20nm付近の浮きの影響は小さい。少なくとも、緑色
フィルタをイエロー系フィルタ層とシアン系フィルタ層
の積層で形成し、青色フィルタを単層で形成することに
より、分光感度特性における所定波長付近の浮きの影響
が抑えられ良好な色再現性が得られる。
施の形態を説明する。
び青の色フィルタにおいては、色素及びフィルタ膜厚の
自由度が小さいため、赤、緑及び青ともに良好な分光特
性を有する色フィルタが形成しにくい。すなわち、前述
したように、赤、緑及び青ともに、いずれかの波長で分
光感度特性の浮きを生じる。
の関係を詳細に検討した結果、赤、緑及び青の分光感度
特性の浮きのうち、赤の波長480nm付近及び青の波
長580nm付近の浮きの影響は大きいのに対し、緑の
波長600nm付近の浮きの影響は比較的小さいことを
見出した。すなわち、色再現性を改善するには、青の波
長580nm付近及び赤の波長480nm付近の浮きを
抑えれば良いことが判明した。
においては、一般的な緑レジストの感度が最も低くな
る。これは緑レジストに添加されるシアン系の色素とイ
エロー系の色素が共にパターニングのために必要な近紫
外光を大きく吸収してしまうためである。これに対し、
赤レジスト及び青レジストに関しては、色素の選択によ
っては実用的な感度を有するカラーレジストを設計でき
る。
ィルタをイエロー系フィルタ層とシアン系フィルタ層の
積層で形成する。これにより、実用的な露光量でカラー
レジストをパターニングでき、良好な形状の微細な緑色
フィルタを形成できる。この際、緑画素の分光感度特性
が波長620nm付近で浮いていてもかまわない。具体
的には緑の最大感度で規格した場合、波長620nmに
おける感度が0.1以上で0.5以下であれば良い。こ
れにより、一般的なイエロー系色素及びシアン系色素を
用いて、実用的な膜厚、例えば2.5μm以下の膜厚で
緑色フィルタの形成が可能となる。
センサ部の面を下にしてシアン系フィルタ層をイエロー
系フィルタ層の上層に形成することが好ましい。即ち、
上記分光感度特性を達成するためのシアン系フィルタ層
とイエロー系フィルタ層の膜厚は、より大きな吸収が必
要となるイエロー系フィルタ層の方が大きくなるが、レ
ジスト塗布時の特性からシアン系フィルタ層上にイエロ
ー系フィルタ層を形成しようとすると、シアン系フィル
タ層以外の部分に塗布されるイエロー系カラーレジスト
の膜厚はすでに存在するシアン系フィルタ層の段差のた
めに必要以上に厚くなってしまい、この結果、ただでさ
え露光量の大きいイエロー系フィルタ層をパターニング
するために必要な露光量が大きくなり過ぎてしまうから
である。
形成する。一般的な青色素は、レジストをパターニング
するために必要な露光波長域、即ち可視〜近紫外領域の
吸収が比較的小さく、実用的な露光量をもつ青レジスト
を設計できる。この目的のためにトリフェニルメタン
系、アントラキノン系、アゾ系等の色素を使用できる
が、良好な色再現を達成するためには、波長580nm
付近の吸光係数が大きく、かつ急峻な分光吸収特性を有
するトリフェニルメタン系の青色素が特に有用である。
であり、緑の最大感度で規格化した場合、波長580n
mにおける感度が0.04以下であることが好ましい。
形成してもよく、又は赤系(マゼンタ、オレンジ、スカ
ーレット、レッド等)フィルタ層とイエロー系フィルタ
層の積層で形成してもよい。
場合は、マゼンタ系フィルタ層とイエロー系フィルタ層
の積層、オレンジ系フィルタ層とイエロー系フィルタ層
の積層、スカーレット系フィルタ層とイエロー系フィル
タ層の積層、レッド系フィルタ層とイエロー系フィルタ
層の積層等によって形成される。マゼンタ系フィルタ層
とイエロー系フィルタ層の積層ではマゼンタ色素の量を
増し、又はマゼンタ系フィルタ層の膜厚を大きくするこ
とにより、分光感度特性の波長480nm付近の浮きを
小さく抑えることができる。他の赤系フィルタ層におい
ても、マゼンタ系フィルタ層と同様に色素の量、膜厚を
大きくするもの、或はこのような色素の量、膜厚を考慮
しなくても波長480nm付近の浮きを抑えることがで
きるものもある。
ゾ系、キサンテン系等の赤色素単独、アゾ系、キサンテ
ン系等のマゼンタ色素とオレンジ色素又は/及びイエロ
ー色素との混合、または、上記赤色素とアゾ系、アント
ラキノン系等のイエロー色素又は/及びオレンジ色素と
の混合を使用することができる。
にレジストの露光波長である近紫外光の吸収が比較的少
ない色素を選択することが好ましい。
エロー系フィルタ層との積層で形成する場合も、上記の
単層で形成する場合と同様な系統の色素を使用できる
が、この場合は上記露光波長の吸収の制約が小さくな
り、より色素の選択範囲が大きくなる。
るためのイエロー系カラーレジストは、緑色フィルタを
形成するためのイエロー系カラーレジストと同一である
ことが好ましい。なぜなら、赤色フィルタを形成するイ
エロー系フィルタ層と、緑色フィルタを形成するための
イエロー系フィルタ層とを1回の塗布、露光、現像で形
成することにより、色フィルタ形成工程数が増えるのを
防ぐことができる。
り、緑の最大感度で規格化した場合、波長480nmに
おける感度が0.06以下であることが好ましい。
像度を重視する必要から、ポジ型レジストに染料を添加
した、色素含有ポジ型レジストを用いる。
ク系樹脂、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、カルボン酸
基を導入したアクリル系樹脂等のアルカリ水溶液に可溶
な樹脂に、感光剤として例えばナフトキノンジアジドを
添加したものを好ましく使用することができる。
記レジスト溶液と相溶性の良いものを選択する。油溶性
染料、分散染料、酸性染料等の中から適宜選択すること
ができるが、相溶性及び色素の耐熱性等の点で特に好ま
しく使用できるのは、−SO 2 NHR基、又は、−SO
2 NRR′基(R,R′はアルキル基またはアリル基及
びそれらから誘導される基)を有する色素であり、ま
た、耐光性の点では含金(金属錯塩型)の色素が好まし
く使用できる。
ることを防ぐため、上記レジストに添加される色素のレ
ジスト固形分に対する添加量は、10%〜50%である
ことが好ましい。
用した場合の一実施の形態を示す。図1は、CCD固体
撮像素子の撮像領域の要部の断面構造を示す。
1は、半導体基板2の主面に複数の受光センサ部3がマ
トリックス状に配列形成され、各受光センサ部列の一側
にCCD構造の垂直転送レジスタ4が形成される。垂直
転送レジスタ4は、基板2に形成された転送チャネル領
域5と、その上のゲート絶縁膜6と、ゲート絶縁膜6上
に電荷転送方向に配列形成された例えば多結晶シリコン
からなる複数の転送電極7とによって構成される。垂直
転送レジスタ4上には層間絶縁膜8を介して例えばAl
等による遮光膜9が形成され、さらに全面に層間絶縁膜
10及び平坦化膜11が形成される。
素含有ポジ型レジストによる赤、緑及び青の3色からな
る色フィルタ23が形成され、さらに、色フィルタ23
上に各画素に対応するようにオンチップマイクロレンズ
13が形成されて成る。
Gがイエロー系フィルタ層24とシアン系フィルタ層2
5の積層で形成され、赤色フィルタ23R及び青色フィ
ルタ23Bが夫々単層で形成される。
造プロセスを示す。先ず、図2Aに示すように、平坦化
膜11上にポジ型レジストに赤色素を含有させたポジ型
染料系の赤カラーレジスト膜31を塗布し、所定パター
ンに露光、現像して、図2Bに示すように、赤画素に対
応する位置に単層の赤色フィルタ23Rを形成する。次
に、図2Cに示すように、ポジ型レジストにイエロー色
素を含有させたポジ型染料系のイエローカラーレジスト
膜34を塗布し、所定パターンに露光、現像して図2D
に示すように、緑画素に対応する位置にイエロー系フィ
ルタ層24を形成する。
トにシアン色素を含有させたポジ型染料系のシアンカラ
ーレジスト膜35を塗布し、所定パターンに露光、現像
して、図3Fに示すように、上記イエロー系フィルタ層
24上にシアン系フィルタ層25を形成し、イエロー系
フィルタ層24とシアン系フィルタ層25の積層による
緑色フィルタ23Gを形成する。この緑色フィルタ23
Gの形成に際しては、前述したように、イエロー系フィ
ルタ層24を下層にし、上層にシアン系フィルタ層25
を形成することにより、パターニングがし易くなると共
に、所望の分光感度特性が得られるものである。
トに青色素を含有させたポジ型染料系の青カラーレジス
ト膜36を塗布し、所定パターンに露光、現像して、図
3Hに示すように青画素に対応する位置に単層の青色フ
ィルタ23Bを形成する。このようにして、赤色フィル
タ23R、緑色フィルタ23G及び青色フィルタ23B
からなる目的の色フィルタ23を形成する。
用した場合の他の実施の形態を示す。図4は、CCD固
体撮像素子の撮像領域の要部の断面構造を示す。
0は、特に、色素含有ポジ型レジストによる赤、緑及び
青の3色からなる色フィルタ41が、その緑色フィルタ
41Gを図1と同様にイエロー系フィルタ層43とシア
ン系フィルタ層44の積層で形成し、赤色フィルタ41
Rをマゼンタ系フィルタ層45とイエロー系フィルタ層
43の積層で形成し、青色フィルタ41Bを単層で形成
してなる色フィルタにて構成される。
タ4、遮光膜9、層間絶縁膜8,10、平坦化膜11、
オンチップマイクロレンズ13等の構成は、図1と同様
であるので、対応する部分に同一符号を付して重複説明
を省略する。
造プロセスを示す。先ず、図5Aに示すように、平坦化
膜11上にポジ型レジストに赤系色素、例えばマゼンタ
色素を含有させたポジ型染料系のマゼンタカラーレジス
ト膜51を塗布し、所定パターンに露光、現像して、図
5Bに示すように赤画素に対応する位置にマゼンタ系フ
ィルタ層45を形成する。
型レジストにイエロー色素を含有させたポジ型染料系の
イエローカラーレジスト膜52を塗布し、所定パターン
に露光、現像して、図5Dに示すようにマゼンタ系フィ
ルタ層45上と緑画素に対応する位置にわたって連続し
たイエロー系フィルタ層43を形成する。これによっ
て、赤画素に対応する位置には、マゼンタ系フィルタ層
45とイエロー系フィルタ43との積層による赤色フィ
ルタ41Rが形成される。
レジストにシアン色素を含有させたポジ型染料系のシア
ンカラーレジスト膜53を塗布し、所定パターンに露
光、現像して、図6Fに示すように緑画素に対応するイ
エロー系フィルタ層43上にシアン系フィルタ層44を
形成する。これによって、緑画素に対応する位置には、
イエロー系フィルタ層43とシアン系フィルタ層44と
の積層による緑色フィルタ41Gが形成される。
レジストに青色素を含有させたポジ型染料系の青カラー
レジスト膜54を塗布し、所定パターンに露光、現像し
て、図6Hに示すように青画素に対応する位置に単層に
よる青色フィルタ41Bを形成する。このようにして、
赤色フィルタ41R、緑色フィルタ41G及び青色フィ
ルタ41Bからなる目的の色フィルタ41を形成する。
及び40によれば、素子上にカラーレジスト法による微
細な赤、緑及び青の3色からなる色フィルタ23及び4
1を形成することが可能となる。形成された色フィルタ
23,41は、ポジ型染料系のカラーレジストを用いて
いるので、良好なパターン特性を有し、顔料分散型のア
クリル系ネガ型レジストを使用した場合に比べて欠陥の
少ない画質が得られる。
を積層して色フィルタを形成した図12の固体撮像素子
1に比べて分光感度特性が改善される。即ち、色再現性
に影響されない緑の分光感度特性の波長620nm付近
の感度の浮きは同程度であるも、赤の分光感度特性の波
長480nm付近の感度の浮き及び青の分光感度特性の
波長580nm付近の感度の浮きが抑えられる。従っ
て、良好な色再現を与えることができる。
ゼンタ色素(キサンテン系)と図8Dに示す化学構造式
のオレンジ色素(アゾ系)を1対1で配合してなる赤色
素を含有させた赤カラーレジスト、図7Aに示す化学構
造式のイエロー色素(アゾ層)を含有させたイエローカ
ラーレジスト、図7Bに示す化学構造式のシアン色素
(フタロシアニン系)を含有させたシアンカラーレジス
ト、図8Eに示す化学構造式の青色素(トリフェニルメ
タン系)を含有させた青カラーレジストを夫々使用す
る。各カラーレジストの組成は後述する。色フィルタの
形成は、夫々のカラーレジストをスピン塗布し、プリベ
ークで溶剤を除去したのち、i線(波長365nm)ス
テッパでパターン露光し、TMAH水溶液(Tetramethy
lammonium Hydroxide Solution :水酸化テトラメチル
アンモニウム水溶液)で現像して不要部分を除去して行
う。また、パターンを硬化させるために現像後のウエハ
に紫外線を全面照射してレジストの感光剤を分解させた
のち、ポストベーク処理を行う。以上の処理を図2及び
図3に示すと同様に赤→イエロー→シアン→青の各カラ
ーレジストについて順次行い、CCD固体撮像素子上
に、緑色フィルタ23Gをイエロー系フィルタ層24と
シアン系フィルタ層25の積層で形成し、赤色フィルタ
23R及び青色フィルタ23Bを単層で形成してなる色
フィルタ23を形成する(図1参照)。この後、必要に
応じて保護膜やオンチップマイクロレンズ13を形成し
て、図1に示すCCD固体撮像素子21を得る。実施例
1による固体撮像素子21の分光感度特性を図9に示
す。曲線IVは赤の感度、曲線Vは緑の感度、曲線VIは
青の感度である。
ゼンタ色素を含有させたマゼンタカラーレジスト、図7
Aに示す化学構造式のイエロー色素を含有させたイエロ
ーカラーレジスト、図7Bに示す化学構造式のシアン色
素を含有させたシアンカラーレジスト、図8Eに示す化
学構造式の青色素を含有させた青カラーレジストを夫々
使用する。
法で各カラーレジストをパターニングして行うが、この
際、イエロー系フィルタ層は、緑色フィルタ及び赤色フ
ィルタとなる部分に同時に、即ち連続した同一層として
形成される。
マゼンタ→イエロー→シアン→青の各カラーレジストに
ついて順次行い、CCD固体撮像素子上に緑色フィルタ
41Bをイエロー系フィルタ層43とシアン系フィルタ
層44の積層で形成し、赤色フィルタ41Rをマゼンタ
系フィルタ層45とイエロー系フィルタ層43の積層で
形成し、青色フィルタ41Bを単層で形成してなる色フ
ィルタ41を形成する(図4参照)。この後、必要に応
じて保護膜やオンチップマイクロレンズ13を形成し
て、図4に示すCCD固体撮像素子40を得る。実施例
2によるCCD固体撮像素子の分光感度特性を図10に
示す。曲線VIIは赤の感度、曲線VIII は緑の感度、
曲線IXは青の感度を示す。
ンタ色素を含有させたマゼンタカラーレジスト、図7A
に示す化学構造式のイエロー色素を含有させたイエロー
カラーレジスト、図7Bに示す化学構造式のシアン色素
を含有させたシアンカラーレジストを夫々使用する。色
フィルタの形成は、実施例1、2と同様の方法で各カラ
ーレジストをパターニングして行うが、この際、イエロ
ー系フィルタ層は緑色フィルタ及び赤色フィルタとなる
部分に形成され、シアン系フィルタ層は緑色フィルタ及
び青色フィルタとなる部分に形成され、マゼンタ系フィ
ルタ層は青色フィルタ及び赤色フィルタとなる部分に形
成される。
の各カラーレジストについて順次行い、CCD固体撮像
素子上に、赤色フィルタ12Rをマゼンタ系フィルタ層
16とイエロー系フィルタ層14の積層で形成し、緑色
フィルタ12Gをイエロー系フィルタ層14とシアン系
フィルタ層15の積層で形成し、青色フィルタ12Bを
マゼンタ系フィルタ層16とシアン系フィルタ層15の
積層で形成してなる色フィルタ12を形成する(図12
参照)。この後、必要に応じて保護膜やオンチップマイ
クロレンズ13を形成して図12に示すCCD固定撮像
素子1を得る。比較例によるCCD固体撮像素子1の分
光感度特性を図11に示す。
カラーレジスト組成を示す。 組 成 ナフトキノンジアジド系ポジ型レジスト (商品名:HPR204ES−Z(23CP) 〔富士フィルムオーリン株式会社製〕) 100部 熱硬化剤(ヘキサメトキシメチルメラミン) 1部 色素溶解助剤(DMF) 20部 色 素 8部 但し、イエローカラーレジスト:イエロー色素使用 シアンカラーレジスト:シアン色素使用 マゼンタカラーレジスト:マゼンタ色素使用 赤カラーレジスト:マゼンタ色素とオレンジ色素を1対
1で配合して使用 青カラーレジスト:青色素使用
度特性の比較で明らかなように、本発明(実施例1、
2)においては、赤の波長480nm付近及び青の波長
580nm付近の感度の浮きが抑えられており(図9、
図10)、比較例(図11)に比べて良好な色再現を与
えることができる。
ィルタをCCD固体撮像素子に適用したが、これに限ら
ず、MOS又はCMOS型固体撮像素子等、その他の固
体撮像素子にも適用できる。
ーレジスト法による微細な赤、緑及び青の3色からなる
色フィルタを形成することができる。
カラーレジストを用いるので、良好なパターン特性が得
られ、顔料分散型のアクリル系ネガ型レジストを使用し
た場合に比べて欠陥の少ない画質を与えることができ
る。
色レジストを積層して形成した場合に比べて分光感度特
性が改善され、固体撮像素子において、良好な色再現を
与えることができる。
大感度で規格化したときの、波長620nmにおける相
対感度を0.1以上で0.5以下にするときは、波長6
20nm付近の感度の浮きがあっても色再現性に影響を
与えない。
す要部の断面図である。
の色フィルタの製造工程図である。
の色フィルタの製造工程図である。
示す要部の断面図である。
子の色フィルタの製造工程図である。
子の色フィルタの製造工程図である。
色素、シアン色素、マゼンタ色素の化学構造式を示す。
色素、青色素の化学構造式を示す。
度特性図である。
感度特性図である。
る。
図である。
板、3‥‥受光センサ部、4‥‥垂直転送レジスタ、2
3,41‥‥色フィルタ、23R,41R‥‥赤色フィ
ルタ、23G,41G‥‥緑色フィルタ、23B,41
B‥‥青色フィルタ、24,43‥‥イエロー系フィル
タ層、25,44‥‥シアン系フィルタ層、45‥‥マ
ゼンタ系フィルタ層
Claims (4)
- 【請求項1】 色素含有ポジ型レジストを用いて赤、緑
及び青の3色からなる色フィルタが形成されてなる固体
撮像素子であって、 緑色フィルタがイエロー系フィルタ層とシアン系フィル
タ層の積層で形成され、 赤色フィルタ及び青色フィルタが単層で形成されて成る
ことを特徴とする固体撮像素子。 - 【請求項2】 色素含有ポジ型レジストを用いて赤、緑
及び青の3色からなる色フィルタが形成されてなる固体
撮像素子であって、 緑色フィルタがイエロー系フィルタ層とシアン系フィル
タ層の積層で形成され、 赤色フィルタがイエロー系フィルタ層と赤系フィルタ層
の積層で形成され、 青色フィルタが単層で形成されて成ることを特徴とする
固体撮像素子。 - 【請求項3】 緑色画素の分光特性は、緑色の最大感度
で規格化したときの、波長620nmにおける相対感度
が0.1以上で0.5以下であることを特徴とする請求
項1に記載の固体撮像素子。 - 【請求項4】 緑色画素の分光特性は、緑色の最大感度
で規格化したときの、波長620nmにおける相対感度
が0.1以上で0.5以下であることを特徴とする請求
項2に記載の固体撮像素子。
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---|---|---|---|
JP11103304A JP2000294758A (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | 固体撮像素子 |
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JP11103304A JP2000294758A (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | 固体撮像素子 |
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JP11103304A Pending JP2000294758A (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | 固体撮像素子 |
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JP (1) | JP2000294758A (ja) |
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