JP2000266511A

JP2000266511A - 検査装置

Info

Publication number: JP2000266511A
Application number: JP11076716A
Authority: JP
Inventors: Shunsuke Kurata; 俊輔倉田
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1999-03-19
Filing date: 1999-03-19
Publication date: 2000-09-29

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、被検査物上に存在する欠陥箇所の位
置関係を正規化した座標データとして得ることができて
欠陥箇所を見失うことがない。【解決手段】マクロ台１の回転角度、Ｘ軸とＹ軸との揺
動角度に基づいて第１の座標検出手段２０により欠陥箇
所Ａの座標データＤaを検出するとともに、ポインタ光
学系ユニット３３から放射されたスポット光を半導体ウ
エハ２上の欠陥箇所Ａに照射したときのポインタ光学系
ユニット３３のＸＹＺ軸方向の移動量に基づいて欠陥箇
所Ａの座標データDｂを第２の座標検出手段４１により
検出し、これら座標データＤａ、Ｄｂに基づいてコンピ
ュータ４１により半導体ウエハ２を水平状態に配置した
ときの正規化した欠陥箇所Ａの座標データＤｃを求め
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ハ上や所定の印刷回路基板上に存在する損傷や異物等の
欠陥箇所を検出するための検査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図２は半導体ウエハに適用した検査装置
の構成図である。

【０００３】マクロ台１上には、検査対象物として例え
ば半導体ウエハ２が載置されている。このマクロ台１
は、半導体ウエハ２を保持しながらある程度傾斜をもっ
て回転及び揺動するもので、このマクロ台１を回転させ
るための回転パルスモータ３、マクロ台１を揺動させる
ための揺動モータとしてマクロ台１を直交する２軸に沿
って揺動させるＸ軸揺動パルスモータ４及びＹ軸揺動パ
ルスモータ５が連結されている。これらパルスモータ
３、４、５は、コンピュータ６に接続された制御ユニッ
ト７から送出される各パルス信号ｓ１、ｓ２、ｓ３によ
って駆動制御され、半導体ウエハ２を任意に回転及び揺
動させるものとなっている。

【０００４】一方、半導体ウエハ２の斜め上方には、光
源８が配置され、この光源８から放射された検査用照明
光が半導体ウエハ２の表面に照射されるものとなってい
る。

【０００５】レーザスポット９は、半導体ウエハ２上に
存在する欠陥箇所Ａをスポット光により照射して欠陥箇
所Ａを指示するためのものである。この欠陥箇所Ａとし
ては、例えば半導体ウエハ２表面に存在する損傷や異
物、膜斑、レジスト斑、ショットずれ等である。

【０００６】又、半導体ウエハ２の上方には、ＣＣＤカ
メラ１０が配置され、このＣＣＤカメラ１０により撮像
された半導体ウエハ２からの反射光を画像処理装置１１
に送ることにより、この画像処理装置１１において半導
体ウエハ２からの反射光の画像が映し出されるようにな
っている。

【０００７】なお、検出センサ１２は、半導体ウエハ２
の回転量の基準位置を検出するためのもので、半導体ウ
エハ２のノッチ２ａを基準位置として検出してその検出
信号を制御ユニット７に送出している。

【０００８】このような装置で半導体ウエハ２の検査を
行う場合、半導体ウエハ２がマクロ台１にセットされた
後、光源８から検査用照明光が半導体ウエハ２の表面上
に照射され、これと共に制御ユニット７から各パルス信
号ｓ１、ｓ２、ｓ３がそれぞれ回転パルスモータ３、Ｘ
軸揺動パルスモータ４及びＹ軸揺動パルスモータ５に送
出されてマクロ台１の駆動によって半導体ウエハ２が回
転及び揺動する。

【０００９】このとき半導体ウエハ２から反射する光
は、半導体ウエハ２に形成された微小パターンによる回
折光、半導体ウエハ２に積層された回路パターンによる
回折光、半導体ウエハ２に存在する損傷や異物等の欠陥
箇所からの散乱光等の光学現象が複雑に絡み合ったもの
となっている。

【００１０】ＣＣＤカメラ１０は、これら半導体ウエハ
２からの反射光を撮像してその画像信号を画像処理装置
１１に送ることにより、この画像処理装置１１は、半導
体ウエハ２からの反射光の画像が映し出される。

【００１１】検査者は、上記のような光学現象が複雑に
絡み合った半導体ウエハ２からの反射光の中から半導体
ウエハ２に存在する損傷や異物等に起因して生じる光学
的変化を目視観察（マクロ観察）し、欠陥箇所Ａを確認
した場合には、その半導体ウエハ２を顕微鏡にセットし
て欠陥箇所Ａに対する顕微鏡観察（ミクロ観察）を行っ
ている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記装
置では、半導体ウエハ２をある程度傾斜をもって回転及
び揺動させながら欠陥箇所Ａを確認しているが、この欠
陥箇所Ａを確認する状態と、この確認の後に半導体ウエ
ハ２を顕微鏡にセットして欠陥箇所Ａに対する顕微鏡観
察を行う状態との間には、半導体ウエハ２をセットする
状態にある程度の角度差が生じ、このために欠陥箇所Ａ
の位置関係を正規化して考察することが困難となってい
る。

【００１３】又、欠陥箇所Ａを確認する状態と、この確
認の後に半導体ウエハ２を顕微鏡にセットして欠陥箇所
Ａに対する顕微鏡観察を行う状態との間には、上記の如
く半導体ウエハ２に角度差が生じるので、欠陥箇所Ａか
ら生じる光の光学的特性は、半導体ウエハ２をマクロ台
１にセットして回転及び揺動している状態と顕微鏡にセ
ットした状態との間で相違したものとなる。すなわち、
マクロ観察時に用いる検査用照明光の下で発生する欠陥
箇所Ａからの光は、顕微鏡観察時に用いる通常の白色光
の下では発生しない場合がある。このため、マクロ観察
時に検出した欠陥箇所Ａを顕微鏡観察時に見失ってしま
う場合がある。

【００１４】又、一括照明された半導体ウエハ２上で欠
陥を目視で見極めることは困難であり、すなわち欠陥が
見極めにくくかつ認識しにくいために、マクロ観察者
は、欠陥位置をスケッチ等により記録しており、ミクロ
観察時に正確に欠陥ポイントを素早く顕微鏡視野内に入
れることが困難となっている。

【００１５】そこで本発明は、被検査物上に存在する欠
陥箇所の位置関係を正規化した座標データとして得るこ
とができて欠陥箇所を見失うことがない検査装置を提供
することを目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】請求項１によれば、回転
及び揺動している被検査物に対して検査用照明光を照射
したときの被検査物からの反射光から被検査物上の欠陥
を検査する検査装置において、被検査物を回転及び揺動
させたときの回転角度及び揺動角度に基づいて欠陥の座
標データを検出する第１の座標検出手段と、被検査物上
の欠陥に欠陥指示用のスポット光を照射するスポット光
照射手段と、このスポット光照射手段によりスポット光
を欠陥に照射したときのスポット光照射手段の移動量に
基づいて欠陥の座標データを検出する第２の座標検出手
段と、第１及び第２の座標検出手段によりそれぞれ検出
された各座標データに基づいて被検査物を水平状態に配
置したときの欠陥の座標データを求めるデータ処理手段
と、を備えた検査装置である。

【００１７】請求項２によれば、請求項１記載の検査装
置において、スポット光照射手段は、被検査物に対して
検査用照明光を照射する照射光学系内に備えられてい
る。

【００１８】請求項３によれば、請求項２記載の検査装
置において、照射光学系は、光源と、この光源から放射
された検査用照明光を反射するミラーと、このミラーで
反射した検査用照明光を平行光束に規制する集光用フレ
ネルレンズと、この集光用フレネルレンズにより規制さ
れた平行光束を収束光束に規制する投光用フレネルレン
ズと、この投光用フレネルレンズにより規制された収束
光束に光学的特性を与えて被検査物を照明する透過型液
晶板とを有し、かつ光源とミラーとの間にハーフミラー
を配置し、スポット光照射手段から放射されたスポット
光を、ハーフミラーで反射して照射光学系に入射し、こ
の照射光学系を通して欠陥上に照射する構成とした。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。なお、図２と同一部分に
は同一符号を付してその詳しい説明は省略する。

【００２０】図１は半導体ウエハに適用した検査装置の
構成図である。

【００２１】制御ユニット（以下、第１の制御ユニット
と称する）７は、回転パルスモータ３、Ｘ軸揺動パルス
モータ４及びＹ軸揺動パルスモータ５に対してそれぞれ
パルス信号ｓ１、ｓ２、ｓ３を送出して駆動制御し、半
導体ウエハ２を任意に回転及び揺動させる機能と、検出
センサ１２の検出信号を受けて検出される半導体ウエハ
２のノッチ２ａを基準位置として、各パルス信号ｓ１、
ｓ２、ｓ３のパルス数をカウントして回転角度、Ｘ軸と
Ｙ軸との揺動角度を検出する機能とを有している。

【００２２】又、第１の制御ユニット７は、半導体ウエ
ハ２の回転角度、Ｘ軸とＹ軸との揺動角度に基づいて欠
陥箇所Ａの座標データＤaを検出する第１の座標検出手
段２０としての機能を有している。

【００２３】一方、半導体ウエハ２の上方には、この半
導体ウエハ２に対して検査用照明光を照射する照射光学
系２１が設けられている。この照射光学系２１は、光源
２２として例えばメタルハライドランプ（１５０〜２５
０Ｗ）が用いられ、楕円回転ミラー２３の第１焦点に位
置付けられ、かつ楕円回転ミラー２３の第２焦点が、散
乱板が設けられたゲート２４となるように構成されてい
る。

【００２４】光源２２とゲート２４との間には、熱線吸
収フィルタ２５が設けられている。又、ゲート２４に配
される散乱板は、例えば２０〜３０ｍｍの大きさを有し
ており、ゲート２４から均一照明光を出射させる機能を
有している。

【００２５】さらに、光源２２の光路上には、フィルタ
２６を介してミラー２７が配置されている。フィルタ２
６は、例えばグリーン、イエロー、偏光板等から成るも
のである。ミラー２７は、光源２２からの検査用照明光
を半導体ウエハ２の表面に向けて反射する角度に配置さ
れている。

【００２６】このミラー２７の反射光路上には、集光用
フレネルレンズ２８、投光用フレネルレンズ２９及び透
過型液晶板３０が配置されている。このうち集光用フレ
ネルレンズ２８はミラー２７で反射した検査用照明光を
平行光束に規制するもので厚さが例えば５ｍｍに形成さ
れており、投光用フレネルレンズ２９は集光用フレネル
レンズ２８を介して導光された平行光束に対して挿脱可
能に構成され、導光された平行光束を収束光束に規制す
るもので厚さが例えば５ｍｍに形成されており、透過型
液晶板３０は投光用フレネルレンズ２９により規制され
た収束光束に光学的特性を与えて半導体ウエハ２を照明
するものとなっている。

【００２７】これら集光用フレネルレンズ２８、投光用
フレネルレンズ２９及び透過型液晶板３０は、共に半導
体ウエハ２よりも大きな径（例えば５００〜６００ｍｍ
程度）を有しており、これにより半導体ウエハ２はその
全体に亘って斑なく照明されるものとなっている。

【００２８】又、ゲート２４と集光用フレネルレンズ２
８との間の距離は、この集光用フレネルレンズ２８の焦
点距離ｆと一致している。

【００２９】透過型液晶板３０は、透明電極（不図示）
を介して電源３１に接続され、電圧が印加されている。
この透過型液晶板３０に適用される調光液晶シート（不
図示）は、通常は液滴中で液晶（不図示）がランダムに
なっているので、入射された光が界面又は内部で散乱さ
れて不透明な状態になっているが、電圧の印加によって
液晶が電界の方向に整列して、入射した光を散乱しなく
なり、透明に変化する機能を有している。

【００３０】なお、上記照射光学系２１は、支持部３２
により支持され、かつこの支持部３２によって半導体ウ
エハ２を配置する空間に対してグローズに設けられてい
る。

【００３１】この照射光学系２１内には、半導体ウエハ
２上の欠陥箇所Ａに欠陥指示用のスポット光を照射する
ためのスポット光照射手段としてのポインタ光学系ユニ
ット３３が設けられている。このポインタ光学系ユニッ
ト３３は、ＬＥＤ等のポインタ照明光源３４の光路上に
コリメータレンズ３５、ポインター３６及び投影レンズ
３７を配置したもので、ＸＹＺ軸方向に移動自在に構成
されている。そして、このポインタ光学系ユニット３３
から放射されるスポット光の光路上でかつ照射光学系２
１の光軸上には、ハーフミラー３８が配置され、上記ス
ポット光がハーフミラー３８で反射して照射光学系２１
の光軸に一致して進行するようになっている。

【００３２】第２の制御ユニット３９は、コンピュータ
４０からの指令を受けて、マクロ台１の動作と連動し、
このマクロ台１の揺動角度に応じてポインタ光学系ユニ
ット３３から放射されたスポット光が半導体ウエハ２面
上に結像されるようにポインタ光学系ユニット３３をＸ
ＹＺ軸方向に駆動制御する機能を有している。

【００３３】又、この第２の制御ユニット３９は、ジョ
イステック３９ａの操作に応じてポインタ光学系ユニッ
ト３３をＸＹＺ軸方向に駆動制御する。又、第２の座標
検出手段４１は、ポインタ光学系ユニット３３から放射
されたスポット光を半導体ウエハ２上の欠陥箇所Ａに照
射したときのポインタ光学系ユニット３３のＸＹＺ軸方
向の移動量に基づいて欠陥箇所Ａの座標データDｂを検
出する機能を有している。

【００３４】コンピュータ４０は、第１及び第２の座標
検出手段２０、４１によりそれぞれ検出された各座標デ
ータＤａ、Ｄｂを受け取り、これら座標データＤａ、Ｄ
ｂに基づいて半導体ウエハ２を水平状態に配置したとき
の欠陥箇所Ａの座標データＤｃを求めて登録するととも
に表示装置４２に画面マッピング表示するデータ処理手
段としての機能を有している。

【００３５】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。

【００３６】半導体ウエハ２がマクロ台１にセットされ
た後、マクロ台１は、第１の制御ユニット７から各パル
ス信号ｓ１、ｓ２、ｓ３がそれぞれ回転パルスモータ
３、Ｘ軸揺動パルスモータ４及びＹ軸揺動パルスモータ
５に送出されることにより半導体ウエハ２を回転及び揺
動させる。

【００３７】この状態に、光源２２から放射された検査
用照明光は、楕円回転ミラー２３、熱線吸収フィルタ２
５及びゲート２４を介してフィルタ２６を透過し、ハー
フミラー３８を通ってミラー２７に到達する。このミラ
ー２７に到達した検査用照明光は、ここで反射されて、
集光用フレネルレンズ２８に照射され、平行光束に規制
される。

【００３８】ここで、かかる装置では、収束光束を検査
用照明光として用いているので、照射光学系２１の光軸
中には投光用フレネルレンズ２９及び電圧が印加されて
透明になっている透過型液晶板３０が配置されている。
これにより、投光用フレネルレンズ２９からの収束光束
は、そのまま透過型液晶板３０を透過して半導体ウエハ
２の全面に斑なく照明される。

【００３９】この半導体ウエハ２から反射した光は、観
察者の目の近傍位置に結像される。このとき半導体ウエ
ハ２の表面にごみや傷等の異物が存在していると、この
異物から散乱光が発生し、観察者は、光軸外から微小散
乱光を目視観察することで半導体ウエハ２の表面の異物
の存在を確認できる。

【００４０】次に、検査用照明光として面光源を選択す
る場合は、電源３１からの印加電圧を遮断することによ
って透過型液晶板３０を不透明にする。これにより、投
光用フレネルレンズ２９を透過して形成された収束光束
は、透過型液晶板３０によってシャーカステン照明光と
なり、半導体ウエハ２の全面に斑なく照明されるととも
に、半導体ウエハ２表面に存在する異物によって形成さ
れる干渉パターンがよく見える。

【００４１】このように半導体ウエハ２表面上の異物な
どの欠陥が認識され図示しない入力装置より欠陥位置を
指定する指令が出されると、このとき第１の制御ユニッ
ト７から回転パルスモータ３、Ｘ軸揺動パルスモータ４
及びＹ軸揺動パルスモータ５への各パルス信号ｓ１、ｓ
２、ｓ３の送出が一時停止され、マクロ台１による半導
体ウエハ２の回転及び揺動が一時停止される。

【００４２】そして、ジョイスティック３９ａの操作に
よって第２の制御ユニット３９は、ポインタ光学系ユニ
ット３３をＸＹＺ軸方向に駆動制御する。これにより、
ポインタ光学系ユニット３３から放射されるスポット光
が半導体ウエハ２表面上の欠陥箇所Ａに照射されて指示
する。すなわち、ポインタ光学系ユニット３３から放射
されたスポット光は、ハーフミラー３８で反射して照射
光学系２１の光軸に沿って進行し、ミラー２７、集光用
フレネルレンズ２８、投光用フレネルレンズ２９及び透
過型液晶板３０を透過して半導体ウエハ２表面上の欠陥
箇所Ａに照射される。

【００４３】このように半導体ウエハ２表面上の欠陥箇
所Ａにスポット光が照射されると、第１の制御ユニット
７の第１の座標検出手段２０は、検出センサ１２の検出
信号を受けて検出される半導体ウエハ２のノッチ２ａを
基準位置として、各パルス信号ｓ１、ｓ２、ｓ３のパル
ス数をカウントしてマクロ台１の回転角度、Ｘ軸とＹ軸
との揺動角度を検出し、これら回転角度、Ｘ軸とＹ軸と
の揺動角度に基づいて欠陥箇所Ａの座標データＤaを検
出してコンピュータ４０に送出する。

【００４４】又、第２の制御ユニット３９の第２の座標
検出手段４１は、ポインタ光学系ユニット３３から放射
されたスポット光を半導体ウエハ２上の欠陥箇所Ａに照
射したときのポインタ光学系ユニット３３のＸＹＺ軸方
向の移動量に基づいて欠陥箇所Ａの座標データDｂを検
出してコンピュータ４０に送出する。

【００４５】このコンピュータ４０は、第１及び第２の
座標検出手段２０、４１によりそれぞれ検出された各座
標データＤａ、Ｄｂを受け取り、これら座標データＤ
ａ、Ｄｂに基づいて半導体ウエハ２を水平状態に配置し
たときの欠陥箇所Ａの座標データＤｃを求めて欠陥箇所
Ａを登録するとともに表示装置４２に画面マッピング表
示する。

【００４６】このように上記一実施の形態においては、
マクロ台１の回転角度、Ｘ軸とＹ軸との揺動角度に基づ
いて欠陥箇所Ａの座標データＤaを検出するとともに、
ポインタ光学系ユニット３３から放射されたスポット光
を半導体ウエハ２上の欠陥箇所Ａに照射したときのポイ
ンタ光学系ユニット３３のＸＹＺ軸方向の移動量に基づ
いて欠陥箇所Ａの座標データDｂを検出し、これら座標
データＤａ、Ｄｂに基づいて半導体ウエハ２を水平状態
に配置したときの正規化した欠陥箇所Ａの座標データＤ
ｃを求めるようにしたので、マクロ観察時に確認した欠
陥箇所Ａの位置関係を半導体ウエハ２の平面座標データ
として顕微鏡観察時に座標データとして受け渡しが可能
となり、顕微鏡観察視野内に高精度かつ高速、自動的に
半導体ウエハ２をセットできる。すなわち、欠陥箇所Ａ
の確認の後に半導体ウエハ２を顕微鏡にセットして欠陥
箇所Ａに対する顕微鏡観察を行うが、この顕微鏡観察の
際に受け取る欠陥箇所Ａの座標データＤｃが半導体ウエ
ハ２を水平状態に配置したときの正規化した値であり、
欠陥箇所Ａを確認する状態と、この確認の後に半導体ウ
エハ２を顕微鏡観察を行う状態との間に角度差が生じる
ことはなく、欠陥箇所Ａから生じる光の光学的特性を、
半導体ウエハ２をマクロ台１にセットして回転及び揺動
している状態と顕微鏡にセットした状態との間で同じも
のにすることができる。

【００４７】又、ポインタ光学系ユニット３３は、支持
部３２によって半導体ウエハ２を配置する空間に対して
グローズに設けられた照射光学系２１内に設けたので、
ポインタ光学系ユニット３３の取り付けが行いやすく、
かつポインタ光学系ユニット３３や照射光学系２１から
ゴミが半導体ウエハ２表面上に落ちて付着することがな
く、半導体ウエハ２をクリーンな状態で欠陥箇所Ａの検
出ができる。

【００４８】又、ポインタ光学系ユニット３３から放射
されたスポット光を照射光学系２１に入射するハーフミ
ラー３８を小さくすることができ、ポインタ光学系ユニ
ット３３を含む光学系をコンパクトに構成できる。

【００４９】又、このハーフミラー３８を光源２２とミ
ラー２７との間に設けるので、ハーフミラー３８の影が
半導体ウエハ２上に投影されることはない。

【００５０】なお、本発明は、上記第１の実施の形態に
限定されるものでなく次の通り変形してもよい。

【００５１】例えば、ポインタ光学系ユニット３３から
放射されるスポット光を照射光学系２１の光軸に入射さ
せるハーフミラー３８は、光源２２とミラー２７との間
であれば、その配置位置に限られるものではない。

【００５２】又、マクロ台１の回転及び揺動とポインタ
光学系ユニット３３の移動とは、コンピュータ４０から
発する指令により連動するように構成してもよい。

【００５３】

【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、被
検査物上に存在する欠陥箇所の位置関係を正規化した座
標データとして得ることができて欠陥箇所を見失うこと
がない検査装置を提供できる。

【００５４】又、本発明によれば、照射光学系からゴミ
が被検査物表面上に落ちて付着することがなく、被検査
物をクリーンな状態で欠陥箇所の検出ができる検査装置
を提供できる。

【００５５】又、本発明によれば、スポット光照射手段
を含む光学系をコンパクトにでき、かつスポット光を照
射光学系に入射するハーフミラーの影を半導体ウエハ上
に投影することがない検査装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる検査装置を半導体ウエハの検査
に適用した一実施の形態を示す構成図。

【図２】従来の半導体ウエハに適用した検査装置の構成
図。

【符号の説明】

１：マクロ台、２：半導体ウエハ、３：回転パルスモータ、４：Ｘ軸揺動パルスモータ、５：Ｙ軸揺動パルスモータ、７：制御ユニット、２０：第１の座標検出手段、２１：照射光学系、２２：光源、２３：楕円回転ミラー、２４：ゲート、２５：熱線吸収フィルタ、２６：フィルタ、２７：ミラー、２８：集光用フレネルレンズ、２９：投光用フレネルレンズ、３０：透過型液晶板、３１：電源、３２：支持部、３３：ポインタ光学系ユニット、３４：ポインタ照明光源、３５：コリメータレンズ、３６：ポインター、３７：投影レンズ、３８：ハーフミラー、３９：第２の制御ユニット、３９ａ：ジョイステック、４０：コンピュータ、４２：表示装置。

フロントページの続きＦターム(参考） 2F065 AA03 AA49 CC19 DD09 FF41 GG12 GG18 HH04 HH12 JJ03 JJ12 JJ26 LL10 LL19 LL21 LL26 LL46 LL62 MM02 MM04 MM14 QQ42 SS13 2G051 AA51 AB02 AC22 BA01 BB07 BB09 BB11 BB20 CA11 DA08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】回転及び揺動している被検査物に対して
検査用照明光を照射したときの前記被検査物からの反射
光から前記被検査物上の欠陥を検査する検査装置におい
て、前記被検査物を回転及び揺動させたときの回転角度及び
揺動角度に基づいて前記欠陥の座標データを検出する第
１の座標検出手段と、前記被検査物上の前記欠陥に欠陥指示用のスポット光を
照射するスポット光照射手段と、このスポット光照射手段により前記スポット光を前記欠
陥に照射したときの前記スポット光照射手段の移動量に
基づいて前記欠陥の座標データを検出する第２の座標検
出手段と、前記第１及び第２の座標検出手段によりそれぞれ検出さ
れた前記各座標データに基づいて前記被検査物を水平状
態に配置したときの前記欠陥の座標データを求めるデー
タ処理手段と、を具備したことを特徴とする検査装置。
【請求項２】前記スポット光照射手段は、前記被検査
物に対して前記検査用照明光を照射する照射光学系内に
備えられたことを特徴とする請求項１記載の検査装置。
【請求項３】前記照射光学系は、光源と、この光源か
ら放射された前記検査用照明光を反射するミラーと、こ
のミラーで反射した前記検査用照明光を平行光束に規制
する集光用フレネルレンズと、この集光用フレネルレン
ズにより規制された平行光束を収束光束に規制する投光
用フレネルレンズと、この投光用フレネルレンズにより
規制された収束光束に光学的特性を与えて前記被検査物
を照明する透過型液晶板とを有し、かつ前記光源と前記ミラーとの間にハーフミラーを配置
し、前記スポット光照射手段から放射された前記スポッ
ト光を、前記ハーフミラーで反射して前記照射光学系に
入射し、この照射光学系を通して前記欠陥上に照射する
構成としたことを特徴とする請求項２記載の検査装置。