JP2000260858A - ウェハ搬送用ハンド、及び、これを用いたウェハ搬送方法 - Google Patents
ウェハ搬送用ハンド、及び、これを用いたウェハ搬送方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェハの大口径化による製造装置の設置面積
の増加を最小限に抑える。 【解決手段】 縦姿勢のウェハ１０の円周下方のエッジ
部を支持する、複数のＶ字状溝を備えたウェハ搬送用ハ
ンド２０、３０、５０により、ウェハ１０を縦姿勢に保
持したり、縦姿勢のまま水平方向に移動させる。
の増加を最小限に抑える。 【解決手段】 縦姿勢のウェハ１０の円周下方のエッジ
部を支持する、複数のＶ字状溝を備えたウェハ搬送用ハ
ンド２０、３０、５０により、ウェハ１０を縦姿勢に保
持したり、縦姿勢のまま水平方向に移動させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェハ搬送用ハン
ド、及び、これを用いたウェハ搬送方法に係り、特に、
半導体を製造するためのクリーンルームに用いるのに好
適な、ウェハの大口径化による搬送装置の設置面積の増
加を最小限に抑えることが可能な、ウェハ搬送用ハン
ド、及び、これを用いたウェハ搬送方法に関する。
ド、及び、これを用いたウェハ搬送方法に係り、特に、
半導体を製造するためのクリーンルームに用いるのに好
適な、ウェハの大口径化による搬送装置の設置面積の増
加を最小限に抑えることが可能な、ウェハ搬送用ハン
ド、及び、これを用いたウェハ搬送方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常のウェハ大気搬送では、ウェハ裏面
を下向きにし、搬送用ハンドとの接触部分の一部を真空
吸引することでウェハを固定している。この方法で、ウ
ェハ裏面を上にする反転動作等を行なっている事例も見
掛けるが、ウェハ縦姿勢で動作させると、ウェハ落下の
危険性が大きくなる。又、真空中での搬送では、真空吸
引ができないので、搬送用ハンドとの接触部分に乗って
いるだけとなり、摩擦力でウェハがハンドに対して動か
ない程度の加減速範囲内の動作を行なっており、水平姿
勢以外は不可能であった。
を下向きにし、搬送用ハンドとの接触部分の一部を真空
吸引することでウェハを固定している。この方法で、ウ
ェハ裏面を上にする反転動作等を行なっている事例も見
掛けるが、ウェハ縦姿勢で動作させると、ウェハ落下の
危険性が大きくなる。又、真空中での搬送では、真空吸
引ができないので、搬送用ハンドとの接触部分に乗って
いるだけとなり、摩擦力でウェハがハンドに対して動か
ない程度の加減速範囲内の動作を行なっており、水平姿
勢以外は不可能であった。
【０００３】従って、素材となるウェハは、前面開放型
の、いわゆるＦＯＵＰ等のＳＥＭＩで規格化されたウェ
ハ横置きカセットに水平姿勢で収められており、半導体
製造に用いられるクリーンルーム等において、ウェハ両
面を例えばアルゴン微粒子を含む流体により洗浄する工
程のように、ウェハが縦姿勢である方が良い処理工程に
おいても、主に円筒座標系ロボットを用いて、そのまま
水平姿勢でウェハの搬送を行なわざるを得ない。
の、いわゆるＦＯＵＰ等のＳＥＭＩで規格化されたウェ
ハ横置きカセットに水平姿勢で収められており、半導体
製造に用いられるクリーンルーム等において、ウェハ両
面を例えばアルゴン微粒子を含む流体により洗浄する工
程のように、ウェハが縦姿勢である方が良い処理工程に
おいても、主に円筒座標系ロボットを用いて、そのまま
水平姿勢でウェハの搬送を行なわざるを得ない。
【０００４】なお、減圧容器内で、ほぼ等間隔に配列さ
れたノズルより、水平姿勢のウェハの上面に、アルゴン
微粒子を含む流体を吹き付けて、ウェハをノズルの配列
方向及びその直角方向に移動させながらウェハ表面を洗
浄する方法は、出願人が既に、特開平６−２５２１１
４、特開平６−２８３４８８、特開平６−２８３４８
９、特開平６−２９５８９４、特開平６−２９５８９
５、特開平７−８９２９、特開平７−４５５７１、特開
平９−４５６４７、特開平９−３２３０７２、特開平１
０−１８９５１６等で提案し、実用化している。
れたノズルより、水平姿勢のウェハの上面に、アルゴン
微粒子を含む流体を吹き付けて、ウェハをノズルの配列
方向及びその直角方向に移動させながらウェハ表面を洗
浄する方法は、出願人が既に、特開平６−２５２１１
４、特開平６−２８３４８８、特開平６−２８３４８
９、特開平６−２９５８９４、特開平６−２９５８９
５、特開平７−８９２９、特開平７−４５５７１、特開
平９−４５６４７、特開平９−３２３０７２、特開平１
０−１８９５１６等で提案し、実用化している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来は、ウェハが水平
姿勢で搬送されているため、ウェハ径が１．５倍になれ
ば、搬送距離は１．５倍以上、搬送経路の占有面積は、
２．２５倍以上必要になる。そのため、製造装置や装置
を設置するクリーンルームが大型化し、コストアップし
て、ウェハ大口径化の主目的である半導体のコストダウ
ンの大きな阻害要因となっている。
姿勢で搬送されているため、ウェハ径が１．５倍になれ
ば、搬送距離は１．５倍以上、搬送経路の占有面積は、
２．２５倍以上必要になる。そのため、製造装置や装置
を設置するクリーンルームが大型化し、コストアップし
て、ウェハ大口径化の主目的である半導体のコストダウ
ンの大きな阻害要因となっている。
【０００６】本発明は、前記従来の問題点を解消するべ
くなされたもので、ウェハの大口径化による製造装置の
設置面積の増加を最小限に抑えると共に、ウェハ搬送姿
勢の制限を無くして、ウェハ縦姿勢での搬送を可能とす
ることを課題とする。
くなされたもので、ウェハの大口径化による製造装置の
設置面積の増加を最小限に抑えると共に、ウェハ搬送姿
勢の制限を無くして、ウェハ縦姿勢での搬送を可能とす
ることを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、縦姿勢のウェ
ハの円周下方のエッジ部を支持する、複数のＶ字状溝を
備えたウェハ搬送用ハンドを用いて、ウェハを縦姿勢に
保持したり、縦姿勢のまま水平方向に移動させるように
して、前記課題を解決したものである。
ハの円周下方のエッジ部を支持する、複数のＶ字状溝を
備えたウェハ搬送用ハンドを用いて、ウェハを縦姿勢に
保持したり、縦姿勢のまま水平方向に移動させるように
して、前記課題を解決したものである。
【０００８】又、前記Ｖ字状溝の一部を可動とし、ウェ
ハ上部も把持可能として、ウェハを確実に把持できるよ
うにしたものである。
ハ上部も把持可能として、ウェハを確実に把持できるよ
うにしたものである。
【０００９】又、前記ウェハ搬送用ハンドを複数組、ウ
ェハ処理装置に近接配置して、処理前ウェハと処理済み
ウェハの入れ替えが、確実に行なえるようにしたもので
ある。
ェハ処理装置に近接配置して、処理前ウェハと処理済み
ウェハの入れ替えが、確実に行なえるようにしたもので
ある。
【００１０】又、前記ウェハ搬送用ハンドを用いて、真
空中のウェハの保持搬送を行なうようにして、真空吸引
できない真空中での搬送も可能としたものである。
空中のウェハの保持搬送を行なうようにして、真空吸引
できない真空中での搬送も可能としたものである。
【００１１】又、固定されたＶ字状溝のみによりウェハ
の下部を保持するウェハ搬送用ハンドと、前記Ｖ字状溝
の一部が可動とされ、ウェハの上部も把持可能なウェハ
搬送用ハンドとの組合せにより、ウェハの受け渡しが確
実に行なえるようにしたものである。
の下部を保持するウェハ搬送用ハンドと、前記Ｖ字状溝
の一部が可動とされ、ウェハの上部も把持可能なウェハ
搬送用ハンドとの組合せにより、ウェハの受け渡しが確
実に行なえるようにしたものである。
【００１２】既に説明したように、従来の如く、搬送用
ハンドとの接触部分の一部を真空吸引する方法では、大
気中の搬送であっても、ウェハを縦姿勢で動作させる
と、ウェハ落下の危険性が大きくなる。又、真空吸引が
できない真空中での搬送では、水平姿勢以外は不可能で
ある。そこで本発明では、複数のＶ字状溝を備えたウェ
ハ搬送用ハンドにより、縦姿勢のウェハの円周下方のエ
ッジ部を支持するようにして、縦姿勢での保持や搬送を
可能としている。
ハンドとの接触部分の一部を真空吸引する方法では、大
気中の搬送であっても、ウェハを縦姿勢で動作させる
と、ウェハ落下の危険性が大きくなる。又、真空吸引が
できない真空中での搬送では、水平姿勢以外は不可能で
ある。そこで本発明では、複数のＶ字状溝を備えたウェ
ハ搬送用ハンドにより、縦姿勢のウェハの円周下方のエ
ッジ部を支持するようにして、縦姿勢での保持や搬送を
可能としている。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施形態を詳細に説明する。
実施形態を詳細に説明する。
【００１４】本発明の第１実施形態は、図１に示す如
く、ウェハ１０の真下で板状のフレーム２２に固定され
た、ウェハ１０と略同半径のＶ字状溝を有する１つの固
定爪２４と、ウェハ１０の上方２箇所で把持アクチュエ
ータ２８を介してフレーム２２に配設された、ウェハ１
０と略同半径のＶ字状溝を有する２つの可動爪２６を備
えた搬送ハンド２０の計３個の爪により、図２に把持状
態の断面を示す如く、ウェハ１０を把持して、縦姿勢の
まま水平方向に移動させる。
く、ウェハ１０の真下で板状のフレーム２２に固定され
た、ウェハ１０と略同半径のＶ字状溝を有する１つの固
定爪２４と、ウェハ１０の上方２箇所で把持アクチュエ
ータ２８を介してフレーム２２に配設された、ウェハ１
０と略同半径のＶ字状溝を有する２つの可動爪２６を備
えた搬送ハンド２０の計３個の爪により、図２に把持状
態の断面を示す如く、ウェハ１０を把持して、縦姿勢の
まま水平方向に移動させる。
【００１５】本発明の第２実施形態は、図３に示す如
く、ウェハ両面洗浄時にウェハ表裏面全面への洗浄流体
の吹き付けを可能にするべく、ウェハ裏面を覆わない枠
状のフレーム３２に、ウェハ１０の下方２箇所で固定さ
れた、ウェハ１０と略同半径のＶ字状溝を有する２つの
固定爪３４と、前記フレーム３２に対して把持ロッド４
０により相対移動可能とされた可動プレート３６に固定
された、ウェハ１０と略同半径のＶ字状溝を有する２つ
の可動爪３８を備えたプロセスハンド３０の計４個の爪
により、図４に示す如く、ウェハ１０の上下を把んで、
ウェハ１０を縦姿勢のままＸＹ方向に走査させる。
く、ウェハ両面洗浄時にウェハ表裏面全面への洗浄流体
の吹き付けを可能にするべく、ウェハ裏面を覆わない枠
状のフレーム３２に、ウェハ１０の下方２箇所で固定さ
れた、ウェハ１０と略同半径のＶ字状溝を有する２つの
固定爪３４と、前記フレーム３２に対して把持ロッド４
０により相対移動可能とされた可動プレート３６に固定
された、ウェハ１０と略同半径のＶ字状溝を有する２つ
の可動爪３８を備えたプロセスハンド３０の計４個の爪
により、図４に示す如く、ウェハ１０の上下を把んで、
ウェハ１０を縦姿勢のままＸＹ方向に走査させる。
【００１６】第１及び第２実施形態のウェハ搬送用ハン
ド２０、３０によれば、可動爪２６、３８を用いてウェ
ハ１０を上下から把持するので、ウェハ１０を確実に把
持することができ、特にウェハ１０の移動、走査や、洗
浄流体による力が加わる洗浄作業等に用いるのに適して
いる。
ド２０、３０によれば、可動爪２６、３８を用いてウェ
ハ１０を上下から把持するので、ウェハ１０を確実に把
持することができ、特にウェハ１０の移動、走査や、洗
浄流体による力が加わる洗浄作業等に用いるのに適して
いる。
【００１７】本発明の第３実施形態は、図５に示す如
く、略Ｃ字状のフレーム５２に、円周状のＶ字状溝を外
周面に有する４つのスタッド５４が設けられた支持ハン
ド５０により、ウェハ１０を縦姿勢に保持するようにし
たものである。
く、略Ｃ字状のフレーム５２に、円周状のＶ字状溝を外
周面に有する４つのスタッド５４が設けられた支持ハン
ド５０により、ウェハ１０を縦姿勢に保持するようにし
たものである。
【００１８】第１及び第２実施形態のウェハ搬送用ハン
ド２０、３０間のように、ウェハ１０を可動爪により把
持する方式のハンド同士の受け渡しでは、位置ずれ等に
よる互いの把持力のずれにより、ウェハ１０の破損の危
険性があるが、第３実施形態の支持ハンド５０との組合
せでは、その危険性がなくなる。又、第３実施形態で
は、把持アクチュエータが不要であるため、大気中、真
空中のいずれでも使用でき、又、周囲の圧力変化の影響
も受けない。
ド２０、３０間のように、ウェハ１０を可動爪により把
持する方式のハンド同士の受け渡しでは、位置ずれ等に
よる互いの把持力のずれにより、ウェハ１０の破損の危
険性があるが、第３実施形態の支持ハンド５０との組合
せでは、その危険性がなくなる。又、第３実施形態で
は、把持アクチュエータが不要であるため、大気中、真
空中のいずれでも使用でき、又、周囲の圧力変化の影響
も受けない。
【００１９】前記第１乃至第３実施形態のハンドを組合
せて実際の搬送を行なうようにしたウェハ洗浄装置の搬
送機構の構成例を図６及び図７に示す。
せて実際の搬送を行なうようにしたウェハ洗浄装置の搬
送機構の構成例を図６及び図７に示す。
【００２０】このウェハ洗浄装置においては、図６に示
す如く、真空中でウェハ１０の表裏面を縦姿勢のまま洗
浄するためのプロセスチャンバ６０の入側に、大気中を
搬送されてきたウェハ１０を導入するための導入チャン
バ７０が設けられており、前記プロセスチャンバ６０の
側方の入口、及び、導入チャンバ６４の上方の入口に
は、それぞれ、チヤンバ内外を仕切り、ウェハ１０の装
入時のみ開かれるゲートバルブ６２、７２が設けられて
いる。
す如く、真空中でウェハ１０の表裏面を縦姿勢のまま洗
浄するためのプロセスチャンバ６０の入側に、大気中を
搬送されてきたウェハ１０を導入するための導入チャン
バ７０が設けられており、前記プロセスチャンバ６０の
側方の入口、及び、導入チャンバ６４の上方の入口に
は、それぞれ、チヤンバ内外を仕切り、ウェハ１０の装
入時のみ開かれるゲートバルブ６２、７２が設けられて
いる。
【００２１】更に、前記導入チャンバ７０の上方には、
軸８１（図８乃至図１０参照）の先に取付けられた２本
のアーム８２、８３及びリスト８４を介して、先端部材
８６を半径（Ｒ軸）方向、軸（Ｚ軸）方向、軸回転（θ
軸）方向、リスト回転（Ｗ軸）方向の４軸方向に移動可
能な、大気搬送用の４軸円筒型ロボット（大気搬送ロボ
ットと称する）８０が、胴部が上、アーム８２部が下と
なる姿勢で配設され、該大気搬送ロボット８０の先端部
材８６には、第１実施形態の搬送ハンド２０が取付けら
れている。この大気搬送ロボット８０は、図８乃至図１
０に示す如く、リスト８４をＷ軸方向に回転することに
よって、搬送ハンド２０の姿勢を、水平姿勢から縦姿勢
に変換する機能も有する。
軸８１（図８乃至図１０参照）の先に取付けられた２本
のアーム８２、８３及びリスト８４を介して、先端部材
８６を半径（Ｒ軸）方向、軸（Ｚ軸）方向、軸回転（θ
軸）方向、リスト回転（Ｗ軸）方向の４軸方向に移動可
能な、大気搬送用の４軸円筒型ロボット（大気搬送ロボ
ットと称する）８０が、胴部が上、アーム８２部が下と
なる姿勢で配設され、該大気搬送ロボット８０の先端部
材８６には、第１実施形態の搬送ハンド２０が取付けら
れている。この大気搬送ロボット８０は、図８乃至図１
０に示す如く、リスト８４をＷ軸方向に回転することに
よって、搬送ハンド２０の姿勢を、水平姿勢から縦姿勢
に変換する機能も有する。
【００２２】前記導入チャンバ７０の側面には、図１１
乃至図１４に示す如く、軸９１の先に取付けられた２本
のアーム９２、９３を介して、先端部材９４を半径
（Ｒ）方向と軸（Ｚ）方向に移動可能な、ウェハをプロ
セスチャンバに導入するための円筒座標系ロボット（真
空ロボットと称する）９０が、胴部が水平となるように
取り付けられている。この真空ロボット９０には、第３
実施形態の支持ハンド５０が、２組対向して取り付けら
れている。
乃至図１４に示す如く、軸９１の先に取付けられた２本
のアーム９２、９３を介して、先端部材９４を半径
（Ｒ）方向と軸（Ｚ）方向に移動可能な、ウェハをプロ
セスチャンバに導入するための円筒座標系ロボット（真
空ロボットと称する）９０が、胴部が水平となるように
取り付けられている。この真空ロボット９０には、第３
実施形態の支持ハンド５０が、２組対向して取り付けら
れている。
【００２３】前記プロセスチャンバ６０の内部には、第
２実施形態のプロセスハンド３０が配設されている。
２実施形態のプロセスハンド３０が配設されている。
【００２４】以下、搬送動作を説明する。
【００２５】まず、大気搬送ロボット８０が、図１５に
示す如く、そのＺ軸方向移動及びＲ軸方向移動動作で、
搬送ハンド２０を、可動爪２６を開いた状態でウェハ横
置きカセット８の未処理ウェハのスロットに進入させ、
可動爪２６を閉じてウェハ１０を把持した後、カセット
８から水平方向に引き出し、リスト８４を回転して縦姿
勢に変換する。図１５において、１００は、プロセスハ
ンド３０の可動爪２６を駆動する機構、および、ウェハ
１０を洗浄する際に、ウェハ表裏面全体に洗浄流体が吹
き付けられるように、プロセスハンド３０をＸＹ両方向
に走査するためのウェハ駆動機構である。
示す如く、そのＺ軸方向移動及びＲ軸方向移動動作で、
搬送ハンド２０を、可動爪２６を開いた状態でウェハ横
置きカセット８の未処理ウェハのスロットに進入させ、
可動爪２６を閉じてウェハ１０を把持した後、カセット
８から水平方向に引き出し、リスト８４を回転して縦姿
勢に変換する。図１５において、１００は、プロセスハ
ンド３０の可動爪２６を駆動する機構、および、ウェハ
１０を洗浄する際に、ウェハ表裏面全体に洗浄流体が吹
き付けられるように、プロセスハンド３０をＸＹ両方向
に走査するためのウェハ駆動機構である。
【００２６】ウェハ１０を縦姿勢で把持した搬送ハンド
２０は、図１６に示す如く、ゲートバルブ７２上で待機
する。一方、導入チャンバ７０内の支持ハンド５０の一
方は、図１７に示す如く、処理済ウェハを支持して、ゲ
ート下で待機している。
２０は、図１６に示す如く、ゲートバルブ７２上で待機
する。一方、導入チャンバ７０内の支持ハンド５０の一
方は、図１７に示す如く、処理済ウェハを支持して、ゲ
ート下で待機している。
【００２７】図１６において、４はカセットステーショ
ン、５は、ウェハ取出中のカセット８の前面を開くため
のポットオープナ、６はコントローラ、９は交換用のカ
セットである。
ン、５は、ウェハ取出中のカセット８の前面を開くため
のポットオープナ、６はコントローラ、９は交換用のカ
セットである。
【００２８】前記大気搬送ロボット８０は、図１８に示
すような複数のカセット８、９に対応できるように、走
行装置１１０に搭載され、フレーム１１２に支持されて
いる。
すような複数のカセット８、９に対応できるように、走
行装置１１０に搭載され、フレーム１１２に支持されて
いる。
【００２９】図１７の状態でゲートバルブ７２が開く
と、真空ロボット９０に保持された支持ハンド５０は動
かず、大気搬送ロボット８０のＺ軸方向下降動作で、処
理前ウェハ１０が導入チャンバ７０内に搬入され、空い
ている方の支持ハンド５０に渡され、可動爪２６が開か
れてウェハ１０の把持が解除される。
と、真空ロボット９０に保持された支持ハンド５０は動
かず、大気搬送ロボット８０のＺ軸方向下降動作で、処
理前ウェハ１０が導入チャンバ７０内に搬入され、空い
ている方の支持ハンド５０に渡され、可動爪２６が開か
れてウェハ１０の把持が解除される。
【００３０】大気搬送ロボット８０は、次いでＺ軸方向
上下動作とＲ軸方向動作で、反対の支持ハンド５０の処
理済ウェハ位置に移動し、可動爪２６を閉じて処理済ウ
ェハを受取り、Ｚ軸方向上昇動作で、上方の導入チャン
バ７０外へ退避して、ゲートバルブ７２が閉じられる。
上下動作とＲ軸方向動作で、反対の支持ハンド５０の処
理済ウェハ位置に移動し、可動爪２６を閉じて処理済ウ
ェハを受取り、Ｚ軸方向上昇動作で、上方の導入チャン
バ７０外へ退避して、ゲートバルブ７２が閉じられる。
【００３１】導入チャンバ７０上へ取り出された処理済
ウェハは、リスト８４の回転で縦姿勢から水平姿勢に変
換され、Ｚ軸方向移動とＲ軸方向移動動作の組合せで、
カセット８の返却スロット前へ移動し、Ｒ軸方向移動動
作で、ポットオープナ５により前面が開かれたカセット
８の返却スロット内に進入する。次いで処理済ウェハの
把持が解除され、Ｚ軸方向下降動作で返却後、Ｒ軸方向
移動動作で、搬送ハンド２０がカセット８外へ退避す
る。
ウェハは、リスト８４の回転で縦姿勢から水平姿勢に変
換され、Ｚ軸方向移動とＲ軸方向移動動作の組合せで、
カセット８の返却スロット前へ移動し、Ｒ軸方向移動動
作で、ポットオープナ５により前面が開かれたカセット
８の返却スロット内に進入する。次いで処理済ウェハの
把持が解除され、Ｚ軸方向下降動作で返却後、Ｒ軸方向
移動動作で、搬送ハンド２０がカセット８外へ退避す
る。
【００３２】一方、導入チャンバ２０で真空排気および
洗浄室との均圧を行った後、処理前ウェハを受取った支
持ハンド５０は、真空ロボット９０のＲ軸方向動作で、
図１５に示した如く、処理前ウェハをゲートバルブ６２
を通してプロセスチャンバ６０内に装入する、すると、
ウェハが支持ハンド５０からプロセスハンドに渡され、
プロセスハンド３０の把持ロッド４０が下降して、可動
爪３８によりウェハが把持される。次いで、真空ロボッ
ト９０のＲ軸方向動作で、支持ハンド５０がプロセスチ
ャンバ６０外に退避され、ゲートバルブ６２が閉じられ
る。次いで、ウェハ駆動機構１００によりウェハがＸＹ
方向に走査されつつ、両面が洗浄される。
洗浄室との均圧を行った後、処理前ウェハを受取った支
持ハンド５０は、真空ロボット９０のＲ軸方向動作で、
図１５に示した如く、処理前ウェハをゲートバルブ６２
を通してプロセスチャンバ６０内に装入する、すると、
ウェハが支持ハンド５０からプロセスハンドに渡され、
プロセスハンド３０の把持ロッド４０が下降して、可動
爪３８によりウェハが把持される。次いで、真空ロボッ
ト９０のＲ軸方向動作で、支持ハンド５０がプロセスチ
ャンバ６０外に退避され、ゲートバルブ６２が閉じられ
る。次いで、ウェハ駆動機構１００によりウェハがＸＹ
方向に走査されつつ、両面が洗浄される。
【００３３】洗浄中に前述の搬送工程が行われ、洗浄終
了前には次処理ウェハが導入チャンバ内にて待機してい
る。
了前には次処理ウェハが導入チャンバ内にて待機してい
る。
【００３４】プロセスチャンバ６０内での洗浄処理が終
了すると、処理済ウェハを把持したプロセスハンド３０
が、プロセスチャンバ６０の受け渡し位置に移動し、ゲ
ートバルブ６２が開く。すると、水平取付の真空ロボッ
ト９０のＲ軸方向動作で、支持ハンド５０及び処理前ウ
ェハが、プロセスチャンバ６０内の受け渡し位置に移動
する。
了すると、処理済ウェハを把持したプロセスハンド３０
が、プロセスチャンバ６０の受け渡し位置に移動し、ゲ
ートバルブ６２が開く。すると、水平取付の真空ロボッ
ト９０のＲ軸方向動作で、支持ハンド５０及び処理前ウ
ェハが、プロセスチャンバ６０内の受け渡し位置に移動
する。
【００３５】次いで、処理済ウェハが、プロセスハンド
３０から支持ハンド５０の一方に渡されると共に、処理
前ウェハが、支持ハンド５０の他方からプロセスハンド
３０に渡される。
３０から支持ハンド５０の一方に渡されると共に、処理
前ウェハが、支持ハンド５０の他方からプロセスハンド
３０に渡される。
【００３６】次いで、支持ハンド５０及び処理済ウェハ
が導入チャンバ７０に退避し、ゲートバルブ７２が閉じ
られて、次処理ウェハの洗浄処理が開始される。
が導入チャンバ７０に退避し、ゲートバルブ７２が閉じ
られて、次処理ウェハの洗浄処理が開始される。
【００３７】上記の一連の処理の繰り返しで、ウェハが
次々洗浄され、一つのカセットが終了すると、次のカセ
ットに移る。
次々洗浄され、一つのカセットが終了すると、次のカセ
ットに移る。
【００３８】本実施形態においては、本発明によるウェ
ハ支持を、プロセス導入部に使用しているので、導入チ
ャンバの圧力変化に対応でき、真空でも把持できる。
ハ支持を、プロセス導入部に使用しているので、導入チ
ャンバの圧力変化に対応でき、真空でも把持できる。
【００３９】なお、前記実施形態においては、本発明
が、ウェハの洗浄装置におけるウェハの保持及び搬送に
適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定され
ない。
が、ウェハの洗浄装置におけるウェハの保持及び搬送に
適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定され
ない。
【００４０】又、本発明は、真空中におけるウェハの搬
送や保持に好適なものであるが、本発明の適用対象はこ
れに限定されず、大気中の搬送や保持にも同様に適用で
きることは明らかである。
送や保持に好適なものであるが、本発明の適用対象はこ
れに限定されず、大気中の搬送や保持にも同様に適用で
きることは明らかである。
【００４１】
【発明の効果】本発明によれば、ロボット間の受け渡し
を含む縦姿勢でのウェハ搬送が、真空中であっても可能
になる。従って、ウェハの大口径化に伴う製造装置の設
置面積の増加を最小限に抑えることが可能となる。
を含む縦姿勢でのウェハ搬送が、真空中であっても可能
になる。従って、ウェハの大口径化に伴う製造装置の設
置面積の増加を最小限に抑えることが可能となる。
【００４２】又、例えばアルゴン微粒子を含む流体によ
る両面洗浄工程のように、ウェハ縦姿勢の方がより良い
工程における、搬送姿勢による制限を無くすことができ
る。
る両面洗浄工程のように、ウェハ縦姿勢の方がより良い
工程における、搬送姿勢による制限を無くすことができ
る。
【図１】本発明に係るウェハ搬送用ハンドの第１実施形
態の構成を示す斜視図
態の構成を示す斜視図
【図２】第１実施形態でウェハを把持している状態を示
す断面図
す断面図
【図３】本発明の第２実施形態によりウェハを把む前の
状態を示す斜視図
状態を示す斜視図
【図４】同じくウェハを把んだ状態を示す斜視図
【図５】同じく第３実施形態の構成を示す斜視図
【図６】前記ウェハ搬送用ハンドの各実施形態を組合せ
て用いたウェハ洗浄装置の搬送機構の構成例を示す斜視
図
て用いたウェハ洗浄装置の搬送機構の構成例を示す斜視
図
【図７】同じく内部構成を示す斜視図
【図８】前記搬送機構で用いられている大気搬送ロボッ
トの構成及び動作を説明するための正面図
トの構成及び動作を説明するための正面図
【図９】同じくリスト回転前の側面図
【図１０】同じくリスト回転後の側面図
【図１１】前記搬送機構で用いられている真空ロボット
の構成及び動作を説明するための正面図
の構成及び動作を説明するための正面図
【図１２】同じくアームを縮めた状態の側面図
【図１３】同じくアームを伸ばした状態の側面図
【図１４】同じくアーム部分の正面図
【図１５】前記搬送機構の大気搬送ロボットが、ウェハ
横置カセットからウェハを引出している状態を示す斜視
図
横置カセットからウェハを引出している状態を示す斜視
図
【図１６】同じく導入チャンバ上で待機している状態を
示す斜視図
示す斜視図
【図１７】同じく導入チャンバ内で待機している状態を
示す斜視図
示す斜視図
【図１８】前記搬送機構を図１６の反対側から見た斜視
図
図
８…ウェハ横置カセット １０…ウェハ ２０、３０、５０…ハンド ２２、３２、５２…フレーム ２４、３４…固定爪 ２６、３８…可動爪 ２８…把持アクチュエータ ３６…可動プレート ４０…把持ロッド ５４…スタッド ８０…大気搬送ロボット ９６…真空ロボット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5F031 CA02 DA01 FA01 FA07 FA11 FA12 FA14 FA18 FA21 GA06 GA10 GA13 GA14 GA15 GA45 GA47 GA48 GA49 LA15 MA23
Claims (6)
- 【請求項１】縦姿勢のウェハの円周下方のエッジ部を支
持する、複数のＶ字状溝を備えたことを特徴とするウェ
ハ搬送用ハンド。 - 【請求項２】請求項１において、前記Ｖ字状溝の一部が
可動とされ、ウェハ上部も把持可能とされていることを
特徴とするウェハ搬送用ハンド。 - 【請求項３】請求項１又は２に記載のウェハ搬送用ハン
ドを用いて、ウェハを縦姿勢に保持したり、縦姿勢のま
ま水平方向に移動させることを特徴とするウェハ搬送方
法。 - 【請求項４】請求項１又は２に記載のウェハ搬送用ハン
ドを複数組、ウェハ処理装置に近接配置して、処理前ウ
ェハと処理済みウェハの入れ替えを行なうことを特徴と
するウェハ搬送方法。 - 【請求項５】請求項１又は２に記載のウェハ搬送用ハン
ドを用いて、真空中のウェハの保持や搬送を行なうこと
を特徴とするウェハ搬送方法。 - 【請求項６】固定されたＶ字状溝のみによりウェハの下
部を保持するウェハ搬送用ハンドと、請求項２に記載の
ウェハ搬送用ハンドとの組合せにより、ウェハの受け渡
しを行なうことを特徴とするウェハ搬送方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6590699A JP2000260858A (ja) | 1999-03-12 | 1999-03-12 | ウェハ搬送用ハンド、及び、これを用いたウェハ搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6590699A JP2000260858A (ja) | 1999-03-12 | 1999-03-12 | ウェハ搬送用ハンド、及び、これを用いたウェハ搬送方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000260858A true JP2000260858A (ja) | 2000-09-22 |
Family
ID=13300485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6590699A Pending JP2000260858A (ja) | 1999-03-12 | 1999-03-12 | ウェハ搬送用ハンド、及び、これを用いたウェハ搬送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000260858A (ja) |
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-
1999
- 1999-03-12 JP JP6590699A patent/JP2000260858A/ja active Pending
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040415 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060613 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061010 |