JP2000260396A - Excimer lamp, excimer irradiation device, and organic compond decomposition method - Google Patents
Excimer lamp, excimer irradiation device, and organic compond decomposition methodInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ＲＦ放電によって
エキシマ光を照射するフラット形のエキシマランプ、エ
キシマ照射装置、および、主に水中に含まれる有害な有
機化合物の分解方法に関する。The present invention relates to a flat excimer lamp for irradiating excimer light by RF discharge, an excimer irradiation device, and a method for decomposing harmful organic compounds mainly contained in water.
【０００２】[0002]
【従来の技術】エキシマランプは、通常、無声放電ラン
プといわれ、光化学反応の紫外線光源として使用される
放電ランプの一つである。エキシマランプは、封入ガス
の種類に応じて１７２ｎｍ、１９３ｎｍ、２２２ｎｍま
たは２４８ｎｍなどの単波長の紫外線（以下「エキシマ
光」という。）を照射する。こうしたエキシマ光は、励
起酸素原子やＯＨラジカル等を生成できることに基づい
た有機化合物の分解に利用されたり、強い光子エネルギ
ーに基づいたその他の処理に利用されている。例えば、
半導体産業の分野においては、シリコンウエハーやガラ
ス基板を汚染した有機化合物を分解するドライ洗浄に応
用されたり、半導体材料の表面活性化処理やソフトアッ
シングに応用されている。また、プラズマディスプレイ
パネルの蛍光発光、ＬＣＤプロセス、材料関連の分野に
おける樹脂や金属材料の表面活性化処理などの多方面で
応用されている。2. Description of the Related Art An excimer lamp is generally called a silent discharge lamp, and is one of discharge lamps used as an ultraviolet light source for a photochemical reaction. The excimer lamp emits ultraviolet light of a single wavelength such as 172 nm, 193 nm, 222 nm, or 248 nm (hereinafter, referred to as “excimer light”) according to the type of the sealed gas. Such excimer light is used for decomposing organic compounds based on the ability to generate excited oxygen atoms, OH radicals, and the like, and is used for other processes based on strong photon energy. For example,
In the field of the semiconductor industry, it is applied to dry cleaning for decomposing organic compounds contaminating silicon wafers and glass substrates, and is applied to surface activation treatment and soft ashing of semiconductor materials. In addition, it is applied in various fields such as fluorescence emission of plasma display panels, LCD processes, and surface activation treatment of resins and metal materials in the field of materials.
【０００３】さらに、紫外線は、環境技術の分野におい
て、オゾンの生成、水中・大気の汚染浄化、超純水製造
工程に利用されている。特に、環境汚染が問題となって
いるトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ダイ
オキシン、ＰＣＢ等の有機化合物の分解にも応用されて
いる。具体的な分解方法として、空気中に含まれる有機
化合物の分解は、先ず、空気中の酸素がエキシマ光（特
に２００ｎｍ以下の真空紫外線領域のエキシマ光が好ま
しい。）に照射されてオゾンに変化し、そのオゾンがさ
らにエキシマ光に照射されて酸化力が非常に強い励起酸
素原子に変化し、最後に、その励起酸素原子が空気中の
有機化合物を分解して揮発性物質のＣＯ 2やＨ2Ｏ等を発
生する、という過程で行われる。また、水中に含まれる
有機化合物の分解は、液体中の水や溶存酸素がエキシマ
光（特に２００ｎｍ以下の真空紫外線領域のエキシマ光
が好ましい。）に照射されて極めて反応性の高いＯＨラ
ジカルやＯラジカルに変化し、そのＯＨラジカルやＯラ
ジカルが水中に含まれる有機化合物の結合鎖を切断して
有機化合物を分解する、という過程で行われる。[0003] Furthermore, ultraviolet light is a problem in the field of environmental technology.
And ozone generation, purification of water and air pollution, ultrapure water production
Used in the process. In particular, environmental pollution has become a problem
Trichlorethylene, tetrachloroethylene, die
Also applied to the decomposition of organic compounds such as oxine and PCB
I have. As a specific decomposition method, organic substances contained in air
First, oxygen in the air is converted into excimer light (specifically,
Excimer light in the vacuum ultraviolet region of 200 nm or less is preferred.
New ) Is changed to ozone, and the ozone is
Excited acid with very strong oxidizing power when irradiated with excimer light
Element, and finally, the excited oxygen atom
Decompose organic compounds to remove volatile CO TwoAnd HTwoDepart O
To be born. Also contained in the water
Decomposition of organic compounds depends on water and dissolved oxygen in the liquid
Light (especially excimer light in the vacuum ultraviolet region of 200 nm or less)
Is preferred. ) Is irradiated and is extremely reactive
It changes to dicals and O radicals, and the OH radicals and O radicals
Dikar breaks the binding chain of organic compounds contained in water
It is performed in the process of decomposing organic compounds.
【０００４】キセノンガスを封入ガスとして充填したエ
キシマランプは、真空紫外線である１７２ｎｍの波長の
エキシマ光を発生させることができる。この１７２ｎｍ
の波長のエキシマ光は、多くの励起酸素原子やＯＨラジ
カル等を生成させることができるので、空気中や水中に
含まれる有機化合物の分解を効率的に行うことができ
る。また、１７２ｎｍの波長のエキシマ光は、光子エネ
ルギーが強いので、この光子エネルギーによっても有機
化合物の結合鎖を直接切断して分解することができる。An excimer lamp filled with xenon gas as a filling gas can generate excimer light having a wavelength of 172 nm, which is vacuum ultraviolet light. This 172 nm
The excimer light having the wavelength of can generate many excited oxygen atoms and OH radicals, so that organic compounds contained in air or water can be efficiently decomposed. Excimer light having a wavelength of 172 nm has a high photon energy, and can also be decomposed by directly breaking a bond chain of an organic compound by this photon energy.
【０００５】図５は、従来型のチューブ形のエキシマラ
ンプ６１の一例を示している。エキシマランプ６１は、
チューブ形の放電容器６２と、その外側に配置された外
部電極６３と、その外部電極６３を保護するための石英
管６４とで構成されている。さらに、放電容器６３と石
英管６４との間に存在する空気を排除するために、窒素
ガス６５がパージされている。FIG. 5 shows an example of a conventional tube-type excimer lamp 61. The excimer lamp 61
It comprises a tube-shaped discharge vessel 62, an external electrode 63 arranged outside the discharge vessel 62, and a quartz tube 64 for protecting the external electrode 63. Further, a nitrogen gas 65 is purged in order to eliminate air existing between the discharge vessel 63 and the quartz tube 64.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上述のエキシマランプ
６１は、チューブ形の放電容器６２の外周部がエキシマ
ランプ６１の照射面（以下「エキシマ照射面」とい
う。）となるので、被照射体がシリコンウエハーのよう
な物品である場合には、エキシマ照射面から四方に放射
したエキシマ光の一部のみが、被照射体に照射されるだ
けであった。In the above-described excimer lamp 61, since the outer peripheral portion of the tube-shaped discharge vessel 62 becomes the irradiation surface of the excimer lamp 61 (hereinafter referred to as "excimer irradiation surface"), the object to be irradiated is formed. In the case of an article such as a silicon wafer, only a part of the excimer light radiated in all directions from the excimer irradiation surface is irradiated onto the irradiation target.
【０００７】また、エキシマ光は、空気中や水中での透
過性が悪く、エキシマ照射面から約８ｍｍ以上離れた空
気中の酸素または水中の溶存酸素を、オゾンや励起酸素
原子またはＯＨラジカルやＯラジカルにそれぞれ十分に
変化させることができなかったり、表面改質処理すべき
被照射体に光子エネルギーを十分に照射できないという
問題があった。[0007] Excimer light has poor permeability in air and water, and dissolves oxygen in air or dissolved oxygen in water at a distance of about 8 mm or more from an excimer irradiation surface by using ozone, excited oxygen atoms, OH radicals or O radicals. There have been problems that the radicals cannot be sufficiently changed into the respective radicals and that the irradiation target to be subjected to the surface modification treatment cannot be sufficiently irradiated with photon energy.
【０００８】具体的には、被照射体が有機化合物を含ん
だ水である場合に、エキシマ照射面の近傍上を通過した
水中の有機化合物が分解されるのみであり、その照射面
から離れて通過した水中の有機化合物を十分に分解する
ことはできなかった。Specifically, when the object to be irradiated is water containing an organic compound, only the organic compound in the water that has passed over the vicinity of the excimer irradiation surface is decomposed. The organic compounds in the passed water could not be sufficiently decomposed.
【０００９】従って、従来のチューブ形のエキシマラン
プにおいては、発光したエキシマ光のほとんどを有効に
利用することができず、有機化合物の分解や表面改質処
理等を十分に行うことができないといった問題があっ
た。こうした問題に対しては、従来、反射板を設けるな
どして照射効率の改善を図っていたが、未だ十分ではな
かった。Therefore, in the conventional tube-type excimer lamp, most of the emitted excimer light cannot be used effectively, and the decomposition of organic compounds and the surface modification treatment cannot be performed sufficiently. was there. In order to solve such a problem, the irradiation efficiency has been conventionally improved by providing a reflection plate or the like, but it has not been sufficient.
【００１０】上記の課題を解決するため、本発明は、効
率的にエキシマ光の照射を行うことができるフラット形
のエキシマランプ、エキシマ照射装置、および、それら
を用いた有機化合物の分解方法を提供する。In order to solve the above problems, the present invention provides a flat excimer lamp, an excimer irradiation apparatus, and a method for decomposing an organic compound using the flat excimer lamp, which can efficiently irradiate excimer light. I do.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】請求項１に記載のフラッ
ト形のエキシマランプは、光透過性に優れる誘電体から
なって大面積のエキシマ照射面を有する薄箱形の放電容
器と、当該放電容器内に充填された放電用の封入ガス
と、前記エキシマ照射面の反対側の前記放電容器表面上
に配置された据付電極とを少なくとも備え、１〜２０Ｍ
Ｈｚの高周波電圧が、前記据付電極と前記エキシマ照射
面上に設けられる外部電極との間に印加されることによ
って、前記エキシマ照射面からエキシマ光が照射される
ことに特徴を有する。According to a first aspect of the present invention, there is provided a flat excimer lamp, comprising: a thin box-shaped discharge vessel made of a dielectric material having excellent light transmittance and having a large-area excimer irradiation surface; A discharge gas filled in a vessel, and at least an installation electrode disposed on the discharge vessel surface opposite to the excimer irradiation surface;
A high frequency voltage of Hz is applied between the installation electrode and an external electrode provided on the excimer irradiation surface, whereby the excimer irradiation surface emits excimer light.
【００１２】この発明によれば、エキシマ光は、薄箱形
の放電容器の一面をなす大面積のエキシマ照射面から被
照射体に照射される。そのため、被照射体をエキシマ照
射面から一定距離にすることによって、十分な強度のエ
キシマ光を、効率よく被照射体に照射することが可能と
なる。また、エキシマ光が、エキシマ照射面から照射さ
れるので、放射したエキシマ光の全てを被照射体に照射
することができ、照射効率が向上する。特に、被照射体
が、エキシマ照射面の近傍で照射されるように配置する
ことによって、エキシマ光を、あまり減衰させることな
く被照射体に照射することができる。その結果、被照射
体は、所望の処理、例えばシリコンウエハーのドライ洗
浄や表面改質処理、または、空気中や水中の有機化合物
の分解処理などを効率的に行うことができる。本発明の
エキシマランプは、１〜２０ＭＨｚの高周波電圧が据付
電極と外部電極との間に印加されることによって、大面
積のエキシマ照射面の各部から均一強度のエキシマ光が
照射される。その結果、大きな照射面積で被照射体に照
射することができる。According to the present invention, the excimer light is applied to the object to be irradiated from the large-area excimer irradiation surface which forms one surface of the discharge container having a thin box shape. Therefore, by setting the object to be irradiated at a fixed distance from the excimer irradiation surface, the object can be efficiently irradiated with excimer light having a sufficient intensity. In addition, since the excimer light is irradiated from the excimer irradiation surface, all of the emitted excimer light can be irradiated to the irradiation target, and the irradiation efficiency is improved. In particular, by arranging the object to be irradiated near the excimer irradiation surface, the object can be irradiated with the excimer light without much attenuation. As a result, the object to be irradiated can be efficiently subjected to a desired treatment, for example, a dry cleaning or surface modification treatment of a silicon wafer, or a decomposition treatment of an organic compound in air or water. In the excimer lamp of the present invention, when a high-frequency voltage of 1 to 20 MHz is applied between the installation electrode and the external electrode, excimer light having a uniform intensity is emitted from each part of the large-area excimer irradiation surface. As a result, the object to be irradiated can be irradiated with a large irradiation area.
【００１３】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
のフラット形のエキシマランプにおいて、前記高周波電
圧が、前記据付電極と前記エキシマ照射面上を一定方向
に流れる流体との間に印加されることに特徴を有する。According to a second aspect of the present invention, in the flat excimer lamp according to the first aspect, the high-frequency voltage is applied between the installation electrode and a fluid flowing in a certain direction on the excimer irradiation surface. It is characterized by being done.
【００１４】この発明によれば、流体自体が外部電極と
して作用するように、据付電極との間に高周波電圧を印
加する。エキシマ照射面から照射されたエキシマ光は、
エキシマ照射面上を流れる流体に、直接的に照射され
る。その結果、流体中に有機化合物が含まれている場合
に、有機化合物は、十分に分解される。According to the present invention, a high-frequency voltage is applied between the fluid and the stationary electrode so that the fluid itself acts as an external electrode. The excimer light emitted from the excimer irradiation surface is
The fluid flowing on the excimer irradiation surface is directly irradiated. As a result, when an organic compound is contained in the fluid, the organic compound is sufficiently decomposed.
【００１５】請求項３に記載のエキシマ照射装置は、光
透過性に優れる誘電体からなって大面積のエキシマ照射
面を有する薄箱形の放電容器と、当該放電容器内に充填
された放電用の封入ガスと、前記エキシマ照射面の反対
側の前記放電容器表面上に配置された据付電極とを少な
くとも備えるフラット形のエキシマランプが、一定方向
に複数連設され、前記エキシマ照射面が、被照射体に対
して一定距離で配置されるエキシマ照射装置であって、
１〜２０ＭＨｚの高周波電圧が、前記据付電極と前記エ
キシマ照射面上に設けられる外部電極との間に印加され
ることによって、前記エキシマ照射面からエキシマ光が
照射されることに特徴を有する。According to a third aspect of the present invention, there is provided an excimer irradiation apparatus, comprising: a thin box-shaped discharge vessel made of a dielectric material having excellent light transmittance and having a large-area excimer irradiation surface; and a discharge vessel filled in the discharge vessel. And a plurality of flat excimer lamps having at least an installation electrode disposed on the surface of the discharge vessel opposite to the excimer irradiation surface in a predetermined direction, and the excimer irradiation surface is An excimer irradiation device arranged at a fixed distance to the irradiation body,
A high frequency voltage of 1 to 20 MHz is applied between the installation electrode and an external electrode provided on the excimer irradiation surface, whereby the excimer irradiation surface emits excimer light.
【００１６】この発明によれば、フラット形のエキシマ
ランプが、一定方向に複数連設されているので、被照射
体に連続的にエキシマ光を照射することができる。ま
た、エキシマ照射面が、被照射体に対して一定距離で配
置されているので、エキシマ光をあまり減衰させること
なく被照射体に照射することができる。その結果、被照
射体は、連続して配置されたエキシマ照射面から十分に
エキシマ光が照射されるので、効率的な表面改質処理や
有機化合物の分解処理が行われる。According to the present invention, since a plurality of flat excimer lamps are arranged in a predetermined direction, it is possible to continuously irradiate the object to be irradiated with excimer light. Further, since the excimer irradiation surface is arranged at a fixed distance from the irradiation target, the irradiation target can be irradiated with the excimer light without much attenuation. As a result, the object to be irradiated is sufficiently irradiated with the excimer light from the continuously arranged excimer irradiation surfaces, so that efficient surface modification processing and organic compound decomposition processing are performed.
【００１７】請求項４に記載の有機化合物の分解方法
は、光透過性に優れる誘電体からなって大面積のエキシ
マ照射面を有する薄箱形の放電容器と、当該放電容器内
に充填された放電用の封入ガスと、前記エキシマ照射面
の反対側の前記放電容器表面上に配置された据付電極と
を少なくとも備えるフラット形のエキシマランプが、一
定方向に流れる流体の流路に複数連設され、１〜２０Ｍ
Ｈｚの高周波電圧が、前記据付電極と前記流体との間に
印加されることによって、前記エキシマ照射面からエキ
シマ光が照射され、前記流体が、前記エキシマ照射面上
を順次流れる間に、前記流体中に含まれる有機化合物が
分解されることに特徴を有する。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for decomposing an organic compound, comprising: a thin box-shaped discharge vessel made of a dielectric material having excellent light transmittance and having a large-area excimer-irradiated surface; A plurality of flat excimer lamps each including at least discharge gas and a mounting electrode disposed on the surface of the discharge vessel opposite to the excimer irradiation surface are provided in plurality in a flow path of a fluid flowing in a certain direction. , 1-20M
Hz high frequency voltage is applied between the installation electrode and the fluid, so that the excimer light is irradiated from the excimer irradiation surface, and the fluid flows while sequentially flowing on the excimer irradiation surface. It is characterized in that organic compounds contained therein are decomposed.
【００１８】この発明によれば、エキシマランプが、一
定方向に流れる流体の流路に複数連設されているので、
流体に連続的にエキシマ光を照射することができる。そ
の結果、流体は、エキシマ照射面上を順次流れる間に、
連続して配置されたエキシマ照射面から十分にエキシマ
光が照射されるので、流体に含まれる有機化合物は、効
率的に分解処理される。流体自体が外部電極として作用
するように、据付電極との間に高周波電圧を印加する。
エキシマ照射面から照射されたエキシマ光は、エキシマ
照射面上を流れる流体に、直接的に照射される。その結
果、流体中に有機化合物が含まれている場合に、有機化
合物は、十分に分解される。According to the present invention, a plurality of excimer lamps are provided in series in the fluid flow path flowing in a certain direction.
The fluid can be continuously irradiated with excimer light. As a result, while the fluid flows sequentially on the excimer irradiation surface,
Since the excimer light is sufficiently irradiated from the excimer irradiation surfaces arranged continuously, the organic compound contained in the fluid is efficiently decomposed. A high frequency voltage is applied between the fluid and the stationary electrode so that the fluid itself acts as an external electrode.
Excimer light emitted from the excimer irradiation surface is directly applied to the fluid flowing on the excimer irradiation surface. As a result, when an organic compound is contained in the fluid, the organic compound is sufficiently decomposed.
【００１９】請求項５に記載の発明は、請求項４に記載
の有機化合物の分解方法において、前記有機化合物が、
フロン、ダイオキシン、ＰＣＢ、トリクロロエチレン、
テトラクロロエチレン、ジクロロメタン、四塩化炭素、
１，２−ジクロロエタン、１，１−ジクロロエタン、シ
ス−１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロ
エタン、１，３−ジクロロプロペンの何れかまたはその
混合物であることに特徴を有する。According to a fifth aspect of the present invention, in the method for decomposing an organic compound according to the fourth aspect, the organic compound comprises:
Freon, dioxin, PCB, trichloroethylene,
Tetrachloroethylene, dichloromethane, carbon tetrachloride,
It is characterized in that it is any one of 1,2-dichloroethane, 1,1-dichloroethane, cis-1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1,3-dichloropropene or a mixture thereof.
【００２０】この発明によれば、水質汚染や大気汚染の
問題となるこれらの有機化合物を含む流体、例えば水や
空気に対して、エキシマ光を十分に照射することができ
るので、流体に含まれる有機化合物の分解効率を向上さ
せることができる。According to the present invention, excimer light can be sufficiently radiated to a fluid containing these organic compounds, such as water and air, which causes water pollution and air pollution, and is included in the fluid. The decomposition efficiency of the organic compound can be improved.
【００２１】[0021]
【発明の実施の形態】先ず、本発明のエキシマランプを
図面を参照しながら説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, an excimer lamp according to the present invention will be described with reference to the drawings.
【００２２】図１は、本発明のエキシマランプの一例を
示す斜視図であり、図２は、その断面図を示している。
エキシマランプ１は、大面積のエキシマ照射面３を有す
る薄箱形の放電容器２と、放電容器２内に充填された放
電用の封入ガスと、エキシマ照射面３の反対側の放電容
器２表面上に配置された据付電極４とを少なくとも備え
ている。エキシマ光は、１〜２０ＭＨｚの高周波電圧７
を、据付電極４とエキシマ照射面３上に設けられる外部
電極６との間に印加することによって、エキシマ照射面
３から照射される。FIG. 1 is a perspective view showing an example of an excimer lamp according to the present invention, and FIG. 2 is a sectional view thereof.
The excimer lamp 1 has a thin box-shaped discharge vessel 2 having a large-area excimer irradiation surface 3, a discharge gas filled in the discharge vessel 2, and a surface of the discharge vessel 2 opposite to the excimer irradiation surface 3. And at least the installation electrode 4 disposed thereon. Excimer light has a high frequency voltage of 1 to 20 MHz.
Is applied between the installation electrode 4 and the external electrode 6 provided on the excimer irradiation surface 3 to irradiate the light from the excimer irradiation surface 3.
【００２３】放電容器２は、大面積のエキシマ照射面３
を有する薄箱形であり、発生したエキシマ光が透過しや
すい光透過性に優れる誘電体からなっている。通常、光
透過性に優れた石英または合成石英を薄箱形にしたもの
が使用され、薄箱形の放電容器に加工される。石英また
は合成石英は、厚さが１〜２ｍｍ程度のものが使用され
る。放電容器２の大きさは特に限定されないが、エキシ
マ照射面が大きく、かさ高さの小さい薄箱形容器とする
ことが好ましい。例えば、縦と横の寸法は、十数ｃｍ〜
数十ｃｍで、高さは、数ｃｍ程度の放電容器が用いられ
る。The discharge vessel 2 has a large-area excimer irradiation surface 3.
, And is made of a dielectric material having excellent light transmittance through which generated excimer light is easily transmitted. In general, a thin box made of quartz or synthetic quartz having excellent light transmittance is used, and is processed into a thin box-shaped discharge vessel. Quartz or synthetic quartz having a thickness of about 1 to 2 mm is used. The size of the discharge vessel 2 is not particularly limited, but is preferably a thin box-shaped vessel having a large excimer irradiation surface and a small bulk. For example, the vertical and horizontal dimensions are more than
A discharge vessel having a height of several tens cm and a height of several cm is used.
【００２４】放電用の封入ガス５は、放電容器２内に充
填され、封入ガス５の種類によって、波長の異なるエキ
シマ光を発生させることができる。代表的な例として
は、クリプトン（Ｋｒ）ガスでは１４６ｎｍ、キセノン
（Ｘｅ）ガスでは１７２ｎｍ、ＫｒＩガスでは１９１ｎ
ｍ、ＡｒＦガスでは１９３ｎｍ、ＫｒＣｌガスでは２２
２ｎｍ、ＫｒＦガスでは２４８ｎｍ等、封入ガス５の種
類によって、一定の波長のエキシマ光を発生させること
ができる。そのため、放電容器２に封入するガスを選定
することによって、目的に応じたエキシマ光を発生させ
ることができる。放電容器２中に封入される封入ガス５
の圧力は、目的の波長のエキシマ光を得るためのガスの
種類および所望するエキシマ発光量に応じて、適宜条件
設定して決定することができる。通常、１０〜６０ＫＰ
ａ程度の圧力で封入される。The discharge gas 5 is filled in the discharge vessel 2, and excimer light having a different wavelength can be generated depending on the type of the gas 5. Representative examples are krypton (Kr) gas at 146 nm, xenon (Xe) gas at 172 nm, and KrI gas at 191 n.
m, 193 nm for ArF gas, 22 for KrCl gas
Excimer light of a certain wavelength can be generated depending on the type of the sealing gas 5 such as 2 nm or 248 nm for KrF gas. Therefore, by selecting a gas to be sealed in the discharge vessel 2, it is possible to generate excimer light according to the purpose. Filled gas 5 filled in the discharge vessel 2
Can be determined by appropriately setting conditions according to the type of gas for obtaining excimer light having a desired wavelength and the desired excimer emission amount. Usually 10-60KP
It is sealed at a pressure of about a.
【００２５】据付電極４は、エキシマ照射面３の反対側
の放電容器２表面に配置される。据付電極４の材質とし
ては、ステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム合
金、銅、酸化銅、またはそれらの合金、酸化イットリウ
ム、酸化イットリウムアルミニウム等が好ましく用いら
れる。据付電極４の選定にあたっては、良好な金属導電
性を示して放電率が高くなるものが好ましく選定され
る。据付電極４の形状は、板状、網目状など特に限定さ
れない。また、据付電極４は、エキシマ光が放電容器２
内の各部で均一に放電してエキシマ照射面での照射分布
が均一になるように、エキシマ照射面３の反対側の放電
容器２表面の全域に亘って設けられることが好ましい。The installation electrode 4 is arranged on the surface of the discharge vessel 2 opposite to the excimer irradiation surface 3. As a material of the installation electrode 4, stainless steel, aluminum, aluminum alloy, copper, copper oxide, or an alloy thereof, yttrium oxide, yttrium aluminum oxide, or the like is preferably used. When selecting the installation electrode 4, one that exhibits good metal conductivity and increases the discharge rate is preferably selected. The shape of the installation electrode 4 is not particularly limited, such as a plate shape or a mesh shape. In addition, the excimer light is applied to the installation electrode 4 by the discharge vessel 2.
It is preferred that the discharge vessel 2 is provided over the entire surface of the discharge vessel 2 on the side opposite to the excimer irradiation surface 3 so that the discharge is uniformly performed on each part of the inside and the irradiation distribution on the excimer irradiation surface becomes uniform.
【００２６】外部電極６は、エキシマ照射面３上に配置
され、据付電極４との間で高周波電圧７が印加される。
そのため、エキシマ光の照射の妨げにならないように、
通常、網状の電極が用いられているが特にその形状は限
定されない。外部電極６の材質およびその選定は、据付
電極４の場合と同様である。The external electrode 6 is arranged on the excimer irradiation surface 3, and a high frequency voltage 7 is applied between the external electrode 6 and the installation electrode 4.
Therefore, in order not to hinder the irradiation of excimer light,
Usually, a mesh electrode is used, but the shape is not particularly limited. The material of the external electrode 6 and its selection are the same as those of the installation electrode 4.
【００２７】被照射体が有機化合物を含む水である場合
は、水自体が外部電極として作用するように、据付電極
４と水との間に電場、すなわち高周波電圧を印加するこ
とが好ましい。水に電場を印加する方法としては、後述
する図３に示すように、特に外部電極を設けることはせ
ず、導電性の流路４１に高周波電圧７を印加する。その
結果、据付電極４と水との間に電場（高周波電圧）が負
荷されてエキシマランプ１が放電し、エキシマ光が照射
される。このとき、エキシマ照射面３が流路４１の一部
として用いられることによって、有機化合物を含む水
は、エキシマ照射面３から放射されたエキシマ光の全て
が照射される。なお、流路４１の構成材料としては、ス
テンレス鋼等のように、金属導電性を有し、且つ、有機
化合物を含む水に対して耐食性に優れた材料を好ましく
用いることができる。When the irradiation target is water containing an organic compound, it is preferable to apply an electric field, that is, a high-frequency voltage between the installation electrode 4 and water so that the water itself acts as an external electrode. As a method for applying an electric field to water, as shown in FIG. 3 described later, a high-frequency voltage 7 is applied to the conductive flow path 41 without providing an external electrode. As a result, an electric field (high-frequency voltage) is applied between the installation electrode 4 and water, and the excimer lamp 1 is discharged, and the excimer light is irradiated. At this time, since the excimer irradiation surface 3 is used as a part of the flow path 41, the water containing the organic compound is irradiated with all of the excimer light emitted from the excimer irradiation surface 3. In addition, as a constituent material of the flow path 41, a material having metal conductivity and excellent in corrosion resistance to water containing an organic compound, such as stainless steel, can be preferably used.
【００２８】１〜２０ＭＨｚの高周波電圧を印加するこ
とによって、放電容器２内で無声放電が起こり、エキシ
マ照射面３から均一且つ十分なエキシマ光が照射され
る。本発明のエキシマランプ１は、特に１〜２０ＭＨｚ
という高周波で電圧が印加されるので、発光効率や熱効
率を向上させることができる。そのため、消費電力を小
さくすることができ、経済的にも好ましい。より好まし
い高周波電圧の周波数は、２〜４ＭＨｚである。この時
の高周波電圧は、１〜３ｋＶが好ましい。高周波電圧が
１ｋＶ未満の場合には、外部電極６と据付電極４との間
で均一且つ十分な放電が起こらず、エキシマ照射面３か
ら十分なエキシマ光を均一に照射することができない。
また、高周波電圧が３ｋＶを超える場合には、エキシマ
照射量が飽和し、入力電力に対して十分な発光効率を得
ることができないとともに、消費電力が大きくなるので
効率が悪くなる。By applying a high frequency voltage of 1 to 20 MHz, a silent discharge occurs in the discharge vessel 2, and uniform and sufficient excimer light is irradiated from the excimer irradiation surface 3. The excimer lamp 1 of the present invention has a
Since the voltage is applied at such a high frequency, luminous efficiency and thermal efficiency can be improved. Therefore, power consumption can be reduced, which is economically preferable. A more preferred frequency of the high-frequency voltage is 2 to 4 MHz. The high frequency voltage at this time is preferably 1 to 3 kV. When the high-frequency voltage is less than 1 kV, uniform and sufficient discharge does not occur between the external electrode 6 and the installation electrode 4, and it is not possible to uniformly irradiate a sufficient excimer light from the excimer irradiation surface 3.
On the other hand, when the high-frequency voltage exceeds 3 kV, the excimer irradiation dose saturates, it is not possible to obtain sufficient luminous efficiency with respect to the input power, and the power consumption increases, resulting in poor efficiency.
【００２９】高周波電圧は、高周波電源から供給され、
外部電極６と据付電極４との間に１〜２０ＭＨｚの周波
数で印加される。高周波電源は、直流電源から１２〜１
５Ｖ（通常は約１２Ｖ。）の電力を入力し、１〜２０Ｍ
Ｈｚのうちの所定の周波数に周波数変換した所定の電力
を出力する。例えば、エキシマ照射面３から、照射照度
が１０ｍＷ／ｃｍ2 のエキシマ光が照射されるために
は、外部電極６と据付電極４との間に３．７ＭＨｚの高
周波を５０〜７０Ｗの電力で印加すればよい。The high frequency voltage is supplied from a high frequency power supply,
It is applied between the external electrode 6 and the installation electrode 4 at a frequency of 1 to 20 MHz. High frequency power supply is 12 ~ 1 from DC power supply
5V (typically about 12V) power is input and 1-20M
A predetermined power frequency-converted to a predetermined frequency of Hz is output. For example, in order to irradiate the excimer light with the irradiation illuminance of 10 mW / cm 2 from the excimer irradiation surface 3, a high frequency of 3.7 MHz is applied between the external electrode 6 and the installation electrode 4 with a power of 50 to 70 W. do it.
【００３０】こうした構成のエキシマランプ１は、大面
積のエキシマ照射面上から均一にエキシマ光を照射でき
る。そのため、一度に多くの被照射体を処理することが
できる。また、エキシマ光がエキシマ照射面の各部から
均一に照射されるので、被照射体をエキシマ照射面から
一定距離にすることによって、均一な強度のエキシマ光
を効率よく被照射体に照射することができる。The excimer lamp 1 having such a configuration can uniformly irradiate excimer light from a large-area excimer irradiation surface. Therefore, many objects to be irradiated can be processed at one time. In addition, since the excimer light is uniformly irradiated from each part of the excimer irradiation surface, it is possible to efficiently irradiate the irradiation object with uniform intensity excimer light by keeping the irradiation target at a fixed distance from the excimer irradiation surface. it can.
【００３１】次に、本発明のエキシマ照射装置について
説明する。図３は、エキシマランプ１が一定方向に複数
連設されてなる本発明のエキシマ照射装置４０の態様を
示す概略図である。本発明のエキシマ照射装置４０は、
上述したエキシマランプ１が、一定方向に複数連設さ
れ、エキシマ照射面３が、被照射体４１に対して一定距
離となるように構成される。エキシマ照射面３は、図３
または図４に示すように、一定方向を向くように連設さ
れることが好ましい。エキシマランプ１の連設の態様と
しては、図３に示すように、エキシマランプ１を長手方
向に連設して、被照射体が各エキシマランプ１のエキシ
マ照射面３から照射されるように配置したり、図４に示
すように、エキシマランプ１を幅方向に連設して、一度
に多くの被照射体にエキシマ光を照射するように配置で
きる。上述したように、本発明のエキシマランプ１は、
エキシマ照射面３から均一な強度でエキシマ光が照射さ
れるので、広い面積に亘って被照射体を連続的に処理す
ることができる。Next, the excimer irradiation apparatus of the present invention will be described. FIG. 3 is a schematic diagram showing an embodiment of an excimer irradiation device 40 according to the present invention in which a plurality of excimer lamps 1 are continuously provided in a certain direction. The excimer irradiation device 40 of the present invention includes:
A plurality of the excimer lamps 1 described above are arranged in a certain direction, and the excimer irradiation surface 3 is configured to be at a certain distance from the irradiation target 41. The excimer irradiation surface 3 is shown in FIG.
Alternatively, as shown in FIG. 4, it is preferable to be continuously provided so as to face a certain direction. As shown in FIG. 3, the excimer lamps 1 are connected in the longitudinal direction, and the excimer lamps 1 are arranged so that the irradiation target is irradiated from the excimer irradiation surface 3 of each excimer lamp 1. Alternatively, as shown in FIG. 4, the excimer lamps 1 can be arranged continuously in the width direction so as to irradiate a large number of objects at once with excimer light. As described above, the excimer lamp 1 of the present invention includes:
Since the excimer light is emitted from the excimer irradiation surface 3 at a uniform intensity, the object to be irradiated can be continuously processed over a wide area.
【００３２】また、被照射体は、エキシマ照射面３から
一定距離内で通過するので、被照射体には、減衰の少な
いエキシマ光が大面積で照射され、効率的な表面改質処
理や有機化合物の分解処理が行われる。エキシマ光は、
空気中や水中では透過性に優れたものとはいえないの
で、エキシマ照射面３から約８ｍｍ以上離れると、エキ
シマ光が徐々に減衰して十分なエキシマ光の効果を得る
ことができなくなることがある。従って、被照射体をエ
キシマ照射面から８ｍｍ以内で照射できるようにするこ
とが好ましい。被照射体が空気や水の場合には、その流
路が、エキシマ照射面から８ｍｍ以内となるようにする
ことによって、全ての被照射体に、十分な強度のエキシ
マ光を照射することができる。しかし、こうした距離
は、エキシマ光の照射強度、照射時間、被照射体の処理
の程度との関係で決まるので、あまり強いエキシマ光を
照射したくない場合には、８ｍｍより離して照射しても
よい。Further, since the object to be irradiated passes within a certain distance from the excimer irradiation surface 3, the object to be irradiated is irradiated with excimer light having a small attenuation over a large area, so that an efficient surface modification treatment or organic light emission can be achieved. The compound is decomposed. Excimer light is
Since it cannot be said that it has excellent permeability in air or water, excimer light is gradually attenuated at a distance of about 8 mm or more from the excimer irradiation surface 3 and sufficient excimer light effect cannot be obtained. is there. Therefore, it is preferable that the irradiation target can be irradiated within 8 mm from the excimer irradiation surface. When the irradiation target is air or water, all the irradiation targets can be irradiated with excimer light of sufficient intensity by setting the flow path within 8 mm from the excimer irradiation surface. . However, since such a distance is determined by the relationship between the irradiation intensity of the excimer light, the irradiation time, and the degree of processing of the object to be irradiated, if it is not desired to irradiate a very strong excimer light, the irradiation may be performed at a distance of more than 8 mm. Good.
【００３３】最後に、本発明の有機化合物の分解方法に
ついて説明する。本発明の有機化合物の分解方法は、上
述したエキシマランプ１またはエキシマ照射装置４０を
使用することによって行われる。図３に示すように有機
化合物を含む空気や水は、一定方向に流れるように設け
られた流路中を通過する。流路には、エキシマランプが
複数連設されているので、エキシマ照射面上を流れる空
気や水は、エキシマ光の照射を連続して受ける。その結
果、空気中や水中に含まれる有機化合物は、エキシマ照
射面上を順次流れる間に、エキシマ光を受けて効率的に
分解される。流体が有機化合物を含む空気の場合には、
エキシマ光の照射によって空気中に励起酸素原子が発生
し、また、流体が有機化合物を含む水の場合には、エキ
シマ光の照射によって水中にＯＨラジカルやＯラジカル
が生成する。こうしたラジカル種の生成は、水分子と溶
存酸素との化学反応により過酸化水素水等が生じ、次い
で、この過酸化水素水等にエキシマ光やラジカル種が反
応することによって、ＯＨラジカルやＯラジカルが容易
に生成したものである。これらの励起酸素原子や各ラジ
カル種は、極めて反応性が高いので、そこの含まれる有
機化合物の分子間結合が切断され、その切断された部分
にさらに励起酸素原子やラジカル種が反応して分解され
る。特に、真空紫外線領域である２００ｎｍ以下のエキ
シマ光を照射することによって、分解反応をより一層効
率的に行うことができる。例えば、１，１，１−トリク
ロロエタンを含有する液体に、１７２ｎｍの波長のエキ
シマ光を照射すると、１，１，１−トリクロロエタン中
のＣ−Ｃ、Ｃ−Ｈ、Ｃ−Ｃｌの結合が切断され、そこに
さらにラジカル種が反応して、二酸化炭素、一酸化炭
素、水、塩化水素、塩素に分解する。２００ｎｍ以下の
波長の真空紫外線、例えば１７２ｎｍの波長のエキシマ
光は、有機化合物中に、ラジカル種をより多く生成する
ことができるので、有機化合物の分解反応が容易に起こ
る。Finally, the method for decomposing an organic compound according to the present invention will be described. The method for decomposing an organic compound of the present invention is performed by using the above-described excimer lamp 1 or excimer irradiation device 40. As shown in FIG. 3, air or water containing an organic compound passes through a channel provided to flow in a certain direction. Since a plurality of excimer lamps are provided in series in the flow path, air and water flowing on the excimer irradiation surface are continuously irradiated with excimer light. As a result, the organic compounds contained in the air or water are efficiently decomposed by receiving the excimer light while sequentially flowing on the excimer irradiation surface. If the fluid is air containing organic compounds,
Excimer light irradiation generates excited oxygen atoms in the air, and when the fluid is water containing an organic compound, irradiation of the excimer light generates OH radicals and O radicals in the water. The generation of such radical species is based on a chemical reaction between water molecules and dissolved oxygen, which generates hydrogen peroxide water and the like. Then, the excimer light and radical species react with the hydrogen peroxide water and the like to form OH radicals and O radicals. Are easily generated. Since these excited oxygen atoms and each radical species are extremely reactive, the intermolecular bond of the organic compound contained therein is cut, and the cut oxygen is further decomposed by the reaction of the excited oxygen atoms and radical species. Is done. In particular, by irradiating excimer light of 200 nm or less in the vacuum ultraviolet region, the decomposition reaction can be performed more efficiently. For example, when a liquid containing 1,1,1-trichloroethane is irradiated with excimer light having a wavelength of 172 nm, the bonds of CC, CH, and C-Cl in 1,1,1-trichloroethane are cut. Then, further radical species react and decompose into carbon dioxide, carbon monoxide, water, hydrogen chloride and chlorine. Vacuum ultraviolet light having a wavelength of 200 nm or less, for example, excimer light having a wavelength of 172 nm, can generate more radical species in the organic compound, so that the decomposition reaction of the organic compound easily occurs.
【００３４】有機化合物の中でも特に有機塩素化合物
は、大気や水質を汚染するものが多く、本発明の有機化
合物の分解方法によって簡単且つ効率的に分解すること
ができる。有機化合物としては、フロン、ダイオキシ
ン、ＰＣＢ、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン、ジクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエ
タン、１，１−ジクロロエタン、シス−１，２−ジクロ
ロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，３−ジ
クロロプロペン等の何れかまたはそれらの混合物を例示
することができる。これらは何れも塩素化合物である
が、他のハロゲン元素を含む有機ハロゲン化物、例えば
フッ素、臭素を含む化合物に対しても適用することがで
きる。Many of the organic compounds, especially organic chlorine compounds, pollute air and water quality, and can be easily and efficiently decomposed by the method for decomposing organic compounds of the present invention. Examples of the organic compound include chlorofluorocarbon, dioxin, PCB, trichloroethylene, tetrachloroethylene, dichloromethane, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,1-dichloroethane, cis-1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, , 3-dichloropropene or a mixture thereof. These are all chlorine compounds, but they can also be applied to organic halides containing other halogen elements, for example, compounds containing fluorine and bromine.
【００３５】なお、流体は、エキシマ照射面上を流れる
ので、若干汚れた水であっても、エキシマ照射面上に不
純物等の堆積が起こらず、比較的きれいなエキシマ照射
面を維持することができる。そのため、メンテナンスや
照射効率に優れることとなる。Since the fluid flows on the excimer irradiation surface, even if the water is slightly contaminated, no deposition of impurities or the like occurs on the excimer irradiation surface, so that a relatively clean excimer irradiation surface can be maintained. . Therefore, maintenance and irradiation efficiency are excellent.
【００３６】[0036]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のエキシマ
ランプによれば、エキシマ光が、薄箱形の放電容器の一
面をなす大面積のエキシマ照射面から被照射体に照射さ
れる。そのため、被照射体をエキシマ照射面から一定距
離にすることによって、十分な強度のエキシマ光を、効
率よく被照射体に照射することが可能となる。また、エ
キシマ光が、エキシマ照射面から照射されるので、放射
したエキシマ光の全てを被照射体に照射することがで
き、照射効率が向上する。その結果、被照射体は、所望
の処理、例えばシリコンウエハーのドライ洗浄や表面改
質処理、または、空気中や水中の有機化合物の分解処理
などを効率的に行うことができる。As described above, according to the excimer lamp of the present invention, the excimer light is emitted from the large-area excimer irradiation surface which forms one surface of the thin box-shaped discharge vessel. Therefore, by setting the object to be irradiated at a fixed distance from the excimer irradiation surface, the object can be efficiently irradiated with excimer light having a sufficient intensity. In addition, since the excimer light is irradiated from the excimer irradiation surface, all of the emitted excimer light can be irradiated to the irradiation target, and the irradiation efficiency is improved. As a result, the object to be irradiated can be efficiently subjected to a desired treatment, for example, a dry cleaning or surface modification treatment of a silicon wafer, or a decomposition treatment of an organic compound in air or water.
【００３７】本発明のエキシマ照射装置によれば、フラ
ット形のエキシマランプが、一定方向に複数連設されて
いるので、被照射体に連続的にエキシマ光を照射するこ
とができる。また、エキシマ照射面が、被照射体に対し
て一定距離で配置されているので、エキシマ光をあまり
減衰させることなく被照射体に照射することができる。
その結果、被照射体は、連続して配置されたエキシマ照
射面から十分にエキシマ光が照射されるので、効率的な
表面改質処理や有機化合物の分解処理が可能となる。According to the excimer irradiating apparatus of the present invention, since a plurality of flat excimer lamps are provided continuously in a certain direction, it is possible to continuously irradiate the object to be irradiated with excimer light. Further, since the excimer irradiation surface is arranged at a fixed distance from the irradiation target, the irradiation target can be irradiated with the excimer light without much attenuation.
As a result, the object to be irradiated is sufficiently irradiated with excimer light from the excimer irradiation surface arranged continuously, so that an efficient surface modification treatment and an organic compound decomposition treatment can be performed.
【００３８】本発明の有機化合物の分解方法によれば、
エキシマランプが、一定方向に流れる流体の流路に複数
連設されているので、流体に連続的にエキシマ照射を行
うことができる。その結果、流体は、エキシマ照射面上
を順次流れる間に、連続して配置されたエキシマ照射面
から十分にエキシマ光が照射されるので、流体に含まれ
る有機化合物は、効率的に分解処理される。According to the method for decomposing an organic compound of the present invention,
Since a plurality of excimer lamps are provided in series in the flow path of the fluid flowing in a certain direction, excimer irradiation can be continuously performed on the fluid. As a result, the excimer light is sufficiently irradiated from the continuously arranged excimer irradiation surfaces while the fluid flows sequentially on the excimer irradiation surface, so that the organic compounds contained in the fluid are efficiently decomposed. You.
【図１】本発明のエキシマランプの一例を示す斜視図で
ある。FIG. 1 is a perspective view showing an example of an excimer lamp according to the present invention.
【図２】図１のエキシマランプの横断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the excimer lamp of FIG.
【図３】エキシマランプが一定方向（長手方向）に複数
連設されてなる本発明のエキシマ照射装置の態様を示す
概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing an embodiment of an excimer irradiation apparatus according to the present invention in which a plurality of excimer lamps are continuously provided in a certain direction (longitudinal direction).
【図４】エキシマランプが幅方向に複数連設された態様
の一例を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic view showing an example of a mode in which a plurality of excimer lamps are provided in the width direction.
【図５】従来のエキシマランプを示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing a conventional excimer lamp.
１ エキシマランプ ２ 放電容器 ３ エキシマ照射面 ４ 据付電極 ５ 封入ガス ６ 外部電極 ７ 高周波電圧 ４０ エキシマ照射装置 ４１ 流路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Excimer lamp 2 Discharge container 3 Excimer irradiation surface 4 Installation electrode 5 Filling gas 6 External electrode 7 High frequency voltage 40 Excimer irradiation device 41 Flow path
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2E191 BA12 BA15 BD17 4D037 AB14 BA16 4G075 AA22 BA04 BD05 CA33 DA02 EA02 EB31 EE03 FC04 5C039 NN07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page F term (reference) 2E191 BA12 BA15 BD17 4D037 AB14 BA16 4G075 AA22 BA04 BD05 CA33 DA02 EA02 EB31 EE03 FC04 5C039 NN07
Claims (5)
積のエキシマ照射面を有する薄箱形の放電容器と、当該
放電容器内に充填された放電用の封入ガスと、前記エキ
シマ照射面の反対側の前記放電容器表面上に配置された
据付電極とを少なくとも備え、１〜２０ＭＨｚの高周波
電圧が、前記据付電極と前記エキシマ照射面上に設けら
れる外部電極との間に印加されることによって、前記エ
キシマ照射面からエキシマ光が照射されることを特徴と
するフラット形のエキシマランプ。1. A thin box-shaped discharge vessel made of a dielectric material having excellent light transmittance and having a large-area excimer irradiation surface, a discharge gas filled in the discharge container, and the excimer irradiation surface At least a stationary electrode disposed on the surface of the discharge vessel on the opposite side, and a high-frequency voltage of 1 to 20 MHz is applied between the stationary electrode and an external electrode provided on the excimer irradiation surface. Wherein the excimer light is emitted from the excimer irradiation surface.
エキシマ照射面上を一定方向に流れる流体との間に印加
されることを特徴とする請求項１に記載のフラット形の
エキシマランプ。2. The flat excimer lamp according to claim 1, wherein the high-frequency voltage is applied between the installation electrode and a fluid flowing in a certain direction on the excimer irradiation surface.
積のエキシマ照射面を有する薄箱形の放電容器と、当該
放電容器内に充填された放電用の封入ガスと、前記エキ
シマ照射面の反対側の前記放電容器表面上に配置された
据付電極とを少なくとも備えるフラット形のエキシマラ
ンプが、一定方向に複数連設され、前記エキシマ照射面
が、被照射体に対して一定の間隔で配置されるエキシマ
照射装置であって、 １〜２０ＭＨｚの高周波電圧が、前記据付電極と前記エ
キシマ照射面上に設けられる外部電極との間に印加され
ることによって、前記エキシマ照射面からエキシマ光が
照射されることを特徴とするエキシマ照射装置。3. A thin box-shaped discharge vessel made of a dielectric material having excellent light transmittance and having a large-area excimer irradiation surface, a discharge filling gas filled in the discharge container, and the excimer irradiation surface And a plurality of flat excimer lamps at least comprising an installation electrode disposed on the surface of the discharge vessel on the opposite side, and a plurality of excimer lamps are continuously provided in a certain direction. An excimer irradiation device to be disposed, wherein a high-frequency voltage of 1 to 20 MHz is applied between the installation electrode and an external electrode provided on the excimer irradiation surface, whereby excimer light is emitted from the excimer irradiation surface. An excimer irradiation device characterized by being irradiated.
積のエキシマ照射面を有する薄箱形の放電容器と、当該
放電容器内に充填された放電用の封入ガスと、前記エキ
シマ照射面の反対側の前記放電容器表面上に配置された
据付電極とを少なくとも備えるフラット形のエキシマラ
ンプが、一定方向に流れる流体の流路に複数連設され、 １〜２０ＭＨｚの高周波電圧が、前記据付電極と前記流
体との間に印加されることによって、前記エキシマ照射
面からエキシマ光が照射され、 前記流体が、前記エキシマ照射面上を順次流れる間に、
前記流体中に含まれる有機化合物が分解されることを特
徴とする有機化合物の分解方法。4. A thin box-shaped discharge vessel made of a dielectric material having excellent light transmittance and having a large-area excimer irradiation surface, a discharge filling gas filled in the discharge container, and the excimer irradiation surface And a plurality of flat excimer lamps having at least an installation electrode disposed on the surface of the discharge vessel on the opposite side of the discharge vessel, and a plurality of flat excimer lamps connected in series to a flow path of a fluid flowing in a certain direction. By being applied between an electrode and the fluid, excimer light is emitted from the excimer irradiation surface, while the fluid sequentially flows on the excimer irradiation surface,
A method for decomposing an organic compound, wherein the organic compound contained in the fluid is decomposed.
ン、ＰＣＢ、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン、ジクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエ
タン、１，１−ジクロロエタン、シス−１，２−ジクロ
ロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，３−ジ
クロロプロペンの何れかまたはその混合物であることを
特徴とする請求項４に記載の有機化合物の分解方法。5. The method according to claim 1, wherein the organic compound is CFC, dioxin, PCB, trichloroethylene, tetrachloroethylene, dichloromethane, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,1-dichloroethane, cis-1,2-dichloroethane, 1,1,1. The method for decomposing an organic compound according to claim 4, wherein the method is any one of 1-trichloroethane and 1,3-dichloropropene or a mixture thereof.
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