JP2000253623A - 電磁アクチュエータの冷却方法および電磁アクチュエータ - Google Patents

電磁アクチュエータの冷却方法および電磁アクチュエータ

Info

Publication number
JP2000253623A
JP2000253623A JP11054815A JP5481599A JP2000253623A JP 2000253623 A JP2000253623 A JP 2000253623A JP 11054815 A JP11054815 A JP 11054815A JP 5481599 A JP5481599 A JP 5481599A JP 2000253623 A JP2000253623 A JP 2000253623A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refrigerant
temperature
electromagnetic actuator
space
heat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11054815A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihide Kikuchi
俊秀 菊池
Satoshi Takahashi
聡志 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP11054815A priority Critical patent/JP2000253623A/ja
Publication of JP2000253623A publication Critical patent/JP2000253623A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Motor Or Generator Cooling System (AREA)
  • Linear Motors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来のリニアモータでは、冷媒が一方向に流
れる過程で発熱部から熱を奪うので、発熱部には冷媒と
の熱交換によって下流に向かうほど温度が上昇する温度
勾配が生じ、発熱部が均一に冷却されない等の問題があ
った。 【解決手段】 作動状態において発熱する扁平コイル7
3,74の両側に、少なくとも異なる二方向に向けてそ
れぞれ冷媒を流す流路を形成する。これにより、一方向
に向けて流れる冷媒には、扁平コイル73,74との熱
交換によって一方向に向けて漸次温度が上昇する温度勾
配が生じ、他方向に向けて流れる冷媒には、やはり扁平
コイル73,74との熱交換によって他方向に向けて漸
次温度が上昇する温度勾配が生じる。これにより、扁平
コイル73,74では一方向に向けて流れる冷媒に生じ
た温度勾配と他方向に向けて流れる冷媒に生じた温度勾
配とに基づき、冷媒との間で熱の授受が行われ、均一な
冷却が可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、リニアモ
ータやボイスコイルモータ等、精密位置決めを行う駆動
機構として用いられる電磁アクチュエータの冷却方法お
よび電磁アクチュエータに関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体素子や液晶表示基板等を製造する
ためのリソグラフィ工程において、マスクとしてのレチ
クルのパターンを、フォトレジストが塗布されたウェハ
またはガラス基板等の各ショット領域に転写露光する露
光装置が使用されている。
【0003】従来の露光装置は、レチクルとウェハとを
静止させたままレチクルのパターン全面を露光光で照射
し、そのパターン像をウェハ上のショット領域ごとに転
写するステップ・アンド・リピート方式を採用したいわ
ゆる一括露光型の露光装置が主流であったが、近年で
は、レチクルを露光光の光軸に垂直な方向に走査するの
と同期してウェハもそれに対応した速度で走査すること
により、レチクルのパターン像をウェハ上に逐次転写す
るステップ・アンド・スキャン方式を採用した走査露光
型の露光装置が注目を集めている。
【0004】走査露光型の露光装置には、レチクルステ
ージ、ウェハステージ等の駆動機構として、リニアモー
タやボイスコイルモータ等の電磁アクチュエータが採用
されている。電磁アクチュエータは、構造が簡単で部品
数が少なく、また、動作精度が高く移動動作を迅速に行
えるという利点を有しており、各ステージに要求される
スループットや位置決め精度の向上が図れるためであ
る。
【0005】ところで、電磁アクチュエータに用いられ
るコイルには、通電されるとコイル自身の内部抵抗によ
り発熱し、発生した熱が周辺機器に伝わって熱変形を起
こす可能性がある。また、周囲の空間に空気の揺らぎを
発生させ、光波干渉計の計測精度を低下させる可能性も
ある。そこで、上記のような電磁アクチュエータについ
ては、コイルの発熱を防止するために冷却のための様々
な工夫がなされている。冷却の方式としては、空冷、液
冷のほか、最近ではペルチェ素子等の冷却用素子を用い
る場合がある。
【0006】電磁アクチュエータのうち、回転型のモー
タの回転を直動変換して駆動対象物を駆動するものやリ
ニアモータを用いて駆動対象物を直線方向に駆動するも
のには、液冷による方式が適している。図8は液冷媒に
よる冷却方式が採用されたリニアモータの例を示す斜視
図である。リニアモータは、固定子1と図示しない可動
子とから構成されている。固定子1は、非磁性体の金属
あるいは樹脂等からなる固定子ベース2と、非磁性体の
材質からなる函型のキャン3とを備えている。キャン3
は、開口部を固定子ベース2に伏せた状態で固定されて
いる。キャン3の内部には、扁平コイル4がキャン3の
Y方向に離間する側壁部3a,3bと等しい間隔を空け
て平行に配置されている。
【0007】扁平コイル4は、キャン3のX方向に離間
する一方の側壁部3dにスペーサ6を介して固定される
とともにX方向に離間する他方の側壁部3eにスペーサ
7を介して固定されている。また、側壁部3dには、キ
ャン3内部の空間Sに冷媒を流入させるための流入口8
が設けられ、側壁部3eには、空間Sから冷媒を流出さ
せるための流出口9が設けられている。空間Sには、冷
却機構(図示略)から冷媒が供給されるようになってお
り、冷媒は空間S内を+X方向に流通するようになって
いる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】一般的に、リニアモー
タの推力性能を向上させるには、コイルの巻き数を増や
して有効線長を長くするか、あるいは磁束密度を高くす
ることが必要であるが、コイルの有効線長を長くするこ
とはコイルの発熱量を増大させることになる。そこで、
上記のように構成されたリニアモータでは、扁平コイル
4の巻き数を増やすと同時にキャン3を大型化して冷却
に十分な冷媒の流量を確保する等して冷却対策が施され
る。ところが、これによって推力性能の向上は図れるも
のの電磁アクチュエータ自体が大型化してしまうといっ
た問題があった。
【0009】また、従来のリニアモータでは、冷媒が空
間S内をX方向に向けて流れる過程で扁平コイル4から
熱を奪うので、空間S内における冷媒の温度は+X方向
に向かうほど高くなる。これにより、扁平コイル4に
は、空間Sを流れる冷媒との熱交換によって+X方向に
向かうほど温度が上昇する温度勾配が生じるので、扁平
コイル4が均一に冷却されない等、可動子1の冷却が効
率よく行えないといった問題があった。
【0010】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、電磁アクチュエータ全体を偏りなく均一に冷却
して局部的な発熱を防止するとともに冷却効率を向上さ
せることで、例えば露光装置において、電磁アクチュエ
ータの発熱を原因とする周辺機器の熱変形や光波干渉計
の計測精度の低下を防止して露光処理の高精度化を図る
ことを目的としている。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、電磁アクチュエータの冷却方法として次のような
構成を採用する。すなわち、作動状態において発熱する
発熱部(73,74)に、少なくとも異なる二方向に向
けてそれぞれ冷媒を流すのである。
【0012】この冷却方法によると、一方向に向けて流
れる冷媒には、発熱部との熱交換によって一方向に向け
て漸次温度が上昇する温度勾配が生じ、他方向に向けて
流れる冷媒には、やはり発熱部との熱交換によって他方
向に向けて漸次温度が上昇する温度勾配が生じる。そし
て、発熱部では、一方向に向けて流れる冷媒に生じた温
度勾配と他方向に向けて流れる冷媒に生じた温度勾配と
に基づき、冷媒との間で熱の授受が行われる。
【0013】発熱部との熱交換によって冷媒に生じる温
度勾配は、冷媒の下流ほど温度が高い状態となるので、
異なる二方向に向けてそれぞれ冷媒を流すことで、一方
向に向けて流れる冷媒の温度が高いところでは他方向に
向けて流れる冷媒の温度が低くなり、一方向に向けて流
れる冷媒の温度が低いところでは他方向に向けて流れる
冷媒の温度が低くなり、発熱部の各所において冷媒との
熱交換が偏りなく行われて均一な冷却が図られるのであ
る。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の第1実施形態を図1ない
し図6に示して説明する。図1は走査露光型の露光装置
の概略的な構成図である。この露光装置は、レーザユニ
ット10、レーザユニット10から射出されたレーザ光
を回路パターンが形成されたレチクルRに向けて照射す
る照明光学系20、レチクルRを保持するとともに所定
方向に走査するレチクルステージ30、照明光学系20
により照明されたレチクルRのパターン像を感光基板で
あるウェハWに縮小投影する投影光学系40、ウェハW
を保持するとともにXY平面内でXY2方向に走査する
ウェハステージ50、およびこれら各機器を制御する各
制御系等を備えている。
【0015】レーザユニット10は、ArFエキシマレ
ーザ等の発生源と複数の光学部材から構成されており、
レーザ光を伝送する鏡筒(図示略)を通じて照明光学系
20にレーザ光を照射するようになっている。
【0016】照明光学系20は、ミラー21、フライア
イレンズ、視野絞り(いずれも図示略)を含む複数の光
学部材から構成されている。レーザユニット10から照
射されたレーザ光はミラー21で反射された後、レチク
ルステージ30上に保持されたレチクルRの照明領域を
照明するようになっている。
【0017】レチクルステージ30は、載置されたレチ
クルRをX方向すなわち走査方向に駆動するリニアモー
タからなるレチクルステージ駆動機構(図示略)を備え
ている。また、レチクルステージ30には、位置検出装
置であるレーザ干渉計31から発せられるレーザ光を反
射する移動鏡32が固定されており、レチクルステージ
30のステージ移動面内の位置が、レーザ干渉計31に
よって、例えば0.5〜1.0nm程度の分解能で常時
検出されるようになっている。
【0018】レーザ干渉計31に検出されたレチクルス
テージ30の位置情報は、ステージ制御系90を介して
主制御系91に伝えられるようになっている。また、ス
テージ制御系90では、レチクルステージ30の位置情
報に基づき、主制御系91からの指示に応じてレチクル
ステージ駆動機構を作動させてレチクルステージ30を
走査方向に駆動するようになっている。
【0019】投影光学系40は、複数の投影レンズ(図
示略)から構成され、所定の投影倍率を有する縮小光学
系である。照明光学系20によりレチクルRの照明領域
が照明されると、投影光学系40を介してレチクルRの
パターン像の縮小像がウェハW上の被露光領域に形成さ
れるようになっている。
【0020】ウェハステージ50は、載置されたウェハ
WをXY方向すなわち走査方向にそれぞれ駆動するウェ
ハステージ駆動機構55を備えている。図2はウェハス
テージ駆動機構55の構成を示す斜視図である。ウェハ
ステージ駆動機構55は、上面が基準面とされた定盤5
6と、定盤56上に固定されたXガイド57と、定盤5
6上をXガイド57に沿ってX方向に移動可能に支持さ
れたX方向移動体58とを備えている。
【0021】Xガイド57は、定盤56のY方向端面の
近傍にX方向に沿って配置されており、+Y方向の側面
が基準面とされている。X方向移動体58は、Xガイド
57に近接して配置された第1のYガイド搬送体59
と、この第1のYガイド搬送体59からY方向に間隔を
開けて平行に配置された第2のYガイド搬送体60と、
これら第1、第2のYガイド搬送体59,60間にY方
向に向けて架設されたYガイド61とを備えている。
【0022】定盤56上には、X方向移動体58をX方
向に駆動する第1、第2のXリニアモータ62,63が
それぞれ設置されている。第1のXリニアモータ62
は、Xガイド57のY方向の側方にあってX方向に延設
された第1のX固定子62Aと、第1のX固定子62A
に沿ってX方向に移動する第1のX可動子62Bとを備
えている。第2のXリニアモータ63は、第2のYガイ
ド搬送体60のY方向の側方にあってX方向に延設され
た第2のX固定子63Aと、第2のX固定子63Bに沿
ってX方向に移動する第2のX可動子63Bとを備えて
いる。
【0023】第1のX可動子62Bは連結部材64を介
してYガイド61に固定され、第2のX可動子63Bは
連結部材65を介してYガイド61に固定されており、
X方向移動体58は第1、第2のX可動子62B,63
Bの移動によってX方向に駆動されるようになってい
る。
【0024】X方向移動体58上には、ウェハステージ
50をY方向に駆動する第1、第2のYリニアモータ6
6,67がそれぞれ設置されている。第1のYリニアモ
ータ66は、Yガイド61のX方向の一側方にあってY
方向に延設された第1のY固定子66Aと、第1のY固
定子66Aに沿ってY方向に移動する第1のY可動子6
6Bとを備えている。第2のYリニアモータ67は、Y
ガイド61のX方向の他側方にあってY方向に延設され
た第2のY固定子67Aと、第2のY固定子67Aに沿
ってY方向に移動する第2のY可動子(図示略)とを備
えている。
【0025】ウェハステージ50は、Yガイド61を上
下から挟むようにして定盤56の上面に配置された天板
68および底板69と、これら天板68と底板69とを
Yガイド61の両側で連結する一対のY方向軸受体7
0,70とを備え、Yガイド61に沿ってY方向に移動
可能に支持されている。
【0026】Y方向軸受体70,70には、前記第1の
Y可動子66B、第2のY可動子がそれぞれ固定されて
おり、ウェハステージ50は前記第1、第2のY可動子
66B,67Bの移動によってY方向に駆動されるよう
になっている。
【0027】天板68には、ウェハWを真空吸着する保
持機構(図示略)が設けられている。ウェハWは、実際
にはZ方向の移動およびX、Y、Z軸回りの回転が可能
なZレベリングステージ(図示略)を介して天板68上
に載置されている。また、天板68には、位置検出装置
であるX座標計測用レーザ干渉計51から発せられるレ
ーザ光を反射するX座標移動鏡52、位置検出装置であ
るY座標計測用レーザ干渉計53から発せられるレーザ
光を反射するY座標移動鏡54がそれぞれ固定されてお
り、ウェハステージ50のステージ移動面内の位置が、
X座標計測用レーザ干渉計51ならびにY座標計測用レ
ーザ干渉計53によって、例えば0.5〜1.0nm程
度の分解能で常時検出されるようになっている。
【0028】図1に戻り、X座標計測用レーザ干渉計5
1ならびにY座標計測用レーザ干渉計53に検出された
ウェハステージの位置情報は、ステージ制御系90を介
して主制御系91に伝えられるようになっている。ま
た、ステージ制御系90では、ウェハステージ50の位
置情報に基づき、主制御系91からの指示に応じて電流
制御機構92から第1、第2のXリニアモータ62,6
3、ならびに第1、第2のYリニアモータ66,67に
供給される電流の向きと大きさとを調整することにより
ウェハステージ駆動機構55を作動させてウェハステー
ジ50をXY方向に駆動するようになっている。
【0029】ところで、第1、第2のXリニアモータ6
2,63、ならびに第1、第2のYリニアモータ66,
67に電流が供給されると、各リニアモータが発熱する
ようになる。そのため、ステージ駆動機構55には、各
リニアモータを冷却するための冷却機構93が設けられ
ている。冷却機構93は、主制御系91からの指示に応
じて、フロリナート(住友スリーエム(株)製、フッ素
不活性液体)等の冷媒を各リニアモータに近接して流通
させ、発熱する部位との間で熱交換を行わせることによ
ってリニアモータに生じた熱を改修するようになってい
る。
【0030】次に、ウェハステージ駆動機構55に搭載
されている各リニアモータの構成について図3ないし図
5に示して説明する。なお、第1、第2のXリニアモー
タ62,63、ならびに第1、第2のYリニアモータ6
6,67はいずれもほぼ同様の構成であるので、ここで
は第1のXリニアモータ(以下、リニアモータ)62を
例に説明する。
【0031】上述のように、リニアモータ62は、第1
のX固定子(以下、固定子)62Aと第1のX可動子
(以下、可動子)62Bとから構成されている。図3は
固定子62Aの斜視図、図4は固定子62AをX方向か
ら見た側断面図である。固定子62Aは、非磁性体の金
属あるいは樹脂等からなる固定子ベース71と、非磁性
体の材質からなり中空の直方体の一面を開口させた形状
を有するキャン72とを備えている。キャン72は、開
口部を固定子ベース71に伏せた状態で固定されてい
る。キャン72の内部には、扁平コイル73,74が重
ね合わされ、キャン72のY方向に離間する側壁部72
a,72bと等しい間隔を空けて平行に配置されてい
る。
【0032】扁平コイル73,74は、表面を樹脂等で
固められて1枚の板状に形成されており、キャン72の
X方向に離間する一方の側壁部72dにスペーサ75を
介して固定されるとともにX方向に離間する他方の側壁
部72eにスペーサ76を介して固定されている。ま
た、扁平コイル73,74の上縁とキャン72の天井部
72cとの間、および扁平コイル73,74の下縁と固
定子ベース71との間には、キャン72の内部を扁平コ
イル73,74と一体となって側壁部72a側の空間S
aと側壁部72b側の空間Sbとに仕切る隔壁77,7
8が設けられている。さらに、隔壁77には扁平コイル
73,74の上縁との間を液密に保持する断面コ字型の
保持部77aが設けられ、隔壁78には扁平コイル7
3,74の下縁との間を液密に保持する断面コ字型の保
持部78aが設けられている。
【0033】また、側壁部72dには、空間Saに冷媒
を流入させるための流入口79aが設けられ、側壁部7
2eには、空間Saから冷媒を流出させるための流出口
80aが設けられている。さらに、側壁部72eには空
間Sbに冷媒を流入させるための流入口79bが設けら
れ、側壁部72dには空間Sbから冷媒を流出させるた
めの流出口80bが設けられている。
【0034】流入口79a,80aには、冷却機構93
から冷媒の供給を受ける冷媒配管がそれぞれ接続されて
おり、各空間Sa,Sbにはそれぞれ別系統を経て冷媒
が供給される。これにより、空間Saでは冷媒の流れが
+X方向に形成され、空間Sbでは冷媒の流れが−X方
向に形成されるようになっている。
【0035】図5は可動子62Bの斜視図である。可動
子62Bは、端面の形状がU字型でX方向に延在する磁
極ベース81と、磁極ベース81の空隙を隔てて互いに
対向する内壁の一方に埋め込まれた界磁磁石群82と、
互いに対向する内壁の他方に埋め込まれた界磁磁石群8
3とから構成されている。ここで、界磁磁石群82は、
露出磁極面がN極の界磁磁石82Nと、露出磁極面がS
極の界磁磁石82Sとがストローク方向に交互に配列さ
れて構成されている。また、界磁磁石群83は、露出磁
極面がS極の界磁磁石83Sと、露出磁極面がN極の界
磁磁石83Nとがストローク方向に交互に配列されて構
成されている。これにより、界磁磁石82Nと界磁磁石
83Sとが、また、界磁磁石82Sと界磁磁石83Nと
が、空隙を隔てて対向するように配置されている。
【0036】上記のように構成されたリニアモータ62
では、固定子62Aの各扁平コイル73,74に電流が
供給されると、各扁平コイル73,74に発生する電磁
力の反力によって可動子62Bが駆動される。このと
き、主制御系91は各扁平コイル73a,74Aからの
発熱を抑えるために冷却機構90に指示を出し、各空間
Sa,Sbに冷媒を供給する。
【0037】空間Sa側に存在する扁平コイル73は、
空間Saを流通する冷媒により冷却されるが、このとき
冷媒は空間Saを+X方向に流れる過程で扁平コイル7
3から熱を奪いながら移動するので、空間Sa内におけ
る冷媒の温度は+X方向に向かうほど高くなる。この状
態は冷媒が空間Sa内を一定速度で流れる限りにおいて
保たれる。これにより、扁平コイル73には、空間Sa
を流れる冷媒との熱交換によって+X方向に漸次温度が
上昇する温度勾配が生じる。
【0038】また、空間Sb側に存在する扁平コイル7
4は、空間Sbを流通する冷媒により冷却されるが、こ
のとき冷媒は空間Sbを−X方向に流れる過程で扁平コ
イル74から熱を奪いながら移動するので、空間Sb内
における冷媒の温度は−X方向に向かうほど高くなる。
この状態は冷媒が空間Sb内を一定速度で流れる限りに
おいて保たれる。これにより、扁平コイル74には、空
間Sbを流れる冷媒との熱交換によって−X方向に漸次
温度が上昇する温度勾配が生じる。
【0039】扁平コイル73に生じる温度勾配と扁平コ
イル74に生じる温度勾配とをX方向の各箇所において
比較すると、一方の温度が高い箇所では他方の温度が低
く、一方の温度が低い箇所では他方の温度が高いという
ように、双方の温度勾配が全く相反することがわかる。
【0040】ここで、扁平コイル73,74は互いに重
ね合わされるとともに表面を樹脂等で固められて1枚の
板状に形成されていることから、扁平コイル73,74
間では自在に熱交換が行われる。そのため、扁平コイル
73の温度が扁平コイル74に比較して高い箇所では扁
平コイル73の熱が扁平コイル74に奪われ、扁平コイ
ル73の温度が扁平コイル74に比較して低い箇所では
扁平コイル74の熱が扁平コイル73に奪われる。これ
により、扁平コイル73,74の温度上昇がX方向の各
箇所でほぼ均一となり、局部的に偏った発熱が起こらな
くなる。
【0041】さらに、空間Sa,Sb内を流れる冷媒の
温度が、X方向のいずれの箇所においても従来より低く
なることから、各箇所において扁平コイル73,74と
冷媒との温度差が大きくなるので、冷却効率が高まる。
【0042】図6は、固定子62AのX方向の各箇所に
おいて空間Saを流通する冷媒の温度と空間Sbを流通
する冷媒の温度とを比較した図である。図のように、空
間Saを流通する冷媒の温度は、流入口79aの近傍A
1において最も低く、扁平コイル73に沿って流れる過
程で上昇し、流出口80aの近傍A3において最も高く
なる。空間Sbを流通する冷媒の温度は、流入口79b
の近傍B1において最も低く、扁平コイル74に沿って
流れる過程で上昇し、流出口80bの近傍B3において
最も高くなる。また、空間SaのX方向のほぼ中央A2
における冷媒の温度は、空間SbのX方向のほぼ中央B
2における冷媒の温度とほぼ等しくなることがわかる。
そして、空間Sa,Sbを流れる冷媒との間で熱交換を
行うことにより、扁平コイル73,74の温度はX方向
の各箇所においてほぼ均一になることがわかる。
【0043】このため、リニアモータ62,63,6
6,67の発熱によるウェハW、ウェハステージ50の
熱変形を低減でき、干渉計51,53の測定誤差も減少
するので、レチクルRに形成された回路パターンを精度
よくウェハWに露光することができる。
【0044】本発明の第2実施形態を図7に示して説明
する。図7はリニアモータ62の固定子62Aを示す斜
視図であるが、第1実施形態において既に説明した構成
要素には同一符号を付してある。固定子62Aは、固定
子ベース71上に立設された状態で、側壁部72a,7
2bと等しい間隔を空けて平行に配置されている。ま
た、扁平コイル73,74の上縁と天井部72cとの間
には隔壁は設けられておらず、空間Sa,Sbとは扁平
コイル73,74の上部で連通している。
【0045】固定子ベース71には、空間Saに冷媒を
流入させるための流入口100が形成されるとともに、
空間Sbから冷媒を流出させるための流出口101が形
成されている。流入口100ならびに流出口101に
は、冷却機構90から冷媒の供給を受けてこれを循環さ
せる冷媒配管102が接続されており、空間Saでは冷
媒の流れが+Z方向に形成され、空間Sbでは冷媒の流
れが−Z方向に形成されるようになっている。
【0046】上記のように構成されたリニアモータ62
では、空間Sa側に存在する扁平コイル73は、空間S
aを流通する冷媒により冷却されるが、このとき冷媒は
空間Saを+Z方向に流れる過程で扁平コイル73から
熱を奪いながら移動するので、空間Sa内における冷媒
の温度は+Z方向に向かうほど高くなる。これにより、
扁平コイル73には、空間Saを流れる冷媒との熱交換
によって+Z方向に漸次温度が上昇する温度勾配が生じ
る。
【0047】また、空間Sb側に存在する扁平コイル7
4は、空間Saを経て空間Sbに流入する冷媒により冷
却されるが、このとき冷媒は空間Sbを−Z方向に流れ
る過程で扁平コイル74から熱を奪いながら移動するの
で、空間Sb内における冷媒の温度は−Z方向に向かう
ほど高くなる、これにより、扁平コイル74には、空間
Sbを流れる冷媒との熱交換によって−Z方向に漸次温
度が上昇する温度勾配が生じる。
【0048】この場合、冷媒の温度は、空間Saから空
間Sbにかけて流通する過程で漸次高くなるのである
が、扁平コイル73に生じる温度勾配と扁平コイル74
に生じる温度勾配とをX方向の各箇所において比較する
と、一方の温度が高い箇所では他方の温度が低く、一方
の温度が低い箇所では他方の温度が高いというように、
双方の温度勾配が全く相反する状態を示すことにかわり
ないことがわかる。したがって、第1実施形態の場合と
同様に、扁平コイル73,74の温度上昇がX方向の各
箇所でほぼ均一となるので、局部的に偏った発熱が起こ
らない。
【0049】上記の実施形態においては、リニアモータ
62を例に説明を進めたが、第2のXリニアモータ6
2、ならびに第1、第2のYリニアモータ66,67の
いずれにもこの構成が採用されており、同様の効果が得
られる。
【0050】また、上記の実施形態においては、ウェハ
ステージ駆動機構55に具備される各リニアモータにつ
いて説明したが、これらと同様の構成をレチクルステー
ジ駆動機構に採用することも可能である。この場合に
は、レチクルステージ30の周囲に熱により発生する空
気の揺らぎやレチクルステージ30を構成する部材の熱
変形を防止することができる。
【0051】また、本実施形態において説明したリニア
モータに限らず、作動状態において発熱部を有するボイ
スコイルモータ、ピエゾ素子等についても有効である。
同様に、2次元に磁石を配置した磁石ユニットと2次元
にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ、電磁
力によりステージを駆動する平面モータついて、その電
機子ユニットの冷却にも本実施形態の構成を適用するこ
とができる。
【0052】また、本発明は、紫外線を光源にする縮小
投影型露光装置、波長10nm前後の軟X線を光源にす
る縮小投影型露光装置、波長1nm前後の軟X線を光源
にするX線露光装置、EB(電子ビーム)やイオンビー
ムによる露光装置等、あらゆるウェハ露光装置、液晶露
光装置に適用できる。
【0053】本実施形態の露光装置は、多数の機械部品
からなるレチクルステージ30、ウェハステージ50を
組み立てるとともに、ウェハステージ50にウェハステ
ージ駆動機構55および冷却機構93を接続し、複数の
レンズから構成される投影光学系14の光学調整を行
い、さらに、総合調整(電気調整、動作確認等)を行う
ことにより製造することができる。なお、露光装置の製
造は室内温度やクリーン度等が管理されたクリーンルー
ム内で行うことが望ましい。
【0054】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る電磁
アクチュエータの冷却方法によれば、一方向に向けて流
れる冷媒に、発熱部との熱交換によって一方向に向けて
漸次温度が上昇する温度勾配が生じ、他方向に向けて流
れる冷媒には、やはり発熱部との熱交換によって他方向
に向けて漸次温度が上昇する温度勾配が生じる。そし
て、発熱部では、一方向に向けて流れる冷媒に生じた温
度勾配と他方向に向けて流れる冷媒に生じた温度勾配と
に基づき、冷媒との間で熱の授受が行われるので、発熱
部を偏りなく均一に冷却することができる。
【0055】本発明に係る電磁アクチュエータの冷却方
法においては、発熱部との熱交換によって冷媒に生じる
温度勾配は、冷媒の下流ほど温度が高い状態となるの
で、相反する二方向に向けてそれぞれ冷媒を流すこと
で、一方向に向けて流れる冷媒の温度が高いところでは
他方向に向けて流れる冷媒の温度が低くなり、一方向に
向けて流れる冷媒の温度が低いところでは他方向に向け
て流れる冷媒の温度が低くなり、発熱部の各所において
冷媒との熱交換が偏りなく行われてより均一に発熱部を
冷却することができる。
【0056】本発明に係る電磁アクチュエータによれ
ば、作動状態において生じる発熱部に、少なくとも異な
る二方向に向けて冷媒の流路をそれぞれ形成することに
より、一方向に向けて流れる冷媒に、発熱部との熱交換
によって一方向に向けて漸次温度が上昇する温度勾配が
生じ、他方向に向けて流れる冷媒には、やはり発熱部と
の熱交換によって他方向に向けて漸次温度が上昇する温
度勾配が生じる。そして、発熱部では、一方向に向けて
流れる冷媒に生じた温度勾配と他方向に向けて流れる冷
媒に生じた温度勾配とに基づき、冷媒との間で熱の授受
が行われるので、発熱部を偏りなく均一に冷却すること
ができる。
【0057】本発明に係る電磁アクチュエータによれ
ば、前記流路を、発熱部を収容するケース内において該
発熱部を挟んでその両側方に形成することで、一方の温
度勾配に見られる温度の低い箇所と他方の温度勾配に見
られる温度の高い箇所とが近接した位置に形成されて熱
の授受が行われるので、より均一に発熱部を冷却するこ
とができる。
【0058】本発明に係る電磁アクチュエータによれ
ば、流路の一方に、冷媒を一方向に流通させる第1の流
入口ならびに第1の流出口が設けられ、流路の他方に
は、冷媒を他方向に流通させる第2の流入口ならびに第
2の流出路が設けられることにより、第1の流入口から
第1の流出口に向けて冷媒が流通するとともに第2の流
入口から第2の流出口に向けて冷媒が流通し、発熱部の
両側方に異なる二方向に向けて冷媒の流れが形成される
ので、発熱部の両側方を流れる冷媒にに生じる温度勾配
に基づいて熱の授受を行わせることで、発熱部を偏りな
くかつ効率良く冷却することができる。
【0059】本発明に係る電磁アクチュエータによれ
ば、流路が前記発熱部を挟んで連通し、該流路の一方に
前記冷媒の流入口が形成され、前記流路の他方には前記
冷媒の流出口が設けられることにより、流入口から流入
した冷媒が発熱部の一側方に沿って流れ、さらに他側方
に沿って流れることで、発熱部の両側方に異なる二方向
に向けて冷媒の流れが形成されるので、発熱部の両側方
を流れる冷媒に生じる温度勾配に基づいて熱の授受を行
わせることで、発熱部を偏りなくかつ効率良く冷却する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る第1実施形態を示す図であっ
て、走査露光型の露光装置の概略構成図である。
【図2】 図1に示すウェハステージ駆動機構55の構
成を示す斜視図である。
【図3】 図2に示すリニアモータの固定子62Aの構
成を示す斜視図である。
【図4】 図3におけるIV-IV線矢視断面図である。
【図5】 図2に示すリニアモータの可動子62Bの構
成を示す斜視図である。
【図6】 固定子62AX方向の各箇所において空間S
aを流通する冷媒の温度と空間Sbを流通する冷媒の温
度とを比較した図表である。
【図7】 本発明に係る第2実施形態を示す図であっ
て、リニアモータの固定子62Aの構成を示す斜視図で
ある。
【図8】 従来の液冷媒による冷却方式が採用されたリ
ニアモータの構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
30 レチクルステージ 50 ウェハステージ 55 ウェハステージ駆動機構 62 第1のXリニアモータ 62A 固定子 62B 可動子 73,74 扁平コイル(発熱部) 79a,80a 流入口 79b,80b 流出口 93 冷却機構 Sa,Sb 空間 R レチクル W ウェハ
フロントページの続き Fターム(参考) 5H609 BB08 BB11 PP02 PP06 QQ05 QQ08 QQ12 RR27 RR32 RR42 5H641 BB06 BB12 GG02 GG07 HH03 JA07 JA10 JB05 JB10

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 作動状態において発熱部を有する電磁ア
    クチュエータの冷却方法であって、 前記発熱部に、少なくとも異なる二方向に向けてそれぞ
    れ冷媒を流すことを特徴とする電磁アクチュエータの冷
    却方法。
  2. 【請求項2】 前記二方向に向かう冷媒の一方を、他方
    に対して相反する方向に流すことを特徴とする請求項1
    記載の電磁アクチュエータの冷却方法。
  3. 【請求項3】 作動状態において発熱部を有する電磁ア
    クチュエータであって、前記発熱部に、少なくとも異な
    る二方向に向けて冷媒の流路がそれぞれ形成されること
    を特徴とする電磁アクチュエータ。
  4. 【請求項4】 前記流路が、前記発熱部を収容するケー
    ス内において該発熱部を挟んでその両側方に形成される
    ことを特徴とする請求項3記載の電磁アクチュエータ。
  5. 【請求項5】 前記流路の一方に前記冷媒を一方向に流
    通させる第1の流入口ならびに第1の流出口が設けら
    れ、前記流路の他方には前記冷媒を他方向に流通させる
    第2の流入口ならびに第2の流出路が設けられることを
    特徴とする請求項4記載の電磁アクチュエータ。
  6. 【請求項6】 前記流路が前記発熱部を挟んで連通し、
    該流路の一方に前記冷媒の流入口が形成され、前記流路
    の他方には前記冷媒の流出口が設けられることを特徴と
    する請求項4記載の電磁アクチュエータ。
JP11054815A 1999-03-02 1999-03-02 電磁アクチュエータの冷却方法および電磁アクチュエータ Pending JP2000253623A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11054815A JP2000253623A (ja) 1999-03-02 1999-03-02 電磁アクチュエータの冷却方法および電磁アクチュエータ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11054815A JP2000253623A (ja) 1999-03-02 1999-03-02 電磁アクチュエータの冷却方法および電磁アクチュエータ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000253623A true JP2000253623A (ja) 2000-09-14

Family

ID=12981207

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11054815A Pending JP2000253623A (ja) 1999-03-02 1999-03-02 電磁アクチュエータの冷却方法および電磁アクチュエータ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000253623A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100623535B1 (ko) 2003-04-18 2006-09-19 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. 액츄에이터 코일 냉각 시스템

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100623535B1 (ko) 2003-04-18 2006-09-19 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. 액츄에이터 코일 냉각 시스템

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6590355B1 (en) Linear motor device, stage device, and exposure apparatus
US6555936B1 (en) Flatmotor device and exposure device
JP3484684B2 (ja) ステージ装置及び走査型露光装置
KR100902644B1 (ko) 평면 모터 구동 지지체를 갖는 리소그래피 장치
US20060007415A1 (en) Exposure system and device production process
WO1999048192A1 (fr) Moteur plat, etage, dispositif d'exposition et son procede de fabrication, et dispositif et procede permettant de fabriquer lesdits elements
JP2001290543A (ja) 温度調節装置、温度調節装置を備える露光装置および半導体デバイス製造方法
US6835941B1 (en) Stage unit and its making method, and exposure apparatus and its making method
JP4088728B2 (ja) 平面モータ装置、駆動装置及び露光装置
US20100156198A1 (en) Shield layer plus refrigerated backside cooling for planar motors
JP2012009861A (ja) リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置の冷却方法
JP4590846B2 (ja) 磁気浮上式ステージ装置及び露光装置
JP2004146492A (ja) Euv露光装置
JP2005277030A (ja) ステージ装置および露光装置
JP2005276932A (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
JP4042073B2 (ja) 平面型モータ、ステージ装置、及び露光装置
JP2001008430A (ja) モータ装置、ステージ装置、及び露光装置
JP4432139B2 (ja) ステージ装置及び露光装置
JP2005295762A (ja) ステージ装置および露光装置
JP2004215419A (ja) リニアモータ、リニアモータの冷却方法及びステージ装置並びに露光装置
JP2001145328A (ja) リニアモータ並びにこれを用いたステージ装置及び露光装置
JP4623243B2 (ja) 電磁アクチュエータ及びステージ装置
JP2000253623A (ja) 電磁アクチュエータの冷却方法および電磁アクチュエータ
US20060232145A1 (en) System for cooling motors
JP2009027006A (ja) 断熱構造、断熱装置、ヒートシンク、駆動装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法。

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060221

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081120

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081202

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090407