JP2000243266A - 厚膜パターンの形成方法 - Google Patents
厚膜パターンの形成方法Info
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- JP2000243266A JP2000243266A JP4218499A JP4218499A JP2000243266A JP 2000243266 A JP2000243266 A JP 2000243266A JP 4218499 A JP4218499 A JP 4218499A JP 4218499 A JP4218499 A JP 4218499A JP 2000243266 A JP2000243266 A JP 2000243266A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマディスプレイパネル用背面板の障壁
のような、大面積で高精細のものを、品質的にも満足で
きるように、転写形成する厚膜パターンの形成方法を提
供する。 【解決手段】 転写用素材を、転写形成しようとする形
状に合わせた所定形状の凹部に充填して、これを目的と
する媒体(対象物)上に圧着して転写する転写版を用い
た、厚膜パターンの形成方法であって、転写版の凹部
に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、凹部に充填さ
れた転写用素材と媒体との間に弾性層(クッション層)
を設け、凹部に充填された転写用素材と媒体とを弾性層
を介して圧着した後、少なくとも、圧着されている転写
版部分と圧着されている媒体部分とを引き離して、転写
用素材を、転写版の凹部から媒体に、弾性層を介して転
写して、厚膜パターンを媒体上に形成する。
のような、大面積で高精細のものを、品質的にも満足で
きるように、転写形成する厚膜パターンの形成方法を提
供する。 【解決手段】 転写用素材を、転写形成しようとする形
状に合わせた所定形状の凹部に充填して、これを目的と
する媒体(対象物)上に圧着して転写する転写版を用い
た、厚膜パターンの形成方法であって、転写版の凹部
に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、凹部に充填さ
れた転写用素材と媒体との間に弾性層(クッション層)
を設け、凹部に充填された転写用素材と媒体とを弾性層
を介して圧着した後、少なくとも、圧着されている転写
版部分と圧着されている媒体部分とを引き離して、転写
用素材を、転写版の凹部から媒体に、弾性層を介して転
写して、厚膜パターンを媒体上に形成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、厚膜パターンの形
成方法に関する。
成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル(以
下PDPとも記す)は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
一般に、プラズマディスプレイパネル(PDP)は、2
枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一
対の電極を設け、その間にネオン、キセノン等を主体と
するガスを封入した構造となっている。そして、これら
の電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放
電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を
行うようにしている。特に情報表示をするためには、規
則的に並んだセルを選択的に放電発光させている。
下PDPとも記す)は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
一般に、プラズマディスプレイパネル(PDP)は、2
枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一
対の電極を設け、その間にネオン、キセノン等を主体と
するガスを封入した構造となっている。そして、これら
の電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放
電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を
行うようにしている。特に情報表示をするためには、規
則的に並んだセルを選択的に放電発光させている。
【0003】ここで、PDPの構成を、図10に示すA
C型PDPの1例を挙げて説明しておく。図10はPD
P構成斜視図であるが、分かり易くするため前面板(ガ
ラス基板610)、背面板(ガラス基板620)とを実
際より離して示してある。図10に示すように、2枚の
ガラス基板610、620が互いに平行に且つ対向して
配設されており、両者は背面板となるガラス基板620
上に互いに平行に設けられた障壁(セル障壁、あるいは
リブとも言う)630により、一定の間隔に保持されて
いる。1前面板となるガラス基板610の背面側には、
放電維持電極である透明電極640とバス電極である金
属電極650とで構成される複合電極が互いに平行に形
成され、これを覆って、誘電体層660が形成されてお
り、更にその上に保護層(MgO層)670が形成され
ている。また、背面板となるガラス基板620の前面側
には前記複合電極と直交するように障壁630間に位置
してアドレス電極680が互いに平行に形成されてお
り、更に障壁630の壁面とセル底面を覆うように螢光
面690が設けられている。障壁630は放電空間を区
画するためのもので、区画された各放電空間をセルない
し単位発光領域と言う。このAC型PDPは面放電型で
あって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、で
放電させる構造である。この場合、交流をかけているた
めに電界の向きは周波数に対応して変化する。そして、
この放電により生じる紫外線により螢光体690を発光
させ、前面板を透過する光を観察者が視認できるもので
ある。なお、DC型PDPにあっては、電極は誘電体層
で被膜されていない構造を有する点でAC型と相違する
が、その放電効果は同じである。また、図10に示すも
のは、ガラス基板620の一面に下地層667を設けそ
の上に誘電体層665を設けた構造となっているが、下
地層667、誘電体層665は必ずしも必要としない。
C型PDPの1例を挙げて説明しておく。図10はPD
P構成斜視図であるが、分かり易くするため前面板(ガ
ラス基板610)、背面板(ガラス基板620)とを実
際より離して示してある。図10に示すように、2枚の
ガラス基板610、620が互いに平行に且つ対向して
配設されており、両者は背面板となるガラス基板620
上に互いに平行に設けられた障壁(セル障壁、あるいは
リブとも言う)630により、一定の間隔に保持されて
いる。1前面板となるガラス基板610の背面側には、
放電維持電極である透明電極640とバス電極である金
属電極650とで構成される複合電極が互いに平行に形
成され、これを覆って、誘電体層660が形成されてお
り、更にその上に保護層(MgO層)670が形成され
ている。また、背面板となるガラス基板620の前面側
には前記複合電極と直交するように障壁630間に位置
してアドレス電極680が互いに平行に形成されてお
り、更に障壁630の壁面とセル底面を覆うように螢光
面690が設けられている。障壁630は放電空間を区
画するためのもので、区画された各放電空間をセルない
し単位発光領域と言う。このAC型PDPは面放電型で
あって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、で
放電させる構造である。この場合、交流をかけているた
めに電界の向きは周波数に対応して変化する。そして、
この放電により生じる紫外線により螢光体690を発光
させ、前面板を透過する光を観察者が視認できるもので
ある。なお、DC型PDPにあっては、電極は誘電体層
で被膜されていない構造を有する点でAC型と相違する
が、その放電効果は同じである。また、図10に示すも
のは、ガラス基板620の一面に下地層667を設けそ
の上に誘電体層665を設けた構造となっているが、下
地層667、誘電体層665は必ずしも必要としない。
【0004】ガラス基板620への障壁の形成方法とし
ては、従来、印刷法ないしサンドブラスト法が採られて
いた。印刷法の場合、ガラス基板に厚膜印刷法により障
壁形成用ペーストを所定のパターンに印刷し、これを乾
燥する。障壁の層厚は厚く(例えば100〜200μm
の厚さ)1回の厚膜印刷ではこの膜厚が得られないた
め、障壁形成用ペーストの印刷および乾燥は複数回行
う。所定の膜厚が得られた後、ペーストの焼成がなされ
る。サンドブラスト法の場合は、障壁形成材料をガラス
基板上に塗布し、更にこの上に所定のレジストパターン
を形成した後、研磨砂を吹きかけレジストパターンに対
応した形状に障壁形成材料を加工して、これを焼成して
障壁を形成する。しかし、印刷法の場合には、印刷を複
数回行うため手間がかかる上に、形成された障壁の形状
も均一なものが得られないと言う問題があり、サンドブ
ラスト法の場合には、サンドブラスト処理の均一な切削
性の確保や、粉塵の問題や、処理装置や処理部材(研磨
砂等)の維持が難しいという問題がある。
ては、従来、印刷法ないしサンドブラスト法が採られて
いた。印刷法の場合、ガラス基板に厚膜印刷法により障
壁形成用ペーストを所定のパターンに印刷し、これを乾
燥する。障壁の層厚は厚く(例えば100〜200μm
の厚さ)1回の厚膜印刷ではこの膜厚が得られないた
め、障壁形成用ペーストの印刷および乾燥は複数回行
う。所定の膜厚が得られた後、ペーストの焼成がなされ
る。サンドブラスト法の場合は、障壁形成材料をガラス
基板上に塗布し、更にこの上に所定のレジストパターン
を形成した後、研磨砂を吹きかけレジストパターンに対
応した形状に障壁形成材料を加工して、これを焼成して
障壁を形成する。しかし、印刷法の場合には、印刷を複
数回行うため手間がかかる上に、形成された障壁の形状
も均一なものが得られないと言う問題があり、サンドブ
ラスト法の場合には、サンドブラスト処理の均一な切削
性の確保や、粉塵の問題や、処理装置や処理部材(研磨
砂等)の維持が難しいという問題がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような状況のも
と、PDP用背面板の障壁のような、大面積で、高精細
のものを品質的にも満足でき、且つ簡単な方法で、形成
できる方法が求められていた。本発明は、これに対応す
るもので、プラズマディスプレイパネル用背面板の障壁
のような、大面積で高精細のものを、品質的にも満足で
きるように、転写形成する厚膜パターンの形成方法を提
供しようとするものである。
と、PDP用背面板の障壁のような、大面積で、高精細
のものを品質的にも満足でき、且つ簡単な方法で、形成
できる方法が求められていた。本発明は、これに対応す
るもので、プラズマディスプレイパネル用背面板の障壁
のような、大面積で高精細のものを、品質的にも満足で
きるように、転写形成する厚膜パターンの形成方法を提
供しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の厚膜パターンの
形成方法は、転写用素材を、転写形成しようとする形状
に合わせた所定形状の凹部に充填して、これを目的とす
る媒体(対象物)上に圧着して転写する転写版を用い
た、厚膜パターンの形成方法であって、転写版の凹部
に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、凹部に充填さ
れた転写用素材と媒体との間に弾性層を設け、凹部に充
填された転写用素材と媒体とを弾性層を介して圧着した
後、少なくとも、圧着されている転写版部分と圧着され
ている媒体部分とを引き離して、転写用素材を、転写版
の凹部から媒体に、弾性層を介して転写して、厚膜パタ
ーンを媒体上に形成するものであることを特徴とするも
のである。そして、上記において、弾性層は、シート状
で供給され、媒体側あるいは、転写用素材を充填した転
写版側にラミネートされて、転写版と媒体との間に設け
られることを特徴とするものである。そしてまた、上記
において、弾性層は、媒体にあるいは、転写用素材を充
填した転写版に、印刷あるいはコーティングされて、転
写版と媒体との間に設けられることを特徴とするもので
ある。
形成方法は、転写用素材を、転写形成しようとする形状
に合わせた所定形状の凹部に充填して、これを目的とす
る媒体(対象物)上に圧着して転写する転写版を用い
た、厚膜パターンの形成方法であって、転写版の凹部
に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、凹部に充填さ
れた転写用素材と媒体との間に弾性層を設け、凹部に充
填された転写用素材と媒体とを弾性層を介して圧着した
後、少なくとも、圧着されている転写版部分と圧着され
ている媒体部分とを引き離して、転写用素材を、転写版
の凹部から媒体に、弾性層を介して転写して、厚膜パタ
ーンを媒体上に形成するものであることを特徴とするも
のである。そして、上記において、弾性層は、シート状
で供給され、媒体側あるいは、転写用素材を充填した転
写版側にラミネートされて、転写版と媒体との間に設け
られることを特徴とするものである。そしてまた、上記
において、弾性層は、媒体にあるいは、転写用素材を充
填した転写版に、印刷あるいはコーティングされて、転
写版と媒体との間に設けられることを特徴とするもので
ある。
【0007】また、上記において、媒体がプラズマディ
スプレイパネル用背面板で、厚膜パターンが障壁部であ
ることを特徴とするもので、弾性層は、誘電体層である
ことを特徴とするものであり、該弾性層は、5〜50μ
mの弾性歪みを吸収できるものであることを特徴とする
ものである。
スプレイパネル用背面板で、厚膜パターンが障壁部であ
ることを特徴とするもので、弾性層は、誘電体層である
ことを特徴とするものであり、該弾性層は、5〜50μ
mの弾性歪みを吸収できるものであることを特徴とする
ものである。
【0008】また、上記における弾性層は、粘着性を有
するものであることを特徴とするものであり、該弾性層
は、タック性を有するものであることを特徴とするもの
である。また、上記において、弾性用素材は、溶剤を含
まないものであることを特徴とするものである。尚、タ
ック性とは、粘着剤の主要性質の一つで、軽い力で短時
間に被着材に粘着する性質を言う。
するものであることを特徴とするものであり、該弾性層
は、タック性を有するものであることを特徴とするもの
である。また、上記において、弾性用素材は、溶剤を含
まないものであることを特徴とするものである。尚、タ
ック性とは、粘着剤の主要性質の一つで、軽い力で短時
間に被着材に粘着する性質を言う。
【0009】また、上記において、転写用素材は、光等
のエネルギーにより硬化する硬化性を有するものであ
り、凹部に充填された転写用素材を光等のエネルギーで
硬化させた後、弾性層を介して媒体と圧着し、主として
弾性層の粘着力の作用により転写用素材を媒体に転写す
ることを特徴とするものである。また、上記において、
転写用素材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性
を有するものであり、凹部に充填された転写用素材と媒
体とを弾性層を介して圧着した状態で、光等のエネルギ
ーにより転写用素材を硬化する硬化処理を施すことを特
徴とするものである。あるいはまた、上記において、転
写用素材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を
有するものであり、凹部に充填された転写用素材を光等
のエネルギーによりで硬化させた後、弾性層を介して媒
体と圧着した状態で、再度、光等のエネルギーで転写用
素材を硬化させ、転写用素材を媒体に転写することを特
徴とするものである。そして、上記における弾性層は、
光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有するもので
あり、弾性層を介して媒体と圧着した状態で、光等のエ
ネルギーで弾性層を硬化させ、(転写用素材と弾性層と
を一体化させ、)転写用素材を媒体に転写することを特
徴とするものである。また、上記において、転写用素材
は、光等のエネルギーにより硬化して、0.01〜10
%の体積収縮をするものであることを特徴とするもので
ある。また、上記において、転写用素材は、溶剤を含ま
ないものであることを特徴とするものである。
のエネルギーにより硬化する硬化性を有するものであ
り、凹部に充填された転写用素材を光等のエネルギーで
硬化させた後、弾性層を介して媒体と圧着し、主として
弾性層の粘着力の作用により転写用素材を媒体に転写す
ることを特徴とするものである。また、上記において、
転写用素材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性
を有するものであり、凹部に充填された転写用素材と媒
体とを弾性層を介して圧着した状態で、光等のエネルギ
ーにより転写用素材を硬化する硬化処理を施すことを特
徴とするものである。あるいはまた、上記において、転
写用素材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を
有するものであり、凹部に充填された転写用素材を光等
のエネルギーによりで硬化させた後、弾性層を介して媒
体と圧着した状態で、再度、光等のエネルギーで転写用
素材を硬化させ、転写用素材を媒体に転写することを特
徴とするものである。そして、上記における弾性層は、
光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有するもので
あり、弾性層を介して媒体と圧着した状態で、光等のエ
ネルギーで弾性層を硬化させ、(転写用素材と弾性層と
を一体化させ、)転写用素材を媒体に転写することを特
徴とするものである。また、上記において、転写用素材
は、光等のエネルギーにより硬化して、0.01〜10
%の体積収縮をするものであることを特徴とするもので
ある。また、上記において、転写用素材は、溶剤を含ま
ないものであることを特徴とするものである。
【0010】
【作用】本発明の厚膜パターンの形成方法は、このよう
な構成にすることにより、PDP用背面板の障壁のよう
な、大面積で、高精細のものを、品質的にも満足できる
ように、目的とする媒体上に転写形成することを可能と
する厚膜パターンの形成方法の提供を可能としている。
具体的には、転写用素材を、転写形成しようとする形状
に合わせた所定形状の凹部に充填して、これを目的とす
る媒体(対象物)上に圧着して転写する転写版を用い
た、厚膜パターンの形成方法であって、転写版の凹部
に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、凹部に充填さ
れた転写用素材と媒体との間に弾性層を設け、凹部に充
填された転写用素材と媒体とを弾性層を介して圧着した
後、少なくとも、圧着されている転写版部分と圧着され
ている媒体部分とを引き離して、転写用素材を、転写版
の凹部から媒体に、弾性層を介して転写して、厚膜パタ
ーンを媒体上に形成するものであることにより、これを
達成している。即ち、転写版は、フォトリソ法の応用等
により、大面積で、高精細に作製することが可能で、転
写用素材を大面積で高精細に転写版の凹部へ形成するこ
とができ、且つ、転写用素材を転写版から媒体に、弾性
層を介して転写することにより、転写を確実に行うこと
を可能としている。
な構成にすることにより、PDP用背面板の障壁のよう
な、大面積で、高精細のものを、品質的にも満足できる
ように、目的とする媒体上に転写形成することを可能と
する厚膜パターンの形成方法の提供を可能としている。
具体的には、転写用素材を、転写形成しようとする形状
に合わせた所定形状の凹部に充填して、これを目的とす
る媒体(対象物)上に圧着して転写する転写版を用い
た、厚膜パターンの形成方法であって、転写版の凹部
に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、凹部に充填さ
れた転写用素材と媒体との間に弾性層を設け、凹部に充
填された転写用素材と媒体とを弾性層を介して圧着した
後、少なくとも、圧着されている転写版部分と圧着され
ている媒体部分とを引き離して、転写用素材を、転写版
の凹部から媒体に、弾性層を介して転写して、厚膜パタ
ーンを媒体上に形成するものであることにより、これを
達成している。即ち、転写版は、フォトリソ法の応用等
により、大面積で、高精細に作製することが可能で、転
写用素材を大面積で高精細に転写版の凹部へ形成するこ
とができ、且つ、転写用素材を転写版から媒体に、弾性
層を介して転写することにより、転写を確実に行うこと
を可能としている。
【0011】弾性層の形成方法としては、シート状で供
給され、媒体側あるいは、転写用素材を充填した転写版
側にラミネートされて、転写版と媒体との間に設けられ
る方法、あるいは、媒体にあるいは転写用素材を充填し
た転写版に、印刷あるいはコーティングされて、転写版
と媒体との間に設けられる方法が、量産性に向く方法と
して挙げられる。
給され、媒体側あるいは、転写用素材を充填した転写版
側にラミネートされて、転写版と媒体との間に設けられ
る方法、あるいは、媒体にあるいは転写用素材を充填し
た転写版に、印刷あるいはコーティングされて、転写版
と媒体との間に設けられる方法が、量産性に向く方法と
して挙げられる。
【0012】媒体がプラズマディスプレイパネル用背面
板で、形成する厚膜パターンが障壁部である場合にも適
用でき、特に、弾性層は、誘電体層とすると有効であ
る。この場合、弾性層は、5〜50μmの弾性歪みを吸
収できるものであることにより、転写版の障壁形成用の
転写用素材の充填バラツキを吸収でき、且つ、転写版の
凹部のパチツキや背面板の平坦精度バラツキにも充分対
応できる。
板で、形成する厚膜パターンが障壁部である場合にも適
用でき、特に、弾性層は、誘電体層とすると有効であ
る。この場合、弾性層は、5〜50μmの弾性歪みを吸
収できるものであることにより、転写版の障壁形成用の
転写用素材の充填バラツキを吸収でき、且つ、転写版の
凹部のパチツキや背面板の平坦精度バラツキにも充分対
応できる。
【0013】そして、弾性層が、粘着性を有するもので
あることにより、転写を容易とでき、特に、弾性層が、
タック性を有するものであることにより、作業性をより
し易いものとしている。また、転写用素材は、光等のエ
ネルギーにより硬化する硬化性を有するものであって、
凹部に充填された転写用素材を光等のエネルギーで硬化
させた後、弾性層を介して媒体と圧着し、主として弾性
層の粘着力の作用により転写用素材を媒体に転写するこ
とにより、あるいは、凹部に充填された転写用素材と媒
体とを弾性層を介して圧着した状態で、光等のエネルギ
ーにより転写用素材を硬化する硬化処理を施すことによ
り、あるいはまた、凹部に充填された転写用素材を光等
のエネルギーによりで硬化させた後、弾性層を介して媒
体と圧着した状態で、再度、光等のエネルギーで転写用
素材を硬化させ、転写用素材を媒体に転写することによ
り、確実に転写できるものとしている。更に、弾性層
は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有するも
のであり、弾性層を介して媒体と圧着した状態で、光等
のエネルギーで弾性層を硬化させ、転写用素材と弾性層
とを一体化させ、転写用素材を媒体に転写することによ
り、より確実性の高い転写を可能とする。特に、転写用
素材が、光等のエネルギーにより硬化して、0.01〜
10%の体積収縮をするものである場合には、転写版の
凹部から転写用素材がとれ易く、より転写性の良いもの
とできる。また、転写用素材が、溶剤を含まないもので
あることにより、転写版の凹部へ転写用素材を充填後、
乾燥を必要とせず、工程を短かいものとできる。
あることにより、転写を容易とでき、特に、弾性層が、
タック性を有するものであることにより、作業性をより
し易いものとしている。また、転写用素材は、光等のエ
ネルギーにより硬化する硬化性を有するものであって、
凹部に充填された転写用素材を光等のエネルギーで硬化
させた後、弾性層を介して媒体と圧着し、主として弾性
層の粘着力の作用により転写用素材を媒体に転写するこ
とにより、あるいは、凹部に充填された転写用素材と媒
体とを弾性層を介して圧着した状態で、光等のエネルギ
ーにより転写用素材を硬化する硬化処理を施すことによ
り、あるいはまた、凹部に充填された転写用素材を光等
のエネルギーによりで硬化させた後、弾性層を介して媒
体と圧着した状態で、再度、光等のエネルギーで転写用
素材を硬化させ、転写用素材を媒体に転写することによ
り、確実に転写できるものとしている。更に、弾性層
は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有するも
のであり、弾性層を介して媒体と圧着した状態で、光等
のエネルギーで弾性層を硬化させ、転写用素材と弾性層
とを一体化させ、転写用素材を媒体に転写することによ
り、より確実性の高い転写を可能とする。特に、転写用
素材が、光等のエネルギーにより硬化して、0.01〜
10%の体積収縮をするものである場合には、転写版の
凹部から転写用素材がとれ易く、より転写性の良いもの
とできる。また、転写用素材が、溶剤を含まないもので
あることにより、転写版の凹部へ転写用素材を充填後、
乾燥を必要とせず、工程を短かいものとできる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を挙げ、図に
基づいて説明する。図1は本発明の厚膜パターンの形成
方法の実施の形態の第1の例の工程断面図で、図2は転
写版の凹部への転写用素材の充填方法を説明するための
概略断面図で、図3は媒体上へ弾性層を形成する方法を
示した断面図で、図4は転写用版と媒体との密着の仕方
を示した断面図で、図5は密着した転写版と媒体とを離
す仕方(脱型とも言う)を示した断面図で、図6は転写
版の形態を示した概略図で、図7は本発明の厚膜パター
ンの形成方法の実施の形態の第4の例を説明するための
断面図で、図8は実施の形態の第5の例を説明するため
の断面図で、図9は転写版の製造方法の1例を示した工
程図で、図11は本発明の厚膜パターンの形成方法の実
施の形態の第2の例を説明するための工程断面図で、図
12は実施の形態の第3の例を説明するための工程断面
図である。図1〜図8、図11、図12中、110は転
写版、115は凹部、120は転写用素材、120Aは
障壁、130は媒体(転写する対象物)、140は弾性
層、140Aは弾性層用素材、150は紫外線(UV
光)、160、165はスキージ、170は(押圧)ロ
ール、180は(弾力性)スペーサ 、185は(押
圧)ロール、190は回転カム、210は転写版、21
5は凹部(溝)、220、225はスキージ、230は
光源、235はミラー、240は転写用素材供給用ロー
ル、250は転写用素材入れ容器である。
基づいて説明する。図1は本発明の厚膜パターンの形成
方法の実施の形態の第1の例の工程断面図で、図2は転
写版の凹部への転写用素材の充填方法を説明するための
概略断面図で、図3は媒体上へ弾性層を形成する方法を
示した断面図で、図4は転写用版と媒体との密着の仕方
を示した断面図で、図5は密着した転写版と媒体とを離
す仕方(脱型とも言う)を示した断面図で、図6は転写
版の形態を示した概略図で、図7は本発明の厚膜パター
ンの形成方法の実施の形態の第4の例を説明するための
断面図で、図8は実施の形態の第5の例を説明するため
の断面図で、図9は転写版の製造方法の1例を示した工
程図で、図11は本発明の厚膜パターンの形成方法の実
施の形態の第2の例を説明するための工程断面図で、図
12は実施の形態の第3の例を説明するための工程断面
図である。図1〜図8、図11、図12中、110は転
写版、115は凹部、120は転写用素材、120Aは
障壁、130は媒体(転写する対象物)、140は弾性
層、140Aは弾性層用素材、150は紫外線(UV
光)、160、165はスキージ、170は(押圧)ロ
ール、180は(弾力性)スペーサ 、185は(押
圧)ロール、190は回転カム、210は転写版、21
5は凹部(溝)、220、225はスキージ、230は
光源、235はミラー、240は転写用素材供給用ロー
ル、250は転写用素材入れ容器である。
【0015】はじめに、本発明の厚膜パターンの形成方
法の実施の形態の第1の例を図1を基に説明する。本例
は、平坦な転写版を用いてPDP用背面板上に障壁を形
成する方法の例で、媒体としては透明なガラス基板を用
い、転写用素材として紫外線硬化型のものを用いた場合
の例である。障壁形成用素材である転写用素材を、転写
版の、転写形成しようとする形状に合わせた所定形状の
凹部に充填して、これをPDP用背面板上に圧着して転
写する厚膜パターンの形成方法である。簡単には、転写
版の凹部に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、転写
用素材充填側を媒体側にして、且つ、転写版と媒体との
間に弾性層を設けて、転写版と媒体とを圧着させ、この
後、転写版と媒体とを引き離して、厚膜パターンの転写
用素材を、転写版から媒体に、弾性層を介して転写し
て、厚膜パターンを媒体上に形成するものである。先
ず、転写版110を用意し(図1(a))、凹部115
に転写用素材120を充填する。転写版としては、後述
する図9に示す工程で作製された転写版(図9の30
0)等を使用することができる。凹部115への転写用
素材の充填は、図2に示すように、スキージ160に
て、凹部115以外に付着した転写用素材120をかき
取りながらスキージ160を矢印の方向に移動させて、
凹部115のみに転写用素材120を充填する。(図1
(b)) 次いで、転写版110の転写用素材120充填側を媒体
130側にして、且つ、転写版110と媒体130との
間に弾性層140を設けて、転写版110と媒体130
とを圧着した後、紫外線150を露光し、充填されてい
る障壁形成用の転写用素材120を硬化する。(図1
(c)) 転写版110と媒体130との圧着は、例えば、図3
(a)に示すように、シート状で供給された弾性層14
0を、(押圧)ロール170を用いて、背面板である媒
体130側にラミネートした状態で、あるいは、図3
(b)に示すように、スキージ165により、背面板で
ある媒体130側に塗布し、乾燥した状態で、転写版1
10と媒体130とを圧着させて行う。勿論、圧着前、
弾性層140を、転写版側に、図3(a)や図3(b)
に示す方法を用いて形成しても良い。
法の実施の形態の第1の例を図1を基に説明する。本例
は、平坦な転写版を用いてPDP用背面板上に障壁を形
成する方法の例で、媒体としては透明なガラス基板を用
い、転写用素材として紫外線硬化型のものを用いた場合
の例である。障壁形成用素材である転写用素材を、転写
版の、転写形成しようとする形状に合わせた所定形状の
凹部に充填して、これをPDP用背面板上に圧着して転
写する厚膜パターンの形成方法である。簡単には、転写
版の凹部に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、転写
用素材充填側を媒体側にして、且つ、転写版と媒体との
間に弾性層を設けて、転写版と媒体とを圧着させ、この
後、転写版と媒体とを引き離して、厚膜パターンの転写
用素材を、転写版から媒体に、弾性層を介して転写し
て、厚膜パターンを媒体上に形成するものである。先
ず、転写版110を用意し(図1(a))、凹部115
に転写用素材120を充填する。転写版としては、後述
する図9に示す工程で作製された転写版(図9の30
0)等を使用することができる。凹部115への転写用
素材の充填は、図2に示すように、スキージ160に
て、凹部115以外に付着した転写用素材120をかき
取りながらスキージ160を矢印の方向に移動させて、
凹部115のみに転写用素材120を充填する。(図1
(b)) 次いで、転写版110の転写用素材120充填側を媒体
130側にして、且つ、転写版110と媒体130との
間に弾性層140を設けて、転写版110と媒体130
とを圧着した後、紫外線150を露光し、充填されてい
る障壁形成用の転写用素材120を硬化する。(図1
(c)) 転写版110と媒体130との圧着は、例えば、図3
(a)に示すように、シート状で供給された弾性層14
0を、(押圧)ロール170を用いて、背面板である媒
体130側にラミネートした状態で、あるいは、図3
(b)に示すように、スキージ165により、背面板で
ある媒体130側に塗布し、乾燥した状態で、転写版1
10と媒体130とを圧着させて行う。勿論、圧着前、
弾性層140を、転写版側に、図3(a)や図3(b)
に示す方法を用いて形成しても良い。
【0016】転写版110と媒体130との圧着は、図
4(a)に示すように、転写版110と媒体130とを
スペーサ180により密閉し、減圧排気して、両者間の
圧を大気中より低して、密着した転写版110と媒体1
30とを充分に圧着する方法や、(押圧)ロール185
を用い、密着した転写版110と媒体130とを充分に
圧着する方法が採られる。
4(a)に示すように、転写版110と媒体130とを
スペーサ180により密閉し、減圧排気して、両者間の
圧を大気中より低して、密着した転写版110と媒体1
30とを充分に圧着する方法や、(押圧)ロール185
を用い、密着した転写版110と媒体130とを充分に
圧着する方法が採られる。
【0017】障壁形成用の転写用素材120を硬化した
後、転写版110と媒体130とを引き離して、転写用
素材を、転写版110から媒体130に、弾性層140
を介して転写して、厚膜パターンである障壁120Aを
媒体130上に形成する。(図1(d)) 転写版110と媒体130との引き離しは、例えば、減
圧排気を止めた状態で、図5に示すように、(回転)カ
ム190を用いて、両者間に隙間を作り大気圧を利用し
て行うことができる。
後、転写版110と媒体130とを引き離して、転写用
素材を、転写版110から媒体130に、弾性層140
を介して転写して、厚膜パターンである障壁120Aを
媒体130上に形成する。(図1(d)) 転写版110と媒体130との引き離しは、例えば、減
圧排気を止めた状態で、図5に示すように、(回転)カ
ム190を用いて、両者間に隙間を作り大気圧を利用し
て行うことができる。
【0018】本例の転写用素材120は紫外線硬化型で
あるが、転写用素材を適宜選び、他のエネルギーによ
り、硬化するようにしても良い。転写用素材120とし
ては、硬化により、0.01〜10%の体積収縮をする
ものが、転写性の面から特に好ましい。また、転写用素
材120としては、溶剤を含まないものが、転写版11
0の凹部115へ転写用素材120を充填後、乾燥を必
要とせず、工程を短かいものとでき、好ましい。具体的
には、後述するように、ガラスフリットを含む無機成分
と、焼成除去可能な有機成分を少なくとも含有するもの
が適用できる。
あるが、転写用素材を適宜選び、他のエネルギーによ
り、硬化するようにしても良い。転写用素材120とし
ては、硬化により、0.01〜10%の体積収縮をする
ものが、転写性の面から特に好ましい。また、転写用素
材120としては、溶剤を含まないものが、転写版11
0の凹部115へ転写用素材120を充填後、乾燥を必
要とせず、工程を短かいものとでき、好ましい。具体的
には、後述するように、ガラスフリットを含む無機成分
と、焼成除去可能な有機成分を少なくとも含有するもの
が適用できる。
【0019】本例の場合、弾性層140は、誘電体層で
あり、転写版110の障壁形成用の転写用素材120の
充填バラツキを吸収するため、および、転写版110の
凹部のバラツキや背面板の平坦精度バラツキにも充分に
対応できるようにするため、弾性層140は、5〜50
μmの弾性歪みを吸収できるものを適宜選ぶ弾性層14
0は、転写性や作業性の面から粘着性を有するものが良
く、特に、タック性を有するものが好ましい。具体的に
は、後述するように、ガラスフリットを含む無機成分
と、焼成除去可能な有機成分、を少なくとも含有するも
のが適用できる。
あり、転写版110の障壁形成用の転写用素材120の
充填バラツキを吸収するため、および、転写版110の
凹部のバラツキや背面板の平坦精度バラツキにも充分に
対応できるようにするため、弾性層140は、5〜50
μmの弾性歪みを吸収できるものを適宜選ぶ弾性層14
0は、転写性や作業性の面から粘着性を有するものが良
く、特に、タック性を有するものが好ましい。具体的に
は、後述するように、ガラスフリットを含む無機成分
と、焼成除去可能な有機成分、を少なくとも含有するも
のが適用できる。
【0020】以下、転写用素材120について述べる。
転写用素材120は、以下に記載するような、ガラスフ
リットを含む無機成分(1)と焼成除去可能な有機成分
(2)を少なくとも含有するものが適用できる。 (1)無機成分 上記のガラスフリットとしては、例えば、軟化温度が3
50〜650℃であり、熱膨張係数α300 が60×10
-7〜100×10-7/℃であろガラスフリットを使用す
ることができる。ガラスフリットの軟化温度が650℃
を超えると焼成温度を高くする必要があり、例えば、被
パターン形成体の耐熱性か低い場合には焼成段階で熱変
形を生じることになり好ましくない。また、ガラスフリ
ットの軟化温度が350℃未満では、焼成により有機成
分が完全に分解、揮発して除去される前にガラスフリッ
トが融着するため、空隙を生しやすく好ましくない。さ
らに、ガラスフリットの熟膨張係数α300 が60×10
-7/℃未満、あるいは、100×10-7/℃を超える
と、被パターン形成体の熱膨張係数との差が大きくなり
すぎる場合があり、歪み等を生じることになり好ましく
ない。このようなガラスフリットの平均粒径は0.1〜
10μmの範囲か好ましい。このようなガラスフリット
としては、例えばBi2 03 、ZnOまたはPbOを主
成分とするガラスフリットを使用することかてきる。
転写用素材120は、以下に記載するような、ガラスフ
リットを含む無機成分(1)と焼成除去可能な有機成分
(2)を少なくとも含有するものが適用できる。 (1)無機成分 上記のガラスフリットとしては、例えば、軟化温度が3
50〜650℃であり、熱膨張係数α300 が60×10
-7〜100×10-7/℃であろガラスフリットを使用す
ることができる。ガラスフリットの軟化温度が650℃
を超えると焼成温度を高くする必要があり、例えば、被
パターン形成体の耐熱性か低い場合には焼成段階で熱変
形を生じることになり好ましくない。また、ガラスフリ
ットの軟化温度が350℃未満では、焼成により有機成
分が完全に分解、揮発して除去される前にガラスフリッ
トが融着するため、空隙を生しやすく好ましくない。さ
らに、ガラスフリットの熟膨張係数α300 が60×10
-7/℃未満、あるいは、100×10-7/℃を超える
と、被パターン形成体の熱膨張係数との差が大きくなり
すぎる場合があり、歪み等を生じることになり好ましく
ない。このようなガラスフリットの平均粒径は0.1〜
10μmの範囲か好ましい。このようなガラスフリット
としては、例えばBi2 03 、ZnOまたはPbOを主
成分とするガラスフリットを使用することかてきる。
【0021】また、転写用素材120は、無機粉体とし
て酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、
酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンすウ
ム、酸化バリウム、炭酸カルシウム等の無機粉体をガラ
スフリット100重量部に対して30重量部以下の範囲
で含有することができる。このような無機粉体は、平均
粒径が0.1〜10μmの範囲が好ましく、骨材として
焼成時のパターン流延防止の作用をなし、また、反射率
や誘電率を制御する作用をなすものである。
て酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、
酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンすウ
ム、酸化バリウム、炭酸カルシウム等の無機粉体をガラ
スフリット100重量部に対して30重量部以下の範囲
で含有することができる。このような無機粉体は、平均
粒径が0.1〜10μmの範囲が好ましく、骨材として
焼成時のパターン流延防止の作用をなし、また、反射率
や誘電率を制御する作用をなすものである。
【0022】また、形成したパターンの外光反射を低減
するために、無機粉体として耐火性の黒色顔料あるいは
白色顔料を転写用素材120に含有させることができ
る。耐火性の黒色顔料としては、Co−Cr−Fe、C
o−Mn−Fe、Co−Fe−Mn−Al、Co−Ni
−Cr−Fe、Co−Ni−Mn−Cr−Fe、Co−
Ni−Al−Cr−Fe、Co−Mn−Al−Cr−F
e−Si等を挙げることができる。また、耐火性の白色
顔料としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、シリ
カ、炭酸カルシウム等が挙げられる。
するために、無機粉体として耐火性の黒色顔料あるいは
白色顔料を転写用素材120に含有させることができ
る。耐火性の黒色顔料としては、Co−Cr−Fe、C
o−Mn−Fe、Co−Fe−Mn−Al、Co−Ni
−Cr−Fe、Co−Ni−Mn−Cr−Fe、Co−
Ni−Al−Cr−Fe、Co−Mn−Al−Cr−F
e−Si等を挙げることができる。また、耐火性の白色
顔料としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、シリ
カ、炭酸カルシウム等が挙げられる。
【0023】(2)有機成分 転写用素材120に含有される焼成除去可能な有機成分
として、熱可塑性樹脂を使用することができる。
として、熱可塑性樹脂を使用することができる。
【0024】熱可塑性樹脂は、上述の無機成分のバイン
ダとして、また、転写性の向上を目的として含有させる
ものであり、例えば、メチルアクリレート、メチルメタ
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、n−プロピルアクリレート、n−プロピルノタクリ
レート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタ
クリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタ
クリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタ
クリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチル
メタクリレート、n−ペンチルアクリレート、n−ペン
チルメタクリレート、n−へキシルアクリレート、n−
ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、2−エチルヘキシルメタクリレート、n−オクチ
ルアクリレート、n−オクチルメタクリレート、n−デ
シルアクリレート、n−デシルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α
−メチルスチレン、N−ビニル−2−ピロリドン等の1
種以上からなるポリマーまたはコポリマー、エチルセル
ロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。
ダとして、また、転写性の向上を目的として含有させる
ものであり、例えば、メチルアクリレート、メチルメタ
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、n−プロピルアクリレート、n−プロピルノタクリ
レート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタ
クリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタ
クリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタ
クリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチル
メタクリレート、n−ペンチルアクリレート、n−ペン
チルメタクリレート、n−へキシルアクリレート、n−
ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、2−エチルヘキシルメタクリレート、n−オクチ
ルアクリレート、n−オクチルメタクリレート、n−デ
シルアクリレート、n−デシルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α
−メチルスチレン、N−ビニル−2−ピロリドン等の1
種以上からなるポリマーまたはコポリマー、エチルセル
ロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。
【0025】特に、上記のなかでメチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、n−プロピルアクリレート、nープロピ
ルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプ
ロピルメククリレート、n−ブチルアクリレート、n−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレートの1種以上からなるポリマーまたは
コポリマー、エチルセルロースが好ましい。
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、n−プロピルアクリレート、nープロピ
ルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプ
ロピルメククリレート、n−ブチルアクリレート、n−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレートの1種以上からなるポリマーまたは
コポリマー、エチルセルロースが好ましい。
【0026】上記の熱可塑性樹脂の分子量は、10,0
00〜500,000の範囲が好ましい。
00〜500,000の範囲が好ましい。
【0027】また、転写用素材120に含有される焼成
除去可能な有機成分として、感光性樹脂組成物を使用す
ることができる。
除去可能な有機成分として、感光性樹脂組成物を使用す
ることができる。
【0028】感光性樹脂組成物は、少なくともポリマ
ー、モノマーおよぴ開始剤を含有するものであり、焼成
によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存
させることのないものである。
ー、モノマーおよぴ開始剤を含有するものであり、焼成
によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存
させることのないものである。
【0029】ポリマーとしては、メチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、n−プロピルアクリレート、n−プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプ
ロピルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、n−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルメタクリレート、n−ペンチルアクリレー
ト、n−ペンチルメタクリレート、n−へキシルアクリ
レート、n−へキシルメタクリレート、2−エチルヘキ
シルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレー
ト、n−オクチルアクリレート、n−オクチルメタクリ
レート、n−デシルアクリレート、n−デシルメタクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエ
チルメタクリレ−ト、ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α
−メチルスチレン、N−ビニル−2−ピロリドンの1種
以上と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量
体(例えば、東亜合成(株)製M−5600)、コハク
酸2−メククリロイルオキシエチル、コハク酸2−アク
リロイルオキシエチル、フタル酸2−メタクリロイルオ
キシエチル、フタル酸2−アクリロイルオキシエチル、
ヘキサヒドロフタル酸2−メタクリロイルオキシエチ
ル、へキサヒドロフタル酸2−アクリロイルオキシエチ
ル、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、
ビニル酢酸、これらの酸無水物等の1種以上からなるポ
リマーまたはコポリマー、カルボキシル基含有セルロー
ス誘導体等か挙げられる。
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、n−プロピルアクリレート、n−プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプ
ロピルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、n−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルメタクリレート、n−ペンチルアクリレー
ト、n−ペンチルメタクリレート、n−へキシルアクリ
レート、n−へキシルメタクリレート、2−エチルヘキ
シルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレー
ト、n−オクチルアクリレート、n−オクチルメタクリ
レート、n−デシルアクリレート、n−デシルメタクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエ
チルメタクリレ−ト、ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α
−メチルスチレン、N−ビニル−2−ピロリドンの1種
以上と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量
体(例えば、東亜合成(株)製M−5600)、コハク
酸2−メククリロイルオキシエチル、コハク酸2−アク
リロイルオキシエチル、フタル酸2−メタクリロイルオ
キシエチル、フタル酸2−アクリロイルオキシエチル、
ヘキサヒドロフタル酸2−メタクリロイルオキシエチ
ル、へキサヒドロフタル酸2−アクリロイルオキシエチ
ル、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、
ビニル酢酸、これらの酸無水物等の1種以上からなるポ
リマーまたはコポリマー、カルボキシル基含有セルロー
ス誘導体等か挙げられる。
【0030】また、上記のコポリマーにグリシジル基ま
たは水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させ
たポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。
たは水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させ
たポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。
【0031】上記のポリマーの分子量は、5,000〜
300,000、好ましくは30,000〜150,0
00の範囲である。また、上記のポリマーに他のポリマ
ー、例えば、メタクリル酸エステルポリマー、ポリビニ
ルアルコール誘導体、N−メチル−2−ピロリドンポリ
マー、セルロース誘導体、スチレンポリマー等を混合す
ることができる。
300,000、好ましくは30,000〜150,0
00の範囲である。また、上記のポリマーに他のポリマ
ー、例えば、メタクリル酸エステルポリマー、ポリビニ
ルアルコール誘導体、N−メチル−2−ピロリドンポリ
マー、セルロース誘導体、スチレンポリマー等を混合す
ることができる。
【0032】感光性樹脂組成物を構成する反応性モノマ
ーとしては、少なくとも1つの重合可能な炭素一炭素不
飽和結合を有する化合物を用いることかできる。具体的
には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブ
トキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコー
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシク
ロペンタニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリ
レート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレー
ト、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレ
ート、ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアク
リレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、
フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジア
クリレート、1,5−ペンタンジオールジアクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,3
−プロパンジオールアクリレート、1,4−シクロヘキ
サンジオールジアクリレート、2.2−ジメチロールプ
ロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロー
ルトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチ
レンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、プロピレンオキサイド
変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピル
トリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレング
リコールジアクリレート、1,2,4−ブタントリオー
ルトリアクリレート、2,2,4−トリメチル−1,3
−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレー
ト、1,10−デカンジオールジメチルアクリレート、
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、上
記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニ
ル−2−ピロリドン等が挙げられる。上記の反応性モノ
マーは、1種または2種以上の混合物として、あるい
は、その他の化合物として、使用することができる。
ーとしては、少なくとも1つの重合可能な炭素一炭素不
飽和結合を有する化合物を用いることかできる。具体的
には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブ
トキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコー
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシク
ロペンタニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリ
レート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレー
ト、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレ
ート、ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアク
リレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、
フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジア
クリレート、1,5−ペンタンジオールジアクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,3
−プロパンジオールアクリレート、1,4−シクロヘキ
サンジオールジアクリレート、2.2−ジメチロールプ
ロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロー
ルトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチ
レンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、プロピレンオキサイド
変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピル
トリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレング
リコールジアクリレート、1,2,4−ブタントリオー
ルトリアクリレート、2,2,4−トリメチル−1,3
−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレー
ト、1,10−デカンジオールジメチルアクリレート、
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、上
記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニ
ル−2−ピロリドン等が挙げられる。上記の反応性モノ
マーは、1種または2種以上の混合物として、あるい
は、その他の化合物として、使用することができる。
【0033】感光性樹脂組成物を構成する光重合開始剤
としては、ベンゾフェノン、0−ベンゾイル安息香酸メ
チル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノ
ン、4,4一ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、
α一アミノ・アセトフェノン、4,4−ジクロロベンゾ
フェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケト
ン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2一ジエト
キシアセトフォノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニ
ルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピ
オフェノン、p−tert一ブチルジクロロアセトフェノ
ン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−
クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサント
ン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケター
ル、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキ
ノン、2−tert−ブチルアントラキノン、2−アミルア
ントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロ
ン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンア
ントロン、4−アジドベンジルアセトフェノン、2,6
−ビス(p一アジドベンジリデン)シクロヘキサン、
2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチル
シクロヘキサノン、2−フェニルー1,2−ブタジオン
−2−(0−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェ
ニループロパンジオン−2−(0−エトキシカルボニ
ル)オキシム、1,3−ジフェニループロパントリオン
−2−(0−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェ
ニル−3−エトキシープロパントリオン−2−(0−ベ
ンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2ーメチル−
〔4−〈メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−
1−プロパン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1
−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、ナフ
タレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロ
ライド、n−フェニルチオアクリドン、4,4−アゾビ
スイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベン
ズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、
カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニル
スルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブル
ー等の光導元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノー
ルアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられ、これら
の光重含開始剤を1種または2種以上使用することがて
きる。
としては、ベンゾフェノン、0−ベンゾイル安息香酸メ
チル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノ
ン、4,4一ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、
α一アミノ・アセトフェノン、4,4−ジクロロベンゾ
フェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケト
ン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2一ジエト
キシアセトフォノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニ
ルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピ
オフェノン、p−tert一ブチルジクロロアセトフェノ
ン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−
クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサント
ン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケター
ル、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキ
ノン、2−tert−ブチルアントラキノン、2−アミルア
ントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロ
ン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンア
ントロン、4−アジドベンジルアセトフェノン、2,6
−ビス(p一アジドベンジリデン)シクロヘキサン、
2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチル
シクロヘキサノン、2−フェニルー1,2−ブタジオン
−2−(0−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェ
ニループロパンジオン−2−(0−エトキシカルボニ
ル)オキシム、1,3−ジフェニループロパントリオン
−2−(0−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェ
ニル−3−エトキシープロパントリオン−2−(0−ベ
ンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2ーメチル−
〔4−〈メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−
1−プロパン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1
−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、ナフ
タレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロ
ライド、n−フェニルチオアクリドン、4,4−アゾビ
スイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベン
ズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、
カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニル
スルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブル
ー等の光導元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノー
ルアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられ、これら
の光重含開始剤を1種または2種以上使用することがて
きる。
【0034】このような熱可塑性樹脂あるいは感光性樹
脂組成物の転写用素材120における含有量は、上述の
無機成分100重量部に対して3〜50重量部、好まし
くは5〜30重量部の範囲で設定することかできる。熱
可塑性樹脂や感光性樹脂組成物の含有量が3重量部未満
であると、転写用素材120の形状保持性が低く、転写
の確実性を損なうおそれがある。一方、熱可塑性樹脂や
感光性樹脂組成物の含有量が50重量部を超えると、焼
成により有機成分を完全に除去することができず、焼成
後の膜中に炭化物が残り品質が低下するので好ましくな
い。
脂組成物の転写用素材120における含有量は、上述の
無機成分100重量部に対して3〜50重量部、好まし
くは5〜30重量部の範囲で設定することかできる。熱
可塑性樹脂や感光性樹脂組成物の含有量が3重量部未満
であると、転写用素材120の形状保持性が低く、転写
の確実性を損なうおそれがある。一方、熱可塑性樹脂や
感光性樹脂組成物の含有量が50重量部を超えると、焼
成により有機成分を完全に除去することができず、焼成
後の膜中に炭化物が残り品質が低下するので好ましくな
い。
【0035】さらに、上述の熟可塑性櫛脂、感完性樹脂
組成物には、添加剤として、増感剤こ重合停止剤、迫鎖
移勤剤、レベリング剤、分散剤、転写性付与剤、安定
剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤、剥離剤等を必要に応
じて含有することができる。
組成物には、添加剤として、増感剤こ重合停止剤、迫鎖
移勤剤、レベリング剤、分散剤、転写性付与剤、安定
剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤、剥離剤等を必要に応
じて含有することができる。
【0036】転写性付与剤は、転写性、インキ組成物の
流動性を向上させることを目的として添加され、例え
ば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−n
−オクチルフタレート等のノルマルアルキルフタレート
類、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジイソデシル
フタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニル
フタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチ
ルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸エステル
類、トリ−2−エチルベキシルトリノリテート、トリ−
n−アルキルトリメリテート、トリイソノニルトリメリ
テ−ト、トリイソデシルトリノリテート等のトリメリッ
ト酸エステル、ジメチルアジペート、ジブチルアジペー
ト、ジ−2−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシル
アジペート、ジブチルジグリコールアジペート、ジ−2
−エチルヘキシルアジテート、ジメチルセパケート、ジ
プチルセパケート、ジ−2−エチルヘキシルセパケー
ト、ジ−2−エチルヘキシルマレート、アセチルートリ
−(2−エチルヘキシル)シトレート、アセチルートリ
−n−ブチルシトレート、アセチルトリブチルシトレー
ト等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリエチレングリコ
ールベンゾエート、トリエチレングリコ−ルージ−(2
−エチルヘキソエート)、ポリグリコールエーテル等の
グリコール誘導体、グリセロールトリアセテート、グリ
セロールジアセチルモノラウレート等のグリセリン誘導
体、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸
等からなるポリエステル系、分子量300〜3000の
低分子量ポリエ一テル、同低分子,ポリ−α−スチレ
ン、同低分子量ポリスチレン、トリメチルホスフェー
ト、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェー
ト、トリー2ーエチルヘキシルボスフェート、トリブト
キシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、
トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェー
ト、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフ
ェニルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホ
スフェート等の正リン酸エステル類、メチルアセチルリ
シノレート等のリシノール酸エステル類、ポリ−1,3
−ブタンジオールアジペート、エポキシ化大豆油等のポ
リエステル・エポキシ化エステル類、グリセリントリア
セテート、2−エチルヘキシルアセテート等の酢酸エス
テル類を挙げることかできる。
流動性を向上させることを目的として添加され、例え
ば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−n
−オクチルフタレート等のノルマルアルキルフタレート
類、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジイソデシル
フタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニル
フタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチ
ルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸エステル
類、トリ−2−エチルベキシルトリノリテート、トリ−
n−アルキルトリメリテート、トリイソノニルトリメリ
テ−ト、トリイソデシルトリノリテート等のトリメリッ
ト酸エステル、ジメチルアジペート、ジブチルアジペー
ト、ジ−2−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシル
アジペート、ジブチルジグリコールアジペート、ジ−2
−エチルヘキシルアジテート、ジメチルセパケート、ジ
プチルセパケート、ジ−2−エチルヘキシルセパケー
ト、ジ−2−エチルヘキシルマレート、アセチルートリ
−(2−エチルヘキシル)シトレート、アセチルートリ
−n−ブチルシトレート、アセチルトリブチルシトレー
ト等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリエチレングリコ
ールベンゾエート、トリエチレングリコ−ルージ−(2
−エチルヘキソエート)、ポリグリコールエーテル等の
グリコール誘導体、グリセロールトリアセテート、グリ
セロールジアセチルモノラウレート等のグリセリン誘導
体、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸
等からなるポリエステル系、分子量300〜3000の
低分子量ポリエ一テル、同低分子,ポリ−α−スチレ
ン、同低分子量ポリスチレン、トリメチルホスフェー
ト、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェー
ト、トリー2ーエチルヘキシルボスフェート、トリブト
キシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、
トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェー
ト、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフ
ェニルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホ
スフェート等の正リン酸エステル類、メチルアセチルリ
シノレート等のリシノール酸エステル類、ポリ−1,3
−ブタンジオールアジペート、エポキシ化大豆油等のポ
リエステル・エポキシ化エステル類、グリセリントリア
セテート、2−エチルヘキシルアセテート等の酢酸エス
テル類を挙げることかできる。
【0037】また、分散剤、沈降防止剤は、上記の無機
粉体の分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであ
り、例えば、リン酸エステル系、シリコーン系、ひまし
油エステル系、各種界面活性剤等が挙げられ、消泡剤と
しては、例えば、シリコーン系、アクリル系、各種界面
活性剤等が挙げられ、剥離剤としては、例えば、シリコ
ーン系、フッ素油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸
エステル系、ひまし油系、ワックス系、コンパウンドタ
イプ等が挙げられ、レベリング剤としては、例えば、フ
ッ素系、シリコーン系、各種界面活性剤等が挙げられ、
それぞれ適量添加することができる。
粉体の分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであ
り、例えば、リン酸エステル系、シリコーン系、ひまし
油エステル系、各種界面活性剤等が挙げられ、消泡剤と
しては、例えば、シリコーン系、アクリル系、各種界面
活性剤等が挙げられ、剥離剤としては、例えば、シリコ
ーン系、フッ素油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸
エステル系、ひまし油系、ワックス系、コンパウンドタ
イプ等が挙げられ、レベリング剤としては、例えば、フ
ッ素系、シリコーン系、各種界面活性剤等が挙げられ、
それぞれ適量添加することができる。
【0038】また、転写用素材120形成のために熱可
塑性樹脂あるいは感光性樹脂組成物とともに用いる溶剤
としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロ
パノ−ル、イソプロパノール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ
−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピ
ロリドン、ジエチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプ
タノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチ
ルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチル
セロソルブ、エチルセロソルプ、カルビトール、メチル
カルビトール、エチルカルビトール、プチルカルビトー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチル
エ一テル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル
等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、
セロソルプアセテート、エチルセロソルプアセテート、
ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテー
ト、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトー
ルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエ一テ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、2ーメトキシエチルアセテート、シクロ
ヘキシルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、
3−メトキシプチルアセテート等の酢酸エステル類、ジ
エチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレン
グリコールジアルキル工一テル、3−エトキシプロピオ
ン酸エチル、安息香酸メチル、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられ
る。
塑性樹脂あるいは感光性樹脂組成物とともに用いる溶剤
としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロ
パノ−ル、イソプロパノール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ
−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピ
ロリドン、ジエチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプ
タノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチ
ルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチル
セロソルブ、エチルセロソルプ、カルビトール、メチル
カルビトール、エチルカルビトール、プチルカルビトー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチル
エ一テル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル
等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、
セロソルプアセテート、エチルセロソルプアセテート、
ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテー
ト、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトー
ルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエ一テ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、2ーメトキシエチルアセテート、シクロ
ヘキシルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、
3−メトキシプチルアセテート等の酢酸エステル類、ジ
エチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレン
グリコールジアルキル工一テル、3−エトキシプロピオ
ン酸エチル、安息香酸メチル、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられ
る。
【0039】弾性層140も、転写用素材120と同
様、ガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な有
機成分を少なくとも含有するものが適用できる。弾性層
140に含有される無機成分として、外光反射を低減す
るための、無機粉体として耐火性性の黒色顔料は使用で
きない点を除き、上記、転写用素材120と同様の無機
成分ものを用いることができる。また、弾性層140と
しては、弾性層140に含有される焼成除去可能な有機
成分として、上記転写用素材120と同様のものを使用
できる。尚、本例はPDP用背面板への障壁部の形成例
であるが、他の厚膜パターンの形成においては、適宜、
弾性層の材質を選ぶ。
様、ガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な有
機成分を少なくとも含有するものが適用できる。弾性層
140に含有される無機成分として、外光反射を低減す
るための、無機粉体として耐火性性の黒色顔料は使用で
きない点を除き、上記、転写用素材120と同様の無機
成分ものを用いることができる。また、弾性層140と
しては、弾性層140に含有される焼成除去可能な有機
成分として、上記転写用素材120と同様のものを使用
できる。尚、本例はPDP用背面板への障壁部の形成例
であるが、他の厚膜パターンの形成においては、適宜、
弾性層の材質を選ぶ。
【0040】次に、本例に用いられる転写版110の形
成方法の1例を、図9に基づいて簡単に説明しておく。
図9に示す転写版の形成方法は、簡単には、非導電性の
ベース基材310の一面上に、形成しようとする凹部に
相当する所定の厚さで、且つ、凹部の絵柄に合わせた所
定のレジストパターンをフ当する所定の厚さで、且つ、
凹部の絵柄に合わせた所定のレジストパターンをフォト
リソ法により形成した後、ベース基板310のレジスト
パターン(図9の硬化部320Aに相当)が形成された
側の表面部上に導電性薄膜を設け、更に、該導電性薄膜
に、レジストパターン全体を一体的に覆うように電解め
っきを施し、電解めっき層を形成し、次いで、ベース基
材310とその上に形成されたレジストパターンから、
電解めっき層と導電性薄膜とを剥離して、電解めっき層
と導電性薄膜とからなる転写版を得る転写版の製造方法
である。
成方法の1例を、図9に基づいて簡単に説明しておく。
図9に示す転写版の形成方法は、簡単には、非導電性の
ベース基材310の一面上に、形成しようとする凹部に
相当する所定の厚さで、且つ、凹部の絵柄に合わせた所
定のレジストパターンをフ当する所定の厚さで、且つ、
凹部の絵柄に合わせた所定のレジストパターンをフォト
リソ法により形成した後、ベース基板310のレジスト
パターン(図9の硬化部320Aに相当)が形成された
側の表面部上に導電性薄膜を設け、更に、該導電性薄膜
に、レジストパターン全体を一体的に覆うように電解め
っきを施し、電解めっき層を形成し、次いで、ベース基
材310とその上に形成されたレジストパターンから、
電解めっき層と導電性薄膜とを剥離して、電解めっき層
と導電性薄膜とからなる転写版を得る転写版の製造方法
である。
【0041】先ず、ベース基板310の一面上に、ネガ
型の感光性レジスト320を形成しようとする凹部に相
当する所定の厚さで塗膜しておく。(図9(a)) ベース基板310としては、非導電性のガラス基板が一
般的に用いられるが、非導電性で、且つ、剛性があり、
表面がめっき剥離性のものが好ましく、特にガラス基板
に限定はされない。レジスト320としては、目的とす
る凹部を形成するのに適したものであれば特に限定され
ない。即ち、形成する凹部の深さに相当する厚さを得ら
れるもので、且つ、めっき剥離性、解像性が良いものが
好ましい。例えば、プラズマディスプレイパネル用背面
板の障壁(100μm〜200μm)程度の厚さを得た
い場合には、ニチゴー・モートン株式会社製、NIT−
650等のレジストが使用できる。次いで、所定のフォ
トマスク(パターン版とも言う)330を用いて、レジ
スト320の所定の領域を露光する。(図9(b)) 本例ではネガ型のレジストを用いているため、フォトマ
スク330の(電離放射線)透過部330Aを透過し
た、所定の電離放射線により照射された部分が硬化して
硬化部320Aを形成する。電離放射線としては、使用
するレジスト320にあわせて、可視光、紫外線、遠紫
外線、電子線、X線等が使用できる。続く現像処理を行
うことにより、硬化部330Aのみがベース基板310
に残る。(図9(c)) 残った硬化部320Aは、形成する凹部の形状に相当す
る。次いで、レジストの硬化部320A(これを単にレ
ジストパターンともここでは言う)が形成されたベース
基板310の表面部(露出部)上に、無電解めっきを行
うための活性化処理を施した後に、無電解めっきを施
し、導電性薄膜370を形成する。(図9(d)) Pd等の触媒となる金属を用いて行い、無電解Niめっ
き、無電解Pdめっき等を施す。このように、レジスト
の硬化部320Aが形成された側のベース基板の表面部
を導電性にした後、これをもとに、この上に、レジスト
の硬化部320A全体(レジストパターン)を覆うよう
に、一体的に、電解めっきを施す。(図9(e)) 電解めっきとしては、電解Niめっきが好ましいが、こ
れに限定はされない。また、各種材質のめっきを多層に
して形成しても良い。次いで、ベース基板310とその
上に形成されたレジストパターン(硬化部320A)か
ら、電解めっき層380と導電性薄膜370とを剥離し
て、電解めっき層380と導電性薄膜370とからなる
転写版300(図1の110に相当)を得る。(図9
(f))
型の感光性レジスト320を形成しようとする凹部に相
当する所定の厚さで塗膜しておく。(図9(a)) ベース基板310としては、非導電性のガラス基板が一
般的に用いられるが、非導電性で、且つ、剛性があり、
表面がめっき剥離性のものが好ましく、特にガラス基板
に限定はされない。レジスト320としては、目的とす
る凹部を形成するのに適したものであれば特に限定され
ない。即ち、形成する凹部の深さに相当する厚さを得ら
れるもので、且つ、めっき剥離性、解像性が良いものが
好ましい。例えば、プラズマディスプレイパネル用背面
板の障壁(100μm〜200μm)程度の厚さを得た
い場合には、ニチゴー・モートン株式会社製、NIT−
650等のレジストが使用できる。次いで、所定のフォ
トマスク(パターン版とも言う)330を用いて、レジ
スト320の所定の領域を露光する。(図9(b)) 本例ではネガ型のレジストを用いているため、フォトマ
スク330の(電離放射線)透過部330Aを透過し
た、所定の電離放射線により照射された部分が硬化して
硬化部320Aを形成する。電離放射線としては、使用
するレジスト320にあわせて、可視光、紫外線、遠紫
外線、電子線、X線等が使用できる。続く現像処理を行
うことにより、硬化部330Aのみがベース基板310
に残る。(図9(c)) 残った硬化部320Aは、形成する凹部の形状に相当す
る。次いで、レジストの硬化部320A(これを単にレ
ジストパターンともここでは言う)が形成されたベース
基板310の表面部(露出部)上に、無電解めっきを行
うための活性化処理を施した後に、無電解めっきを施
し、導電性薄膜370を形成する。(図9(d)) Pd等の触媒となる金属を用いて行い、無電解Niめっ
き、無電解Pdめっき等を施す。このように、レジスト
の硬化部320Aが形成された側のベース基板の表面部
を導電性にした後、これをもとに、この上に、レジスト
の硬化部320A全体(レジストパターン)を覆うよう
に、一体的に、電解めっきを施す。(図9(e)) 電解めっきとしては、電解Niめっきが好ましいが、こ
れに限定はされない。また、各種材質のめっきを多層に
して形成しても良い。次いで、ベース基板310とその
上に形成されたレジストパターン(硬化部320A)か
ら、電解めっき層380と導電性薄膜370とを剥離し
て、電解めっき層380と導電性薄膜370とからなる
転写版300(図1の110に相当)を得る。(図9
(f))
【0042】図9示す転写版の形成方法では、無電解め
っきにより、導電性薄膜370を形成しているが、本例
における転写版の形成方法は、特にこれに限定されな
い。また、図9ではネガ型のレジストを用いているが、
場合によってはポジ型のレジストも適用できる。レジス
トの膜厚が厚い場合、レジストの露光(電離放射線照
射)量にもよるが、硬化部320Aのベース基板と接す
る部分が細ることがあるので、処理条件を適当にして行
う。
っきにより、導電性薄膜370を形成しているが、本例
における転写版の形成方法は、特にこれに限定されな
い。また、図9ではネガ型のレジストを用いているが、
場合によってはポジ型のレジストも適用できる。レジス
トの膜厚が厚い場合、レジストの露光(電離放射線照
射)量にもよるが、硬化部320Aのベース基板と接す
る部分が細ることがあるので、処理条件を適当にして行
う。
【0043】次いで、本発明の厚膜パターンの形成方法
の実施の形態の第2の例を図11に基づいて説明する。
本例は、第1の例と同様、平坦な転写版を用いて、PD
P用背面板上に障壁を形成する方法の例で、媒体として
は透明なガラス板を用い、転写用素材として紫外線硬化
型のものを用い、弾性層用素材として粘着性素材を用い
た場合の例である。障壁形成用素材である転写用素材
を、転写版の、転写形成しようとする形状に合わせた所
定形状の凹部に充填して、これを、PDP用背面板上に
圧着して転写する厚膜パターンの形成方法である。簡単
には、転写版の凹部に、厚膜パターンの転写用素材を充
填し、転写用素材充填側を媒体側にして、且つ、転写版
と媒体との間に粘着性弾性層を設けて、転写版と媒体と
を圧着させ、この後、転写版と媒体とを引き離して、厚
膜パターンの転写用素材を、転写版から媒体に、粘着性
弾性層を介して転写して、厚膜パターンを形成するもの
である。まず、転写版110を用意し(図11
(a))、凹部115に転写用素材120を充填した
後、紫外線を照射し、転写版110の凹部115に充填
された転写用素材120を硬化させる。(図11
(b)) 転写版110の作製、及び転写用素材120の凹部11
5への充填については、第1の例と同様に行う。次い
で、転写版110の転写用素材120充填側を媒体側1
30にして、且つ、転写版110と媒体130との間に
弾性層140を設けて、転写版110と媒体130とを
圧着する。(図11(c)) 転写版110と媒体130との圧着方法、弾性層の配設
方法は、第1の例と同様に行う。次いで、転写版110
と媒体130とを引き離し、弾性層140の粘着力によ
り、転写用素材120を媒体側に転写して、厚膜パター
ンである障壁120Aを媒体130上に形成する。(図
11(d)) 転写版110と媒体130との引き離しは、第1の例と
同様に行う。また、転写版用素材は第1の例と同様のも
のを用いることができ、弾性層は、第1の例の中で、特
に粘着力が高いものを用いることが好ましい。
の実施の形態の第2の例を図11に基づいて説明する。
本例は、第1の例と同様、平坦な転写版を用いて、PD
P用背面板上に障壁を形成する方法の例で、媒体として
は透明なガラス板を用い、転写用素材として紫外線硬化
型のものを用い、弾性層用素材として粘着性素材を用い
た場合の例である。障壁形成用素材である転写用素材
を、転写版の、転写形成しようとする形状に合わせた所
定形状の凹部に充填して、これを、PDP用背面板上に
圧着して転写する厚膜パターンの形成方法である。簡単
には、転写版の凹部に、厚膜パターンの転写用素材を充
填し、転写用素材充填側を媒体側にして、且つ、転写版
と媒体との間に粘着性弾性層を設けて、転写版と媒体と
を圧着させ、この後、転写版と媒体とを引き離して、厚
膜パターンの転写用素材を、転写版から媒体に、粘着性
弾性層を介して転写して、厚膜パターンを形成するもの
である。まず、転写版110を用意し(図11
(a))、凹部115に転写用素材120を充填した
後、紫外線を照射し、転写版110の凹部115に充填
された転写用素材120を硬化させる。(図11
(b)) 転写版110の作製、及び転写用素材120の凹部11
5への充填については、第1の例と同様に行う。次い
で、転写版110の転写用素材120充填側を媒体側1
30にして、且つ、転写版110と媒体130との間に
弾性層140を設けて、転写版110と媒体130とを
圧着する。(図11(c)) 転写版110と媒体130との圧着方法、弾性層の配設
方法は、第1の例と同様に行う。次いで、転写版110
と媒体130とを引き離し、弾性層140の粘着力によ
り、転写用素材120を媒体側に転写して、厚膜パター
ンである障壁120Aを媒体130上に形成する。(図
11(d)) 転写版110と媒体130との引き離しは、第1の例と
同様に行う。また、転写版用素材は第1の例と同様のも
のを用いることができ、弾性層は、第1の例の中で、特
に粘着力が高いものを用いることが好ましい。
【0044】次いで、本発明の厚膜パターンの形成方法
の実施の形態の第3の例を図12に基づいて説明する。
本例は、第1の例と同様、平坦な転写版を用いて、PD
P用背面板上に障壁を形成する方法の例で、媒体として
は透明なガラス板を用い、転写用素材および弾性層とし
て紫外線硬化型のものを用いた場合の例である。障壁形
成用素材である転写用素材を、転写版の、転写形成しよ
うとする形状に合わせた所定形状の凹部に充填して、こ
れを、PDP用背面板上に圧着して転写する厚膜パター
ンの形成方法である。簡単には、転写版の凹部に、厚膜
パターンの転写用素材を充填し、転写用素材充填側を媒
体側にして、且つ、転写版と媒体との間に弾性層を設け
て、転写版と媒体とを圧着させ、この後、転写版と媒体
とを引き離して、厚膜パターンの転写用素材を、転写版
から媒体に、弾性層を介して転写して、厚膜パターンを
形成するものである。まず、転写版110を用意し(図
12(a))、凹部115に転写用素材120を充填し
た後、紫外線を照射し、転写版110の凹部115に充
填された転写用素材120を硬化させる。(図12
(b)) 転写版110の作製、及び転写用素材120の凹部11
5への充填については、第1の例と同様に行う。次い
で、転写版110の転写用素材120充填側を媒体側1
30にして、且つ、転写版110と媒体130との間に
弾性層140を設けて、転写版110と媒体130とを
圧着した後、この状態で、紫外線150を照射して、転
写用素材120と弾性層140とを硬化、一体化させ
る。(図12(c)) 転写版110と媒体130との圧着方法、弾性層の配設
方法は、第1の例と同様に行う。次いで、転写版110
と媒体130とを引き離し、弾性層140の粘着力によ
り、転写用素材120を媒体側に転写して、厚膜パター
ンである障壁120Aを媒体130上に形成する。(図
12(d)) 転写版110と媒体130との引き離しは、第1の例と
同様に行う。また、転写版用素材は第1の例と同様のも
のを用いることができ、弾性層は、第1の例の中で、紫
外線硬化性のものに限り用いることができる。
の実施の形態の第3の例を図12に基づいて説明する。
本例は、第1の例と同様、平坦な転写版を用いて、PD
P用背面板上に障壁を形成する方法の例で、媒体として
は透明なガラス板を用い、転写用素材および弾性層とし
て紫外線硬化型のものを用いた場合の例である。障壁形
成用素材である転写用素材を、転写版の、転写形成しよ
うとする形状に合わせた所定形状の凹部に充填して、こ
れを、PDP用背面板上に圧着して転写する厚膜パター
ンの形成方法である。簡単には、転写版の凹部に、厚膜
パターンの転写用素材を充填し、転写用素材充填側を媒
体側にして、且つ、転写版と媒体との間に弾性層を設け
て、転写版と媒体とを圧着させ、この後、転写版と媒体
とを引き離して、厚膜パターンの転写用素材を、転写版
から媒体に、弾性層を介して転写して、厚膜パターンを
形成するものである。まず、転写版110を用意し(図
12(a))、凹部115に転写用素材120を充填し
た後、紫外線を照射し、転写版110の凹部115に充
填された転写用素材120を硬化させる。(図12
(b)) 転写版110の作製、及び転写用素材120の凹部11
5への充填については、第1の例と同様に行う。次い
で、転写版110の転写用素材120充填側を媒体側1
30にして、且つ、転写版110と媒体130との間に
弾性層140を設けて、転写版110と媒体130とを
圧着した後、この状態で、紫外線150を照射して、転
写用素材120と弾性層140とを硬化、一体化させ
る。(図12(c)) 転写版110と媒体130との圧着方法、弾性層の配設
方法は、第1の例と同様に行う。次いで、転写版110
と媒体130とを引き離し、弾性層140の粘着力によ
り、転写用素材120を媒体側に転写して、厚膜パター
ンである障壁120Aを媒体130上に形成する。(図
12(d)) 転写版110と媒体130との引き離しは、第1の例と
同様に行う。また、転写版用素材は第1の例と同様のも
のを用いることができ、弾性層は、第1の例の中で、紫
外線硬化性のものに限り用いることができる。
【0045】次いで、本発明の厚膜パターンの形成方法
の実施の形態の第4の例を図7に基に説明する。本例
は、ロール状の転写版を用いてPDP用背面板上に障壁
を形成する方法の例で、媒体としては透明なガラス基板
を用い、転写用素材として紫外線硬化型のものを用いた
場合の例である。第1の例と同様、障壁形成用素材であ
る転写用素材を、転写版の、転写形成しようとする形状
に合わせた所定形状の凹部に充填して、これをPDP用
背面板上にに圧着して転写する厚膜パターンの形成方法
である。簡単には、凹部に充填された転写用素材と媒体
との間に弾性層を設け、凹部に充填された転写用素材と
媒体とを弾性層を介して圧着した後、少なくとも、圧着
されている転写版部分と圧着されている媒体とを引き離
して、転写用素材を、転写版の凹部から媒体に、弾性層
を介して転写して、厚膜パターンを媒体上に形成するも
のである。本例では、ロール状の転写版210として、
図6(b)に示すような、ロールの軸方向に凹部(溝)
215を絵柄に対応して設けたものを使用するが、図6
(a)に示すような、ロールの円周に沿い凹部(溝)2
15を設けたものを使用することもできる。先ず、図3
(a)や、図3(b)に示す方法を用いて、媒体の一面
に弾性層140を形成しておく。そして、転写版210
を回転させながら、媒体130をロール状の転写版21
0の転写用素材120を充填した凹部(図3の215に
相当)と接するようにして、転写版210の回転に合わ
せ、直進移動させる。弾性層140を転写版210側に
向け、媒体130と転写版210とをロール(転写版)
の1線上で接するようにし、圧をかける。
の実施の形態の第4の例を図7に基に説明する。本例
は、ロール状の転写版を用いてPDP用背面板上に障壁
を形成する方法の例で、媒体としては透明なガラス基板
を用い、転写用素材として紫外線硬化型のものを用いた
場合の例である。第1の例と同様、障壁形成用素材であ
る転写用素材を、転写版の、転写形成しようとする形状
に合わせた所定形状の凹部に充填して、これをPDP用
背面板上にに圧着して転写する厚膜パターンの形成方法
である。簡単には、凹部に充填された転写用素材と媒体
との間に弾性層を設け、凹部に充填された転写用素材と
媒体とを弾性層を介して圧着した後、少なくとも、圧着
されている転写版部分と圧着されている媒体とを引き離
して、転写用素材を、転写版の凹部から媒体に、弾性層
を介して転写して、厚膜パターンを媒体上に形成するも
のである。本例では、ロール状の転写版210として、
図6(b)に示すような、ロールの軸方向に凹部(溝)
215を絵柄に対応して設けたものを使用するが、図6
(a)に示すような、ロールの円周に沿い凹部(溝)2
15を設けたものを使用することもできる。先ず、図3
(a)や、図3(b)に示す方法を用いて、媒体の一面
に弾性層140を形成しておく。そして、転写版210
を回転させながら、媒体130をロール状の転写版21
0の転写用素材120を充填した凹部(図3の215に
相当)と接するようにして、転写版210の回転に合わ
せ、直進移動させる。弾性層140を転写版210側に
向け、媒体130と転写版210とをロール(転写版)
の1線上で接するようにし、圧をかける。
【0046】転写用素材120を転写版210の所定の
形状の凹部へ充填するは、本例では、図7に示すように
スキージ220にて余分の転写用素材をかき取りなが
ら、凹部のみに転写用素材120を充填する。充填され
た凹部の転写用素材120は、転写版210の回転移動
により、媒体130と接する箇所へと進むが、媒体13
0と接する箇所に設けられた光源230、ミラー235
から、紫外線(UV光)150を照射されて、凹部の転
写用素材120は硬化する。転写版210、媒体130
の移動により、圧着されている転写版部分と圧着されて
いる媒体とが引き離されるが、これにより、凹部の硬化
された転写用素材120が、転写版210から媒体13
0へ転写される。本例では、転写版210を連続的に回
転させ、上記の手順を繰り返すことができ、連続的に転
写を行うことも可能である。使用する転写版は、第1の
例と同様の転写版をロール状にして用いてもよいが、そ
れに限定されない。転写用素材、弾性層も第1の例と同
様のものを用いることができる。
形状の凹部へ充填するは、本例では、図7に示すように
スキージ220にて余分の転写用素材をかき取りなが
ら、凹部のみに転写用素材120を充填する。充填され
た凹部の転写用素材120は、転写版210の回転移動
により、媒体130と接する箇所へと進むが、媒体13
0と接する箇所に設けられた光源230、ミラー235
から、紫外線(UV光)150を照射されて、凹部の転
写用素材120は硬化する。転写版210、媒体130
の移動により、圧着されている転写版部分と圧着されて
いる媒体とが引き離されるが、これにより、凹部の硬化
された転写用素材120が、転写版210から媒体13
0へ転写される。本例では、転写版210を連続的に回
転させ、上記の手順を繰り返すことができ、連続的に転
写を行うことも可能である。使用する転写版は、第1の
例と同様の転写版をロール状にして用いてもよいが、そ
れに限定されない。転写用素材、弾性層も第1の例と同
様のものを用いることができる。
【0047】次いで、本発明の厚膜パターンの形成方法
の実施の形態の第5の例を図8を基に簡単に説明する。
本例は、第4の例と同様、ロール状の転写版を用いてP
DP用背面板上に障壁を形成する方法の例で、媒体とし
ては透明なガラス基板を用い、転写用素材として紫外線
硬化型のものを用いた場合の例であるが、凹部(図3の
215に相当)への転写用素材120の充填を、転写用
素材入れ容器250から転写用素材供給用ロール240
を介して行い、スキージ225にて余分の転写用素材1
20をかき取るものである。他については、第4の例と
同様で、ここでは、説明を省く。
の実施の形態の第5の例を図8を基に簡単に説明する。
本例は、第4の例と同様、ロール状の転写版を用いてP
DP用背面板上に障壁を形成する方法の例で、媒体とし
ては透明なガラス基板を用い、転写用素材として紫外線
硬化型のものを用いた場合の例であるが、凹部(図3の
215に相当)への転写用素材120の充填を、転写用
素材入れ容器250から転写用素材供給用ロール240
を介して行い、スキージ225にて余分の転写用素材1
20をかき取るものである。他については、第4の例と
同様で、ここでは、説明を省く。
【0048】
【発明の効果】本発明は、上記のように、PDP用背面
板の障壁のような、大面積で、高精細のものを、品質的
にも満足できるように、目的とする媒体上に転写形成す
ることを可能とする厚膜パターンの形成方法の提供を可
能とした。特に、これにより、益々のPDPPの大型化
と精細化に対応でき、且つ量産にも対応できる。
板の障壁のような、大面積で、高精細のものを、品質的
にも満足できるように、目的とする媒体上に転写形成す
ることを可能とする厚膜パターンの形成方法の提供を可
能とした。特に、これにより、益々のPDPPの大型化
と精細化に対応でき、且つ量産にも対応できる。
【図1】本発明の厚膜パターン形成方法の実施の形態の
第1の例の工程の断面図
第1の例の工程の断面図
【図2】転写版の凹部への転写用素材の充填方法を説明
するための概略図
するための概略図
【図3】媒体上へ弾性層を形成する方法を示した概略図
【図4】転写用版と媒体との密着の仕方を示した断面図
【図5】密着した転写用版と媒体とを離す仕方(脱型と
も言う)を示した断面図
も言う)を示した断面図
【図6】転写版の形態を示した図
【図7】本発明の厚膜パターン形成方法の実施の形態の
第4の例のを説明するための概略図
第4の例のを説明するための概略図
【図8】本発明の厚膜パターン形成方法の実施の形態の
第5の例のを説明するための概略図
第5の例のを説明するための概略図
【図9】転写版の製造方法の1例の工程の断面図
【図10】PDP基板を説明するための図
【図11】本発明の厚膜パターン形成方法の実施の形態
の第2の例の工程の断面図
の第2の例の工程の断面図
【図12】本発明の厚膜パターン形成方法の実施の形態
の第3の例の工程の断面図
の第3の例の工程の断面図
110 転写版 115 凹部 120 転写用素材 120A 障壁 130 媒体(転写する対象物) 140 弾性層 140A 弾性層用素材 150 紫外線(UV光) 160、165 スキージ 170 (押圧)ロール 180 (弾力性)スペーサ 185 (押圧)ロール 190 回転カム 210 転写版 215 凹部(溝) 220 スキージ 230 光源 235 ミラー 240 転写用素材供給用ロール 250 転写用素材入れ容器 300 転写版 310 ベース基板(ベース基材) 320 (ネガ型の)感光性レジスト 320A 硬化部 330 フォトマスク 330A (電離放射線)透過部 330B 遮光部 340 電離放射線 370 導電性薄膜 380 電解めっき層 390 凹部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D075 BB46Z CA47 DA06 DB13 DC22 EA21 EA45 5C027 AA09 5C040 FA01 GB03 GB14 GF02 GF19 JA19 JA20 MA25 MA26
Claims (15)
- 【請求項1】 転写用素材を、転写形成しようとする形
状に合わせた所定形状の凹部に充填して、これを目的と
する媒体上に圧着して転写する転写版を用いた、厚膜パ
ターンの形成方法であって、転写版の凹部に、厚膜パタ
ーンの転写用素材を充填し、凹部に充填された転写用素
材と媒体との間に弾性層を設け、凹部に充填された転写
用素材と媒体とを弾性層を介して圧着した後、少なくと
も、圧着されている転写版部分と圧着されている媒体部
分とを引き離して、転写用素材を、転写版の凹部から媒
体に、弾性層を介して転写して、厚膜パターンを媒体上
に形成するものであることを特徴とする厚膜パターンの
形成方法。 - 【請求項2】 請求項1において、弾性層は、シート状
で供給され、媒体側あるいは、転写用素材を充填した転
写版側にラミネートされて、転写版と媒体との間に設け
られることを特徴とする厚膜パターンの形成方法。 - 【請求項3】 請求項1において、弾性層は、媒体にあ
るいは、転写用素材を充填した転写版に、印刷あるいは
コーティングされて、転写版と媒体との間に設けられる
ことを特徴とする厚膜パターンの形成方法。 - 【請求項4】 請求項1ないし3において、媒体がプラ
ズマディスプレイパネル用背面板で、厚膜パターンが障
壁部であることを特徴とする厚膜パターンの形成方法。 - 【請求項5】 請求項4における弾性層は、誘電体層で
あることを特徴とする厚膜パターンの形成方法。 - 【請求項6】 請求項4ないし5における弾性層は、5
〜50μmの弾性歪みを吸収できるものであることを特
徴とする厚膜パターンの形成方法。 - 【請求項7】 請求項1ないし6における弾性層は、粘
着性を有するものであることを特徴とする厚膜パターン
の形成方法。 - 【請求項8】 請求項7における弾性層は、タック性を
有するものであることを特徴とする厚膜パターンの形成
方法。 - 【請求項9】 請求項1ないし8において、弾性用素材
は、溶剤を含まないものであることを特徴とする厚膜パ
ターンの形成方法。 - 【請求項10】 請求項1ないし9において、転写用素
材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有する
ものであり、凹部に充填された転写用素材を光等のエネ
ルギーで硬化させた後、弾性層を介して媒体と圧着し、
主として弾性層の粘着力の作用により転写用素材を媒体
に転写することを特徴とする厚膜パターンの形成方法。 - 【請求項11】 請求項1ないし9において、転写用素
材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有する
ものであり、凹部に充填された転写用素材と媒体とを弾
性層を介して圧着した状態で、光等のエネルギーにより
転写用素材を硬化する硬化処理を施すことを特徴とする
厚膜パターンの形成方法。 - 【請求項12】 請求項1ないし9において、転写用素
材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有する
ものであり、凹部に充填された転写用素材を光等のエネ
ルギーによりで硬化させた後、弾性層を介して媒体と圧
着した状態で、再度、光等のエネルギーで転写用素材を
硬化させ、転写用素材を媒体に転写することを特徴とす
る厚膜パターンの形成方法。 - 【請求項13】 請求項11ないし12における弾性層
は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有するも
のであり、弾性層を介して媒体と圧着した状態で、光等
のエネルギーで弾性層を硬化させ、転写用素材と弾性層
とを一体化させ、転写用素材を媒体に転写することを特
徴とする厚膜パターンの形成方法。 - 【請求項14】 請求項11ないし13において、転写
用素材は、光等のエネルギーにより硬化して、0.01
〜10%の体積収縮をするものであることを特徴とする
厚膜パターンの形成方法。 - 【請求項15】 請求項11ないし14において、転写
用素材は、溶剤を含まないものであることを特徴とする
厚膜パターンの形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4218499A JP2000243266A (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 厚膜パターンの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4218499A JP2000243266A (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 厚膜パターンの形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000243266A true JP2000243266A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=12628928
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4218499A Withdrawn JP2000243266A (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 厚膜パターンの形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000243266A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6916222B2 (en) | 2001-05-01 | 2005-07-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Process of making barrier ribs, electrodes, and the like for a plasma panel |
-
1999
- 1999-02-19 JP JP4218499A patent/JP2000243266A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6916222B2 (en) | 2001-05-01 | 2005-07-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Process of making barrier ribs, electrodes, and the like for a plasma panel |
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