JP2000243266A - 厚膜パターンの形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プラズマディスプレイパネル用背面板の障壁
のような、大面積で高精細のものを、品質的にも満足で
きるように、転写形成する厚膜パターンの形成方法を提
供する。 【解決手段】 転写用素材を、転写形成しようとする形
状に合わせた所定形状の凹部に充填して、これを目的と
する媒体（対象物）上に圧着して転写する転写版を用い
た、厚膜パターンの形成方法であって、転写版の凹部
に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、凹部に充填さ
れた転写用素材と媒体との間に弾性層（クッション層）
を設け、凹部に充填された転写用素材と媒体とを弾性層
を介して圧着した後、少なくとも、圧着されている転写
版部分と圧着されている媒体部分とを引き離して、転写
用素材を、転写版の凹部から媒体に、弾性層を介して転
写して、厚膜パターンを媒体上に形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、厚膜パターンの形
成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル（以
下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
一般に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、２
枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一
対の電極を設け、その間にネオン、キセノン等を主体と
するガスを封入した構造となっている。そして、これら
の電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放
電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を
行うようにしている。特に情報表示をするためには、規
則的に並んだセルを選択的に放電発光させている。

【０００３】ここで、ＰＤＰの構成を、図１０に示すＡ
Ｃ型ＰＤＰの１例を挙げて説明しておく。図１０はＰＤ
Ｐ構成斜視図であるが、分かり易くするため前面板（ガ
ラス基板６１０）、背面板（ガラス基板６２０）とを実
際より離して示してある。図１０に示すように、２枚の
ガラス基板６１０、６２０が互いに平行に且つ対向して
配設されており、両者は背面板となるガラス基板６２０
上に互いに平行に設けられた障壁（セル障壁、あるいは
リブとも言う）６３０により、一定の間隔に保持されて
いる。１前面板となるガラス基板６１０の背面側には、
放電維持電極である透明電極６４０とバス電極である金
属電極６５０とで構成される複合電極が互いに平行に形
成され、これを覆って、誘電体層６６０が形成されてお
り、更にその上に保護層（ＭｇＯ層）６７０が形成され
ている。また、背面板となるガラス基板６２０の前面側
には前記複合電極と直交するように障壁６３０間に位置
してアドレス電極６８０が互いに平行に形成されてお
り、更に障壁６３０の壁面とセル底面を覆うように螢光
面６９０が設けられている。障壁６３０は放電空間を区
画するためのもので、区画された各放電空間をセルない
し単位発光領域と言う。このＡＣ型ＰＤＰは面放電型で
あって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、で
放電させる構造である。この場合、交流をかけているた
めに電界の向きは周波数に対応して変化する。そして、
この放電により生じる紫外線により螢光体６９０を発光
させ、前面板を透過する光を観察者が視認できるもので
ある。なお、ＤＣ型ＰＤＰにあっては、電極は誘電体層
で被膜されていない構造を有する点でＡＣ型と相違する
が、その放電効果は同じである。また、図１０に示すも
のは、ガラス基板６２０の一面に下地層６６７を設けそ
の上に誘電体層６６５を設けた構造となっているが、下
地層６６７、誘電体層６６５は必ずしも必要としない。

【０００４】ガラス基板６２０への障壁の形成方法とし
ては、従来、印刷法ないしサンドブラスト法が採られて
いた。印刷法の場合、ガラス基板に厚膜印刷法により障
壁形成用ペーストを所定のパターンに印刷し、これを乾
燥する。障壁の層厚は厚く（例えば１００〜２００μｍ
の厚さ）１回の厚膜印刷ではこの膜厚が得られないた
め、障壁形成用ペーストの印刷および乾燥は複数回行
う。所定の膜厚が得られた後、ペーストの焼成がなされ
る。サンドブラスト法の場合は、障壁形成材料をガラス
基板上に塗布し、更にこの上に所定のレジストパターン
を形成した後、研磨砂を吹きかけレジストパターンに対
応した形状に障壁形成材料を加工して、これを焼成して
障壁を形成する。しかし、印刷法の場合には、印刷を複
数回行うため手間がかかる上に、形成された障壁の形状
も均一なものが得られないと言う問題があり、サンドブ
ラスト法の場合には、サンドブラスト処理の均一な切削
性の確保や、粉塵の問題や、処理装置や処理部材（研磨
砂等）の維持が難しいという問題がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような状況のも
と、ＰＤＰ用背面板の障壁のような、大面積で、高精細
のものを品質的にも満足でき、且つ簡単な方法で、形成
できる方法が求められていた。本発明は、これに対応す
るもので、プラズマディスプレイパネル用背面板の障壁
のような、大面積で高精細のものを、品質的にも満足で
きるように、転写形成する厚膜パターンの形成方法を提
供しようとするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の厚膜パターンの
形成方法は、転写用素材を、転写形成しようとする形状
に合わせた所定形状の凹部に充填して、これを目的とす
る媒体（対象物）上に圧着して転写する転写版を用い
た、厚膜パターンの形成方法であって、転写版の凹部
に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、凹部に充填さ
れた転写用素材と媒体との間に弾性層を設け、凹部に充
填された転写用素材と媒体とを弾性層を介して圧着した
後、少なくとも、圧着されている転写版部分と圧着され
ている媒体部分とを引き離して、転写用素材を、転写版
の凹部から媒体に、弾性層を介して転写して、厚膜パタ
ーンを媒体上に形成するものであることを特徴とするも
のである。そして、上記において、弾性層は、シート状
で供給され、媒体側あるいは、転写用素材を充填した転
写版側にラミネートされて、転写版と媒体との間に設け
られることを特徴とするものである。そしてまた、上記
において、弾性層は、媒体にあるいは、転写用素材を充
填した転写版に、印刷あるいはコーティングされて、転
写版と媒体との間に設けられることを特徴とするもので
ある。

【０００７】また、上記において、媒体がプラズマディ
スプレイパネル用背面板で、厚膜パターンが障壁部であ
ることを特徴とするもので、弾性層は、誘電体層である
ことを特徴とするものであり、該弾性層は、５〜５０μ
ｍの弾性歪みを吸収できるものであることを特徴とする
ものである。

【０００８】また、上記における弾性層は、粘着性を有
するものであることを特徴とするものであり、該弾性層
は、タック性を有するものであることを特徴とするもの
である。また、上記において、弾性用素材は、溶剤を含
まないものであることを特徴とするものである。尚、タ
ック性とは、粘着剤の主要性質の一つで、軽い力で短時
間に被着材に粘着する性質を言う。

【０００９】また、上記において、転写用素材は、光等
のエネルギーにより硬化する硬化性を有するものであ
り、凹部に充填された転写用素材を光等のエネルギーで
硬化させた後、弾性層を介して媒体と圧着し、主として
弾性層の粘着力の作用により転写用素材を媒体に転写す
ることを特徴とするものである。また、上記において、
転写用素材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性
を有するものであり、凹部に充填された転写用素材と媒
体とを弾性層を介して圧着した状態で、光等のエネルギ
ーにより転写用素材を硬化する硬化処理を施すことを特
徴とするものである。あるいはまた、上記において、転
写用素材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を
有するものであり、凹部に充填された転写用素材を光等
のエネルギーによりで硬化させた後、弾性層を介して媒
体と圧着した状態で、再度、光等のエネルギーで転写用
素材を硬化させ、転写用素材を媒体に転写することを特
徴とするものである。そして、上記における弾性層は、
光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有するもので
あり、弾性層を介して媒体と圧着した状態で、光等のエ
ネルギーで弾性層を硬化させ、（転写用素材と弾性層と
を一体化させ、）転写用素材を媒体に転写することを特
徴とするものである。また、上記において、転写用素材
は、光等のエネルギーにより硬化して、０．０１〜１０
％の体積収縮をするものであることを特徴とするもので
ある。また、上記において、転写用素材は、溶剤を含ま
ないものであることを特徴とするものである。

【００１０】

【作用】本発明の厚膜パターンの形成方法は、このよう
な構成にすることにより、ＰＤＰ用背面板の障壁のよう
な、大面積で、高精細のものを、品質的にも満足できる
ように、目的とする媒体上に転写形成することを可能と
する厚膜パターンの形成方法の提供を可能としている。
具体的には、転写用素材を、転写形成しようとする形状
に合わせた所定形状の凹部に充填して、これを目的とす
る媒体（対象物）上に圧着して転写する転写版を用い
た、厚膜パターンの形成方法であって、転写版の凹部
に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、凹部に充填さ
れた転写用素材と媒体との間に弾性層を設け、凹部に充
填された転写用素材と媒体とを弾性層を介して圧着した
後、少なくとも、圧着されている転写版部分と圧着され
ている媒体部分とを引き離して、転写用素材を、転写版
の凹部から媒体に、弾性層を介して転写して、厚膜パタ
ーンを媒体上に形成するものであることにより、これを
達成している。即ち、転写版は、フォトリソ法の応用等
により、大面積で、高精細に作製することが可能で、転
写用素材を大面積で高精細に転写版の凹部へ形成するこ
とができ、且つ、転写用素材を転写版から媒体に、弾性
層を介して転写することにより、転写を確実に行うこと
を可能としている。

【００１１】弾性層の形成方法としては、シート状で供
給され、媒体側あるいは、転写用素材を充填した転写版
側にラミネートされて、転写版と媒体との間に設けられ
る方法、あるいは、媒体にあるいは転写用素材を充填し
た転写版に、印刷あるいはコーティングされて、転写版
と媒体との間に設けられる方法が、量産性に向く方法と
して挙げられる。

【００１２】媒体がプラズマディスプレイパネル用背面
板で、形成する厚膜パターンが障壁部である場合にも適
用でき、特に、弾性層は、誘電体層とすると有効であ
る。この場合、弾性層は、５〜５０μｍの弾性歪みを吸
収できるものであることにより、転写版の障壁形成用の
転写用素材の充填バラツキを吸収でき、且つ、転写版の
凹部のパチツキや背面板の平坦精度バラツキにも充分対
応できる。

【００１３】そして、弾性層が、粘着性を有するもので
あることにより、転写を容易とでき、特に、弾性層が、
タック性を有するものであることにより、作業性をより
し易いものとしている。また、転写用素材は、光等のエ
ネルギーにより硬化する硬化性を有するものであって、
凹部に充填された転写用素材を光等のエネルギーで硬化
させた後、弾性層を介して媒体と圧着し、主として弾性
層の粘着力の作用により転写用素材を媒体に転写するこ
とにより、あるいは、凹部に充填された転写用素材と媒
体とを弾性層を介して圧着した状態で、光等のエネルギ
ーにより転写用素材を硬化する硬化処理を施すことによ
り、あるいはまた、凹部に充填された転写用素材を光等
のエネルギーによりで硬化させた後、弾性層を介して媒
体と圧着した状態で、再度、光等のエネルギーで転写用
素材を硬化させ、転写用素材を媒体に転写することによ
り、確実に転写できるものとしている。更に、弾性層
は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有するも
のであり、弾性層を介して媒体と圧着した状態で、光等
のエネルギーで弾性層を硬化させ、転写用素材と弾性層
とを一体化させ、転写用素材を媒体に転写することによ
り、より確実性の高い転写を可能とする。特に、転写用
素材が、光等のエネルギーにより硬化して、０．０１〜
１０％の体積収縮をするものである場合には、転写版の
凹部から転写用素材がとれ易く、より転写性の良いもの
とできる。また、転写用素材が、溶剤を含まないもので
あることにより、転写版の凹部へ転写用素材を充填後、
乾燥を必要とせず、工程を短かいものとできる。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を挙げ、図に
基づいて説明する。図１は本発明の厚膜パターンの形成
方法の実施の形態の第１の例の工程断面図で、図２は転
写版の凹部への転写用素材の充填方法を説明するための
概略断面図で、図３は媒体上へ弾性層を形成する方法を
示した断面図で、図４は転写用版と媒体との密着の仕方
を示した断面図で、図５は密着した転写版と媒体とを離
す仕方（脱型とも言う）を示した断面図で、図６は転写
版の形態を示した概略図で、図７は本発明の厚膜パター
ンの形成方法の実施の形態の第４の例を説明するための
断面図で、図８は実施の形態の第５の例を説明するため
の断面図で、図９は転写版の製造方法の１例を示した工
程図で、図１１は本発明の厚膜パターンの形成方法の実
施の形態の第２の例を説明するための工程断面図で、図
１２は実施の形態の第３の例を説明するための工程断面
図である。図１〜図８、図１１、図１２中、１１０は転
写版、１１５は凹部、１２０は転写用素材、１２０Ａは
障壁、１３０は媒体（転写する対象物）、１４０は弾性
層、１４０Ａは弾性層用素材、１５０は紫外線（ＵＶ
光）、１６０、１６５はスキージ、１７０は（押圧）ロ
ール、１８０は（弾力性）スペーサ 、１８５は（押
圧）ロール、１９０は回転カム、２１０は転写版、２１
５は凹部（溝）、２２０、２２５はスキージ、２３０は
光源、２３５はミラー、２４０は転写用素材供給用ロー
ル、２５０は転写用素材入れ容器である。

【００１５】はじめに、本発明の厚膜パターンの形成方
法の実施の形態の第１の例を図１を基に説明する。本例
は、平坦な転写版を用いてＰＤＰ用背面板上に障壁を形
成する方法の例で、媒体としては透明なガラス基板を用
い、転写用素材として紫外線硬化型のものを用いた場合
の例である。障壁形成用素材である転写用素材を、転写
版の、転写形成しようとする形状に合わせた所定形状の
凹部に充填して、これをＰＤＰ用背面板上に圧着して転
写する厚膜パターンの形成方法である。簡単には、転写
版の凹部に、厚膜パターンの転写用素材を充填し、転写
用素材充填側を媒体側にして、且つ、転写版と媒体との
間に弾性層を設けて、転写版と媒体とを圧着させ、この
後、転写版と媒体とを引き離して、厚膜パターンの転写
用素材を、転写版から媒体に、弾性層を介して転写し
て、厚膜パターンを媒体上に形成するものである。先
ず、転写版１１０を用意し（図１（ａ））、凹部１１５
に転写用素材１２０を充填する。転写版としては、後述
する図９に示す工程で作製された転写版（図９の３０
０）等を使用することができる。凹部１１５への転写用
素材の充填は、図２に示すように、スキージ１６０に
て、凹部１１５以外に付着した転写用素材１２０をかき
取りながらスキージ１６０を矢印の方向に移動させて、
凹部１１５のみに転写用素材１２０を充填する。（図１
（ｂ）） 次いで、転写版１１０の転写用素材１２０充填側を媒体
１３０側にして、且つ、転写版１１０と媒体１３０との
間に弾性層１４０を設けて、転写版１１０と媒体１３０
とを圧着した後、紫外線１５０を露光し、充填されてい
る障壁形成用の転写用素材１２０を硬化する。（図１
（ｃ）） 転写版１１０と媒体１３０との圧着は、例えば、図３
（ａ）に示すように、シート状で供給された弾性層１４
０を、（押圧）ロール１７０を用いて、背面板である媒
体１３０側にラミネートした状態で、あるいは、図３
（ｂ）に示すように、スキージ１６５により、背面板で
ある媒体１３０側に塗布し、乾燥した状態で、転写版１
１０と媒体１３０とを圧着させて行う。勿論、圧着前、
弾性層１４０を、転写版側に、図３（ａ）や図３（ｂ）
に示す方法を用いて形成しても良い。

【００１６】転写版１１０と媒体１３０との圧着は、図
４（ａ）に示すように、転写版１１０と媒体１３０とを
スペーサ１８０により密閉し、減圧排気して、両者間の
圧を大気中より低して、密着した転写版１１０と媒体１
３０とを充分に圧着する方法や、（押圧）ロール１８５
を用い、密着した転写版１１０と媒体１３０とを充分に
圧着する方法が採られる。

【００１７】障壁形成用の転写用素材１２０を硬化した
後、転写版１１０と媒体１３０とを引き離して、転写用
素材を、転写版１１０から媒体１３０に、弾性層１４０
を介して転写して、厚膜パターンである障壁１２０Ａを
媒体１３０上に形成する。（図１（ｄ）） 転写版１１０と媒体１３０との引き離しは、例えば、減
圧排気を止めた状態で、図５に示すように、（回転）カ
ム１９０を用いて、両者間に隙間を作り大気圧を利用し
て行うことができる。

【００１８】本例の転写用素材１２０は紫外線硬化型で
あるが、転写用素材を適宜選び、他のエネルギーによ
り、硬化するようにしても良い。転写用素材１２０とし
ては、硬化により、０．０１〜１０％の体積収縮をする
ものが、転写性の面から特に好ましい。また、転写用素
材１２０としては、溶剤を含まないものが、転写版１１
０の凹部１１５へ転写用素材１２０を充填後、乾燥を必
要とせず、工程を短かいものとでき、好ましい。具体的
には、後述するように、ガラスフリットを含む無機成分
と、焼成除去可能な有機成分を少なくとも含有するもの
が適用できる。

【００１９】本例の場合、弾性層１４０は、誘電体層で
あり、転写版１１０の障壁形成用の転写用素材１２０の
充填バラツキを吸収するため、および、転写版１１０の
凹部のバラツキや背面板の平坦精度バラツキにも充分に
対応できるようにするため、弾性層１４０は、５〜５０
μｍの弾性歪みを吸収できるものを適宜選ぶ弾性層１４
０は、転写性や作業性の面から粘着性を有するものが良
く、特に、タック性を有するものが好ましい。具体的に
は、後述するように、ガラスフリットを含む無機成分
と、焼成除去可能な有機成分、を少なくとも含有するも
のが適用できる。

【００２０】以下、転写用素材１２０について述べる。
転写用素材１２０は、以下に記載するような、ガラスフ
リットを含む無機成分（１）と焼成除去可能な有機成分
（２）を少なくとも含有するものが適用できる。 （１）無機成分 上記のガラスフリットとしては、例えば、軟化温度が３
５０〜６５０℃であり、熱膨張係数α₃₀₀ が６０×１０
^-7〜１００×１０^-7／℃であろガラスフリットを使用す
ることができる。ガラスフリットの軟化温度が６５０℃
を超えると焼成温度を高くする必要があり、例えば、被
パターン形成体の耐熱性か低い場合には焼成段階で熱変
形を生じることになり好ましくない。また、ガラスフリ
ットの軟化温度が３５０℃未満では、焼成により有機成
分が完全に分解、揮発して除去される前にガラスフリッ
トが融着するため、空隙を生しやすく好ましくない。さ
らに、ガラスフリットの熟膨張係数α₃₀₀ が６０×１０
^-7／℃未満、あるいは、１００×１０^-7／℃を超える
と、被パターン形成体の熱膨張係数との差が大きくなり
すぎる場合があり、歪み等を生じることになり好ましく
ない。このようなガラスフリットの平均粒径は０．１〜
１０μｍの範囲か好ましい。このようなガラスフリット
としては、例えばＢｉ₂ ０₃ 、ＺｎＯまたはＰｂＯを主
成分とするガラスフリットを使用することかてきる。

【００２１】また、転写用素材１２０は、無機粉体とし
て酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、
酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンすウ
ム、酸化バリウム、炭酸カルシウム等の無機粉体をガラ
スフリット１００重量部に対して３０重量部以下の範囲
で含有することができる。このような無機粉体は、平均
粒径が０．１〜１０μｍの範囲が好ましく、骨材として
焼成時のパターン流延防止の作用をなし、また、反射率
や誘電率を制御する作用をなすものである。

【００２２】また、形成したパターンの外光反射を低減
するために、無機粉体として耐火性の黒色顔料あるいは
白色顔料を転写用素材１２０に含有させることができ
る。耐火性の黒色顔料としては、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃ
ｏ−Ｍｎ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−
Ｎｉ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆ
ｅ−Ｓｉ等を挙げることができる。また、耐火性の白色
顔料としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、シリ
カ、炭酸カルシウム等が挙げられる。

【００２３】（２）有機成分 転写用素材１２０に含有される焼成除去可能な有機成分
として、熱可塑性樹脂を使用することができる。

【００２４】熱可塑性樹脂は、上述の無機成分のバイン
ダとして、また、転写性の向上を目的として含有させる
ものであり、例えば、メチルアクリレート、メチルメタ
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルノタクリ
レート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタ
クリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタ
クリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチル
メタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ペン
チルメタクリレート、ｎ−へキシルアクリレート、ｎ−
ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチ
ルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−デ
シルアクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α
−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等の１
種以上からなるポリマーまたはコポリマー、エチルセル
ロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。

【００２５】特に、上記のなかでメチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎープロピ
ルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプ
ロピルメククリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアク
リレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−
ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレートの１種以上からなるポリマーまたは
コポリマー、エチルセルロースが好ましい。

【００２６】上記の熱可塑性樹脂の分子量は、１０，０
００〜５００，０００の範囲が好ましい。

【００２７】また、転写用素材１２０に含有される焼成
除去可能な有機成分として、感光性樹脂組成物を使用す
ることができる。

【００２８】感光性樹脂組成物は、少なくともポリマ
ー、モノマーおよぴ開始剤を含有するものであり、焼成
によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存
させることのないものである。

【００２９】ポリマーとしては、メチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプ
ロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−へキシルアクリ
レート、ｎ−へキシルメタクリレート、２−エチルヘキ
シルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリ
レート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエ
チルメタクリレ−ト、ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α
−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンの１種
以上と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量
体（例えば、東亜合成（株）製Ｍ−５６００）、コハク
酸２−メククリロイルオキシエチル、コハク酸２−アク
リロイルオキシエチル、フタル酸２−メタクリロイルオ
キシエチル、フタル酸２−アクリロイルオキシエチル、
ヘキサヒドロフタル酸２−メタクリロイルオキシエチ
ル、へキサヒドロフタル酸２−アクリロイルオキシエチ
ル、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、
ビニル酢酸、これらの酸無水物等の１種以上からなるポ
リマーまたはコポリマー、カルボキシル基含有セルロー
ス誘導体等か挙げられる。

【００３０】また、上記のコポリマーにグリシジル基ま
たは水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させ
たポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。

【００３１】上記のポリマーの分子量は、５，０００〜
３００，０００、好ましくは３０，０００〜１５０，０
００の範囲である。また、上記のポリマーに他のポリマ
ー、例えば、メタクリル酸エステルポリマー、ポリビニ
ルアルコール誘導体、Ｎ−メチル−２−ピロリドンポリ
マー、セルロース誘導体、スチレンポリマー等を混合す
ることができる。

【００３２】感光性樹脂組成物を構成する反応性モノマ
ーとしては、少なくとも１つの重合可能な炭素一炭素不
飽和結合を有する化合物を用いることかできる。具体的
には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブ
トキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコー
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシク
ロペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリ
レート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレー
ト、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレ
ート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアク
リレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、
フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジア
クリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３
−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキ
サンジオールジアクリレート、２．２−ジメチロールプ
ロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロー
ルトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチ
レンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、プロピレンオキサイド
変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピル
トリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレング
リコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオー
ルトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３
−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレー
ト、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、上
記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニ
ル−２−ピロリドン等が挙げられる。上記の反応性モノ
マーは、１種または２種以上の混合物として、あるい
は、その他の化合物として、使用することができる。

【００３３】感光性樹脂組成物を構成する光重合開始剤
としては、ベンゾフェノン、０−ベンゾイル安息香酸メ
チル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノ
ン、４，４一ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、
α一アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾ
フェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケト
ン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２一ジエト
キシアセトフォノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニ
ルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピ
オフェノン、ｐ−tert一ブチルジクロロアセトフェノ
ン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−
クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサント
ン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケター
ル、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキ
ノン、２−tert−ブチルアントラキノン、２−アミルア
ントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロ
ン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンア
ントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６
−ビス（ｐ一アジドベンジリデン）シクロヘキサン、
２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチル
シクロヘキサノン、２−フェニルー１，２−ブタジオン
−２−（０−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェ
ニループロパンジオン−２−（０−エトキシカルボニ
ル）オキシム、１，３−ジフェニループロパントリオン
−２−（０−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェ
ニル−３−エトキシープロパントリオン−２−（０−ベ
ンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２ーメチル−
〔４−〈メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−
１−プロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ナフ
タレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロ
ライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビ
スイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベン
ズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、
カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニル
スルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブル
ー等の光導元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノー
ルアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられ、これら
の光重含開始剤を１種または２種以上使用することがて
きる。

【００３４】このような熱可塑性樹脂あるいは感光性樹
脂組成物の転写用素材１２０における含有量は、上述の
無機成分１００重量部に対して３〜５０重量部、好まし
くは５〜３０重量部の範囲で設定することかできる。熱
可塑性樹脂や感光性樹脂組成物の含有量が３重量部未満
であると、転写用素材１２０の形状保持性が低く、転写
の確実性を損なうおそれがある。一方、熱可塑性樹脂や
感光性樹脂組成物の含有量が５０重量部を超えると、焼
成により有機成分を完全に除去することができず、焼成
後の膜中に炭化物が残り品質が低下するので好ましくな
い。

【００３５】さらに、上述の熟可塑性櫛脂、感完性樹脂
組成物には、添加剤として、増感剤こ重合停止剤、迫鎖
移勤剤、レベリング剤、分散剤、転写性付与剤、安定
剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤、剥離剤等を必要に応
じて含有することができる。

【００３６】転写性付与剤は、転写性、インキ組成物の
流動性を向上させることを目的として添加され、例え
ば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−ｎ
−オクチルフタレート等のノルマルアルキルフタレート
類、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジイソデシル
フタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニル
フタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチ
ルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸エステル
類、トリ−２−エチルベキシルトリノリテート、トリ−
ｎ−アルキルトリメリテート、トリイソノニルトリメリ
テ−ト、トリイソデシルトリノリテート等のトリメリッ
ト酸エステル、ジメチルアジペート、ジブチルアジペー
ト、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシル
アジペート、ジブチルジグリコールアジペート、ジ−２
−エチルヘキシルアジテート、ジメチルセパケート、ジ
プチルセパケート、ジ−２−エチルヘキシルセパケー
ト、ジ−２−エチルヘキシルマレート、アセチルートリ
−（２−エチルヘキシル）シトレート、アセチルートリ
−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリブチルシトレー
ト等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリエチレングリコ
ールベンゾエート、トリエチレングリコ−ルージ−（２
−エチルヘキソエート）、ポリグリコールエーテル等の
グリコール誘導体、グリセロールトリアセテート、グリ
セロールジアセチルモノラウレート等のグリセリン誘導
体、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸
等からなるポリエステル系、分子量３００〜３０００の
低分子量ポリエ一テル、同低分子，ポリ−α−スチレ
ン、同低分子量ポリスチレン、トリメチルホスフェー
ト、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェー
ト、トリー２ーエチルヘキシルボスフェート、トリブト
キシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、
トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェー
ト、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフ
ェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホ
スフェート等の正リン酸エステル類、メチルアセチルリ
シノレート等のリシノール酸エステル類、ポリ−１，３
−ブタンジオールアジペート、エポキシ化大豆油等のポ
リエステル・エポキシ化エステル類、グリセリントリア
セテート、２−エチルヘキシルアセテート等の酢酸エス
テル類を挙げることかできる。

【００３７】また、分散剤、沈降防止剤は、上記の無機
粉体の分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであ
り、例えば、リン酸エステル系、シリコーン系、ひまし
油エステル系、各種界面活性剤等が挙げられ、消泡剤と
しては、例えば、シリコーン系、アクリル系、各種界面
活性剤等が挙げられ、剥離剤としては、例えば、シリコ
ーン系、フッ素油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸
エステル系、ひまし油系、ワックス系、コンパウンドタ
イプ等が挙げられ、レベリング剤としては、例えば、フ
ッ素系、シリコーン系、各種界面活性剤等が挙げられ、
それぞれ適量添加することができる。

【００３８】また、転写用素材１２０形成のために熱可
塑性樹脂あるいは感光性樹脂組成物とともに用いる溶剤
としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロ
パノ−ル、イソプロパノール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ
−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドン、ジエチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプ
タノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチ
ルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチル
セロソルブ、エチルセロソルプ、カルビトール、メチル
カルビトール、エチルカルビトール、プチルカルビトー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチル
エ一テル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル
等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、
セロソルプアセテート、エチルセロソルプアセテート、
ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテー
ト、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトー
ルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエ一テ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、２ーメトキシエチルアセテート、シクロ
ヘキシルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、
３−メトキシプチルアセテート等の酢酸エステル類、ジ
エチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレン
グリコールジアルキル工一テル、３−エトキシプロピオ
ン酸エチル、安息香酸メチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられ
る。

【００３９】弾性層１４０も、転写用素材１２０と同
様、ガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な有
機成分を少なくとも含有するものが適用できる。弾性層
１４０に含有される無機成分として、外光反射を低減す
るための、無機粉体として耐火性性の黒色顔料は使用で
きない点を除き、上記、転写用素材１２０と同様の無機
成分ものを用いることができる。また、弾性層１４０と
しては、弾性層１４０に含有される焼成除去可能な有機
成分として、上記転写用素材１２０と同様のものを使用
できる。尚、本例はＰＤＰ用背面板への障壁部の形成例
であるが、他の厚膜パターンの形成においては、適宜、
弾性層の材質を選ぶ。

【００４０】次に、本例に用いられる転写版１１０の形
成方法の１例を、図９に基づいて簡単に説明しておく。
図９に示す転写版の形成方法は、簡単には、非導電性の
ベース基材３１０の一面上に、形成しようとする凹部に
相当する所定の厚さで、且つ、凹部の絵柄に合わせた所
定のレジストパターンをフ当する所定の厚さで、且つ、
凹部の絵柄に合わせた所定のレジストパターンをフォト
リソ法により形成した後、ベース基板３１０のレジスト
パターン（図９の硬化部３２０Ａに相当）が形成された
側の表面部上に導電性薄膜を設け、更に、該導電性薄膜
に、レジストパターン全体を一体的に覆うように電解め
っきを施し、電解めっき層を形成し、次いで、ベース基
材３１０とその上に形成されたレジストパターンから、
電解めっき層と導電性薄膜とを剥離して、電解めっき層
と導電性薄膜とからなる転写版を得る転写版の製造方法
である。

【００４１】先ず、ベース基板３１０の一面上に、ネガ
型の感光性レジスト３２０を形成しようとする凹部に相
当する所定の厚さで塗膜しておく。（図９（ａ）） ベース基板３１０としては、非導電性のガラス基板が一
般的に用いられるが、非導電性で、且つ、剛性があり、
表面がめっき剥離性のものが好ましく、特にガラス基板
に限定はされない。レジスト３２０としては、目的とす
る凹部を形成するのに適したものであれば特に限定され
ない。即ち、形成する凹部の深さに相当する厚さを得ら
れるもので、且つ、めっき剥離性、解像性が良いものが
好ましい。例えば、プラズマディスプレイパネル用背面
板の障壁（１００μｍ〜２００μｍ）程度の厚さを得た
い場合には、ニチゴー・モートン株式会社製、ＮＩＴ−
６５０等のレジストが使用できる。次いで、所定のフォ
トマスク（パターン版とも言う）３３０を用いて、レジ
スト３２０の所定の領域を露光する。（図９（ｂ）） 本例ではネガ型のレジストを用いているため、フォトマ
スク３３０の（電離放射線）透過部３３０Ａを透過し
た、所定の電離放射線により照射された部分が硬化して
硬化部３２０Ａを形成する。電離放射線としては、使用
するレジスト３２０にあわせて、可視光、紫外線、遠紫
外線、電子線、Ｘ線等が使用できる。続く現像処理を行
うことにより、硬化部３３０Ａのみがベース基板３１０
に残る。（図９（ｃ）） 残った硬化部３２０Ａは、形成する凹部の形状に相当す
る。次いで、レジストの硬化部３２０Ａ（これを単にレ
ジストパターンともここでは言う）が形成されたベース
基板３１０の表面部（露出部）上に、無電解めっきを行
うための活性化処理を施した後に、無電解めっきを施
し、導電性薄膜３７０を形成する。（図９（ｄ）） Ｐｄ等の触媒となる金属を用いて行い、無電解Ｎｉめっ
き、無電解Ｐｄめっき等を施す。このように、レジスト
の硬化部３２０Ａが形成された側のベース基板の表面部
を導電性にした後、これをもとに、この上に、レジスト
の硬化部３２０Ａ全体（レジストパターン）を覆うよう
に、一体的に、電解めっきを施す。（図９（ｅ）） 電解めっきとしては、電解Ｎｉめっきが好ましいが、こ
れに限定はされない。また、各種材質のめっきを多層に
して形成しても良い。次いで、ベース基板３１０とその
上に形成されたレジストパターン（硬化部３２０Ａ）か
ら、電解めっき層３８０と導電性薄膜３７０とを剥離し
て、電解めっき層３８０と導電性薄膜３７０とからなる
転写版３００（図１の１１０に相当）を得る。（図９
（ｆ））

【００４２】図９示す転写版の形成方法では、無電解め
っきにより、導電性薄膜３７０を形成しているが、本例
における転写版の形成方法は、特にこれに限定されな
い。また、図９ではネガ型のレジストを用いているが、
場合によってはポジ型のレジストも適用できる。レジス
トの膜厚が厚い場合、レジストの露光（電離放射線照
射）量にもよるが、硬化部３２０Ａのベース基板と接す
る部分が細ることがあるので、処理条件を適当にして行
う。

【００４３】次いで、本発明の厚膜パターンの形成方法
の実施の形態の第２の例を図１１に基づいて説明する。
本例は、第１の例と同様、平坦な転写版を用いて、ＰＤ
Ｐ用背面板上に障壁を形成する方法の例で、媒体として
は透明なガラス板を用い、転写用素材として紫外線硬化
型のものを用い、弾性層用素材として粘着性素材を用い
た場合の例である。障壁形成用素材である転写用素材
を、転写版の、転写形成しようとする形状に合わせた所
定形状の凹部に充填して、これを、ＰＤＰ用背面板上に
圧着して転写する厚膜パターンの形成方法である。簡単
には、転写版の凹部に、厚膜パターンの転写用素材を充
填し、転写用素材充填側を媒体側にして、且つ、転写版
と媒体との間に粘着性弾性層を設けて、転写版と媒体と
を圧着させ、この後、転写版と媒体とを引き離して、厚
膜パターンの転写用素材を、転写版から媒体に、粘着性
弾性層を介して転写して、厚膜パターンを形成するもの
である。まず、転写版１１０を用意し（図１１
（ａ））、凹部１１５に転写用素材１２０を充填した
後、紫外線を照射し、転写版１１０の凹部１１５に充填
された転写用素材１２０を硬化させる。（図１１
（ｂ）） 転写版１１０の作製、及び転写用素材１２０の凹部１１
５への充填については、第１の例と同様に行う。次い
で、転写版１１０の転写用素材１２０充填側を媒体側１
３０にして、且つ、転写版１１０と媒体１３０との間に
弾性層１４０を設けて、転写版１１０と媒体１３０とを
圧着する。（図１１（ｃ）） 転写版１１０と媒体１３０との圧着方法、弾性層の配設
方法は、第１の例と同様に行う。次いで、転写版１１０
と媒体１３０とを引き離し、弾性層１４０の粘着力によ
り、転写用素材１２０を媒体側に転写して、厚膜パター
ンである障壁１２０Ａを媒体１３０上に形成する。（図
１１（ｄ）） 転写版１１０と媒体１３０との引き離しは、第１の例と
同様に行う。また、転写版用素材は第１の例と同様のも
のを用いることができ、弾性層は、第１の例の中で、特
に粘着力が高いものを用いることが好ましい。

【００４４】次いで、本発明の厚膜パターンの形成方法
の実施の形態の第３の例を図１２に基づいて説明する。
本例は、第１の例と同様、平坦な転写版を用いて、ＰＤ
Ｐ用背面板上に障壁を形成する方法の例で、媒体として
は透明なガラス板を用い、転写用素材および弾性層とし
て紫外線硬化型のものを用いた場合の例である。障壁形
成用素材である転写用素材を、転写版の、転写形成しよ
うとする形状に合わせた所定形状の凹部に充填して、こ
れを、ＰＤＰ用背面板上に圧着して転写する厚膜パター
ンの形成方法である。簡単には、転写版の凹部に、厚膜
パターンの転写用素材を充填し、転写用素材充填側を媒
体側にして、且つ、転写版と媒体との間に弾性層を設け
て、転写版と媒体とを圧着させ、この後、転写版と媒体
とを引き離して、厚膜パターンの転写用素材を、転写版
から媒体に、弾性層を介して転写して、厚膜パターンを
形成するものである。まず、転写版１１０を用意し（図
１２（ａ））、凹部１１５に転写用素材１２０を充填し
た後、紫外線を照射し、転写版１１０の凹部１１５に充
填された転写用素材１２０を硬化させる。（図１２
（ｂ）） 転写版１１０の作製、及び転写用素材１２０の凹部１１
５への充填については、第１の例と同様に行う。次い
で、転写版１１０の転写用素材１２０充填側を媒体側１
３０にして、且つ、転写版１１０と媒体１３０との間に
弾性層１４０を設けて、転写版１１０と媒体１３０とを
圧着した後、この状態で、紫外線１５０を照射して、転
写用素材１２０と弾性層１４０とを硬化、一体化させ
る。（図１２（ｃ）） 転写版１１０と媒体１３０との圧着方法、弾性層の配設
方法は、第１の例と同様に行う。次いで、転写版１１０
と媒体１３０とを引き離し、弾性層１４０の粘着力によ
り、転写用素材１２０を媒体側に転写して、厚膜パター
ンである障壁１２０Ａを媒体１３０上に形成する。（図
１２（ｄ）） 転写版１１０と媒体１３０との引き離しは、第１の例と
同様に行う。また、転写版用素材は第１の例と同様のも
のを用いることができ、弾性層は、第１の例の中で、紫
外線硬化性のものに限り用いることができる。

【００４５】次いで、本発明の厚膜パターンの形成方法
の実施の形態の第４の例を図７に基に説明する。本例
は、ロール状の転写版を用いてＰＤＰ用背面板上に障壁
を形成する方法の例で、媒体としては透明なガラス基板
を用い、転写用素材として紫外線硬化型のものを用いた
場合の例である。第１の例と同様、障壁形成用素材であ
る転写用素材を、転写版の、転写形成しようとする形状
に合わせた所定形状の凹部に充填して、これをＰＤＰ用
背面板上にに圧着して転写する厚膜パターンの形成方法
である。簡単には、凹部に充填された転写用素材と媒体
との間に弾性層を設け、凹部に充填された転写用素材と
媒体とを弾性層を介して圧着した後、少なくとも、圧着
されている転写版部分と圧着されている媒体とを引き離
して、転写用素材を、転写版の凹部から媒体に、弾性層
を介して転写して、厚膜パターンを媒体上に形成するも
のである。本例では、ロール状の転写版２１０として、
図６（ｂ）に示すような、ロールの軸方向に凹部（溝）
２１５を絵柄に対応して設けたものを使用するが、図６
（ａ）に示すような、ロールの円周に沿い凹部（溝）２
１５を設けたものを使用することもできる。先ず、図３
（ａ）や、図３（ｂ）に示す方法を用いて、媒体の一面
に弾性層１４０を形成しておく。そして、転写版２１０
を回転させながら、媒体１３０をロール状の転写版２１
０の転写用素材１２０を充填した凹部（図３の２１５に
相当）と接するようにして、転写版２１０の回転に合わ
せ、直進移動させる。弾性層１４０を転写版２１０側に
向け、媒体１３０と転写版２１０とをロール（転写版）
の１線上で接するようにし、圧をかける。

【００４６】転写用素材１２０を転写版２１０の所定の
形状の凹部へ充填するは、本例では、図７に示すように
スキージ２２０にて余分の転写用素材をかき取りなが
ら、凹部のみに転写用素材１２０を充填する。充填され
た凹部の転写用素材１２０は、転写版２１０の回転移動
により、媒体１３０と接する箇所へと進むが、媒体１３
０と接する箇所に設けられた光源２３０、ミラー２３５
から、紫外線（ＵＶ光）１５０を照射されて、凹部の転
写用素材１２０は硬化する。転写版２１０、媒体１３０
の移動により、圧着されている転写版部分と圧着されて
いる媒体とが引き離されるが、これにより、凹部の硬化
された転写用素材１２０が、転写版２１０から媒体１３
０へ転写される。本例では、転写版２１０を連続的に回
転させ、上記の手順を繰り返すことができ、連続的に転
写を行うことも可能である。使用する転写版は、第１の
例と同様の転写版をロール状にして用いてもよいが、そ
れに限定されない。転写用素材、弾性層も第１の例と同
様のものを用いることができる。

【００４７】次いで、本発明の厚膜パターンの形成方法
の実施の形態の第５の例を図８を基に簡単に説明する。
本例は、第４の例と同様、ロール状の転写版を用いてＰ
ＤＰ用背面板上に障壁を形成する方法の例で、媒体とし
ては透明なガラス基板を用い、転写用素材として紫外線
硬化型のものを用いた場合の例であるが、凹部（図３の
２１５に相当）への転写用素材１２０の充填を、転写用
素材入れ容器２５０から転写用素材供給用ロール２４０
を介して行い、スキージ２２５にて余分の転写用素材１
２０をかき取るものである。他については、第４の例と
同様で、ここでは、説明を省く。

【００４８】

【発明の効果】本発明は、上記のように、ＰＤＰ用背面
板の障壁のような、大面積で、高精細のものを、品質的
にも満足できるように、目的とする媒体上に転写形成す
ることを可能とする厚膜パターンの形成方法の提供を可
能とした。特に、これにより、益々のＰＤＰＰの大型化
と精細化に対応でき、且つ量産にも対応できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の厚膜パターン形成方法の実施の形態の
第１の例の工程の断面図

【図２】転写版の凹部への転写用素材の充填方法を説明
するための概略図

【図３】媒体上へ弾性層を形成する方法を示した概略図

【図４】転写用版と媒体との密着の仕方を示した断面図

【図５】密着した転写用版と媒体とを離す仕方（脱型と
も言う）を示した断面図

【図６】転写版の形態を示した図

【図７】本発明の厚膜パターン形成方法の実施の形態の
第４の例のを説明するための概略図

【図８】本発明の厚膜パターン形成方法の実施の形態の
第５の例のを説明するための概略図

【図９】転写版の製造方法の１例の工程の断面図

【図１０】ＰＤＰ基板を説明するための図

【図１１】本発明の厚膜パターン形成方法の実施の形態
の第２の例の工程の断面図

【図１２】本発明の厚膜パターン形成方法の実施の形態
の第３の例の工程の断面図

【符号の説明】

１１０ 転写版 １１５ 凹部 １２０ 転写用素材 １２０Ａ 障壁 １３０ 媒体（転写する対象物） １４０ 弾性層 １４０Ａ 弾性層用素材 １５０ 紫外線（ＵＶ光） １６０、１６５ スキージ １７０ （押圧）ロール １８０ （弾力性）スペーサ １８５ （押圧）ロール １９０ 回転カム ２１０ 転写版 ２１５ 凹部（溝） ２２０ スキージ ２３０ 光源 ２３５ ミラー ２４０ 転写用素材供給用ロール ２５０ 転写用素材入れ容器 ３００ 転写版 ３１０ ベース基板（ベース基材） ３２０ （ネガ型の）感光性レジスト ３２０Ａ 硬化部 ３３０ フォトマスク ３３０Ａ （電離放射線）透過部 ３３０Ｂ 遮光部 ３４０ 電離放射線 ３７０ 導電性薄膜 ３８０ 電解めっき層 ３９０ 凹部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D075 BB46Z CA47 DA06 DB13 DC22 EA21 EA45 5C027 AA09 5C040 FA01 GB03 GB14 GF02 GF19 JA19 JA20 MA25 MA26

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 転写用素材を、転写形成しようとする形
   状に合わせた所定形状の凹部に充填して、これを目的と
   する媒体上に圧着して転写する転写版を用いた、厚膜パ
   ターンの形成方法であって、転写版の凹部に、厚膜パタ
   ーンの転写用素材を充填し、凹部に充填された転写用素
   材と媒体との間に弾性層を設け、凹部に充填された転写
   用素材と媒体とを弾性層を介して圧着した後、少なくと
   も、圧着されている転写版部分と圧着されている媒体部
   分とを引き離して、転写用素材を、転写版の凹部から媒
   体に、弾性層を介して転写して、厚膜パターンを媒体上
   に形成するものであることを特徴とする厚膜パターンの
   形成方法。
2. 【請求項２】 請求項１において、弾性層は、シート状
   で供給され、媒体側あるいは、転写用素材を充填した転
   写版側にラミネートされて、転写版と媒体との間に設け
   られることを特徴とする厚膜パターンの形成方法。
3. 【請求項３】 請求項１において、弾性層は、媒体にあ
   るいは、転写用素材を充填した転写版に、印刷あるいは
   コーティングされて、転写版と媒体との間に設けられる
   ことを特徴とする厚膜パターンの形成方法。
4. 【請求項４】 請求項１ないし３において、媒体がプラ
   ズマディスプレイパネル用背面板で、厚膜パターンが障
   壁部であることを特徴とする厚膜パターンの形成方法。
5. 【請求項５】 請求項４における弾性層は、誘電体層で
   あることを特徴とする厚膜パターンの形成方法。
6. 【請求項６】 請求項４ないし５における弾性層は、５
   〜５０μｍの弾性歪みを吸収できるものであることを特
   徴とする厚膜パターンの形成方法。
7. 【請求項７】 請求項１ないし６における弾性層は、粘
   着性を有するものであることを特徴とする厚膜パターン
   の形成方法。
8. 【請求項８】 請求項７における弾性層は、タック性を
   有するものであることを特徴とする厚膜パターンの形成
   方法。
9. 【請求項９】 請求項１ないし８において、弾性用素材
   は、溶剤を含まないものであることを特徴とする厚膜パ
   ターンの形成方法。
10. 【請求項１０】 請求項１ないし９において、転写用素
    材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有する
    ものであり、凹部に充填された転写用素材を光等のエネ
    ルギーで硬化させた後、弾性層を介して媒体と圧着し、
    主として弾性層の粘着力の作用により転写用素材を媒体
    に転写することを特徴とする厚膜パターンの形成方法。
11. 【請求項１１】 請求項１ないし９において、転写用素
    材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有する
    ものであり、凹部に充填された転写用素材と媒体とを弾
    性層を介して圧着した状態で、光等のエネルギーにより
    転写用素材を硬化する硬化処理を施すことを特徴とする
    厚膜パターンの形成方法。
12. 【請求項１２】 請求項１ないし９において、転写用素
    材は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有する
    ものであり、凹部に充填された転写用素材を光等のエネ
    ルギーによりで硬化させた後、弾性層を介して媒体と圧
    着した状態で、再度、光等のエネルギーで転写用素材を
    硬化させ、転写用素材を媒体に転写することを特徴とす
    る厚膜パターンの形成方法。
13. 【請求項１３】 請求項１１ないし１２における弾性層
    は、光等のエネルギーにより硬化する硬化性を有するも
    のであり、弾性層を介して媒体と圧着した状態で、光等
    のエネルギーで弾性層を硬化させ、転写用素材と弾性層
    とを一体化させ、転写用素材を媒体に転写することを特
    徴とする厚膜パターンの形成方法。
14. 【請求項１４】 請求項１１ないし１３において、転写
    用素材は、光等のエネルギーにより硬化して、０．０１
    〜１０％の体積収縮をするものであることを特徴とする
    厚膜パターンの形成方法。
15. 【請求項１５】 請求項１１ないし１４において、転写
    用素材は、溶剤を含まないものであることを特徴とする
    厚膜パターンの形成方法。