JP2000215729A - 導電性ペ―スト、およびそれを用いた導電性構造、電子部品、実装体、回路基板、電気的接続方法、回路基板の製造方法、及びセラミック電子部品の製造方法 - Google Patents

導電性ペ―スト、およびそれを用いた導電性構造、電子部品、実装体、回路基板、電気的接続方法、回路基板の製造方法、及びセラミック電子部品の製造方法

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JP2000215729A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐歪応力特性の良い低抵抗な導電ペーストの
実現。 【解決手段】 導電性粒子3と、加熱あるいは減圧時に
発泡する発泡性材料と、樹脂とを含有し、発泡性材料が
発泡した後でも、導電性を失わなず、発泡性材料の発泡
によって形成された多数の実質上空洞4を有する導電性
構造を持つ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品の基板へ
の実装や、電極間接合等に用いられる、導電性ペースト
等に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、電子部品の基板への実装や電極間
の接合に用いられてきた導電性接着剤は、その目的が固
定と電気的接続であるため、固定用の粘着性の樹脂や硬
化性の樹脂ペースト中に、導電性を有する銀や銅などの
金属粒子を分散させたものが一般的であった。
【0003】接着が有効になるためには、接着剤と被着
体の表面がミクロなレベルで充分近接することが重要で
ある。粘着タイプの場合は柔軟で変形しやすく被着体表
面との親和性の高い樹脂が、また、硬化タイプの場合は
流動性および濡れ性が高い樹脂が用いられてきた。これ
により、粘着タイプ、硬化タイプいずれの場合も、接着
剤は被着体のミクロな凹凸に入ることができ、良好な接
着性を達成できる。
【0004】一方、導電性粒子はその用途によって各種
形状の粒子が用いられてきたが、粘着タイプ、硬化タイ
プともに、良好な電気的接続を得るために低抵抗である
ことが要求され、接着剤中の導電性粒子の含有率を向上
させ、かつ気泡を除去し、導電性粒子による体積占有率
を高くするようなされてきた。
【0005】また、硬化タイプでは、硬化時に体積収縮
が起こるので、発生する内部応力を緩和するために可塑
剤等の添加が行われることもあった。
【0006】導電性接着剤を用いる電気的接合方法は、
一般には、その簡便さから種々の分野に利用されている
が、昨今、樹脂自体が、あるいは可塑剤が添加されてい
るために柔軟性を有するということで、熱的および機械
的に歪の発生しやすい部分の電気的接続方法として広く
利用されつつある。また、小型電子部品の端子電極や、
電子部品の基板への実装についても、導電性接着剤を用
いる電気的接合方法の応用展開が著しい。一例として挙
げれば、基板への実装への例が、特開平1−23273
5公報に開示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
導電性接着剤の場合、その導電性が導電性粒子間の接触
により保持されているため、加熱により被着体に膨張収
縮が生じた時や基板がたわんだ際に、応力が発生し、そ
の応力緩和時に粒子間の接触がはずれて抵抗が高くなる
という問題点を有していた。
【0008】また、接続する電極との電気的接続も導電
性粒子と電極との接触により行っているため、上述同様
応力に弱いだけでなく、場合によっては初期から電極と
接着剤との間の界面抵抗が大きくなってしまうという問
題点を有していた。
【0009】他方、近年、電子機器の小型化、高性能化
に伴い、産業用にとどまらず広く民生用機器の分野にお
いてもLSI等の半導体チップを高密度に実装できる多
層配線回路基板が安価に供給されることが強く要望され
てきている。このような多層配線回路基板では微細な配
線ピッチで形成された複数層の配線パターン間を高い接
続信頼性で電気的に接続できることが重要である。
【0010】このような市場の要望に対して従来の多層
配線基板の層間接続の主流となっていたスルーホール内
壁の金属めっき導体に代えて、多層プリント配線基板の
任意の電極を任意の配線パターン位置において層間接続
できるインナービアホール接続法すなわち全層IVH構
造樹脂多層基板と呼ばれるものがある(特開平06−2
68345号公報)。これは多層プリント配線基板のビ
アホール内に導電体を充填して必要な各層間のみを接続
することが可能であり、部品ランド直下にインナービア
ホールを設けることができるために、基板サイズの小型
化や高密度実装を実現することができる。
【0011】しかしながら一般的なインナービアホール
接続方式では、導電性ペーストをスキージ印刷してビア
ホール内へ充填することによって行われているが、とく
に微小径のビアホールに対する導電性ペーストの充填に
は導電性ペーストの粘度特性が重要な役割を占めること
となる。ビアホール充填用導電性ペーストにおいて印刷
特性と層間接続における導電性とはその構成材料面から
見て相反するものである。
【0012】すなわち導電性を向上させるために微粒子
の導電性粒子の構成比を上げると樹脂成分が導電性粒子
の表面に吸着されてペーストの粘度が上昇し、印刷しに
くくなる。またペーストの粘度を下げて印刷特性を向上
させるために表面積の小さい、すなわち粒径の大きい導
電性粒子を用いたり、導電性粒子の構成比を減少したり
すると導電性粒子同士の接触面積が小さくなり、接続信
頼性に問題が生じる。すなわち導電性ペースト中の導電
性は、導電性粒子同士が点接触することにより、またビ
アホールの上面にある電極箔と導電性粒子との電気的接
続も導電性粒子と電極箔との点接触に依存しているた
め、とくに配線パターンが線幅、線間隔ともに微細化さ
れ、したがってビアホール径も微小化されたとき多層配
線間の層間接続において高い接続信頼性を確保すること
が極めて難しいものとなる。
【0013】本発明は、以上のような課題を解決し、低
抵抗でかつ応力に耐えうる導電性構造を形成し得る導電
性ペーストなどを提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】そもそも、たとえば、導
電性ペーストの典型例である接着剤の導電性は、接着剤
中に分散された導電性粒子同士の接触により付与され
る。また、接続する電極との電気的接続は接着剤中の導
電性粒子と電極間の接触により付与される。従って、導
電性粒子間の接触面積および導電性粒子と電極間の接触
面積が大きい程、抵抗が小さく良好な電気的接続が得ら
れる。
【0015】導電性接着剤中に、発泡性材料として例え
ば発泡性樹脂粉を含有させ加熱あるいは減圧により発泡
性樹脂粉を発泡させた場合、マクロ構造としては接着剤
中の導電性粒子の体積含有率が減少する。しかしなが
ら、ミクロ構造的には、導電性粒子間および導電性粒子
と電極間の接触面積は、発泡性樹脂粉を含有させない場
合の接触面積と同等あるいはそれ以上にすることができ
る。これは、例えば自由に膨張できる場所で本発明の硬
化タイプの導電性接着剤を利用する場合には、本発明の
方法のように、樹脂が硬化する前に発泡性樹脂粉を発泡
させ、その後に硬化する工法を採用することにより達成
できる。このとき、導電性粒子間の接触は、発泡により
生じた気泡部以外の部分における樹脂の硬化収縮により
決まるため、発泡性樹脂粉を含まない場合と比べてほと
んど変化せず、導電性粒子間の接合点の数も大きく減少
しない。そのため、導電性接着剤層全体としての導電性
粒子間の接触面積はほぼ同等となる。これにより、導電
性接着剤層の全体体積が増加して見かけの比抵抗は増加
するが、抵抗値としてはあまり増加せず、ほぼ同等の導
電性をもつものになる。一方、一定距離の隙間に導電性
接着剤を入れ硬化させるような場合には、従来の導電性
接着剤を用いると、空間規制により導電性接着剤層全体
の硬化収縮が阻害され、通常期待される硬化収縮による
導電性粒子間の接触面積の増大が阻害される。この場
合、単に膨張させたようになったり、隙間が発生したり
して、抵抗値が高い接続となってしまう。これに対し、
本発明の導電性接着剤を用いると、気泡以外の導電性部
分が硬化収縮する以上に気泡部が膨張するため、限定さ
れた空間の中では、気泡以外の部分には従来と比較して
大きな圧縮応力が発生して加圧されることになる。これ
により従来よりも、導電性粒子間および導電性粒子と被
着される電極間の接触面積が増大し、隙間も発生させず
に、抵抗も低い良接合状態を達成できる。この場合は見
かけの比抵抗も小さくなる。
【0016】これにより、発泡性樹脂粉を含有させても
その含有率が過大とならない限り、発泡を起こさない場
合に比べて、同等以上の導電性を有する接着剤を提供す
ることができる。
【0017】それと同時に、接着剤に発泡性樹脂粉を含
有させた場合、その発泡後の構造体は内部に多数の小気
孔を有した、導電性粒子と接着剤樹脂からなるネットワ
ーク構造となる。多数の気孔を有する構造体は非常に柔
軟性に富み、応力に対して容易に変形し応力緩和するこ
とができる。この応力緩和は主として気孔の変形により
行われ、導電性粒子間の接触および電極との接合を引き
離す力は大きく減衰する。したがって、歪を与えた際に
おいても電気的良接続を保持し続けることが可能とな
る。
【0018】上述したように、導電性接着剤中に発泡性
材料を含有させることにより、耐歪応力特性の良い低抵
抗な導電性接着剤等の導電性ペーストを提供することが
できる。
【0019】上記目的を達成するため、本発明の導電性
ペーストは、導電性粒子と、加熱あるいは減圧時に発泡
する発泡性材料と、樹脂とを含有し、前記発泡性材料が
発泡した後でも、電気的接続材料としての良導電性を失
わないことすなわち、体積中抵抗率で10-6Ω・cm以
上10-2Ω・cm以下を保ち得ることを特徴とする導電
性ペーストである。
【0020】また、本発明は、そのような導電性ペース
トを用いた導電性構造、電子部品、実装体、回路基板、
電気的接続方法、回路基板の製造方法、及びセラミック
電子部品の製造方法である。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
【0022】本発明の導電性ペーストの実施の形態であ
る導電性接着剤は、粘着性の樹脂あるいは硬化タイプの
樹脂中に、導電性を有する導電性粒子を分散させてい
る。
【0023】その導電性粒子としては、一般的な導電性
接着剤に用いられている金属粒子ならその種類は限定さ
れないが、金粒子、銀粒子、銅粒子、錫粒子、インジウ
ム粒子、パラジウム粒子、ニッケル粒子、あるいは鉛粒
子から選択された少なくとも1種の金属粒子またはこれ
らの任意の合金粒子であることが好ましい。中でも、金
属自体が軟らかい場合、圧縮力が作用した際に接触面積
を拡大化しやすいので、金粒子や銀粒子、あるいはイン
ジウム粒子がさらに好ましい。また、半田粒子を加熱硬
化タイプに用いた場合、加熱時に粒子同士の界面が溶融
して金属結合するため、低抵抗化に有利である。一方、
腐食性がないという長所から、カーボン粒子も好ましく
利用できる。さらに、上述の金属、つまり、金、銀、
銅、錫、インジウム、パラジウム、ニッケル、あるいは
鉛から選択された少なくとも1種の金属またはこれらの
任意の合金を、樹脂粒子表面や他の金属粒子表面あるい
はセラミック粒子表面等にコートした粒子も好ましく利
用できる。
【0024】粘着性の樹脂としては、アクリル系、ビニ
ル系、ゴム系等、一般的な粘着テープに用いられている
ものであればその種類は限定されない。
【0025】硬化タイプの樹脂としても、フェノール
系、エポキシ系、シリコーン系、アクリル系、ポリイミ
ド系、アクリル酸エステル系、アミド系、ゴム系、ビニ
ル系等、一般的に硬化型接着剤に用いられている樹脂で
あればその種類は限定されない。
【0026】さらに、本発明の実施の形態の導電性接着
剤は、上述の導電性粒子を分散させた樹脂中に、加熱あ
るいは減圧時に発泡する発泡性樹脂粉を含有させて得ら
れる。
【0027】この発泡性樹脂粉を含有する導電性接着剤
を用いて、例えば基板上の電極同士の接続固定を行う場
合には、加熱処理あるいは減圧処理工程を施すことによ
り、含まれる発泡性樹脂粉が発泡して膨張する。
【0028】図1(A)に示すように、この際形成され
る導電性接着剤層1は、導電性粒子と樹脂が形成する構
造体2の中に小気孔4を多数内在した膨張構造を採るよ
うになる。その微細構造は、図1(B)に示すように、
導電性粒子3がネットワーク構造で連なり、発泡性樹脂
粉が発泡して形成された小気孔4を覆うように導電性粒
子3が存在するようになる。
【0029】このような多数の小気孔4を有するネット
ワーク構造をとることにより、導電性接着剤層1には柔
軟性が付与され、歪み負荷時においても容易に変形し、
接着剤層1内で応力を緩和することが可能となる。
【0030】この場合、発泡性樹脂粉を含有させない従
来の導電性接着剤層に比べて、マクロ構造としては接着
剤中の導電性粒子3の体積含有率が減少する。しかしな
がら、全体の粒子数は塗布量によるためほとんど変わら
ず、ミクロ構造的には、導電性粒子3間、および導電性
粒子3と被着体である電極間の接触面積は、発泡性樹脂
粉を含有させない場合の接触面積と同等あるいはそれ以
上にすることができる。その理由は、先にも述べたよう
に距離が限定されている場合、発泡性樹脂粉が発泡する
際の膨張力により、導電性粒子3間および導電性粒子3
と被着体である電極間の間に圧縮応力が発生し、それら
が相互に密に詰まって接触面積が増大するためである。
【0031】一方、自由に膨張できる場合でも、たとえ
ばその発泡によって全体の大きさが大きくなっても、単
に膨張したものでなく、気泡以外の部分はほとんど変化
しないため、結局相互の接触面積がほぼ同等となる。
【0032】これにより、発泡性樹脂粉を含有させても
その含有率が過大とならない限り、従来と同等以上の導
電性を発現することが可能となる。
【0033】さらに、歪負荷時の応力緩和も主として小
気孔4の変形により行われ、導電性粒子3間の接触およ
び電極との接合を引き離す力は大きく減衰する。したが
って、歪を与えた際においても電気的良接続を保持し続
けることが可能となる。
【0034】なお、導電性接着剤に用いる樹脂が加熱硬
化タイプの場合、発泡性樹脂粉の発泡と接着剤の硬化を
同時に行うことができる。加熱する際、接着剤が完全に
硬化すると発泡性樹脂粉が発泡できなくなる。それを防
止するために、低温加熱工程を別に設けるか、あるい
は、硬化との競争過程で発泡させる方法が採用できる。
その他の硬化タイプの場合は、硬化処理前に別途加熱処
理工程を設けることで、容易に発泡させることができ
る。
【0035】また、減圧により発泡性樹脂粉を発泡させ
る方法も採用でき、この方法を採用すると、発泡工程と
硬化工程を分離制御できるという利点がある。
【0036】導電性接着剤に用いる樹脂が粘着タイプの
場合も、別途加熱処理工程あるいは減圧処理工程を設け
ることで容易に発泡性樹脂粉を発泡させることができ
る。ここで、硬化タイプのものと異なり、樹脂層の硬化
収縮による圧縮応力が作用しないので、初期抵抗が多少
大きくなる傾向になるが、十分な導電性と応力緩和効果
の両立が可能となる。
【0037】導電性接着剤中に含有させる発泡性樹脂粉
は、図3に示すように、中空樹脂粒子5の殻壁6内部に
低沸点炭化水素7のような加熱あるいは減圧により膨張
する物質を含有するマイクロカプセルであることが好ま
しい。なお、膨張には分解や気化を含むものとする。
【0038】さて、加熱発泡の場合、構成する樹脂は低
温加熱により軟化するものであれば種類は問わないが、
塩化ビニリデンやアクリル系の樹脂等が好ましい。これ
により低温での膨張が容易となり取り扱いが容易とな
る。特に加熱硬化型の場合、乾燥や硬化前に充分膨張さ
せることができ、応力緩和可能な膨張構造を達成するこ
とができる。他方、減圧発泡の場合、構成樹脂は常温で
変形可能な柔らかい、ポリエチレン等の樹脂であること
が好ましい。
【0039】ここで、導電性接着剤中に含有させる発泡
性樹脂粉の含有量を、発泡前の体積で、接着剤中の導電
性粒子量1に対して0.001〜0.5体積比とするこ
とで上述の耐応力効果が得られる。0.001体積比未
満ではその応力緩和効果が実用上なく、0.5体積比を
超えると導電性接着剤層単位体積あたりの導電性粒子数
が激減するため、たわまなくても形成初期から抵抗特性
が著しく低い状態となる。さらに好ましくは、発泡性樹
脂粉の含有量が発泡前の体積で、接着剤中の導電性粒子
量に対して0.01〜0.1体積比であることが良い。
その実験的裏付けは後述する。
【0040】さらに、良好な耐応力特性と低抵抗特性を
両立するためには、小気孔4を可能な限り分散させる必
要がある。そのため、発泡前の発泡性樹脂粉の粒径は、
導電性接着剤層単位体積あたりの導電性粒子数を激減さ
せないために1μm以上50μm以下であることが好ま
しい。これにより、抵抗特性の低下を引き起こすことな
く応力緩和可能な膨張構造を達成することができる。そ
の実験的裏付けは後述する。なお、容易に混練可能な粒
径は1μm以上である。
【0041】また、発泡による発泡性樹脂粉の体積膨張
率が、1倍を超え100倍以下であることが好ましい。
発泡性樹脂粉が発泡しても、導電性粒子間および導電性
粒子と接続電極との間に硬化時に圧縮応力が十分作用
し、低抵抗化を図ることができる。但し、膨張率が10
0倍を超えると導電性接着剤層単位体積あたりの導電性
粒子数が激減するため、抵抗特性が大きく低下する。そ
の実験的裏付けは後述する。
【0042】また、形成された導電性接着剤層1(導電
体)中の空孔が1μm以上100μm以下の径の大きさ
で、かつ導電体体積全体に占める比率が3〜50vol
%であることが好ましい。空孔が10μm未満で導電体
体積に対して3vol%未満の場合、応力緩和作用が小
さく、歪が生じた際に良好な電気的接続が維持できな
い。また、50vol%を超えた場合、導電性粒子成分
の体積含有率が低下しすぎて、初期的な電気抵抗が高く
なるという不具合が生じる。この時、1μm未満の空孔
の場合あるいは100μm以上の空孔の場合、その占有
体積比が3〜50vol%内であっても均一な応力緩和
作用が付与できず、歪発生時に電気抵抗の上昇が確認さ
れた。その実験的裏付けは後述する。
【0043】なお、上述した実施の形態では、本発明の
発泡性材料として発泡性樹脂粉を用いたが、発泡性材料
は発泡性樹脂粉に限定されることはない。要するに、発
泡性材料は、粉、粒子または液状のものなど、加熱ある
いは減圧時に発泡するものでありさえすればよい。この
ように、発泡性材料が発泡性樹脂粉でない場合であって
も、発泡性材料の発泡前の含有量を、導電性粒子量1に
対して0.001〜0.5体積比となる量とする。ま
た、発泡性材料の発泡前の粒径を、1μm以上50μm
以下とする。さらに、加熱あるいは減圧により発泡性材
料が発泡するさいの体積膨張率を、1倍を超え100倍
以下とする。
【0044】また、上述した実施の形態では、本発明
の、加熱あるいは減圧時に膨張する物質として低沸点炭
化水素を用いたが、上述したように、本願においては、
膨張には分解や気化が含まれるとするので、加熱あるい
は減圧時に膨張する物質として、例えば塩化銅の水和物
のような無機化合物の水和物などを用いることもでき
る。また、例えば重曹(炭酸水素ナトリウム)を用いる
ことができる。また、有機物としては、低沸点炭化水素
以外にショウノウ(樟脳)、クエン酸ソーダ、ハロゲン
化炭化水素、アゾジカルボンアミドなどを用いることも
できる。
【0045】また、本発明にかかる電気的接続方法は、
上述の構成による導電性接着剤を用いて電気的接続を行
うことにより、電子部品や電極を、耐歪応力特性が良好
でかつ低抵抗に接続することができるようにしたもので
ある。
【0046】たとえば、基板上の異なる2つの電極を電
気的に接続するさいに用いられるものであって、そのよ
うな2つの電極を、上述した導電性接着剤を用いて接続
し、その後、その導電性接着剤を加熱あるいは減圧し
て、その導電性接着剤に含有されている発泡性材料を発
泡させるというものである。なお、加熱硬化型導電性接
着剤の場合、導電性接着剤を加熱するさい、加熱を1回
のみ行って、発泡性樹脂粉等の発泡性材料を発泡させる
とともに、導電性接着剤本体そのものを硬化させること
もできるし、例えば低温加熱工程と高温加熱工程を設け
て、低温加熱工程のさいに発泡性材料を発泡させ、高温
加熱工程のさいに導電性接着剤本体そのものを硬化させ
るとしてもよい。さらには、加熱工程を3工程以上設け
るとしてもよい。他に、発泡工程として、減圧処理工程
を別途設けてもよい。
【0047】以上説明したように、本発明の実施の形態
の導電性接着剤を用いて、電子部品を基板に実装した場
合、基板が機械的および熱的に歪んだ際においても、導
電性接着剤層中の導電性粒子同士および基板側の電極と
導電性粒子の接続が引き離されることがなく、抵抗上昇
が無い信頼性の高い電気的接続を達成することができ
る。特に、導電性粒子として表面に金属をコートした樹
脂粒子を用いた場合、耐歪応力特性が非常に向上する。
【0048】また、一定距離をおいて対面して配置され
た電極間の電気的接続を、導電性接着剤で行う場合、上
述した本発明の実施の形態の導電性接着剤を用い、発泡
性材料が発泡する際に、その電極間で、接着剤を膨張さ
せることにより、より容易に電極間を電気的に接続する
ことが可能となる(図4、図5参照)。
【0049】この場合、発泡性材料の発泡により接着剤
層全体が膨張して電極間の接続が容易になると同時に、
導電性粒子間および導電性粒子と電極間の間に圧縮応力
が発生するため、各々導電性物質間の接触面積を拡大す
ることができるので、導電性接着剤層の低抵抗化および
電極との界面抵抗の低抵抗化を図ることができるという
効果も得られる。
【0050】また、内部に電極を有するセラミック電子
部品のように、端部に外部電極を形成する場合に、上述
した本発明の実施の形態の導電性接着剤を用いて空孔を
有する外部電極とすることにより、たわみ発生時にも特
性低下やわれの発生しない信頼性の高い電子部品とする
ことができる。(図7、図8参照)
【0051】
【実施例】以下に、本発明の具体的実施例について説明
する。
【0052】(実施例1)導電性接着剤として市販の一
液性加熱硬化型銀接着剤を準備した。また、発泡性材料
の一つとしての発泡性樹脂粉として、図3に示すような
中空樹脂粒子5中に低沸点炭化水素7を充填した構造を
持ち、100℃近傍で発泡する、平均粒子径約20μm
のマイクロカプセルを準備した。
【0053】そして、銀接着剤に、銀量に対して0.0
001〜1体積比となる発泡性樹脂粉を添加し、再度混
練を行った。つまり、発泡性樹脂粉の添加量を、体積比
で銀量1に対して、0.0001、0.0005、0.
001、0.005、0.01、0.05、0.1、
0.5、1.0となるように添加し、再度混練を行っ
た。
【0054】以上のようにして準備した導電性接着剤塗
料をガラス基板上に一定幅のライン状になるように、塗
布厚さ500μmで塗布した後、100℃で予備加熱を
施し発泡性樹脂粉を発泡させた後、150℃で加熱硬化
を行った。比較のため、市販の銀接着剤に何も添加しな
い場合も同様に試料を作製した。
【0055】次に、得られた試料のラインの断面構造を
観察した。従来品の導電性接着剤層(銀接着剤層)1の
断面構造は図2(A),(B)に示すように、ほとんど
気孔8がなく、導電性粒子(銀粒子)3は均質に樹脂中
に分散されており、相互に密に接触していた。
【0056】一方、発泡性樹脂粉を添加した導電性接着
剤(銀接着剤)の場合の断面構造は、図1に示すよう
に、導電性接着剤層(銀接着剤層)1中に多数の小気孔
4を有し、導電性粒子(銀粒子)3は小気孔4以外の部
分で従来品同様密に相互接触していた。ここで、発泡性
樹脂粉の発泡後の径から換算すると、発泡による発泡性
樹脂粉の体積膨張率は約50倍であった。
【0057】次に、得られた試料のライン抵抗を評価し
た。各抵抗値は、従来品も含めていずれも約10mΩで
あったが、0.5体積比の発泡性樹脂粉を添加した場合
は、約30mΩと抵抗が多少高くなり、1.0体積比の
場合は約150mΩと非常に高くなった。
【0058】次いで、各銀接着剤層においてたわみ試験
を行った。試験方法はJIS C6481の5.8曲げ
強さの試験法に準じ、基板のたわみ量に対する抵抗特性
を評価した。発泡性樹脂粉を添加した導電性接着剤を用
いた各試料は添加量が0.001体積比以上でいずれも
20mmたわませても抵抗上昇がほとんど見られず、耐
応力性が良好であった。一方、従来品および発泡性樹脂
粉の添加量が0.001体積比未満では、10mm程度
たわませた時点から、抵抗上昇が確認された。
【0059】評価結果を表1に示す。
【0060】
【表1】
【0061】以上のように、添加量が0.001から
0.5体積比の範囲で初期抵抗、耐応力特性ともに良好
な結果が得られた。
【0062】(実施例2)発泡前粒径について説明す
る。実施例1と同様に、導電性接着剤として市販の一液
性加熱硬化型銀接着剤を準備した。また、発泡性樹脂粉
としても実施例1と同様ものを準備した。ただし、発泡
性樹脂粉の発泡による体積膨張率は、実施例1よりも小
さくなるものを選んだ。
【0063】さらに、発泡性樹脂粉の粒径としては各種
取り揃え、発泡前の粒径を1.0μm未満、1.0μm
から10μm、10μmから50μm、50μm超に分
級して添加用とした。準備した銀接着剤にそれぞれ分級
した発泡性樹脂粉を銀量1に対して0.05体積比とな
るように添加し、再度混練を行い、実施例2の導電性接
着剤を作製した。以上のようにして準備した導電性接着
剤塗料を実施例1と同様に評価した。ただし、今回は2
00μm厚に塗料を塗布して評価を行った。発泡による
発泡性樹脂粉の体積膨張率は約10倍であった。評価結
果を表2に示す。
【0064】
【表2】
【0065】ここで、1.0μm未満の発泡性樹脂粉を
用いた場合では、接着剤塗料を再混練する時に発泡性樹
脂粉を均一に分散できなかったため、応力緩和効果が不
充分であった。また、50μm超の発泡性樹脂粉を用い
た場合には、200μmの厚みでは導電性接着剤層の中
で局所的に発泡性樹脂粉が存在することになり、初期抵
抗、耐応力特性ともに不具合が生じた。 (実施例3)体積膨張率について説明する。添加する発
泡性樹脂粉として、マイクロカプセルの殻壁の軟化温度
が異なるものを数種用意し、各々添加したことを除い
て、実施例1と同様に作製した導電性接着剤を実施例3
の導電性接着剤として準備した。ただし、発泡性樹脂粉
の添加量は銀量1に対して0.05体積比とした。次い
で、評価用の試料についても実施例1と同様に作製し
た。ただし、各々軟化温度の異なる発泡性樹脂粉に対し
て加熱発泡条件を変化させ、結果として、発泡性樹脂粉
の発泡による体積膨張率が50倍、100倍、200倍
となるものを得た。一方、発泡しない樹脂球を準備し、
マイクロカプセルの変わりに樹脂球を接着剤に添加した
以外は上述同様にして、結果として樹脂粉の体積膨張率
が1倍(膨張しない)となる導電性接着剤も準備し、こ
の接着剤についても同様に評価試料を作製した。以上の
ようにして準備した評価試料について、実施例1と同様
にしてライン抵抗を評価した。
【0066】その結果、従来品および1倍、50倍、1
00倍のものは、同様に約10mΩ、200倍となるも
のは約50mΩとなり、ライン抵抗の増大が確認され
た。
【0067】しかしながら、実施例1と同様のたわみ試
験を行うと、従来品および1倍品は、実施例1の従来品
と同様、ライン抵抗が上昇し、たわみに対して良抵抗特
性を維持できなかった。
【0068】(実施例4)接着部の空孔体積比率につい
て説明する。実施例1に準じ、各種発泡性樹脂粉を所定
の添加量で添加した銀接着剤塗料を準備し、約500μ
m厚にライン状に塗布し、評価試料を作製した。
【0069】評価結果を表3に示す。
【0070】
【表3】
【0071】以上の評価結果から導電性構造体中におけ
る空孔について以下のことが確認できた。
【0072】*3vol%以上の必要性:耐応力特性を
発現するためには、ある程度の空孔量が必要。
【0073】*50vol%以下である必要性:50v
ol%を越えると初期の抵抗値が上昇。
【0074】*1μm径以上である必要性:1μm未満
の発泡性樹脂粉を仕込むのが塗料として困難であり、凝
集してたわみに対する応力緩和効果が発現しない。
【0075】*100μm径以下の必要性:電子部品の
接続用途としては最大見積もっても1mm以下の厚みで
あり、1mm厚の中での均質性を保持して耐応力特性を
発現するためには、空孔径は100μm以下である必要
がある。
【0076】(実施例5)実施例1と同様に、導電性接
着剤として市販の一液性加熱硬化型銀接着剤を準備し
た。また、発泡性樹脂粉として、中空樹脂粒子中に低沸
点炭化水素を充填し、100℃近傍で発泡する、平均粒
子径約20μmのマイクロカプセルを準備した。そし
て、銀接着剤に、銀量に対して0.1体積比となる発泡
性樹脂粉を添加し、再度混練を行い実施例5の導電性接
着剤を作製した。
【0077】上述したものとは別に、導電性粒子として
表面に銀をコートした樹脂粒子を用いた以外は上記市販
の接着剤と同様の、一液性加熱硬化型銀接着剤を準備し
た。この接着剤にも、上述したものと同様の発泡性樹脂
粉(マイクロカプセル)を導電性粒子体積(樹脂粒子体
積を含む)に対して0.1となるように添加し、もう1
種の実施例5の導電性接着剤を作製した。
【0078】作製した各々の導電性接着剤を用いて、圧
電素子を基板に実装した。比較として、従来の、発泡性
樹脂粉を含まない導電性接着剤(銀接着剤)を用いた試
料も作製した。なお、接着剤の加熱硬化は150℃で行
い、発泡性樹脂粉の発泡と接着剤の硬化を同時に行っ
た。この時、発泡性樹脂粉の発泡による体積膨張率は約
20倍であった。
【0079】実装した圧電素子に駆動電圧の印加を繰り
返し、負荷耐久試験を行った。
【0080】1万回の負荷試験において、実施例5の導
電性接着剤を用いた試料では、導電性粒子として通常の
銀粒子を用いた場合、銀コートを施した樹脂粒子を用い
た場合ともに、抵抗の上昇が発生せず良好な電気機械変
換特性が得られた。一方、従来の導電性接着剤を用いた
試料では、接着部分の抵抗成分が上昇し、電気機械変換
特性が低下した。
【0081】(実施例6)実施例1と同様にして、導電
性接着剤として市販の一液性加熱硬化型銀接着剤を準備
した。また、発泡性樹脂粉として、中空樹脂粒子中に低
沸点炭化水素を充填し、120℃近傍で発泡する、平均
粒子径約10μmのマイクロカプセルを準備した。そし
て、銀接着剤に、銀量に対して0.05体積比となる発
泡性樹脂粉を添加し、再度混練を行い実施例6の導電性
接着剤を作製した。
【0082】一方それとは別に、タンタルを用いた固体
電解コンデンサの陽極部であるタンタル多孔質焼結体を
準備した。この焼結体に一般的な方法で誘電体酸化皮膜
を形成し、さらに固体電解質を形成した。その後、固体
電解質と接触するように素子外周にカーボンペースト
層、銀ペースト層を積層形成し、固体電解コンデンサ要
部を作製した。
【0083】図6は、一実施例としてのTa電解コンデ
ンサの中央断面図である。ここで、52は陰極層(カー
ボンペースト層と銀ペースト層)、53は本発明の導電
性接着剤層、54は外装樹脂、55は陰極端子、56は
陽極リード、57は絶縁板、58は陽極端子であり、導
電性接着剤層53は陰極層52と陰極端子55とを接続
するものである。
【0084】作製した実施例6の導電性接着剤を用い
て、固体電解コンデンサ要部の陰極層52と、陰極端子
55との接続をおこなった。
【0085】比較のため、従来の導電性接着剤(銀接着
剤)を用いた試料も作製した。ここで、導電性接着剤の
加熱硬化は150℃で行い、発泡性樹脂の発泡と同時に
硬化を行った。この時、発泡性樹脂粉の発泡による体積
膨張率は2〜5倍であった。この時点での接続抵抗を評
価した結果、従来品、発明品ともに2mΩ以下であっ
た。
【0086】ここで、図6のように、通常の方法により
コンデンサ各試料を樹脂でモールドし、固体電解コンデ
ンサを完成させた。樹脂モールド時には、用いている各
材料の熱膨張収縮により歪が発生する。樹脂モールドに
より、従来品では接続抵抗が5mΩまで増加したのに対
し、実施例6の導電性接着剤を用いたものの場合は、接
続抵抗の増加は見られなかった。 (実施例7)実施例1と同様にして、導電性接着剤とし
て市販の一液性加熱硬化型銀接着剤を準備した。また、
発泡性樹脂粉として、中空樹脂粒子中に低沸点炭化水素
を充填し、120℃近傍で発泡する、平均粒子径約10
μmのマイクロカプセルを準備した。そして、銀接着剤
に、銀量に対して0.05体積比となる発泡性樹脂粉を
添加し、再度混練を行い実施例7の導電性接着剤を作製
した。
【0087】一方それとは別に、タンタルを用いた固体
電解コンデンサの陽極部であるタンタル多孔質焼結体を
準備した。この焼結体に一般的な方法で誘電体酸化皮膜
を形成し、さらに固体電解質を形成した。その後、固体
電解質と接触するように素子外周にカーボンペースト
層、銀ペースト層を積層形成し、固体電解コンデンサ要
部を作製した。
【0088】図4は、一実施例としてのTa電解コンデ
ンサの中央断面図である。上述のように作製した固体電
解コンデンサ要部を予め用意されたケース(樹脂製が一
般的)の中に挿入し、ケース内に形成された陰極リード
と陰極内部電極である銀ペースト層を導電性接着剤で接
続した後、両極に外部端子を形成してコンデンサとす
る。図4において、41はマイナス極外部端子、42は
導電性接着剤層、43は陰極リード、44は陰極内部電
極、45はプラス極外部端子、46はケース、47は陽
極内部電極、48は封止樹脂である。
【0089】しかしながら、実際には硬化タイプの接着
剤は硬化時に収縮するので硬化後の導電性接着剤はフル
に充填されず、空間があく。従って、極端に表現すれば
概念図は図5に近くなる。また、接着剤コストの低減の
ために故意に局所塗布をする場合もあり、図5のように
なる場合が多い。
【0090】本実施例では、図4の導電性接着剤層42
の部分に本発明の発泡性の導電性接着剤を用いる。
【0091】ただし、従来例では導電性接着剤層42の
部分に通常の導電性接着剤を用いた。
【0092】すなわち、固体コンデンサ要部を予め用意
されたケースに挿入し、ケース内に形成された陰極用端
子電極リードとの接続を、作製した実施例6の導電性接
着剤を用いて行った。この場合、陰極用端子電極リード
とコンデンサ要部の銀ペースト層(陰極内部電極)との
距離はケースによって規定され、一定距離を保持するこ
ととなる。その後封止し、両極の外部電極を形成し、コ
ンデンサを完成させた。
【0093】比較のため、従来の導電性接着剤(銀接着
剤)を用いた試料も作製した。
【0094】ここで、導電性接着剤の加熱硬化は150
℃で行い、発泡性樹脂の発泡と同時に硬化を行った。こ
の時、発泡性樹脂粉の発泡による体積膨張率は2〜5倍
であった。
【0095】この時点での接続抵抗を評価した結果、従
来品では5mΩであったのに対し、本実施例の導電性接
着剤を用いたものでは全て2mΩ以下に低減した。発泡
性樹脂粉を導電性接着剤中に含有させることにより、抵
抗特性の良い電気的接合がえられた。 (実施例8)従来、積層セラミックコンデンサは内部電
極とセラミック誘電体層を一体焼結してえられた素体
に、外部電極となる金属ペーストを端部に塗布し焼付け
ることで製造される。
【0096】本実施例では、図7および図8に示すよう
に、素体端部に実施例6と同様の発泡性の導電性接着剤
を金属ペーストのかわりに塗布し、発泡硬化させたもの
を外部電極3とした以外は従来法により作製された積層
セラミックコンデンサを準備した。ここで、61は誘電
体セラミック層、62は内部電極、63は外部電極であ
る。そして、図7のA部を拡大した図である図8に示す
ように、外部電極63の空孔64の体積は、ほぼ20v
ol%であった。比較のため従来法で作製した積層セラ
ミックコンデンサも準備した。
【0097】両種のコンデンサの外部電極63に半田メ
ッキを施した後、所定の基板に半田実装を行った。その
後、実装した基板をたわませ(試験方法はJIS C6
481の5.8曲げ強さの試験法に準じた)、基板から
の剥離および積層セラミックコンデンサのわれを評価し
た。
【0098】評価の結果、従来例の積層セラミックコン
デンサでは、20mmたわませた時点で、外部電極の剥
離やコンデンサ部にクラックが発生するために静電容量
が低下した(100個中80個)。一方、本発明の実施
例においては、20mmたわませても100個全数剥離
やクラックが発生せず静電容量も低下しなかった。
【0099】(実施例9)従来の積層セラミックコンデ
ンサを、実施例6と同様に作製した本発明の発泡性の導
電性接着剤を用いて基板上に実装した。図9はその様子
を示す断面図である。ここで、71は外部電極、72は
コンデンサ要部素子、74は本発明の導電性接着剤を用
いて形成した接着部、75は基板76上のランドであ
る。
【0100】その際、実施例8のように基板をたわませ
(試験方法はJIS C6481の5.8曲げ強さの試
験法に準じた)、基板からの剥離および積層セラミック
コンデンサのわれを評価した。
【0101】評価の結果、本発明の実施例においては、
20mmたわませても100個全数剥離やクラックが発
生せず静電容量も低下しなかった。
【0102】(実施例10)図10(A),(B)は、
半導体装置81、87を、基板86,810に実装した
図である。ここで、82は電極パッド部、83はバンプ
電極、84は導電性接着剤層、85、89は端子電極部
である。本実施例では図10(A)の導電性接着剤層8
4としては発泡性の導電性接着剤を用いて形成した。接
着剤中の発泡性樹脂粉の径、含有率、発泡倍率について
は実施例6と同様のものを用いた。また別に、バンプ電
極83自体を本発明の導電性接着剤を用いて形成した。
また、電極パッド部82を本発明の導電性接着剤で形成
したものも作製した。上記3種のうちいずれかまたは組
み合わせで装置と端子電極の電気的接続を行った結果、
耐撓み性の高い実装体がえられ、信頼性の高い電気的接
続が実現できた。また、図10(B)の構成においてバ
ンプ電極83の部分を本発明の導電性接着剤による接続
に変更した場合においても、十分信頼性の高い電気的接
続を実現できた。
【0103】なお、上述した本発明のそれぞれの実施例
では、導電性接着剤として加熱硬化タイプのものについ
てその効果を確認したが、他の硬化タイプのものでも加
熱処理を別に施すことにより同様の効果が得られること
は言うまでもない。
【0104】また、減圧処理法によっても、その効果が
得られることはいうまでもない。
【0105】また、粘着タイプの場合も、多少抵抗特性
は低下するが同様に応力緩和効果が得られることは言う
までもない。
【0106】また、上述したそれぞれの実施例では、導
電性粒子として銀粒子を用いた場合について示したが、
金粒子、銅粒子、錫粒子、インジウム粒子、パラジウム
粒子、ニッケル粒子、あるいは鉛粒子から選択された少
なくとも1種の金属粒子またはこれらの任意の合金粒子
であっても同様の効果が得られることは言うまでもな
い。また、カーボン粒子についても同様であり、さらに
は、金属粒子、セラミック粒子やあるいは樹脂粒子に
金、銀、銅、錫、インジウム、パラジウム、ニッケル、
あるいは鉛から選択された少なくとも1種の金属または
これらの任意の合金等をコートした粒子を用いても同様
の効果が確認できた。特に、実施例5においては差異が
明確とはならなかったが、導電性粒子として金属コート
樹脂粒子を用いた場合の方が、その他の導電性粒子を用
いた場合よりも接着剤層全体がより柔軟になり、かなり
大きな変形にも追随が可能となり、耐応力性の良好な電
気的接続状態を達成することができた。
【0107】さらに、上述したそれぞれの実施例では、
発泡性樹脂粉を既存の導電性接着剤に後添加で含有させ
たが、導電性粒子と樹脂を混練する際に、同時に添加し
て含有させても良いことは言うまでもない。
【0108】なお、本発明の導電性ペーストは、上記実
施の形態では接着剤であったが、ある部材と別の部材を
接着させるためのものに限らず、その他の、たとえば、
次に述べるようなビアホール充填用導電性ペーストであ
ってもよい。
【0109】また、本発明における、発泡性材料、導電
性部材、あるいは樹脂などの構成は、上記実施の形態に
限らず、同様の効果が得られることは、上述の説明によ
り明らかである。
【0110】つぎに本発明のビアホール充填用導電性ペ
ーストの実施の形態について図面を参照しながら説明す
る。
【0111】本実施の形態におけるビアホール充填用導
電性ペーストが、導電性粒子とバインダである合成樹脂
とから構成される従来の導電性ペーストと異なる点は、
ペースト構成材料の第3成分として導電性ペーストを加
熱硬化させる際にその体積が膨張する発泡性材料を含有
することにある。すなわち本実施の形態に関わるビアホ
ール充填用導電性ペーストは導電性粒子として銅粉末を
30〜70vol%、発泡性材料を0.001〜40v
ol%の範囲において所定の配合比で構成し、これに必
要とする印刷適性に合うようにバインダとして熱硬化性
エポキシ樹脂と、また必要に応じて溶剤とを加えたもの
である。
【0112】導電性粒子の含有量としては上記30〜7
0vol%の範囲が好ましく、30vol%未満では導
電性粒子同士の接触確率が小さくその固有抵抗が高くな
り、また70vol%を超えるとペースト中のバインダ
成分が少なくなり、粘度が上昇して印刷が困難となる。
つぎにこのようにして調製したビアホール充填用導電性
ペーストを用いた回路基板について説明する。
【0113】図11(A)は絶縁基板10の所定の位置
に設けられた貫通孔20に本実施の形態に関わるビアホ
ール充填用導電性ペースト30を充填し、その両面に銅
箔40を配置した状態を示すものである。ビアホール充
填用導電性ペースト30は銅粉末よりなる導電性粒子5
0と塩化ビニリデン、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂の
中空合成樹脂粒子60の内部に加熱時に体積膨張する気
体、液体または固体70を充填したマイクロカプセル8
0およびエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂90とを有する
ものである。
【0114】本実施の形態では導電性粒子50として平
均粒径が0.5〜20μm、その比表面積が0.05〜
1.5m2/gで、かつ粒子表面の酸素密度が1.0重
量%以下である銅粉末を使用し、加熱時に体積膨張する
気体70としてブタンを封入したマイクロカプセル80
を用いた。ブタン以外に体積膨張する気体として低沸点
炭化水素ではメタン、エタン等を使用することができ
る。さらに加熱時に体積膨張する物質として気体以外に
アルコール等の低沸点有機溶剤系の液体またはショウノ
ウ、ナフタレン等の昇華型固体を用いることも可能であ
る。
【0115】図11(B)はこの絶縁基板10を加熱、
加圧してエポキシ樹脂90を硬化させた状態を示すもの
であり、マイクロカプセル8は加熱によって内部のブタ
ン70が体積膨張し、まだ未硬化状態のエポキシ樹脂9
0を押しのけて銅粉末50同士に強い圧力を加えること
によってその接触面積を増大させるとともに銅粉末50
の銅箔40への接触を強力なものとしてビアホール導体
100の内部抵抗を低減させることに役立っている。さ
らに本発明におけるビアホール充填用導電性ペーストは
導電性ペースト中の導電性粒子の含有量をその内部抵抗
を上昇させることなく従来の導電性ペーストよりも減ら
すことができるので導電性ペーストの印刷性を向上させ
ることが可能となり、また導電性粒子の使用量を減らす
ことにより、コストを低減することができる。
【0116】本実施の形態では導電性粒子50として銅
粉末を用いた例について説明したが、このほか金、銀、
パラジウム、ニッケル、錫、鉛等の金属粉を単独でまた
は合金粉末として用いても同様の効果を得ることができ
る。
【0117】本発明に関わる技術を用いて最も大きい効
果を得るためには、マイクロカプセルが加熱時に発泡し
て体積膨張する際の圧力によって変形することが容易で
ある比較的軟質な、すなわち塑性変形し易い金属粉を導
電性粒子として用いることが好ましい。また導電性粒子
50の粒子径は低い固有抵抗と高い接続信頼性を得るた
めには、0.2〜20μmの範囲にあることが望まし
い。すなわち粒子径が20μmより大きいと粒子間の接
続面積が減少して固有抵抗を増大させ、一方0.2μm
より小さいとその比表面積が増大してペースト粘度を高
くし、ペーストの印刷特性が低下する。導電性粒子50
の比表面積は上記の粒子径との関係においてペーストの
印刷特性を最適にするために、0.05〜1.5m2/
gとすることが好ましい。
【0118】前述のように本実施の形態では導電性粒子
50として銅粉末を用いているが、銅粉はその表面が酸
化されやすく、粒子表面を金属状態のままペースト化す
ることは実質上困難である。しかし銅粉末の表面の酸化
膜が厚くなるとビアホール導体を形成したときに導電性
を阻害する要因となる。したがって本発明ではその銅粉
末表面における酸素濃度として1.0重量%以下のもの
を使用した。
【0119】つぎに本発明の実施の形態における回路基
板の製造方法について図12(A)〜(D)を用いて説
明する。
【0120】図12(A)に示すように、アラミド不織
布等の繊維基材にエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を含浸
させて半硬化状態とした絶縁基板110の両面に例えば
ポリエチレンテレフタレート等の有機フィルム120を
貼着した後、レーザ等により絶縁基板110の所定の位
置に複数個の貫通孔130を形成し、その貫通孔130
内にマイクロカプセル80を有するビアホール充填用導
電性ペースト30を印刷法により充填する。
【0121】図12(B)に示すように、有機フィルム
120を剥離したのち、絶縁基板110の両面に図12
(C)に示すように銅箔140を載置し、両面より加
圧、加熱してマイクロカプセル80を体積膨張させるこ
とにより液状の熱硬化性樹脂を押しのけると同時にその
膨張圧力により導電性粒子同士を強く接触させて強固な
導電パスを形成する。
【0122】つぎに半硬化状態にある絶縁基板110を
完全硬化させ銅箔140と貼着する。
【0123】つぎに図12(D)に示すように銅箔14
0を従来のフォトリソ法によりパターニングして所定の
配線150を両面に設けることにより回路基板が形成さ
れる。
【0124】本実施の形態では絶縁基板110として、
アラミド不織布等の繊維基材にエポキシ樹脂等の熱硬化
性樹脂を含浸させて半硬化状態とした全層IVH構造樹
脂多層基板を形成する過程における両面回路基板を用い
た例について説明したが、絶縁基板110としてガラス
エポキシ基板や合成樹脂フィルム基材を用いることも可
能である。この場合、図12(C)の工程におけるマイ
クロカプセル80の発泡は加熱のみで十分であり、圧力
はマイクロカプセル80が体積膨張したときにその内部
圧力を逃がさない程度の圧力を絶縁基板110の両面か
ら加えておくだけで良い。勿論さらに大きい圧力を加え
ることも可能であり、この場合さらに強固な導電パスが
確保される。
【0125】このように形成された両面配線回路基板を
複数枚積層することによって多層配線回路基板を形成す
ることもできる。
【0126】
【発明の効果】以上説明したところから明らかなよう
に、本発明の導電性ペーストは、耐歪応力特性の良い低
抵抗な特徴を持つ。
【0127】また、本発明の導電性ペーストを用いる電
気的接続方法は、耐応力特性の良い、低抵抗な電気的接
続状態を達成できる。
【0128】また、本発明の導電性構造は、低抵抗で耐
歪応力特性の優れた導電性構造を得ることが出来る。
【0129】また、本発明のビアホール充填用導電性ペ
ーストは、発泡性材料が体積膨張する際の内部圧力によ
って、導電性ペースト中の導電性粒子同士の接触面積
と、導電性粒子と配線を形成するための銅箔との接触面
積とをそれぞれ増大させることにより、ビアホール導体
の内部抵抗を低減させることができ、また配線の層間接
続の信頼性を向上させることができる。
【0130】さらに導電性ペースト中の導電性粒子の含
有量を減らすことが可能となり、したがって導電性ペー
ストの印刷性が向上されて生産性が良くなり、また導電
性粒子の使用量を減らすことにより、コスト低減にも効
果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態における導電性接着剤層
の構造を示す断面図(A)とその微細構造を示す断面図
(B)。
【図2】従来例における導電性接着剤層の構造を示す断
面図(A)とその微細構造を示す断面図(B)。
【図3】本発明の一実施の形態における発泡性樹脂粉の
構造を示す断面図。
【図4】本発明の一実施例であるコンデンサの断面図。
【図5】本発明の一実施例であるコンデンサの断面図。
【図6】本発明の一実施例であるコンデンサの断面図。
【図7】本発明の一実施例である積層セラミックコンデ
ンサの外部電極部の断面図。
【図8】本発明の一実施例である積層セラミックコンデ
ンサの外部電極部の一部拡大断面図。
【図9】本発明の一実施例である積層セラミックコンデ
ンサの基板への実装体の断面図。
【図10】本発明の一実施例である半導体の基板への実
装体の断面図。
【図11】本発明の一実施の形態におけるビアホール充
填用導電性ペーストの構成を示す回路基板の一部拡大断
面図。
【図12】同実施の形態における回路基板の製造方法を
説明する一部工程断面図。
【符号の説明】
1 導電性接着剤層 2 導電性粒子と樹脂が形成する構造体 3 導電性粒子 4 発泡性樹脂粉が発泡した後の小気孔 5 中空樹脂粒子 6 殻壁 7 低沸点炭化水素 8 気孔 10 絶縁基板 20 貫通孔 30 ビアホール充填用導電性ペースト 40 銅箔 50 導電性粒子 60 中空合成樹脂粒子 70 気体、液体または固体 80 マイクロカプセル 90 熱硬化性樹脂 100 ビアホール導体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C09D 5/24 C09D 5/24 163/00 163/00 C09J 163/00 C09J 163/00

Claims (36)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 導電性粒子と、加熱あるいは減圧時に発
    泡する発泡性材料と、樹脂とを含有し、前記発泡性材料
    が発泡した後でも、導電性を失わないことをことを特徴
    とする導電性ペースト。
  2. 【請求項2】 前記導電性粒子は、金属粒子、 カーボ
    ン粒子、 あるいは金属が表面にコートされた粒子、で
    あることを特徴とする請求項1記載の導電性ペースト。
  3. 【請求項3】 前記発泡性材料は、発泡性樹脂粉である
    ことを特徴とする請求項1に記載の導電性ペースト。
  4. 【請求項4】 前記発泡性樹脂粉は、中空樹脂粒子内部
    に加熱あるいは減圧時に膨張する物質を含有するマイク
    ロカプセルであることを特徴とする請求項3に記載の導
    電性ペースト。
  5. 【請求項5】 前記加熱あるいは減圧時に膨張する物質
    は、低沸点炭化水素であることを特徴とする請求項4記
    載の導電性ペースト。
  6. 【請求項6】 前記発泡性材料の発泡前の含有量は、前
    記導電性粒子量1に対して0.001〜0.5体積比と
    なる量であることを特徴とする請求項1に記載の導電性
    ペースト。
  7. 【請求項7】 前記発泡性材料の発泡前の粒径は、1μ
    m以上50μm以下であることを特徴とする請求項1記
    載の導電性ペースト。
  8. 【請求項8】 前記加熱あるいは減圧による前記発泡性
    材料が発泡するさいの体積膨張率は、1倍を超え100
    倍以下であることを特徴とする請求項1記載の導電性ペ
    ースト。
  9. 【請求項9】 前記金属粒子は、金粒子、銀粒子、銅粒
    子、錫粒子、インジウム粒子、パラジウム粒子、ニッケ
    ル粒子、あるいは鉛粒子から選択された少なくとも1種
    の金属粒子またはこれらの任意の合金粒子であることを
    特徴とする請求項2記載の導電性ペースト。
  10. 【請求項10】 前記金属が表面にコートされた粒子の
    コート材料は、金、銀、銅、錫、インジウム、パラジウ
    ム、ニッケル、あるいは鉛から選択された少なくとも1
    種の金属またはこれらの任意の合金であることを特徴と
    する請求項2記載の導電性ペースト。
  11. 【請求項11】 前記金属が表面にコートされた粒子の
    母材粒子は、樹脂粒子であることを特徴とする請求項2
    記載の導電性ペースト。
  12. 【請求項12】 前記導電性ペーストは、導電性接着剤
    であることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記
    載の導電性ペースト。
  13. 【請求項13】前記導電性ペーストは、導電性粒子と熱
    硬化性樹脂を主成分とするビアホール充填用導電性ペー
    ストであることを特徴とする請求項1〜11のいずれか
    に記載の導電性ペースト。
  14. 【請求項14】 前記導電性粒子が、平均粒径0.5〜
    20μmで、その比表面積が0.05〜1.5m2/g
    の金、銀、パラジウム、銅、ニッケル、錫、鉛、インジ
    ウムから選択された少なくとも一種の金属粒子またはこ
    れらの合金粒子である請求項13に記載の導電性ペース
    ト。
  15. 【請求項15】 前記導電性粒子が、平均粒径0.5〜
    20μm、比表面積が0.05〜1.5m2/gで、そ
    の表面の酸素濃度が1.0重量%以下の銅粉末である請
    求項14記載の導電性ペースト。
  16. 【請求項16】 前記熱硬化性樹脂が、熱硬化性エポキ
    シ樹脂組成物である請求項13に記載の導電性ペース
    ト。
  17. 【請求項17】 貫通孔を有する絶縁基板と、前記絶縁
    基板の表面に形成された配線パターンと、前記貫通孔に
    充填されて前記絶縁基板の両面または多層構造に形成さ
    れた前記配線パターンを電気的に接続するビアホール導
    体とを備える回路基板において、 前記ビアホール導体として、請求項13記載の導電性ペ
    ーストを用いて形成した導電体を用いることを特徴とす
    る回路基板。
  18. 【請求項18】 前記絶縁基板が、合成樹脂フィルムま
    たは、 アラミドエポキシ樹脂、ガラスエポキシ樹脂等
    の半硬化状態の樹脂含浸織布または、 不織布基板であ
    る請求項17記載の回路基板。
  19. 【請求項19】 絶縁基板に複数の貫通孔を設ける工程
    と、前記貫通孔に請求項13に記載のビアホール充填用
    導電性ペーストを充填する工程と、前記絶縁基板の両面
    に銅箔を配置したのち加熱、加圧して前記ビアホール充
    填用導電性ペースト中の発泡性材料を体積膨張させる工
    程と、導電性ペーストを硬化させる工程と、前記銅箔を
    所定のパターン形状にエッチングすることにより配線パ
    ターンを形成する工程とを少なくとも備えた回路基板の
    製造方法。
  20. 【請求項20】 前記絶縁基板として、合成樹脂フィル
    ムまたはアラミドエポキシ樹脂、ガラスエポキシ樹脂等
    の半硬化状態の樹脂含浸織布または不織布基板を用いる
    ことを特徴とする請求項19に記載の回路基板の製造方
    法。
  21. 【請求項21】 所定の部位に電気的に接続している導
    電性構造であって、発泡性材料の発泡によって形成され
    た多数の実質上空洞を有することを特徴とする導電性構
    造。
  22. 【請求項22】 前記導電性構造は、請求項1記載の導
    電性ペーストを利用して形成された、多数の実質上空洞
    を有する導電性構造であることを特徴とする請求項21
    記載の導電性構造。
  23. 【請求項23】 前記発泡によって形成された、多数の
    実質上空洞を有する導電性構造が、1μm以上100μ
    m以下の空孔を3〜50vol%有することを特徴とする請
    求項21記載の導電性構造。
  24. 【請求項24】 前記発泡によって形成された多数の実
    質上空洞を有する導電性構造の、体積抵抗率が10-6Ω
    ・cm以上10-2Ω・cm以下である請求項21記載の
    導電性構造。
  25. 【請求項25】 内部に電極を有するセラミック電子部
    品において、 前記内部の電極と電気的に接続し、かつ端部に形成され
    た外部電極部が、請求項22記載の、多数の実質上空洞
    を有する導電性構造を有することを特徴とするセラミッ
    ク電子部品。
  26. 【請求項26】 内部に電極を有し、 外部端子電極と
    導電体を介して電気的接続をとる、ケーシングタイプあ
    るいはモールドタイプの電子部品であって、 前記内部の電極と、外部電極あるいは外部電極に電気的
    に接続されたリード電極とを互いに接続するための導電
    体が、請求項22記載の、多数の実質上空洞を有する導
    電性構造を有することを特徴する電子部品。
  27. 【請求項27】 電子部品が基板上に電気的に接続され
    た実装体において、 前記接続部が、請求項22記載の、多数の実質上空洞を
    有する導電性構造を有することを特徴とする実装体。
  28. 【請求項28】 前記電子部品が、半導体装置であるこ
    とを特徴とする請求項27記載の実装体。
  29. 【請求項29】 内部に電極を有するセラミック電子部
    品の製造方法において、 前記内部の電極が露出した端部の所定部位に、請求項1
    に記載の導電性ペーストを塗布する工程と、 前記導電性ペーストを加熱あるいは減圧して、前記導電
    性ペーストに含まれる発泡性材料を発泡させて外部電極
    部を形成する工程と、 を備えたことを特徴とするセラミック電子部品の製造方
    法。
  30. 【請求項30】 所定の部位と、その部位とは別の所定
    の部位とを請求項1から12記載のいずれかの導電性ペ
    ーストを用いて接続する接続ステップと、 その後、前記導電性ペーストを加熱あるいは減圧して、
    その導電性ペーストに含有されている発泡性材料を発泡
    させる発泡ステップと、 を備えたことを特徴とする導電性ペーストを用いる電気
    的接続方法。
  31. 【請求項31】 前記発泡ステップで、同時に前記導電
    性ペーストの硬化を行うことを特徴とする請求項30記
    載の電気的接続方法。
  32. 【請求項32】 前記発泡ステップの後に、前記導電性
    ペーストの硬化を行うステップを備えたことを特徴とす
    る請求項30記載の電気的接続方法。
  33. 【請求項33】 前記発泡ステップは所定の温度で行
    い、前記硬化ステップにおいては、前記所定の温度より
    も高い温度で硬化を行うことを特徴とする請求項32記
    載の電気的接続方法。
  34. 【請求項34】 前記所定の部位は電子部品の所定の部
    位であり、前記別の所定の部位は、基板の所定の部位で
    あることを特徴とする請求項30の電気的接続方法。
  35. 【請求項35】 前記電子部品は、半導体装置であるこ
    とを特徴とする請求項34記載の電気的接続方法。
  36. 【請求項36】 前記所定の部位は、 内部に電極を有
    し、外部端子電極と導電体を介して電気的接続をとる、
    ケーシングタイプあるいはモールドタイプの電子部品
    の、前記内部の電極であり、 前記別の所定の部位は、 前記外部電極あるいは、前記
    外部電極に電気的に接続されたリード電極である請求項
    30記載の電気的接続方法。
JP24225499A 1998-08-28 1999-08-27 導電性ペースト、およびそれを用いた導電性構造、セラミック電子部品、電子部品、実装体、回路基板、電気的接続方法、回路基板の製造方法、及びセラミック電子部品の製造方法 Expired - Lifetime JP3650546B2 (ja)

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Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003016836A (ja) * 2001-06-28 2003-01-17 Hitachi Chem Co Ltd 導電ペーストとその製造方法及びこれを用いた電気回路とその製造方法
US6661644B2 (en) 2001-10-05 2003-12-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Capacitor
JP2004235267A (ja) * 2003-01-28 2004-08-19 Kyocera Corp 太陽電池素子
JP2005225904A (ja) * 2004-02-10 2005-08-25 Ricoh Co Ltd 被接着物と接着物の接合方法、接合構造および接合装置
JP2005298654A (ja) * 2004-04-09 2005-10-27 Ricoh Co Ltd 接合方法
JP2005311349A (ja) * 2004-03-25 2005-11-04 Sumitomo Bakelite Co Ltd 配線基板
JP2006024691A (ja) * 2004-07-07 2006-01-26 Sanyo Electric Co Ltd 固体電解コンデンサおよびその製造方法
JP2006165241A (ja) * 2004-12-07 2006-06-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品実装構造体およびその製造方法
WO2006093315A1 (ja) * 2005-03-04 2006-09-08 Sony Chemical & Information Device Corporation 異方導電性接着剤及びこれを用いた電極の接続方法
WO2007088751A1 (ja) * 2006-01-31 2007-08-09 Sanyo Electric Co., Ltd. 太陽電池素子および太陽電池モジュール
JP2008288325A (ja) * 2007-05-16 2008-11-27 Panasonic Corp 配線基板の接続方法、配線基板
JP2009004377A (ja) * 2007-06-22 2009-01-08 Samsung Electro Mech Co Ltd 導電性ペーストと、これを用いた印刷回路基板及びその製造方法
JP2011086629A (ja) * 2010-11-22 2011-04-28 Hitachi Chem Co Ltd 導電ペースト、その製造方法及びこれを用いた電気回路とその製造方法
JP2011124542A (ja) * 2009-12-10 2011-06-23 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 積層セラミックキャパシタ
JP2013030616A (ja) * 2011-07-28 2013-02-07 Kyocera Corp 回路基板およびこれを備える電子装置
WO2013171918A1 (ja) * 2012-05-15 2013-11-21 京セラ株式会社 圧電アクチュエータ、圧電振動装置および携帯端末
JP2014090003A (ja) * 2012-10-29 2014-05-15 Ngk Spark Plug Co Ltd 多層配線基板の製造方法
JP2015191693A (ja) * 2014-03-27 2015-11-02 京セラ株式会社 セルスタックおよび電解モジュールならびに電解装置
JP2017016740A (ja) * 2015-06-26 2017-01-19 京セラ株式会社 セルスタック、モジュールおよびモジュール収容装置
JP2017524801A (ja) * 2014-08-14 2017-08-31 アルテコ コリア カンパニー リミテッド 伝導性複合体及びその製造方法
JP2018139212A (ja) * 2012-09-18 2018-09-06 デクセリアルズ株式会社 接続体の製造方法、及び電子部品の接続方法
JP2018148199A (ja) * 2017-03-02 2018-09-20 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. 電子部品
JP2019525421A (ja) * 2016-08-08 2019-09-05 ティーイー コネクティビティ ジャーマニー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツンクTE Connectivity Germany GmbH 接触面の下に微細構造の空洞を有する電気コネクタのための電気コンタクト素子
US10923294B2 (en) 2016-08-30 2021-02-16 Murata Manufacturing Co., Ltd. Carbon paste and capacitor element for a solid electrolytic capacitor using carbon paste
JP2021028938A (ja) * 2019-08-09 2021-02-25 Tdk株式会社 電子部品
JP2021028939A (ja) * 2019-08-09 2021-02-25 Tdk株式会社 電子部品
WO2021220975A1 (ja) * 2020-05-01 2021-11-04 昭栄化学工業株式会社 電子部品の製造方法
JPWO2021220976A1 (ja) * 2020-05-01 2021-11-04

Cited By (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003016836A (ja) * 2001-06-28 2003-01-17 Hitachi Chem Co Ltd 導電ペーストとその製造方法及びこれを用いた電気回路とその製造方法
US6661644B2 (en) 2001-10-05 2003-12-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Capacitor
JP2004235267A (ja) * 2003-01-28 2004-08-19 Kyocera Corp 太陽電池素子
JP2005225904A (ja) * 2004-02-10 2005-08-25 Ricoh Co Ltd 被接着物と接着物の接合方法、接合構造および接合装置
JP2005311349A (ja) * 2004-03-25 2005-11-04 Sumitomo Bakelite Co Ltd 配線基板
JP2005298654A (ja) * 2004-04-09 2005-10-27 Ricoh Co Ltd 接合方法
JP2006024691A (ja) * 2004-07-07 2006-01-26 Sanyo Electric Co Ltd 固体電解コンデンサおよびその製造方法
JP4624017B2 (ja) * 2004-07-07 2011-02-02 三洋電機株式会社 固体電解コンデンサの製造方法
JP2006165241A (ja) * 2004-12-07 2006-06-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品実装構造体およびその製造方法
JP4492330B2 (ja) * 2004-12-07 2010-06-30 パナソニック株式会社 電子部品実装構造体およびその製造方法
WO2006093315A1 (ja) * 2005-03-04 2006-09-08 Sony Chemical & Information Device Corporation 異方導電性接着剤及びこれを用いた電極の接続方法
JP4891895B2 (ja) * 2005-03-04 2012-03-07 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 異方導電性接着剤及びこれを用いた電極の接続方法
KR101298829B1 (ko) * 2005-03-04 2013-08-23 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 이방 도전성 접착제 및 이것을 이용한 전극의 접속 방법
WO2007088751A1 (ja) * 2006-01-31 2007-08-09 Sanyo Electric Co., Ltd. 太陽電池素子および太陽電池モジュール
US8153891B2 (en) 2006-01-31 2012-04-10 Sanyo Electric Co., Ltd. Solar cell and solar cell module
JP2008288325A (ja) * 2007-05-16 2008-11-27 Panasonic Corp 配線基板の接続方法、配線基板
KR100888404B1 (ko) * 2007-06-22 2009-03-13 삼성전기주식회사 도전성 페이스트와 이를 이용한 인쇄회로기판 및 그제조방법
US8298447B2 (en) 2007-06-22 2012-10-30 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Conductive paste, printed circuit board, and manufacturing method thereof
JP2009004377A (ja) * 2007-06-22 2009-01-08 Samsung Electro Mech Co Ltd 導電性ペーストと、これを用いた印刷回路基板及びその製造方法
JP2011124542A (ja) * 2009-12-10 2011-06-23 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 積層セラミックキャパシタ
JP2011086629A (ja) * 2010-11-22 2011-04-28 Hitachi Chem Co Ltd 導電ペースト、その製造方法及びこれを用いた電気回路とその製造方法
JP2013030616A (ja) * 2011-07-28 2013-02-07 Kyocera Corp 回路基板およびこれを備える電子装置
WO2013171918A1 (ja) * 2012-05-15 2013-11-21 京セラ株式会社 圧電アクチュエータ、圧電振動装置および携帯端末
JPWO2013171918A1 (ja) * 2012-05-15 2016-01-07 京セラ株式会社 圧電アクチュエータ、圧電振動装置および携帯端末
JP2018139212A (ja) * 2012-09-18 2018-09-06 デクセリアルズ株式会社 接続体の製造方法、及び電子部品の接続方法
JP2014090003A (ja) * 2012-10-29 2014-05-15 Ngk Spark Plug Co Ltd 多層配線基板の製造方法
JP2015191693A (ja) * 2014-03-27 2015-11-02 京セラ株式会社 セルスタックおよび電解モジュールならびに電解装置
JP2017524801A (ja) * 2014-08-14 2017-08-31 アルテコ コリア カンパニー リミテッド 伝導性複合体及びその製造方法
JP2017016740A (ja) * 2015-06-26 2017-01-19 京セラ株式会社 セルスタック、モジュールおよびモジュール収容装置
US11239593B2 (en) 2016-08-08 2022-02-01 Te Connectivity Germany Gmbh Electrical contact element for an electrical connector having microstructured caverns under the contact surface
JP2019525421A (ja) * 2016-08-08 2019-09-05 ティーイー コネクティビティ ジャーマニー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツンクTE Connectivity Germany GmbH 接触面の下に微細構造の空洞を有する電気コネクタのための電気コンタクト素子
US10923294B2 (en) 2016-08-30 2021-02-16 Murata Manufacturing Co., Ltd. Carbon paste and capacitor element for a solid electrolytic capacitor using carbon paste
US11817251B2 (en) 2017-03-02 2023-11-14 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Electronic component
US11183325B2 (en) 2017-03-02 2021-11-23 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Electronic component
JP2018148199A (ja) * 2017-03-02 2018-09-20 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. 電子部品
JP7358828B2 (ja) 2019-08-09 2023-10-11 Tdk株式会社 電子部品
JP2021028938A (ja) * 2019-08-09 2021-02-25 Tdk株式会社 電子部品
JP2021028939A (ja) * 2019-08-09 2021-02-25 Tdk株式会社 電子部品
JP7358829B2 (ja) 2019-08-09 2023-10-11 Tdk株式会社 電子部品
JPWO2021220975A1 (ja) * 2020-05-01 2021-11-04
JP7078194B2 (ja) 2020-05-01 2022-05-31 昭栄化学工業株式会社 電子部品の電極形成用導電性樹脂組成物
JP7078195B2 (ja) 2020-05-01 2022-05-31 昭栄化学工業株式会社 電子部品の製造方法
JPWO2021220976A1 (ja) * 2020-05-01 2021-11-04
WO2021220975A1 (ja) * 2020-05-01 2021-11-04 昭栄化学工業株式会社 電子部品の製造方法

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