JP2000214580A - カラ―フィルタ―用光重合性組成物、およびカラ―フィルタ― - Google Patents
カラ―フィルタ―用光重合性組成物、およびカラ―フィルタ―Info
- Publication number
- JP2000214580A JP2000214580A JP1673299A JP1673299A JP2000214580A JP 2000214580 A JP2000214580 A JP 2000214580A JP 1673299 A JP1673299 A JP 1673299A JP 1673299 A JP1673299 A JP 1673299A JP 2000214580 A JP2000214580 A JP 2000214580A
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- JP
- Japan
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- color filter
- photopolymerizable composition
- acrylate
- ether
- light stabilizer
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- Pending
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- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐光性の向上した画素を有する、カラーフィ
ルターを提供する。 【解決手段】 少なくともバインダー樹脂、光重合開始
剤、該開始剤の作用により硬化するモノマー、色材およ
び光安定剤を含み、該光安定剤として、ホスファイト
系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダ
ードアミン系、サリチル酸エステル系、トリアジン系、
ヒンダードフェノール系およびチオエーテル系から選ば
れる少なくとも1種の化合物を含有する、カラーフィル
ター用光重合性組成物。
ルターを提供する。 【解決手段】 少なくともバインダー樹脂、光重合開始
剤、該開始剤の作用により硬化するモノマー、色材およ
び光安定剤を含み、該光安定剤として、ホスファイト
系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダ
ードアミン系、サリチル酸エステル系、トリアジン系、
ヒンダードフェノール系およびチオエーテル系から選ば
れる少なくとも1種の化合物を含有する、カラーフィル
ター用光重合性組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレー
または固体撮像素子と組み合わせて用いるカラーフィル
ターと、その製造に用いるカラーフィルター用光重合性
組成物に関する。カラー液晶ディスプレーは薄型、軽
量、低電力である特徴を有することから年々応用範囲を
広げ、現在CRT代替や壁掛けテレビなども視野にいれ
開発が進められている。このような用途に用いるカラー
フィルターは、従来よりも優れた耐光性を有することが
求められている。
または固体撮像素子と組み合わせて用いるカラーフィル
ターと、その製造に用いるカラーフィルター用光重合性
組成物に関する。カラー液晶ディスプレーは薄型、軽
量、低電力である特徴を有することから年々応用範囲を
広げ、現在CRT代替や壁掛けテレビなども視野にいれ
開発が進められている。このような用途に用いるカラー
フィルターは、従来よりも優れた耐光性を有することが
求められている。
【0002】例えば特開平4−76062号公報では、
着色剤を含むイオン性樹脂溶液に、消光剤、ヒンダード
アミン系化合物および酸化防止剤を添加した樹脂組成物
を用いて製造される、耐光性の改良されたカラーフィル
ターが開示されている。しかし特開平4−76072号
公報に記載されたような、イオン性樹脂とジアゾ化合物
による光硬化反応により得られた画像は、ジアゾ化合物
自身の色の影響により一般に色純度が悪く、暗反応が起
こりやすい、液の保存安定性が悪い等の欠点を有するた
め、好ましくない。
着色剤を含むイオン性樹脂溶液に、消光剤、ヒンダード
アミン系化合物および酸化防止剤を添加した樹脂組成物
を用いて製造される、耐光性の改良されたカラーフィル
ターが開示されている。しかし特開平4−76072号
公報に記載されたような、イオン性樹脂とジアゾ化合物
による光硬化反応により得られた画像は、ジアゾ化合物
自身の色の影響により一般に色純度が悪く、暗反応が起
こりやすい、液の保存安定性が悪い等の欠点を有するた
め、好ましくない。
【0003】一方、光を吸収してラジカルを発生する光
重合開始剤と、該開始剤の作用により硬化するモノマー
を含む光重合性組成物は、色純度や画像形成性に優れ、
かつプロセスが簡易であるため、これを用いたカラーフ
ィルターの画素形成は広く一般に行われているが、耐光
性が十分でないという欠点があった。また、Ni錯体類
のような消光剤は樹脂に不要な着色を起こし、画像の色
純度を下げてしまうため好ましくない。
重合開始剤と、該開始剤の作用により硬化するモノマー
を含む光重合性組成物は、色純度や画像形成性に優れ、
かつプロセスが簡易であるため、これを用いたカラーフ
ィルターの画素形成は広く一般に行われているが、耐光
性が十分でないという欠点があった。また、Ni錯体類
のような消光剤は樹脂に不要な着色を起こし、画像の色
純度を下げてしまうため好ましくない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、色純
度および耐光性に優れた画像を得られる、画像形成性の
良い光重合性組成物を提供することと、これを用いて、
高品質、低コストで高表示品位のカラーフィルターを実
現することにある。
度および耐光性に優れた画像を得られる、画像形成性の
良い光重合性組成物を提供することと、これを用いて、
高品質、低コストで高表示品位のカラーフィルターを実
現することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記光重合性組成物に、
特開平4−76062号公報に開示されている様な添加
剤を加えた場合、これらの添加剤が光重合時に照射した
光を吸収したり、光重合開始剤が発するラジカルをトラ
ップしてしまうため、組成物の硬化を阻害し、画像を得
ることが困難になることが予想されるが、本発明者ら
が、鋭意研究を進めた結果、光安定剤として特定の化合
物を添加した場合には、予想外にも光重合性組成物の感
度、解像性、密着性、現像性を損なうこと無く、カラー
フィルターに必要な色耐光性を有することを見いだし、
本発明分を完成するに至った。
特開平4−76062号公報に開示されている様な添加
剤を加えた場合、これらの添加剤が光重合時に照射した
光を吸収したり、光重合開始剤が発するラジカルをトラ
ップしてしまうため、組成物の硬化を阻害し、画像を得
ることが困難になることが予想されるが、本発明者ら
が、鋭意研究を進めた結果、光安定剤として特定の化合
物を添加した場合には、予想外にも光重合性組成物の感
度、解像性、密着性、現像性を損なうこと無く、カラー
フィルターに必要な色耐光性を有することを見いだし、
本発明分を完成するに至った。
【0006】すなわち本発明は、少なくともバインダー
樹脂、光重合開始剤、該開始剤の作用により硬化するモ
ノマー、色材および光安定剤を含み、該光安定剤とし
て、ホスファイト系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフ
ェノン系、ヒンダードアミン系、サリチル酸エステル
系、トリアジン系、ヒンダードフェノール系およびチオ
エーテル系から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有
する、カラーフィルター用光重合性組成物、およびこれ
を用いて画像を形成することにより得られるカラーフィ
ルターに存する。以下、本発明を詳細に説明する。
樹脂、光重合開始剤、該開始剤の作用により硬化するモ
ノマー、色材および光安定剤を含み、該光安定剤とし
て、ホスファイト系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフ
ェノン系、ヒンダードアミン系、サリチル酸エステル
系、トリアジン系、ヒンダードフェノール系およびチオ
エーテル系から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有
する、カラーフィルター用光重合性組成物、およびこれ
を用いて画像を形成することにより得られるカラーフィ
ルターに存する。以下、本発明を詳細に説明する。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明における「光安定剤」と
は、紫外線吸収機能または酸化防止機能を有する化合物
であり、本発明では、光安定剤としてホスファイト系、
ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダード
アミン系、サリチル酸エステル系、トリアジン系、ヒン
ダードフェノール系およびチオエーテル系の化合物であ
って、紫外線吸収能または、酸化防止能を有する化合物
であればよく、公知の紫外線吸収剤、酸化防止剤等が使
用できる。
は、紫外線吸収機能または酸化防止機能を有する化合物
であり、本発明では、光安定剤としてホスファイト系、
ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダード
アミン系、サリチル酸エステル系、トリアジン系、ヒン
ダードフェノール系およびチオエーテル系の化合物であ
って、紫外線吸収能または、酸化防止能を有する化合物
であればよく、公知の紫外線吸収剤、酸化防止剤等が使
用できる。
【0008】本発明で用いられるフォスファイト系光安
定剤として、具体的には、トリス(イソデシル)フォス
ファイト、トリス(トリデシル)フォスファイト、フェ
ニルイソオクチルフォスファイト、フェニルイソデシル
フォスファイト、フェニルジ(トリデシル)フォスファ
イト、ジフェニルイソオクチルフォスファイト、ジフェ
ニルイソデシルフォスファイト、ジフェニルトリデシル
フォスファイト、トリフェニルフォスファイト、トリス
(ノニルフェニル)フォスファイト、4,4’イソプロ
ピリデンジフェノールアルキルフォスファイト、トリス
ノニルフェニルフォスファイト、トリスジノニルフェニ
ルフォスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフ
ェニル)フォスファイト、トリス(ビフェニル)フォス
ファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジフォス
ファイト、ジ(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペン
タエリスリトールジフォスファイト、ジ(ノニルフェニ
ル)ペンタエリスリトールジフォスファイト、フェニル
ビスフェノールAペンタエリスリトールジフォスファイ
ト、テトラトリデシル4,4’−ブチリデンビス(3−
メチル−6−t−ブチルフェノール)ジフォスファイ
ト、ヘキサトリデシル1,1,3−トリス(2−メチル
−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタント
リフォスファイト、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルフォスファイトジエチルエステル、ソジ
ウムビス(4−t−ブチルフェニル)フォスファイト、
ソジウム−2,2−メチレン−ビス(4,6−ジ−t−
ブチルフェニル)−フォスファイト、1,3−ビス(ジ
フェノキシフォスフォニロキシ)−ベンゼン PEP−
8F、PEP−11C、PEP−24G、PEP−3
6、HP−10、P、QL、135A、TPP(以上、
旭電化工業社製)GSY−202(吉富ファインケミカ
ル社製)、その他、フォスファイト構造を有するオリゴ
マータイプ及びポリマータイプの化合物等を使用するこ
とが出来る。
定剤として、具体的には、トリス(イソデシル)フォス
ファイト、トリス(トリデシル)フォスファイト、フェ
ニルイソオクチルフォスファイト、フェニルイソデシル
フォスファイト、フェニルジ(トリデシル)フォスファ
イト、ジフェニルイソオクチルフォスファイト、ジフェ
ニルイソデシルフォスファイト、ジフェニルトリデシル
フォスファイト、トリフェニルフォスファイト、トリス
(ノニルフェニル)フォスファイト、4,4’イソプロ
ピリデンジフェノールアルキルフォスファイト、トリス
ノニルフェニルフォスファイト、トリスジノニルフェニ
ルフォスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフ
ェニル)フォスファイト、トリス(ビフェニル)フォス
ファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジフォス
ファイト、ジ(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペン
タエリスリトールジフォスファイト、ジ(ノニルフェニ
ル)ペンタエリスリトールジフォスファイト、フェニル
ビスフェノールAペンタエリスリトールジフォスファイ
ト、テトラトリデシル4,4’−ブチリデンビス(3−
メチル−6−t−ブチルフェノール)ジフォスファイ
ト、ヘキサトリデシル1,1,3−トリス(2−メチル
−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタント
リフォスファイト、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルフォスファイトジエチルエステル、ソジ
ウムビス(4−t−ブチルフェニル)フォスファイト、
ソジウム−2,2−メチレン−ビス(4,6−ジ−t−
ブチルフェニル)−フォスファイト、1,3−ビス(ジ
フェノキシフォスフォニロキシ)−ベンゼン PEP−
8F、PEP−11C、PEP−24G、PEP−3
6、HP−10、P、QL、135A、TPP(以上、
旭電化工業社製)GSY−202(吉富ファインケミカ
ル社製)、その他、フォスファイト構造を有するオリゴ
マータイプ及びポリマータイプの化合物等を使用するこ
とが出来る。
【0009】本発明で用いられる、ベンゾトリアゾール
系光安定剤として、具体的には、トミソープ600(吉
富ファインケミカル製)、TINUVIN326、TI
NUVIN327、TINUVIN P、TINUVI
N328(以上、チバ・スペシャリティーケミカル社
製)、VIOSORB583、VIOSORB590
(共同薬品社製)、その他、ベンゾトリアゾール構造を
有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等
を使用することが出来る。
系光安定剤として、具体的には、トミソープ600(吉
富ファインケミカル製)、TINUVIN326、TI
NUVIN327、TINUVIN P、TINUVI
N328(以上、チバ・スペシャリティーケミカル社
製)、VIOSORB583、VIOSORB590
(共同薬品社製)、その他、ベンゾトリアゾール構造を
有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等
を使用することが出来る。
【0010】また、ベンゾフェノン系光安定剤として、
具体的には、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、トミソー
プ800(=2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベン
ゾフェノン)(吉富ファインケミカル製)、4−ドデシ
ロキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキ
シ−4−オクタデシロキシベンゾフェノン、2,2’ジ
ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’ジ
ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、
2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5スルフォベンゾ
フェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カル
ボキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−クロロベ
ンゾフェノン、LA−51(以上、旭電化工業製)、そ
の他、ベンゾフェノン構造を有するオリゴマータイプ及
びポリマータイプの化合物等を使用することが出来る。
具体的には、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、トミソー
プ800(=2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベン
ゾフェノン)(吉富ファインケミカル製)、4−ドデシ
ロキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキ
シ−4−オクタデシロキシベンゾフェノン、2,2’ジ
ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’ジ
ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、
2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5スルフォベンゾ
フェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カル
ボキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−クロロベ
ンゾフェノン、LA−51(以上、旭電化工業製)、そ
の他、ベンゾフェノン構造を有するオリゴマータイプ及
びポリマータイプの化合物等を使用することが出来る。
【0011】また、トリアジン系光安定剤として、具体
的には、CYASORB UV−1164(サンケミカ
ル株式会社製)、その他、2,4−ビス(アリル)−6
−(2−ヒドロキシフェニル)1,3,5−トリアジン
構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化
合物等を使用することが出来る。また、ヒンダードアミ
ン系光安定剤として、具体的には、サノールLS−77
0、サノールLS−765、サノールLS−622L
D、キマソープ944(以上、三共株式会社)、CYA
SORB UV−3346(以上、サンケミカル株式会
社製)、ノックラック224、ノックラックCD、Uv
asil299−299LM(以上、大内新興化学工業
社製)、MARK LAー63、MARKLA−68
(以上、旭電化工業社製)、TINUVIN 144、
TINUVIN 312(以上、チバ・スペシャリティ
ーケミカル社製)、その他、ヒンダードアミン構造を有
するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等を
使用することが出来る。
的には、CYASORB UV−1164(サンケミカ
ル株式会社製)、その他、2,4−ビス(アリル)−6
−(2−ヒドロキシフェニル)1,3,5−トリアジン
構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化
合物等を使用することが出来る。また、ヒンダードアミ
ン系光安定剤として、具体的には、サノールLS−77
0、サノールLS−765、サノールLS−622L
D、キマソープ944(以上、三共株式会社)、CYA
SORB UV−3346(以上、サンケミカル株式会
社製)、ノックラック224、ノックラックCD、Uv
asil299−299LM(以上、大内新興化学工業
社製)、MARK LAー63、MARKLA−68
(以上、旭電化工業社製)、TINUVIN 144、
TINUVIN 312(以上、チバ・スペシャリティ
ーケミカル社製)、その他、ヒンダードアミン構造を有
するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等を
使用することが出来る。
【0012】また、サルチル酸エステル系光安定剤とし
て、具体的には、サリチル酸フェニル、サリチル酸p−
オクチルフェニル、サリチル酸p−tertブチルフェ
ニル、その他サルチル酸エステル構造を有するオリゴマ
ータイプ及びポリマータイプの化合物等を使用すること
が出来る。
て、具体的には、サリチル酸フェニル、サリチル酸p−
オクチルフェニル、サリチル酸p−tertブチルフェ
ニル、その他サルチル酸エステル構造を有するオリゴマ
ータイプ及びポリマータイプの化合物等を使用すること
が出来る。
【0013】ヒンダードフェノール系光安定剤として、
具体的には、ヨシノックスBHT(=2,6−ジ−t−
ブチル−4−メチルフェノール)、トミノックスTT
(=テトラキス−[メチレン−3−(3,5’−ジ−t
−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト]メタン)、ヨシノックスSR、ヨシノックスBB、
ヨシノックス2246G、ヨシノックス425、ヨシノ
ックス250、ヨシノックス930、トミノックスS
S、トミノックス917、GSY−314(以上、吉富
ファインケミカル社製)、IRGANOX245(チバ
・スペシャリティーケミカル社製)、2,6−ジ−t−
ブチル−4−ノニルフェノール、2,2’−イソブチリ
デン−ビス−(4,6−ジメチル−フェノール)、4,
4’−ブチリデン−ビス−(2−t−ブチル−5−メチ
ルフェノール)、2,2’−チオ−ビス−(6−t−ブ
チル−4−メチルフェノール)、2,5−ジ−t−アミ
ル−ヒドロキノン、2,2’チオジエチルビス−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロ
ピオネート、1,1,3−トリス−(2’−メチル−
4’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)−ブタ
ン、2,2’−メチレン−ビス−(6−(1−メチル−
シクロヘキシル)−p−クレゾール)、2,4−ジメチ
ル−6−(1−メチル−シクロヘキシル)−フェノー
ル、N,N−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナムアミド)、その
他、ヒンダードフェノール構造を有するオリゴマータイ
プ及びポリマータイプの化合物等を使用することが出来
る。
具体的には、ヨシノックスBHT(=2,6−ジ−t−
ブチル−4−メチルフェノール)、トミノックスTT
(=テトラキス−[メチレン−3−(3,5’−ジ−t
−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト]メタン)、ヨシノックスSR、ヨシノックスBB、
ヨシノックス2246G、ヨシノックス425、ヨシノ
ックス250、ヨシノックス930、トミノックスS
S、トミノックス917、GSY−314(以上、吉富
ファインケミカル社製)、IRGANOX245(チバ
・スペシャリティーケミカル社製)、2,6−ジ−t−
ブチル−4−ノニルフェノール、2,2’−イソブチリ
デン−ビス−(4,6−ジメチル−フェノール)、4,
4’−ブチリデン−ビス−(2−t−ブチル−5−メチ
ルフェノール)、2,2’−チオ−ビス−(6−t−ブ
チル−4−メチルフェノール)、2,5−ジ−t−アミ
ル−ヒドロキノン、2,2’チオジエチルビス−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロ
ピオネート、1,1,3−トリス−(2’−メチル−
4’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)−ブタ
ン、2,2’−メチレン−ビス−(6−(1−メチル−
シクロヘキシル)−p−クレゾール)、2,4−ジメチ
ル−6−(1−メチル−シクロヘキシル)−フェノー
ル、N,N−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナムアミド)、その
他、ヒンダードフェノール構造を有するオリゴマータイ
プ及びポリマータイプの化合物等を使用することが出来
る。
【0014】チオエーテル系光安定剤として、具体的に
は、DLTP「ヨシトミ」、DSTP「ヨシトミ」,D
MTP「ヨシトミ」、DTTP「ヨシトミ」(以上、吉
富ファインケミカル社製)、その他チオエーテル構造を
有するオリゴマータイプ及びポリマータイプ等を使用す
ることが出来る。以上に挙げた光安定剤の内ホスファイ
ト系光安定剤は、ヒンダードフェノール系光安定剤と比
較して着色が少なく、チオエーテル系光安定剤と比較し
て悪臭ではなく、しかも、光重合性組成物の硬化特性を
阻害する性能が少なく、耐光性を向上できるのでより好
ましい。
は、DLTP「ヨシトミ」、DSTP「ヨシトミ」,D
MTP「ヨシトミ」、DTTP「ヨシトミ」(以上、吉
富ファインケミカル社製)、その他チオエーテル構造を
有するオリゴマータイプ及びポリマータイプ等を使用す
ることが出来る。以上に挙げた光安定剤の内ホスファイ
ト系光安定剤は、ヒンダードフェノール系光安定剤と比
較して着色が少なく、チオエーテル系光安定剤と比較し
て悪臭ではなく、しかも、光重合性組成物の硬化特性を
阻害する性能が少なく、耐光性を向上できるのでより好
ましい。
【0015】本発明組成物に使用されるバインダー樹
脂、光重合開始剤の作用により硬化するモノマー、およ
び光重合開始剤は一般にこの種レジストに使用される広
い範囲から選ぶことができる。バインダー樹脂として
は、塗膜形成能を有する高分子化合物であれば特に制限
は無く、具体的な例としては例えば下記の化合物が挙げ
られる。
脂、光重合開始剤の作用により硬化するモノマー、およ
び光重合開始剤は一般にこの種レジストに使用される広
い範囲から選ぶことができる。バインダー樹脂として
は、塗膜形成能を有する高分子化合物であれば特に制限
は無く、具体的な例としては例えば下記の化合物が挙げ
られる。
【0016】1)ポリオレフィン系ポリマー ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン等 2)ジエン系ポリマー ポリブタジエン、ポリイソプレン等 3)共役ポリエン構造を有するポリマー ポリアセチレン系ポリマー、ポリフェニレン系ポリマー
等 4)ビニルポリマー ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、酢酸ビニル、ポリビニ
ルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ポリ
ビニルフェノール等 5)ポリエーテル ポリフェニレンエーテル、ポリオキシラン、ポリオキセ
タン、ポリテトラヒドロフラン、ポリエーテルケトン、
ポリエーテルエーテルケトン、ポリアセタール等 6)フェノール樹脂 ノボラック樹脂、レゾール樹脂等 7)ポリエスエル ポリエチレンテレフタレート、ポリフェノールフタレイ
ンテレフタレート、ポリカーボネート、アルキッド樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂等 8)ポリアミド ナイロン−6、ナイロン66、水溶性ナイロン、ポリフ
ェニレンアミド等 9)ポリペプチド ゼラチン、カゼイン等 10)エポキシ樹脂及びその変性物 ノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールエポキシ樹
脂、ノボラックエポキシアクリレート及び酸無水物によ
る変性樹脂等 11)その他 ポリウレタン、ポリイミド、メラミン樹脂、尿素樹脂、
ポリイミダゾール、ポリオキサゾール、ポリピロール、
ポリアニリン、ポリスルフィド、ポリスルホン、セルロ
ース類等
等 4)ビニルポリマー ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、酢酸ビニル、ポリビニ
ルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ポリ
ビニルフェノール等 5)ポリエーテル ポリフェニレンエーテル、ポリオキシラン、ポリオキセ
タン、ポリテトラヒドロフラン、ポリエーテルケトン、
ポリエーテルエーテルケトン、ポリアセタール等 6)フェノール樹脂 ノボラック樹脂、レゾール樹脂等 7)ポリエスエル ポリエチレンテレフタレート、ポリフェノールフタレイ
ンテレフタレート、ポリカーボネート、アルキッド樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂等 8)ポリアミド ナイロン−6、ナイロン66、水溶性ナイロン、ポリフ
ェニレンアミド等 9)ポリペプチド ゼラチン、カゼイン等 10)エポキシ樹脂及びその変性物 ノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールエポキシ樹
脂、ノボラックエポキシアクリレート及び酸無水物によ
る変性樹脂等 11)その他 ポリウレタン、ポリイミド、メラミン樹脂、尿素樹脂、
ポリイミダゾール、ポリオキサゾール、ポリピロール、
ポリアニリン、ポリスルフィド、ポリスルホン、セルロ
ース類等
【0017】これらの樹脂の中では、樹脂側鎖または主
鎖にカルボキシル基あるいはフェノール性水酸基等を有
する樹脂がアルカリ現像可能なため、公害防止の観点か
ら好ましい。中でもカルボキシル基を有する樹脂、例え
ば、アクリル酸(共)重合体、スチレン/無水マレイン
酸樹脂、ノボラックエポキシアクリレートの酸無水物変
性樹脂等は、高アルカリ現像性なので更に好ましい。ア
クリル系樹脂は現像性に優れており、様々なモノマーを
選択して種々の共重合体を得ることが可能なため、性能
および製造制御の観点から最も好ましい。
鎖にカルボキシル基あるいはフェノール性水酸基等を有
する樹脂がアルカリ現像可能なため、公害防止の観点か
ら好ましい。中でもカルボキシル基を有する樹脂、例え
ば、アクリル酸(共)重合体、スチレン/無水マレイン
酸樹脂、ノボラックエポキシアクリレートの酸無水物変
性樹脂等は、高アルカリ現像性なので更に好ましい。ア
クリル系樹脂は現像性に優れており、様々なモノマーを
選択して種々の共重合体を得ることが可能なため、性能
および製造制御の観点から最も好ましい。
【0018】具体的にカルボキシル基を含有するアクリ
ル系樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル酸、(無
水)マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸、フマル酸、
などのカルボキシル基を有するモノマーとスチレン、α
−メチルスチレン、(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、
(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸
ブチル、酢酸ビニル、アクリロニトリル、(メタ)アク
リルアミド、グリシジル(メタ)アクリレート、アリル
グリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、ク
ロトン酸グリシジルエーテル、(メタ)アクリル酸クロ
ライド、ベンジル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、N−メチロールアクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メタクリ
ロイルモルホリン、N,N−ジメチルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアク
リルアミド、などのコモノマーを共重合させたポリマー
が挙げられる。中でも好ましいのは構成モノマーとして
少なくとも(メタ)アクリル酸あるいは(メタ)アクリ
ル酸アルキルエーテルを含有するアクリル樹脂であり、
さらに好ましくは(メタ)アクリル酸およびスチレンを
含有するアクリル樹脂である。
ル系樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル酸、(無
水)マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸、フマル酸、
などのカルボキシル基を有するモノマーとスチレン、α
−メチルスチレン、(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、
(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸
ブチル、酢酸ビニル、アクリロニトリル、(メタ)アク
リルアミド、グリシジル(メタ)アクリレート、アリル
グリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、ク
ロトン酸グリシジルエーテル、(メタ)アクリル酸クロ
ライド、ベンジル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、N−メチロールアクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メタクリ
ロイルモルホリン、N,N−ジメチルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアク
リルアミド、などのコモノマーを共重合させたポリマー
が挙げられる。中でも好ましいのは構成モノマーとして
少なくとも(メタ)アクリル酸あるいは(メタ)アクリ
ル酸アルキルエーテルを含有するアクリル樹脂であり、
さらに好ましくは(メタ)アクリル酸およびスチレンを
含有するアクリル樹脂である。
【0019】また、これらの樹脂は側鎖にエチレン性二
重結合を付加させることもできる。樹脂側鎖に二重結合
を付与することにより光硬化性が高まるため、解像性、
密着性をさらに向上させることができ好ましい。エチレ
ン性二重結合を導入する合成手段として、例えば、特公
昭50−34443、特公昭50−34444などに記
載の方法等が挙げられる。具体的には、カルボキシル基
や水酸基にグリシジル基、エポキシシクロヘキシル基お
よび(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物やアクリ
ル酸クロライドなどを反応させる方法が挙げられる。例
えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、アリルグリシジ
ルエーテル、α−エチルアクリル酸グリシジル、クロト
ニルグリシジルエーテル、(イソ)クロトン酸グリシジ
ルエーテル、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチ
ル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸クロライ
ド、(メタ)アリルクロライドなどの化合物を使用し、
カルボキシル基や水酸基を有する樹脂に反応させること
により側鎖に重合基を有する樹脂を得ることができる。
特に、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メ
タ)アクリレートのような、脂環式エポキシ化合物を反
応させた樹脂が好ましい。
重結合を付加させることもできる。樹脂側鎖に二重結合
を付与することにより光硬化性が高まるため、解像性、
密着性をさらに向上させることができ好ましい。エチレ
ン性二重結合を導入する合成手段として、例えば、特公
昭50−34443、特公昭50−34444などに記
載の方法等が挙げられる。具体的には、カルボキシル基
や水酸基にグリシジル基、エポキシシクロヘキシル基お
よび(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物やアクリ
ル酸クロライドなどを反応させる方法が挙げられる。例
えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、アリルグリシジ
ルエーテル、α−エチルアクリル酸グリシジル、クロト
ニルグリシジルエーテル、(イソ)クロトン酸グリシジ
ルエーテル、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチ
ル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸クロライ
ド、(メタ)アリルクロライドなどの化合物を使用し、
カルボキシル基や水酸基を有する樹脂に反応させること
により側鎖に重合基を有する樹脂を得ることができる。
特に、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メ
タ)アクリレートのような、脂環式エポキシ化合物を反
応させた樹脂が好ましい。
【0020】なお、本明細書において、「(メタ)アク
リル〜」、「(メタ)アクリレート」等は、「アクリル
〜またはメタクリル〜」、「アクリレートまたはメタク
リレート」等を意味するものとし、例えば「(メタ)ア
クリル酸」は「アクリル酸またはメタクリル酸」を意味
するものとする。これらのアクリル樹脂のGPCで測定
した重量平均分子量の好ましい範囲は1000〜10
0,000である。重量平均分子量が1000以下であ
ると均一な塗膜をえるのが難しく、また、100,00
0を超えると現像性が低下する傾向がある。また、カル
ボキシル基の好ましい含有量の範囲は酸価で5〜200
である。酸価が5以下であるとアルカリ現像液に不溶と
なり、また、200を超えると感度が低下することがあ
る。
リル〜」、「(メタ)アクリレート」等は、「アクリル
〜またはメタクリル〜」、「アクリレートまたはメタク
リレート」等を意味するものとし、例えば「(メタ)ア
クリル酸」は「アクリル酸またはメタクリル酸」を意味
するものとする。これらのアクリル樹脂のGPCで測定
した重量平均分子量の好ましい範囲は1000〜10
0,000である。重量平均分子量が1000以下であ
ると均一な塗膜をえるのが難しく、また、100,00
0を超えると現像性が低下する傾向がある。また、カル
ボキシル基の好ましい含有量の範囲は酸価で5〜200
である。酸価が5以下であるとアルカリ現像液に不溶と
なり、また、200を超えると感度が低下することがあ
る。
【0021】光重合開始剤の作用により硬化するモノマ
ーとしては、光重合開始剤の発生するラジカルの作用に
よりラジカル重合するモノマーおよび光重合開始剤から
発生する酸の作用で付加縮合するモノマー等公知のいず
れのものも用い得る。 前者の代表的例としては、エチ
レン性二重結合を有するモノマーが挙げられ、より具体
的には、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレ
ート、ラウリルアクリレート、セチルアクリレート、ス
テアリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
イソボニルアクリレート、ベンジルアクリレート、2−
メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチルアク
リレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキ
シエチルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレー
ト、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、
メトキシプロピレングリコールアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−アクリロイルオキシエチルハイドロゲ
ンフタレート、2−アクリロイルオキシプロピルハイド
ロゲンフタレート、2−アクリロイルオキシプロピルテ
トラヒドロハイドロゲンフタレート、モルホリノエチル
メタクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、ト
リフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロ
ピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル
(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メ
タ)アクリレート、ヘプタデカフルオロドデシルアクリ
レート、トリメチルシロキシエチルメタクリレート、
1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオール
ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプ
ロピレングリコールジアクリレート、プロピレングリコ
ールジアクリレート、グリセリンメタクリレートアクリ
レート、ビスフェノールA,エチレンオキサイド付加物
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプ
ロパンエチレンオキサイド付加トリアクリレート、グリ
セリンプロピレンオキサイド付加トリアクリレート、ト
リスアクリロイルオキシエチレンフォスフェート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ノボラックエ
ポキシのアクリル酸変性物、ノボラックエポキシのアク
リル酸および酸無水物の変性物、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルカプロラクタム、アクリル化イソシアヌ
レート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ
アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエス
テルアクリレートなどが挙げられる。これらのモノマー
のなかではアクリルモノマー、特に3個以上のエチレン
性二重結合を有するアクリルモノマーが好ましい。これ
らのモノマーは単独または複数組み合わせて使用され
る。
ーとしては、光重合開始剤の発生するラジカルの作用に
よりラジカル重合するモノマーおよび光重合開始剤から
発生する酸の作用で付加縮合するモノマー等公知のいず
れのものも用い得る。 前者の代表的例としては、エチ
レン性二重結合を有するモノマーが挙げられ、より具体
的には、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレ
ート、ラウリルアクリレート、セチルアクリレート、ス
テアリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
イソボニルアクリレート、ベンジルアクリレート、2−
メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチルアク
リレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキ
シエチルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレー
ト、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、
メトキシプロピレングリコールアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−アクリロイルオキシエチルハイドロゲ
ンフタレート、2−アクリロイルオキシプロピルハイド
ロゲンフタレート、2−アクリロイルオキシプロピルテ
トラヒドロハイドロゲンフタレート、モルホリノエチル
メタクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、ト
リフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロ
ピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル
(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メ
タ)アクリレート、ヘプタデカフルオロドデシルアクリ
レート、トリメチルシロキシエチルメタクリレート、
1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオール
ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプ
ロピレングリコールジアクリレート、プロピレングリコ
ールジアクリレート、グリセリンメタクリレートアクリ
レート、ビスフェノールA,エチレンオキサイド付加物
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプ
ロパンエチレンオキサイド付加トリアクリレート、グリ
セリンプロピレンオキサイド付加トリアクリレート、ト
リスアクリロイルオキシエチレンフォスフェート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ノボラックエ
ポキシのアクリル酸変性物、ノボラックエポキシのアク
リル酸および酸無水物の変性物、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルカプロラクタム、アクリル化イソシアヌ
レート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ
アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエス
テルアクリレートなどが挙げられる。これらのモノマー
のなかではアクリルモノマー、特に3個以上のエチレン
性二重結合を有するアクリルモノマーが好ましい。これ
らのモノマーは単独または複数組み合わせて使用され
る。
【0022】一方、光重合開始剤から発生する酸の作用
で付加縮合するモノマーとしては、メラミン、ベンゾグ
アナミン、グリコールウリルもしくは尿素にホルムアル
デヒドを作用させた化合物またはそれらのアルキル変性
化合物、エポキシ化合物およびレゾール化合物等の架橋
作用を有する化合物が挙げられる。具体的には、三井サ
イアナミド社のサイメル(登録商標)300、301、
303、350、736、738、370、771、3
25、327、703、701、266、267、28
5、232、235、238、1141、272、25
4、202、1156、1158は、メラミンにホルム
アルデヒドを作用させた化合物またはそのアルキル変性
物の例である。サイメル(登録商標)1123、112
5、1128は、ベンゾグアナミンにホルムアルデヒド
を作用させた化合物またはそのアルキル変性物の例であ
る。サイメル(登録商標)1170、1171、117
4、1172はグリコールウリルにホルムアルデヒドを
作用させた化合物またはそのアルキル変性物の例であ
る。尿素にホルムアルデヒドを作用させた化合物または
そのアルキル変性物の例として三井サイアナミド社のU
FR(登録商標)65、300を挙げることができる。
で付加縮合するモノマーとしては、メラミン、ベンゾグ
アナミン、グリコールウリルもしくは尿素にホルムアル
デヒドを作用させた化合物またはそれらのアルキル変性
化合物、エポキシ化合物およびレゾール化合物等の架橋
作用を有する化合物が挙げられる。具体的には、三井サ
イアナミド社のサイメル(登録商標)300、301、
303、350、736、738、370、771、3
25、327、703、701、266、267、28
5、232、235、238、1141、272、25
4、202、1156、1158は、メラミンにホルム
アルデヒドを作用させた化合物またはそのアルキル変性
物の例である。サイメル(登録商標)1123、112
5、1128は、ベンゾグアナミンにホルムアルデヒド
を作用させた化合物またはそのアルキル変性物の例であ
る。サイメル(登録商標)1170、1171、117
4、1172はグリコールウリルにホルムアルデヒドを
作用させた化合物またはそのアルキル変性物の例であ
る。尿素にホルムアルデヒドを作用させた化合物または
そのアルキル変性物の例として三井サイアナミド社のU
FR(登録商標)65、300を挙げることができる。
【0023】エポキシ化合物の例として、トリグリシジ
ルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、アリルグ
リシジルエーテル、エチルヘキシルグリシジルエーテ
ル、フェニルグリシジルエーテル、フェノールグリシジ
ルエーテル、ラウリルアルコールグリシジルエーテル、
アジピン酸グリシジルエーテル、フタル酸グリシジルエ
ーテル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ジブロ
モネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリ
シジルフタルイミド、(ポリ)エチレングリコールグリ
シジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエー
テル、グリセリンポリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンポリグリシジルエーテル、ブチルグリシジ
ルエーテル等を挙げることができる。
ルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、アリルグ
リシジルエーテル、エチルヘキシルグリシジルエーテ
ル、フェニルグリシジルエーテル、フェノールグリシジ
ルエーテル、ラウリルアルコールグリシジルエーテル、
アジピン酸グリシジルエーテル、フタル酸グリシジルエ
ーテル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ジブロ
モネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリ
シジルフタルイミド、(ポリ)エチレングリコールグリ
シジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエー
テル、グリセリンポリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンポリグリシジルエーテル、ブチルグリシジ
ルエーテル等を挙げることができる。
【0024】この中で特に好ましい化合物として、分子
中に−N(CH2OR)2 基を有する化合物(式中、R
は水素原子またはアルキル基を示す)が挙げられる。詳
しくは、尿素あるいはメラミンにホルムアルデヒドを作
用させた化合物またはそのアルキル変性物が特に好まし
い。レゾール化合物の例として、群栄化学社製のPP−
3000s、PP−3000A、RP−2978、SP
−1974、SP−1975、SP−1976、SP−
1977、RP−3973等が挙げられる。
中に−N(CH2OR)2 基を有する化合物(式中、R
は水素原子またはアルキル基を示す)が挙げられる。詳
しくは、尿素あるいはメラミンにホルムアルデヒドを作
用させた化合物またはそのアルキル変性物が特に好まし
い。レゾール化合物の例として、群栄化学社製のPP−
3000s、PP−3000A、RP−2978、SP
−1974、SP−1975、SP−1976、SP−
1977、RP−3973等が挙げられる。
【0025】これらのバインダー樹脂およびモノマーの
中では、カラーフィルター用レジスト組成物がアルカリ
現像可能である点に於て特に前記のカルボキシル基を含
有するアクリル樹脂とアクリルモノマーとの組合せが最
も好ましい。光重合開始剤としては、公知のいずれのも
のも用いることができ、紫外線によりエチレン性不飽和
基を重合させるラジカルを発生させることのできる化合
物および紫外線により酸を発生させる化合物が挙げられ
る。
中では、カラーフィルター用レジスト組成物がアルカリ
現像可能である点に於て特に前記のカルボキシル基を含
有するアクリル樹脂とアクリルモノマーとの組合せが最
も好ましい。光重合開始剤としては、公知のいずれのも
のも用いることができ、紫外線によりエチレン性不飽和
基を重合させるラジカルを発生させることのできる化合
物および紫外線により酸を発生させる化合物が挙げられ
る。
【0026】具体的には2−(4−メトキシフェニル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキ
シナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン、2−(4−エトキシカルボニルナフチ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、などのハロメチル化トリアジン誘導体、ハロメチ
ル化オキサジアゾール誘導体、2−(2’−クロロフェ
ニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−
(2’−クロロフェニル)−4,5−ビス(3’−メト
キシフェニル)イミダゾール2量体、2−(2’−フル
オロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量
体、2−(2’−メトキシフェニル)−4,5−ジフェ
ニルイミダゾール2量体、(4’−メトキシフェニル)
−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体などのイミダ
ゾール誘導体、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
フェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン、ベン
ゾインアルキルエーテル類、2−メチルアントラキノ
ン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアント
ラキノン、1−クロロアントラキノンなどのアントラキ
ノン誘導体、ベンズアンスロン誘導体、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−
メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2
−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、
2−カルボキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン誘
導体、2,2,−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−
2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−
メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、
1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケト
ン、2−メチル−(4’−(メチルチオ)フェニル)−
2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1,−トリ
クロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトンなどのア
セトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオ
キサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−ク
ロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソ
プロピルチオキサントンなどのチオキサントン誘導体、
p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミ
ノ安息香酸エチルなどの安息香酸エステル誘導体、9−
フェニルアクリジン、9−(p−メトキシフェニル)ア
クリジンなどのアクリジン誘導体、9,10−ジメチル
ベンズフェナジンなどのフェナジン誘導体、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタ
フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ
−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シク
ロペンタジエニル−Ti−2,6−ジ−フルオロフェニ
−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−2,4
−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペン
タフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタ
ジエニル−Ti−ビス−2,6−ジ−フルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−2,6−
ジ−フルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1−
イルなどのチタノセン誘導体等が挙げられる。これらの
光重合開始剤は単独または複数組み合わせて使用され
る。例えば、特公昭53−12802、特開平1−27
9903、特開平2−48664、特開平4−1649
02、特開平6−75373などに記載の開始剤の組み
合わせなどが挙げられる。
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキ
シナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン、2−(4−エトキシカルボニルナフチ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、などのハロメチル化トリアジン誘導体、ハロメチ
ル化オキサジアゾール誘導体、2−(2’−クロロフェ
ニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−
(2’−クロロフェニル)−4,5−ビス(3’−メト
キシフェニル)イミダゾール2量体、2−(2’−フル
オロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量
体、2−(2’−メトキシフェニル)−4,5−ジフェ
ニルイミダゾール2量体、(4’−メトキシフェニル)
−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体などのイミダ
ゾール誘導体、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
フェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン、ベン
ゾインアルキルエーテル類、2−メチルアントラキノ
ン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアント
ラキノン、1−クロロアントラキノンなどのアントラキ
ノン誘導体、ベンズアンスロン誘導体、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−
メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2
−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、
2−カルボキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン誘
導体、2,2,−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−
2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−
メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、
1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケト
ン、2−メチル−(4’−(メチルチオ)フェニル)−
2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1,−トリ
クロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトンなどのア
セトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオ
キサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−ク
ロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソ
プロピルチオキサントンなどのチオキサントン誘導体、
p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミ
ノ安息香酸エチルなどの安息香酸エステル誘導体、9−
フェニルアクリジン、9−(p−メトキシフェニル)ア
クリジンなどのアクリジン誘導体、9,10−ジメチル
ベンズフェナジンなどのフェナジン誘導体、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタ
フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ
−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シク
ロペンタジエニル−Ti−2,6−ジ−フルオロフェニ
−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−2,4
−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペン
タフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタ
ジエニル−Ti−ビス−2,6−ジ−フルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−2,6−
ジ−フルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1−
イルなどのチタノセン誘導体等が挙げられる。これらの
光重合開始剤は単独または複数組み合わせて使用され
る。例えば、特公昭53−12802、特開平1−27
9903、特開平2−48664、特開平4−1649
02、特開平6−75373などに記載の開始剤の組み
合わせなどが挙げられる。
【0027】感度、安定性、溶解性などの観点から特に
トリアジン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ビイミダ
ゾール誘導体、チタノセン誘導体等が特に好ましい開始
剤である。本発明で使用される色材としては、特に限定
はないが、耐光性、耐熱性の点から顔料が好適に用いら
れる。顔料としては、特に限定はなく、CMC社発行の
「カラーケミカル辞典」記載の一般的な無機顔料、有機
顔料のなかから選択することができる。
トリアジン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ビイミダ
ゾール誘導体、チタノセン誘導体等が特に好ましい開始
剤である。本発明で使用される色材としては、特に限定
はないが、耐光性、耐熱性の点から顔料が好適に用いら
れる。顔料としては、特に限定はなく、CMC社発行の
「カラーケミカル辞典」記載の一般的な無機顔料、有機
顔料のなかから選択することができる。
【0028】これらの顔料のなかでは有機顔料が分散安
定性、色再現性、耐候性、耐熱性の点で好ましく、特に
フタロシアニン顔料、ジオキサジン顔料、アントラキノ
ン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、アンスラピリ
ミジン系顔料、キナクリドン系顔料、ペリレン系顔料、
ベンズイミダゾロン系顔料、モノアゾ系顔料、ジスアゾ
系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔
料、インダスロン系顔料、ピランスロン系、キノフタロ
ン系顔料、フラバンスロン系顔料、ポリサイクリック系
顔料、ジオキシム系顔料、ペリノン系顔料、ローダミン
系顔料、ベンズイミダゾロンジスアゾ系顔料、アゾメチ
ン系顔料、トリフェニルメタン系顔料が好ましい。な
お、具体的にカラーインデックス(C.I)ナンバーで
示す。
定性、色再現性、耐候性、耐熱性の点で好ましく、特に
フタロシアニン顔料、ジオキサジン顔料、アントラキノ
ン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、アンスラピリ
ミジン系顔料、キナクリドン系顔料、ペリレン系顔料、
ベンズイミダゾロン系顔料、モノアゾ系顔料、ジスアゾ
系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔
料、インダスロン系顔料、ピランスロン系、キノフタロ
ン系顔料、フラバンスロン系顔料、ポリサイクリック系
顔料、ジオキシム系顔料、ペリノン系顔料、ローダミン
系顔料、ベンズイミダゾロンジスアゾ系顔料、アゾメチ
ン系顔料、トリフェニルメタン系顔料が好ましい。な
お、具体的にカラーインデックス(C.I)ナンバーで
示す。
【0029】C.I.赤;9、97、122、123、
144、146、149、155、168、169、1
76、177、180、192、209、215、21
6、217、220、223、224、226、22
7、228、240、242、254、264 C.I.黄;1、3、12、13、14、17、20、
24、34、55、74、83、86、93、101、
109、110、117、125、137、138、1
39、147、148、150、153、154、16
6、168、180、181 C.I.オレンジ;36、43、51、55、59、6
1、71 C.I.緑;7、36、37 C.I.青;15、15:1、15:2、15:3、1
5:4、15:6、16、22、60、64 C.I.紫;19、23、29、30、37、39、4
0、50 C.I.茶;23、25、26 C.I.黒;1、7
144、146、149、155、168、169、1
76、177、180、192、209、215、21
6、217、220、223、224、226、22
7、228、240、242、254、264 C.I.黄;1、3、12、13、14、17、20、
24、34、55、74、83、86、93、101、
109、110、117、125、137、138、1
39、147、148、150、153、154、16
6、168、180、181 C.I.オレンジ;36、43、51、55、59、6
1、71 C.I.緑;7、36、37 C.I.青;15、15:1、15:2、15:3、1
5:4、15:6、16、22、60、64 C.I.紫;19、23、29、30、37、39、4
0、50 C.I.茶;23、25、26 C.I.黒;1、7
【0030】良好な色相、彩度、明度を得るためには、
顔料の選択、混合比率、顔料の粒度、レジスト固形分中
の顔料配合比率の制御により達成することができる。良
好な色度範囲に制御する詳細な手法については各色によ
り異なる。しかし例えば、C.I.黄139、C.I.
黄180、C.I.赤149等の耐光性の劣る顔料を配
合すると、光重合性組成物調整時には好ましい色度であ
っても、経時変化あるいは画像形成時の露光工程の光な
どにより退色し、好ましい色度から外れてしまう恐れが
ある。本願発明は、この様に耐光性に劣る顔料を配合す
る組成において、特に効果を発揮する。
顔料の選択、混合比率、顔料の粒度、レジスト固形分中
の顔料配合比率の制御により達成することができる。良
好な色度範囲に制御する詳細な手法については各色によ
り異なる。しかし例えば、C.I.黄139、C.I.
黄180、C.I.赤149等の耐光性の劣る顔料を配
合すると、光重合性組成物調整時には好ましい色度であ
っても、経時変化あるいは画像形成時の露光工程の光な
どにより退色し、好ましい色度から外れてしまう恐れが
ある。本願発明は、この様に耐光性に劣る顔料を配合す
る組成において、特に効果を発揮する。
【0031】分散処理によって得られる好ましい顔料の
粒径は、0.005〜0.2μ、より好ましくは0.0
1〜0.15μの範囲であり、0.2μ以下の粒子が全
粒子の90wt%以上である。なお、顔料粒径はレーザ
ードップラー式の粒度測定器により測定される。粒径が
上記範囲の上限を超えると現像性、解像性、安定性の低
下が起こる。また、下限以下にするためには顔料の1次
粒子あるいはそれ以上に顔料粒子を細かくしなければな
らないため、製造が著しく困難である。
粒径は、0.005〜0.2μ、より好ましくは0.0
1〜0.15μの範囲であり、0.2μ以下の粒子が全
粒子の90wt%以上である。なお、顔料粒径はレーザ
ードップラー式の粒度測定器により測定される。粒径が
上記範囲の上限を超えると現像性、解像性、安定性の低
下が起こる。また、下限以下にするためには顔料の1次
粒子あるいはそれ以上に顔料粒子を細かくしなければな
らないため、製造が著しく困難である。
【0032】上記の如く超微粒子まで顔料を分散するた
めには、分散剤を使用するのが望ましい。顔料のみで分
散処理を行った場合には再凝集が起こりやすく目標の粒
度まで達するのは極めて困難である。上記分散に使用す
る分散剤としてはアニオン、カチオン、ノニオン等の界
面活性剤、顔料誘導体、高分子分散剤等が使用可能であ
るが、なかでも塩基性官能基を有する高分子分散剤が好
適である。
めには、分散剤を使用するのが望ましい。顔料のみで分
散処理を行った場合には再凝集が起こりやすく目標の粒
度まで達するのは極めて困難である。上記分散に使用す
る分散剤としてはアニオン、カチオン、ノニオン等の界
面活性剤、顔料誘導体、高分子分散剤等が使用可能であ
るが、なかでも塩基性官能基を有する高分子分散剤が好
適である。
【0033】塩基性官能基はアミン価で1〜100mg
KOH/gの範囲のものが好ましい。アミン価がこの範
囲以下であると分散安定性が低下し、逆に超えると現像
性、解像性が低下する。なお、アミン価は、塩基性アミ
ノ基を酸により中和滴定し、酸価に対応させてKOHの
mg数で表した値である。
KOH/gの範囲のものが好ましい。アミン価がこの範
囲以下であると分散安定性が低下し、逆に超えると現像
性、解像性が低下する。なお、アミン価は、塩基性アミ
ノ基を酸により中和滴定し、酸価に対応させてKOHの
mg数で表した値である。
【0034】これらの条件を満たした高分子分散剤とし
て具体的にはビックケミー社製のDisperbyk1
60、Disperbyk161、Disperbyk
162、Disperbyk163、Disperby
k164、Disperbyk166;ゼネカ社製のS
OLSPERSE20000、SOLSPERSE22
000、SOLSPERSE24000、SOLSPE
RSE27000、SOLSPERSE28000等
(いずれも商品名)の市販品が挙げられる。これらの高
分子分散剤は顔料に対し5〜50wt%の範囲で添加す
るのが好ましい。添加量が上記範囲以下であると充分な
分散性が得られず、逆に多すぎると解像性、現像性、密
着性等の画像特性に悪影響を及ぼしやすい。
て具体的にはビックケミー社製のDisperbyk1
60、Disperbyk161、Disperbyk
162、Disperbyk163、Disperby
k164、Disperbyk166;ゼネカ社製のS
OLSPERSE20000、SOLSPERSE22
000、SOLSPERSE24000、SOLSPE
RSE27000、SOLSPERSE28000等
(いずれも商品名)の市販品が挙げられる。これらの高
分子分散剤は顔料に対し5〜50wt%の範囲で添加す
るのが好ましい。添加量が上記範囲以下であると充分な
分散性が得られず、逆に多すぎると解像性、現像性、密
着性等の画像特性に悪影響を及ぼしやすい。
【0035】分散剤および顔料は、モノマーや光重合開
始剤、バインダー樹脂等と混合する前に、通常分散処理
が行われる。この混合時に分散処理を行うと、反応性の
高いバインダー樹脂、モノマー、開始剤などが分散時に
生じる熱のために変質しやすく実際的ではない。分散は
顔料と分散剤及び溶剤、場合によっては樹脂も加えてミ
ルベースをつくり、それをボールミル、サンドミル、ビ
ーズミル、3本ロール、ペイントシェーカー、超音波、
バブルホモジナイザーなどの方法により処理される。こ
れらの処理方法は2つ以上組み合わせることも可能であ
る。
始剤、バインダー樹脂等と混合する前に、通常分散処理
が行われる。この混合時に分散処理を行うと、反応性の
高いバインダー樹脂、モノマー、開始剤などが分散時に
生じる熱のために変質しやすく実際的ではない。分散は
顔料と分散剤及び溶剤、場合によっては樹脂も加えてミ
ルベースをつくり、それをボールミル、サンドミル、ビ
ーズミル、3本ロール、ペイントシェーカー、超音波、
バブルホモジナイザーなどの方法により処理される。こ
れらの処理方法は2つ以上組み合わせることも可能であ
る。
【0036】本発明の光重合性組成物は、必要に応じて
溶剤を含有していても良い。本発明で使用される溶剤と
しては具体的に、ジイソプロピルエーテル、ミネラルス
ピリット、n−ペンタン、アミルエーテル、エチルカプ
リレート、n−ヘキサン、ジエチルエーテル、イソプレ
ン、エチルイソブチルエーテル、ブチルステアレート、
n−オクタン、バルソル#2、アプコ#18ソルベン
ト、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレ
ート、アプコシンナー、ブチルエーテル、ジイソブチル
ケトン、メチルシクロヘキセン、メチルノニルケトン、
プロピルエーテル、ドデカン、Socal solve
nt No.1およびNo.2、アミルホルメート、ジ
ヘキシルエーテル、ジイソプロピルケトン、ソルベッソ
#150、酢酸ブチル(n,sec,t)、ヘキセン、
シェル TS28 ソルベント、ブチルクロライド、エ
チルアミルケトン、エチルベンゾネート、アミルクロラ
イド、エチレングリコールジエチルエーテル、エチルオ
ルソホルメート、メトキシメチルペンタノン、メチルブ
チルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルイソブチレ
ート、ベンゾニトリル、エチルプロピオネート、メチル
セロソルブアセテート、メチルイソアミルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、プロピルアセテート、アミルアセ
テート、アミルホルメート、ビシクロヘキシル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジペン
テン、メトキシメチルペンタノール、メチルアミルケト
ン、メチルイソプロピルケトン、プロピルプロピオネー
ト、プロピレングリコール−t−ブチルエーテル、メチ
ルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、エチルセロソルブアセテート、カルビトール、シク
ロヘキサノン、酢酸エチル、プロピレングリコール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコール
モノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロピオン酸、3−エトキ
シプロピオン酸、3−エトキシプロピオン酸エチル、3
−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオ
ン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−
メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、ジプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
アセテート、エチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレ
ングリコール−t−ブチルエーテル、3−メチル−3−
メトキシブタノール、トリプロピレングリコールメチル
エーテル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート
などの有機溶剤が挙げられる。
溶剤を含有していても良い。本発明で使用される溶剤と
しては具体的に、ジイソプロピルエーテル、ミネラルス
ピリット、n−ペンタン、アミルエーテル、エチルカプ
リレート、n−ヘキサン、ジエチルエーテル、イソプレ
ン、エチルイソブチルエーテル、ブチルステアレート、
n−オクタン、バルソル#2、アプコ#18ソルベン
ト、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレ
ート、アプコシンナー、ブチルエーテル、ジイソブチル
ケトン、メチルシクロヘキセン、メチルノニルケトン、
プロピルエーテル、ドデカン、Socal solve
nt No.1およびNo.2、アミルホルメート、ジ
ヘキシルエーテル、ジイソプロピルケトン、ソルベッソ
#150、酢酸ブチル(n,sec,t)、ヘキセン、
シェル TS28 ソルベント、ブチルクロライド、エ
チルアミルケトン、エチルベンゾネート、アミルクロラ
イド、エチレングリコールジエチルエーテル、エチルオ
ルソホルメート、メトキシメチルペンタノン、メチルブ
チルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルイソブチレ
ート、ベンゾニトリル、エチルプロピオネート、メチル
セロソルブアセテート、メチルイソアミルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、プロピルアセテート、アミルアセ
テート、アミルホルメート、ビシクロヘキシル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジペン
テン、メトキシメチルペンタノール、メチルアミルケト
ン、メチルイソプロピルケトン、プロピルプロピオネー
ト、プロピレングリコール−t−ブチルエーテル、メチ
ルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、エチルセロソルブアセテート、カルビトール、シク
ロヘキサノン、酢酸エチル、プロピレングリコール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコール
モノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロピオン酸、3−エトキ
シプロピオン酸、3−エトキシプロピオン酸エチル、3
−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオ
ン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−
メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、ジプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
アセテート、エチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレ
ングリコール−t−ブチルエーテル、3−メチル−3−
メトキシブタノール、トリプロピレングリコールメチル
エーテル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート
などの有機溶剤が挙げられる。
【0037】溶剤は沸点が100℃から200℃の範囲
のものを選択するのが好ましい。より好ましくは120
℃〜170℃の沸点をもつものである。これらの溶剤は
単独もしくは混合して使用される。本発明の組成物は、
バインダー樹脂100重量部に対し、好ましくはモノマ
ーは5重量部〜200重量部、光重合開始剤は0.01
〜30重量部、光重合性組成物中の固形分100重量部
に対し、光安定剤は0.01〜5重量部、より好ましく
は0.01〜3重量部であり、色材は15〜70重量部
であることが好ましい。又、光安定剤は、色材100重
量部に対し、0.01〜33重量部が好ましく、0.0
1〜20重量部であればより好ましい。溶剤はレジスト
固形分の濃度が15〜35wt%の範囲となるよう添加
される。
のものを選択するのが好ましい。より好ましくは120
℃〜170℃の沸点をもつものである。これらの溶剤は
単独もしくは混合して使用される。本発明の組成物は、
バインダー樹脂100重量部に対し、好ましくはモノマ
ーは5重量部〜200重量部、光重合開始剤は0.01
〜30重量部、光重合性組成物中の固形分100重量部
に対し、光安定剤は0.01〜5重量部、より好ましく
は0.01〜3重量部であり、色材は15〜70重量部
であることが好ましい。又、光安定剤は、色材100重
量部に対し、0.01〜33重量部が好ましく、0.0
1〜20重量部であればより好ましい。溶剤はレジスト
固形分の濃度が15〜35wt%の範囲となるよう添加
される。
【0038】モノマーが上記範囲以下であると、像露光
された画線部の架橋密度が十分でなくなり良好な画像が
得られにくく、また、上記範囲を超えると乾燥後のレジ
スト膜のベタつきが大きくなり作業性に劣る傾向があ
る。光重合開始剤の添加量が上記範囲以下であると十分
な感度がえられず、また、上記範囲を超えると、ときに
開始剤が感光液から析出することがある。
された画線部の架橋密度が十分でなくなり良好な画像が
得られにくく、また、上記範囲を超えると乾燥後のレジ
スト膜のベタつきが大きくなり作業性に劣る傾向があ
る。光重合開始剤の添加量が上記範囲以下であると十分
な感度がえられず、また、上記範囲を超えると、ときに
開始剤が感光液から析出することがある。
【0039】光安定剤が上記範囲以下であると十分な耐
光性の効果は得られず、上記範囲以上であると硬化性能
が落ちることがある。特に、ヒンダードフェノール系、
チオエーテル系光安定剤の場合は1重量部以上であると
硬化性能が落ちる傾向がある。溶剤の添加量が上記範囲
以下であると塗布むらがでやすく膜厚の均一性に欠け、
上記範囲を超えると十分な膜厚を得ることができず、ま
た、ピンホールなどの塗布欠陥がでやすくなる。
光性の効果は得られず、上記範囲以上であると硬化性能
が落ちることがある。特に、ヒンダードフェノール系、
チオエーテル系光安定剤の場合は1重量部以上であると
硬化性能が落ちる傾向がある。溶剤の添加量が上記範囲
以下であると塗布むらがでやすく膜厚の均一性に欠け、
上記範囲を超えると十分な膜厚を得ることができず、ま
た、ピンホールなどの塗布欠陥がでやすくなる。
【0040】本発明の組成物には、これら必須成分以外
に増感剤、塗布性改良剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃
剤、などを適宜添加することができる。本発明のカラー
フィルター用光重合性組成物は、基板上に該組成物を用
いて形成される画素(着色パターン)を設けることによ
りカラーフィルターを作製することができる。具体的に
は基板上に該組成物を塗布、乾燥し、露光、現像するこ
とにより行なわれる。
に増感剤、塗布性改良剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃
剤、などを適宜添加することができる。本発明のカラー
フィルター用光重合性組成物は、基板上に該組成物を用
いて形成される画素(着色パターン)を設けることによ
りカラーフィルターを作製することができる。具体的に
は基板上に該組成物を塗布、乾燥し、露光、現像するこ
とにより行なわれる。
【0041】本発明の組成物はスピンコーター、ロール
コーター、カーテンコーター、スクリーン印刷などの公
知の方法でガラス基板に塗布される。塗布膜厚は0.5
μm〜2μmの範囲が好ましい。より好ましくは0.6
から1.8μmである。上記膜厚より薄く塗布するとピ
ンホール等の塗布欠陥が発生しやすく現像の制御も困難
となりやすい。逆に厚くすると平坦性が損なわれたり、
地汚れが発生しやすくなる。
コーター、カーテンコーター、スクリーン印刷などの公
知の方法でガラス基板に塗布される。塗布膜厚は0.5
μm〜2μmの範囲が好ましい。より好ましくは0.6
から1.8μmである。上記膜厚より薄く塗布するとピ
ンホール等の塗布欠陥が発生しやすく現像の制御も困難
となりやすい。逆に厚くすると平坦性が損なわれたり、
地汚れが発生しやすくなる。
【0042】塗布膜を乾燥させるためにコンベクション
オーブンまたはホットプレートが好適に使用できる。乾
燥温度は50℃〜150℃、乾燥時間は30秒〜60分
が好適である。露光には高圧水銀燈、超高圧水銀燈、キ
セノンランプ、カーボンアーク燈等の紫外線を発する光
源が使用でき、マスクを通して露光することにより光重
合性組成物の塗布膜に潜像が形成される。
オーブンまたはホットプレートが好適に使用できる。乾
燥温度は50℃〜150℃、乾燥時間は30秒〜60分
が好適である。露光には高圧水銀燈、超高圧水銀燈、キ
セノンランプ、カーボンアーク燈等の紫外線を発する光
源が使用でき、マスクを通して露光することにより光重
合性組成物の塗布膜に潜像が形成される。
【0043】その後、未露光部分を溶解させる溶剤で現
像することにより画像が形成される。現像液はアセト
ン、トルエン、MEKなどの有機溶剤も使用可能である
が、環境問題からアルカリ現像液の方が好ましい。一例
をあげるならば水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウ
ム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム、アン
モニア水、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイ
ド水溶液、などが用いられる。アルカリ現像液には界面
活性剤、消泡剤などが添加されていてもよい。現像方法
としては、特に制限はなく、パドル法、ディッピング
法、スプレー法など公知の方法でおこなうことができ
る。またプリウエットを採用してもよい。画像形成後現
像液の乾燥、組成物の塗布膜の硬化性を高める目的でポ
ストベーク、後光硬化などを採用してもよい。
像することにより画像が形成される。現像液はアセト
ン、トルエン、MEKなどの有機溶剤も使用可能である
が、環境問題からアルカリ現像液の方が好ましい。一例
をあげるならば水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウ
ム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム、アン
モニア水、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイ
ド水溶液、などが用いられる。アルカリ現像液には界面
活性剤、消泡剤などが添加されていてもよい。現像方法
としては、特に制限はなく、パドル法、ディッピング
法、スプレー法など公知の方法でおこなうことができ
る。またプリウエットを採用してもよい。画像形成後現
像液の乾燥、組成物の塗布膜の硬化性を高める目的でポ
ストベーク、後光硬化などを採用してもよい。
【0044】
【実施例】次に、実施例を用いて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。
【0045】<合成例>酸価200、分子量5000の
スチレン・アクリル酸樹脂20g、p−メトキシフェノ
ール0.2g、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリ
ド0.2g、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート40gをフラスコに仕込み、(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)メチルアクリレート7.6gを滴
下し100℃の温度で30時間反応させた。反応液を水
に再沈殿、乾燥させて樹脂を得た。KOHによる中和滴
定をおこなったところ樹脂の酸価は80であった。
スチレン・アクリル酸樹脂20g、p−メトキシフェノ
ール0.2g、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリ
ド0.2g、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート40gをフラスコに仕込み、(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)メチルアクリレート7.6gを滴
下し100℃の温度で30時間反応させた。反応液を水
に再沈殿、乾燥させて樹脂を得た。KOHによる中和滴
定をおこなったところ樹脂の酸価は80であった。
【0046】<赤色インキの調製>アントラキノン系の
赤顔料であるC.I.Red177(チバガイギー社
製)50g、高分子分散剤BYK−161(ビックケミ
ー社製)25g、溶剤としてプロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート(PGMEA)160gを加
え、撹拌機によりプレミキシングをおこなった。これを
ペイントシェーカーにより6時間分散処理をおこなっ
た。ビーズはインキ液に対し重量で3倍量の0.5mm
φのジルコニアビーズを用いた。
赤顔料であるC.I.Red177(チバガイギー社
製)50g、高分子分散剤BYK−161(ビックケミ
ー社製)25g、溶剤としてプロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート(PGMEA)160gを加
え、撹拌機によりプレミキシングをおこなった。これを
ペイントシェーカーにより6時間分散処理をおこなっ
た。ビーズはインキ液に対し重量で3倍量の0.5mm
φのジルコニアビーズを用いた。
【0047】このようにして得られた分散処理インキに
ついて、下記の方法で顔料粒度を測定した。分散処理イ
ンキをPGMEAで400倍に希釈した後、5分間超音
波処理(BRANSON社製)を行い、レーザードップ
ラー式の粒度測定器マイクロトラップUPA(リーズ&
ノースラップ社製)により測定した。顔料粒径0.2μ
以下の粒子は全粒子の90%以上であった。
ついて、下記の方法で顔料粒度を測定した。分散処理イ
ンキをPGMEAで400倍に希釈した後、5分間超音
波処理(BRANSON社製)を行い、レーザードップ
ラー式の粒度測定器マイクロトラップUPA(リーズ&
ノースラップ社製)により測定した。顔料粒径0.2μ
以下の粒子は全粒子の90%以上であった。
【0048】<黄色インキの調製>イソインドリン系顔
料C.I.Yellow139(BASF社製)16
g、高分子分散剤BYK−161(ビックケミー社製)
6.4g、高分子分散剤S22000(ゼネカ社製)
1.6g、溶剤としてプロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート(PGMEA)50gを加え、撹拌
機によりプレミキシングをおこなった。赤色インキと同
様の分散処理を行った後、顔料粒径を測定したところ、
顔料粒径0.2μ以下の粒子は全粒子の90%以上であ
った。
料C.I.Yellow139(BASF社製)16
g、高分子分散剤BYK−161(ビックケミー社製)
6.4g、高分子分散剤S22000(ゼネカ社製)
1.6g、溶剤としてプロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート(PGMEA)50gを加え、撹拌
機によりプレミキシングをおこなった。赤色インキと同
様の分散処理を行った後、顔料粒径を測定したところ、
顔料粒径0.2μ以下の粒子は全粒子の90%以上であ
った。
【0049】<光重合性組成物の調製>下記の割合で光
重合性組成物のベースとなる感光液を調合した。
重合性組成物のベースとなる感光液を調合した。
【0050】
【表1】 a)バインダー樹脂(<合成例>で合成したアクリル樹脂) 20g b)モノマー(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート) 20g c)開始剤(3種併用) 2−(2−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体 2g 4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン 1.0g 2−メルカプトベンゾチアゾール 2g d)赤インキ(<赤インキの調製>で調製) 117.5g 黄インキ(<黄インキの調製>で調製) 37g e)表2の光安定剤 各々表1に示す量 f)溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)130g
【0051】これを更ににPGMEAで希釈することに
より、固形分濃度が25wt%となるよう調整し、1μ
のメンブレンフィルター(ミリポア社製)で濾過した。 <色純度の評価>光重合性組成物を、スピンコーターに
て0.7mm厚のガラス基板(旭硝子社製AN)に塗布
し、ホットプレートで70℃、2.5分間乾燥した。触
針式の膜厚計αステップ(テンコール社製)により乾燥
後のレジストの膜厚を測定したところ1.3μであっ
た。
より、固形分濃度が25wt%となるよう調整し、1μ
のメンブレンフィルター(ミリポア社製)で濾過した。 <色純度の評価>光重合性組成物を、スピンコーターに
て0.7mm厚のガラス基板(旭硝子社製AN)に塗布
し、ホットプレートで70℃、2.5分間乾燥した。触
針式の膜厚計αステップ(テンコール社製)により乾燥
後のレジストの膜厚を測定したところ1.3μであっ
た。
【0052】このサンプルのC光源、2度視野のCIE
色度(x,y,Y)を分光光度計U−3500(日立製
作所製)により測定した。耐光性は、作製したレジスト
塗布膜を紫外線オートフェードメーターFAL−AU
(スガ試験機社製)で50時間照射し、照射前後の分光
特性をU−3500(日立製作所製)で測定し、色差
(ΔE*ab)を求め評価した。 ○:ΔE*ab≦4 ×:ΔE*ab>4 結果を表2に示す。この結果より、各実施例の組成物を
使用すると、色純度の良い画素を得ることができること
がわかる。
色度(x,y,Y)を分光光度計U−3500(日立製
作所製)により測定した。耐光性は、作製したレジスト
塗布膜を紫外線オートフェードメーターFAL−AU
(スガ試験機社製)で50時間照射し、照射前後の分光
特性をU−3500(日立製作所製)で測定し、色差
(ΔE*ab)を求め評価した。 ○:ΔE*ab≦4 ×:ΔE*ab>4 結果を表2に示す。この結果より、各実施例の組成物を
使用すると、色純度の良い画素を得ることができること
がわかる。
【0053】<現像性の評価>現像性の評価として、レ
ジスト乾燥後のサンプルをマスクを通して高圧水銀灯で
100mj/cm2 像露光した。温度25℃、濃度0.
05重量%の水酸化カリウム水溶液に浸漬現像してレジ
ストパターンを得た。このとき、露光後の溶解のしかた
を目視観察した。画線部が硬化せず、現像液に溶出また
は、基板洗浄時に流出してしまうものを×とした。画像
部が硬化し、現像時に溶出したり、洗浄時に流出しない
ものを○とした。結果を表2に示す。
ジスト乾燥後のサンプルをマスクを通して高圧水銀灯で
100mj/cm2 像露光した。温度25℃、濃度0.
05重量%の水酸化カリウム水溶液に浸漬現像してレジ
ストパターンを得た。このとき、露光後の溶解のしかた
を目視観察した。画線部が硬化せず、現像液に溶出また
は、基板洗浄時に流出してしまうものを×とした。画像
部が硬化し、現像時に溶出したり、洗浄時に流出しない
ものを○とした。結果を表2に示す。
【0054】
【表2】
【0055】尚、上記の方法に準じて、赤・青・緑の各
光重合性組成物を基板上に塗布・乾燥・露光・現像を行
い赤・青・緑の画素を形成することにより、高表示品質
のカラーフィルターを得ることができる。
光重合性組成物を基板上に塗布・乾燥・露光・現像を行
い赤・青・緑の画素を形成することにより、高表示品質
のカラーフィルターを得ることができる。
【0056】
【発明の効果】本発明により得られた光重合性成物はす
ぐれた耐光性および組成物の硬化性を併せ持ち、画像形
成性にも優れており、これを用いると、顔料分散法にて
高品質、低コストで高い信頼性あるカラーフィルターを
実現することが可能である。
ぐれた耐光性および組成物の硬化性を併せ持ち、画像形
成性にも優れており、これを用いると、顔料分散法にて
高品質、低コストで高い信頼性あるカラーフィルターを
実現することが可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AA04 AA11 AB13 AC01 AD01 BC12 BC14 BC31 BC34 BC43 CB10 CB13 CB14 CB16 CB29 CB43 CB52 CC02 CC11 CC12 CC20 2H048 BA45 BA48
Claims (5)
- 【請求項1】 少なくともバインダー樹脂、光重合開始
剤、該開始剤の作用により硬化するモノマー、色材およ
び光安定剤を含み、該光安定剤として、ホスファイト
系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダ
ードアミン系、サリチル酸エステル系、トリアジン系、
ヒンダードフェノール系およびチオエーテル系から選ば
れる少なくとも1種の化合物を含有する、カラーフィル
ター用光重合性組成物。 - 【請求項2】 該モノマーがエチレン性不飽和二重結合
を有する化合物である、請求項1に記載のカラーフィル
ター用光重合性組成物。 - 【請求項3】 該色材が顔料であり、全顔料粒子の90
%以上が粒径0.2μ以下である請求項1または2のい
ずれかに記載のカラーフィルター用光重合性組成物。 - 【請求項4】 該光安定剤として、ホスファイト系、ベ
ンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダードア
ミン系、サリチル酸エステル系およびトリアジン系から
選ばれる少なくとも1種の化合物を、光重合性組成物の
固形分100重量部に対し0.01〜5重量部含有す
る、請求項1ないし3のいずれかに記載のカラーフィル
ター用光重合性組成物。 - 【請求項5】 基板上に請求項1ないし4のいずれかに
記載の光重合性組成物を用いて形成された画素を有する
ことを特徴とするカラーフィルター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1673299A JP2000214580A (ja) | 1999-01-26 | 1999-01-26 | カラ―フィルタ―用光重合性組成物、およびカラ―フィルタ― |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1673299A JP2000214580A (ja) | 1999-01-26 | 1999-01-26 | カラ―フィルタ―用光重合性組成物、およびカラ―フィルタ― |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000214580A true JP2000214580A (ja) | 2000-08-04 |
Family
ID=11924448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1673299A Pending JP2000214580A (ja) | 1999-01-26 | 1999-01-26 | カラ―フィルタ―用光重合性組成物、およびカラ―フィルタ― |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000214580A (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001092134A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-04-06 | Sumitomo Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
US6586057B1 (en) * | 1999-09-29 | 2003-07-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical filter comprising transparent support and filter layer containing dye and binder polymer |
JP2006011397A (ja) * | 2004-05-21 | 2006-01-12 | Nippon Kayaku Co Ltd | ネガ型着色感光性組成物 |
KR20090093822A (ko) * | 2008-02-28 | 2009-09-02 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정표시 소자 |
JP2009280801A (ja) * | 2008-04-25 | 2009-12-03 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂組成物及びその硬化物を用いた光学部材 |
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JP2010224067A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子の層間絶縁膜、保護膜及びスペーサーとその形成方法 |
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JP2012155243A (ja) * | 2011-01-28 | 2012-08-16 | Jsr Corp | カラーフィルタ及びカラー液晶表示素子 |
JP2014132348A (ja) * | 2010-10-06 | 2014-07-17 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、液晶表示装置、有機el表示装置、並びに固体撮像素子 |
JP2022107665A (ja) * | 2018-01-26 | 2022-07-22 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用感光性着色組成物及びカラーフィルタ |
-
1999
- 1999-01-26 JP JP1673299A patent/JP2000214580A/ja active Pending
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JP7318770B2 (ja) | 2018-01-26 | 2023-08-01 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用感光性着色組成物及びカラーフィルタ |
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