JP2000157923A - 塗布乾燥方法 - Google Patents
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- F26B13/10—Arrangements for feeding, heating or supporting materials; Controlling movement, tension or position of materials
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 連続走行する支持体に対し有機溶剤を含有す
る塗布液を塗布乾燥するとき、塗膜面のムラや欠陥を抑
制すると共に、支持体の被塗布面の表面が粗い場合で
も、均一な膜厚が得られるようにする。 【解決手段】 連続走行する支持体に対し有機溶剤を含
有する塗布液を塗布乾燥する方法において、塗布後５秒
以内に該支持体を加熱手段を有する乾燥ゾーンに突入さ
せると共に、乾燥ゾーン突入までの空間で塗膜上の風速
が１ｍ／ｓｅｃ以下に保たれることを特徴とする塗布乾
燥方法。
る塗布液を塗布乾燥するとき、塗膜面のムラや欠陥を抑
制すると共に、支持体の被塗布面の表面が粗い場合で
も、均一な膜厚が得られるようにする。 【解決手段】 連続走行する支持体に対し有機溶剤を含
有する塗布液を塗布乾燥する方法において、塗布後５秒
以内に該支持体を加熱手段を有する乾燥ゾーンに突入さ
せると共に、乾燥ゾーン突入までの空間で塗膜上の風速
が１ｍ／ｓｅｃ以下に保たれることを特徴とする塗布乾
燥方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は有機溶剤を含有する
塗布液を支持体に塗布する場合の塗布乾燥方法に関す
る。
塗布液を支持体に塗布する場合の塗布乾燥方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】有機溶剤系塗布液の塗布乾燥方法につい
ては、従来より各種提案されてきた。例えば、特公昭５
３−１０６９１号に代表される加熱乾燥温度を規定する
もの、また、特公平１−５７２７６号に代表される加熱
風の方向を規定するもの等加熱乾燥ゾーンに関するもの
が殆どである。しかし、有機溶剤系塗布液の塗布乾燥プ
ロセスにおいては、加熱乾燥ゾーン内で塗膜面にムラや
欠陥が発生することもあるが、塗布後乾燥ゾーンに突入
する手前でもムラや欠陥が発生することが少なくないこ
とが判明した。特に塗布液の粘度が低いときに乾燥ゾー
ンに突入する手前でムラや欠陥が発生することが多い。
従って、塗膜面のムラや欠陥に対し、乾燥ゾーン内で対
策をとるだけでは不十分であり、塗布後乾燥ゾーンに突
入するまでの常温の空間も考慮する必要がある。
ては、従来より各種提案されてきた。例えば、特公昭５
３−１０６９１号に代表される加熱乾燥温度を規定する
もの、また、特公平１−５７２７６号に代表される加熱
風の方向を規定するもの等加熱乾燥ゾーンに関するもの
が殆どである。しかし、有機溶剤系塗布液の塗布乾燥プ
ロセスにおいては、加熱乾燥ゾーン内で塗膜面にムラや
欠陥が発生することもあるが、塗布後乾燥ゾーンに突入
する手前でもムラや欠陥が発生することが少なくないこ
とが判明した。特に塗布液の粘度が低いときに乾燥ゾー
ンに突入する手前でムラや欠陥が発生することが多い。
従って、塗膜面のムラや欠陥に対し、乾燥ゾーン内で対
策をとるだけでは不十分であり、塗布後乾燥ゾーンに突
入するまでの常温の空間も考慮する必要がある。
【０００３】また、支持体被塗布面の表面が粗い場合に
ついては、均一な膜厚で塗布がなされたとしても、乾燥
時のレベリング作用により仕上がりでは膜厚が不均一に
なるということがあった。
ついては、均一な膜厚で塗布がなされたとしても、乾燥
時のレベリング作用により仕上がりでは膜厚が不均一に
なるということがあった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、連続走行す
る支持体に対し有機溶剤を含有する塗布液を塗布乾燥す
る方法において、特に塗布後乾燥ゾーンに入るまでの間
の状態を如何にするかに注目し、塗膜面のムラや欠陥を
抑制できる塗布乾燥方法を提供することを課題目的にす
ると共に、支持体被塗布面の表面が粗い場合について
も、均一な膜厚が得られる塗布乾燥方法を提供すること
を課題目的とする。
る支持体に対し有機溶剤を含有する塗布液を塗布乾燥す
る方法において、特に塗布後乾燥ゾーンに入るまでの間
の状態を如何にするかに注目し、塗膜面のムラや欠陥を
抑制できる塗布乾燥方法を提供することを課題目的にす
ると共に、支持体被塗布面の表面が粗い場合について
も、均一な膜厚が得られる塗布乾燥方法を提供すること
を課題目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的は次の技術手段
（１）〜（７）の何れかによって達成される。
（１）〜（７）の何れかによって達成される。
【０００６】（１） 連続走行する支持体に対し有機溶
剤を含有する塗布液を塗布乾燥する方法において、塗布
後５秒以内に該支持体を加熱手段を有する乾燥ゾーンに
突入させることを特徴とする塗布乾燥方法。
剤を含有する塗布液を塗布乾燥する方法において、塗布
後５秒以内に該支持体を加熱手段を有する乾燥ゾーンに
突入させることを特徴とする塗布乾燥方法。
【０００７】（２） 連続走行する支持体に対し有機溶
剤を含有する塗布液を塗布乾燥する方法において、塗布
してから加熱手段を有する乾燥ゾーン突入までの空間で
塗膜上の風速が１ｍ／ｓｅｃ以下に保たれることを特徴
とする塗布乾燥方法。
剤を含有する塗布液を塗布乾燥する方法において、塗布
してから加熱手段を有する乾燥ゾーン突入までの空間で
塗膜上の風速が１ｍ／ｓｅｃ以下に保たれることを特徴
とする塗布乾燥方法。
【０００８】（３） 連続走行する支持体に対し有機溶
剤を含有する塗布液を塗布乾燥する方法において、塗布
後５秒以内に該支持体を加熱手段を有する乾燥ゾーンに
突入させると共に、乾燥ゾーン突入までの空間で塗膜上
の風速が１ｍ／ｓｅｃ以下に保たれることを特徴とする
塗布乾燥方法。
剤を含有する塗布液を塗布乾燥する方法において、塗布
後５秒以内に該支持体を加熱手段を有する乾燥ゾーンに
突入させると共に、乾燥ゾーン突入までの空間で塗膜上
の風速が１ｍ／ｓｅｃ以下に保たれることを特徴とする
塗布乾燥方法。
【０００９】（４） 前記塗布液中に含まれる有機溶剤
は常温常圧下で粘度１ｃｐ以下、沸点１００℃以下の有
機溶剤成分を含有することを特徴とする（１）〜（３）
項の何れか１項に記載の塗布乾燥方法。
は常温常圧下で粘度１ｃｐ以下、沸点１００℃以下の有
機溶剤成分を含有することを特徴とする（１）〜（３）
項の何れか１項に記載の塗布乾燥方法。
【００１０】（５） 前記塗布液中は界面活性剤を含む
ことを特徴とする（１）〜（４）項の何れか１項に記載
の塗布乾燥方法。
ことを特徴とする（１）〜（４）項の何れか１項に記載
の塗布乾燥方法。
【００１１】（６） 前記塗布液中には溶解しない固体
粒子が含まれることを特徴とする（１）〜（５）項の何
れか１項に記載の塗布乾燥方法。
粒子が含まれることを特徴とする（１）〜（５）項の何
れか１項に記載の塗布乾燥方法。
【００１２】（７） 前記支持体の被塗布面の中心線表
面粗さが０．３μｍ以上であることを特徴とする（１）
〜（６）項の何れか１項に記載の塗布乾燥方法。
面粗さが０．３μｍ以上であることを特徴とする（１）
〜（６）項の何れか１項に記載の塗布乾燥方法。
【００１３】有機溶剤系塗布液を塗布乾燥する際、コー
ターでは正常に塗布できたとしても仕上がってみると塗
膜面にムラや欠陥が発生しているといった問題に直面す
ることが少なくない。このムラや欠陥は加熱乾燥ゾーン
で発生するものもあるが、塗布後乾燥ゾーンに突入する
手前で発生してしまうものも少なくないことが判明し
た。また、一般的に塗布としては液粘度が低いほうがよ
り正常な塗布がし易くなり、例えば高速で塗布が可能に
なるなどメリットが大きいが、粘度が低い塗布液ほど乾
燥ゾーンに突入する前にムラや欠陥が発生し易くなるこ
とが分かった。
ターでは正常に塗布できたとしても仕上がってみると塗
膜面にムラや欠陥が発生しているといった問題に直面す
ることが少なくない。このムラや欠陥は加熱乾燥ゾーン
で発生するものもあるが、塗布後乾燥ゾーンに突入する
手前で発生してしまうものも少なくないことが判明し
た。また、一般的に塗布としては液粘度が低いほうがよ
り正常な塗布がし易くなり、例えば高速で塗布が可能に
なるなどメリットが大きいが、粘度が低い塗布液ほど乾
燥ゾーンに突入する前にムラや欠陥が発生し易くなるこ
とが分かった。
【００１４】即ち、これらの乾燥ゾーンに突入する手前
で発生するムラや欠陥について解析した結果、塗布直後
のウェット塗膜は粘度が低いため、雰囲気の風の影響を
受け濃淡ムラが発生したり、塗膜に異物が付着した場合
に異物周辺に液が集まってスポット状欠陥が発生したり
する現象であることが確認された。コーターから加熱乾
燥ゾーンまでの空間は、有機溶剤を扱う限り作業環境や
防爆などの安全上の理由により換気は必須であり、その
ために風の流れが生じる。また、加熱乾燥ゾーンに比べ
コーターでは作業者が立ち入ることも多く、雰囲気中に
塵、ゴミが浮遊することもありそれらが塗膜に付着する
確率も高くなる。このような条件下ではその空間の風を
無くしたり、塵、ゴミを無くすことは難しい。そこで問
題点を改善するためには、乾燥ゾーンに入るまでの常温
の空間に滞留する時間を短くし、早期に加熱乾燥ゾーン
に突入させることが有効であることが判明した。これは
外乱の影響を受けやすい低粘度の塗膜状態の時間を短く
し、早期に加熱乾燥ゾーンに突入させることにより積極
的に溶媒を蒸発させ塗膜の粘度上昇を促進することによ
るものである。塗布後加熱乾燥ゾーンに突入するまでの
時間は５秒以下とすれば良好な塗膜面が得られることが
分かった。さらに好ましくは３秒以下であることが望ま
しい。加熱乾燥ゾーンの方式については特に限定され
ず、熱風、赤外線照射などの方式が用いられる。
で発生するムラや欠陥について解析した結果、塗布直後
のウェット塗膜は粘度が低いため、雰囲気の風の影響を
受け濃淡ムラが発生したり、塗膜に異物が付着した場合
に異物周辺に液が集まってスポット状欠陥が発生したり
する現象であることが確認された。コーターから加熱乾
燥ゾーンまでの空間は、有機溶剤を扱う限り作業環境や
防爆などの安全上の理由により換気は必須であり、その
ために風の流れが生じる。また、加熱乾燥ゾーンに比べ
コーターでは作業者が立ち入ることも多く、雰囲気中に
塵、ゴミが浮遊することもありそれらが塗膜に付着する
確率も高くなる。このような条件下ではその空間の風を
無くしたり、塵、ゴミを無くすことは難しい。そこで問
題点を改善するためには、乾燥ゾーンに入るまでの常温
の空間に滞留する時間を短くし、早期に加熱乾燥ゾーン
に突入させることが有効であることが判明した。これは
外乱の影響を受けやすい低粘度の塗膜状態の時間を短く
し、早期に加熱乾燥ゾーンに突入させることにより積極
的に溶媒を蒸発させ塗膜の粘度上昇を促進することによ
るものである。塗布後加熱乾燥ゾーンに突入するまでの
時間は５秒以下とすれば良好な塗膜面が得られることが
分かった。さらに好ましくは３秒以下であることが望ま
しい。加熱乾燥ゾーンの方式については特に限定され
ず、熱風、赤外線照射などの方式が用いられる。
【００１５】また、前述のようにその空間を換気するこ
とが必須だが、空間中の風の流れを調整し、直接塗膜表
面に風を当てないような工夫もムラ抑制に有効である。
例えば、送風ダクトの向きが塗膜面に向かわないように
する、塗膜近傍に防風板を設ける、ドライヤより風が吹
き出さないようにするなどの対策が有効である。具体的
には塗膜上の風速として１ｍ／ｓｅｃ以下が好ましい。
とが必須だが、空間中の風の流れを調整し、直接塗膜表
面に風を当てないような工夫もムラ抑制に有効である。
例えば、送風ダクトの向きが塗膜面に向かわないように
する、塗膜近傍に防風板を設ける、ドライヤより風が吹
き出さないようにするなどの対策が有効である。具体的
には塗膜上の風速として１ｍ／ｓｅｃ以下が好ましい。
【００１６】粘度１０ｃｐ以下の低粘度塗布液のときに
特にムラや欠陥が発生し易い。さらには５ｃｐ以下の塗
布液のときその傾向が顕著である。その際低粘度の溶媒
成分を含むことが多いがその低粘度溶媒成分は揮発性高
いほうが好ましい。揮発性の高い溶剤であれば蒸発が早
く、塗膜の粘度を塗布直後で急激に上昇させることがで
き、外乱の影響を受けにくくすることができるからであ
る。具体的には常温常圧下で粘度１ｃｐ以下、沸点１０
０℃以下の有機溶剤を含む塗布液に対し特に有効であ
る。この溶剤の該当例としては、メタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、テトラヒド
ロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルアセ
テート、エチルアセテート等が挙げられる。この溶剤の
含有率は塗布液中に含まれる全溶剤質量中の２０％以上
の時について特に有効である。
特にムラや欠陥が発生し易い。さらには５ｃｐ以下の塗
布液のときその傾向が顕著である。その際低粘度の溶媒
成分を含むことが多いがその低粘度溶媒成分は揮発性高
いほうが好ましい。揮発性の高い溶剤であれば蒸発が早
く、塗膜の粘度を塗布直後で急激に上昇させることがで
き、外乱の影響を受けにくくすることができるからであ
る。具体的には常温常圧下で粘度１ｃｐ以下、沸点１０
０℃以下の有機溶剤を含む塗布液に対し特に有効であ
る。この溶剤の該当例としては、メタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、テトラヒド
ロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルアセ
テート、エチルアセテート等が挙げられる。この溶剤の
含有率は塗布液中に含まれる全溶剤質量中の２０％以上
の時について特に有効である。
【００１７】前述の塗膜に付着する異物起因のスポット
状欠陥については界面活性剤を含む塗布液で特に強調さ
れることが判明した。これは異物回りに活性剤が配向し
塗布液を引き寄せるためと推察される。これについても
塗膜の粘度が高いほうが液が移動し難いため、早期に塗
膜粘度を上昇させることが有効である。代表的界面活性
剤としてはフッ素系界面活性剤、シロキサン系界面活性
剤などがある。
状欠陥については界面活性剤を含む塗布液で特に強調さ
れることが判明した。これは異物回りに活性剤が配向し
塗布液を引き寄せるためと推察される。これについても
塗膜の粘度が高いほうが液が移動し難いため、早期に塗
膜粘度を上昇させることが有効である。代表的界面活性
剤としてはフッ素系界面活性剤、シロキサン系界面活性
剤などがある。
【００１８】また塗布液のなかには溶解しない固体粒子
を含むこともある。例えば、塗膜表面に凹凸を付与する
為に添加するマット剤などがこれに該当する。この固体
粒子は前記異物と同様の作用で粒子周辺に液が集まって
くることがある。これについても早期に塗膜粘度を上昇
させることが有効である。ここでの固体粒子径は５〜５
０μｍの時に有効であることが確認された。
を含むこともある。例えば、塗膜表面に凹凸を付与する
為に添加するマット剤などがこれに該当する。この固体
粒子は前記異物と同様の作用で粒子周辺に液が集まって
くることがある。これについても早期に塗膜粘度を上昇
させることが有効である。ここでの固体粒子径は５〜５
０μｍの時に有効であることが確認された。
【００１９】また、支持体被塗布面の表面が粗い場合、
即ち支持体被塗布面の中心線表面粗さが０．３μｍ以上
のときについては、均一な膜厚で塗布したとしても、乾
燥時のレベリング作用により仕上がりでは膜厚が不均一
になるという課題もあった。特に機能性塗膜の場合はそ
の膜厚により塗膜性能が変化することが多々あり、膜厚
は均一であることが好ましい。その課題に対しても早期
に塗膜粘度を上昇させることが有効であり、塗布後５秒
以内に加熱手段を有する乾燥ゾーンに突入させることで
膜厚の不均一が大幅に改善されることが判明した。特に
塗布液が低粘度のときに膜厚が不均一になり易く、塗布
液中に含まれる溶剤が常温常圧下で粘度１ｃｐ以下のよ
うな低粘度溶剤を用いる場合、その溶剤は沸点１００℃
以下の低沸点溶剤として、早期に蒸発を促進し塗膜粘度
を上昇させることが有効である。
即ち支持体被塗布面の中心線表面粗さが０．３μｍ以上
のときについては、均一な膜厚で塗布したとしても、乾
燥時のレベリング作用により仕上がりでは膜厚が不均一
になるという課題もあった。特に機能性塗膜の場合はそ
の膜厚により塗膜性能が変化することが多々あり、膜厚
は均一であることが好ましい。その課題に対しても早期
に塗膜粘度を上昇させることが有効であり、塗布後５秒
以内に加熱手段を有する乾燥ゾーンに突入させることで
膜厚の不均一が大幅に改善されることが判明した。特に
塗布液が低粘度のときに膜厚が不均一になり易く、塗布
液中に含まれる溶剤が常温常圧下で粘度１ｃｐ以下のよ
うな低粘度溶剤を用いる場合、その溶剤は沸点１００℃
以下の低沸点溶剤として、早期に蒸発を促進し塗膜粘度
を上昇させることが有効である。
【００２０】本発明は特に塗布ウェット膜厚が薄い場合
に有効であり、ウェット膜厚が５〜２００μｍの時に特
に効果的である。
に有効であり、ウェット膜厚が５〜２００μｍの時に特
に効果的である。
【００２１】本塗布乾燥に適用される支持体は特に限定
されず、紙、プラスチック、金属などの支持体に適用で
きる。代表的支持体の材質としてはプラスチックではポ
リエチレンテレフタレート、金属ではアルミニウムなど
が挙げられる。
されず、紙、プラスチック、金属などの支持体に適用で
きる。代表的支持体の材質としてはプラスチックではポ
リエチレンテレフタレート、金属ではアルミニウムなど
が挙げられる。
【００２２】
【実施例】実施例１〜９ 図１の模式図に示す塗布乾燥装置を用いて、幅３００ｍ
ｍ、厚さ１００μｍ、被塗布面の中心線表面粗さＲａが
０．２μｍのポリエチレンテレフタレート製支持体１に
対し塗布液、塗布速度Ｕ、塗膜上１０ｍｍ離れた位置で
の風速ｖを変更して塗布乾燥したものの塗膜外観を評価
した。塗布はエクストルージョン型コーターヘッド１０
により、ウェット膜厚２０μｍで行った。図１に示すよ
うに前記コーターヘッド１０とバックアップロール２と
の近接部である支持体１への塗布点ａから加熱乾燥ゾー
ン３０への突入点ｂまでの距離は、２ｍであり塗布速度
を変更することによりこのゾーンの滞留時間ｔが変化す
ることになる。溶剤の種類を変更した塗布液、界面活性
剤を添加した塗布液、さらにはマット剤を添加した塗布
液を用いた実施例１〜９及び比較例１〜４の塗布を行
い、濃淡ムラとスポット状欠陥について評価した。適用
した溶媒系は２種混合であり、混合比は、溶媒Ａ：溶媒
Ｂ＝１：１（重量比）である。ここで比較例３、４、実
施例６〜９に添加した界面活性剤は３Ｍ社製Ｆｌｕｏｒ
ａｄ ＦＣ−４３１であり、塗布液中の界面活性剤濃度
は０．１重量％で行った。また比較例４、実施例８、９
で添加したマット剤は材質がシリカ、平均粒径が２０μ
ｍであり、塗布液中の濃度は０．１重量％である。以上
の結果を次の表１に示す。
ｍ、厚さ１００μｍ、被塗布面の中心線表面粗さＲａが
０．２μｍのポリエチレンテレフタレート製支持体１に
対し塗布液、塗布速度Ｕ、塗膜上１０ｍｍ離れた位置で
の風速ｖを変更して塗布乾燥したものの塗膜外観を評価
した。塗布はエクストルージョン型コーターヘッド１０
により、ウェット膜厚２０μｍで行った。図１に示すよ
うに前記コーターヘッド１０とバックアップロール２と
の近接部である支持体１への塗布点ａから加熱乾燥ゾー
ン３０への突入点ｂまでの距離は、２ｍであり塗布速度
を変更することによりこのゾーンの滞留時間ｔが変化す
ることになる。溶剤の種類を変更した塗布液、界面活性
剤を添加した塗布液、さらにはマット剤を添加した塗布
液を用いた実施例１〜９及び比較例１〜４の塗布を行
い、濃淡ムラとスポット状欠陥について評価した。適用
した溶媒系は２種混合であり、混合比は、溶媒Ａ：溶媒
Ｂ＝１：１（重量比）である。ここで比較例３、４、実
施例６〜９に添加した界面活性剤は３Ｍ社製Ｆｌｕｏｒ
ａｄ ＦＣ−４３１であり、塗布液中の界面活性剤濃度
は０．１重量％で行った。また比較例４、実施例８、９
で添加したマット剤は材質がシリカ、平均粒径が２０μ
ｍであり、塗布液中の濃度は０．１重量％である。以上
の結果を次の表１に示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】同一塗布液条件においては塗布速度を上げ
ていくことにより濃淡ムラ、スポット状欠陥が改善され
ていくことが判る。評価点は５が最も良く順に下がり１
が最も悪い。５、４は合格であり、３以下は不合格であ
る。
ていくことにより濃淡ムラ、スポット状欠陥が改善され
ていくことが判る。評価点は５が最も良く順に下がり１
が最も悪い。５、４は合格であり、３以下は不合格であ
る。
【００２５】実施例３と５の比較より塗膜上の風速を１
ｍ／ｓｅｃとすると２ｍ／ｓｅｃとしたときよりも濃淡
ムラが改善方向になることが判る。
ｍ／ｓｅｃとすると２ｍ／ｓｅｃとしたときよりも濃淡
ムラが改善方向になることが判る。
【００２６】また、低粘度溶媒であるメチルイソブチル
ケトンとメチルエチルケトンを比較すると低沸点溶剤で
あるメチルエチルケトンのほうが時間ｔに対する濃淡ム
ラの改善効果が顕著に見られる。
ケトンとメチルエチルケトンを比較すると低沸点溶剤で
あるメチルエチルケトンのほうが時間ｔに対する濃淡ム
ラの改善効果が顕著に見られる。
【００２７】さらに、界面活性剤を添加した塗布液につ
いては比較例３のようにスポット状欠陥が悪化するが、
これについても時間ｔを短くすることにより大幅な改善
効果が得られる。また塗布液中にマット剤を添加した系
ではさらにスポット状欠陥が悪化するが、これについて
も同様に効果が認められる。
いては比較例３のようにスポット状欠陥が悪化するが、
これについても時間ｔを短くすることにより大幅な改善
効果が得られる。また塗布液中にマット剤を添加した系
ではさらにスポット状欠陥が悪化するが、これについて
も同様に効果が認められる。
【００２８】実施例１０〜１３ 同様に、図１の塗布乾燥装置を用いて、幅３００ｍｍ、
厚さ１００μｍ、被塗布面の中心線表面粗さＲａ０．３
μｍと表面が粗面化されたアルミニウム製支持体に対
し、塗布液、塗布速度Ｕを変更して実施例１０〜１３と
比較例５、６の塗布乾燥を行い、それらの塗布面の中心
線表面粗さＲａを測定した。その結果を表２に示す。
厚さ１００μｍ、被塗布面の中心線表面粗さＲａ０．３
μｍと表面が粗面化されたアルミニウム製支持体に対
し、塗布液、塗布速度Ｕを変更して実施例１０〜１３と
比較例５、６の塗布乾燥を行い、それらの塗布面の中心
線表面粗さＲａを測定した。その結果を表２に示す。
【００２９】
【表２】
【００３０】表２から分かるように、図２（ａ）にも示
すように支持体への塗布面の表面粗さが塗布前の被塗布
面の表面粗さに近いほど、塗膜厚さは均一と言える。反
対に図２（ｂ）にも示すように、支持体への塗布面の表
面粗さが塗布前の被塗布面の表面粗さに比べて小さい程
塗膜厚さは不均一と言える。したがって、結果から明ら
かなように加熱乾燥ゾーンに突入する時間が早いほど、
さらには低沸点溶媒を含むほど塗膜厚さが均一となるこ
とが分かる。
すように支持体への塗布面の表面粗さが塗布前の被塗布
面の表面粗さに近いほど、塗膜厚さは均一と言える。反
対に図２（ｂ）にも示すように、支持体への塗布面の表
面粗さが塗布前の被塗布面の表面粗さに比べて小さい程
塗膜厚さは不均一と言える。したがって、結果から明ら
かなように加熱乾燥ゾーンに突入する時間が早いほど、
さらには低沸点溶媒を含むほど塗膜厚さが均一となるこ
とが分かる。
【００３１】
【発明の効果】本発明により、連続走行する支持体に対
し有機溶剤を含有する塗布液を塗布乾燥するとき、塗膜
面のムラや欠陥を抑制できるようになると共に、支持体
の被塗布面の表面が粗い場合についても、均一な膜厚が
得られるようになった。
し有機溶剤を含有する塗布液を塗布乾燥するとき、塗膜
面のムラや欠陥を抑制できるようになると共に、支持体
の被塗布面の表面が粗い場合についても、均一な膜厚が
得られるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】塗布乾燥装置の塗布と乾燥間の位置関係を示す
模式図。
模式図。
【図２】支持体の被塗布面の塗布乾燥終了時の状態を示
す断面図。
す断面図。
１ 支持体 ２ バックアップロール １０ エクストルージョン型コーターヘッド ３０ 加熱乾燥ゾーン
Claims (7)
- 【請求項１】 連続走行する支持体に対し有機溶剤を含
有する塗布液を塗布乾燥する方法において、塗布後５秒
以内に該支持体を加熱手段を有する乾燥ゾーンに突入さ
せることを特徴とする塗布乾燥方法。 - 【請求項２】 連続走行する支持体に対し有機溶剤を含
有する塗布液を塗布乾燥する方法において、塗布してか
ら加熱手段を有する乾燥ゾーン突入までの空間で塗膜上
の風速が１ｍ／ｓｅｃ以下に保たれることを特徴とする
塗布乾燥方法。 - 【請求項３】 連続走行する支持体に対し有機溶剤を含
有する塗布液を塗布乾燥する方法において、塗布後５秒
以内に該支持体を加熱手段を有する乾燥ゾーンに突入さ
せると共に、乾燥ゾーン突入までの空間で塗膜上の風速
が１ｍ／ｓｅｃ以下に保たれることを特徴とする塗布乾
燥方法。 - 【請求項４】 前記塗布液中に含まれる有機溶剤は常温
常圧下で粘度１ｃｐ以下、沸点１００℃以下の有機溶剤
成分を含有することを特徴とする請求項１〜３の何れか
１項に記載の塗布乾燥方法。 - 【請求項５】 前記塗布液中は界面活性剤を含むことを
特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の塗布乾燥
方法。 - 【請求項６】 前記塗布液中には溶解しない固体粒子が
含まれることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に
記載の塗布乾燥方法。 - 【請求項７】 前記支持体の被塗布面の中心線表面粗さ
が０．３μｍ以上であることを特徴とする請求項１〜６
の何れか１項に記載の塗布乾燥方法。
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP10335765A JP2000157923A (ja) | 1998-11-26 | 1998-11-26 | 塗布乾燥方法 |
| US09/405,988 US20020031608A1 (en) | 1998-11-26 | 1999-09-27 | Coating and drying method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10335765A JP2000157923A (ja) | 1998-11-26 | 1998-11-26 | 塗布乾燥方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000157923A true JP2000157923A (ja) | 2000-06-13 |
Family
ID=18292216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10335765A Pending JP2000157923A (ja) | 1998-11-26 | 1998-11-26 | 塗布乾燥方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020031608A1 (ja) |
| JP (1) | JP2000157923A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005081256A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
| US7526878B2 (en) | 2006-09-25 | 2009-05-05 | Fujifilm Corporation | Method and apparatus for drying coating film and method for producing optical film |
| JP2011145703A (ja) * | 2002-02-25 | 2011-07-28 | Fujifilm Corp | 防眩性反射防止フィルムの製造方法 |
| EP2610568A1 (en) | 2003-03-26 | 2013-07-03 | Fujifilm Corporation | Drying method for a coating layer |
| CN108940783A (zh) * | 2018-08-14 | 2018-12-07 | 合肥岑遥新材料科技有限公司 | 一种热镀锌彩涂覆板生产用烘干装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1354638A3 (en) * | 2002-04-15 | 2004-11-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing pattern members using webs on which coating films have been formed |
| JP4607779B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2011-01-05 | 富士フイルム株式会社 | ポリマーフイルムの製造方法 |
-
1998
- 1998-11-26 JP JP10335765A patent/JP2000157923A/ja active Pending
-
1999
- 1999-09-27 US US09/405,988 patent/US20020031608A1/en not_active Abandoned
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP2610567A1 (en) | 2003-03-26 | 2013-07-03 | Fujifilm Corporation | Drying method for a coating layer |
| US8828501B1 (en) | 2003-03-26 | 2014-09-09 | Fujifilm Corporation | Drying method and drying apparatus for coating layer |
| JP2005081256A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20020031608A1 (en) | 2002-03-14 |
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Legal Events
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| A977 | Report on retrieval |
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