JP2000143298A - フォトクロミックガラスの製造方法 - Google Patents
フォトクロミックガラスの製造方法Info
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- JP2000143298A JP2000143298A JP10313555A JP31355598A JP2000143298A JP 2000143298 A JP2000143298 A JP 2000143298A JP 10313555 A JP10313555 A JP 10313555A JP 31355598 A JP31355598 A JP 31355598A JP 2000143298 A JP2000143298 A JP 2000143298A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
-
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ガラス基体上に被膜が形成されてなるフォトク
ロミックガラスの新規製造方法の提供。 【解決手段】ガラス基体上に、ガラス基体側からＳｉＯ
2 とハロゲン化アルカリを含む膜と、ＳｉＯ2 と銀を含
む膜とをこの順に形成した後、２５０〜６００℃に加熱
することを特徴とするフォトクロミックガラスの製造方
法。
ロミックガラスの新規製造方法の提供。 【解決手段】ガラス基体上に、ガラス基体側からＳｉＯ
2 とハロゲン化アルカリを含む膜と、ＳｉＯ2 と銀を含
む膜とをこの順に形成した後、２５０〜６００℃に加熱
することを特徴とするフォトクロミックガラスの製造方
法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフォトクロミックガ
ラスの製造方法に関する。
ラスの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】紫外線によって着色するフォトクロミッ
クガラスは、窓材としての応用だけではなく、ホログラ
ム素子等への応用も期待されている。フォトクロミック
性を示す材料としては、ハロゲン化銀や、酸化チタンな
どの金属酸化物などの無機系材料と、ジアリールエテ
ン、スピロピラン等の有機系材料がある。フォトクロミ
ックガラスで最も重要な耐久性の因子である耐光性の観
点から見ると一般的に無機系材料の方が優れる。
クガラスは、窓材としての応用だけではなく、ホログラ
ム素子等への応用も期待されている。フォトクロミック
性を示す材料としては、ハロゲン化銀や、酸化チタンな
どの金属酸化物などの無機系材料と、ジアリールエテ
ン、スピロピラン等の有機系材料がある。フォトクロミ
ックガラスで最も重要な耐久性の因子である耐光性の観
点から見ると一般的に無機系材料の方が優れる。
【０００３】無機系材料中でも、ハロゲン化銀系のフォ
トクロミックガラスはサングラス用に実用化されてい
る。ハロゲン化銀系のフォトクロミックガラスは、ガラ
ス溶融素地中に銀、ハロゲン元素を添加し、ガラス化さ
せた後再加熱してハロゲン化銀をガラス中に析出させた
ものである。
トクロミックガラスはサングラス用に実用化されてい
る。ハロゲン化銀系のフォトクロミックガラスは、ガラ
ス溶融素地中に銀、ハロゲン元素を添加し、ガラス化さ
せた後再加熱してハロゲン化銀をガラス中に析出させた
ものである。
【０００４】しかし、これらを窓材等に応用しようとす
ると、ガラス素地は通常の窓ガラスに利用されているソ
ーダライムガラスではなく、アルミノホウケイ酸塩系ガ
ラスやリン酸系ガラスであるため、専用の窯や製造ライ
ンが必要となる。このため、簡便にガラス上に薄いフォ
トクロミック性を有する被膜を形成させる方法でのフォ
トクロミックガラスの形成が望まれている。
ると、ガラス素地は通常の窓ガラスに利用されているソ
ーダライムガラスではなく、アルミノホウケイ酸塩系ガ
ラスやリン酸系ガラスであるため、専用の窯や製造ライ
ンが必要となる。このため、簡便にガラス上に薄いフォ
トクロミック性を有する被膜を形成させる方法でのフォ
トクロミックガラスの形成が望まれている。
【０００５】フォトクロミック性を示すハロゲン化銀を
含む被膜を形成する際には、ハロゲンと銀が非常に反応
しやすいため、同時に一つの塗布液中に存在させると不
溶性のハロゲン化銀を形成して沈殿を生じる。したがっ
て、従来は、１）一旦銀を含む被膜を形成後、塩化水素
や臭化水素ガス中で処理してハロゲン化銀を析出させる
方法、２）有機鎖中にハロゲンを含む有機シラン化合物
を添加しておいて熱分解によりハロゲンを遊離させて反
応させる方法、または３）ハロゲン化銀微結晶をバイン
ダ中に分散させ、それを塗布するという方法、が提案さ
れていた。
含む被膜を形成する際には、ハロゲンと銀が非常に反応
しやすいため、同時に一つの塗布液中に存在させると不
溶性のハロゲン化銀を形成して沈殿を生じる。したがっ
て、従来は、１）一旦銀を含む被膜を形成後、塩化水素
や臭化水素ガス中で処理してハロゲン化銀を析出させる
方法、２）有機鎖中にハロゲンを含む有機シラン化合物
を添加しておいて熱分解によりハロゲンを遊離させて反
応させる方法、または３）ハロゲン化銀微結晶をバイン
ダ中に分散させ、それを塗布するという方法、が提案さ
れていた。
【０００６】しかし、これらの方法では、１）塩化水素
ガスのような危険なガスを使用する必要がある、２）有
機鎖中にハロゲンを含むシランのような高価な原料を使
用する必要がある、または３）ハロゲン化銀の微細結晶
をバインダ中に高度に分散させるのが困難であるために
退色時に透明性に乏しくなりやすい、という問題点を有
していた。
ガスのような危険なガスを使用する必要がある、２）有
機鎖中にハロゲンを含むシランのような高価な原料を使
用する必要がある、または３）ハロゲン化銀の微細結晶
をバインダ中に高度に分散させるのが困難であるために
退色時に透明性に乏しくなりやすい、という問題点を有
していた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な従来技術の問題点を鑑み、ガラス基体上に被膜が形成
されてなる透明性の高い、着色効率の良いフォトクロミ
ックガラスを容易に製造できる方法の提供を目的とす
る。
な従来技術の問題点を鑑み、ガラス基体上に被膜が形成
されてなる透明性の高い、着色効率の良いフォトクロミ
ックガラスを容易に製造できる方法の提供を目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス基体上
に、ガラス基体側からＳｉＯ2 とハロゲン化アルカリを
含む膜（以下、単に下層膜という）と、ＳｉＯ2 と銀を
含む膜（以下、単に上層膜という）とをこの順に形成し
た後、２５０〜６００℃に加熱することを特徴とするフ
ォトクロミックガラスの製造方法を提供する。
に、ガラス基体側からＳｉＯ2 とハロゲン化アルカリを
含む膜（以下、単に下層膜という）と、ＳｉＯ2 と銀を
含む膜（以下、単に上層膜という）とをこの順に形成し
た後、２５０〜６００℃に加熱することを特徴とするフ
ォトクロミックガラスの製造方法を提供する。
【０００９】下層膜と上層膜とが加熱されることによ
り、上層膜中の銀イオンと下層膜中のアルカリイオンが
イオン交換され、下層膜中でハロゲン化銀の結晶が析出
し、この結晶がフォトクロミック特性を示す。
り、上層膜中の銀イオンと下層膜中のアルカリイオンが
イオン交換され、下層膜中でハロゲン化銀の結晶が析出
し、この結晶がフォトクロミック特性を示す。
【００１０】はじめはハロゲンと銀が異なる層に存在す
るために別々の塗布液とすることができ、液中でのハロ
ゲン化銀の析出・沈殿という問題点がなくなる。またハ
ロゲン化アルカリをハロゲン源とするため、安全性や経
済性といった観点からも優れている。
るために別々の塗布液とすることができ、液中でのハロ
ゲン化銀の析出・沈殿という問題点がなくなる。またハ
ロゲン化アルカリをハロゲン源とするため、安全性や経
済性といった観点からも優れている。
【００１１】本発明における下層膜および上層膜では、
ＳｉＯ2 を膜の造膜成分としている。酸化物としては、
ＳｉＯ2 単独で、またはＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｔａ2 Ｏ
5 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｐ2 Ｏ5 、Ｂ2 Ｏ3 、ＳｎＯ2 などを
ともに用い得る。
ＳｉＯ2 を膜の造膜成分としている。酸化物としては、
ＳｉＯ2 単独で、またはＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｔａ2 Ｏ
5 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｐ2 Ｏ5 、Ｂ2 Ｏ3 、ＳｎＯ2 などを
ともに用い得る。
【００１２】ハロゲン化アルカリとしては、塩化リチウ
ム、臭化リチウム、沃化リチウム、塩化ナトリウム、臭
化ナトリウム、沃化ナトリウム、塩化カリウム、臭化カ
リウム、沃化カリウム、塩化セシウム、臭化セシウム、
沃化セシウムが挙げられる。銀イオンとのイオン交換の
しやすさからナトリウムあるいはカリウムを含むものが
好ましい。またフォトクロミック特性の観点から塩化物
イオン、あるいは臭化物イオンを含むものが好ましい。
特に、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、塩化カリウム
および臭化カリウムからなる群から選ばれる１種以上で
あることが好ましい。前記ハロゲン化アルカリは単独
で、または２種以上混合して用いることができる。
ム、臭化リチウム、沃化リチウム、塩化ナトリウム、臭
化ナトリウム、沃化ナトリウム、塩化カリウム、臭化カ
リウム、沃化カリウム、塩化セシウム、臭化セシウム、
沃化セシウムが挙げられる。銀イオンとのイオン交換の
しやすさからナトリウムあるいはカリウムを含むものが
好ましい。またフォトクロミック特性の観点から塩化物
イオン、あるいは臭化物イオンを含むものが好ましい。
特に、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、塩化カリウム
および臭化カリウムからなる群から選ばれる１種以上で
あることが好ましい。前記ハロゲン化アルカリは単独
で、または２種以上混合して用いることができる。
【００１３】ハロゲン化アルカリの添加は、水、あるい
は極性の高い溶媒にハロゲン化アルカリを溶解させ、後
述する有機シラン化合物あるいはそれらの加水分解物に
混合することで行うことができる。
は極性の高い溶媒にハロゲン化アルカリを溶解させ、後
述する有機シラン化合物あるいはそれらの加水分解物に
混合することで行うことができる。
【００１４】下層膜の膜厚は、５０〜５０００ｎｍが好
ましい。５０ｎｍ未満ではハロゲン化アルカリの絶対量
が不足して銀が過剰になり、退色しなくなるおそれがあ
り、５０００ｎｍ超では膜にクラックが入りやすくなる
おそれがある。
ましい。５０ｎｍ未満ではハロゲン化アルカリの絶対量
が不足して銀が過剰になり、退色しなくなるおそれがあ
り、５０００ｎｍ超では膜にクラックが入りやすくなる
おそれがある。
【００１５】上層膜の膜厚は、５００〜５０００ｎｍが
好ましい。５００ｎｍ未満では有効な銀の量が不足し、
フォトクロミック特性が不足するおそれがあり、５００
０ｎｍ超ではクラックが入るおそれがある。特に５００
〜３０００ｎｍが好ましい。
好ましい。５００ｎｍ未満では有効な銀の量が不足し、
フォトクロミック特性が不足するおそれがあり、５００
０ｎｍ超ではクラックが入るおそれがある。特に５００
〜３０００ｎｍが好ましい。
【００１６】ハロゲン化アルカリの含有割合がＳｉＯ2
に対して過剰であると成膜性が乏しくなり、過少である
とイオン交換に使用されるアルカリ分が不足するおそれ
がある。したがって、ＳｉＯ2 とハロゲン化アルカリを
含む膜におけるハロゲン化アルカリの含有割合は、Ｓｉ
Ｏ2 に対して１０／９０〜７０／３０（モル比）が好ま
しい。
に対して過剰であると成膜性が乏しくなり、過少である
とイオン交換に使用されるアルカリ分が不足するおそれ
がある。したがって、ＳｉＯ2 とハロゲン化アルカリを
含む膜におけるハロゲン化アルカリの含有割合は、Ｓｉ
Ｏ2 に対して１０／９０〜７０／３０（モル比）が好ま
しい。
【００１７】全被膜中のＡｇの含有割合が過少であると
有効なフォトクロミック特性を示さないおそれがあり、
過剰では退色しにくくなったり、成膜性が悪くなったり
する。したがって、全被膜中の銀の含有割合は、重量比
で０．５〜１０％であることが好ましい。
有効なフォトクロミック特性を示さないおそれがあり、
過剰では退色しにくくなったり、成膜性が悪くなったり
する。したがって、全被膜中の銀の含有割合は、重量比
で０．５〜１０％であることが好ましい。
【００１８】本発明においては、ＳｉＯ2 とハロゲン化
アルカリを含む膜とガラス基体との間に、ハロゲン化ア
ルカリを含まないＳｉＯ2 を主成分とする膜（以下、バ
リア膜という）を形成することもできる。バリア膜の形
成によりガラス基体中のイオンと上層膜中の銀との間の
イオン交換が進まなくなり、銀のガラス基体中への拡散
が抑制される。バリア膜としては、ＳｉＯ2 単独膜、ま
たは、ＳｉＯ2 を主成分としＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｔａ
2 Ｏ5 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｐ2 Ｏ5 、Ｂ2 Ｏ3 、ＳｎＯ2 な
どを含有した膜などが挙げられる。膜厚は、５００ｎｍ
以下が好ましい。５００ｎｍ超ではクラックを発生させ
るおそれがある。
アルカリを含む膜とガラス基体との間に、ハロゲン化ア
ルカリを含まないＳｉＯ2 を主成分とする膜（以下、バ
リア膜という）を形成することもできる。バリア膜の形
成によりガラス基体中のイオンと上層膜中の銀との間の
イオン交換が進まなくなり、銀のガラス基体中への拡散
が抑制される。バリア膜としては、ＳｉＯ2 単独膜、ま
たは、ＳｉＯ2 を主成分としＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｔａ
2 Ｏ5 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｐ2 Ｏ5 、Ｂ2 Ｏ3 、ＳｎＯ2 な
どを含有した膜などが挙げられる。膜厚は、５００ｎｍ
以下が好ましい。５００ｎｍ超ではクラックを発生させ
るおそれがある。
【００１９】下層膜は、例えば、有機シラン化合物とハ
ロゲン化アルカリを含む塗布液を塗布し、５００℃以下
の温度に加熱して形成する。具体的には、ゾルゲル法と
して知られる有機シラン化合物の加水分解物中にハロゲ
ン化アルカリを添加した液を塗布、加熱する。
ロゲン化アルカリを含む塗布液を塗布し、５００℃以下
の温度に加熱して形成する。具体的には、ゾルゲル法と
して知られる有機シラン化合物の加水分解物中にハロゲ
ン化アルカリを添加した液を塗布、加熱する。
【００２０】有機シラン化合物としては、ハロゲン元素
を含まない有機シラン化合物（以下、ハロゲン不含有機
シラン化合物という）、またはハロゲンを含む有機シラ
ン化合物（以下、ハロゲン含有有機シラン化合物とい
う）を用いることもできる。
を含まない有機シラン化合物（以下、ハロゲン不含有機
シラン化合物という）、またはハロゲンを含む有機シラ
ン化合物（以下、ハロゲン含有有機シラン化合物とい
う）を用いることもできる。
【００２１】ハロゲン不含有機シラン化合物としては、
一般式Ｒ1 aＳｉＹ4-a で表される化合物が好ましい。こ
こで、Ｒ1 はハロゲン元素を含まず置換されていてもよ
いアルキル基、ハロゲン元素を含まず置換されていても
よいアルケニル基、または、ハロゲン元素を含まず置換
されていてもよいアリール基であり、Ｙはハロゲン元素
を含まない加水分解性基であり、ａは０〜２の整数であ
る。ａが２のときＲ1は互いに同一の基でも異なる基で
もよく、ａが２以下のときＹは互いに同一の基でも異な
る基でもよい。Ｙはアルコキシ基であることが好まし
く、ａは０または１であることが好ましい。加水分解性
基Ｙが加水分解され、重縮合することによってシロキサ
ンポリマーを形成して被膜化する。ハロゲン不含有機シ
ラン化合物の具体例としては、下記のものが挙げられ
る。
一般式Ｒ1 aＳｉＹ4-a で表される化合物が好ましい。こ
こで、Ｒ1 はハロゲン元素を含まず置換されていてもよ
いアルキル基、ハロゲン元素を含まず置換されていても
よいアルケニル基、または、ハロゲン元素を含まず置換
されていてもよいアリール基であり、Ｙはハロゲン元素
を含まない加水分解性基であり、ａは０〜２の整数であ
る。ａが２のときＲ1は互いに同一の基でも異なる基で
もよく、ａが２以下のときＹは互いに同一の基でも異な
る基でもよい。Ｙはアルコキシ基であることが好まし
く、ａは０または１であることが好ましい。加水分解性
基Ｙが加水分解され、重縮合することによってシロキサ
ンポリマーを形成して被膜化する。ハロゲン不含有機シ
ラン化合物の具体例としては、下記のものが挙げられ
る。
【００２２】テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−プロポ
キシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｓｅｃ
−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン。メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチ
ルトリイソロポキシシラン、メチルトリｎ−プロポキシ
シラン、メチルトリｎ−ブトキシシラン、メチルトリｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリイソブトキシシラ
ン。
ラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−プロポ
キシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｓｅｃ
−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン。メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチ
ルトリイソロポキシシラン、メチルトリｎ−プロポキシ
シラン、メチルトリｎ−ブトキシシラン、メチルトリｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリイソブトキシシラ
ン。
【００２３】エチルトリメトキシシラン、エチルトリエ
トキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチ
ルトリｎ−プロポキシシラン、エチルトリｎ−ブトキシ
シラン、エチルトリｓｅｃ−ブトキシシラン、エチルト
リイソブトキシシラン。ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシ
ラン、ビニルトリｎ−プロポキシシラン、ビニルトリｎ
−ブトキシシラン、ビニルトリｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、ビニルトリイソブトキシシラン。
トキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチ
ルトリｎ−プロポキシシラン、エチルトリｎ−ブトキシ
シラン、エチルトリｓｅｃ−ブトキシシラン、エチルト
リイソブトキシシラン。ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシ
ラン、ビニルトリｎ−プロポキシシラン、ビニルトリｎ
−ブトキシシラン、ビニルトリｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、ビニルトリイソブトキシシラン。
【００２４】フェニルトリメトキシシラン、フェニルト
リエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラ
ン、フェニルトリｎ−プロポキシシラン、フェニルトリ
ｎ−ブトキシシラン、フェニルトリｓｅｃ−ブトキシシ
ラン、フェニルトリイソブトキシシラン。３−メタクリ
ロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタク
リロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタ
クリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
３−メタクリロイルオキシプロピルトリｎ−プロポキシ
シラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリｎ−ブ
トキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリ
ｓｅｃ−ブトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプ
ロピルトリイソブトキシシラン。
リエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラ
ン、フェニルトリｎ−プロポキシシラン、フェニルトリ
ｎ−ブトキシシラン、フェニルトリｓｅｃ−ブトキシシ
ラン、フェニルトリイソブトキシシラン。３−メタクリ
ロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタク
リロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタ
クリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
３−メタクリロイルオキシプロピルトリｎ−プロポキシ
シラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリｎ−ブ
トキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリ
ｓｅｃ−ブトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプ
ロピルトリイソブトキシシラン。
【００２５】２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）
エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリイソプロポキ
シシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリｎ−プロポキシシラン、２−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリｎ−ブトキシシラン、２
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリｓｅ
ｃ−ブトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリイソブトキシラン。
エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリイソプロポキ
シシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリｎ−プロポキシシラン、２−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリｎ−ブトキシシラン、２
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリｓｅ
ｃ−ブトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリイソブトキシラン。
【００２６】３−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
３−グリシドキシプロピルトリｎ−プロポキシシラン、
３−グリシドキシプロピルトリｎ−ブトキシシラン、３
−グリシドキシプロピルトリｓｅｃ−ブトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルトリイソブトキシラン。
ラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
３−グリシドキシプロピルトリｎ−プロポキシシラン、
３−グリシドキシプロピルトリｎ−ブトキシシラン、３
−グリシドキシプロピルトリｓｅｃ−ブトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルトリイソブトキシラン。
【００２７】Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）
−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−
アミノエチル）−３−アミノプロピルトリイソプロポキ
シシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルトリｎ−プロポキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチ
ル）−３−アミノプロピルトリｎ−ブトキシシラン、Ｎ
−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリｓｅ
ｃ−ブトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−
アミノプロピルトリイソブトキシラン。
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）
−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−
アミノエチル）−３−アミノプロピルトリイソプロポキ
シシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルトリｎ−プロポキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチ
ル）−３−アミノプロピルトリｎ−ブトキシシラン、Ｎ
−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリｓｅ
ｃ−ブトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−
アミノプロピルトリイソブトキシラン。
【００２８】３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、３−アミノプロピル
トリｎ−プロポキシシラン、３−アミノプロピルトリｎ
−ブトキシシラン、３−アミノプロピルトリｓｅｃ−ブ
トキシシラン、３−アミノプロピルトリイソブトキシラ
ン。３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルトリイソプロポキシシラン、３−メルカプト
プロピルトリｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプ
ロピルトリｎ−ブトキシシラン、３−メルカプトプロピ
ルトリｓｅｃ−ブトキシシラン、３−メルカプトプロピ
ルトリイソブトキシラン。
３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、３−アミノプロピル
トリｎ−プロポキシシラン、３−アミノプロピルトリｎ
−ブトキシシラン、３−アミノプロピルトリｓｅｃ−ブ
トキシシラン、３−アミノプロピルトリイソブトキシラ
ン。３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルトリイソプロポキシシラン、３−メルカプト
プロピルトリｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプ
ロピルトリｎ−ブトキシシラン、３−メルカプトプロピ
ルトリｓｅｃ−ブトキシシラン、３−メルカプトプロピ
ルトリイソブトキシラン。
【００２９】ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジメ
チルジｎ−プロポキシシラン、ジメチルジｎ−ブトキシ
シラン、ジメチルジｓｅｃ−ブトキシシラン、ジメチル
ジトリイソブトキシラン。ジエチルジメトキシシラン、
ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジイソプロポキシ
シラン、ジエチルジｎ−プロポキシシラン、ジエチルジ
ｎ−ブトキシシラン、ジエチルジｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、ジエチルジトリイソブトキシラン。
トキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジメ
チルジｎ−プロポキシシラン、ジメチルジｎ−ブトキシ
シラン、ジメチルジｓｅｃ−ブトキシシラン、ジメチル
ジトリイソブトキシラン。ジエチルジメトキシシラン、
ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジイソプロポキシ
シラン、ジエチルジｎ−プロポキシシラン、ジエチルジ
ｎ−ブトキシシラン、ジエチルジｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、ジエチルジトリイソブトキシラン。
【００３０】メチルフェニルジメトキシシラン、メチル
フェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジイソプロ
ポキシシラン、メチルフェニルジｎ−プロポキシシラ
ン、メチルフェニルジｎ−ブトキシシラン、メチルフェ
ニルジｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルフェニルジトリ
イソブトキシラン。ジフェニルジメトキシシラン、ジフ
ェニルジエトキシシラン、ジフェニルジイソプロポキシ
シラン、ジフェニルジｎ−プロポキシシラン、ジフェニ
ルジｎ−ブトキシシラン、ジフェニルジｓｅｃ−ブトキ
シシラン、ジフェニルジトリイソブトキシラン。
フェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジイソプロ
ポキシシラン、メチルフェニルジｎ−プロポキシシラ
ン、メチルフェニルジｎ−ブトキシシラン、メチルフェ
ニルジｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルフェニルジトリ
イソブトキシラン。ジフェニルジメトキシシラン、ジフ
ェニルジエトキシシラン、ジフェニルジイソプロポキシ
シラン、ジフェニルジｎ−プロポキシシラン、ジフェニ
ルジｎ−ブトキシシラン、ジフェニルジｓｅｃ−ブトキ
シシラン、ジフェニルジトリイソブトキシラン。
【００３１】３−グリシドキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、３−グリシドキシプロピルメチルジイソプロポ
キシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジｎ−プ
ロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジｎ
−ブトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジ
ｓｅｃ−ブトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメ
チルジトリイソブトキシラン。
シシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、３−グリシドキシプロピルメチルジイソプロポ
キシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジｎ−プ
ロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジｎ
−ブトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジ
ｓｅｃ−ブトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメ
チルジトリイソブトキシラン。
【００３２】Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチ
ル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ
−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジ
イソプロポキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３
−アミノプロピルメチルジｎ−プロポキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジｎ
−ブトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−ア
ミノプロピルメチルジｓｅｃ−ブトキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジトリ
イソブトキシラン。
ロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチ
ル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ
−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジ
イソプロポキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３
−アミノプロピルメチルジｎ−プロポキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジｎ
−ブトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−ア
ミノプロピルメチルジｓｅｃ−ブトキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジトリ
イソブトキシラン。
【００３３】ハロゲン不含有機シラン化合物としては、
メチルトリアルコキシシラン、グリシドキシプロピルト
リアルコキシシラン、およびテトラアルコキシシランか
らなる群から選ばれる１種以上が好ましく、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、３−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシランが特に好ましい。
メチルトリアルコキシシラン、グリシドキシプロピルト
リアルコキシシラン、およびテトラアルコキシシランか
らなる群から選ばれる１種以上が好ましく、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、３−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシランが特に好ましい。
【００３４】ハロゲン含有有機シラン化合物としては、
一般式Ｒ2 bＳｉＸ4-b で表される化合物が好ましい。こ
こで、Ｒ2 は塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選
ばれる１種以上のハロゲン元素を含むアルキル基、また
は、塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選ばれる１
種以上のハロゲン元素を含むアリール基であり、Ｘは加
水分解性基であり、ｂは１〜３の整数である。ｂが２以
上のときＲ2 は互いに同一の基でも異なる基でもよく、
ｂが２以下のときＸは互いに同一の基でも異なる基でも
よい。Ｘはハロゲン元素を含まない加水分解性基である
ことが好ましく、Ｘがアルコキシ基であることが特に好
ましい。ｂは１または２であることが好ましい。ハロゲ
ン含有有機シラン化合物の具体例としては下記の化合物
が挙げられる。３−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−クロ
ロプロピルトリイソプロポキシシラン、３−クロロプロ
ピルトリｎ−プロポキシシラン、３−クロロプロピルト
リｎ−ブトキシシラン、３−クロロプロピルトリｓｅｃ
−ブトキシシラン、３−クロロプロピルトリイソブトキ
シシラン。
一般式Ｒ2 bＳｉＸ4-b で表される化合物が好ましい。こ
こで、Ｒ2 は塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選
ばれる１種以上のハロゲン元素を含むアルキル基、また
は、塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選ばれる１
種以上のハロゲン元素を含むアリール基であり、Ｘは加
水分解性基であり、ｂは１〜３の整数である。ｂが２以
上のときＲ2 は互いに同一の基でも異なる基でもよく、
ｂが２以下のときＸは互いに同一の基でも異なる基でも
よい。Ｘはハロゲン元素を含まない加水分解性基である
ことが好ましく、Ｘがアルコキシ基であることが特に好
ましい。ｂは１または２であることが好ましい。ハロゲ
ン含有有機シラン化合物の具体例としては下記の化合物
が挙げられる。３−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−クロ
ロプロピルトリイソプロポキシシラン、３−クロロプロ
ピルトリｎ−プロポキシシラン、３−クロロプロピルト
リｎ−ブトキシシラン、３−クロロプロピルトリｓｅｃ
−ブトキシシラン、３−クロロプロピルトリイソブトキ
シシラン。
【００３５】３−ブロモプロピルトリメトキシシラン、
３−ブロモプロピルトリエトキシシラン、３−ブロモプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、３−ブロモプロピル
トリｎ−プロポキシシラン、３−ブロモプロピルトリｎ
−ブトキシシラン、３−ブロモプロピルトリｓｅｃ−ブ
トキシシラン、３−ブロモプロピルトリイソブトキシシ
ラン。
３−ブロモプロピルトリエトキシシラン、３−ブロモプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、３−ブロモプロピル
トリｎ−プロポキシシラン、３−ブロモプロピルトリｎ
−ブトキシシラン、３−ブロモプロピルトリｓｅｃ−ブ
トキシシラン、３−ブロモプロピルトリイソブトキシシ
ラン。
【００３６】３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、３−
クロロプロピルメチルジイソプロポキシシラン、３−ク
ロロプロピルメチルジｎ−プロポキシシラン、３−クロ
ロプロピルメチルジｎ−ブトキシシラン、３−クロロプ
ロピルメチルジｓｅｃ−ブトキシシラン、３−クロロプ
ロピルメチルジイソブトキシシラン。
ン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、３−
クロロプロピルメチルジイソプロポキシシラン、３−ク
ロロプロピルメチルジｎ−プロポキシシラン、３−クロ
ロプロピルメチルジｎ−ブトキシシラン、３−クロロプ
ロピルメチルジｓｅｃ−ブトキシシラン、３−クロロプ
ロピルメチルジイソブトキシシラン。
【００３７】３−ブロモプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−ブロモプロピルメチルジエトキシシラン、３−
ブロモプロピルメチルジイソプロポキシシラン、３−ブ
ロモプロピルメチルジｎ−プロポキシシラン、３−ブロ
モプロピルメチルジｎ−ブトキシシラン、３−ブロモプ
ロピルメチルジｓｅｃ−ブトキシシラン、３−ブロモプ
ロピルメチルジイソブトキシシラン。
ン、３−ブロモプロピルメチルジエトキシシラン、３−
ブロモプロピルメチルジイソプロポキシシラン、３−ブ
ロモプロピルメチルジｎ−プロポキシシラン、３−ブロ
モプロピルメチルジｎ−ブトキシシラン、３−ブロモプ
ロピルメチルジｓｅｃ−ブトキシシラン、３−ブロモプ
ロピルメチルジイソブトキシシラン。
【００３８】有機シラン化合物は、１種単独でも２種以
上混合しても使用できる。また、有機シラン化合物は、
必要により水または各種触媒を添加して加水分解して用
いてもよい。加水分解は通常有機シラン化合物のアルコ
ール溶液に中性から弱酸性の水を添加することによって
進行する。
上混合しても使用できる。また、有機シラン化合物は、
必要により水または各種触媒を添加して加水分解して用
いてもよい。加水分解は通常有機シラン化合物のアルコ
ール溶液に中性から弱酸性の水を添加することによって
進行する。
【００３９】上層膜は、有機シラン化合物と平均粒径５
０ｎｍ以下の銀コロイドを含む塗布液を塗布し、５００
℃以下の温度に加熱して形成することが好ましい。前記
塗布液中に含まれる銀コロイドとしては、硝酸銀等の可
溶性塩の湿式還元により得られるコロイド状ゾルが好ま
しく用いられる。有機シラン化合物としては、前述した
一般式Ｒ1 aＳｉＹ4-a で表されるハロゲン不含有機シラ
ン化合物や一般式Ｒ2 bＳｉＸ4-b で表されるハロゲン含
有有機シラン化合物が好ましい。
０ｎｍ以下の銀コロイドを含む塗布液を塗布し、５００
℃以下の温度に加熱して形成することが好ましい。前記
塗布液中に含まれる銀コロイドとしては、硝酸銀等の可
溶性塩の湿式還元により得られるコロイド状ゾルが好ま
しく用いられる。有機シラン化合物としては、前述した
一般式Ｒ1 aＳｉＹ4-a で表されるハロゲン不含有機シラ
ン化合物や一般式Ｒ2 bＳｉＸ4-b で表されるハロゲン含
有有機シラン化合物が好ましい。
【００４０】銀コロイドは、最終的な加熱によりイオン
化してイオン交換するが、平均粒径５０ｎｍ超であると
イオン交換が進みにくくなる。分散媒としては、水が好
ましく用いられ、アルコール等の有機溶媒が添加されて
もよい。コロイド状ゾルの固形分濃度としては、１〜２
０重量％が好ましい。１重量％未満では塗膜中の銀量が
少なくなり、効果的なフォトクロミック性能を付与させ
られなくなり、２０重量％超ではゾルそのものの安定性
に乏しくなるおそれがある。
化してイオン交換するが、平均粒径５０ｎｍ超であると
イオン交換が進みにくくなる。分散媒としては、水が好
ましく用いられ、アルコール等の有機溶媒が添加されて
もよい。コロイド状ゾルの固形分濃度としては、１〜２
０重量％が好ましい。１重量％未満では塗膜中の銀量が
少なくなり、効果的なフォトクロミック性能を付与させ
られなくなり、２０重量％超ではゾルそのものの安定性
に乏しくなるおそれがある。
【００４１】上層膜形成用塗布液中の有機シラン化合物
に対する銀コロイドの含有割合は、銀／ケイ素（原子
比）で、１／１〜１／２０が好ましい。１／２０未満で
は有効なフォトクロミック特性を示さなくなるおそれが
あり、１／１超では退色時に無色化しなくなるおそれが
ある。
に対する銀コロイドの含有割合は、銀／ケイ素（原子
比）で、１／１〜１／２０が好ましい。１／２０未満で
は有効なフォトクロミック特性を示さなくなるおそれが
あり、１／１超では退色時に無色化しなくなるおそれが
ある。
【００４２】下層膜または上層膜の形成においては、膜
形成用塗布液を塗布後に、溶媒を揮散させるための加熱
を行う。該加熱は、高温である必要なく、１００〜２０
０℃の加熱で十分であるが、５００℃程度の高温で処理
して完全に緻密化させてもよい。
形成用塗布液を塗布後に、溶媒を揮散させるための加熱
を行う。該加熱は、高温である必要なく、１００〜２０
０℃の加熱で十分であるが、５００℃程度の高温で処理
して完全に緻密化させてもよい。
【００４３】また、下層膜または上層膜の膜形成用塗布
液には、液膜の基体への濡れ性、レベリング性等を改善
するためにレベリング剤など、各種界面活性剤を添加し
てもよい。また、増感剤として銅イオンなどを添加して
もよい。
液には、液膜の基体への濡れ性、レベリング性等を改善
するためにレベリング剤など、各種界面活性剤を添加し
てもよい。また、増感剤として銅イオンなどを添加して
もよい。
【００４４】また、下層膜または上層膜の膜形成用塗布
液の固形分濃度としては、塗布方法によって調整をする
必要があるが、酸化物換算で０．１〜２０重量％が好ま
しい。
液の固形分濃度としては、塗布方法によって調整をする
必要があるが、酸化物換算で０．１〜２０重量％が好ま
しい。
【００４５】下層膜または上層膜の膜形成用塗布液の塗
布方法としては公知の方法を用いることができる。ディ
ップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、フ
ローコート法、ダイコート法、ロールコート法、転写印
刷法、スクリーン印刷法等が例として挙げられる。
布方法としては公知の方法を用いることができる。ディ
ップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、フ
ローコート法、ダイコート法、ロールコート法、転写印
刷法、スクリーン印刷法等が例として挙げられる。
【００４６】本発明において用いる基体としては、ソー
ダライムガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等のガ
ラス基体が挙げられる。
ダライムガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等のガ
ラス基体が挙げられる。
【００４７】下層膜、上層膜を順に形成した後、加熱処
理を行ってイオン交換をさせ、フォトクロミック特性を
有するハロゲン化銀を析出させる。この際の加熱温度は
２５０〜６００℃である。２５０℃未満ではイオン交換
が進まず、ハロゲン化銀結晶の析出が起こらない、また
６００℃超では、１）ガラスが軟化する、２）ハロゲン
化銀が揮散する、または３）イオン交換が進みすぎ、ガ
ラス中のアルカリイオンとの交換まで進んでしまう、と
いった問題点が発生する。より好ましくは３５０〜５０
０℃である。イオン交換を十分に進行させ、ハロゲン化
銀結晶を析出させるための適切な熱処理条件としては、
３５０〜５００℃で３０分〜１０時間程度である。この
熱処理は、上層膜の加熱と同時に行ってもよい。
理を行ってイオン交換をさせ、フォトクロミック特性を
有するハロゲン化銀を析出させる。この際の加熱温度は
２５０〜６００℃である。２５０℃未満ではイオン交換
が進まず、ハロゲン化銀結晶の析出が起こらない、また
６００℃超では、１）ガラスが軟化する、２）ハロゲン
化銀が揮散する、または３）イオン交換が進みすぎ、ガ
ラス中のアルカリイオンとの交換まで進んでしまう、と
いった問題点が発生する。より好ましくは３５０〜５０
０℃である。イオン交換を十分に進行させ、ハロゲン化
銀結晶を析出させるための適切な熱処理条件としては、
３５０〜５００℃で３０分〜１０時間程度である。この
熱処理は、上層膜の加熱と同時に行ってもよい。
【００４８】
【実施例】以下に本発明の詳細を例を挙げて説明する
が、本発明は以下の例に限定されるものではない。な
お、例１〜４は実施例に相当し、例５は比較例に相当す
る。
が、本発明は以下の例に限定されるものではない。な
お、例１〜４は実施例に相当し、例５は比較例に相当す
る。
【００４９】（銀コロイド液の調製）硫酸第一鉄３０％
水溶液５００ｇ、クエン酸３ナトリウム３０％水溶液７
００ｇを混合し、よく撹拌しながら１０％硝酸銀水溶液
５００ｇを滴下し、得られた沈殿物を純水でよく洗浄し
たのち銀濃度が５重量％となるように純水を添加して再
分散させ、コロイド状銀ゾル液Ｓを得た。得られた銀コ
ロイドの平均粒子径は電子顕微鏡観察の結果、約１０ｎ
ｍであった。
水溶液５００ｇ、クエン酸３ナトリウム３０％水溶液７
００ｇを混合し、よく撹拌しながら１０％硝酸銀水溶液
５００ｇを滴下し、得られた沈殿物を純水でよく洗浄し
たのち銀濃度が５重量％となるように純水を添加して再
分散させ、コロイド状銀ゾル液Ｓを得た。得られた銀コ
ロイドの平均粒子径は電子顕微鏡観察の結果、約１０ｎ
ｍであった。
【００５０】（例１）（下層膜の形成）テトラエトキシ
シラン２０．８ｇ、水１４．４ｇ、濃硝酸０．１ｇ、イ
ソプロピルアルコール６４．７ｇをよく混合し、２４時
間室温で放置した液を６０ｇとり、そこにエチレングリ
コール／水＝１／１体積比の混合溶媒に１ｍｏｌ／ｋｇ
の濃度となるように塩化カリウムを溶解させた液を４０
ｇ、添加剤としてヒドロキシプロピルエチルセルロース
を２．５ｇ、レベリング剤としてフルオロシリコーン
０．０１ｇを添加して下層膜形成用塗布液Ａとした。塗
布液Ａをよく洗浄し、乾燥させたソーダライムガラス基
体にスピンコート法によって塗布し、２００℃で３０分
処理して膜厚３００ｎｍの塩化カリウム含有ＳｉＯ2 膜
（下層膜）を得た。下層膜中のＫＣｌ／ＳｉＯ2 の存在
比は４０／６０（モル）であった。
シラン２０．８ｇ、水１４．４ｇ、濃硝酸０．１ｇ、イ
ソプロピルアルコール６４．７ｇをよく混合し、２４時
間室温で放置した液を６０ｇとり、そこにエチレングリ
コール／水＝１／１体積比の混合溶媒に１ｍｏｌ／ｋｇ
の濃度となるように塩化カリウムを溶解させた液を４０
ｇ、添加剤としてヒドロキシプロピルエチルセルロース
を２．５ｇ、レベリング剤としてフルオロシリコーン
０．０１ｇを添加して下層膜形成用塗布液Ａとした。塗
布液Ａをよく洗浄し、乾燥させたソーダライムガラス基
体にスピンコート法によって塗布し、２００℃で３０分
処理して膜厚３００ｎｍの塩化カリウム含有ＳｉＯ2 膜
（下層膜）を得た。下層膜中のＫＣｌ／ＳｉＯ2 の存在
比は４０／６０（モル）であった。
【００５１】（上層膜の形成）メチルトリメトキシシラ
ン２８ｇ、エタノール２０ｇを混合し、ｐＨ４の硝酸水
溶液を１２ｇ添加し、室温で２４時間反応させた液に銀
ゾル液Ｓを４９ｇ添加し、ジメチルシリコーン０．２ｇ
を加えて上層膜形成用塗布液Ｂとした。塗布液Ｂを前記
下層膜の上にスピンコート法によって塗布し、１２０℃
で１０分乾燥させた後４００℃で１２０分焼成し、被膜
つきガラスを得た。上層膜の膜厚は１０００ｎｍであっ
た。全被膜中の銀の含有割合は８重量％であった。得ら
れた被膜の生成相の同定をＸ線回折法を用いて行ったと
ころ、塩化銀の結晶が生成していることが確認できた。
ン２８ｇ、エタノール２０ｇを混合し、ｐＨ４の硝酸水
溶液を１２ｇ添加し、室温で２４時間反応させた液に銀
ゾル液Ｓを４９ｇ添加し、ジメチルシリコーン０．２ｇ
を加えて上層膜形成用塗布液Ｂとした。塗布液Ｂを前記
下層膜の上にスピンコート法によって塗布し、１２０℃
で１０分乾燥させた後４００℃で１２０分焼成し、被膜
つきガラスを得た。上層膜の膜厚は１０００ｎｍであっ
た。全被膜中の銀の含有割合は８重量％であった。得ら
れた被膜の生成相の同定をＸ線回折法を用いて行ったと
ころ、塩化銀の結晶が生成していることが確認できた。
【００５２】得られた被膜つきガラスは無色透明で、透
過率は９１％、厚さは１２００ｎｍであった。
過率は９１％、厚さは１２００ｎｍであった。
【００５３】得られた被膜つきガラスに１．５ｋＷのキ
セノンアークランプを使用して１４０Ｗ／ｍ2 （３００
〜７００ｎｍ）の照度で紫外線を２時間照射するとガラ
スは茶色に着色し、透過率は５４％となった。またこの
ガラスを２１０℃で１０分加熱すると無色透明にもど
り、このサイクルを繰り返しても劣化は認められなかっ
た。
セノンアークランプを使用して１４０Ｗ／ｍ2 （３００
〜７００ｎｍ）の照度で紫外線を２時間照射するとガラ
スは茶色に着色し、透過率は５４％となった。またこの
ガラスを２１０℃で１０分加熱すると無色透明にもど
り、このサイクルを繰り返しても劣化は認められなかっ
た。
【００５４】（例２）例１の塩化カリウムの代わりに、
塩化ナトリウムと臭化カリウムを１／１のモル比で混合
したハロゲン化アルカリを用いた以外は例１と同様にし
て被膜つきガラスを作成した。下層膜中の（ＮａＣｌ＋
ＫＢｒ）／ＳｉＯ2 の存在比は４０／６０（モル）であ
り、全被膜中の銀の含有割合は８重量％であった。得ら
れた被膜の生成相の同定をＸ線回折法を用いて行ったと
ころ、塩化銀−臭化銀の固溶体結晶が生成していること
が確認できた。
塩化ナトリウムと臭化カリウムを１／１のモル比で混合
したハロゲン化アルカリを用いた以外は例１と同様にし
て被膜つきガラスを作成した。下層膜中の（ＮａＣｌ＋
ＫＢｒ）／ＳｉＯ2 の存在比は４０／６０（モル）であ
り、全被膜中の銀の含有割合は８重量％であった。得ら
れた被膜の生成相の同定をＸ線回折法を用いて行ったと
ころ、塩化銀−臭化銀の固溶体結晶が生成していること
が確認できた。
【００５５】得られた被膜つきガラスは透明で、透過率
は９１％、膜厚は１２００ｎｍであった。
は９１％、膜厚は１２００ｎｍであった。
【００５６】例１同様の紫外線照射をした後の透過率は
５４％であり、例１と同様に２１０℃、１０分の加熱に
よってもとの無色透明に戻ることが確認された。
５４％であり、例１と同様に２１０℃、１０分の加熱に
よってもとの無色透明に戻ることが確認された。
【００５７】（例３）テトラエトキシシラン１０．４ｇ
と３−クロロプロピルトリメトキシシラン９．９ｇ、水
７．２ｇ、濃硝酸０．１ｇ、エタノール７２．４ｇを混
合し、２４時間室温で放置した液を８０ｇとり、そこに
エチレングリコール／水が１／１（体積比）の混合溶媒
に１ｍｏｌ／ｋｇの濃度となるように臭化カリウムを溶
解させた液を１０ｇ、エチレングリコール／水が１／１
（体積比）の混合溶媒に１ｍｏｌ／ｋｇの濃度となるよ
うに塩化ナトリウムを溶解させた液を１０ｇ、添加剤と
してヒドロキシプロピルエチルセルロースを２．５ｇ、
レベリング剤としてフルオロシリコーン０．０１ｇを添
加して下層膜形成用塗布液Ｃとした。塗布液Ｃをよく洗
浄し、乾燥させたソーダライムガラス基体にスピンコー
ト法によって塗布し、２００℃で３０分処理して膜厚３
００ｎｍの塩化カリウム含有ＳｉＯ2 膜（下層膜）を得
た。下層膜中の（ＮａＣｌ＋ＫＢｒ）／ＳｉＯ2 の存在
比は２０／８０（モル）であった。その後は例１と同様
にして膜厚１０００ｎｍの銀含有ＳｉＯ2 膜（上層膜）
を形成した。全被膜中の銀の含有割合は８重量％であっ
た。得られた被膜の生成相の同定をＸ線回折法を用いて
行ったところ、塩化銀−臭化銀の固溶体結晶が生成して
いることが確認できた。
と３−クロロプロピルトリメトキシシラン９．９ｇ、水
７．２ｇ、濃硝酸０．１ｇ、エタノール７２．４ｇを混
合し、２４時間室温で放置した液を８０ｇとり、そこに
エチレングリコール／水が１／１（体積比）の混合溶媒
に１ｍｏｌ／ｋｇの濃度となるように臭化カリウムを溶
解させた液を１０ｇ、エチレングリコール／水が１／１
（体積比）の混合溶媒に１ｍｏｌ／ｋｇの濃度となるよ
うに塩化ナトリウムを溶解させた液を１０ｇ、添加剤と
してヒドロキシプロピルエチルセルロースを２．５ｇ、
レベリング剤としてフルオロシリコーン０．０１ｇを添
加して下層膜形成用塗布液Ｃとした。塗布液Ｃをよく洗
浄し、乾燥させたソーダライムガラス基体にスピンコー
ト法によって塗布し、２００℃で３０分処理して膜厚３
００ｎｍの塩化カリウム含有ＳｉＯ2 膜（下層膜）を得
た。下層膜中の（ＮａＣｌ＋ＫＢｒ）／ＳｉＯ2 の存在
比は２０／８０（モル）であった。その後は例１と同様
にして膜厚１０００ｎｍの銀含有ＳｉＯ2 膜（上層膜）
を形成した。全被膜中の銀の含有割合は８重量％であっ
た。得られた被膜の生成相の同定をＸ線回折法を用いて
行ったところ、塩化銀−臭化銀の固溶体結晶が生成して
いることが確認できた。
【００５８】得られた被膜つきガラスは透明で、透過率
は９１％、膜厚は１２００ｎｍであった。例１同様の紫
外線照射後の透過率は４４％であり、例１と同様に２１
０℃、１０分の加熱によってもとの無色透明に戻ること
が確認された。
は９１％、膜厚は１２００ｎｍであった。例１同様の紫
外線照射後の透過率は４４％であり、例１と同様に２１
０℃、１０分の加熱によってもとの無色透明に戻ること
が確認された。
【００５９】（例４）例１における下層膜形成の前に、
テトラエトキシシラン２０ｇ、エタノール１６５ｇ、
０．１規定硝酸水１５ｇを混合し５０℃で１時間撹拌し
て作成した溶液を、よく洗浄し乾燥させたソーダライム
ガラス基体にスピンコート法によって塗布し、２００℃
で３０分処理して膜厚１００ｎｍのＳｉＯ2 膜を形成さ
せた以外は例１と同様にして被膜を作成した。
テトラエトキシシラン２０ｇ、エタノール１６５ｇ、
０．１規定硝酸水１５ｇを混合し５０℃で１時間撹拌し
て作成した溶液を、よく洗浄し乾燥させたソーダライム
ガラス基体にスピンコート法によって塗布し、２００℃
で３０分処理して膜厚１００ｎｍのＳｉＯ2 膜を形成さ
せた以外は例１と同様にして被膜を作成した。
【００６０】全被膜中の銀の含有割合は７重量％であっ
た。得られた被膜の生成相の同定をＸ線回折法を用いて
行ったところ、塩化銀の結晶が生成していることが確認
できた。
た。得られた被膜の生成相の同定をＸ線回折法を用いて
行ったところ、塩化銀の結晶が生成していることが確認
できた。
【００６１】得られた被膜つきガラスは無色透明で、透
過率は９１％、厚さは１３００ｎｍであった。
過率は９１％、厚さは１３００ｎｍであった。
【００６２】例１同様の紫外線照射をした後の被膜つき
ガラスは茶色に着色し、透過率は５１％となった。ま
た、例１と同様に２１０℃、１０分の加熱によって無色
透明にもどり、このサイクルを繰り返しても劣化は認め
られなかった。
ガラスは茶色に着色し、透過率は５１％となった。ま
た、例１と同様に２１０℃、１０分の加熱によって無色
透明にもどり、このサイクルを繰り返しても劣化は認め
られなかった。
【００６３】（例５)例１おける下層膜を形成しないで
試料を作成した以外は例１と同様に行った。得られた被
膜の生成相の同定をＸ線回折法を用いて行ったところ、
ハロゲン化銀の結晶は見られなかった。なお、膜厚は１
２００ｎｍとした。
試料を作成した以外は例１と同様に行った。得られた被
膜の生成相の同定をＸ線回折法を用いて行ったところ、
ハロゲン化銀の結晶は見られなかった。なお、膜厚は１
２００ｎｍとした。
【００６４】得られた被膜付きガラスは透明で、透過率
は９１％であった。例１同様の紫外線照射後の透過率は
４１％であったが、２１０℃、１０分の加熱によっても
退色せず、着色したままであった。
は９１％であった。例１同様の紫外線照射後の透過率は
４１％であったが、２１０℃、１０分の加熱によっても
退色せず、着色したままであった。
【００６５】
【発明の効果】本発明によれば、ガラス基体上に被膜が
形成されてなる透明性の高い、着色効率の良いフォトク
ロミックガラスを得ることができる。また、特殊な原料
や危険なガス等を使用することなく、塗布液の塗布、加
熱という簡便な方法で透明性の高い、着色効率の良いフ
ォトクロミックガラスが得られる。
形成されてなる透明性の高い、着色効率の良いフォトク
ロミックガラスを得ることができる。また、特殊な原料
や危険なガス等を使用することなく、塗布液の塗布、加
熱という簡便な方法で透明性の高い、着色効率の良いフ
ォトクロミックガラスが得られる。
Claims (8)
- 【請求項１】ガラス基体上に、ガラス基体側からＳｉＯ
2 とハロゲン化アルカリを含む膜と、ＳｉＯ2 と銀を含
む膜とをこの順に形成した後、２５０〜６００℃に加熱
することを特徴とするフォトクロミックガラスの製造方
法。 - 【請求項２】ハロゲン化アルカリが、塩化ナトリウム、
塩化カリウム、臭化ナトリウムおよび臭化カリウムから
なる群から選ばれる１種以上である請求項１に記載のフ
ォトクロミックガラスの製造方法。 - 【請求項３】ＳｉＯ2 とハロゲン化アルカリを含む膜の
膜厚が５０〜５００ｎｍである請求項１または２に記載
のフォトクロミックガラスの製造方法。 - 【請求項４】ＳｉＯ2 とハロゲン化アルカリを含む膜に
おけるハロゲン化アルカリの含有割合が、ＳｉＯ2 に対
して１０／９０〜７０／３０（モル比）である請求項１
〜３いずれか１項に記載のフォトクロミックガラスの製
造方法。 - 【請求項５】全被膜中の銀の存在比が、０．５〜１０重
量％であることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項
に記載のフォトクロミックガラスの製造方法。 - 【請求項６】ＳｉＯ2 とハロゲン化アルカリを含む膜
を、有機シラン化合物とハロゲン化アルカリを含む塗布
液を塗布し、５００℃以下の温度に加熱して形成する請
求項１〜５いずれか１項に記載のフォトクロミックガラ
スの製造方法。 - 【請求項７】ＳｉＯ2 と銀を含む膜を、有機シラン化合
物と平均粒径５０ｎｍ以下の銀コロイドを含む塗布液を
塗布し、５００℃以下の温度に加熱して形成する請求項
１〜６いずれか１項に記載のフォトクロミックガラスの
製造方法。 - 【請求項８】ＳｉＯ2 とハロゲン化アルカリを含む膜と
ガラス基体との間に、ハロゲン化アルカリを含まないＳ
ｉＯ2 を主成分とする膜を形成する請求項１〜７いずれ
か１項に記載のフォトクロミックガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10313555A JP2000143298A (ja) | 1998-11-04 | 1998-11-04 | フォトクロミックガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10313555A JP2000143298A (ja) | 1998-11-04 | 1998-11-04 | フォトクロミックガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000143298A true JP2000143298A (ja) | 2000-05-23 |
Family
ID=18042735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10313555A Pending JP2000143298A (ja) | 1998-11-04 | 1998-11-04 | フォトクロミックガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000143298A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000071482A1 (fr) * | 1999-05-25 | 2000-11-30 | Asahi Glass Company, Limited | Verre photochrome et procede de preparation |
-
1998
- 1998-11-04 JP JP10313555A patent/JP2000143298A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000071482A1 (fr) * | 1999-05-25 | 2000-11-30 | Asahi Glass Company, Limited | Verre photochrome et procede de preparation |
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