JP2000141532A - 積層体およびその製造方法 - Google Patents
積層体およびその製造方法Info
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- JP2000141532A JP2000141532A JP10326981A JP32698198A JP2000141532A JP 2000141532 A JP2000141532 A JP 2000141532A JP 10326981 A JP10326981 A JP 10326981A JP 32698198 A JP32698198 A JP 32698198A JP 2000141532 A JP2000141532 A JP 2000141532A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高可視光透過率を維持しつつ、太陽光等の近
赤外光を効率よくカットすると共に、高温や高湿度にお
ける保存に対する耐久性が優れている積層体を提供す
る。 【解決手段】 銀系層を金属酸化物層で挟持した構成か
らなる３層薄膜を、可視光に対して透明な基板上に形成
した積層体において、銀系層の厚さを３０〜８０Åとし
た積層体により課題を解決できる。例えば可視光域にお
ける光線透過率の極大値が、４００〜６００ｎｍにひと
つ存在し、かつその値が６０％以上であるとともに、９
００ｎｍにおける光線透過率が４５％以下である積層体
が好ましい。
赤外光を効率よくカットすると共に、高温や高湿度にお
ける保存に対する耐久性が優れている積層体を提供す
る。 【解決手段】 銀系層を金属酸化物層で挟持した構成か
らなる３層薄膜を、可視光に対して透明な基板上に形成
した積層体において、銀系層の厚さを３０〜８０Åとし
た積層体により課題を解決できる。例えば可視光域にお
ける光線透過率の極大値が、４００〜６００ｎｍにひと
つ存在し、かつその値が６０％以上であるとともに、９
００ｎｍにおける光線透過率が４５％以下である積層体
が好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は積層体およびその製
造方法に関するものであり、さらに詳しくは、主に窓ガ
ラスなどに使用される積層体であって、高可視光透過率
を維持しつつ、太陽光等の近赤外光をカットすると共
に、耐久性に優れた積層体およびそのような積層体を効
率よく製造するための方法に関するものである。
造方法に関するものであり、さらに詳しくは、主に窓ガ
ラスなどに使用される積層体であって、高可視光透過率
を維持しつつ、太陽光等の近赤外光をカットすると共
に、耐久性に優れた積層体およびそのような積層体を効
率よく製造するための方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】窓ガラスに熱線カット機能を付与する技
術は従来から知られており、例えば、窓ガラス上に金属
薄膜を薄く形成するものなどがある。しかし、この技術
では可視光の透明性が不十分なため、銀系層を酸化物層
で挟持した構成の３層薄膜を窓ガラス上に形成して、可
視光の透明性を向上させたものが考えられた（特公昭４
７−６３１５号公報） しかし、上記の積層体では、約１２００ｎｍ以上の赤外
線に対してはカット能力が高いが、可視光に直近の近赤
外線（特に８００〜１２００ｎｍ程度）はカット能力が
低く、上記の積層体は耐久性が劣るという問題があっ
た。太陽光線のエネルギー分布を考慮すると、この近赤
外線を効率よくカットすることが求められることがある
と共に、積層体の外観劣化を低減させるなど耐久性を向
上させることが強く要求されている。
術は従来から知られており、例えば、窓ガラス上に金属
薄膜を薄く形成するものなどがある。しかし、この技術
では可視光の透明性が不十分なため、銀系層を酸化物層
で挟持した構成の３層薄膜を窓ガラス上に形成して、可
視光の透明性を向上させたものが考えられた（特公昭４
７−６３１５号公報） しかし、上記の積層体では、約１２００ｎｍ以上の赤外
線に対してはカット能力が高いが、可視光に直近の近赤
外線（特に８００〜１２００ｎｍ程度）はカット能力が
低く、上記の積層体は耐久性が劣るという問題があっ
た。太陽光線のエネルギー分布を考慮すると、この近赤
外線を効率よくカットすることが求められることがある
と共に、積層体の外観劣化を低減させるなど耐久性を向
上させることが強く要求されている。
【０００３】
【本発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的
は、高可視光透過率を維持しつつ、太陽光等の近赤外光
を効率よくカットすると共に、耐久性に優れた積層体を
提供することであり、本発明の第２の目的は、そのよう
な積層体を効率よく製造するための方法を提供すること
である。
は、高可視光透過率を維持しつつ、太陽光等の近赤外光
を効率よくカットすると共に、耐久性に優れた積層体を
提供することであり、本発明の第２の目的は、そのよう
な積層体を効率よく製造するための方法を提供すること
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
克服するため鋭意研究を重ねた結果、膜厚が特定の範囲
にある銀系層を金属酸化物層で挟持した構成からなる３
層薄膜を、可視光に対して透明な基板上に形成した積層
体が、高可視光透過率を有しつつ、近赤外光を効率よく
カットすると共に、耐久性に優れることを見い出し、ま
た、この積層体と、従来の積層体（銀系層を酸化物層で
挟持した構成の３層薄膜を、可視光に対して透明な基板
上に形成した積層体）をそれぞれの３層薄膜が特定の配
置になるようにして積層した積層体は前記と同様の効果
を奏するとともに波長７８０ｎｍ程度からさらに高波長
の赤外線まで、幅広くカットできることを見いだし、本
発明を完成するに至った。このような優れた特性を有す
る積層体の例は、従来の技術では、見受けられない。
克服するため鋭意研究を重ねた結果、膜厚が特定の範囲
にある銀系層を金属酸化物層で挟持した構成からなる３
層薄膜を、可視光に対して透明な基板上に形成した積層
体が、高可視光透過率を有しつつ、近赤外光を効率よく
カットすると共に、耐久性に優れることを見い出し、ま
た、この積層体と、従来の積層体（銀系層を酸化物層で
挟持した構成の３層薄膜を、可視光に対して透明な基板
上に形成した積層体）をそれぞれの３層薄膜が特定の配
置になるようにして積層した積層体は前記と同様の効果
を奏するとともに波長７８０ｎｍ程度からさらに高波長
の赤外線まで、幅広くカットできることを見いだし、本
発明を完成するに至った。このような優れた特性を有す
る積層体の例は、従来の技術では、見受けられない。
【０００５】本発明の請求項１の発明は、銀系層を金属
酸化物層で挟持した構成からなる３層薄膜を、可視光に
対して透明な基板上に形成した積層体において、銀系層
の厚さが、３０〜８０Åであることを特徴とする積層体
である。
酸化物層で挟持した構成からなる３層薄膜を、可視光に
対して透明な基板上に形成した積層体において、銀系層
の厚さが、３０〜８０Åであることを特徴とする積層体
である。
【０００６】本発明の請求項２の発明は、請求項１記載
の積層体において、可視光域における光線透過率の極大
値が、４００〜６００ｎｍにひとつ存在し、かつその値
が６０％以上であるとともに、９００ｎｍにおける光線
透過率が４５％以下であることを特徴とする。
の積層体において、可視光域における光線透過率の極大
値が、４００〜６００ｎｍにひとつ存在し、かつその値
が６０％以上であるとともに、９００ｎｍにおける光線
透過率が４５％以下であることを特徴とする。
【０００７】本発明の請求項３の発明は、請求項１ある
いは請求項２記載の積層体において、光線透過スペクト
ルの色度座標（１０度視野・Ｃ光源）が、 ０．２≦ｘ≦０．３１５ かつ ０．２≦ｙ≦０．５ の領域にあることを特徴とする。
いは請求項２記載の積層体において、光線透過スペクト
ルの色度座標（１０度視野・Ｃ光源）が、 ０．２≦ｘ≦０．３１５ かつ ０．２≦ｙ≦０．５ の領域にあることを特徴とする。
【０００８】本発明の請求項４の発明は、請求項１から
請求項３のいずれかに記載の積層体において、透明基板
がプラスチックフィルムであり、その厚さが、１２〜２
００μｍであることを特徴とする。
請求項３のいずれかに記載の積層体において、透明基板
がプラスチックフィルムであり、その厚さが、１２〜２
００μｍであることを特徴とする。
【０００９】本発明の請求項５の発明は、銀系層の厚さ
が、３０〜８０Åである請求項１から請求項４のいずれ
かに記載の積層体Ａの３層薄膜ａと、銀系層を金属酸化
物層で挟持した構成からなる３層薄膜ｂを、可視光に対
して透明な基板上に形成した積層体であって、銀系層の
厚さが、８０〜１５０Åである積層体Ｂの３層薄膜ｂと
を空間および／または可視光に対して透明な基板を介し
て両者の間隔を１μｍ以上離し、平行状態で配置したこ
とを特徴とする積層体である。
が、３０〜８０Åである請求項１から請求項４のいずれ
かに記載の積層体Ａの３層薄膜ａと、銀系層を金属酸化
物層で挟持した構成からなる３層薄膜ｂを、可視光に対
して透明な基板上に形成した積層体であって、銀系層の
厚さが、８０〜１５０Åである積層体Ｂの３層薄膜ｂと
を空間および／または可視光に対して透明な基板を介し
て両者の間隔を１μｍ以上離し、平行状態で配置したこ
とを特徴とする積層体である。
【００１０】本発明の請求項６の発明は、請求項１から
請求項４のいずれかに記載の積層体を製造する方法であ
って、銀系層の形成にスパッタリング方法を用い、アル
ゴンガスをスパッタリングガスとし、その成膜時の圧力
が１〜５×１０-2Ｔｏｒｒにて形成することを特徴とす
る積層体の製造方法である。
請求項４のいずれかに記載の積層体を製造する方法であ
って、銀系層の形成にスパッタリング方法を用い、アル
ゴンガスをスパッタリングガスとし、その成膜時の圧力
が１〜５×１０-2Ｔｏｒｒにて形成することを特徴とす
る積層体の製造方法である。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の積層体の金属酸化物層は、いかなる種類の金属
酸化物であっても良いが、光学的な観点から、屈折率が
１〜２．５程度のものが望ましい。また、複合金属酸化
物であっても良い。
本発明の積層体の金属酸化物層は、いかなる種類の金属
酸化物であっても良いが、光学的な観点から、屈折率が
１〜２．５程度のものが望ましい。また、複合金属酸化
物であっても良い。
【００１２】金属酸化物の例としては例えば、ＩＴＯ、
Ｉｎ2 Ｏ3 、ＳｎＯ2 、ＺｎＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ
X 、ＺｒＯ2 、Ｇａ2 Ｏ3 など、またはこれらの混合物
などを挙げることができる。
Ｉｎ2 Ｏ3 、ＳｎＯ2 、ＺｎＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ
X 、ＺｒＯ2 、Ｇａ2 Ｏ3 など、またはこれらの混合物
などを挙げることができる。
【００１３】金属酸化物層の厚さは特に限定されない
が、通常１００〜１０００Å、好ましくは３００〜６０
０Åである。金属酸化物層の厚さが１００Å未満の場合
や、１０００Åを越えるといずれの場合も光学特性が悪
くなり好ましくない。
が、通常１００〜１０００Å、好ましくは３００〜６０
０Åである。金属酸化物層の厚さが１００Å未満の場合
や、１０００Åを越えるといずれの場合も光学特性が悪
くなり好ましくない。
【００１４】本発明において、銀系層という表現は、銀
だけでできている（常識的な範囲の不純物は除く）銀薄
膜層もしくは添加成分が添加してあるいわゆる銀合金薄
膜層の何れをも指すものである。前記添加成分として
は、金、銅、または白金のいずれか、またはそれらの２
以上の組み合わせであり、それぞれの添加元素が０．１
〜１５原子％加えられたものであることが望ましい。本
発明の積層体の銀系層の厚さは、３０〜８０Å、好まし
くは４０〜７０Å、さらに好ましくは５０〜６０Åであ
る。３０Å未満の厚さの銀層を形成するのは困難であ
り、また３０Å未満では目的の光学特性を達成できな
い。８０Åを越えると高温や高湿度における保存に対す
る耐久性が劣り、目的の光学特性を達成できない。
だけでできている（常識的な範囲の不純物は除く）銀薄
膜層もしくは添加成分が添加してあるいわゆる銀合金薄
膜層の何れをも指すものである。前記添加成分として
は、金、銅、または白金のいずれか、またはそれらの２
以上の組み合わせであり、それぞれの添加元素が０．１
〜１５原子％加えられたものであることが望ましい。本
発明の積層体の銀系層の厚さは、３０〜８０Å、好まし
くは４０〜７０Å、さらに好ましくは５０〜６０Åであ
る。３０Å未満の厚さの銀層を形成するのは困難であ
り、また３０Å未満では目的の光学特性を達成できな
い。８０Åを越えると高温や高湿度における保存に対す
る耐久性が劣り、目的の光学特性を達成できない。
【００１５】本発明の積層体おいて、可視光域における
光線透過率の極大値が、４００〜６００ｎｍにひとつ存
在し、かつその値が６０％以上、好ましくは６５以上、
更に好ましくは７５以上であるとともに、９００ｎｍに
おける光線透過率が４５％以下、好ましくは４０以下、
更に好ましくは３５以下である積層体は望ましい。４０
０〜６００ｎｍにおける光線透過率の極大値が６０％未
満では、高可視光透過率を維持できず、９００ｎｍにお
ける光線透過率が４５％を越えると太陽光等の近赤外光
を効率よくカットできない。
光線透過率の極大値が、４００〜６００ｎｍにひとつ存
在し、かつその値が６０％以上、好ましくは６５以上、
更に好ましくは７５以上であるとともに、９００ｎｍに
おける光線透過率が４５％以下、好ましくは４０以下、
更に好ましくは３５以下である積層体は望ましい。４０
０〜６００ｎｍにおける光線透過率の極大値が６０％未
満では、高可視光透過率を維持できず、９００ｎｍにお
ける光線透過率が４５％を越えると太陽光等の近赤外光
を効率よくカットできない。
【００１６】光線透過スペクトルの色度座標は、透過光
の色味を表すものである。光線透過スペクトルの色度座
標については光源や視野角度を変化させれば、色度座標
も変化することは当然であるので、たとえＣ光源以外の
他の光源を用いたり、１０度視野以外の視野角度で測定
した色度座標が０．２≦ｘ≦０．３１５、０．２≦ｙ≦
０．５の範囲外であっても、１０度視野・Ｃ光源で測定
された値が０．２≦ｘ≦０．３１５かつ、０．２≦ｙ≦
０．５の範囲に入っていれば、本発明の範疇に入るもの
とする。また、表示方式はＪＩＳ−Ｚ−８７０１に基づ
いた。
の色味を表すものである。光線透過スペクトルの色度座
標については光源や視野角度を変化させれば、色度座標
も変化することは当然であるので、たとえＣ光源以外の
他の光源を用いたり、１０度視野以外の視野角度で測定
した色度座標が０．２≦ｘ≦０．３１５、０．２≦ｙ≦
０．５の範囲外であっても、１０度視野・Ｃ光源で測定
された値が０．２≦ｘ≦０．３１５かつ、０．２≦ｙ≦
０．５の範囲に入っていれば、本発明の範疇に入るもの
とする。また、表示方式はＪＩＳ−Ｚ−８７０１に基づ
いた。
【００１７】本発明において用いる透明な基板とは、可
視光に対する透過性を有する基板と定義されるものであ
り、その特性を持っていれば、例えば有機系基板、無機
系基板あるいはこれらを組み合わせた基板でも用いるこ
とができ、いかなるものであっても本質的に本発明の発
揮する効果は変わらない。
視光に対する透過性を有する基板と定義されるものであ
り、その特性を持っていれば、例えば有機系基板、無機
系基板あるいはこれらを組み合わせた基板でも用いるこ
とができ、いかなるものであっても本質的に本発明の発
揮する効果は変わらない。
【００１８】ただし、本発明の積層体にフレキシビリテ
ィーが要求される場合には、プラスチックフィルム基板
が好ましく用いられる。プラスチックフィルム基板とし
てはその厚さが１２μｍ以上でかつ２００μｍ、好まし
くは２５μｍ以上でかつ１５０μｍ以下、更に好ましく
は５０μｍ以上でかつ１００μｍ以下の時に、ハンドリ
ング性が良いことがわかった。１２μｍ未満ではシワに
なるなどハンドリング性が悪く、２００μｍを越えると
腰が強すぎる。
ィーが要求される場合には、プラスチックフィルム基板
が好ましく用いられる。プラスチックフィルム基板とし
てはその厚さが１２μｍ以上でかつ２００μｍ、好まし
くは２５μｍ以上でかつ１５０μｍ以下、更に好ましく
は５０μｍ以上でかつ１００μｍ以下の時に、ハンドリ
ング性が良いことがわかった。１２μｍ未満ではシワに
なるなどハンドリング性が悪く、２００μｍを越えると
腰が強すぎる。
【００１９】銀系層の厚さが、３０〜８０Åである請求
項１から請求項４に記載の本発明の積層体Ａは、単独の
使用で、高可視光透過率を有しつつ、近赤外光を効率よ
くカットすると共に、耐久性に優れている。そして、銀
系層の厚さが、３０〜８０Åである請求項１から請求項
４のいずれかに記載の積層体Ａの３層薄膜ａと、銀系層
を金属酸化物層で挟持した構成からなる３層薄膜ｂを、
可視光に対して透明な基板上に形成した積層体であっ
て、銀系層の厚さが、８０〜１５０Å、好ましくは９０
〜１３０Å、さらに好ましくは１００〜１２０Åである
積層体Ｂの３層薄膜ｂとを、空間および／または可視光
に対して透明な基板を介して両者の間隔を１μｍ以上、
好ましくは１０μｍ以上、更に好ましくは１００μｍ以
上離し、平行状態で配置した本発明の他の積層体Ｃは、
本発明の積層体Ａと同様に高可視光透過率を有しつつ、
近赤外光を効率よくカットでき、耐久性に優れている
上、可視光直近の８００ｎｍ程度から、さらに高波長の
赤外線を効率良くカットできる。両者の間隔を１μｍ以
上としたのは光の波長（４００〜９００ｎｍ程度）に対
して十分に長くして干渉が生じないようにするためであ
る。両者の間隔の上限は施工箇所（場所）により決まる
と考えられ、例えば合わせガラスのような場合は最大で
も１０ｃｍ程度であると思われる。
項１から請求項４に記載の本発明の積層体Ａは、単独の
使用で、高可視光透過率を有しつつ、近赤外光を効率よ
くカットすると共に、耐久性に優れている。そして、銀
系層の厚さが、３０〜８０Åである請求項１から請求項
４のいずれかに記載の積層体Ａの３層薄膜ａと、銀系層
を金属酸化物層で挟持した構成からなる３層薄膜ｂを、
可視光に対して透明な基板上に形成した積層体であっ
て、銀系層の厚さが、８０〜１５０Å、好ましくは９０
〜１３０Å、さらに好ましくは１００〜１２０Åである
積層体Ｂの３層薄膜ｂとを、空間および／または可視光
に対して透明な基板を介して両者の間隔を１μｍ以上、
好ましくは１０μｍ以上、更に好ましくは１００μｍ以
上離し、平行状態で配置した本発明の他の積層体Ｃは、
本発明の積層体Ａと同様に高可視光透過率を有しつつ、
近赤外光を効率よくカットでき、耐久性に優れている
上、可視光直近の８００ｎｍ程度から、さらに高波長の
赤外線を効率良くカットできる。両者の間隔を１μｍ以
上としたのは光の波長（４００〜９００ｎｍ程度）に対
して十分に長くして干渉が生じないようにするためであ
る。両者の間隔の上限は施工箇所（場所）により決まる
と考えられ、例えば合わせガラスのような場合は最大で
も１０ｃｍ程度であると思われる。
【００２０】積層体Ｂの銀系層の厚さが、８０Å未満で
は積層体Ａでカットできなかった約１２００〜３０００
ｎｍの赤外線をカットできなくなり、１５０Åを超える
と可視光透過率が低下するので好ましくない。３層薄膜
ａと３層薄膜ｂの間は、上記のように、それが空間など
であっても、または透明な基板などであっても、これら
の組み合わせであってよい。また、平行状態というのは
数学的に厳密な表現によるものではなく、常識の範囲で
施工上平行といえる範囲を言う。
は積層体Ａでカットできなかった約１２００〜３０００
ｎｍの赤外線をカットできなくなり、１５０Åを超える
と可視光透過率が低下するので好ましくない。３層薄膜
ａと３層薄膜ｂの間は、上記のように、それが空間など
であっても、または透明な基板などであっても、これら
の組み合わせであってよい。また、平行状態というのは
数学的に厳密な表現によるものではなく、常識の範囲で
施工上平行といえる範囲を言う。
【００２１】３層薄膜ａと３層薄膜ｂとを組み合わせた
本発明の他の積層体Ｃの具体例は多数あるが、具体的に
は、例えば、１枚の透明な基材の表裏にそれぞれ３層薄
膜ａと３層薄膜ｂを形成した積層体や、２枚のガラスの
間に空間を設けた建築用の合わせガラス［例えば、（外
気／ガラス／空間／ガラス／室内）の構成を有する合わ
せガラス）に適用した例として、（外気／ガラス／空間
／積層体Ｂ／ガラス／積層体Ａ／プラスティックフィル
ム／室内）、あるいは（外気／ガラス／空間／積層体Ａ
／ガラス／積層体Ｂ／プラスティックフィルム／室内）
の構成の積層体などを挙げることができる。積層体Ａの
方が耐性が大きいので（外気／ガラス／空間／積層体Ｂ
／ガラス／積層体Ａ／プラスティックフィルム／室内）
の構成の方が好ましい。
本発明の他の積層体Ｃの具体例は多数あるが、具体的に
は、例えば、１枚の透明な基材の表裏にそれぞれ３層薄
膜ａと３層薄膜ｂを形成した積層体や、２枚のガラスの
間に空間を設けた建築用の合わせガラス［例えば、（外
気／ガラス／空間／ガラス／室内）の構成を有する合わ
せガラス）に適用した例として、（外気／ガラス／空間
／積層体Ｂ／ガラス／積層体Ａ／プラスティックフィル
ム／室内）、あるいは（外気／ガラス／空間／積層体Ａ
／ガラス／積層体Ｂ／プラスティックフィルム／室内）
の構成の積層体などを挙げることができる。積層体Ａの
方が耐性が大きいので（外気／ガラス／空間／積層体Ｂ
／ガラス／積層体Ａ／プラスティックフィルム／室内）
の構成の方が好ましい。
【００２２】本発明における薄膜形成方法は、真空成膜
法が望ましいが、他のいかなる方法であっても良い。真
空成膜の方法には、蒸着、スパッタリング、およびＣＶ
Ｄなどがある。
法が望ましいが、他のいかなる方法であっても良い。真
空成膜の方法には、蒸着、スパッタリング、およびＣＶ
Ｄなどがある。
【００２３】アルゴンガスをスパッタリングガスとして
スパッタリング方法により銀系層を形成する際、スパッ
タリング成膜時の圧力は、通常１〜１０×１０-3Ｔｏｒ
ｒにて行われることが多く、本発明の場合においてもこ
の通常の成膜圧力にて成膜しても必要性能が充分発揮さ
れる。しかし、スパッタリング成膜時の圧力を１〜５×
１０-2Ｔｏｒｒで成膜することにより、より安定した性
能が発現することを見いだした。１×１０-2Ｔｏｒｒ未
満では比較的に耐久性が悪くなり、５×１０-2Ｔｏｒｒ
を超えると安定な放電および安定な排気の維持が困難と
なるので好ましくない。
スパッタリング方法により銀系層を形成する際、スパッ
タリング成膜時の圧力は、通常１〜１０×１０-3Ｔｏｒ
ｒにて行われることが多く、本発明の場合においてもこ
の通常の成膜圧力にて成膜しても必要性能が充分発揮さ
れる。しかし、スパッタリング成膜時の圧力を１〜５×
１０-2Ｔｏｒｒで成膜することにより、より安定した性
能が発現することを見いだした。１×１０-2Ｔｏｒｒ未
満では比較的に耐久性が悪くなり、５×１０-2Ｔｏｒｒ
を超えると安定な放電および安定な排気の維持が困難と
なるので好ましくない。
【００２４】
【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明の内容
をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例
に何ら限定されるものではない。 （実施例１）図１に示したように、可視光に対して透明
な基板１ａとして厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムを用
い、このＰＥＴフィルム１ａ上に、下記の成膜条件でバ
ッチ式スパッタリング法により、金属酸化物層２ａとし
てＩＴＯ、銀系層３ａとしてＡｇ−Ａｕ合金、金属酸化
物層４ａとしてＩＴＯの順に３層薄膜ａを形成し、本発
明の積層体Ａを製造した。
をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例
に何ら限定されるものではない。 （実施例１）図１に示したように、可視光に対して透明
な基板１ａとして厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムを用
い、このＰＥＴフィルム１ａ上に、下記の成膜条件でバ
ッチ式スパッタリング法により、金属酸化物層２ａとし
てＩＴＯ、銀系層３ａとしてＡｇ−Ａｕ合金、金属酸化
物層４ａとしてＩＴＯの順に３層薄膜ａを形成し、本発
明の積層体Ａを製造した。
【００２５】（成膜条件）真空チャンバー内を５×１０
-6Ｔｏｒｒまで真空引きした。基板１ａとターゲットの
間隔は７０ｍｍとした。また、ターゲットは直径４イン
チのものを使用した。ＩＴＯは酸化インジウムと酸化錫
との混合酸化物であり、酸化錫の割合が１０重量％のも
のを使用した。また、Ａｇ−Ａｕターゲットは金の添加
率が１原子％となるようにした。各ＩＴＯ層２ａ、４ａ
は、同一条件で成膜し、ＡｒガスとＯ2 ガスを１００：
１の割合で成膜時の圧力が３〜３．５×１０-3Ｔｏｒｒ
となるようにした。Ａｇ−Ａｕ層３ａは、Ａｒガスのみ
をスパッタリングガスとして用いた。真空チャンバーの
排気コンダクタンスを調整しながら、成膜時の圧力が１
〜５×１０-2Ｔｏｒｒとなるようにした。
-6Ｔｏｒｒまで真空引きした。基板１ａとターゲットの
間隔は７０ｍｍとした。また、ターゲットは直径４イン
チのものを使用した。ＩＴＯは酸化インジウムと酸化錫
との混合酸化物であり、酸化錫の割合が１０重量％のも
のを使用した。また、Ａｇ−Ａｕターゲットは金の添加
率が１原子％となるようにした。各ＩＴＯ層２ａ、４ａ
は、同一条件で成膜し、ＡｒガスとＯ2 ガスを１００：
１の割合で成膜時の圧力が３〜３．５×１０-3Ｔｏｒｒ
となるようにした。Ａｇ−Ａｕ層３ａは、Ａｒガスのみ
をスパッタリングガスとして用いた。真空チャンバーの
排気コンダクタンスを調整しながら、成膜時の圧力が１
〜５×１０-2Ｔｏｒｒとなるようにした。
【００２６】本発明の積層体Ａの３層薄膜ａの断面を透
過電子顕微鏡で観察した（倍率；２０万倍）結果、形成
した薄膜の各層の形状膜厚が、ＩＴＯ層２ａ、４ａがそ
れぞれ５６０Å、Ａｇ−Ａｕ層３ａが６０Åであった。
薄膜の膜厚は、特に２００Å以下の様に薄い場合には、
他の方法では誤差が出やすいことが多いので、上記の様
に、断面観察によって形状膜厚を測定するのが、現在の
技術水準では、最も正確な方法の一つである。
過電子顕微鏡で観察した（倍率；２０万倍）結果、形成
した薄膜の各層の形状膜厚が、ＩＴＯ層２ａ、４ａがそ
れぞれ５６０Å、Ａｇ−Ａｕ層３ａが６０Åであった。
薄膜の膜厚は、特に２００Å以下の様に薄い場合には、
他の方法では誤差が出やすいことが多いので、上記の様
に、断面観察によって形状膜厚を測定するのが、現在の
技術水準では、最も正確な方法の一つである。
【００２７】図２は、本発明の積層体Ａの波長１９０ｎ
ｍ〜３２００ｎｍまでの光線透過率スペクトルである。
光線透過率は、島津製作所製ＵＶ３１００により測定し
た。可視光域における光線透過率の極大値が、約５００
ｎｍにひとつ存在し、かつその値が約７４％であるとと
もに、９００ｎｍにおける光線透過率が約４０％以下で
あった。
ｍ〜３２００ｎｍまでの光線透過率スペクトルである。
光線透過率は、島津製作所製ＵＶ３１００により測定し
た。可視光域における光線透過率の極大値が、約５００
ｎｍにひとつ存在し、かつその値が約７４％であるとと
もに、９００ｎｍにおける光線透過率が約４０％以下で
あった。
【００２８】このような、光線透過率スペクトル特性
は、各層の正確な成膜制御と、特性把握、および設計に
より実現した本発明特有のものであり、従来の積層体に
は決して見られないものである。本発明の積層体Ａは、
可視光は透過しつつも、太陽光線による熱線、つまり近
赤外光をカットするという本発明独特の性質を持つこと
が判った。また、色度座標については、日立製作所製Ｕ
４０００のデータをもとに測定した結果、（ｘ＝０．３
０１，ｙ＝０．３２２）であった。表面の電気抵抗値
は、三菱油化製４端子抵抗測定器で測定した。その結
果、約５５Ω／□であった。
は、各層の正確な成膜制御と、特性把握、および設計に
より実現した本発明特有のものであり、従来の積層体に
は決して見られないものである。本発明の積層体Ａは、
可視光は透過しつつも、太陽光線による熱線、つまり近
赤外光をカットするという本発明独特の性質を持つこと
が判った。また、色度座標については、日立製作所製Ｕ
４０００のデータをもとに測定した結果、（ｘ＝０．３
０１，ｙ＝０．３２２）であった。表面の電気抵抗値
は、三菱油化製４端子抵抗測定器で測定した。その結
果、約５５Ω／□であった。
【００２９】本発明の積層体Ａの保存試験を、４０℃−
９０％ＲＨにて、１ヶ月行った後、表面を光学顕微鏡に
よって観察したが、外観劣化はなかった。銀系層を金属
酸化物からなる透明導電層で挟持した３層からなる薄膜
構成をプラスティックフィルム上に形成した従来の積層
体においては、特殊な積層体の設置、もしくは特殊な保
護層を形成しない限り、外観劣化（主として銀系層に因
る）が避けにくいが、本実施例１の方法により形成され
た本発明の積層体Ａは外観劣化の極めて少ない耐久性の
優れた積層体である。
９０％ＲＨにて、１ヶ月行った後、表面を光学顕微鏡に
よって観察したが、外観劣化はなかった。銀系層を金属
酸化物からなる透明導電層で挟持した３層からなる薄膜
構成をプラスティックフィルム上に形成した従来の積層
体においては、特殊な積層体の設置、もしくは特殊な保
護層を形成しない限り、外観劣化（主として銀系層に因
る）が避けにくいが、本実施例１の方法により形成され
た本発明の積層体Ａは外観劣化の極めて少ない耐久性の
優れた積層体である。
【００３０】（比較例１）比較のために同様にして下記
の成膜条件で、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム１ｂ上に
バッチ式スパッタリング法により、ＩＴＯ層２ｂ、Ａｇ
−Ａｕ合金層３ｂ、ＩＴＯ層４ｂの順に３層薄膜ｂを形
成し、積層体Ｂを製造した。
の成膜条件で、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム１ｂ上に
バッチ式スパッタリング法により、ＩＴＯ層２ｂ、Ａｇ
−Ａｕ合金層３ｂ、ＩＴＯ層４ｂの順に３層薄膜ｂを形
成し、積層体Ｂを製造した。
【００３１】（成膜条件）真空チャンバー内を５×１０
-6Ｔｏｒｒまで真空引きした。基板１ｂとターゲットの
間隔は７０ｍｍとした。また、ターゲットは直径４イン
チのものを使用した。ＩＴＯは酸化インジウムと酸化錫
との混合酸化物であり、酸化錫の割合が１０重量％のも
のを使用した。また、Ａｇ−Ａｕターゲットは金の添加
率が１原子％となるようにした。各ＩＴＯ層２ｂ、４ｂ
は、同一条件で成膜し、ＡｒガスとＯ2 ガスを１００：
１の割合で成膜時の圧力が３〜３．５×１０-3Ｔｏｒｒ
となるようにした。放電形式はＲＦとし、放電電力５０
Ｗとした。
-6Ｔｏｒｒまで真空引きした。基板１ｂとターゲットの
間隔は７０ｍｍとした。また、ターゲットは直径４イン
チのものを使用した。ＩＴＯは酸化インジウムと酸化錫
との混合酸化物であり、酸化錫の割合が１０重量％のも
のを使用した。また、Ａｇ−Ａｕターゲットは金の添加
率が１原子％となるようにした。各ＩＴＯ層２ｂ、４ｂ
は、同一条件で成膜し、ＡｒガスとＯ2 ガスを１００：
１の割合で成膜時の圧力が３〜３．５×１０-3Ｔｏｒｒ
となるようにした。放電形式はＲＦとし、放電電力５０
Ｗとした。
【００３２】Ａｇ−Ａｕ層３ｂは、Ａｒガスのみをスパ
ッタリングガスとして用いた。成膜時の圧力は４×１０
-3Ｔｏｒｒとなるようにした。放電形式はＤＣとし、放
電電流は１５０ｍＡ、放電電圧は４８０Ｖとした。
ッタリングガスとして用いた。成膜時の圧力は４×１０
-3Ｔｏｒｒとなるようにした。放電形式はＤＣとし、放
電電流は１５０ｍＡ、放電電圧は４８０Ｖとした。
【００３３】得られた積層体Ｂの３層薄膜ｂの断面を透
過電子顕微鏡（倍率；１０万倍）で観察した結果、形成
した薄膜の各層の形状膜厚が、ＩＴＯ層２ｂ、４ｂ；そ
れぞれ５００Å、Ａｇ−Ａｕ層３ｂ；１００Åであっ
た。
過電子顕微鏡（倍率；１０万倍）で観察した結果、形成
した薄膜の各層の形状膜厚が、ＩＴＯ層２ｂ、４ｂ；そ
れぞれ５００Å、Ａｇ−Ａｕ層３ｂ；１００Åであっ
た。
【００３４】図３は、積層体Ｂの波長１９０ｎｍ〜３２
００ｎｍまでの光線透過率スペクトルである。これは、
島津製作所製ＵＶ３１００により測定した。このよう
に、光線透過率が約６２０ｎｍをピークとしていること
が判った。銀系層を金属酸化物からなる透明導電層で挟
持した３層からなる薄膜構成をプラスティックフィルム
上に形成した積層体においては、この比較例１のような
銀系層３ｂの厚さが８０Åを越える場合には、可視光の
透明性は優れているものの、ピークの長波長側のたち下
がりがなだらかであるので、太陽光線の熱線である近赤
外光、特に７８０ｎｍ〜１２００ｎｍの波長をカットす
る能力は、実施例１に比べると劣ることがわかった。ま
た、色度座標は（ｘ＝０．３２２，ｙ＝０．３３６) で
あった。表面の電気抵抗値は、三菱油化製４端子抵抗測
定器で測定した。その結果、約８．１Ω／□であり、抵
抗値が低いことがわかった。実施例１との差は銀系層の
厚さによるものである。銀系層の膜厚の違いに対して抵
抗値の違いが大きいのは、極めて薄い薄膜の厚さに起因
していて、膜厚と抵抗値が直線的な相関関係ではない領
域であることがわかる。
００ｎｍまでの光線透過率スペクトルである。これは、
島津製作所製ＵＶ３１００により測定した。このよう
に、光線透過率が約６２０ｎｍをピークとしていること
が判った。銀系層を金属酸化物からなる透明導電層で挟
持した３層からなる薄膜構成をプラスティックフィルム
上に形成した積層体においては、この比較例１のような
銀系層３ｂの厚さが８０Åを越える場合には、可視光の
透明性は優れているものの、ピークの長波長側のたち下
がりがなだらかであるので、太陽光線の熱線である近赤
外光、特に７８０ｎｍ〜１２００ｎｍの波長をカットす
る能力は、実施例１に比べると劣ることがわかった。ま
た、色度座標は（ｘ＝０．３２２，ｙ＝０．３３６) で
あった。表面の電気抵抗値は、三菱油化製４端子抵抗測
定器で測定した。その結果、約８．１Ω／□であり、抵
抗値が低いことがわかった。実施例１との差は銀系層の
厚さによるものである。銀系層の膜厚の違いに対して抵
抗値の違いが大きいのは、極めて薄い薄膜の厚さに起因
していて、膜厚と抵抗値が直線的な相関関係ではない領
域であることがわかる。
【００３５】比較例１で得られた積層体Ｂの保存試験
を、４０℃−９０％ＲＨにて、１ヶ月行った後、表面を
光学顕微鏡によって観察した結果、著しい外観劣化が認
められた。このように、銀系層を金属酸化物からなる透
明導電層で挟持した３層からなる薄膜構成をプラスティ
ックフィルム上に形成した積層体において、銀系層３ｂ
が８０Åを越える場合には、特殊な積層体の設置等の工
夫をしない限り、外観劣化（主として銀系層に因る）が
避けにくいことがわかった。
を、４０℃−９０％ＲＨにて、１ヶ月行った後、表面を
光学顕微鏡によって観察した結果、著しい外観劣化が認
められた。このように、銀系層を金属酸化物からなる透
明導電層で挟持した３層からなる薄膜構成をプラスティ
ックフィルム上に形成した積層体において、銀系層３ｂ
が８０Åを越える場合には、特殊な積層体の設置等の工
夫をしない限り、外観劣化（主として銀系層に因る）が
避けにくいことがわかった。
【００３６】（実施例２）図４に示したように、実施例
１で作製した積層体Ａと比較例１で作製した積層体Ｂと
を、基板１ｂを介して３層薄膜ａと３層薄膜ｂの間隔を
１μｍ以上離し、平行状態で配置し、張り合わせて本発
明の積層体Ｃを作った。実施例１と同様にして本発明の
積層体Ｃの光線透過率スペクトルを観察した結果を図５
に示す。図５には、実施例１で作製した積層体Ａと比較
例１で作製した積層体Ｂの光線透過率スペクトルを合わ
せて示す。この結果から明らかなように、本発明の積層
体Ｃは、高可視光透過率を維持しつつ、太陽光等の近赤
外光を効率よくカットし、耐久性に優れている上、波長
７８０ｎｍ程度からさらに高波長の赤外線まで、幅広く
カットしていながらも、可視光域は透過率が高い。この
ような光学特性は、従来の技術には見受けられない。
１で作製した積層体Ａと比較例１で作製した積層体Ｂと
を、基板１ｂを介して３層薄膜ａと３層薄膜ｂの間隔を
１μｍ以上離し、平行状態で配置し、張り合わせて本発
明の積層体Ｃを作った。実施例１と同様にして本発明の
積層体Ｃの光線透過率スペクトルを観察した結果を図５
に示す。図５には、実施例１で作製した積層体Ａと比較
例１で作製した積層体Ｂの光線透過率スペクトルを合わ
せて示す。この結果から明らかなように、本発明の積層
体Ｃは、高可視光透過率を維持しつつ、太陽光等の近赤
外光を効率よくカットし、耐久性に優れている上、波長
７８０ｎｍ程度からさらに高波長の赤外線まで、幅広く
カットしていながらも、可視光域は透過率が高い。この
ような光学特性は、従来の技術には見受けられない。
【００３７】
【発明の効果】本発明の積層体は、高可視光透過率を維
持しつつ、太陽光等の近赤外光を効率よくカットすると
共に、高温や高湿度における保存に対する耐久性が飛躍
的に優れている。
持しつつ、太陽光等の近赤外光を効率よくカットすると
共に、高温や高湿度における保存に対する耐久性が飛躍
的に優れている。
【００３８】銀系層の厚さが、３０〜８０Åである本発
明の積層体Ａの３層薄膜ａと、銀系層を金属酸化物層で
挟持した構成からなる３層薄膜ｂを、可視光に対して透
明な基板上に形成した積層体であって、銀系層の厚さ
が、８０〜１５０Åである積層体Ｂの３層薄膜ｂとを空
間および／または可視光に対して透明な基板を介して両
者の間隔を１μｍ以上離し、平行状態で配置した本発明
の積層体Ｃは、高可視光透過率を維持しつつ、太陽光等
の近赤外光を効率よくカットし、耐久性に優れている
上、波長７８０ｎｍ程度からさらに高波長の赤外線ま
で、幅広くカットできる。
明の積層体Ａの３層薄膜ａと、銀系層を金属酸化物層で
挟持した構成からなる３層薄膜ｂを、可視光に対して透
明な基板上に形成した積層体であって、銀系層の厚さ
が、８０〜１５０Åである積層体Ｂの３層薄膜ｂとを空
間および／または可視光に対して透明な基板を介して両
者の間隔を１μｍ以上離し、平行状態で配置した本発明
の積層体Ｃは、高可視光透過率を維持しつつ、太陽光等
の近赤外光を効率よくカットし、耐久性に優れている
上、波長７８０ｎｍ程度からさらに高波長の赤外線ま
で、幅広くカットできる。
【００３９】本発明の製造方法により本発明の積層体を
効率よく製造できる上、スパッタリング成膜時の圧力を
１〜５×１０-2Ｔｏｒｒで成膜することにより、より安
定した性能が発現される。
効率よく製造できる上、スパッタリング成膜時の圧力を
１〜５×１０-2Ｔｏｒｒで成膜することにより、より安
定した性能が発現される。
【図１】 本発明の実施例１の積層体の断面を説明する
断面図である。
断面図である。
【図２】 図１に示した本発明の積層体の光線透過率を
示すグラフである。
示すグラフである。
【図３】 比較例１の積層体の光線透過率を示すグラフ
である。
である。
【図４】 本発明の実施例２の積層体の断面を説明する
断面図である。
断面図である。
【図５】 図４に示した本発明の積層体の光線透過率を
示すグラフである。
示すグラフである。
Ａ、Ｂ、Ｃ 積層体 １ａ、１ｂ 透明な基板 ２ａ、２ｂ 金属酸化物層 ３ａ、３ｂ 銀系層 ４ａ、４ｂ 金属酸化物層 ａ、ｂ ３層薄膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 馬庭 進 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 Ｆターム(参考） 4F100 AA17A AA17C AA17E AA31B AA33 AB24B AB24E AB25B AB31 AK01D AK41 AT00D BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D BA10E BA11 BA24 EH66 GB08 JD10 JN01 JN01D JN08 YY00 YY00B YY00D YY00E
Claims (6)
- 【請求項１】 銀系層を金属酸化物層で挟持した構成か
らなる３層薄膜を、可視光に対して透明な基板上に形成
した積層体において、銀系層の厚さが、３０〜８０Åで
あることを特徴とする積層体。 - 【請求項２】 可視光域における光線透過率の極大値
が、４００〜６００ｎｍにひとつ存在し、かつその値が
６０％以上であるとともに、９００ｎｍにおける光線透
過率が４５％以下であることを特徴とする請求項１記載
の積層体。 - 【請求項３】 光線透過スペクトルの色度座標（１０度
視野・Ｃ光源）が、 ０．２≦ｘ≦０．３１５ かつ ０．２≦ｙ≦０．５ の領域にあることを特徴とする請求項１あるいは請求項
２記載の積層体。 - 【請求項４】 透明基板がプラスチックフィルムであ
り、その厚さが、１２〜２００μｍであることを特徴と
する請求項１から請求項３のいずれかに記載の積層体。 - 【請求項５】 銀系層の厚さが、３０〜８０Åである請
求項１から請求項４のいずれかに記載の積層体Ａの３層
薄膜ａと、 銀系層を金属酸化物層で挟持した構成からなる３層薄膜
ｂを、可視光に対して透明な基板上に形成した積層体で
あって、銀系層の厚さが、８０〜１５０Åである積層体
Ｂの３層薄膜ｂとを空間および／または可視光に対して
透明な基板を介して両者の間隔を１μｍ以上離し、平行
状態で配置したことを特徴とする積層体。 - 【請求項６】 請求項１から請求項４のいずれかに記載
の積層体を製造する方法であって、銀系層の形成にスパ
ッタリング方法を用い、アルゴンガスをスパッタリング
ガスとし、その成膜時の圧力が１〜５×１０-2Ｔｏｒｒ
にて形成することを特徴とする積層体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32698198A JP4135235B2 (ja) | 1998-11-17 | 1998-11-17 | 積層体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32698198A JP4135235B2 (ja) | 1998-11-17 | 1998-11-17 | 積層体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000141532A true JP2000141532A (ja) | 2000-05-23 |
| JP4135235B2 JP4135235B2 (ja) | 2008-08-20 |
Family
ID=18193975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32698198A Expired - Fee Related JP4135235B2 (ja) | 1998-11-17 | 1998-11-17 | 積層体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4135235B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7310943B2 (ja) | 2020-02-12 | 2023-07-19 | 日本電信電話株式会社 | プログラム生成装置、プログラム生成方法及びプログラム |
-
1998
- 1998-11-17 JP JP32698198A patent/JP4135235B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4135235B2 (ja) | 2008-08-20 |
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